WO2017002847A1

WO2017002847A1 - 含フッ素共重合体、組成物、光学フィルム、ハードコートフィルム、偏光板、及びタッチパネルディスプレイ、並びに含フッ素共重合体の製造方法

Info

Publication number: WO2017002847A1
Application number: PCT/JP2016/069254
Authority: WO
Inventors: 玲子深川; 顕夫田村; 健人大谷
Original assignee: 富士フイルム株式会社
Priority date: 2015-06-30
Filing date: 2016-06-29
Publication date: 2017-01-05
Also published as: CN107849184A; US20180117888A1; JPWO2017002847A1

Abstract

面状、及び他の層との積層性に優れる膜を形成することができる含フッ素共重合体等を提供すること。　下記一般式（Ｉ）で表される繰返し単位と下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位とを含む含フッ素共重合体、上記含フッ素共重合体を含有する組成物、上記組成物から形成される層を有する光学フィルム、ハードコートフィルム、偏光板、及びタッチパネルディスプレイ、並びに含フッ素共重合体の製造方法。Ｒ^１、Ｒ^１０及びＲ^３はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１～２０のアルキル基を表し、Ｒ^２は少なくともひとつの炭素原子がフッ素原子を置換基として有する炭素数１～２０のアルキル基を表し、Ｌは－Ｏ－、－（Ｃ＝Ｏ）Ｏ－、－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）－、２価の鎖状基、及び２価の脂肪族環状基からなる群より選択される少なくとも１つから構成される２価の連結基を表す。

Description

含フッ素共重合体、組成物、光学フィルム、ハードコートフィルム、偏光板、及びタッチパネルディスプレイ、並びに含フッ素共重合体の製造方法

　本発明は、含フッ素共重合体、組成物、光学フィルム、ハードコートフィルム、偏光板、及びタッチパネルディスプレイ、並びに含フッ素共重合体の製造方法に関する。

　陰極線管（ＣＲＴ）を利用した表示装置、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、蛍光表示ディスプレイ（ＶＦＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、及び液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のような画像表示装置では、表示面の傷付きを防止するために、支持体上にハードコート層を有するハードコートフィルムを表示面に配置することが好適である。

　近年、タッチパネル用途など画像表示装置の多様化に伴い、ハードコート層上に他の機能性層を積層させる（リコート）要求が高まっており、他の層と積層しやすい、すなわち他の層との積層性（リコート性）に優れるハードコート層が求められている。ハードコート層上にリコートする場合、ハードコート層表面が親水的で濡れ性が高くないと、ハジキ状故障や塗布厚みムラなど上層の均質性（面状の平滑性）が損なわれる。しかし、一方で、ハードコート層には通常、ハードコート層自体の塗膜の均質性を高めるため、含フッ素ポリマーなどのレベリング剤が添加されており、このレベリング剤の疎水性によってハードコート層表面は疎水化してしまう。よって、ハードコート層の面状とリコート性のトレードオフが問題となる。

　たとえば、特許文献１には、塗工時における基材に対する均質塗布性や塗工後のリコート性を目的として、特定のフッ素系界面活性剤を用いることが記載されている。
　また、特許文献２には、外部環境によって、被膜表面を疎水性から親水性の表面に可逆的に変化させることができる含フッ素ポリマーが記載されている。

日本国特開２０００－１０２７２７号公報日本国特開２００５－２４８１１６号公報

　しかしながら、本発明者らの検討によると、特許文献１及び２に記載の含フッ素ポリマーを添加剤として用いて塗膜を形成した場合、膜表面の水の接触角が高く、上層塗布時にハジキが発生してしまい、塗膜自体の均質性とリコート性の両立が十分でないことが分かった。

　上記問題に鑑み、本発明の目的、すなわち本発明が解決しようとする課題は、面状、及び他の層との積層性に優れる膜を形成することができる含フッ素共重合体、上記含フッ素共重合体を含有する組成物、上記組成物から形成される層を有する光学フィルム、ハードコートフィルム、偏光板、及びタッチパネルディスプレイ、並びに含フッ素共重合体の製造方法を提供することにある。

　本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討した結果、下記手段により上記課題を解決できることを見出した。
　本発明の含フッ素共重合体は、一般式（ＩＩ）で表されるビニルエステル構造（アクリル酸エステル構造とは異なる）を共重合体に組み込むことで、特に鹸化処理後における親水性表面形成が可能となった。親水化メカニズムは、アルカリによる鹸化処理で例えば酢酸ビニルのアセチル基がＯＨ基へと変換され、親水性表面が形成されたと考えられる。鹸化処理によって親水化される構造としては、本発明のビニルエステル類のように主鎖に直結しているエステル基（※－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）型；※が主鎖との連結部）が好ましく、アクリレートのようなエステル基（※－（Ｃ＝Ｏ）Ｏ－型；※が主鎖との連結部）は含まれない。これにより、特に積層塗布時において、従来は上層塗布時にはハジキが生じて塗布困難な下層に対しても、ハジキなく塗布可能なことがわかった。
　近年、ハードコート層の多機能化として、用途に応じた他の層、例えば、帯電防止層、高屈折率層、低屈折率層、位相差層などをハードコート層表面に積層する要求が高まっているが、これらに対しても、本発明の含フッ素共重合体を用いることで、充分な親水性表面が形成されるため、ハジキなく、また、密着性に優れた積層が可能であることが分かった。また、タッチパネル用途で表面パネルとディスプレイモジュールを、光学樹脂（ＯＣＲ）を間に充填して貼り合わせる場合においても、ディスプレイモジュール表面のハードコート層形成用組成物として本発明の含フッ素共重合体を用いることで、ＯＣＲの濡れ性、接着性を向上できることが分かった。

＜１＞
　下記一般式（Ｉ）で表される繰返し単位と、下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位とを含む含フッ素共重合体。

　一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）中、Ｒ^１、Ｒ^１０及びＲ^３はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１～２０のアルキル基を表し、Ｒ^２は少なくともひとつの炭素原子がフッ素原子を置換基として有する炭素数１～２０のアルキル基を表し、Ｌは－Ｏ－、－（Ｃ＝Ｏ）Ｏ－、－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）－、２価の鎖状基、及び２価の脂肪族環状基からなる群より選択される少なくとも１つから構成される２価の連結基を表す。
＜２＞
　上記含フッ素共重合体が、少なくとも、第一のセグメントと第二のセグメントとを有し、
　上記第一のセグメントは、上記一般式（Ｉ）で表される繰返し単位を上記第一のセグメントに含まれる全繰り返し単位に対して３０質量％以上含み、かつ上記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を０～２０質量％含み、
　上記第二のセグメントは、上記一般式（ＩＩ）で表される繰返し単位を上記第二のセグメントに含まれる全繰り返し単位に対して３０質量％以上含み、かつ上記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を０～３質量％含む、
＜１＞に記載の含フッ素共重合体。
＜３＞
　上記含フッ素共重合体が、分岐構造を有するポリマー又はブロック共重合体である、＜２＞に記載の含フッ素共重合体。
＜４＞
　上記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位が、下記一般式（ＩＩＩ）で表される＜１＞～＜３＞のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体。

　一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ^１は水素原子又は炭素数１～２０のアルキル基を表し、ｍａ及びｎａは各々独立に１～１０の整数を表し、Ｘは水素原子又はフッ素原子を表す。
＜５＞
　上記ｍａは１又は２を表し、上記ｎａは１～６の整数を表す＜４＞に記載の含フッ素共重合体。
＜６＞
　上記Ｒ^３がメチル基、エチル基、プロピル基、ｔ－ブチル基、又はｎ－ブチル基である＜１＞～＜５＞のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体。
＜７＞
　更に、下記一般式（ＩＶ）で表される繰り返し単位を有する＜１＞～＜６＞のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体。

　一般式（ＩＶ）中、Ｒ^２０は水素原子又は炭素数１～２０のアルキル基を表し、Ｒ^４は置換基を有していても良い鎖状若しくは環状のアルキル基、アルケニル基、又はポリオキシアルキレン基を表す。
＜８＞
　上記一般式（ＩＶ）で表される繰り返し単位が、下記一般式（Ｖ）で表される＜７＞に記載の含フッ素共重合体。

　一般式（Ｖ）中、Ｒ^２０は水素原子又は炭素数１～２０のアルキル基を表し、Ｒ^５及びＲ^６はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表す。ｎは１～１００の整数を表す。
＜９＞
　＜１＞～＜８＞のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体を含有する組成物。
＜１０＞
　更に、硬化性化合物を含有する＜９＞に記載の組成物。
＜１１＞
　＜９＞又は＜１０＞に記載の組成物から形成される層を有する光学フィルム。
＜１２＞
　＜９＞又は＜１０＞に記載の組成物から形成される層を有するハードコートフィルム。
＜１３＞
　＜９＞又は＜１０＞に記載の組成物から形成される層を有する偏光板。
＜１４＞
　液晶セルと、上記液晶セルの視認側に＜１３＞に記載の偏光板を含み、上記偏光板の液晶セルと逆の面にＯＣＡ又はＯＣＲを含むタッチパネルディスプレイ。
＜１５＞
　少なくとも、第一のセグメントと第二のセグメントとを有する含フッ素共重合体の製造方法であって、
　上記第一のセグメントは、下記一般式（Ｉ）で表される繰返し単位を上記第一のセグメントに含まれる全繰り返し単位に対して３０質量％以上含み、かつ下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を０～２０質量％含み、
　上記第二のセグメントは、下記一般式（ＩＩ）で表される繰返し単位を上記第二のセグメントに含まれる全繰り返し単位に対して３０質量％以上含み、かつ下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を０～３質量％含み、
　下記（ｉ）、（ｉｉ）又は（ｉｉｉ）の工程を含む、含む含フッ素共重合体の製造方法。
　（ｉ）：　下記一般式（Ｉ）で表される繰返し単位を３０質量％以上含む第一の重合体と、下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を３０質量％以上含む第二の重合体とをそれぞれ合成し、続いて上記第一の重合体と上記第二の重合体とを結合させる工程。
　（ｉｉ）：　下記一般式（Ｉ）で表される繰返し単位を３０質量％以上含む第一の重合体を合成し、続いて上記第一の重合体に下記一般式（ＩＩ－Ｍ）で表される化合物を反応させる工程。
　（ｉｉｉ）：　下記一般式（ＩＩ）で表される繰返し単位を３０質量％以上含む第二の重合体を合成し、続いて上記第二の重合体に下記一般式（Ｉ－Ｍ）で表される化合物を反応させる工程。

　一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、（Ｉ－Ｍ）、及び（ＩＩ－Ｍ）中、Ｒ^１、Ｒ^１０及びＲ^３はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１～２０のアルキル基を表し、Ｒ^２は少なくともひとつの炭素原子がフッ素原子を置換基として有する炭素数１～２０のアルキル基を表し、Ｌは－Ｏ－、－（Ｃ＝Ｏ）Ｏ－、－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）－、２価の鎖状基、及び２価の脂肪族環状基からなる群より選択される少なくとも１つから構成される２価の連結基を表す。

　本発明により、面状、及び他の層との積層性に優れる膜を形成することができる含フッ素共重合体、上記含フッ素共重合体を含有する組成物、上記組成物から形成される層を有する光学フィルム、ハードコートフィルム、偏光板、及びタッチパネルディスプレイ、並びに含フッ素共重合体の製造方法を提供することができる。

　以下、本発明を詳細に説明する。
　なお、本明細書において「～」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
　本明細書において、「（メタ）アクリル基」は、「アクリル基及びメタアクリル基のいずれか一方又は双方」の意味で使用される。（メタ）アクリル酸（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロイル基なども同様である。

［含フッ素共重合体］
　本発明の含フッ素共重合体は、下記一般式（Ｉ）で表される繰返し単位と、下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位とを含む含フッ素共重合体である。

　一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）中、Ｒ^１、Ｒ^１０及びＲ^３はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１～２０のアルキル基を表し、Ｒ^２は少なくともひとつの炭素原子がフッ素原子を置換基として有する炭素数１～２０のアルキル基を表し、Ｌは－Ｏ－、－（Ｃ＝Ｏ）Ｏ－、－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）－、２価の鎖状基、及び２価の脂肪族環状基からなる群より選択される少なくとも１つから構成される２価の連結基を表す。

　一般式（Ｉ）は、フルオロ脂肪族基含有モノマーに由来する繰り返し単位である。
　一般式（Ｉ）中のＲ^１は水素原子又は炭素数１～２０のアルキル基を表し、水素原子又は炭素数１～１０が好ましく、水素原子又は炭素数１～４がより好ましく、水素原子又はメチル基が更に好ましい。

　一般式（Ｉ）中のＲ^２は少なくともひとつの炭素原子がフッ素原子を置換基として有する炭素数１～２０のアルキル基（フルオロアルキル基）を表し、炭素数１～１２のフルオロアルキル基であることが好ましく、炭素数２～１０のフルオロアルキル基であることがより好ましい。また、フッ素原子数は、１～２５であることが好ましく、３～２０であることがより好ましく、８～１５であることが最も好ましい。

