WO2016063500A1

WO2016063500A1 - 光学デバイス、光学デバイス制御装置及び光学デバイスの製造方法

Info

Publication number: WO2016063500A1
Application number: PCT/JP2015/005209
Authority: WO
Inventors: 裕子鈴鹿; 太田　益幸
Original assignee: パナソニックＩｐマネジメント株式会社
Priority date: 2014-10-22
Filing date: 2015-10-15
Publication date: 2016-04-28
Also published as: US10527875B2; US20170235175A1

Abstract

　光学デバイス（１）は、第１電極（１３）と、第２電極（１４）と、屈折率調整層（１５）と、凹凸層（１６）とを備えている。第１電極（１３）は、光透過性を有する。第２電極（１４）は、第１電極（１３）と電気的に対となり、光透過性を有する。屈折率調整層（１５）は、第１電極（１３）と第２電極（１４）との間に配置され、可視光領域から近赤外光領域までの任意の波長帯域での屈折率が調整可能である。凹凸層（１６）は、屈折率調整層（１５）の表面を凹凸にし、膜状である。屈折率調整層（１５）は、透明状態と、入射光を配光する状態とが変化可能である。

Description

光学デバイス、光学デバイス制御装置及び光学デバイスの製造方法

　本開示は、光学デバイス、光学デバイス制御装置及び光学デバイスの製造方法に関する。より詳細には、電気により光学的な状態が変化可能な光学デバイス、その光学デバイスを制御するための光学デバイス制御装置、及び、その光学デバイスの製造方法に関する。

　電気を供給することにより、光学的な状態を変化させることができる光学デバイスが提案されている。たとえば、特許文献１には、一対の透明電極の間に銀を含有するエレクトロクロミック材料を含む電解質層と、電解質層を挟持する一対の透明電極とを備え、一対の透明電極の一方にナノオーダーの凹凸を設けた調光素子が開示されている。特許文献１の調光素子は、電圧の印加により鏡面状態を形成することができる。

国際公開第２０１２／１１８１８８号明細書

　上記特許文献１の調光素子は、鏡面状態を形成することが可能ではあるものの、所望の方向に光の進行方向を変化させるものではない。

　本開示の目的は、配光を行うことが可能な光学デバイス、光学デバイス制御装置及び光学デバイスの製造方法を提供することである。

　本開示の光学デバイスの一態様は、光透過性を有する第１電極と、前記第１電極と電気的に対となり、光透過性を有する第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間に配置され、可視光領域から近赤外光領域までの任意の波長帯域での屈折率が調整可能な屈折率調整層と、前記屈折率調整層の表面を凹凸にする膜状の凹凸層と、を備え、前記屈折率調整層は、透明状態と、入射光を配光する状態とが変化可能である。

　また、本開示の光学デバイス制御装置の一態様は、前記屈折率調整層が前記近赤外光領域での屈折率が調整可能である上記光学デバイスと、前記光学デバイスに入射する近赤外線量を検知する第１検知部及び前記光学デバイスから出射する近赤外線量を検知する第２検知部の少なくとも一つと、前記第１検知部又は前記第２検知部で検知した前記近赤外線量により前記第１電極と前記第２電極との間の電圧を制御する制御部とを備える。

　また、本開示の光学デバイスの製造方法の一態様は、上記光学デバイスの製造方法であって、第１基板の上に前記第１電極及び樹脂層を形成し、前記樹脂層の形成後に、インプリントにより前記樹脂層の表面に凹凸を与えて、前記樹脂層から前記凹凸層を形成し、第２基板の上に前記第２電極を形成し、前記屈折率調整層の材料を、前記凹凸層及び前記第１電極のうちの一方の上、又は、前記第２電極の上に塗布し、前記第１電極と前記第２電極とを対向させて、前記第１基板と前記第２基板とを接着する。

　本開示の光学デバイス及び光学デバイス制御装置の一態様によれば、屈折率調整層の屈折率の変化により、透明状態と配光状態とを作り出すことができる。そのため、光学特性に優れる光学デバイスを実現できる。

　本開示の光学デバイスの製造方法の一態様によれば、光学特性に優れた光学デバイスを製造できる。

図１は、実施の形態に係る光学デバイスの一例を模式的に示す断面図である。図２は、実施の形態の変形例１に係る光学デバイスの一例を模式的に示す断面図である。図３Ａは、実施の形態に係る光学デバイスが透明状態であるときの一例を示す図である。図３Ｂは、実施の形態に係る光学デバイスが配光状態であるときの一例を示す図である。図３Ｃは、実施の形態に係る光学デバイスが散乱状態であるときの一例を示す図である。図４は、実施の形態の変形例２に係る光学デバイスの一例を模式的に示す断面図である。図５は、実施の形態の変形例３に係る光学デバイスの一例を模式的に示す断面図である。図６Ａは、実施の形態に係る光学デバイスの凹凸層の第１変形例の構成（高さがランダムの場合）を示す図である。図６Ｂは、実施の形態に係る光学デバイスの凹凸層の第２変形例の構成（ピッチがランダムの場合）を示す図である。図６Ｃは、実施の形態に係る光学デバイスの凹凸層の第３変形例の構成（角度がランダムの場合）を示す図である。図６Ｄは、実施の形態に係る光学デバイスの凹凸層の第４変形例の構成（深さがランダムの場合）を示す図である。図７は、実施の形態の変形例４に係る光学デバイスの一例を模式的に示す断面図である。図８は、実施の形態の変形例５に係る光学デバイスの一例を模式的に示す断面図である。図９Ａは、実施の形態の変形例６に係る光学デバイス（反射性を有さない状態）の一例を模式的に示す図である。図９Ｂは、実施の形態の変形例６に係る光学デバイス（反射性を有する状態）の一例を模式的に示す図である。図１０は、実施の形態の変形例７に係る光学デバイスの一例を模式的に示す断面図である。図１１は、実施の形態の変形例８に係る光学デバイスの一例を模式的に示す断面図である。図１２は、実施の形態の変形例９に係る光学デバイスの一例を模式的に示す断面図である。図１３は、実施の形態の変形例１０に係る光学デバイスの一例を模式的に示す断面図である。図１４は、実施の形態の変形例１１に係る光学デバイスの一例を模式的に示す断面図である。図１５は、実施の形態の変形例１２に係る光学デバイスの一例を模式的に示す断面図である。図１６は、実施の形態の変形例１３に係る光学デバイスの一例を模式的に示す断面図である。図１７は、実施の形態の変形例１４に係る光学デバイスの一例を模式的に示す断面図である。図１８Ａは、実施の形態に係る光学デバイスの製造方法における一工程を模式的に示す断面図である。図１８Ｂは、実施の形態に係る光学デバイスの製造方法における一工程を模式的に示す断面図である。図１８Ｃは、実施の形態に係る光学デバイスの製造方法における一工程を模式的に示す断面図である。図１８Ｄは、実施の形態に係る光学デバイスの製造方法における一工程を模式的に示す断面図である。図１８Ｅは、実施の形態に係る光学デバイスの製造方法における一工程を模式的に示す断面図である。図１８Ｆは、実施の形態に係る光学デバイスの製造方法における一工程を模式的に示す断面図である。図１９Ａは、実施の形態に係る光学デバイスを建物に適用したときにおける光学デバイスの透明状態の一例を示す図である。図１９Ｂは、実施の形態に係る光学デバイスを建物に適用したときにおける光学デバイスの配光状態の一例を示す図である。図１９Ｃは、実施の形態に係る光学デバイスを建物に適用したときにおける光学デバイスの遮蔽状態の一例を示す図である。図２０Ａは、実施の形態に係る光学デバイスを用いた光学デバイス制御装置において、光学デバイスが透明状態であるときの一例を模式的に示す図である。図２０Ｂは、実施の形態に係る光学デバイスを用いた光学デバイス制御装置において、光学デバイスが配光状態であるときの一例を模式的に示す図である。図２０Ｃは、実施の形態に係る光学デバイスを用いた光学デバイス制御装置において、光学デバイスが散乱状態であるときの一例を模式的に示す図である。図２１は、実施の形態に係る光学デバイスを用いた光学デバイス制御装置の他の一例を示す図である。図２２は、実施の形態に係る光学デバイスを用いた光学デバイス制御装置のさらに他の一例を示す図である。

　以下、本開示の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。以下に説明する実施の形態は、いずれも本開示の好ましい一具体例を示すものである。したがって、以下の実施の形態で示される数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置位置及び接続形態、ステップ（工程）、ステップ（工程）の順序等は、一例であって本開示を限定する主旨ではない。よって、以下の実施の形態における構成要素のうち、本開示の最上位概念を示す独立請求項に記載されていない構成要素については、任意の構成要素として説明される。

　なお、各図は、模式図であり、必ずしも厳密に図示されたものではない。また、各図において、実質的に同一の構成に対しては同一の符号を付しており、重複する説明は省略又は簡略化する。

　図１は、実施の形態に係る光学デバイスの一例である光学デバイス１を模式的に示す断面図である。図１は、光学デバイス１の層構造を示しており、実際の光学デバイス１の各部の寸法等は、これに限定されない。光学デバイス１は、パネル状に形成され得る。

　図１に示すように、本実施の形態における光学デバイス１は、第１電極１３と、第２電極１４と、屈折率調整層１５と、凹凸層１６とを備えている。

　第１電極１３は、光透過性を有する。第２電極１４は、第１電極１３と電気的に対となる電極であって、第１電極１３と同様に、光透過性を有する。屈折率調整層１５は、第１電極１３と第２電極１４との間に配置され、可視光領域から近赤外領域までの任意の波長帯域での屈折率が調整可能である。図１における光学デバイス１では、屈折率調整層１５は、可視光領域及び近赤外領域のうち可視光領域のみでの屈折率が調整可能としている。凹凸層１６は、屈折率調整層１５の表面を凹凸にし、膜状である。屈折率調整層１５は、透明状態と、入射光を配光する状態（配光状態）とに変化することが可能である。光学デバイス１は、屈折率調整層１５の屈折率の変化により、透明状態と配光状態とを作り出すことができる。そのため、光学デバイス１は、光学特性に優れる。なお、透明状態とは、たとえば、入射光の進行方向を変化させずに光を透過させることができる状態である。また、配光状態とは、通過する光が曲がる状態であって、たとえば、入射光の進行方向を変化させて光を透過させることができる状態である。

　光学デバイス１は、第１基板１１と第２基板１２とをさらに備えている。第１基板１１と第２基板１２との間には、第１電極１３、凹凸層１６、屈折率調整層１５及び第２電極１４の積層構造が配置される。第１基板１１と第２基板１２とは、この積層構造を支持する。また、第１基板１１と第２基板１２とは、この積層構造を保護する。また、第１基板１１と第２基板１２とは、一方が積層構造を形成するための形成基板として機能し、他方が積層構造を被覆するための被覆基板として機能し得る。

　図１の光学デバイス１では、第１基板１１と第２基板１２との間に、第１電極１３、凹凸層１６、屈折率調整層１５及び第２電極１４がこの順で配置されている。これらは、厚み方向に並んでいる。第１基板１１、第１電極１３、凹凸層１６、屈折率調整層１５、第２電極１４、及び第２基板１２を合わせた積層構造は、光学調整体１０である。つまり、光学調整体１０は、第１基板１１と第１電極１３と凹凸層１６と屈折率調整層１５と第２電極１４と第２基板１２とを備える。光学調整体１０は、光学デバイス１に組み込まれる。図１の光学デバイス１は、光学調整体１０そのもので構成されている。

　ここで、「厚み方向」とは、特に断りのない限り、光学デバイス１の厚みの方向を意味する。図１では、厚み方向がＤ１で示されている。厚み方向とは、第１基板１１の表面に垂直な方向であってもよい。厚み方向には、光学調整体１０（積層構造）における各部材を積層する方向も含まれる。つまり、厚み方向には、第１電極１３から第２電極１４に向かう方向と、第２電極１４から第１電極１３に向かう方向とが含まれる。図１において、光学デバイス１の各部材は、横方向及び紙面に垂直な方向に広がっていると考えることができる。また、「平面視」とは、第１基板１１又は第２基板１２の表面に垂直な方向（厚み方向Ｄ１）に沿って見た場合のことを意味する。

　光学デバイス１は、光を透過させることができる。光学デバイス１は、建物の外壁に取り付けた場合には、外光を屋内に通過させることが可能である。この場合、例えば、光学デバイス１は、第１基板１１が屋外側に位置し、第２基板１２が屋内側に位置するように配置される。もちろん、第２基板１２が屋外側に位置し、第１基板１１が屋内側に位置するように光学デバイス１を配置してもよい。また、光学デバイス１は、外壁以外に取り付けられてもよい。たとえば、光学デバイス１は、内壁又はパーティション等に取り付けられてもよいし、車載用窓として取り付けられてもよい。第１基板１１は、光が入り込む側（光入射側）の基板とする方がよい。また、凹凸層１６は、第２基板１２よりも第１基板１１の近くに存在する方が有利である。

