JP2011147894A - 海水淡水化装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】逆浸透膜によるろ過処理を用いた海水淡水化装置において,逆浸透膜の上流側に配置されて海水の水温を変化させる水温調整装置12と,前記ろ過処理後の処理水のホウ素濃度を計測するホウ素濃度計測手段20と,前記処理水のホウ素濃度情報及び予め与えられた目標ホウ素濃度情報に基づいて前記水温調整装置の運転量を決定して運転する制御装置24と,を備えたこと。また,前記海水のホウ素濃度から前記ろ過処理後の処理水のホウ素濃度予測情報を演算する処理水ホウ素濃度予測手段40を備えて,前記処理水のホウ素濃度予測情報及び予め与えられた目標ホウ素濃度情報に基づいて前記水温調整装置の運転量を決定して運転する制御装置と,を備えること。
【選択図】図1
Description
図1は、本発明の実施例1の海水淡水化装置の構成をブロック線図で示す。海水10は水温調整装置12で水温を調整され、水温調整海水14となる。図1には示していないが、逆浸透膜ろ過処理16の前段に前処理が備えられる場合には、水温調整装置12は前処理の前段であっても、後段であってもよい。この前処理が、例えばUF膜ろ過であり、海水10を加温する場合には、そのUF膜ろ過用のポンプ動力を低減するために、水温調整装置12をUF膜ろ過の前段に設けることが好ましい。
図3は、本発明の実施例2の海水淡水化装置の構成をブロック線図で示す。海水10に含まれるホウ素濃度は、海水ホウ素濃度計測手段38によって計測され、そこから海水ホウ素濃度計測値44として出力される。そして海水10は、水温調整装置12で水温を調整されて水温調整海水14となる。水温調整海水14は、逆浸透膜ろ過処理16によって脱塩処理されて処理水18となる。なお、海水ホウ素濃度計測手段38は、水温調整装置12より後段であって、逆浸透膜ろ過処理16の前段に設置してもよい。
図4は、本発明の実施例3による海水淡水化装置の構成をブロック線図で示す。海水10は水温調整装置12で水温を調整され、水温調整海水14となる。水温調整海水14は、逆浸透膜ろ過処理16によって脱塩処理されて処理水18となる。処理水18に含まれるホウ素濃度は、処理水ホウ素濃度計測手段20によって計測され、処理水ホウ素濃度計測値22として出力される。
図5は、本発明の実施例4による海水淡水化装置の構成をブロック線図で示す。実施例4は、実施例2で示したフィードフォワード制御の例に、実施例3で示したろ過ポンプ動力コスト演算手段28を組み込んだ例となっている。
図6は、本発明の実施例5による海水淡水化装置の構成をブロック線図で示す。海水10は、水温調整装置12で水温を調整され、水温調整海水14となる。水温調整海水14は、逆浸透膜ろ過処理16によって脱塩処理されて処理水18となる。処理水18に含まれるホウ素濃度は、処理水ホウ素濃度計測手段20によって計測され、処理水ホウ素濃度計測値22として出力される。
Claims (10)
- 逆浸透膜によるろ過処理を用いた海水淡水化装置において、
逆浸透膜の上流側に配置されて海水の水温を変化させる水温調整装置と、
前記ろ過処理後の処理水のホウ素濃度を計測するホウ素濃度計測手段と、
前記処理水のホウ素濃度情報及び予め与えられた目標ホウ素濃度情報に基づいて前記水温調整装置の運転量を決定して運転する制御装置と、を備えた前記装置。 - 請求項1に記載された海水淡水化装置において、
前記水温調整装置による水温調整後の海水の水温に基づいてろ過ポンプ動力コスト情報を演算するろ過ポンプ動力コスト演算手段と、
前記処理水のホウ素濃度情報及び予め与えられた目標ホウ素濃度情報並びに前記ろ過ポンプ動力コスト情報に基づいて前記水温調整装置の運転量を決定して運転する制御装置と、を更に備えた前記装置。 - 逆浸透膜によるろ過処理を用いた海水淡水化装置において、
逆浸透膜の上流側に配置されて海水の水温を変化させる水温調整装置と、
海水のホウ素濃度を計測するホウ素濃度計測手段と、
前記海水のホウ素濃度から前記ろ過処理後の処理水のホウ素濃度予測情報を演算する処理水ホウ素濃度予測手段と、
前記処理水のホウ素濃度予測情報及び予め与えられた目標ホウ素濃度情報に基づいて前記水温調整装置の運転量を決定して運転する制御装置と、を備えた前記装置。 - 請求項3に記載された海水淡水化装置において、
前記水温調整装置による水温調整後の海水の水温に基づいてろ過ポンプ動力コスト情報を演算するろ過ポンプ動力コスト演算手段と、
前記処理水のホウ素濃度予測情報及び予め与えられた目標ホウ素濃度情報並びに前記ろ過ポンプ動力コスト情報に基づいて前記水温調整装置の運転量を決定して運転する制御装置と、
を更に備えた前記装置。 - 逆浸透膜によるろ過処理を用いた海水淡水化装置において、
逆浸透膜の上流側に配置されて海水の水温を変化させる水温調整装置と、
前記ろ過処理後の処理水のホウ素濃度を計測するホウ素濃度計測手段と、
前記水温調整装置による水温調整後の海水の水温に基づいてろ過ポンプ動力コストを演算するろ過ポンプ動力コスト演算手段と、
前記水温調整装置の運転コストを演算する水温調整装置運転コスト演算手段と、
前記処理水のホウ素濃度及び予め与えられた目標ホウ素濃度情報及び前記ろ過ポンプ動力コスト及び前記水温調整装置の運転コストの値に基づいて前記水温調整装置の運転量を決定して運転する制御装置と、を備えた前記装置。 - 請求項5に記載された海水淡水化装置において、
前記処理水のホウ素濃度情報が予め与えられた目標ホウ素濃度情報以下となる条件を満たしつつ、前記ろ過ポンプ動力コスト情報及び前記水温調整装置の運転コスト情報の和を最小化するように前記水温調整装置の運転量を決定して運転する制御装置と、を備えた前記装置。 - 請求項1から6に記載された海水淡水化装置において、
前記水温調整装置が少なくとも冷却機能を有する、前記装置。 - 請求項1から7に記載された海水淡水化装置において、
前記水温調整装置の熱源として、前記ろ過処理する海水とは異なる箇所から取水した海水を用いる、前記装置。 - 請求項8に記載された海水淡水化装置において、
前記異なる箇所から取水した海水が、海水深層水又はその濃縮水である、前記装置。 - 請求項1から9に記載された海水淡水化装置において、
前記水温調整装置が少なくとも熱源を備え、該熱源として発電設備の排熱を用いる、前記装置。
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JP2010011930A JP2011147894A (ja) | 2010-01-22 | 2010-01-22 | 海水淡水化装置 |
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JP2010011930A JP2011147894A (ja) | 2010-01-22 | 2010-01-22 | 海水淡水化装置 |
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- 2010-01-22 JP JP2010011930A patent/JP2011147894A/ja active Pending
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