　一般式（Ｉ）中のＬは－Ｏ－、－（Ｃ＝Ｏ）Ｏ－、－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）－、２価の鎖状基、及び２価の脂肪族環状基からなる群より選択される少なくとも１つから構成される２価の連結基を表す。なお、－（Ｃ＝Ｏ）Ｏ－は、Ｒ^１が結合している炭素原子とＣ＝Ｏが結合し、Ｒ^２とＯが結合することを表し、－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）－は、Ｒ^１が結合している炭素原子とＯが結合し、Ｒ^２とＣ＝Ｏが結合することを表す。
　Ｌが表す２価の鎖状基としては、炭素数１～２０のアルキレン基が好ましく、炭素数１～１０のアルキレン基がより好ましい。
　Ｌが表す２価の脂肪族環状基としては、炭素数３～２０のシクロアルキレン基が好ましく、炭素数３～１５のシクロアルキレン基がより好ましい。
　Ｌとしては、－（Ｃ＝Ｏ）Ｏ－、又は－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）－が好ましく、－（Ｃ＝Ｏ）Ｏ－がより好ましい。

　効果的な親水性表面形成並びにラジカル重合性の観点から、一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位が、下記一般式（ＩＩＩ）で表されることが特に好ましい。

　一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ^１は水素原子又は炭素数１～２０のアルキル基を表し、ｍａ及びｎａは各々独立に１～１０の整数を表し、Ｘは水素原子又はフッ素原子を表す。

　一般式（ＩＩＩ）中のＲ^１は一般式（Ｉ）中のＲ^１と同義であり、好ましい範囲も同様である。

　一般式（ＩＩＩ）中のｍａ及びｎａは１～１０の整数を表す。
　効果的な親水性表面形成並びに原料入手及び製造の容易さの観点から、一般式（ＩＩＩ）中のｍａは１～８であることが好ましく、１～５であることがより好ましく、１又は２であることが最も好ましい。また、ｎａは１～８であることが好ましく、１～７であることがより好ましく、１～６であることが最も好ましい。

　一般式（ＩＩＩ）中のＸは水素原子又はフッ素原子を表し、フッ素原子を表すことが好ましい。

　次に、一般式（ＩＩ）について説明する。
　一般式（ＩＩ）中のＲ^１０は水素原子又は炭素数１～２０のアルキル基を表し、水素原子又は炭素数１～１０のアルキル基が好ましく、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基がより好ましく、水素原子が更に好ましい。

　一般式（ＩＩ）中のＲ^３は水素原子又は炭素数１～２０のアルキル基を表し、炭素数１～１４のアルキル基が好ましく、炭素数１～８のアルキル基がより好ましい。
　特に、一般式（ＩＩ）中のＲ^３がメチル基、エチル基、プロピル基、ｔ－ブチル基、又はｎ－ブチル基であると、アルカリによる鹸化処理等、外部刺激に対する応答性の観点から好ましい。
　なお、Ｒ^３はフッ素原子を有さない。

　ハードコート層のマトリックスへの相溶性（塗布組成物としての溶解性）の観点から、本発明の含フッ素共重合体は、更に、下記一般式（ＩＶ）で表される繰り返し単位を有することが好ましい。

　一般式（ＩＶ）中、Ｒ^２０は水素原子又は炭素数１～２０のアルキル基を表し、Ｒ^４は置換基を有していても良い鎖状若しくは環状のアルキル基、アルケニル基、又はポリオキシアルキレン基を表す。

　一般式（ＩＶ）中のＲ^２０は一般式（Ｉ）中のＲ^１と同義であり、好ましい範囲も同様である。

　一般式（ＩＶ）中のＲ^４は置換基を有していても良い鎖状若しくは環状のアルキル基、アルケニル基、又はポリオキシアルキレン基を表す。
　Ｒ^４が表す鎖状アルキル基としては、炭素数１～２０の直鎖又は分岐を有するアルキル基が好ましく、炭素数１～１０の直鎖又は分岐を有するアルキル基がより好ましい。
　Ｒ^４が表す環状アルキル基としては、炭素数３～２０の環状アルキル基が好ましく、炭素数３～１２の環状アルキル基がより好ましい。
　Ｒ^４が表すアルケニル基としては、炭素数２～２０の直鎖又は分岐を有するアルケニル基が好ましく、炭素数２～１０の直鎖又は分岐を有するアルケニル基がより好ましい。
　Ｒ^４が表すポリオキシアルキレン基としては、炭素数２～２００のポリオキシアルキレン基が好ましく、炭素数４～１２０のポリオキシアルキレン基がより好ましい。
　一般式（ＩＶ）中のＲ^４としてはポリオキシアルキレン基が特に好ましい。

　ハードコート層のマトリックスへの相溶性（塗布組成物としての溶解性）並びに効果的な親水性表面形成の観点から、一般式（ＩＶ）で表される繰り返し単位が、下記一般式（Ｖ）で表されることが特に好ましい。

　一般式（Ｖ）中、Ｒ^２０は水素原子又は炭素数１～２０のアルキル基を表し、Ｒ^５及びＲ^６はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表す。ｎは１～１００の整数を表す。

　一般式（Ｖ）中のＲ^２０は一般式（ＩＶ）中のＲ^２０と同義であり、好ましい範囲も同様である。

　一般式（Ｖ）中のＲ^５は水素原子又はメチル基を表し、水素原子を表すことが好ましい。
　一般式（Ｖ）中のＲ^６は水素原子又はメチル基を表し、メチル基を表すことが好ましい。
　一般式（Ｖ）中のｎは１～１００の整数を表し、１～５０を表すことが好ましく、１～４５を表すことがより好ましく、２～４０を表すことが更に好ましい。

　本発明の含フッ素共重合体において、一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位の含有量は、含フッ素共重合体全質量に対して、２～５０質量％が好ましく、３～４０質量％がより好ましく、３～３５質量％が更に好ましい。

　本発明の含フッ素共重合体において、一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位の含有量は、含フッ素共重合体全質量に対して、５０～９８質量％が好ましく、５０～９７質量％がより好ましく、６０～９６質量％が更に好ましい。

　本発明の含フッ素共重合体において、一般式（ＩＶ）で表される繰り返し単位の含有量は、含フッ素共重合体全質量に対して、０～５０質量％が好ましく、１～４５質量％がより好ましく、２～４０質量％が更に好ましい。

　本発明の含フッ素共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１０００～５００００が好ましく、１５００～４００００がより好ましく、２０００～３００００が更に好ましい。
　本発明の含フッ素共重合体の数平均分子量（Ｍｎ）は、５００～４００００が好ましく、６００～３５０００がより好ましく、６００～３００００が更に好ましい。
　本発明の含フッ素共重合体の分散度（Ｍｗ／Ｍｎ）は、１．００～１２．００が好ましく、１．００～１１．００がより好ましく、１．００～１０．００が更に好ましい。
　なお、重量平均分子量及び数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により下記の条件で測定された値である。
　［溶離液］　テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
　［装置名］　ＥｃｏＳＥＣ　ＨＬＣ－８３２０ＧＰＣ（東ソー社製）
　［カラム］　ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺＭ－Ｈ、ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺ４０００、ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺ２００（東ソー社製））
　［カラム温度］　４０℃
　［流速］　０．３５ｍｌ／ｍｉｎ

　本発明の含フッ素共重合体は、公知の方法で合成することができる。

　本発明の含フッ素共重合体の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

　本発明の含フッ素共重合体は、一般式（Ｉ）に対応するモノマー（たとえば含フッ素アクリレート）と、一般式（ＩＩ）に対応するモノマー（たとえば酢酸ビニル）のラジカル重合反応性が異なる（一般式（Ｉ）に対応するモノマーが先に重合進行する）ため、一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位がリッチなパートと一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位がリッチなパートが混在することになる。このグラディエーションによって、ハードコート層のマトリックスへの相溶性（塗布組成物としての溶解性）に優れ、効果的にレベリング性とリコート性が確保できるものと考えられる。
　特に、含フッ素共重合体が後述する第一のセグメントと第二のセグメントを有するポリマー（好ましくは、分岐構造を有するポリマー又はブロック共重合体）であると、上記効果が更に顕著に発揮されるため好ましい。

　本発明の含フッ素共重合体について、特に好ましい形態について以下に記載する。
　本発明の含フッ素共重合体は、少なくとも、第一のセグメントと第二のセグメントとを有し、
　第一のセグメントは、一般式（Ｉ）で表される繰返し単位を第一のセグメントに含まれる全繰り返し単位に対して３０質量％以上含み、かつ一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を０～２０質量％含むことが好ましい。
　上記第二のセグメントは、一般式（ＩＩ）で表される繰返し単位を第二のセグメントに含まれる全繰り返し単位に対して３０質量％以上含み、かつ一般式（Ｉ）で表わされる繰り返し単位を０～３質量％含むことが好ましい。
　上記第一のセグメントは一般式（Ｉ）で表される繰返し単位がリッチなセグメントであり、上記第二のセグメントは一般式（ＩＩ）で表される繰返し単位がリッチなセグメントである。含フッ素共重合体が、上記第一のセグメントと上記第二のセグメントとを有することで、一般式（Ｉ）で表される繰返し単位が有する機能（面状を改良する機能）と一般式（ＩＩ）で表される繰返し単位が有する機能（他の層との積層性を改良する機能）がそれぞれ十分に発揮されるため好ましい。
　より具体的には、本発明の含フッ素共重合体を含む膜について、鹸化処理を行う前においては、一般式（Ｉ）のＲ^２が集まった部分が膜の表面に偏析しやすくなり、膜の表面張力を効果的に下げることができ、面状均一性に優れる。一方、鹸化処理を行った後は、一般式（ＩＩ）のＲ^３が親水性基に変換された基が集まって存在することで、一般式（Ｉ）のＲ^２に影響されることなく膜の表面に移動することが可能なため、水の接触角が低い膜が形成される。
　第一のセグメントは、一般式（ＩＩ）で表される繰返し単位を含んでいてもよいが、その含有率は、第一のセグメントに含まれる全繰り返し単位に対して２０質量％以下であり、１５質量％以下であることが好ましく、１０質量％以下であることがより好ましく、０質量％であることが更に好ましい。
　第二のセグメントは、一般式（Ｉ）で表される繰返し単位を含んでいてもよいが、その含有率は、第二のセグメントに含まれる全繰り返し単位に対して３質量％以下であり、２質量％以下であることが好ましく、１質量％以下であることがより好ましく、０質量％であることが更に好ましい。

　上記第一のセグメントと上記第二のセグメントとを有する含フッ素共重合体としては、分岐構造を有するポリマー（分岐ポリマー）又はブロック共重合体であることが好ましい。
　含フッ素共重合体の特に好ましい形態としては、下記（Ｇ１）、（Ｇ２）、（Ｓ）、又は（Ｂ）が挙げられる。
　（Ｇ１）第一のセグメントを含む幹ポリマーに、第二のセグメントを含む枝ポリマーが結合した分岐ポリマー、
　（Ｇ２）第二のセグメントを含む幹ポリマーに、第一のセグメントを含む枝ポリマーが結合した分岐ポリマー
　（Ｓ）中心点から第一のセグメントを含むポリマー（１）と第二のセグメントを含むポリマー（２）が伸びた分岐ポリマー
　（Ｂ）第一のセグメントと第二のセグメントとが連結されたブロック共重合体

＜（Ｇ１）又は（Ｇ２）の分岐ポリマー＞
　（Ｇ１）又は（Ｇ２）の分岐ポリマーにおいて、幹ポリマーの重量平均分子量は、１０００以上１０００００以下であることが好ましく、２０００以上５００００以下であることがより好ましく、２５００以上４００００以下であることが更に好ましい。枝ポリマーの重量平均分子量は、５００以上２００００以下であることが好ましく、８００以上１５０００以下であることがより好ましく、１０００以上１３０００以下であることが更に好ましい。
　枝ポリマーの含有率は、分岐ポリマー全体に対して３質量％以上７０質量％以下であることが好ましく、５質量％以上５０質量％以下であることがより好ましく、１０質量％以上４０質量％以下であることが更に好ましい。
　（Ｇ１）の幹ポリマーは、一般式（Ｉ）で表される繰返し単位以外の繰り返し単位を含んでいてもよく、（Ｇ２）の幹ポリマーは、一般式（ＩＩ）で表される繰返し単位以外の繰り返し単位を含んでいてもよい。（Ｇ１）又は（Ｇ２）の幹ポリマーは、前述の一般式（ＩＶ）で表される繰返し単位を含むことが好ましい。幹ポリマーにおける一般式（ＩＶ）で表される繰返し単位の含有率は、０質量％以上５０質量％以下であることが好ましく、１質量％以上４５質量％以下であることがより好ましく、２質量％以上４０質量％以下であることが更に好ましい。
　幹ポリマーと枝ポリマーは、たがいに反応することができる基を有する繰り返し単位を有することが好ましい。反応することができる基の組み合わせとしては、たとえば－Ｎ＝Ｃ＝Ｏ（イソシアネート基）と水酸基、－Ｎ＝Ｃ＝Ｏとカルボキシル基、－Ｎ＝Ｃ＝Ｏとアミノ基、カルボキシル基とエポキシ基、カルボキシル基とアミノ基、などが挙げられる。このうち、製造容易性の観点から、－Ｎ＝Ｃ＝Ｏと水酸基、カルボキシル基とエポキシ基が好ましく、カルボキシル基とエポキシ基の組み合わせが最も好ましい。カルボキシル基を有する繰り返し単位としては、（メタ）アクリル酸、(メタ)アクリル酸２－カルボキシエチル等に由来する繰り返し単位が挙げられる。エポキシ基を有する繰り返し単位をしては、(メタ)アクリル酸グリシジル等に由来する繰り返し単位が挙げられる。