　第１電極１３及び第２電極１４は、屈折率調整層１５に電界を与えることができるように構成されている。第１電極１３及び第２電極１４のうちの一方が陽極として機能し、他方が陰極として機能する。屈折率調整層１５は、第１電極１３及び第２電極１４によって電圧が印加されることにより、屈折率が変化する。第１電極１３及び第２電極１４は、光学デバイス１を駆動させるための電極として機能する。第１電極１３及び第２電極１４は、層状である。

　第１電極１３及び第２電極１４は、光透過性を有する電極材料からなり、たとえば透明導電層によって構成され得る。透明導電層の材料としては、透明金属酸化物、導電性粒子含有樹脂、金属薄膜などを用いることができ、光学デバイス１の電極としては、ＩＴＯ、ＩＺＯなどの透明金属酸化物が好適である。また、第１電極１３及び第２電極１４は、銀ナノワイヤを含有する層や銀薄膜などの金属含有透明層であってもよいし、透明金属酸化物の層と金属層とが積層されたものであってもよい。また、第１電極１３及び第２電極１４は、透明導電層に補助配線が設けられたものであってもよい。なお、第１電極１３及び第２電極１４は遮熱効果を有していてもよい。それにより、光学デバイス１の断熱性が高まり得る。

　第１電極１３及び第２電極１４の少なくとも一方は、金属を含むことが好ましい。金属を含有させることで、第１電極１３及び第２電極１４を低抵抗化させることができる。これにより、電流が光学デバイス１の面内に均一に流れやすくなり、光学特性の面内分布が向上し得る。ただし、多量の金属を含有させると、第１電極１３及び第２電極１４の光透過性の低下を招くので、第１電極１３及び第２電極１４の光透過性を阻害しない程度で金属を含有するとよい。たとえば、金属は、金属ナノワイヤ、金属製の補助配線、金属薄膜として、第１電極１３及び第２電極１４に含まれ得る。金属ナノワイヤは、透明導電層中に分散され得る。この場合、第１電極１３及び第２電極１４は、金属ナノワイヤを含む透明導電層で形成される。金属製の補助配線は、透明導電層に接触させて、透明導電層上に設けられ得る。この場合、第１電極１３及び第２電極１４は、透明導電層と補助配線とを含む。金属薄膜は、透明導電層の表面に設けられ得る。この場合、第１電極１３及び第２電極１４は、透明導電層と金属薄膜とを含む。なお、第１電極１３及び第２電極１４のいずれかが金属を含んでもよいし、それらの両方が金属を含んでもよい。第１電極１３及び第２電極１４の両方が金属を含むことがより好ましい。

　第１電極１３及び第２電極１４は、電源との電気接続が可能なように構成されている。光学デバイス１は、電源に接続するために、電極パッドや、電極パッドを電気的に集約した電気接続部などを有し得る。電気接続部はプラグなどにより構成され得る。これらの電極は、配線を介して電源に接続され得る。電源は、光学デバイス１の外部に配置された外部電源であってもよいし、光学デバイス１に内蔵された内部電源であってもよい。

　図１の光学デバイス１においては、第１電極１３及び第２電極１４の少なくとも一方は、平面視において凹凸層１６からはみ出した電極接続部１９を備えていることが好ましい。電極接続部１９は、第１電極１３及び第２電極１４に対して電気を与えやすくすることができる。電極接続部１９は、第１電極１３及び第２電極１４と配線とを電気的に繋ぐ部分である。電極接続部１９は、容易に配線に接続され得る。電極接続部１９によって、第１電極１３及び第２電極１４が実質的に延長されるので、第１電極１３及び第２電極１４の取出しが容易になる。電極接続部１９は、露出している。つまり、電極接続部１９は、凹凸層１６に覆われていなくてもよいし、屈折率調整層１５に覆われていなくてもよい。第１電極１３の電極接続部１９は、第１電極接続部１９ａであり、第２電極１４の電極接続部１９は、第２電極接続部１９ｂである。図１の光学デバイス１は、第１電極１３の第１電極接続部１９ａと、第２電極１４の第２電極接続部１９ｂとの両方を備えている。そのため、光学デバイス１への給電が容易である。

　第１基板１１は、第１電極１３の外側に配置されている。また、第２基板１２は、第２電極１４の外側に配置されている。図１の例では、第１基板１１は、第１電極１３と接触し、第２基板１２は、第２電極１４と接触している。第１基板１１及び第２基板１２は、光透過性を有する。

　第１基板１１と第２基板１２とは、端部において接着されていてもよい。第１基板１１と第２基板１２とは、たとえば接着剤によって接着される。この場合、接着剤は固化することが好ましい。また、接着剤は、第１基板１１と第２基板１２との間の隙間の厚みを規定するスペーサを形成し得る。また、このスペーサは、屈折率調整層１５の端部を保護し得る。

　第１基板１１及び第２基板１２は、同じ基板材料で構成されてもよいし、異なる基板材料で構成されてもよいが、同じ基板材料で構成されることが好ましい。基板材料としては、ガラス基板、樹脂基板が例示される。ガラス基板の材料としては、ソーダガラス、無アルカリガラス、高屈折率ガラスが例示される。樹脂基板の材料としては、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）が例示される。ガラス基板は透明性及び防湿性が高いという利点がある。一方、樹脂基板は破壊時の飛散が少ないという利点がある。また、第１基板１１及び第２基板１２、リジッド基板ではなく、フレキシブル性を有するフレキシブル基板を用いてもよい。フレキシブル基板は、曲げることが可能であり、取り扱い性に優れている。フレキシブル基板は、樹脂基板又は薄膜ガラスにより容易に形成され得る。なお、第１基板１１及び第２基板１２は、同じ厚みであってもよいし、異なる厚みであってもよい。材料点数削減の観点からは、第１基板１１及び第２基板１２は、同じ厚みであることが好ましい。

　第１基板１１と第１電極１３とは可視光領域において屈折率の差が小さいことが好ましい。それにより、第１基板１１と第１電極１３との界面において光を有効に透過させることができる。たとえば、第１基板１１と第１電極１３との屈折率差は０．２以下であることが好ましく、０．１以下であることがより好ましい。

　また、第２基板１２と第２電極１４とについても、可視光領域において屈折率の差が小さいことが好ましい。それにより、第２基板１２と第２電極１４との界面において光を有効に透過させることができる。たとえば、第２基板１２と第２電極１４との屈折率差は０．２以下であることが好ましく、０．１以下であることがより好ましい。

　また、第１基板１１と第２基板１２とは、屈折率が同程度であるとよく、たとえば、第１基板１１と第２基板１２との屈折率差は０．１以下であるとよい。第１電極１３と第２電極１４とは、屈折率が同程度であるとよく、たとえば、第１電極１３と第２電極１４との屈折率差は０．１以下であるとよい。

　なお、第１基板１１の屈折率及び第２基板１２の屈折率は、たとえば、１．３～２．０の範囲内であるとよいが、これに限定されるものではない。また、第１電極１３の屈折率及び第２電極１４の屈折率は、たとえば、１．３～２．０の範囲内であるとよいが、これに限定されるものではない。

　図１の例では、凹凸層１６は、第１電極１３と屈折率調整層１５との間に配置されている。凹凸層１６は、第１電極１３に接する。また、凹凸層１６は、屈折率調整層１５にも接する。凹凸層１６は、凹凸面を有する層であり、膜になっている。なお、膜とは、本開示では、一体的になって面状に広がったものを指す。ただし、膜は、適宜の箇所で分断されていてもよい。

　本実施の形態において、凹凸層１６は、面状に連続している。凹凸層１６は、膜と呼べる少なくとも所定の領域（たとえば１ｃｍ×１ｃｍの範囲）で分断された領域がない。凹凸層１６は、厚み方向において隣り合う層を分離するように形成されていてよい。図１では、凹凸層１６は第１電極１３と屈折率調整層１５とを分離している。第１電極１３と屈折率調整層１５とは接触していなくてよい。凹凸層１６は、隣接する層（第１電極１３及び／又は屈折率調整層１５）を被覆していてよい。

　図１の例では、凹凸層１６は、第１電極１３側の面が平坦な面となっており、屈折率調整層１５側の面が凹凸面となっている。凹凸層１６は、複数の凸部、及び、複数の凹部のいずれか一方を少なくとも有し、それらの凸部及び／又は凹部により凹凸面が形成されている。凹凸面は、平坦な面から複数の凸部が突出した構造を有していてもよいし、平坦な面から複数の凹部が凹んだ構造を有していてもよいし、あるいは、複数の凸部及び複数の凹部が敷き詰められて、平坦な面がなくなった構造を有していてもよい。

　図１に示される凹凸層１６において、複数の凸部は、屈折率調整層１５側に突出する。複数の凸部は、規則的に配置されてもよいし、不規則に配置されてもよい。複数の凸部は周期的に配置されてもよい。複数の凸部は、等間隔に配置されてもよい。複数の凸部の配置は、ランダムであってもよい。

　一方、凹凸層１６において、複数の凹部は、第１電極１３側に凹んでいる。複数の凹部は、規則的に配置されてもよいし、不規則に配置されてもよい。複数の凹部は、周期的に配置されてもよい。複数の凹部は、等間隔に配置されてもよい。複数の凹部の配置は、ランダムであってもよい。

　光学デバイス１を窓として壁等に設置する場合、窓の上部と下部とでそれぞれ適切な配光ができるよう、上部と下部とで異なる凹凸構造が配置されていてもよい。

　凹凸層１６の凹凸は、特定の方向への配光が強くなるように形成されるとよい。たとえば、光学デバイス１に入射する光が全体に広がるのではなく特定の斜め方向に強く進行するようにする凹凸を形成するとよい。これにより、光学デバイス１を通った光の強さを位置によって変化させることができる。このような設定は、光学デバイス１を窓に利用するときに有利である。光学デバイス１を通過する光の配光の制御は、凹凸層１６の凸部及び／又は凹部の形状や配置によって可能になる。たとえば、複数の凸部及び複数の凹部が、面内において、形状が異なっていたり、存在率の割合が異なっていたりしてもよい。

　凹凸層１６による配光作用は、以下の方法で評価することが可能である。入射光として４００ｎｍ～８００ｎｍの波長の光を、光学デバイス１に対して第１電極１３から第２電極１４に向かう方向に入射させて、光学デバイス１を透過した光の方向を第２電極１４側から評価する。光学デバイス１を透過した光が入射光の角度とは異なる特定の方向へ強く透過していれば、配光状態とみなされる。光学デバイス１に入射させる光の方向は光学デバイス１に対して垂直な方向であるとよい。また、太陽光は、光学デバイス１の主面に対して、垂直方向からだけではなく、斜め方向からも入射することがあるので、同様の方法で斜め方向から入射した場合に、光学デバイス１を透過した光が入射光の角度とは異なる特定の方向へ強く透過していれば、配光状態とみなされる。

　凹凸層１６の突出寸法（凹み寸法に等しい）は、突出高さと定義される。凹凸層１６の突出高さは、たとえば、１００ｎｍ～１００μｍの範囲内であるが、これに限定されるものではない。また、凹凸層１６の突出高さは、凹部の底部から凸部の先端までの厚み方向の長さである。

　凹凸層１６において、凸部と、その凸部に隣接する他の凸部との間の距離は、たとえば、１００ｎｍ～１００μｍの範囲内であるが、これに限定されるものではない。また、凹部と、その凹部に隣接する他の凹部との間の距離は、たとえば、１００ｎｍ～１００μｍの範囲内であるが、これに限定されるものではない。凸部と、その凸部に隣接する他の凸部との間の距離は、凹凸のピッチ（凹凸ピッチ）と定義される。凹部を基準とする凹凸のピッチも同様に定義される。凹凸層１６としてマイクロサイズのオーダーの凹凸が設けられると、光の制御が良好になりやすい。凹凸層１６の凹凸は、たとえば、インプリント法によって形成され得る。凹凸層１６の突出高さよりも凹凸ピッチが小さい方が光の制御が良好になりやすい。ただし、凹凸層１６の突出高さよりも凹凸ピッチが小さいと、フォトリソグラフィー等の他の凹凸作製工程で作製時間がかかるため、作製が難しい。一方、インプリント法で凹凸を作製する場合には、突出高さよりも凹凸ピッチが小さい凹凸を容易に作製することが可能である。なお、複数の凹凸ピッチの平均は、凹凸の平均周期といえる。

　凹凸層１６は、光透過性を有する。凹凸層１６と第１電極１３とは、屈折率の差が小さいことが好ましい。それにより、凹凸層１６と第１電極１３との界面において光を有効に透過させることができる。たとえば、凹凸層１６と第１電極１３との屈折率差は０．２以下であることが好ましく、０．１以下であることがより好ましい。凹凸層１６の屈折率は、たとえば、１．３～２．０の範囲内であるとよいが、これに限定されるものではない。

　図１の例では、凹凸層１６は、導電性を有することが好ましい。それにより、第１電極１３と第２電極１４との間の電流の流れを良好にすることができる。凹凸層１６は、第１電極１３に用いられる材料によって形成されてもよい。この場合、第１電極１３と凹凸層１６とは、材料が同じで一体化していてもよい。ただし、第１電極１３と凹凸層１６とは別体とした方が、凹凸面を容易に形成できる。凹凸層１６は、凹凸を形成しやすい材料で形成されることが好ましい。凹凸層１６は、たとえば、樹脂を含む材料で形成され得る。凹凸層１６の樹脂材料として、導電性高分子、導電体含有樹脂が例示される。導電性高分子としては、ＰＥＤＯＴが例示される。導電体としては、Ａｇナノワイヤが例示される。Ａｇナノワイヤは、セルロース、アクリルなどの樹脂と混合されていてもよい。Ａｇナノワイヤと樹脂との混合材料を使用した場合には、凹凸層１６の屈折率を樹脂により調整可能なため、凹凸層１６の屈折率を、第１基板１１及び第２基板１２や屈折率調整層１５の屈折率と近づけることが容易となる。そのため、光学デバイス１の透明性が向上する。なお、電圧の印加が可能であれば、凹凸層１６は絶縁材料で形成されていてもよい。その場合、凹凸層１６は、樹脂や無機層で形成され得る。なお、凹凸層１６が絶縁層であったとしても、第１電極１３と第２電極１４との間の電圧差を大きくすることで、第１電極１３と第２電極１４との間に電圧を印加することは可能である。

　屈折率調整層１５は、凹凸面を有する。屈折率調整層１５の凹凸面は、凹凸層１６の凹凸面により形成される。屈折率調整層１５は凹凸層１６に接している。屈折率調整層１５は、凹凸層１６に向かう表面が凹凸面である。屈折率調整層１５の凹凸面は、凹凸層１６の凹凸が型となって形成され得る。屈折率調整層１５は、複数の凸部、及び、複数の凹部の少なくとも一方を備える。屈折率調整層１５の凸部は、凹凸層１６の凹部に対応し、屈折率調整層１５の凹部は、凹凸層１６の凸部に対応する。屈折率調整層１５と凹凸層１６との界面は、凹凸界面となっている。

　屈折率調整層１５と凹凸層１６との凹凸界面は、配光が行われやすい構造を有していてもよい。たとえば、凹凸界面は、マイクロレンズ構造、フレネルレンズ構造、突起構造などで構成され得る。フレネルレンズ構造では、レンズ形状が複数に分割された形状を有し得る。そのため、レンズのように、特定の方向への光を強くすることが容易である。また、凹凸界面は、のこぎり状の断面形状となるものであってよい。凹凸界面の構造は１／４球レンズ構造であってもよい。また、凹凸界面は、これらの構造の組み合わせであってもよい。なお、凹凸層１６で説明したのと同様に、特定の方向に配光するように凹凸界面が形成されてもよい。

　屈折率調整層１５は、電力により屈折率が変化する材料により形成され得る。つまり、屈折率調整層１５は、印加される電圧によって屈折率が変化する材料により形成され得る。屈折率が調整される材料としては、たとえば、液晶が挙げられる。液晶としては、たとえば、ネマティック液晶、コレステリック液晶、強誘電性液晶等が挙げられる。液晶は、電界の変化によって分子配向が変わるので、屈折率が変化する。

　屈折率調整層１５は、可視光領域での屈折率が、膜状の凹凸層１６の屈折率に近い屈折率と、膜状の凹凸層１６の屈折率との屈折率差が大きい屈折率とに調整可能であることが好ましい。

　屈折率調整層１５は、凹凸層１６に屈折率が近い状態と、凹凸層１６との屈折率差が大きい状態との２つの状態の変化が可能である。屈折率調整層１５の屈折率が凹凸層１６に近い状態では、屈折率調整層１５と凹凸層１６との屈折率差は、０．２以下であることが好ましく、０．１以下であることがより好ましい。屈折率調整層１５と凹凸層１６との屈折率差が大きい状態では、屈折率調整層１５と凹凸層１６との屈折率差は、０．１を超えることが好ましく、０．２以上であることがより好ましい。

　屈折率調整層１５の一の態様では、電圧が印加されることにより、屈折率が凹凸層１６に近づき、電圧が印加されないと、凹凸層１６との屈折率差が大きくなる。屈折率調整層１５と凹凸層１６との屈折率差が小さいと非配光状態（透明状態）となり、屈折率調整層１５と凹凸層１６との屈折率差が大きいと配光状態となり得る。

　屈折率調整層１５の他の態様では、電圧が印加されることにより、凹凸層１６との屈折率差が大きくなり配光状態となり、電圧が印加されないと、屈折率が凹凸層１６に近づき、非配光状態（透明状態）となる。

　屈折率調整層１５の材料としては、屈折率異方性を有する液晶材料を用いることが好ましい。屈折率異方性を有する液晶材料を屈折率調整層１５に使用する場合には、電圧を印加して液晶分子を垂直配向させた場合に、外光の偏光による異方性が生じにくくなる。そのため、透明状態のときの透明性が向上する。透明性を向上させるためには、垂直配向したときの液晶の屈折率と凹凸層１６の屈折率とを近づけることが好ましい。

　屈折率調整層１５は、凹凸層１６との屈折率差が大きくなる状態では、凹凸層１６よりも屈折率が小さくなることが好ましい一態様である。それにより、光の進行方向を変化させやすくすることができる。屈折率調整層１５は、凹凸層１６との屈折率差が大きくなる状態では、凹凸層１６よりも屈折率が大きくなることが好ましい一態様である。それにより、光の進行方向を変化させやすくすることができる。屈折率調整層１５の屈折率の変化の態様は、目的とする配光に合わせて設定され得る。

　屈折率調整層１５には、交流電源により電力が供給されてもよいし、直流電源により電力が供給されてもよいが、交流電源により電力が供給されることが好ましい。電圧を印加することで屈折率が変化する材料では、電圧印加の開始から時間がたつと、電圧印加時の状態が維持できなくなるものが多く存在する。交流電源では、電圧を双方向に交互に印加することができ、電圧の方向を変えることで実質的に継続して電圧を印加することが可能である。この場合、交流の波形は矩形波であることが好ましい。それにより、印加する電圧量が一定になりやすくなるため、屈折率が変化した状態を安定化させることがより可能になる。なお、交流の波形はパルス波であってもよい。

　屈折率調整層１５は、電圧を印加したときの状態が維持されるものであることが好ましい一態様である。それにより、屈折率を変化させたいときに電圧を印加し、屈折率を変化させたくないときには電圧を印加しなくてもよいので、電力効率が高まる。

　屈折率が変化せず維持される性質はヒステリシスと呼ばれるが、所定電圧以上の電圧を付加することにより、ヒステリシスが発揮され得る。屈折率が維持される時間は、長いほどよいが、たとえば、１０分以上が好ましく、３０分以上がより好ましく、１時間以上がさらに好ましく、１２時間以上がよりさらに好ましく、２４時間以上がよりもっと好ましい。なお、屈折率が維持される性質は、記憶性（メモリ性）とも呼ばれる。

　図２は、実施の形態の変形例１に係る光学デバイス１Ａの一例を模式的に示す断面図である。

　図２に示すように、本変形例における光学デバイス１Ａは、凹凸層１６と第１電極１３との配置が、図１に示す光学デバイス１と異なっている。図２に示す光学デバイス１Ａでは、第１基板１１から第２基板１２に向かって、凹凸層１６、第１電極１３、屈折率調整層１５、第２電極１４の順に配置されている。

　図２の例では、凹凸層１６と屈折率調整層１５との間に、第１電極１３が配置されている。凹凸層１６は、第１基板１１と第１電極１３との間に配置されている。第１電極１３は、凹凸面を有する。具体的には、第１電極１３は、凹凸層１６に追随した形状であり、屈折率調整層１５に向かう面が凹凸面となっている。図２に示す光学デバイス１Ａにおいても、凹凸層１６は、膜状であり、屈折率調整層１５の表面を凹凸にしている。ただし、第１電極１３を介して屈折率調整層１５に凹凸を付与している。

　凹凸層１６の形状は、図１で説明したものと同様にすることができ、上記の説明が適用され得る。たとえば、凹凸層１６は、複数の凸部、及び、複数の凹部のいずれか一方を少なくとも有し得る。この場合、凸部は第１電極１３側に突出し、凹部は第１基板１１側に凹むことになる。屈折率調整層１５と第１電極１３との界面は、凹凸界面となっている。凹凸界面は、上記で説明した構造と同様の構造を有し得る。図２に示される凹凸層１６は、図１の例で説明した凹凸層１６から、適宜、層の配置に合わせて層の名称を置換することで、好ましい態様が説明される。

　図２の例では、凹凸層１６は、導電性を有してもよいし、有さなくてもよい。第１電極１３と屈折率調整層１５とが接するため、凹凸層１６に導電性がなくても、電力の供給が可能である。凹凸層１６が導電性を有する場合、第１電極１３の導電性を補助することができる。凹凸層１６は、凹凸を形成しやすい材料で形成されることが好ましい。凹凸層１６は、たとえば、樹脂を含む材料で形成され得る。

　第１電極１３と凹凸層１６との間には、凹凸界面が配置される。本変形例では、第１電極１３は両面が凹凸面である。第１電極１３の屈折率調整層１５に向かう面は凹凸面となっている。第１電極１３は、凹凸層１６の表面に積層形成され得る。第１電極１３が、凹凸層１６の上に形成されることにより、第１電極１３の凹凸面が形成される。

　本変形例でも、屈折率調整層１５は、凹凸面を有する。ただし、屈折率調整層１５の凹凸面は、第１電極１３の凹凸面により形成されている。屈折率調整層１５と第１電極１３とは接する。屈折率調整層１５の具体的な態様は、図１で説明したものと同じであってよい。

　図１のように凹凸層１６が屈折率調整層１５に接する構造は、直接凹凸形成構造と定義される。一方、図２のように凹凸層１６と屈折率調整層１５との間に第１電極１３が存在する構造は、間接凹凸形成構造と定義される。このように、屈折率調整層１５に接して凹凸界面が形成されることで、配光の制御が可能となる。直接凹凸形成構造は、間接凹凸形成構造よりも容易に凹凸面が形成されるという利点がある。ただし、直接凹凸形成構造では、凹凸層１６は、第１電極１３と第２電極１４との間で電流が流れるように構成されることが求められる。一方、間接凹凸形成構造は、直接凹凸形成構造よりも、第１電極１３と第２電極１４との間の電流の流れを確保しやすいという利点がある。また、間接凹凸形成構造では、第１電極１３を第１基板１１から離しているため、第１電極１３と第１基板１１との屈折率差の影響を受けにくい。ただし、間接凹凸形成構造では、第１電極１３を凹凸層１６に追随した形状で形成することが求められる。以下では、図１に代表される直接凹凸形成構造を有する光学デバイス１を主に説明するが、以下の説明は、適宜、図２に示されるような間接凹凸形成構造にも適用され得る。

　次に、図３Ａ～図３Ｃを用いて、実施の形態に係る光学デバイス１の光学作用について説明する。図３Ａ～図３Ｃは、実施の形態に係る光学デバイス１の光学作用を説明するための図である。図３Ａは、光学デバイス１が透明状態であるときの一例を示しており、図３Ｂは、光学デバイス１が配光状態であるときの一例を示しており、図３Ｃは、光学デバイス１が散乱状態であるときの一例を示している。なお、光学デバイス１では、少なくとも図３Ａに示される透明状態と、図３Ｂに示される配光状態とが切り替わる。

　図３Ａは、光学デバイス１が透明状態となったときの光の進行を示している。図３Ａにおいて、光は矢印で示されている。光は、光学デバイス１の表面に垂直な方向（厚み方向と同じ方向）から傾斜した方向で進行し得る。特に、光学デバイス１が窓である場合、斜めから光が当たる可能性が高い。透明状態の光学デバイス１を通過する光は、そのまま直進する。たとえば、光学デバイス１に屋外からの光（外光）が当たる場合、外光は屋内にそのままの方向で進入する。

　図３Ｂは、光学デバイス１が配光状態となったときの光の進行を示している。図３Ｂにおいて、光は矢印で示されている。光学デバイス１が配光状態になった場合では、光学デバイス１に入った光は、光学デバイス１内において進行方向が変化する。光の進行方向の変化は、凹凸層１６と屈折率調整層１５との界面で生じ得る。光学デバイス１により、光の進行方向は変化されて目的とする方向になり得る。そのため、光学デバイス１での配光が可能となる。図３Ｂでは、光学デバイス１に向かって進む光は、戻る方向（跳ね返る方向）に進行方向が変更されている。具体的には、図３Ｂにおいては、右から左に斜めに進んでいた光は、光学デバイス１を通過して、左から右に斜めに進行することになっている。このように、戻る方向に光が折れ曲がると、光学特性がさらに優れた光学デバイス１を得ることができる。