　（Ｇ１）の枝ポリマーは、一般式（ＩＩ）で表される繰返し単位以外の繰り返し単位を含んでいてもよく、（Ｇ２）の枝ポリマーは、一般式（Ｉ）で表される繰返し単位以外の繰り返し単位を含んでいてもよい。これらの繰り返し単位としては、例えば前述の一般式（ＩＶ）で表される繰返し単位、及び（メタ）アクリル酸エステルに由来する繰り返し単位などが挙げられ、その含有率は枝ポリマー全体に対して０質量％以上５０質量％以下であることが好ましく、１質量％以上４５質量％以下であることがより好ましく、２質量％以上４０質量％以下であることが更に好ましい。
　幹ポリマーと反応することができる基を末端に導入する方法としては、枝ポリマーを合成したのちに末端へ修飾反応を行う方法、あらかじめ修飾された開始剤を用いて枝ポリマーを合成する方法、連鎖移動剤を用いて末端に官能基を導入する方法が挙げられる。なかでも、製造容易性の観点から、連鎖移動剤を用いることが好ましい。連鎖移動剤としては、メルカプトエタノール、メルカプトプロパノール、メルカプトブタノール、メルカプトペンタノール、メルカプトプロピオン酸、メルカプトブタン酸、メルカプトペンタン酸などが挙げられる。なかでもメルカプトプロピオン酸、メルカプトエタノールが好ましい。
　（Ｇ１）又は（Ｇ２）の分岐ポリマーは公知の方法で合成することができ、例えば、高分子学会編、「基礎高分子科学」（第１版、２００６年７月１日発行）の３７２～３７４頁の記載を参照することができる。

＜（Ｓ）の分岐ポリマー＞
　（Ｓ）の分岐ポリマーにおいて、中心点を形成する化合物としては、第一のセグメントを含むポリマー（１）と第二のセグメントを含むポリマー（２）と反応できる基を分子内に複数有することが好ましく、たとえば、多官能イソシアネート化合物、多官能アミン化合物、多官能エポキシ化合物、多官能アルコール化合物が挙げられる。とくに、ポリエチレンイミン、エポキシ基含有アクリルポリマーが好ましい。中心点を形成する化合物の重量平均分子量は、１００以上１５０００以下であることが好ましく、２００以上９０００以下であることがより好ましく、５００以上３０００以下であることが更に好ましい。
　ポリマー（１）及びポリマー（２）の重量平均分子量は、それぞれ、５００以上２００００以下であることが好ましく、８００以上１５０００以下であることがより好ましく、１０００以上１３０００以下であることが更に好ましい。
　（Ｓ）の分岐ポリマーにおけるポリマー（１）及びポリマー（２）の含有率は、それぞれ分岐ポリマー全体に対して１０質量％以上８０質量％以下であることが好ましく、１５質量％以上７０質量％以下であることがより好ましく、２０質量％以上７５質量％以下であることが更に好ましい。
　ポリマー（１）は、一般式（Ｉ）で表される繰返し単位以外の繰り返し単位を含んでいてもよく、ポリマー（２）は、一般式（ＩＩ）で表される繰返し単位以外の繰り返し単位を含んでいてもよい。例えば、ポリマー（１）又はポリマー（２）は、前述の一般式（ＩＶ）で表される繰返し単位、又は（メタ）アクリル酸エステルに由来する繰り返し単位などを含んでいてもよい。ポリマー（１）又はポリマー（２）におけるこれらの繰返し単位の含有率は、０質量％以上５０質量％以下であることが好ましく、１質量％以上４５質量％以下であることがより好ましく、２質量％以上４０質量％以下であることが更に好ましい。
　ポリマー（１）及びポリマー（２）は、中心点を形成する化合物と反応することができる基を末端に有することが好ましい。中心点を形成する化合物と反応することができる基を末端に導入する方法としては、前述の（Ｇ１）又は（Ｇ２）の分岐ポリマーにおいて説明した方法と同様である。
　中心点を形成する化合物と枝ポリマーは、たがいに反応することができる基を有することが好ましい。反応することができる基の組み合わせとしては、たとえば－Ｎ＝Ｃ＝Ｏと水酸基、－Ｎ＝Ｃ＝Ｏとカルボキシル基、－Ｎ＝Ｃ＝Ｏとアミノ基、カルボキシル基とエポキシ基、カルボキシル基とアミノ基、などが挙げられる。このうち、製造容易性の観点から、カルボキシル基とエポキシ基、カルボキシル基とアミノ基の組み合わせが好ましく、カルボキシル基とアミノ基の組み合わせが最も好ましい。カルボキシル基を有する繰り返し単位としては、（メタ）アクリル酸、(メタ)アクリル酸２－カルボキシエチル等が挙げられる。エポキシ基を有する繰り返し単位としては、(メタ)アクリル酸グリシジル等が挙げられる。アミノ基を有する繰り返し単位としては、（メタ）アクリル酸Ｎ－ｔ-ブチルアミノエチルが挙げられる。エポキシ基を有する中心点としては、マープルーフシリーズが挙げられる。－Ｎ＝Ｃ＝Ｏを有する中心点としては、タケネートシリーズ（三井化学製）が挙げられる。アミノ基を有する中心点としては、ポリエチレンイミンが挙げられる。
　（Ｓ）の分岐ポリマーは公知の方法で合成することができ、例えば、高分子学会編、「基礎高分子科学」（第１版、２００６年７月１日発行）の３７２～３７４頁の記載を参照することができる。

＜（Ｂ）のブロック共重合体＞
　（Ｂ）のブロック共重合体は、２つのブロックが結合したジブロック共重合体であっても、３つ以上のブロックが連結したものであっても良い。
　（Ｂ）のブロック共重合体は、第一のセグメントを形成するポリマー（ｂ１）と第二のセグメントを形成するポリマー（ｂ２）とが直接又は連結鎖を挟んで連結されたものであることが好ましい。
　第一のセグメントを形成するポリマー（ｂ１）の重量平均分子量は、８００以上３００００以下であることが好ましく、１０００以上２５０００以下であることがより好ましく、２０００以上２００００以下であることが更に好ましい。
　第二のセグメントを形成するポリマー（ｂ２）の重量平均分子量は、８００以上２５０００以下であることが好ましく、１０００以上２００００以下であることがより好ましく、２０００以上１００００以下であることが更に好ましい。
　ポリマー（ｂ１）は、一般式（Ｉ）で表される繰返し単位以外の繰り返し単位を含んでいてもよく、ポリマー（ｂ２）は、一般式（ＩＩ）で表される繰返し単位以外の繰り返し単位を含んでいてもよい。例えば、ポリマー（ｂ１）又はポリマー（ｂ２）は、前述の一般式（ＩＶ）で表される繰返し単位、（メタ）アクリル酸に由来する繰り返し単位、又は（メタ）アクリル酸エステルに由来する繰り返し単位などを含んでいてもよい。ポリマー（ｂ１）又はポリマー（ｂ２）におけるこれらの繰返し単位の含有率は、０質量％以上５０質量％以下であることが好ましく、１質量％以上４５質量％以下であることがより好ましく、２質量％以上４０質量％以下であることが更に好ましい。
　（Ｂ）のブロック共重合体は公知の方法で合成することができ、例えば、高分子学会編、「基礎高分子科学」（第１版、２００６年７月１日発行）の３６３～３６５頁の記載を参照することができる。

　含フッ素共重合体のフッ素含率は、５質量％以上９０質量％以下が好ましく、１０質量％以上８０質量％以下がより好ましい。フッ素含率は、下記式で定義される。
　フッ素含率＝１００×含フッ素共重合体に含まれるフッ素原子の質量／含フッ素共重合体の質量

［含フッ素共重合体の製造方法］
　本発明の含フッ素共重合体の製造方法は、
　少なくとも、第一のセグメントと第二のセグメントとを有する含フッ素共重合体の製造方法であって、
　上記第一のセグメントは、下記一般式（Ｉ）で表される繰返し単位を上記第一のセグメントに含まれる全繰り返し単位に対して３０質量％以上含み、かつ下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を０～２０質量％含み、
　上記第二のセグメントは、下記一般式（ＩＩ）で表される繰返し単位を上記第二のセグメントに含まれる全繰り返し単位に対して３０質量％以上含み、かつ下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を０～３質量％含み、
　下記（ｉ）、（ｉｉ）又は（ｉｉｉ）の工程を含む、含む含フッ素共重合体の製造方法である。
　（ｉ）：　下記一般式（Ｉ）で表される繰返し単位を３０質量％以上含む第一の重合体と、下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を３０質量％以上含む第二の重合体とをそれぞれ合成し、続いて上記第一の重合体と上記第二の重合体とを結合させる工程。
　（ｉｉ）：　下記一般式（Ｉ）で表される繰返し単位を３０質量％以上含む第一の重合体を合成し、続いて上記第一の重合体に下記一般式（ＩＩ－Ｍ）で表される化合物を反応させる工程。
　（ｉｉｉ）：　下記一般式（ＩＩ）で表される繰返し単位を３０質量％以上含む第二の重合体を合成し、続いて上記第二の重合体に下記一般式（Ｉ－Ｍ）で表される化合物を反応させる工程。

　一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）についての説明は前述したとおりである。一般式（Ｉ－Ｍ）及び（ＩＩ－Ｍ）の各記号の好ましい範囲は、それぞれ、一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）の各記号と同様である。

　上記（ｉ）の工程を含む製造方法は、前述の（Ｇ１）又は（Ｇ２）の分岐ポリマー、（Ｓ）の分岐ポリマーの製造方法として好ましい。
　上記（ｉｉ）又は（ｉｉｉ）の工程を含む製造方法は、前述の（Ｂ）のブロック共重合体の製造方法として好ましい。

［組成物］
　次に、本発明の含フッ素共重合体を含有する組成物について説明する。
　本発明の組成物は、含フッ素共重合体以外の成分を含有してもよく、含フッ素共重合体以外に、膜形成用の化合物と溶剤を含有することが好ましい。特に、膜形成用の化合物として、硬化性化合物を含有することで、ハードコート層形成用組成物（塗布液）として用いることができる。

　本発明の含フッ素共重合体は、レベリング性とリコート性を両立させる観点から、本発明におけるハードコート層形成用組成物の全固形分（溶剤を除いた全成分）を１００質量％とした場合に、０．０１～０．２質量％含有されることが好ましく、０．０１～０．１質量％がより好ましく、０．０１～０．０５質量％が更に好ましい。特に、本発明の含フッ素共重合体の態様が、上述の（Ｇ１）、（Ｇ２）、若しくは（Ｓ）の分岐ポリマー、又は（Ｂ）のブロック共重合体である場合には、この態様以外の含フッ素共重合体に比べて、面状、及び他の層との積層性により優れた膜の形成が可能になる。このため、含フッ素共重合体が上述の（Ｇ１）、（Ｇ２）、若しくは（Ｓ）の分岐ポリマー、又は（Ｂ）のブロック共重合体である場合は、これらの態様以外の含フッ素共重合体を用いた場合に比べて、より少ない添加量（膜を形成するための組成物中の含フッ素共重合体の含有量）で同等の効果を得ることができる。具体的には、本発明におけるハードコート層形成用組成物の全固形分（溶剤を除いた全成分）を１００質量％とした場合に、本発明の含フッ素共重合体の含有率を０．０１～０．０４質量％（より好ましくは０．０１～０．０３質量％）に抑えることができる。

　本発明におけるハードコート層形成用組成物は、含フッ素共重合体と、更に、
（ｂ）分子内に３個以上のエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物、
（ｃ）分子内に１個以上のエポキシ基を有する化合物、
（ｄ）エポキシ基又はエチレン性不飽和二重結合性基との反応性を有する無機微粒子、
（ｅ）紫外線吸収剤
を含むことが好ましく、（ｃ）は、分子内に１個の脂環式エポキシ基と１個のエチレン性不飽和二重結合基とを有し、分子量が３００以下である化合物であることがより好ましい。

≪（ｂ）分子内に３個以上のエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物≫
　本発明のハードコート層形成用組成物は、分子内に３個以上のエチレン性不飽和二重結合基を有する化合物（化合物（ｂ）ともいう）を含むことが好ましい。
　エチレン性不飽和二重結合基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基及び－Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ_２が好ましく、特に好ましくは（メタ）アクリロイル基である。エチレン性不飽和二重結合基を有する事によって、高い硬度を維持する事ができ、耐湿熱性も付与する事ができる。更に、分子内に３個以上のエチレン性不飽和二重結合基を有する事によって、より高い硬度を発現できる。