　光学デバイス１の透明状態（図３Ａ）は、屈折率調整層１５と、この屈折率調整層１５に凹凸界面において接する層との屈折率のマッチングによって発生する。屈折率調整層１５に凹凸界面において接する層は、凹凸界面隣接層と定義される。図３Ａに示すように、凹凸界面隣接層は、直接凹凸形成構造の場合では、凹凸層１６となる。なお、図２から、間接凹凸形成構造の場合においては、凹凸界面隣接層は、第１電極１３であることが分かる。凹凸界面隣接層と屈折率調整層１５との屈折率差が小さくなると、屈折率差による光の進行方向の変化が小さくなっていく。凹凸界面隣接層と屈折率調整層１５との屈折率差がなくなるか、無視できる程度になると、屈折率差による光の進行の変化はほとんど起こらなくなり、また、凹凸界面での光の進行方向の変化もほとんど起こらなくなる。このため、光は進行方向を維持して凹凸界面を通過する。

　光学デバイス１の配光状態（図３Ｂ）は、屈折率調整層１５と、凹凸界面隣接層（図３Ｂでは凹凸層１６）との屈折率のミスマッチングによって発生する。凹凸界面隣接層と屈折率調整層１５との屈折率差が大きくなると、屈折率差により光の進行方向の変化が生じやすくなり、さらに凹凸界面での光の進行方向の変化も追加されて、光が曲げられる方向に進行方向が変化し得る。そして、凹凸界面隣接層と屈折率調整層１５との屈折率差が制御されることで、目的とする方向に光を進行させることができる。図３Ｂでは、光の進行方向は、一方向に曲げられる様子が模式的に描画されているが、光は、分散して進行してもよい。なお、配光は、光の成分のうち、目的とする方向への光量が増加するものであってよい。特定の方向への光量が増加すると、光学特性が向上する。

　光学デバイス１は、電圧の印加により、透明状態となることが好ましい一態様である。電圧の印加により、屈折率調整層１５内の物質の配向が整えられて、凹凸界面隣接層と屈折率調整層１５との屈折率差が少なくなることで、透明性が発揮され得る。なお、光学デバイス１は、電圧が印加されないときに、配光状態になってもよい。また、電圧を変化させたときの光学的状態は維持されてもよい。光学的状態が維持される性質はヒステリシスと呼ばれる。この性質は、記憶性（メモリ性）とも呼ばれる。

　図３Ｃは、光学デバイス１が光散乱性を発揮する状態となった様子を示している。光学デバイス１では、屈折率調整層１５は、光散乱性が変化可能であることが好ましい一態様である。光散乱性が変化することにより、上記とは異なる光学的状態を作り出すことができるため、光学特性に優れた光学デバイス１を得ることができる。図３Ｃでは、光学デバイス１により光が散乱されている。

　屈折率調整層１５の光散乱性は、電圧の変化により付与することが可能である。たとえば、屈折率調整層１５に与える電圧の値を変化させることで、透明状態と、配光状態と、散乱状態とを切り替えることができる。屈折率調整層１５の屈折率が変化すると、凹凸界面において光の散乱が発生し得る。光散乱性は、配光の一つともいうこともできるが、ここでは、配光は、直進方向以外の特定方向に光の進行方向を変化させることを意味し、散乱は、光を分散させて光の方向性を弱めることを意味する。図３Ｂでは、矢印に示されるように、右に曲がる光の成分が大きいことを模式的に示している。一方、図３Ｃでは、矢印に示されるように、全体としては右に曲がりながら、光の成分が分散されることを模式的に示している。

　光学デバイス１が散乱状態を発揮すると、光は散乱されながら進行するため、強い光の進行を抑制することができる。つまり、図３Ａ及び図３Ｂのように、強い光がそのまま進行すると、眩しくなる可能性があるが、図３Ｃのように、光が分散することで眩しさを低減できる。散乱状態では、光学デバイス１はすりガラス状になり得る。また、光の散乱により、半透明又は不透明となり得るため、光学デバイス１の向こう側を見えないようにしたい場合には、散乱性の付与は有利である。散乱性が高くなることにより、光学デバイス１の向こう側に配置された物体の視認性が低くなり得る。視認性が低くなると、プライバシー保護を図ることができる。散乱状態では、光は、散乱されながら、光学デバイス１を通過する。

　屈折率調整層１５は、入射光を配光させた状態で光散乱性を発現可能であることが好ましい。入射光に配光性と光散乱性とが付与されることで、光学デバイス１は、進行させたい方向に光を出しながら、光を分散させることができる。光の散乱によって、光が出される方向での眩しさが低減され得る。この場合、入射光の光軸と、出射光の光軸とは平行でなくなり得る。光散乱性が強くなりすぎて全方向に同じように光が出ると、配光効果が得られなくなるおそれがあるため、光散乱性は配光性が発揮される程度に弱められ得る。光散乱性の指標であるヘイズは１０％から６０％の間が好ましい。図３Ｃでは、左斜め下方向に光学デバイス１に入射した光は、光学デバイス１によって配光され、全体として右斜め下方向に進行しつつ、さらに散乱している。図３Ｃは、光の配光性と散乱性とが両立した状態を示している。

　ところで、光散乱性は電界以外の方法によっても形成可能である。電界以外の方法で光散乱性の付与が可能になると、配光と散乱とを独立して制御することが容易になり、光学的なバリエーションを増やすことが可能になり得る。たとえば、屈折率調整層１５に気泡を入れることで、屈折率調整層１５に光散乱性が付与され得る。気泡の表面は光散乱を生じさせる界面となる。気泡は、ガスの注入により生じ得る。ガスとしては、空気、窒素、ヘリウム、アルゴンが例示される。ガスとして不活性ガスの方が好ましい。光散乱性の有無を切り替えるために、気泡としては消失が可能であるものが好ましい。たとえば、屈折率調整層１５を流動性のある層とし、この層に継続して気泡を注入することで、気泡を含有する屈折率調整層１５が得られる。気泡は屈折率調整層１５内で移動した後、消失し得るが、新たに気泡が与えられるため、全体としては、屈折率調整層１５内は、気泡が存在する。気泡は、たとえばポンプで発生させることができる。そして、気泡の形成を停止することで、屈折率調整層１５内の気泡が消失して光散乱性がなくなり、散乱状態でなくなる。気泡の形成は屈折率に影響を及ぼし得るが、気泡を考慮に入れた電界が設定されることで、屈折率の調整が行われ得る。ただし、気泡の形成による光散乱性の付与は、装置構成が複雑化するおそれがある。そのため、電界により光散乱性が変化することが好ましい。

　光学デバイス１においては、図３Ｂのような特定方向に特化した配光を有さずに、図３Ａの透明状態と、図３Ｃの散乱状態とが切り替わるように構成されてもよい。上述したように、図３Ｃの散乱状態も配光の一種と呼べるため、この場合も、光学デバイス１は、透明状態と配光状態とが変化可能となっているといえる。ただし、特定の方向の光を強くする配光性を有する方が好ましい。

　図３Ｃの散乱状態は、屈折率調整層１５と、凹凸界面隣接層（図３Ｂでは凹凸層１６）との屈折率のミスマッチングによって発生する。凹凸界面隣接層と屈折率調整層１５との屈折率差が大きくなると、屈折率差により光の進行方向の変化が生じやすくなり、さらに凹凸界面での光の進行方向の変化も追加されて、光が散乱する方向に変化し得る。そして、凹凸界面隣接層と屈折率調整層１５との屈折率差が制御されることで、光の散乱が目的とする程度に制御される。

　光学デバイス１では、配光性や透明性が徐々に変化することが好ましい。それにより、種々の光学的状態のバリエーションを作り出すことができるため、光学デバイス１の特性を向上させることができる。たとえば、配光性は、電圧の値の強弱を徐々に変化させることにより徐々に変化し得る。配光性の変化は、連続的に徐々に変化してもよいし、段階的に徐々に変化してもよい。弱い配光と強い配光とに変化させることができると、光学特性が向上する。光散乱性についても同様に、光学デバイス１は、光散乱性が徐々に変化することが好ましい。

　ところで、特開平４－３２８７２２号公報（特許文献２）には、電界により透過モードと散乱モードとを切り替える散乱型液晶デバイスが開示されている。このデバイスは、電圧の印加によりグレーティング（回折格子）と液晶層との屈折率をマッチングさせて、散乱モードから透過モードに移行している。このデバイスは、投影像の高コントラスト化及び高輝度化を目的としている。しかしながら、グレーティングがストライプ状又は格子状に形成されており、膜状にはなっていない。そのため、このデバイスでは、配光性が高くなりにくい。

　一方、本開示による光学デバイス１は、膜状の凹凸層１６を設けており、光が膜を通過する。そのため、配光性の高い構造を得やすい。また、本開示の光学デバイス１は、大面積化（たとえば１００×１００ｍｍ以上のサイズ、さらには５００×５００ｍｍ以上のサイズ）が容易である。また、インプリントなどの工法で凹凸が作製可能であるため、光学デバイス１を容易に作製することができる。さらに、本開示の光学デバイス１は、窓への展開が可能である。

　図４により、屈折率調整層１５の好ましい態様について説明する。図４は、実施の形態の変形例２に係る光学デバイス１Ｂの一例を模式的に示す断面図である。図４では、直接凹凸形成構造の例が示されるが、以下の説明は、間接凹凸形成構造（図２参照）にも適用可能である。図４では、屈折率調整層１５の厚みの形成の好ましい態様が模式的に示されている。

　本変形例における光学デバイス１Ｂにおいて、屈折率調整層１５は、スペーサ１５１を含んでいる。スペーサ１５１は、凹凸層１６の凹凸のピッチよりも大きい。スペーサ１５１は、屈折率調整層１５の厚みを形成する。光学デバイスでは配光が良好に行われるように屈折率調整層１５の厚みを確保することが求められているが、スペーサ１５１を用いることによって、屈折率調整層１５の厚みを容易に確保することができる。スペーサ１５１の数は少なくとも１つであるが、複数であることがより好ましい。図４では、屈折率調整層１５は、複数のスペーサ１５１を含んでいる。複数のスペーサ１５１は、屈折率調整層１５の厚みをより確実に確保できる。凹凸層１６の凹凸のピッチよりも大きいスペーサ１５１は、凹凸の間に入り込みにくいため、屈折率調整層１５の厚みの確保が容易になる。スペーサ１５１は、凹凸ピッチよりもサイズが大きい。複数のスペーサ１５１を用いることで、屈折率調整層１５の厚みをより均一にすることができる。

　スペーサ１５１は、粒子であることが好ましい。屈折率調整層１５の材料に含有される複数の粒子は、複数のスペーサ１５１となり得る。粒子は、たとえば、無機粒子、有機粒子を含み得る。無機粒子は、たとえば、シリカ粒子が挙げられる。粒子は、球状であることが好ましい。球状には、完全な球だけでなく、球形と認識できる形状も含まれる。複数の粒子の粒径は、揃っていることが好ましい。複数の粒子の粒径が揃うことで、屈折率調整層１５の厚みが安定化する。たとえば、平均粒径の±１０％の範囲内に９５％以上の粒子の粒子径が入っていれば、複数の粒子の粒径が揃うとみなされ得る。

　図４では、スペーサ１５１は、凹凸層１６と第２電極１４とに接している。光学デバイス１Ｂを形成する際、凹凸層１６と第２電極１４とが近づく方向にこれらが相対的に動かされて、屈折率調整層１５が設けられる。そのときに、スペーサ１５１を配置することで、スペーサ１５１の大きさよりも凹凸層１６と第２電極１４とが近づかないようにすることができる。スペーサ１５１は凹凸層１６の凹凸の間に入り込みにくいサイズであるため、屈折率調整層１５の厚みを確保することができる。なお、図２の変形例においてスペーサ１５１を用いる場合、スペーサ１５１は第１電極１３と第２電極１４とに接していてよい。

　スペーサ１５１は、上記及び下記のいずれの形態にも適用可能である。たとえば、屈折率調整層１５は、高分子材料とスペーサ１５１とを含んでもよい。

　図５により、凹凸層１６の好ましい態様について説明する。図５は、実施の形態の変形例３に係る光学デバイス１Ｃの一例を模式的に示す断面図である。図５では、屈折率調整層１５の厚みの形成の好ましい態様が模式的に示されている。

　図５に示すように、本変形例における光学デバイス１Ｃにおいて、凹凸層１６は、複数の柱部１６１を備えている。複数の柱部１６１は、屈折率調整層１５を貫通して第２電極１４に接する。複数の柱部１６１は、屈折率調整層１５の厚みを形成している。光学デバイスでは配光が良好に行われるように屈折率調整層１５の厚みを確保することが求められているが、複数の柱部１６１を設けることで、屈折率調整層１５の厚みを容易に確保することができる。図５では、複数の柱部１６１は、凹凸層１６の突出した部分がさらに延長して突出した部分で形成されている。複数の柱部１６１は、円柱状、角柱状などである。

　複数の柱部１６１は、凹凸層１６を形成する際に、凹凸層１６の一部を突出するように成形することで形成され得る。柱部１６１は、光学デバイス１Ｃの厚み方向に沿って直線状に伸びることが好ましい。

　図５では、複数の柱部１６１の先端は、第２電極１４に接している。つまり、凹凸層１６は、第２電極１４に接している。光学デバイス１Ｃを形成する際、凹凸層１６と第２電極１４とが近づく方向にこれらが相対的に動かされて、屈折率調整層１５が設けられる。そのときに、複数の柱部１６１を設けることで、複数の柱部１６１の長さよりも凹凸層１６と第２電極１４とが近づかないようにすることができる。複数の柱部１６１は、第２電極１４を受け止め得る。複数の柱部１６１の周囲には屈折率調整層１５が配置され得る。複数の柱部１６１は、屈折率調整層１５の内部に配置される。複数の柱部１６１は、スペーサとして機能する。複数の柱部１６１の先端は、厚み方向で揃っていることが好ましい。柱部１６１の数を複数にすることで、複数の柱部１６１の強度が高まり、屈折率調整層１５の厚みが形成されやすくなる。複数の柱部１６１がある場合、屈折率調整層１５内に上述のようなスペーサが含まれなくても、屈折率調整層１５の厚みが形成されやすくなる。そのため、光学デバイス１の作製が容易となり得る。

　複数の柱部１６１は、上記及び下記のいずれの形態にも適用可能である。たとえば、複数の柱部１６１は、高分子材料を含む屈折率調整層１５を貫通していてもよい。複数の柱部１６１は、凹凸層１６と屈折率調整層１５とが接する場合に有効である。

　図６Ａ～図６Ｄにより、光学デバイス１における凹凸層１６の好ましい態様について説明する。図６Ａ～図６Ｄは、実施の形態に係る光学デバイス１の凹凸層１６の変形例の構成を示す図である。図６Ａは凹凸層１６の第１変形例の構成（高さがランダムの場合）、図６Ｂは凹凸層１６の第２変形例の構成（ピッチがランダムの場合）、図６Ｃは凹凸層１６の第３変形例の構成（角度がランダムの場合）、図６Ｄは凹凸層１６の第４変形例の構成（深さがランダムの場合）を示す図である。なお、図６Ａ～図６Ｄでは、光学デバイス１から凹凸層１６の部分のみを抜き出して図示している。図６Ａ～図６Ｄに示される凹凸層１６は、上記及び下記のいずれの形態にも適用され得る。

　凹凸層１６は、不規則な凹凸を有することが好ましい。図６Ａ～図６Ｄは、不規則（ランダム）な凹凸を有する凹凸層１６を示している。つまり、凹凸層１６の凹凸は規則的でない。不規則な凹凸は、干渉や回折を低減し、光が特定の方向や波長で強くなりすぎることを抑制できるため、光学デバイス１の光学特性を高め得る。

　図６Ａ～図６Ｄでは、凹凸層１６内の複数の凸部１６ａ及び複数の凹部１６ｂが模式的に示されている。また、図６Ａ～図６Ｄには、凹凸層１６の凹凸の高さが「Ｈ１」で示されている。凹凸層１６の凹凸の高さＨ１は、凹凸層１６の平坦な面から突出する部分（凸部１６ａ）の先端までの厚み方向での長さと定義される。また、図６Ａ～図６Ｄには、凹凸層１６の凹凸ピッチが「Ｐ１」で示されている。凹凸層１６の凹凸ピッチＰ１は、隣り合う凸部１６ａの間の厚み方向に平行な方向の距離と定義される。隣り合う凸部１６ａの間の距離は、凸部１６ａの頂点を基準に求められる。また、図６Ｃには、凹凸層１６の凹凸の角度が「θ」で示されている。凹凸層１６の凹凸の角度θは、凸部１６ａの根元から頂点に向かう仮想直線と、凹凸層１６の平坦な面とのなす角度と定義される。また、図６Ｄには、凹凸層１６の凹凸の凹み深さがＤ１で示されている。凹凸層１６の凹み深さＤ１は、凸部１６ａの先端から凹部１６ｂの底部までの厚み方向での長さと定義される。

　凹凸層１６の不規則な凹凸は、凹凸の高さＨ１、凹凸ピッチＰ１、凹凸の角度θ、凹凸の凹み深さＤ１のいずれか１つ以上が不規則になることで形成される。

　図６Ａは、凹凸の高さＨ１がランダムな例を示す。つまり、複数の凸部１６ａの高さが揃っていない。複数の凸部１６ａは、複数の高さＨ１を有している。複数の凸部１６ａの先端の位置は、厚み方向で不均一である。

　図６Ｂは、凹凸ピッチＰ１がランダムな例を示す。つまり、複数の凸部１６ａの間の距離が揃っていない。複数の凸部１６ａは、複数のピッチＰ１で配置されている。複数の凸部１６ａのうちの隣り合う凸部１６ａの間の距離は、不均一である。

　図６Ｃは、凹凸の角度θがランダムな例を示す。つまり、複数の凸部１６ａの突出する角度θが揃っていない。複数の凸部１６ａは、複数の角度θを有している。複数の凸部１６ａは、緩やかに突出する凸部１６ａと、鋭く突出する凸部１６ａとを含んでいる。

　図６Ｄは、凹凸の凹み深さＤ１がランダムな例を示す。つまり、複数の凹部１６ｂの凹み深さＤ１が揃っていない。複数の凹部１６ｂは、複数の深さＤ１を有している。複数の凹部１６ｂの凹み位置は、不均一である。

　図６Ａ～図６Ｄでは、凹凸の高さＨ１、凹凸のピッチＰ１、凹凸の角度θ、凹凸の深さＤ１から選ばれる１つ以上に不規則性がみられる。ただし、不規則性は、特定の凸部１６ａ及び凹部１６ｂに偏って発現しないように規制されることが好ましい。凹凸の高さＨ１、凹凸のピッチＰ１、凹凸の角度θ、凹凸の深さＤ１は、それぞれ、平均値が求められ得る。凹凸の高さＨ１、凹凸のピッチＰ１、凹凸の角度θ、凹凸の深さＤ１はランダム指標と定義される。不規則な凹凸を有する凹凸層１６は、全体として見たときに、平均値を基準に、凸部１６ａ及び凹部１６ｂのランダム指標の発現頻度が、一様分布、正規分布、指数分布のいずれかであることが好ましい。それにより、凹凸層１６は、光学デバイス１に偏りすぎた光学特性を与えることが抑制される。

　図６Ａ～図６Ｄでは、凹凸層１６は、屈折率調整層１５に向かって突出する複数の凸部１６ａを備えている。凸部１６ａは先端１６ｐを有する。複数の凸部１６ａの先端１６ｐは、突出位置が揃っていることが好ましい。つまり、複数の凸部１６ａの先端１６ｐは、厚み方向で位置が揃っているとよい。複数の凸部１６ａの先端１６ｐの突出位置が揃うと、屈折率調整層１５の厚みがより均一になりやすい。たとえば、上述のスペーサ１５１によって屈折率調整層１５の厚みが形成される場合（図４参照）、スペーサ１５１の厚み方向での位置が揃いやすくなり、屈折率調整層１５の厚みが安定化する。図６Ｂ及び図６Ｄでは、複数の凸部１６ａの先端１６ｐの突出位置が厚み方向で揃っている例を示している。

　また、図６Ｄでは、複数の凹部１６ｂは、凹凸の深さＤ１以外の形状が同じである。この場合、複数の凸部１６ａ及び複数の凹部１６ｂをインプリントで形成する場合に、複数の凸部１６ａ又は凹部１６ｂに対して同じ型を使用して型の調整によって凹凸を作製することができる。このため、凹凸層１６の容易に形成することができる。

　図７は、実施の形態の変形例４に係る光学デバイス１Ｄの一例を模式的に示す断面図である。図７では、直接凹凸形成構造の例が示されるが、以下の説明は、間接凹凸形成構造（図２参照）にも適用可能である。

　本変形例における光学デバイス１Ｄでは、屈折率調整層１５は、高分子材料を含んでいる。屈折率調整層１５が高分子材料を含むことにより、仮に光学デバイス１が壊れることがあっても、屈折率調整層１５の材料や、基板の材料が飛散することを抑制できる。そのため、安全性が高まる。また、高分子材料は、屈折率調整層１５の屈折率変化を安定化させることができる。そのため、配光性が安定化する。

　図７では、屈折率調整層１５は、高分子材料により形成されたポリマー構造１７を有している。ポリマー構造１７は、高分子鎖の架橋構造で形成されてもよい。ポリマー構造１７は、高分子の絡み合いで形成されてもよい。ポリマー構造１７は、網目状の構造を有し得る。ポリマー構造１７の間に液晶が配置されることで、屈折率の調整が可能になる。高分子は、屈折率調整層１５に光散乱性を付与し得る。

　高分子材料を含む屈折率調整層１５の材料としては、高分子分散型液晶を用いることが好ましい。高分子分散型液晶では、液晶が高分子材料によって保持されているため、安定な屈折率調整層１５を形成することができる。高分子分散型液晶は、ＰＤＬＣ（Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｄｉｓｐｅｒｓｅｄ　Ｌｉｑｕｉｄ　Ｃｒｙｓｔａｌ）と呼ばれる。また、高分子材料を含む屈折率調整層１５の材料として、ポリマーネットワーク型液晶を用いてもよい。ポリマーネットワーク型液晶は、ＰＮＬＣ（Ｐｏｌｙｍｅｒ　Ｎｅｔｗｏｒｋ　Ｌｉｑｕｉｄ　Ｃｒｙｓｔａｌ）とよばれる。

　高分子分散型液晶及びポリマーネットワーク型液晶は、樹脂部と液晶部とから構成されるものであってよい。樹脂部は、高分子材料により形成される。樹脂部は、光透過性を有することが好ましい。それにより、屈折率が変化する屈折率調整層１５を形成することができる。樹脂部は、熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂などにより形成され得る。液晶部は、電界によって液晶構造が変化する部分である。液晶部は、ネマチック液晶などが用いられる。高分子分散型液晶及びポリマーネットワーク型液晶は、樹脂部の中に液晶部が点状に存在する構造であることが好ましい。高分子分散型液晶及びポリマーネットワーク型液晶においては、樹脂部が海、液晶部が島を構成する海島構造となっていてよい。高分子分散型液晶及びポリマーネットワーク型液晶は、樹脂部の中において液晶部が網目状に不規則につながる形状であることが好ましい。もちろん、高分子分散型液晶及びポリマーネットワーク型液晶は、液晶部の中に樹脂部が点状に存在したり、液晶部の中で樹脂部が網目状に不規則につながったりした構造であってもよい。

　屈折率調整層１５が高分子材料を含む場合、屈折率調整層１５の保持性が高まる。屈折率調整層１５は、内部で材料が流動しにくくなる。これにより、屈折率調整層１５は、屈折率が調整された状態が高く維持され得る。

　高分子材料は、上述のように、屈折率調整層１５内でポリマー構造１７を形成し得る。図７に示すように、ポリマー構造１７は、屈折率調整層１５の凹凸層１６側の表面に到達する複数の到達点１７ａを有する。この場合、複数の到達点１７ａの間の平均距離は、凹凸層１６の平均凹凸ピッチよりも大きいことが好ましい。複数の到達点１７ａは、図７の例では、凹凸層１６との接触点となる。凹凸層１６は、複数の凸部及び複数の凹部を含み得るが、凹部に高分子材料が入り込むと、凹部に高分子材料以外の物質（たとえば液晶）が入りにくくなり、屈折率調整層１５の屈折率調整効果が弱くなるおそれがある。しかしながら、複数の到達点１７ａの間の平均距離が凹凸層１６の平均凹凸ピッチよりも大きいと、高分子材料が凹部に入りにくくなるため、屈折率調整層１５の屈折率調整効果が発揮されやすくなる。特に、液晶は屈折率を制御しやすく、液晶が凹凸層１６の近傍に存在することが、配光性に有利である。そのため、複数の到達点１７ａの間の平均距離が凹凸層１６の平均凹凸ピッチよりも大きくなると、光学デバイス１の配光効果が向上する。

　複数の到達点１７ａの間の平均距離、及び、凹凸層１６の平均凹凸ピッチは、光学デバイス１Ｄの断面の分析により測定され得る。光学デバイス１Ｄでは、厚み方向に切断されて、切断面が観測され得る。このとき、たとえば、液晶と高分子とを含む屈折率調整層１５から液晶が洗い流されて除かれると、高分子により形成された網目状のポリマー構造１７が観測され得る。このとき、到達点１７ａも観測される。そして、複数の到達点１７ａのうち、隣り合う２つの到達点１７ａ間の距離を測定し、この距離の測定を複数の到達点１７ａ全体で行って、測定された距離の平均を求める。こうして求められた距離の平均は、複数の到達点１７ａの間の平均距離となる。また、上記の切断面から、複数の凸部を含む凹凸層１６の凹凸の形状が観測され得る。そして、複数の凸部のうちの隣り合う２つの凸部の先端の位置の距離を測定し、この距離の測定を複数の凸部全体で行って、測定された距離の平均を求める。こうして求められた距離の平均は、複数の凸部間の平均距離、すなわち、凹凸層１６の平均凹凸ピッチとなる。なお、凹凸層１６の平均凹凸ピッチは、複数の凹部から求められてもよい。