　化合物（ｂ）としては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル、ビニルベンゼン及びその誘導体、ビニルスルホン、（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。中でも硬度の観点から、３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物が好ましく、本業界で広範に用いられる高硬度の硬化物を形成するアクリレート系化合物が挙げられる。このような化合物としては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル｛例えば、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３－クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
　３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類の具体化合物としては、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ　ＤＰＨＡ、同ＤＰＨＡ－２Ｃ、同ＰＥＴ－３０、同ＴＭＰＴＡ、同ＴＰＡ－３２０、同ＴＰＡ－３３０、同ＲＰ－１０４０、同Ｔ－１４２０、同Ｄ－３１０、同ＤＰＣＡ－２０、同ＤＰＣＡ－３０、同ＤＰＣＡ－６０、同ＧＰＯ－３０３、大阪有機化学工業（株）製Ｖ＃４００、Ｖ＃３６０９５Ｄ等のポリオールと（メタ）アクリル酸のエステル化物を挙げることができる。また紫光ＵＶ－１４００Ｂ、同ＵＶ－１７００Ｂ、同ＵＶ－６３００Ｂ、同ＵＶ－７５５０Ｂ、同ＵＶ－７６００Ｂ、同ＵＶ－７６０５Ｂ、同ＵＶ－７６１０Ｂ、同ＵＶ－７６２０ＥＡ、同ＵＶ－７６３０Ｂ、同ＵＶ－７６４０Ｂ、同ＵＶ－６６３０Ｂ、同ＵＶ－７０００Ｂ、同ＵＶ－７５１０Ｂ、同ＵＶ－７４６１ＴＥ、同ＵＶ－３０００Ｂ、同ＵＶ－３２００Ｂ、同ＵＶ－３２１０ＥＡ、同ＵＶ－３３１０ＥＡ、同ＵＶ－３３１０Ｂ、同ＵＶ－３５００ＢＡ、同ＵＶ－３５２０ＴＬ、同ＵＶ－３７００Ｂ、同ＵＶ－６１００Ｂ、同ＵＶ－６６４０Ｂ、同ＵＶ－２０００Ｂ、同ＵＶ－２０１０Ｂ、同ＵＶ－２２５０ＥＡ、同ＵＶ－２７５０Ｂ（日本合成化学（株）製）、ＵＬ－５０３ＬＮ（共栄社化学（株）製）、ユニディック１７－８０６、同１７－８１３、同Ｖ－４０３０、同Ｖ－４０００ＢＡ（大日本インキ化学工業（株）製）、ＥＢ－１２９０Ｋ、ＥＢ－２２０、ＥＢ－５１２９、ＥＢ－１８３０，ＥＢ－４３５８（ダイセルＵＣＢ（株）製）、ハイコープＡＵ－２０１０、同ＡＵ－２０２０（（株）トクシキ製）、アロニックスＭ－１９６０（東亜合成（株）製）、アートレジンＵＮ－３３２０ＨＡ，ＵＮ－３３２０ＨＣ，ＵＮ－３３２０ＨＳ、ＵＮ－９０４，ＨＤＰ－４Ｔなどの３官能以上のウレタンアクリレート化合物、アロニックスＭ－８１００，Ｍ－８０３０，Ｍ－９０５０（東亞合成（株）製、ＫＢＭ－８３０７（ダイセルサイテック（株）製）の３官能以上のポリエステル化合物なども好適に使用することができる。
　また、化合物（ｂ）は単一の化合物から構成しても良いし、複数の化合物を組み合わせて用いる事もできる。

　化合物（ｂ）は、本発明におけるハードコート層形成用組成物の全固形分（溶剤を除いた全成分）を１００質量％とした場合に、４０～８０質量％含有されるが、４５～７５質量％がより好ましく、５０～７０質量％が更に好ましい。含有量が４０質量％以上であると十分な硬度を得る事ができる。

　化合物（ｂ）はエチレン性不飽和結合基当量が８０～１３０であることが好ましい。エチレン性不飽和結合基当量とは、化合物（ｂ）の分子量をエチレン性不飽和結合性基の数で除した数値をいう。
　化合物（ｂ）のエチレン性不飽和結合性基当量は、８０～１３０であるが、８０～１１０がより好ましく、８０～１００が更に好ましい。

≪分子内に１個以上のエポキシ基を有する化合物≫
　本発明のハードコート層形成用組成物は、分子内に１個以上のエポキシ基を有する化合物（化合物（ｃ）ともいう）を含むことが好ましい。

　化合物（ｃ）が有するエポキシ基は１個以上であれば、特に限定されない。

　化合物（ｃ）の分子量は、３００以下であることが好ましく、２５０以下がより好ましく、２００以下が更に好ましい。また、ハードコート層形成時の揮発を抑制する観点から、化合物（ｃ）の分子量は１００以上であることが好ましく、１５０以上であることがより好ましい。
　なお、上記エポキシ基が脂環式であって、分子量を３００以下にすると、硬度悪化を防止する効果を向上させることができる。

　化合物（ｃ）は、本発明におけるハードコート層形成用組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、１０～４０質量％含有されるが、１２～３５質量％含有されることが好ましく、１５～２５質量％含有されることがより好ましい。含有量が１０質量％以上であると平滑性の向上効果に優れ、ハードコート層の面状が良好となる。一方、含有量が４０質量％以下であると、硬度が向上する。

　化合物（ｃ）は、更にエチレン性不飽和二重結合基を有することが好ましい。エチレン性不飽和二重結合基は特に限定されないが、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基及び－Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ_２が好ましく、特に好ましくは（メタ）アクリロイル基である。
　化合物（ｃ）が、エチレン性不飽和二重結合基を有することにより、化合物（ｂ）との結合力が付与されるため、硬度悪化が防止でき、また、湿熱耐久時の泣き出しを抑制できる。

　化合物（ｃ）の具体的な化合物としては、分子内に１個以上の脂環式エポキシ基を有するものであれば特に限定されないが、ビシクロヘキシルジエポキサイド；３，４，３′，４′－ジエポキシビシクロヘキシル、ブタンテトラカルボン酸　テトラ（３，４－エポキシシクロヘキシルメチル）　修飾ε－カプロラクトン、特開平１０－１７６１４の段落〔００１５〕や、下記一般式（１Ａ）又は（１Ｂ）で表される化合物、又は、１，２－エポキシ－４－ビニルシクロヘキサン等を用いる事ができる。中でも、下記一般式（１Ａ）又は（１Ｂ）で表される化合物がより好ましく、分子量が低い下記一般式（１Ａ）で表される化合物が更に好ましい。なお、下記一般式（１Ａ）で表される化合物はその異性体も好ましい。
　これらの化合物を用いる事によって、平滑性が向上され、また、高い硬度を維持できる。

　一般式（１Ａ）中、Ｒ_３１は水素原子又はメチル基を表し、Ｌ_３１は炭素数１～６の２価の脂肪族炭化水素基を表す。

　一般式（１Ｂ）中、Ｒ_３２は水素原子又はメチル基を表し、Ｌ_３２は炭素数１～６の２価の脂肪族炭化水素基を表す。

　一般式（１Ａ）中のＬ_３１及び一般式（１Ｂ）中のＬ_３２の２価の脂肪族炭化水素基の炭素数としては、それぞれ、炭素数１～６であり、炭素数１～３がより好ましく、炭素数１が更に好ましい。２価の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基が好ましく、直鎖状又は分岐状のアルキレン基がより好ましく、直鎖状のアルキレン基が更に好ましい。

　一般式（１Ａ）及び（１Ｂ）中のＬ_２の２価の脂肪族炭化水素基としては、炭素数１～６であり、炭素数１～３がより好ましく、炭素数１が更に好ましい。２価の脂肪族炭化水素基としては、直鎖状、分岐状又は環状のアルキレン基が好ましく、直鎖状又は分岐状のアルキレン基がより好ましく、直鎖状のアルキレン基が更に好ましい。

≪無機微粒子≫
　本発明のハードコート層形成用組成物は、エポキシ基又はエチレン性不飽和二重結合基との反応性を有する無機微粒子（無機微粒子（ｄ）ともいう）を含むことが好ましい。
　無機微粒子（ｄ）を添加することで硬化層の親水性を増すことができるため、接触角を低減できる。また、硬化層の硬化収縮量を低減できるため、フィルムカールを低減できる。更に、エポキシ基又はエチレン性不飽和二重結合基との反応性を有する無機微粒子を用いる事によって、鉛筆硬度を向上させる事が可能である。無機微粒子としては例えば、シリカ粒子、二酸化チタン粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化アルミニウム粒子などが挙げられる。中でもシリカ粒子が好ましい。

　一般に、無機微粒子は、多官能ビニルモノマーなどの有機成分との親和性が低いため単に混合するだけでは凝集体を形成したり、硬化後の硬化層がひび割れやすくなる場合がある。無機微粒子と有機成分との親和性を増すため、無機微粒子表面を、有機セグメントを含む表面修飾剤で処理している。
　表面修飾剤は、無機微粒子と結合を形成するか無機微粒子に吸着しうる官能基と、有機成分と高い親和性を有する官能基を同一分子内に有するものが好ましい。無機微粒子に結合若しくは吸着し得る官能基を有する表面修飾剤としては、シラン、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウム等の金属アルコキシド表面修飾剤や、リン酸基、硫酸基、スルホン酸基、カルボン酸基等のアニオン性基を有する表面修飾剤が好ましい。更に有機成分との親和性の高い官能基としては単に有機成分と親疎水性を合わせただけのものでもよいが、有機成分と化学的に結合しうる官能基が好ましく、特にエチレン性不飽和二重結合基、若しくは開環重合性基が好ましい。
　本発明において好ましい無機微粒子表面修飾剤は金属アルコキシド若しくはアニオン性基とエチレン性不飽和二重結合基若しくは開環重合性基を同一分子内に有する硬化性樹脂である。有機成分と化学的に結合させる事によって、ハードコート層の架橋密度が上昇し、鉛筆硬度を高める事ができる。

　これら表面修飾剤の代表例として以下の不飽和二重結合含有のカップリング剤や、リン酸基含有有機硬化性樹脂、硫酸基含有有機硬化性樹脂、カルボン酸基含有有機硬化性樹脂等が挙げられる。
　Ｓ－１　Ｈ_２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ_３Ｈ_６Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３
　Ｓ－２　Ｈ_２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ_２Ｈ_４ＯＴｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_３
　Ｓ－３　Ｈ_２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ_２Ｈ_４ＯＣＯＣ_５Ｈ_１０ＯＰＯ（ＯＨ）_２
　Ｓ－４　（Ｈ_２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ_２Ｈ_４ＯＣＯＣ_５Ｈ_１０Ｏ）_２ＰＯＯＨ
　Ｓ－５　Ｈ_２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ_２Ｈ_４ＯＳＯ_３Ｈ
　Ｓ－６　Ｈ_２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯ（Ｃ_５Ｈ_１０ＣＯＯ）_２Ｈ
　Ｓ－７　Ｈ_２Ｃ＝Ｃ（Ｘ）ＣＯＯＣ_５Ｈ_１０ＣＯＯＨ
　Ｓ－８　ＣＨ_２ＣＨ（Ｏ）ＣＨ_２ＯＣ_３Ｈ_６Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_３
　（Ｘは、水素原子又はＣＨ_３を表す）

　これらの無機微粒子の表面修飾は、溶液中でなされることが好ましい。無機微粒子を機械的に微細分散する時に、一緒に表面修飾剤を存在させるか、又は無機微粒子を微細分散したあとに表面修飾剤を添加して攪拌するか、更には無機微粒子を微細分散する前に表面修飾を行って（必要により、加温、乾燥した後に加熱、又はｐＨ変更を行う）、そのあとで微細分散を行う方法でも良い。表面修飾剤を溶解する溶液としては、極性の大きな有機溶剤が好ましい。具体的には、アルコール、ケトン、エステル等の公知の溶剤が挙げられる。

　無機微粒子（ｄ）の平均１次粒径は、１０ｎｍ～１００ｎｍが好ましく、更に好ましくは１０～６０ｎｍである。微粒子の平均粒径は電子顕微鏡写真から求めることができる。無機微粒子（ｄ）の粒径が小さすぎると、硬度の改良効果が得られず、大きすぎるとヘイズ上昇の原因となってしまう。
　無機微粒子（ｄ）の形状は、球形、非球形を問わないが、２～１０個の無機微粒子が連結した非球形が硬度付与の観点で好ましい。数個が鎖状に連結した無機微粒子を用いる事によって、強固な粒子ネットワーク構造を形成して、硬度が向上すると推定している。
　無機微粒子（ｄ）の具体的な例としては、ＥＬＥＣＯＭ　Ｖ－８８０２（日揮（株）製の平均粒径１２ｎｍの球形シリカ微粒子）やＥＬＥＣＯＭ　Ｖ－８８０３（日揮（株）製の異形シリカ微粒子）、ＭｉＢＫ－ＳＴ（日産化学工業（株）製平均粒径１０～２０ｎｍの球形シリカ微粒子）、ＭＥＫ－ＡＣ－２１４０Ｚ（日産化学工業（株）製平均粒径１０～２０ｎｍの球形シリカ微粒子）、ＭＥＫ－ＡＣ－４１３０（日産化学工業（株）製平均粒径４０～５０ｎｍの球形シリカ微粒子）、ＭｉＢＫ－ＳＤ－Ｌ（日産化学工業（株）製平均粒径４０～５０ｎｍの球形シリカ微粒子）、ＭＥＫ－ＡＣ－５１４０Ｚ（日産化学工業（株）製平均粒径７０～１００ｎｍの球形シリカ微粒子）等を上げる事ができる。中でも、ＥＬＥＣＯＭ　Ｖ－８８０２、ＭＥＫ－ＡＣ－２１４０Ｚが硬度付与の観点で好ましい。

　ハードコート層形成用組成物の全固形分を１００質量％とした場合に無機微粒子（ｄ）は１０～４０質量％含有されるが、１５～３０質量％が好ましく、１５～２５質量％が更に好ましい。

≪紫外線吸収剤≫
　本発明のハードコート層形成用組成物は、紫外線吸収剤（紫外線吸収剤（ｅ）ともいう）を含むことが好ましい。
　本発明のハードコートフィルムは、偏光板又は液晶表示用部材等に使用されるが、偏光板又は液晶等の劣化防止の観点から、紫外線吸収剤が好ましく用いられる。紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。紫外線吸収剤は１種のみ用いても良いし、２種以上を併用しても良い。例えば、特開２００１－７２７８２号公報や特表２００２－５４３２６５号公報に記載の紫外線吸収剤が挙げられる。紫外線吸収剤の具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。