　屈折率調整層１５は、凹凸層１６から離れる方向に、高分子の含有量が大きくなることも好ましい。この場合、凹凸層１６の近くで高分子材料の量が少なくなり、凹凸層１６の凹部に高分子材料が入りにくくなる。高分子材料が凹部に入りにくくなると、屈折率調整層１５の屈折率調整効果が発揮されやすくなる。高分子材料は、第１電極１３から第２電極１４に向かう方向に屈折率調整層１５内の含有量が徐々に大きくなることが好ましい。高分子材料の含有量は、連続的に大きくなってもよいし、段階的に大きくなってもよい。連続的に高分子材料の含有量が変化する場合、屈折率調整層１５内の高分子の濃度は、グラデーション状に変化し得る。高分子材料は、ポリマー構造１７が第２電極１４の近くでは密になり、凹凸層１６の近くでは疎になり得る。高分子材料の含有量が徐々に大きくなることは、高分子含有量グラデーションと定義される。高分子含有量グラデーションの屈折率調整層１５を有する光学デバイス１は、図７において、凹凸層１６の近くから第２電極１４の近くになるにつれて、ポリマー構造１７を徐々に密にしたものとなる。

　高分子含有量グラデーションは、紫外線硬化性樹脂（光重合性樹脂ともいう）を硬化させるときの紫外線照射（光照射）の調整によって形成され得る。この場合、屈折率調整層１５は、紫外線硬化性樹脂を含む。紫外線の硬化の進行が速い部分は、高分子材料の含有量が高くなり得る。高分子含有量グラデーションを形成する紫外線照射の１つ目の方法として、紫外線を斜めに入射し、光路長を長くして、一部に紫外線を届きにくくすることが挙げられる。２つ目の方法として、低エネルギーの紫外線をまず照射して凹凸層１６付近に液晶を凝集させた後に、高エネルギーの紫外線を照射して樹脂を硬化させることが挙げられる。３つ目の方法として、第１電極１３側からと第２電極１４側からとの両方向から、紫外線を照射して樹脂を硬化させることが挙げられる。４つ目の方法として、低エネルギーの紫外線をまず照射して凹凸層１６付近に液晶を凝集させた後に、第１電極１３側からと第２電極１４側からとの両方向から、高エネルギーの紫外線を照射して樹脂を硬化させることが挙げられる。５つ目の方法として、屈折率調整層１５の横から屈折率調整層１５が広がる方向（面方向；第１基板１１の表面と平行な方向）に紫外線を照射し、エバネッセント波を発生させて、屈折率調整層１５の一部を強く紫外線照射することが挙げられる。６つ目の方法として、凹凸層１６の凹凸構造を紫外線が反射又は屈折しやすい構造にしておき、凹凸層１６を通るようにして紫外線を照射し、紫外線の反射光又は屈折光によって、屈折率調整層１５の一部を硬化させることが挙げられる。７つ目の方法として、高分子材料と液晶とが相分離する温度に加熱し、紫外線を照射することが挙げられる。なお、上記の方法は、高分子含有量グラデーションだけでなく、次に述べる高分子含有部１５Ａと高分子非含有部１５Ｂとを有する屈折率調整層１５の形成にも有効である。屈折率調整層１５にはスペーサが含まれていてもよい。第１電極１３と第２電極１４の剥離を防止するために、屈折率調整層１５の外周に接着部が設置されていてもよい。

　図８は、実施の形態の変形例５に係る光学デバイス１Ｅの一例を模式的に示す断面図である。図８では、直接凹凸形成構造の例が示されるが、以下の説明は、間接凹凸形成構造（図２参照）にも適用可能である。

　図８に示す光学デバイス１Ｅでは、図７に示す光学デバイス１Ｄと同様に、屈折率調整層１５が高分子材料を含んでいる。屈折率調整層１５が高分子材料を含むことにより、安全性と配向性とが高まる。屈折率調整層１５は、高分子材料により形成されたポリマー構造１７を有している。

　図８に示す光学デバイス１Ｅでは、図７に示す光学デバイス１Ｄと異なり、屈折率調整層１５が、高分子材料を含まない高分子非含有部１５Ｂと、高分子材料を含む高分子含有部１５Ａとを備えている。高分子非含有部１５Ｂは、高分子含有部１５Ａよりも凹凸層１６に近い位置に形成される。高分子非含有部１５Ｂには高分子材料が存在しない。一方、高分子含有部１５Ａには高分子材料が存在する。高分子材料は、屈折率調整層１５内で第２電極１４側に偏在している。高分子材料は、凹凸層１６と接していない。凹凸層１６の近傍には、高分子材料がない。高分子非含有部１５Ｂは、高分子材料を凹凸層１６に接しないようにすることができる。このため、高分子材料は、凹凸層１６の凹部に入りにくくなる。高分子材料が凹部に入りにくくなると、屈折率調整層１５の屈折率調整効果が発揮されやすくなる。屈折率調整層１５は、高分子材料と液晶とを含み得る。たとえば、高分子含有部１５Ａは、高分子材料と液晶とを含む部分であってよい。一方、高分子非含有部１５Ｂは、高分子材料を含まず、液晶を含む部分であってよい。高分子非含有部１５Ｂの存在により、凹凸層１６の凹部には、液晶が充填されやすくなる。

　図８の屈折率調整層１５では、凹凸層１６から離れる方向に、高分子材料の含有量が大きくなっている。高分子材料の含有量の変化は、少なくとも２段階である。

　図８では、高分子含有部１５Ａと高分子非含有部１５Ｂとの境界は、破線で示されている。屈折率調整層１５内において、高分子非含有部１５Ｂは凹凸層１６に近い側に配置され、高分子含有部１５Ａは凹凸層１６から遠い側に配置される。高分子非含有部１５Ｂと凹凸層１６とは接する。一方、高分子含有部１５Ａと凹凸層１６とは接しない。高分子非含有部１５Ｂは凹凸面を有する。高分子含有部１５Ａは層状となり得る。高分子非含有部１５Ｂも層状となり得る。高分子含有部１５Ａと高分子非含有部１５Ｂとの境界は明瞭であってもよいし、曖昧であってもよい。

　高分子含有部１５Ａの高分子材料以外の物質は、高分子非含有部１５Ｂに含まれる物質であり得る。高分子含有部１５Ａは、高分子非含有部１５Ｂの材料に高分子材料が加わって形成されていることが好ましい。高分子含有部１５Ａと高分子非含有部１５Ｂとが高分子材料以外において同じ材料であると、屈折率調整層１５を容易に形成できる。高分子含有部１５Ａと高分子非含有部１５Ｂとは、物質が行き来してもよい。たとえば、高分子含有部１５Ａの液晶と、高分子非含有部１５Ｂの液晶とが、混じってもよい。

　屈折率調整層１５に用いられる高分子材料は、散乱性を付与し得る。図８の光学デバイス１Ｅでは、高分子含有部１５Ａにより光散乱性が付与され得る。印加される電圧の大きさ（流れる電流の量）によって、散乱性の程度は変化し得る。高分子含有部１５Ａは、光散乱層として機能することができる。

　高分子非含有部１５Ｂは、高分子含有部１５Ａが凹凸層１６に接しないような厚みで形成され得る。高分子非含有部１５Ｂの厚みは、たとえば、４００ｎｍ以上であってよい。高分子非含有部１５Ｂの厚みが可視光の波長以上になると、屈折率調整効果が向上する。なお、高分子非含有部１５Ｂの厚みは、凹凸層１６の凸部の先端から高分子含有部１５Ａと高分子非含有部１５Ｂとの界面までの距離と定義される。

　図８のような屈折率調整層１５は、高分子非含有部１５Ｂの材料と、高分子含有部１５Ａの材料とが順次積層されて形成されてもよいし、高分子材料を含む屈折率調整層１５の材料が凹凸層１６又は第２電極１４の上に積層され、高分子材料が第２電極１４側に偏在させられることで形成されてもよい。この場合、高分子材料の偏在化によって、高分子含有部１５Ａと高分子非含有部１５Ｂとが分けられて形成される。

　図９Ａ及び図９Ｂは、実施の形態の変形例６に係る学デバイス１Ｆの一例を模式的に示す図である。図９Ａ及び図９Ｂでは、直接凹凸形成構造の例が示されるが、以下の説明は、間接凹凸形成構造（図２参照）にも適用可能である。

　図９Ａ及び図９Ｂにおいて、屈折率調整層１５は、可視光領域において不透明性を有する状態に変化可能である。不透明とは、光を通さない、または通しにくい状態を意味する。不透明性を有する状態は、不透明状態と定義される。図９Ａ及び図９Ｂでは、不透明状態を形成する屈折率調整層１５の一例が示されている。図９Ａ及び図９Ｂにおいて、不透明な状態は反射状態によって形成される。なお、図９Ａは、反射性を有さない状態を示しており、図９Ｂは、反射性を有する状態を示している。

　図９Ａでは、屈折率調整層１５は、反射膜形成成分１８を含んでいる。図９Ａにおいて、反射膜形成成分１８は模式的に図示されている。反射膜形成成分１８としては、金属イオンが例示される。金属イオンとしては、たとえば、Ａｇイオン、Ａｌイオン、Ａｕイオン、Ｃｕイオン、Ｃｒイオンが挙げられる。これらのイオンは、対となるカウンターイオンとともに配合され得る。たとえば、Ａｇは硝酸銀として屈折率調整層１５内に配合され得る。反射膜形成成分１８は、金属粒子であってもよい。反射膜形成成分１８は、屈折率調整層１５内で溶解又は分散されている。屈折率調整層１５は、ポリマー構造１７を有している。反射膜形成成分１８は、ポリマー構造１７の隙間に存在している。反射膜形成成分１８は、単独では反射する状態を形成しなくてよい。そのため、図９Ａでは、光学デバイス１Ｆは透明である。

　図９Ｂでは、光学デバイス１Ｆは反射膜１８Ｍを有している。反射膜１８Ｍは、第１電極１３と屈折率調整層１５との間に配置されている。反射膜１８Ｍは、凹凸界面に沿って形成されている。反射膜１８Ｍには、凹凸が形成されている。反射膜１８Ｍは、図９Ａに示す反射膜形成成分１８が電極の表面で析出することで形成され得る。たとえば、第１電極１３と第２電極１４との間で電圧が印加されると、電着と同様の原理により、金属イオンが電極表面に析出し得る。こうして形成された反射膜１８Ｍは、光を透過させずに、反射させる。そのため、光学デバイス１は不透明性を有する状態に変化する。また、図９Ｂの状態において、反射膜１８Ｍを形成するときとは逆の電圧を印加すると、反射膜１８Ｍは屈折率調整層１５内に溶解又は分散する。そのため、図９Ａの反射性を有さない状態に戻る。このように、光学デバイス１Ｆでは、可逆的に透明性を有する状態と不透明性を有する状態とが変化し得る。反射膜１８Ｍが形成されると、光は透過しなくなる。そのため、遮熱性を発揮することができる。

　反射膜１８Ｍは、光を反射する機能を有する。反射膜１８Ｍの形成によって、光学的特性を向上させることができる。反射膜１８Ｍは、金属の析出で容易に形成され得る。ここで、反射膜１８Ｍが凹凸を有して形成されると、光が一方向に強く反射しすぎることを抑制することができる。そのため、凹凸界面に沿って反射膜１８Ｍが形成されることが好ましい。それにより、乱反射を発生させて、光害を抑制できる。ただし、鏡面構造を形成したい場合には、屈折率調整層１５の平坦な面に反射膜１８Ｍを形成してもよい。なお、反射膜１８Ｍの代わりに、反射性を有さない不透明膜が形成されてもよい。その場合、反射膜形成成分１８は、不透明膜形成成分に置換され得る。

　光学デバイス１Ｆでは、図９Ａの状態（反射性を有さない状態）で屈折率を調整して、透明状態と配光状態と散乱状態とを変化させることも可能である。また、図９Ｂの状態（反射性を有する状態）で屈折率を調整して、屈折率調整層１５の光学的状態を変化させることも可能である。透明性と反射性の変化は、配光性や散乱性とは独立して制御され得る。たとえば、交流により配光性や散乱性が変化する屈折率調整層１５を用いる。この場合、周期的に交流電圧が付与される。一方、反射膜形成成分１８から反射膜１８Ｍへの変化及びその逆の変化は、直流により、一般的に交流の周期よりも長い時間、直流電圧を付与することで行われる。ここで、反射膜形成成分１８と反射膜１８Ｍとの変化は、交流電圧の周期的な変化に追随することができず、交流電圧によっては、ほとんど行われなくなる。そのため、図９Ａの状態から直流電圧を付与して図９Ｂの状態にした後、交流電圧を付与するようにすると、図９Ｂの状態で屈折率を調整して、屈折率調整層１５の光学的状態を変化させることができる。また、図９Ｂの状態から直流電圧を付与して図９Ａの状態にした後、交流電圧を付与するようにすると、図９Ａの状態で屈折率を調整して、透明状態と配光状態と散乱状態とを変化させることができる。

　図１０は、実施の形態の変形例７に係る光学デバイス１Ｇの一例を模式的に示す図である。図１０では、直接凹凸形成構造の例が示されるが、以下の説明は、間接凹凸形成構造（図２参照）にも適用可能である。

　図１０において、光学デバイス１Ｇは、透明性を有する状態と、不透明性を有する状態とが変化可能な透明性可変部２０を備えている。透明性可変部２０と屈折率調整層１５との間に、第１電極１３が配置されている。透明性可変部２０を備えることにより、透明な状態と不透明な状態とを容易に変化させることができ、光学特性を向上させることができる。透明性可変部２０は透明性の変化が可能な層で形成されている。透明性可変部２０は、一対の基板の間に配置されている。

　具体的には、第１基板１１の外側には、第３基板２１が配置されており、透明性可変部２０は、第１基板１１と第３基板２１との間に配置されている。第３基板２１は、第１基板１１と同じ材料で形成され得る。第３基板２１は、第１基板１１に対向している。透明性可変部２０は、第１基板１１及び第３基板２１に支持されている。第１基板１１と透明性可変部２０と第３基板２１との積層体は、透明性可変体と定義される。本変形例では、透明性可変体と光学調整体１０とは基板（第１基板１１）を共有しているが、透明性可変体と光学調整体１０とは基板を共有しない構造であってもよい。

　図１０に示す光学デバイス１Ｇでは、図９Ａ及び図９Ｂのように屈折率調整層１５内の成分で不透明を形成しているのではなく、光学調整体１０とは別に不透明になることが可能な部分を設けている。そのため、光学デバイスの設計が容易になるという利点がある。

　透明性可変部２０は、好ましくは電界により透明性が変化する。透明性の変化は、透明な状態と不透明な状態との２段階の変化でもよいが、透明から不透明な状態に徐々に変化することがより好ましい。それにより、光学特性を高めることができる。透明から不透明な状態への徐々の変化は、段階的であってもよいし、連続的であってもよい。電界の強弱により、透明性を変化させることが可能である。

　透明性可変部２０は、たとえば、一対の電極の間に透明性が変化する層を配置した構造を含む。それにより、透明性が容易に変化可能である。透明性が変化する層は、透明性可変層と定義される。透明性可変部２０の電極は、上述した第１電極１３及び第２電極１４と同様の材料で形成することができる。透明性可変部２０の電極は、透明性可変部２０を独立駆動するためには、第１電極１３及び第２電極１４と電気的に絶縁されていてよい。

　透明性可変部２０の不透明への変化は、光反射性が高くなることにより行われてもよいし、光吸収性が高くなることにより行われてもよい。透明性可変部２０が不透明になると、遮熱性が向上する。遮熱性を高める観点からは、光反射性が高くなる方が好ましい。透明性可変部２０は、電界または電流変調である場合、メモリ性を有することが好ましい。それにより、電力効率を高めることができる。

　光反射性が変化可能な材料としては、たとえば、ネマチック液晶、コレステリック液晶、強誘電性液晶、エレクトロクロミックなどが挙げられる。コレステリック液晶は、たとえば、螺旋構造を持つネマチック液晶である。コレステリック液晶は、たとえば、キラルネマチック液晶である。コレステリック液晶では、分子軸の配向方向が空間で連続的に変化し、巨視的な螺旋構造が生まれる。このため、螺旋の周期に対応した光の反射が可能となる。エレクトロクロミックでは、電圧印加による電気化学的可逆反応（電解酸化還元反応）による物質の色変化現象を利用することができ、光反射性と光透過性との間を制御することが可能である。光吸収性が変化可能な材料としては、たとえば、酸化タングステンや二色性色素を含有した液晶などが挙げられる。

　図１０では、透明性可変部２０は、第１基板１１の上に設けられている。透明性可変部２０は、第２基板１２の上に設けられてもよい。ただし、外光の進入を効率よく抑制するためには、透明性可変部２０は、第１基板１１の外側に設けられることが好ましい。

　図１１は、実施の形態の変形例８に係る光学デバイス１Ｈの一例を模式的に示す図である。図１１では、直接凹凸形成構造の例が示されるが、以下の説明は、間接凹凸形成構造（図２参照）にも適用可能である。

　図１１において、光学デバイス１Ｈは、発光体３０をさらに備えている。発光体３０は、電力の供給により発光する。発光体３０により、光学デバイス１Ｈは光を発することができる。そのため、光学特性を向上させることができる。光学デバイス１Ｈの発光は、照明、バックライト、サイネージなどに応用可能である。

　図１１に示す光学デバイス１Ｈでは、発光体３０は、層状になっている。透明性を有する面状発光体が発光体３０として用いられ得る。発光体３０は、発光ダイオード（ＬＥＤ）、有機エレクトロルミネッセンス素子（ＯＬＥＤ）などを用いて形成され得る。有機エレクトロルミネッセンス素子では、面状の発光が容易である。無機の発光ダイオードでは、通常、導光板を使用することで、面状の発光が容易に得られる。発光体３０は、一対の電極と、電極からの電力の供給により発光する発光層とを有していてよい。発光体３０は光透過性を有する。発光体３０は、一対の基板の間に配置されている。第２基板１２の外側には、追加基板３１が配置されている。追加基板３１は、追加された基板である。発光体３０は、第２基板１２と追加基板３１との間に配置されている。追加基板３１は、第２基板１２と同じ材料で形成され得る。追加基板３１は、第２基板１２に対向している。発光体３０は、第２基板１２及び追加基板３１に支持されている。第２基板１２と発光体３０と追加基板３１との積層体は、発光素子と定義される。本変形例では、発光素子と光学調整体１０とは基板（第２基板１２）を共有しているが、発光素子と光学調整体１０とは基板を共有しない構造であってもよい。

　発光体３０は、光学調整体１０とは独立してオンオフが可能である。そのため、種々の光学的状態を作り出すことが可能になり、光学特性が向上する。

　図１１では、光学デバイス１Ｈは、透明性可変部２０を備えている。発光体３０を有する光学デバイス１Ｈでは、透明性可変部２０は、反射状態と透明状態とが変化可能であることが好ましい。透明性可変部２０が反射状態となると、発光体３０からの光を反射させることができ、より多くの光を出射させることができる。光は追加基板３１から出る。

　図１１では、発光体３０は、第２基板１２の上に設けられている。発光体３０は、第３基板２１の上に設けられてもよい。発光体３０は、透明性可変部２０と光学調整体１０との間に配置されてもよい。ただし、第２基板１２側の外部に発光を得るためには、発光体３０は、第２基板１２の外側に配置されることが好ましい。

　なお、図１１に示す本変形例における光学デバイス１Ｈでは、図１０に示す透明性可変部２０を有する光学デバイス１Ｇに発光体３０を追加したものを示したが、光学デバイス１Ｈは、透明性可変部２０を有さなくてもよい。

　図１２は、実施の形態の変形例９に係る光学デバイス１Ｉの一例を模式的に示す図である。図１２では、直接凹凸形成構造の例が示されるが、以下の説明は、間接凹凸形成構造（図２参照）にも適用可能である。

　図１２において、光学デバイス１Ｉは、発光体３０を備えている。そして、発光体３０からの光は、屈折率調整層１５を導光する。発光体３０は、電力の供給により発光する。このように、屈折率調整層１５を導光するようにすると、効率よく発光を得ることができる。発光体３０により、光学デバイス１Ｉは光を発することができる。そのため、光学特性を向上させることができる。光学デバイス１Ｉの発光は、照明、バックライト、サイネージなどに応用可能である。なお、図１２では、発光体３０からの光を矢印で示している。

　発光体３０は、発光ダイオード（ＬＥＤ）などで構成することができる。発光体３０は、複数設けられていてもよい。発光体３０は、点状の発光であってもよいし、線状の発光であってもよい。発光体３０からの光は、屈折率調整層１５に側方から入る。発光体３０は、屈折率調整層１５の側方に配置されていてよい。屈折率調整層１５は、いわゆる導光板と同様の機能を有する。発光体３０からの光は、屈折率調整層１５内に面状に広がる。面状になった光は、主に第２基板１２を通して、光学デバイス１Ｉから出射する。発光体３０は、独立してオンオフが可能であってよい。屈折率調整層１５は、高分子材料を有すると光が散乱され、導光しやすくなったり、眩しさ（グレア）が抑制されたりする可能性がある。発光体３０をＬＥＤで構成すると、簡単に発光を得ることができる。

　屈折率調整層１５は、発光体３０が光を出すときに、散乱状態となってもよい。散乱状態となることで、導光性が向上する。また、散乱された光を出射することができるため、均一な発光を得ることができる。透明性可変部２０は設けられてなくてもよいが、透明性可変部２０は設けられている方が好ましい。透明性可変部２０を設けることで、遮熱性を高めることができる。さらに、透明性可変部２０は反射状態に変化可能であることが好ましい。透明性可変部２０が反射状態となると、発光体３０からの光を反射させて光学デバイス１Ｉから出すことができ、発光効率を向上させることができる。

　図１３は、実施の形態の変形例１０に係る光学デバイス１Ｊの一例を模式的に示す図である。図１３では、直接凹凸形成構造の例が示されるが、以下の説明は、間接凹凸形成構造（図２参照）にも適用可能である。図１３に示す光学デバイス１Ｊは、図７に示す光学デバイス１Ｄをベースにした変形例を示しているが、以下の説明は、その他の例をベースとした変形例にも適用可能である。たとえば、以下の説明は、屈折率調整層１５が高分子材料を含んでいない態様にも適用可能である。

　光学デバイス１Ｊでは、第１電極１３及び第２電極１４の少なくとも一方が、複数に分割されている。このように、第１電極１３、第２電極１４を分割することにより、電界を部分的に付与することができ、光学的状態を面内において異ならせることが可能になる。たとえば、透明性の高い部分と配光性の高い部分との２つの部分を設けたり、透明な部分と不透明な部分との２つの部分を設けたりすることができる。それにより、光学特性が向上する。また、第１電極１３、第２電極１４を分離することにより、光学デバイス１Ｊには、光学的状態の異なる複数のエリアが形成され得る。

　図１３では、第１電極１３が複数に分割された例を示している。第１電極１３の分割は、基板面内において、適宜のパターンで分割されてもよい。たとえば、第１電極１３は、２分割することができ、図１３では、第１部１３Ａと第２部１３Ｂとに分割されている。光学デバイス１Ｊが窓として用いられる場合、上部と下部とで２分割するようにすると、上部は光を通し、下部は光を通さない状態にすることができる。このとき、たとえば、室内を明るくしつつも、人のいる位置を暗めにすることができる。なお、第１電極１３は、３以上に分割されてもよい。第１電極１３の分割数が多いほど、光学的状態の異なるエリアの数が増加し得る。ただし、製造を容易にするためには、分割数は少ない方が好ましく、たとえば、８個以下であってよい。光学的状態の異なるエリアは、平面視したときに、ユーザにより確認され得る。

　第１電極１３が複数に分割された部分は、電極分割部分２５と定義される。第１電極１３及び第２電極１４の少なくとも一方は、複数の電極分割部分２５を有し得る。複数の電極分割部分２５は、第１電極１３、第２電極１４を分割することで形成される。複数の電極分割部分２５は、異なる電力が供給されることが可能であることが好ましい。図１３では、第１電極１３の第１部１３Ａ及び第２部１３Ｂが、電極分割部分２５である。このとき、第１部１３Ａと第２部１３Ｂとが、異なる電力が供給され得る。これにより、屈折率や散乱性を面内で変えることができ、光学特性に面内分布が発生する。そのため、屈折率や散乱性の制御幅が拡大し、入射する光の角度の制御幅も拡大することができる。このように、面内において異なる電力が与えられることで、光学特性の優れた光学デバイス１Ｊが得られる。

　なお、図１３では、第１電極１３が複数に分割された場合について説明したが、第２電極１４が複数に分割された場合についても同様である。また、第２電極１４のみが分割されてもよいし、第１電極１３と第２電極１４との両方が分割されてもよい。分割された第１電極１３と、分割された第２電極１４とは、同じパターンで分割されてもよい。それにより、電力効率が高まる。

　図１４は、実施の形態の変形例１１に係る光学デバイス１Ｋの一例を模式的に示す図である。図１４では、直接凹凸形成構造の例が示されるが、以下の説明は、間接凹凸形成構造（図２参照）にも適用可能である。図１４に示す光学デバイス１Ｋは、図１３に示す光学デバイス１Ｊをベースにした変形例を示しているが、以下の説明は、その他の例をベースとした変形例にも適用可能である。