≪溶剤≫
　本発明において、ハードコート層形成用組成物は、溶剤を含有することができる。溶剤としては、モノマーの溶解性、透光性粒子の分散性、塗工時の乾燥性等を考慮し、各種溶剤を用いることができる。係る有機溶剤としては、例えばジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４－ジオキサン、１，３－ジオキソラン、１，３，５－トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール、炭酸ジメチル、炭酸メチルエチル、炭酸ジエチル、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、γ－プチロラクトン、２－メトキシ酢酸メチル、２－エトキシ酢酸メチル、２－エトキシ酢酸エチル、２－エトキシプロピオン酸エチル、２－メトキシエタノール、２－プロポキシエタノール、２－ブトキシエタノール、１，２－ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ－ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、２－オクタノン、２－ペンタノン、２－ヘキサノン、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、メタノール、エタノール、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール等が挙げられ、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。

　本発明において、ハードコート層形成用組成物の固形分の濃度は２０～８０質量％の範囲となるように溶剤を用いるのが好ましく、より好ましくは３０～７５質量％であり、更に好ましくは４０～７０質量％である。

　本発明者らは、本発明のハードコート層形成用組成物を用いて作製されたハードコート層を下層として、その表面に、更に上層を塗布成膜する際にも塗布時のハジキが生じにくいとともに、膜面が均一でムラのない上層を作製できることを見出した。いずれの理論に拘泥するものではないが、上述のように、塗布時には、面状平滑化（レベリング）機能を示していた本発明の含フッ素共重合体を含むハードコート層形成用組成物からなるハードコート層は、フィルムに鹸化処理を施すことにより、表面を親水化することができ、上層形成時にハジキが生じることを防止することができる。上記のような特質から、本発明のハードコート層形成用組成物から形成された層を下層として、その表面に塗布成膜で上層を形成する際の、上層形成用の塗布液の溶剤としては、幅広い溶剤を使用できる。

　ハードコート層形成用組成物は、上記（ｂ）～（ｅ）の他に、重合開始剤などの添加剤を含んでいてもよい。

（ラジカル重合開始剤）
　本発明におけるハードコート層形成用組成物は、ラジカル重合開始剤を含有してもよい。
　エチレン性不飽和基を有する化合物の重合は、光ラジカル重合開始剤又は熱ラジカル重合開始剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる。光及び熱重合開始剤としては市販の化合物を利用することができ、それらは、「最新ＵＶ硬化技術」（ｐ．１５９，発行人；高薄一弘，発行所；（株）技術情報協会，１９９１年発行）や、ＢＡＳＦ社のカタログに記載されている。
　ラジカル重合開始剤としては、具体的には、アルキルフェノン系光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４、ＤＡＲＯＣＵＲＥ１１７３、Ｉｒｇａｃｕｒｅ２９５９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１２７、ＤＡＲＯＣＵＲＥＭＢＦ、Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７、Ｉｒｇａｃｕｒｅ３６９、Ｉｒｇａｃｕｒｅ３７９ＥＧ）、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤（Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９、ＬＵＣＩＲＩＮ　ＴＰＯ）、その他（Ｉｒｇａｃｕｒｅ７８４、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０１、Ｉｒｇａｃｕｒｅ　ＯＸＥ０２、Ｉｒｇａｃｕｒｅ７５４）等を用いる事ができる。
　ラジカル重合開始剤の添加量は、本発明におけるハードコート層形成用組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、０．１～１０質量％の範囲であり、１～５質量％が好ましく、２～４質量％がより好ましい。添加量が０．１質量％未満の場合には、重合が十分に進まずハードコート層の硬度が不足する。一方、１０質量％より多い場合には、ＵＶ光が膜内部まで届かずハードコート層の硬度が不足する。これらラジカル開始剤は単独で用いても良いし、複数種を組み合わせて用いる事もできる。

（カチオン重合開始剤）
　本発明におけるハードコート層形成用組成物は、カチオン重合開始剤を含有してもよい。
　カチオン重合開始剤としては、光カチオン重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、或いは、マイクロレジスト等に使用されている公知の酸発生剤等、公知の化合物及びそれらの混合物等が挙げられる。
　例えば、オニウム化合物、有機ハロゲン化合物、ジスルホン化合物が挙げられる。有機ハロゲン化合物、ジスルホン化合物のこれらの具体例は、上記ラジカルを発生する化合物の記載と同様のものが挙げられる。

　オニウム化合物としては、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、イミニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、アルソニウム塩、セレノニウム塩等が挙げられ、例えば特開２００２－２９１６２号公報の段落番号［００５８］～［００５９］に記載の化合物等が挙げられる。

　本発明において、特に好適に用いられるカチオン重合開始剤としては、オニウム塩が挙げられ、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、イミニウム塩が、光重合開始の光感度、化合物の素材安定性等の点から好ましく、中でも耐光性の観点でヨードニウム塩が最も好ましい。

　本発明において、好適に用いることのできるオニウム塩の具体例としては、例えば、特開平９－２６８２０５号公報の段落番号［００３５］に記載のアミル化されたスルホニウム塩、特開２０００－７１３６６号公報の段落番号［００１０］～［００１１］に記載のジアリールヨードニウム塩又はトリアリールスルホニウム塩、特開２００１－２８８２０５号公報の段落番号［００１７］に記載のチオ安息香酸Ｓ－フェニルエステルのスルホニウム塩、特開２００１－１３３６９６号公報の段落番号［００３０］～［００３３］に記載のオニウム塩等が挙げられる。

　他の例としては、特開２００２－２９１６２号公報の段落番号［００５９］～［００６２］に記載の有機金属／有機ハロゲン化物、ｏ－ニトロベンジル型保護基を有する光酸発生剤、光分解してスルホン酸を発生する化合物（イミノスルフォネート等）等の化合物が挙げられる。

　ヨードニウム塩系のカチオン重合開始剤の具体的な化合物としては、Ｂ２３８０（東京化成製）、ＢＢＩ－１０２（みどり化学製）、ＷＰＩ－１１３（和光純薬工業製）、ＷＰＩ－１２４（和光純薬工業製）、ＷＰＩ－１６９（和光純薬工業製）、ＷＰＩ－１７０（和光純薬工業製）、ＤＴＢＰＩ－ＰＦＢＳ（東洋合成化学製）を用いる事ができる。

（風ムラ防止剤）
　本発明におけるハードコート層形成用組成物は、風ムラ防止剤を含有してもよい。

（フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤）
　ハードコート層形成用組成物はフッ素系界面活性剤、及びシリコーン系界面活性剤を含有してもよいが、疎水性が増して接触角が高くなるため実質的に含まないことが好ましい。形成されたハードコート層の表面が疎水的になりにくくなり、上層を形成する際にハジキが生じにくくなる。
　具体的には、ハードコート層形成用組成物のフッ素系界面活性剤及びシリコーン系界面活性剤の含量が、ハードコート層形成用組成物の総質量に対して０．０５質量％以下、好ましくは０．０１質量％以下、より好ましくは０質量％である。

　フッ素系界面活性剤は、フッ素を含む化合物であって、ハードコート層形成用組成物において使用される溶剤中で表面に偏在する化合物である。疎水性部分を有するフッ素系界面活性剤の例としては、特開２０１１－１９１５８２号公報の段落００２８～００３４に記載の配向制御剤として記載される化合物のうちのフッ素を含むもの、特許２８４１６１１号に記載のフッ素系界面活性剤、特開２００５－２７２５６０号公報の段落００１７～００１９に記載のフッ素系界面活性剤などが挙げられる。
　市販品のフッ素系界面活性剤としては、ＡＧＣセイミケミカル株式会社製のサーフロンや、ＤＩＣ株式会社製のメガファック、ＮＥＯＳ株式会社のフタージェントを挙げることができる。

　シリコーン系界面活性剤は、シリコーンを含む化合物であって、光学機能性層作製用組成物において使用される溶剤中で表面に偏在する化合物である。
　シリコーン系界面活性剤としては、例えば、ポリメチルフェニルシロキサン、ポリエーテル変性シリコーンオイル、ポリエーテル変性ジメチルポリシロキサン、ジメチルシリコーン、ジフェニルシリコーン、ハイドロジェン変性ポリシロキサン、ビニル変性ポリシロキサン、ヒドロキシ変性ポリシロキサン、アミノ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、クロル変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、メタクリロキシ変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フッ素変性ポリシロキサン、長鎖アルキル変性ポリシロキサン、フェニル変性ポリシロキサン、シリコーン変性コポリマーなどの珪素原子含有の低分子化合物が挙げられる。

　シリコーン系界面活性剤の市販品としては、信越化学社製のＫＦ－９６、Ｘ－２２－９４５、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、同ＤＣ７ＰＡ、同ＳＨ１１ＰＡ、同ＳＨ２１ＰＡ、同ＳＨ２８ＰＡ、同ＳＨ２９ＰＡ、同ＳＨ３０ＰＡ、同ＦＳ－１２６５－３００（以上、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）、ＴＳＦ－４３００、同－４４４０、同－４４４５、同－４４４６、同－４４５２、同－４４６０（以上、ＧＥ東芝シリコン（株）製）、ポリシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学（株）製）、ＢＹＫ－３０１、同ＢＹＫ－３０２、同ＢＹＫ－３０７、同ＢＹＫ－３２５、同ＢＹＫ－３３１、同ＢＹＫ－３３３、同ＢＹＫ－３４１、同ＢＹＫ－３４５、同ＢＹＫ－３４６、同ＢＹＫ－３４８、同ＢＹＫ－３７５（ビックケミー・ジャパン（株）製）アロンＧＳ－３０（東亜合成社製）、シリコーンＬ－７５、シリコーンＬ－７６、シリコーンＬ－７７、シリコーンＬ－７８、シリコーンＬ－７９、シリコーンＬ－５２０及びシリコーンＬ－５３０（日本ユニカ社製）等を挙げることができる。

［光学フィルム］
　本発明の光学フィルムは、本発明の含フッ素共重合体を含有する組成物から形成される層を有する。
　光学フィルムは、好ましくは支持体上に本発明の含フッ素共重合体を含有する組成物から形成される層を有することが好ましい。

＜支持体＞
　支持体としては、可視光（４００～８００ｎｍ）の平均の透過率が８０％以上の透明支持体が好ましく、ガラスやポリマーフィルムを用いることができる。支持体として用いられるポリマーフィルムの材料の例には、セルロースアシレートフィルム（例えば、セルローストリアセテートフィルム、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム）、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂フィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリメチルメタクリレート等のポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリルニトリルフィルム、ポリオレフィン、脂環式構造を有するポリマー（ノルボルネン系樹脂（アートン：商品名、ＪＳＲ社製、非晶質ポリオレフィン（ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社製））、などが挙げられる。このうちセルロースアシレートフィルムが好ましい。
　支持体はハードコート層の形成後剥離される仮支持体であってもよい。
　支持体の膜厚は、１μｍ～１０００μｍ程度あればよく、モバイル用途に合わせて薄層化することが好ましいため、１μｍ～１００μｍが更に好ましく、１μｍ～２５μｍがより好ましい。

［ハードコートフィルム］
　本発明のハードコートフィルムは、上記光学フィルムの好ましい形態のひとつであり、本発明の含フッ素共重合体を含有する組成物から形成される層（ハードコート層であることが好ましい）を有する。

［ハードコートフィルムの製造方法］
　本発明のハードコートフィルムは、支持体上に、上記ハードコート層形成用組成物を塗布して、乾燥、硬化させることでハードコート層を形成することにより、製造することができる。支持体はハードコート層の形成後剥離してもよい。

＜塗布方式＞
　本発明のハードコートフィルムの各層は以下の塗布方法により形成することができるが、この方法に制限されない。ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、スライドコート法やエクストルージョンコート法（ダイコート法）（特開２００３－１６４７８８号明細書参照）、マイクログラビアコート法等の公知の方法が用いられ、その中でもマイクログラビアコート法、ダイコート法が好ましい。

＜乾燥、硬化条件＞
　本発明におけるハードコート層など塗布により層形成する場合の、乾燥、硬化方法に関して、好ましい例を以下に述べる。
　本発明では、電離放射線による照射と、照射の前、照射と同時又は照射後の熱処理とを組み合わせることにより、硬化することが有効である。
　以下に、いくつかの製造工程のパターンを示すが、これらに限定されるものではない。（以下の「－」は熱処理を行っていないことを示す。）

　　　照射前　→　　照射と同時　　→　　照射後
（１）熱処理　→　電離放射線硬化　→　　　－
（２）熱処理　→　電離放射線硬化　→　　熱処理
（３）　－　　→　電離放射線硬化　→　　熱処理

　その他、電離放射線硬化時に同時に熱処理を行う工程も好ましい。

　本発明においては、上記のとおり、電離放射線による照射と組み合わせて熱処理を行うことが好ましい。熱処理は、ハードコートフィルムの支持体、ハードコート層を含めた構成層を損なうものでなければ特に制限はないが、好ましくは４０～１５０℃、更に好ましくは４０～８０℃である。

　熱処理に要する時間は、使用成分の分子量、その他成分との相互作用、粘度などにより異なるが、１５秒～１時間、好ましくは２０秒～３０分、最も好ましくは３０秒～５分である。

　電離放射線の種類については、特に制限はなく、Ｘ線、電子線、紫外線、可視光、赤外線などが挙げられるが、紫外線が広く用いられる。例えば塗膜が紫外線硬化性であれば、紫外線ランプにより１０ｍＪ／ｃｍ^２～１０００ｍＪ／ｃｍ^２の照射量の紫外線を照射して各層を硬化するのが好ましい。照射の際には、上記エネルギーを一度に当ててもよいし、分割して照射することもできる。特に塗膜の面内での性能ばらつきを少なくする点や、カールを良化させるという観点からは、２回以上に分割して照射することが好ましく、初期に１５０ｍＪ／ｃｍ^２以下の低照射量の紫外光を照射し、その後、５０ｍＪ／ｃｍ^２以上の高照射量の紫外光を照射し、かつ初期よりも後期の方で高い照射量を当てることが好ましい。硬度の観点でトータルの照射量としては、１００ｍＪ／ｃｍ^２～１０００ｍＪ／ｃｍ^２が好ましく、３００ｍＪ／ｃｍ^２～１０００ｍＪ／が更に好ましく、５００ｍＪ／ｃｍ^２～１０００ｍＪ／ｃｍ^２が最も好ましい。

　本発明のハードコートフィルムは、上記本発明のハードコートフィルムの製造方法によって製造されることが好ましい。
　本発明のハードコートフィルムは、一般に、最も単純な構成では、透明支持体上にハードコート層を塗設した構成である。
　本発明のハードコートフィルムの好ましい層構成の例を下記に示すが、特にこれらの層構成のみに限定されるわけではない。
　・支持体／ハードコート層
　・支持体／ハードコート層／低屈折率層
　・支持体／ハードコート層／防眩層（帯電防止層）／低屈折率層
　・支持体／ハードコート層／防眩層／帯電防止層／低屈折率層
　・支持体／ハードコート層／帯電防止層／防眩層／低屈折率層
　・支持体／ハードコート層（帯電防止層）／防眩層／低屈折率層
　・支持体／ハードコート層／高屈折率層／帯電防止層／低屈折率層
　・支持体／ハードコート層／高屈折率層（帯電防止層）／低屈折率層
　・支持体／ハードコート層／帯電防止層／高屈折率層／低屈折率層
　・支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層（帯電防止層）／低屈折率層
　・支持体／ハードコート層／中屈折率層（帯電防止層）／高屈折率層／低屈折率層
　・支持体／ハードコート層（帯電防止層）／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
　・支持体／帯電防止層／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
　・帯電防止層／支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
　ここで、帯電防止層、防眩層はハードコート性を有していても良い。

　本発明のハードコート層の膜厚は、目標とする硬度に合わせて選択することができるが、１～５０μｍが好ましい。これは、本発明のハードコートフィルムはカールが非常に小さいため、ハードコート層を厚くしても、取り扱い上問題が生じないためである。なお、偏光子保護フィルムとして用いる場合には、ハードコート層の厚みは３～１０μｍで設計する事が好ましい。

　本発明のハードコートフィルムは、上記のように上層を積層した積層フィルムの作製に用いる際に、上層形成用塗布組成物のハジキが生じにくく、均質な上層を形成することができる。

＜偏光板＞
　本発明の偏光板は、本発明の含フッ素共重合体を含有する組成物から形成される層を有する。
　本発明の偏光板は、少なくとも１枚の本発明のハードコートフィルムを有するものであることが好ましく、偏光子と、鹸化処理を施した後に上記偏光子と貼り合わされた本発明のハードコートフィルムとを含むものであることが好ましい。
　本発明のハードコートフィルムは、偏光板用保護フィルムとして用いることができる。偏光板用保護フィルムとして用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。得られたハードコートフィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。アルカリ処理の代わりに特開平６－９４９１５号、特開平６－１１８２３２号に記載されているような易接着加工を施してもよい。また前述のような表面処理を行ってもよい。光学フィルムの偏光子との貼合面は、膜を低透湿層積層した面でも良いし、膜を積層していない面であっても構わない。
　保護フィルム処理面と偏光子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。
　偏光板は偏光子及びその両面を保護する保護フィルムで構成されており、更にこの偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成される。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。又、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。

＜タッチパネルディスプレイ＞
　本発明のタッチパネルディスプレイは、液晶セルと、上記液晶セルの視認側に上記本発明の偏光板を含み、また、上記偏光板の液晶セルと逆の面にＯＣＡ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ　ｃｌｅａｒ　ａｄｈｅｓｉｖｅ）又はＯＣＲ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ　ｃｌｅａｒ　ｒｅｓｉｎ）を含むものである。
　ＯＣＲとしては、協立化学製のＨＲＪシリーズや、Ｄｅｘｅｒｉａｌｓ製のＳＡシリーズなどが挙げられる。

　以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の実施例に限定されるものではない。

＜合成例１＞
（含フッ素共重合体Ｂ－１の合成例）
　攪拌機、温度計、還流冷却管、及び窒素ガス導入管を備えた２００ミリリットル三口フラスコに、メチルエチルケトン１５．０ｇを仕込んで、７５℃まで昇温した。次いで、２－（パーフルオロヘキシル）エチルアクリレート４．００ｇ（９．６ミリモル）、酢酸ビニル１４．００ｇ（１６２．６ミリモル）、ブレンマーＡＭＥ－４００（日油株式会社製）２．００ｇ（４．１ミリモル）、メチルエチルケトン１５．０ｇ及び「Ｖ－６０１」（和光純薬（株）製）１．５５６ｇからなる混合溶液を、１８０分で滴下が完了するように等速で滴下した。滴下完了後、更に２時間攪拌を続けた後、８７℃まで昇温し、更に５時間攪拌を続け、本発明の含フッ素共重合体Ｂ－１のメチルエチルケトン溶液４３．６ｇを得た。この重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は３，６００（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＥｃｏＳＥＣ　ＨＬＣ－８３２０ＧＰＣ（東ソー社製））により溶離液ＴＨＦ、流速０．３５ｍｌ／ｍｉｎ、温度４０℃の測定条件にてポリスチレン換算で算出、使用カラムはＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺＭ－Ｈ、ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺ４０００、ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺ２００（東ソー社製））であった。また、得られた重合体の^１Ｈ－ＮＭＲ（Ｎｕｃｌｅａｒ　Ｍａｇｎｅｔｉｃ　Ｒｅｓｏｎａｎｃｅ）スペクトルにて構造を同定し、組成比を決定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）　δ：３．３～３．４（３Ｈ、ＡＭＥ－４００由来のポリエチレンオキシ基末端ＣＨ３）、４．０～４．２並びに４．３～４．５（２Ｈ、２－（パーフルオロヘキシル）エチルアクリレートのメチレン基由来）、４．８～５．２（１Ｈ、酢酸ビニルのメチン基由来）。

＜合成例２～１３＞
　合成例１で用いたモノマー、組成比をそれぞれ表１のように変更したこと以外は同様にして本発明の含フッ素共重合体Ｂ－２～Ｂ－１２を合成した。なお、合成例５と合成例１０ではいずれもＢ－５の構造の含フッ素共重合体を合成したが、繰り返し単位の含有量が異なる。

　なお、表１中の略記号は以下の意味を表す。
　Ｃ６ＦＨＡ：１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ－ドデカフルオロヘプチルアクリレート
　Ｃ８ＦＨＡ：１Ｈ，１Ｈ，９Ｈ－ドデカフルオロノニルアクリレート
　Ｃ６ＦＡ：２－（パーフルオロヘキシル）エチルアクリレート
　Ｃ８ＦＡ：２－（パーフルオロオクチル）エチルアクリレート
　ＨＦＭＡ：メタクリル酸１，１，１，３，３，３－ヘキサフルオロイソプロピル
　Ｃ６ＦＶＥ：（３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８－トリデカフルオロオクチル）ビニルエーテル
　ＣＦ３ＶＡｃ：トリフルオロ酢酸ビニル
　ＶＡｃ：酢酸ビニル
　ＶＢ：酪酸ビニル
　ＶＮ－Ｏ：ｎ－オクタン酸ビニル
　ＶＬ：ラウリン酸ビニル
　ＶＳ：ステアリン酸ビニル
　ＡＭＥ－４００：ブレンマーＡＭＥ－４００（日油社製）
　ＰＭＥ－４００：ブレンマーＰＭＥ－４００（日油社製）
　ＡＭ－２３０Ｇ：ＮＫエステルＡＭ－２３０Ｇ（新中村化学社製）
　また、表１中の分子量はｋ（キロ）で表しており、例えば、３．６ｋは３６００である。

＜ハードコート層塗布液Ａ－１の調製＞
　下記の組成となるように、各成分を混合し、固形分濃度が約５５質量％となるハードコート層塗布液Ａ－１を作製した。
――――――――――――――――――――――――――――――――――
　ハードコート層塗布液Ａ－１の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――
　ＤＰＨＡ（ｄｉｐｅｎｔｈａｅｒｙｔｈｉｒｉｔｏｌ　ｈｅｘａ　ａｃｒｙｌａｔｅ）：ＫＡＹＡＲＤ　ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）（６官能）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２９．６質量部
　イルカギュア１８４：アルキルフェノン系光重合開始剤（ＢＡＳＦ（製））　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２．２０質量部
　３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート：サイクロマーＭ１００（（株）ダイセル、分子量１９６）　　　　　　　　１３．８質量部
　化合物１　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．５５質量部
　含フッ素共重合体Ｂ－１（合成例１）　　　　　　　　　０．０６質量部
　ＭＥＫ－ＡＣ－２１４０Ｚ（平均粒径１０～２０ｎｍ、球形シリカ微粒子（日産化学工業（株）製））　　　　　　　　　　　　　　８．２５質量部
　Ｔｉｎｕｖｉｎ９２８：ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤（ＢＡＳＦ（製））　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．５５質量部
　ＭＥＫ：メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　１６．７質量部
　ＭｉＢＫ：メチルイソブチルケトン　　　　　　　　　　１９．８質量部
　酢酸メチル：　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　８．５質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――
　化合物１：
　化合物１は特許第４８４１９３５号公報実施例１記載の方法で合成した。

＜ハードコート層塗布液Ａ－２～Ａ－１７の調製＞
　含フッ素共重合体Ｂ－１を、含フッ素共重合体Ｂ－２～Ｂ－１２、Ｈ－１～３に替えるか、又は含フッ素共重合体Ｂ－１を添加しない以外は上記と同様にして、ハードコート層塗布液Ａ－２～Ａ－１７を作製した。

（４０μｍアクリル基材フィルムの作製）
　攪拌装置、温度センサー、冷却管及び窒素導入管を備えた内容積３０Ｌの反応釜に、メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）８０００ｇ、２－（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル（ＭＨＭＡ）２０００ｇ及び重合溶媒としてトルエン１００００ｇを仕込み、これに窒素を通じつつ、１０５℃まで昇温させた。昇温に伴う環流が始まったところで、重合開始剤としてｔ－アミルパーオキシイソノナノエート１０．０ｇを添加するとともに、ｔ－アミルパーオキシイソノナノエート２０．０ｇとトルエン１００ｇとからなる溶液を２時間かけて滴下しながら、約１０５～１１０℃の環流下で溶液重合を進行させ、更に４時間の熟成を行った。重合反応率は９６．６％、得られた重合体におけるＭＨＭＡの含有率（質量比）は２０．０％であった。
　次に、得られた重合溶液に、環化触媒として１０ｇのリン酸ステアリル／リン酸ジステアリル混合物（堺化学工業製、Ｐｈｏｓｌｅｘ　Ａ－１８）を加え、約８０～１００℃の環流下において５時間、環化縮合反応を進行させた。
　次に、得られた重合溶液を、バレル温度２６０℃、回転速度１００ｒｐｍ、減圧度１３．３～４００ｈＰａ（１０～３００ｍｍＨｇ）、リアベント数１個及びフォアベント数４個のベントタイプスクリュー二軸押出機（φ＝２９．７５ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝３０）に、樹脂量換算で２．０ｋｇ／時の処理速度で導入し、押出機内で環化縮合反応及び脱揮を行った。次に、脱揮完了後、押出機内に残された熱溶融状態にある樹脂を押出機の先端から排出し、ペレタイザーによりペレット化して、主鎖にラクトン環構造を有するアクリル樹脂からなる透明なペレットを得た。この樹脂の重量平均分子量は１４８０００、メルトフローレート（ＪＩＳ　Ｋ７１２０に準拠し、試験温度を２４０℃、荷重を１０ｋｇとして求めた。以降の製造例においても同じ）は１１．０ｇ／１０分、ガラス転移温度は１３０℃であった。
　次に、得られたペレットとＡＳ樹脂（東洋スチレン製、商品名：トーヨーＡＳ　ＡＳ２０）を、ペレット／ＡＳ樹脂＝９０／１０の重量比で単軸押出機（φ＝３０ｍｍ）を用いて混錬することにより、ガラス転移温度が１２７℃の透明なペレットを得た。
　上記で作製した樹脂組成物のペレットを、二軸押出機を用いて、コートハンガー型Ｔダイから溶融押出し、厚さ約１６０μｍの樹脂フィルムを作製した。
　次に、得られた未延伸の樹脂フィルムを、縦方向（長さ方向）に２．０倍、横方向（幅方向）に２．０倍に同時二軸延伸することにより、偏光子保護フィルムを作製した。このようにして得たアクリル基材フィルムの厚さは４０μｍ、全光線透過率は９２％、ヘイズは０．３％、ガラス転移温度は１２７℃であった。

＜ハードコート層の塗設＞
　ロール形態で巻き出した８０μｍ厚さの市販のトリアセチルセルロースフィルム（富士フイルム製）（下記表２中、「ＴＡＣ８０」と記載する）、ＴＪ２５（富士フイルム製）、及び上記の４０μｍアクリル基材フィルム（下記表２中、「アクリル」と記載する）から選択した支持体と、ハードコート層塗布液Ａ－１～Ａ－１７を使用し、ハードコートフィルムＳ－０１～Ｓ－２１を作製した。
　具体的には、支持体上に、特開２００６－１２２８８９号公報実施例１記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度３０ｍ／分の条件で各塗布液を塗布し、６０℃で１５０秒乾燥の後、更に窒素パージ下酸素濃度約０．１体積％で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量５００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布層を硬化させてハードコート層を形成した後、巻き取った。

　作製したハードコートフィルムＳ－０１～Ｓ－２１を下記評価方法で評価した。

｛ハードコート層の膜厚｝
　ハードコート層の膜厚は、接触式の膜厚計を用いて作製したハードコートフィルムの膜厚を測定し、そこから同様に測定した支持体厚みを引いて算出した。ハードコートフィルムＳ－０１～Ｓ－２１の全てにおいて、ハードコート層の膜厚は、６．０μｍであった。

｛ハードコート層の干渉ムラ｝
　ハードコートフィルムのハードコート層と反対面の面（裏面）の反射を防止するため、裏面を黒色マーカーで塗りつぶした後に、拡散板が前面に取りつけられた３波長蛍光灯下でハードコートフィルムのおもて面（ハードコート層塗布面）を観察する。おもて面からハードコートフィルムを目視しで観察し、下記評価基準にて評価した。
　Ａ：干渉縞はなかった。
　Ｂ：干渉縞はごく僅かにみられるが、気にならない。
　Ｃ：干渉縞がところどころにみられるが、製品として許容されるものであった。
　Ｄ：干渉縞が強く発生し、問題になる。

｛ハードコート層のブツ状欠陥｝
　裏面側から蛍光灯を照射し、ハードコート層塗布面（おもて面）側から透過目視面検、及びハードコート層塗布面側から蛍光灯を照射した反射目視面検にて３ｍ^２検査し、輝点状の欠陥を採取した。更に、採取した欠陥を顕微鏡及びＩＲ、顕微ラマン分光装置で分析して、欠陥部の組成が、正常部と同一であるものの数をカウントし、その値を３で割って１ｍ^２当たりのブツ状欠陥の数を算出した。
　Ａ：ブツ状欠陥が１ｍ^２当たりに換算し０個であり、発生していない
　Ｂ：ブツ状欠陥が１ｍ^２当たりに換算し１～５個発生しているものの、低頻度であり気にならない
　Ｃ：ブツ状欠陥が１ｍ^２当たりに換算し６個以上発生しており、気になる

（ハードコートフィルムの鹸化）
　作製したハードコートフィルムを、４５℃に保った１．５ｍｏｌ／ＬのＮａＯＨ水溶液（鹸化液）に２分間浸漬した後、フィルムを水洗し、その後、３０℃の０．１ｍｏｌ／Ｌの硫酸水溶液に１５秒浸漬した後、更に水洗浴を１００秒流水下に通して、フィルムを中性の状態にした。そして、エアナイフによる水切りを３回繰り返し、水を落とした後に９０℃の乾燥ゾーンに６０秒間滞留させて乾燥し、鹸化処理したフィルムを作製した。

｛水の接触角｝
　接触角計［“ＣＡ－Ｘ”型接触角計、協和界面科学（株）製］を用い、乾燥状態（２０℃／６５％ＲＨ）で、液体として純水を使用して３μＬの液滴を針先に作り、これを鹸化したハードコートフィルムのハードコート層表面に接触させてフィルム上に液滴を作った。滴下後１０秒でのフィルムと液体とが接する点における、液体表面に対する接線とフィルム表面がなす角で、液体を含む側の角度を測定し、接触角とした。その結果を元に、以下の基準で評価した。
　Ａ：接触角が５０°以下
　Ｂ：接触角が５０°を超え６０°以下
　Ｃ：接触角が６０°を超え７５°以下
　Ｄ：接触角が７５°を超える

｛ハードコート層上に積層したときのハジキ｝
（積層用塗布液Ｌｎ－１の調製）
　各成分を下記のように混合し、ＭＥＫ／ＭＭＰＧ－Ａｃの９０／１０混合物（質量比）に溶解して固形分１質量％の低屈折率層塗布液を調製した。
　《Ｌｎ－１の組成》
　下記のパーフルオロオレフィン共重合体（Ｐ－１）　１５．０ｇ
　ＤＰＨＡ　７．０ｇ
　ＲＭＳ－０３３　５．０ｇ
　下記の含フッ素モノマー（Ｍ－１）　２０．０ｇ
　中空シリカ粒子（固形分として）　５０．０ｇ
　イルガキュア１２７　３．０ｇ
　使用した化合物を以下に示す。

　・ＤＰＨＡ：ＫＡＹＡＲＤ　ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）
　・ＲＭＳ－０３３：シリコーン系多官能アクリレート（Ｇｅｌｅｓｔ製、Ｍｗ＝２８０００）
　・イルガキュア１２７：アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤（ＢＡＳＦ（製））
　・中空シリカ粒子：中空シリカ粒子分散液（平均粒子サイズ４５ｎｍ、屈折率１．２５、表面をアクリロイル基を有するシランカップリング剤で表面処理、ＭＥＫ分散液濃度２０％）
　・ＭＥＫ：メチルエチルケトン
　・ＭＭＰＧ－Ａｃ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート

　上記低屈折率層用塗布液は孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して塗布液を調製した。

　次に、上記の通り鹸化処理を施したハードコートフィルムのハードコート層が塗設されている側に、上記低屈折率層用塗布液Ｌｎ－１を塗布した。低屈折率層の乾燥条件は９０℃、６０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２の照射量とした。低屈折率層の屈折率は１．３６、膜厚は９５ｎｍであった。得られたフィルムを５ｍ^２検査し、ハジキの個数を数えた。ここで、下層の表面上に上層が形成されていない領域をハジキとした。その結果を元に、以下の基準で評価した。
　Ａ：ハジキが０個であり、発生していない
　Ｂ：ハジキが１～５個であり、ほとんど発生しておらず問題ない
　Ｃ：ハジキが６～２０個で、許容される
　Ｄ：ハジキが２１個以上発生しており、問題ある

　以上の結果を表２に表す。

（Ｈ－１）（特開２００５－２４８１１６号公報の実施例１化合物）

（Ｈ－２）（特開２０００－１０２７２７号公報の実施例１化合物）

（Ｈ－３）
Ｆ－５５２：市販フッ素系表面改質剤（ＤＩＣ（株）社製、製品名：メガファックＦ－５５２）

　次に、含フッ素共重合体が、分岐ポリマー、ブロック共重合体である実施例を示す。

＜分岐ポリマーの合成＞
（幹ポリマーの合成）
　攪拌機、温度計、還流冷却管、オイルバス、及び窒素ガス導入管を備えた２００ミリリットル三口フラスコに、メチルエチルケトン１０．０ｇを仕込んで、７８℃まで昇温した。次いで、酢酸ビニル１５．０ｇ（１７４．２ミリモル）、グリシジルメタクリレート（ＧＬＭ）２ｇ（１４．１ミリモル）、ブレンマーＡＭＥ－４００（日油株式会社製）３ｇ（６．２ミリモル）、メチルエチルケトン１０．０ｇ及び「Ｖ－６０１」（和光純薬（株）製）１．３４ｇからなる混合溶液を、１８０分で滴下が完了するように等速で滴下した。滴下完了後、更に５時間攪拌を続け、幹ポリマーＡＡ－１のメチルエチルケトン溶液４１．０ｇを得た。この重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は６，８００（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＥｃｏＳＥＣ　ＨＬＣ－８３２０ＧＰＣ（東ソー社製））により溶離液ＴＨＦ、流速０．３５ｍｌ／ｍｉｎ、温度４０℃の測定条件にてポリスチレン換算で算出、使用カラムはＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺＭ－Ｈ、ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺ４０００、ＴＳＫｇｅｌ　ＳｕｐｅｒＨＺ２００（東ソー社製））であった。また、得られた重合体の^１Ｈ－ＮＭＲスペクトルにて構造を同定し、組成比を決定した。

（枝ポリマーの合成）
　攪拌機、温度計、還流冷却管、オイルバス、及び窒素ガス導入管を備えた２００ミリリットル三口フラスコに、メチルエチルケトン１０．０ｇを仕込んで、７８℃まで昇温した。次いで、２－（パーフルオロヘキシル）エチルアクリレート２０ｇ（４７．８ミリモル）、３－メルカプトプロピオン酸０．５１ｇ（４．８ミリモル）、メチルエチルケトン１０．０ｇ及び「Ｖ－５０１」（和光純薬（株）製）０．１３ｇからなる混合溶液を、１８０分で滴下が完了するように等速で滴下した。滴下完了後、更に５時間攪拌を続け、枝ポリマーＢＢ－１のメチルエチルケトン溶液４０．０ｇを得た。この重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は２，１００であった。

（分岐ポリマーの合成）
　攪拌機、温度計、還流冷却管を備えた２００ミリリットル三口フラスコに、上記幹ポリマーＡＡ－１のメチルエチルケトン溶液１０．０ｇを仕込み、７８℃に加熱した。次いで、上記枝ポリマーＢＢ－１のメチルエチルケトン溶液１４．３ｇ、テトラブチルアンモニウムブロミド０．１ｇを加え１２時間撹拌した。反応終了後、メタノールに再沈殿して精製することで本発明の含フッ素共重合体である分岐ポリマーＣ－１を得た。分岐ポリマーＣ－１の重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は８，３００であった。

　モノマーの種類、重量平均分子量を表３に示す内容に変更した以外は、同様にして幹ポリマーＡＡ－２～ＡＡ－１０、枝ポリマーＢＢ－２～ＢＢ－７、及びＢＢ－９を合成した。また、枝ポリマーとＧＬＭとの比率を表３に示す内容に変更した以外は、同様にして分岐ポリマーＣ－２～Ｃ－１２、Ｚ－１．Ｚ－２を合成した。表３の「モノマー組成比」の数値はそれぞれ左から順に「モノマー組成」に記載されたモノマーに対応している。

（枝ポリマーＢＢ－８の合成）
　攪拌機、温度計、還流冷却管、オイルバス、及び窒素ガス導入管を備えた２００ミリリットル三口フラスコに、メチルエチルケトン１０．０ｇを仕込んで、７８℃まで昇温した。次いで、２－（パーフルオロヘキシル）エチルアクリレート２０ｇ（４７．８ミリモル）、２－メルカプトエタノール０．３８ｇ（４．８ミリモル）、メチルエチルケトン１０．０ｇ及び「Ｖ－５０１」（和光純薬（株）製）０．１３ｇからなる混合溶液を、１８０分で滴下が完了するように等速で滴下した。滴下完了後、更に５時間攪拌を続け、枝ポリマーＢＢ－８のメチルエチルケトン溶液４０．０ｇを得た。この重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は７，２００であった。

（分岐ポリマーＣ－１３の合成）
　攪拌機、温度計、還流冷却管を備えた２００ミリリットル三口フラスコに、幹ポリマーＡＡ－９のメチルエチルケトン溶液１０．０ｇを仕込み、７８℃に加熱した。次いで、上記枝ポリマーＢＢ－８のメチルエチルケトン溶液１２．７ｇ、ネオスタンＵ－８３０（日東化成株式会社製）０．１ｇを加え１２時間撹拌した。反応終了後、メタノールに再沈殿して精製することで本発明の含フッ素共重合体である分岐ポリマーＣ－１３を得た。分岐ポリマーＣ－１３の重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は１４，４００であった。

　Ｃ６ＦＡ：２－（パーフルオロヘキシル）エチルアクリレート
　ＡＭＥ－４００：ブレンマーＡＭＥ－４００（日油社製）
　ＧＬＭ：グリシジルメタクリレート
　カレンズＡＯＩ（登録商標）：２－アクリロイルオキシエチルイソシアナート（昭和電工株式会社製）
　ＨＦＰ：ヘキサフルオロプロピレン

＜ブロック共重合体の合成＞
　攪拌機、温度計、還流冷却管、オイルバス、及び窒素ガス導入管を備えた２００ミリリットル三口フラスコに、酢酸ビニル１０ｇ（１１６．２ミリモル）、Ｓ，Ｓ－ジベンジルトリチオ炭酸０．１ｇ、「Ｖ－６０１」（和光純薬（株）製）０．０５ｇ、メチルエチルケトン２０ｇを加え、６０℃で６時間反応させた。反応後、メタノールに再沈殿して精製を行い、得られたポリマー（１段階目のポリマー）をメチルエチルケトン２０ｇに溶解した。１段階目のポリマーの重量平均分子量は４８００であった。次いで、１段階目のポリマーのメチルエチルケトン溶液に、２－（パーフルオロヘキシル）エチルアクリレート１０ｇ（２３．９ミリモル）、「Ｖ－６０１」０．０５ｇを加え６０℃で６時間反応させ、１段階目のポリマーに２段階目のポリマーが連結したブロック共重合体を得た。得られた溶液をメタノールに再沈殿することで、本発明の含フッ素共重合体であるブロック共重合体Ｄ－１を４２ｇ得た。このブロック共重合体Ｄ－１の重量平均分子量は９１００であり、２段階目のポリマーの重量平均分子量は４３００と算出した。

　モノマーの種類、重量平均分子量を表４の内容に変更した以外は、同様にしてブロック共重合体Ｄ－２～Ｄ－１０、Ｚ－３、Ｚ－４を合成した。Ｄ－４は２段階目のポリマーのメチルエチルケトン溶液に表４に記載のモノマーを反応させて、３段階目のポリマーを更に連結したブロック共重合体である。表４の「モノマー組成比」の数値はそれぞれ左から順に「モノマー組成」に記載されたモノマーに対応している。表４の「Ｍｗ」はそれぞれ１段階目のポリマーの重量平均分子量、２段階目のポリマーの重量平均分子量、３段階目のポリマーの重量平均分子量を示している。これらの重量平均分子量は、たとえばジブロック共重合体の場合には、最終的に得られたポリマーの重量平均分子量から１段階目のポリマーの重量平均分子量を引くことで、２段階目のポリマーの重量平均分子量を算出した。

　ＡＥ－２００：ブレンマーＡＥ－２００（日油社製）
　ＰＭＥ－１０００：ブレンマーＰＭＥ－１０００（日油社製）
　ＦＡＡＣ－４：ＣＨＥＭＩＮＯＸ　ＦＡＡＣ－４（ユニマテック社製）

＜分岐ポリマーの合成＞
（枝ポリマーの合成）
　攪拌機、温度計、還流冷却管、オイルバス、及び窒素ガス導入管を備えた２００ミリリットル三口フラスコに、メチルエチルケトン１０．０ｇを仕込んで、７８℃まで昇温した。次いで、酢酸ビニル２０ｇ（２３０．１ミリモル）、３－メルカプトプロピオン酸２．４ｇ（２３．０ミリモル）、メチルエチルケトン１０．０ｇ及び「Ｖ－５０１」（和光純薬（株）製）０．１３ｇからなる混合溶液を、１８０分で滴下が完了するように等速で滴下した。滴下完了後、更に５時間攪拌を続け、枝ポリマーＥ－１のメチルエチルケトン溶液４０．０ｇを得た。この重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は２，２００であった。

　モノマーの種類を表５に記載した内容に変更した以外は、同様にして枝ポリマーＥ－２～Ｅ－７、Ｆ－１～Ｆ－６を合成した。

（分岐ポリマーの合成）
　攪拌機、温度計、還流冷却管、及びオイルバスを備えた２００ミリリットル三口フラスコに、枝ポリマー（１）として枝ポリマーＥ－１を１０．０ｇ、枝ポリマー（２）として枝ポリマーＦ－１を１０．０ｇ、中心点を形成する化合物としてポリエチレンイミン（重量平均分子量６００）０．３ｇを加え７８℃で５時間加熱した。得られた溶液をメタノールに再沈殿することで、本発明の含フッ素共重合体である分岐ポリマーＧ－１を１６．７ｇ得た。この重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は９５００であった。

　枝ポリマー（１）、枝ポリマー（２）、中心点を形成する化合物の種類及び仕込み比を表５の内容に変更した以外は、同様にして分岐ポリマーＧ－２～Ｇ－１２、Ｚ－５、Ｚ－６を合成した。

　ブレンマーＥ：ブレンマーＥ（日油社製）
　ＥＭＡ：メタクリル酸エチル
　ＦＡＭＡＣ－６：ＣＨＥＭＩＮＯＸ　ＦＡＭＡＣ－６（ユニマテック社製）
　マープルーフＧ－０１５０Ｍ：マープルーフＧ－０１５０Ｍ（日油社製、エポキシ基含有アクリルポリマー）

＜ハードコート層形成用組成物（塗布液）の調製＞
　下記の組成となるように、各成分を混合し、固形分濃度が約５５質量％となるようにしてハードコート層形成用組成物ＨＣ－１を作製した。

（ハードコート層塗布液ＨＣ－１の組成）
　ＤＰＨＡ：ＫＡＹＡＲＤ　ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）（６官能）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２９．７質量部
　イルカギュア１８４：アルキルフェノン系光重合開始剤（ＢＡＳＦ（製））　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２．２０質量部
　３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート：サイクロマーＭ１００（（株）ダイセル、分子量１９６）　　　　　　　　１３．８質量部
　化合物１　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．５５質量部
　含フッ素共重合体Ｃ－１　　　　　　　　　　　　　　　０．０２質量部
　ＥＬＥＣＯＭ　Ｖ－８８０２：平均粒径１２ｎｍ、重合性基付き、球形シリカ微粒子の固形分４０質量％のＭｉＢＫ分散液（日揮（株）製）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　８．２５質量部
　Ｔｉｎｕｖｉｎ９２８：ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤（ＢＡＳＦ（製））　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．５５質量部
　ＭＥＫ：メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　２２．５質量部
　ＭｉＢＫ：メチルイソブチルケトン　　　　　　　　　　１３．５質量部
　酢酸メチル：　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９．０質量部

　化合物１は上記したものと同様である。

＜ハードコート層形成用組成物ＨＣ－２～ＨＣ－４２の調製＞
　含フッ素共重合体Ｃ－１を表６の含フッ素共重合体に替えたこと以外は上記と同様にして、ハードコート層形成用組成物ＨＣ－２～ＨＣ－４２を作製した。

＜ハードコート層の塗設＞
　ロール形態で巻き出した支持体であるＴＪ２５（富士フイルム製）と、ハードコート層形成用組成物ＨＣ－１～ＨＣ－４２を使用し、ハードコートフィルムＴ－１～Ｔ－４２を作製した。
　具体的には、支持体上に、特開２００６－１２２８８９号公報実施例１記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度３０ｍ／分の条件で各ハードコート層形成用組成物を塗布し、６０℃で１５０秒乾燥の後、更に窒素パージ下酸素濃度約０．１体積％で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ^２、照射量５００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して塗布層を硬化させてハードコート層を形成した後、巻き取った。

　作製したハードコートフィルムＴ－１～Ｔ－４２を下記評価方法で評価した。

｛ハードコート層の膜厚｝
　ハードコート層の膜厚は前述と同様の方法で算出した。ハードコートフィルムＴ－１～Ｔ－４２の全てにおいて、ハードコート層の膜厚は、６．０μｍであった。

｛ハードコート層の面状均一性｝
　ハードコートフィルムのハードコート層側とは反対側の面（裏面）の反射を防止するため、裏面を黒色マーカーで塗りつぶした後に、拡散板が前面に取りつけられた３波長蛍光灯下でハードコートフィルムのおもて面（ハードコート層側の表面）を観察した。おもて面からハードコートフィルムを目視しで観察し、下記評価基準にて評価した。
　下記評価基準でＡ～Ｃ評価を合格とした。
　Ａ：干渉縞はなかった。
　Ｂ：干渉縞はごく僅かにみられるが、気にならない。
　Ｃ：干渉縞が僅かにみられるが、製品として許容されるものであった。
　Ｄ：干渉縞がところどころに発生し、問題になる。
　Ｅ：干渉縞が数多く発生している。
　Ｆ：干渉縞が強く発生している。

（ハードコートフィルムの鹸化）
　作製したハードコートフィルムを前述と同様の方法で鹸化処理した。

｛水の接触角｝
　接触角計［“ＣＡ－Ｘ”型接触角計、協和界面科学（株）製］を用い、乾燥状態（２０℃／相対湿度６５％）で、液体として純水を使用して３μＬの液滴を針先に作り、これを鹸化したハードコートフィルムのハードコート層表面に接触させてフィルム上に液滴を作った。滴下後１０秒でのフィルムと液体とが接する点における、液体表面に対する接線とフィルム表面がなす角で、液体を含む側の角度を測定し、接触角とした。その結果を元に、以下の基準で評価した。
　Ａ：接触角が５０°以下
　Ｂ：接触角が５０°を超え５５°以下
　Ｃ：接触角が５５°を超え６５°以下
　Ｄ：接触角が６５°を超え７０°以下
　Ｅ：接触角が７０°を超え７５°以下
　Ｆ：接触角が７５°を超える

　本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。
　本出願は、２０１５年６月３０日出願の日本特許出願（特願２０１５－１３２０７７）に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。

Claims

　下記一般式（Ｉ）で表される繰返し単位と、下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位とを含む含フッ素共重合体。

　一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）中、Ｒ^１、Ｒ^１０及びＲ^３はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１～２０のアルキル基を表し、Ｒ^２は少なくともひとつの炭素原子がフッ素原子を置換基として有する炭素数１～２０のアルキル基を表し、Ｌは－Ｏ－、－（Ｃ＝Ｏ）Ｏ－、－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）－、２価の鎖状基、及び２価の脂肪族環状基からなる群より選択される少なくとも１つから構成される２価の連結基を表す。
　前記含フッ素共重合体が、少なくとも、第一のセグメントと第二のセグメントとを有し、
　前記第一のセグメントは、前記一般式（Ｉ）で表される繰返し単位を前記第一のセグメントに含まれる全繰り返し単位に対して３０質量％以上含み、かつ前記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を０～２０質量％含み、
　前記第二のセグメントは、前記一般式（ＩＩ）で表される繰返し単位を前記第二のセグメントに含まれる全繰り返し単位に対して３０質量％以上含み、かつ前記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を０～３質量％含む、
請求項１に記載の含フッ素共重合体。
　前記含フッ素共重合体が、分岐構造を有するポリマー又はブロック共重合体である、請求項２に記載の含フッ素共重合体。
　前記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位が、下記一般式（ＩＩＩ）で表される請求項１～３のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体。

　一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ^１は水素原子又は炭素数１～２０のアルキル基を表し、ｍａ及びｎａは各々独立に１～１０の整数を表し、Ｘは水素原子又はフッ素原子を表す。
　前記ｍａは１又は２を表し、前記ｎａは１～６の整数を表す請求項４に記載の含フッ素共重合体。
　前記Ｒ^３がメチル基、エチル基、プロピル基、ｔ－ブチル基、又はｎ－ブチル基である請求項１～５のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体。
　更に、下記一般式（ＩＶ）で表される繰り返し単位を有する請求項１～６のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体。

　一般式（ＩＶ）中、Ｒ^２０は水素原子又は炭素数１～２０のアルキル基を表し、Ｒ^４は置換基を有していても良い鎖状若しくは環状のアルキル基、アルケニル基、又はポリオキシアルキレン基を表す。
　前記一般式（ＩＶ）で表される繰り返し単位が、下記一般式（Ｖ）で表される請求項７に記載の含フッ素共重合体。

　一般式（Ｖ）中、Ｒ^２０は水素原子又は炭素数１～２０のアルキル基を表し、Ｒ^５及びＲ^６はそれぞれ独立に水素原子又はメチル基を表す。ｎは１～１００の整数を表す。
　請求項１～８のいずれか１項に記載の含フッ素共重合体を含有する組成物。
　更に、硬化性化合物を含有する請求項９に記載の組成物。
　請求項９又は１０に記載の組成物から形成される層を有する光学フィルム。
　請求項９又は１０に記載の組成物から形成される層を有するハードコートフィルム。
　請求項９又は１０に記載の組成物から形成される層を有する偏光板。
　液晶セルと、前記液晶セルの視認側に請求項１３に記載の偏光板を含み、前記偏光板の液晶セルと逆の面にＯＣＡ又はＯＣＲを含むタッチパネルディスプレイ。
　少なくとも、第一のセグメントと第二のセグメントとを有する含フッ素共重合体の製造方法であって、
　前記第一のセグメントは、下記一般式（Ｉ）で表される繰返し単位を前記第一のセグメントに含まれる全繰り返し単位に対して３０質量％以上含み、かつ下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を０～２０質量％含み、
　前記第二のセグメントは、下記一般式（ＩＩ）で表される繰返し単位を前記第二のセグメントに含まれる全繰り返し単位に対して３０質量％以上含み、かつ下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位を０～３質量％含み、
　下記（ｉ）、（ｉｉ）又は（ｉｉｉ）の工程を含む、含む含フッ素共重合体の製造方法。
　（ｉ）：　下記一般式（Ｉ）で表される繰返し単位を３０質量％以上含む第一の重合体と、下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を３０質量％以上含む第二の重合体とをそれぞれ合成し、続いて前記第一の重合体と前記第二の重合体とを結合させる工程。
　（ｉｉ）：　下記一般式（Ｉ）で表される繰返し単位を３０質量％以上含む第一の重合体を合成し、続いて前記第一の重合体に下記一般式（ＩＩ－Ｍ）で表される化合物を反応させる工程。
　（ｉｉｉ）：　下記一般式（ＩＩ）で表される繰返し単位を３０質量％以上含む第二の重合体を合成し、続いて前記第二の重合体に下記一般式（Ｉ－Ｍ）で表される化合物を反応させる工程。

　一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、（Ｉ－Ｍ）、及び（ＩＩ－Ｍ）中、Ｒ^１、Ｒ^１０及びＲ^３はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１～２０のアルキル基を表し、Ｒ^２は少なくともひとつの炭素原子がフッ素原子を置換基として有する炭素数１～２０のアルキル基を表し、Ｌは－Ｏ－、－（Ｃ＝Ｏ）Ｏ－、－Ｏ（Ｃ＝Ｏ）－、２価の鎖状基、及び２価の脂肪族環状基からなる群より選択される少なくとも１つから構成される２価の連結基を表す。