　図１４において、光学デバイス１Ｋは、第１ガラスパネル４１と、第２ガラスパネル４２とをさらに備えている。第１ガラスパネル４１と第２ガラスパネル４２との間には、密閉空間４３が設けられている。第１電極１３と屈折率調整層１５と第２電極１４とを備えた光学調整体１０は、密閉空間４３に配置されている。第１ガラスパネル４１と第２ガラスパネル４２と密閉空間４３とは、ガラスパネルユニット４０を構成する。ガラスパネルユニット４０は、いわゆる複層ガラスとして機能する。光学調整体１０は、ガラスパネルユニット４０（複層ガラス）内に存在する。光学デバイス１Ｋは、ガラスパネルユニット４０を含む。光学デバイス１Ｋは、光学調整体１０が組み込まれたガラスパネルユニット４０で構成される。このように、ガラスパネルユニット４０で光学デバイス１を構成することで、断熱性を高めることができる。そのため、建材（窓を含む）として有効な光学デバイス１Ｋを得ることができる。また、ガラスパネルユニット４０は、光学デバイス１Ｋを保護することができ、機械強度を向上させることができる。そのため、破壊が起こりにくい光学デバイス１Ｋを得ることができる。

　密閉空間４３は、真空であってもよいし、気体が充填されていてもよい。光学調整体１０が劣化されにくくなるためには、密閉空間４３は、真空か、不活性ガスで充填されていることが好ましい。また、断熱性を高める観点からは、密閉空間４３は、真空か、断熱性の高いガスで充填されていることが好ましい。ガスとしては、Ａｒガス、窒素ガス、ドライエアが例示されるが、これに限定されるものではない。密閉空間４３は、封止されて外部から遮断されていることが好ましい。

　図１４では、第１ガラスパネル４１と第２ガラスパネル４２との間にシール壁４４が配置されている。シール壁４４は、ガラスパネルユニット４０の一部である。シール壁４４は、第１ガラスパネル４１と第２ガラスパネル４２との縁部に配置されている。シール壁４４は、第１ガラスパネル４１と第２ガラスパネル４２とを接着する。シール壁４４は、密閉空間４３を囲むものであってよい。シール壁４４は、第１ガラスパネル４１と第２ガラスパネル４２とをシールして、密閉空間４３を形成する。シール壁４４は、ガラス、アルミニウム等の金属、樹脂などにより形成され得る。シール壁４４は、第１ガラスパネル４１と第２ガラスパネル４２との間の距離を規定する。シール壁４４の厚み（高さ）は、光学調整体１０の厚みよりも大きくい方がよい。それにより、密閉空間４３に光学調整体１０を容易に収めることができる。

　シール壁４４は、スペーサを含むことが好ましい。シール壁４４にスペーサを含めることで、第１ガラスパネル４１と第２ガラスパネル４２との間の距離を容易に確保できる。スペーサは、たとえば無機材料である。スペーサは、粒子であってもよいし、線材であってもよい。スペーサを用いることで、密閉性が向上する。

　図１４では、光学デバイス１Ｋを駆動させるために電力を供給する配線５０が図示されている。配線５０は、第１電極１３に電気的に接続された第１配線５１と、第２電極１４に電気的に接続された第２配線５２と、に区分される。配線５０を通して電力を供給することで、光学デバイス１Ｋの光学的状態が変化し得る。上述したように、透明性可変部２０、発光体３０といった、電力駆動の部分をさらに備える場合は、それに対応する配線が追加されてもよい。なお、図１４以外の形態でも、配線５０が設けられてよいことは理解できる。

　図１５は、実施の形態の変形例１２に係る光学デバイス１Ｌの一例を模式的に示す図である。図１５では、直接凹凸形成構造の例が示されるが、以下の説明は、間接凹凸形成構造（図２参照）にも適用可能である。図１５に示す光学デバイス１Ｌは、図１４に示す光学デバイス１Ｊをベースにした変形例を示しているが、以下の説明は、他の図の例をベースとした変形例にも適用可能である。

　図１５に示す光学デバイス１Ｌでは、図１４に示す光学デバイス１Ｋと同様に、第１ガラスパネル４１と、第２ガラスパネル４２とを備えている。第１ガラスパネル４１と第２ガラスパネル４２との間には、密閉空間４３が設けられている。第１電極１３と屈折率調整層１５と第２電極１４とを備えた光学調整体１０は、密閉空間４３に配置されている。第１ガラスパネル４１と第２ガラスパネル４２と密閉空間４３とは、ガラスパネルユニット４０を構成する。ガラスパネルユニット４０は、いわゆる複層ガラスとして機能する。

　図１５に示す光学デバイス１Ｌは、透明性を有する状態と、不透明性を有する状態とが変化可能な透明性可変部２０を備えている。透明性可変部２０は反射性が可変であってもよいし、吸収性が可変であってもよい。光学調整体１０は、第２ガラスパネル４２に支持されている。透明性可変部２０は、密閉空間４３に配置されている。透明性可変部２０は、第１ガラスパネル４１に支持されている。透明性可変部２０は、上述したものと同様である。透明性可変部２０を備えることにより、透明な状態と不透明な状態とを容易に変化させることができ、光学特性を向上させることができる。図１５に示す光学デバイス１Ｌは、製造が容易であるという利点がある。

　透明性可変部２０は、第３基板２１と第４基板２２との間に配置される。第４基板２２の材料は、第３基板２１と同じであってよい。第３基板２１及び第４基板２２は、第１基板１１と同じ材料で形成され得る。第３基板２１と第１ガラスパネル４１とは接する。第３基板２１が第１ガラスパネル４１に接着することにより、第１ガラスパネル４１は第３基板２１を通して透明性可変部２０を支持する。透明性可変部２０は、少なくとも２つの配線５０（第３配線５３及び第４配線５４）に接続される。第３配線５３及び第４配線５４を通して電力が与えられることで、透明性可変部２０は透明性が変化し得る。第３基板２１及び第４基板２２は、透明性可変部２０の基板である。

　光学調整体１０は、第２ガラスパネル４２に支持される。第２ガラスパネル４２と第２基板１２とが接する。第２基板１２が第２ガラスパネル４２に接着している。図１５の光学デバイス１は、窓に適用可能で、光学特性に優れる。

　図１６は、実施の形態の変形例１３に係る光学デバイス１Ｍの一例を模式的に示す断面図である。図１６では、直接凹凸形成構造の例が示されるが、以下の説明は、間接凹凸形成構造（図２参照）にも適用可能である。図１６に示す光学デバイス１Ｍは、図１５に示す光学デバイス１Ｌをベースにした変形例を示しているが、以下の説明は、他の図の例をベースとした変形例にも適用可能である。

　図１６に示す光学デバイス１Ｍでは、第１ガラスパネル４１は、透明性可変部２０の基板である。第１ガラスパネル４１が第３基板２１として機能する。また、図１６に示す光学デバイス１Ｍは、図１５に示す光学デバイス１Ｌと比べて部品数が少なく、製造性が高まり得る。さらに、図１６に示す光学デバイス１Ｍは、窓に適用可能で、光学特性に優れる。

　図１７は、実施の形態の変形例１４に係る光学デバイス１Ｎの一例を模式的に示す断面図である。図１７では、直接凹凸形成構造の例が示されるが、以下の説明は、間接凹凸形成構造（図２参照）にも適用可能である。図１７に示す光学デバイス１Ｎは、図１５に示す光学デバイス１Ｌをベースにした変形例を示しているが、以下の説明は、他の図の例をベースとした変形例にも適用可能である。

　図１７に示す光学デバイス１Ｎでは、第２ガラスパネル４２は、第２基板１２である。つまり、第２ガラスパネル４２が第２基板１２として機能する。また、図１７に示す光学デバイス１Ｎは、図１５に示す光学デバイス１Ｌに比べて部品数が少なく、製造性が高まり得る。さらに、図１７に示す光学デバイス１Ｎは、窓に適用可能で、光学特性に優れる。

　なお、図１６及び図１７のさらなる変形例として、第１ガラスパネル４１が第３基板２１となり、第２ガラスパネル４２が第２基板１２となった光学デバイス１が挙げられる。この場合、さらに部品点数を少なくすることができ、製造上有利になり得る。

　図１４～図１７に示すような、ガラスパネルユニット４０に光学調整体１０が組み込まれる態様では、安定な電力の供給を可能にするための構造が形成され得る。たとえば、電極接続部１９に導電性の良好な材料を通して、配線５０から電力が供給される構造が好ましい。この場合、光学的性質の面内均一性が向上し、また、電圧ロスが抑制される。また、シール壁４４がスペーサを含む場合、スペーサとガラスパネルとの間に配線５０が通ることが好ましい。この場合、配線構造の部材数を低減することができる。あるいは、シール壁４４がスペーサを含む場合、スペーサに貫通孔が設けられ、その貫通孔を配線５０が通ることが好ましい。この場合、密封性が向上する。

　図１８Ａ～図１８Ｆにより、実施の形態に係る光学デバイス１の製造方法を説明する。図１８Ａ～図１８Ｆは、実施の形態に係る光学デバイス１の製造方法における各工程を模式的に示す断面図である。なお、図１８Ａ～図１８Ｆでは、図１に示す光学デバイス１の製造方法を例として挙げているが、他の変形例にも適用できる。ただし、図１８Ａ～図１８Ｆでは、主に、屈折率調整層１５が高分子材料を含む場合の構成について説明する。

　光学デバイス１の製造方法は、第１電極１３及び樹脂層１６０を形成する工程と、樹脂層１６０から凹凸層１６を形成する工程と、第２電極１４を形成する工程と、屈折率調整層１５の材料を塗布する工程と、第１基板１１と第２基板１２とを接着する工程と、を含む。第１電極１３及び樹脂層１６０を形成する工程では、第１基板１１の上に第１電極１３及び樹脂層１６０が形成される。凹凸層１６を形成する工程では、樹脂層１６０を形成した後、インプリントにより樹脂層の表面に凹凸が与えられ、樹脂層１６０から凹凸層１６が形成される。第２電極１４を形成する工程では、第２基板１２の上に第２電極１４が形成される。屈折率調整層１５の材料を塗布する工程では、屈折率調整層１５の材料が、凹凸層１６及び第１電極１３のうちの一方の上、又は、第２電極１４の上に塗布される。第１基板１１と第２基板１２とを接着する工程では、第１電極１３と第２電極１４とが対向されて、第１基板１１と第２基板１２とが接着される。この光学デバイス１の製造方法では、光学デバイス１が効率よく製造される。

　以下、図１８Ａ～図１８Ｆを用いて、光学デバイス１の製造方法を詳細に説明する。

　まず、図１８Ａに示すように、第１基板１１を準備する。次に、図１８Ｂに示すように、第１基板１１の上に、第１電極１３を形成する。図示しないが、第１電極接続部１９ａは、第１電極１３と同時に形成され得る。次いで、図１８Ｃに示すように、第１電極１３の上に、樹脂層１６０を形成する。樹脂層１６０は、たとえば、樹脂層１６０の材料を塗布することで形成される。樹脂層１６０を構成する樹脂材料は、紫外線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂のいずれか又は両方を含み得る。樹脂層１６０は、導電性を有する材料で形成されることが好ましい。そして、図１８Ｄに示すように、樹脂層１６０に凹凸を付与する。凹凸の付与は、インプリントにより行われ得る。インプリントは微細な凹凸を精度よく形成できる。凹凸の付与は、ナノインプリントがより好ましい。この場合、ナノサイズの凹凸の転写によって樹脂層１６０に凹凸が形成され得る。樹脂層１６０は、凹凸が与えられて、凹凸層１６に変化する。たとえば、凹凸の型で未硬化の樹脂層１６０を押した状態で樹脂層１６０が硬化すると、凹凸が転写される。次に、図１８Ｅに示すように、凹凸層１６の上に、屈折率調整層１５の材料を塗布する。屈折率調整層１５の材料は、高分子材料又は高分子材料を形成する低分子（たとえばモノマー）を含み得る。屈折率調整層１５は、紫外線硬化性樹脂及び液晶を含み得る。そして、図１８Ｆに示すように、第１基板１１と第２基板１２とを接着する。第２基板１２はあらかじめ準備される。図１８Ｂと同様に、第２基板１２の上には、第２電極１４が形成される。第２電極接続部１９ｂは、第２電極１４と同時に形成され得る。第１基板１１と第２基板１２とは、接着剤によって接着され得る。このとき、第１電極１３と第２電極１４とは対向する配置となる。第１電極１３と第２電極１４との間に屈折率調整層１５が配置される。なお、屈折率調整層１５は、スペーサ（図４参照）を含んでいてもよい。また、屈折率調整層１５が紫外線硬化性樹脂を含む場合、最後に紫外線を照射し、屈折率調整層１５内の紫外線硬化性樹脂を硬化させ、高分子のポリマー構造１７（図７参照）を形成する。紫外線の照射は、第１基板１１と第２基板１２とを接着する前に行われてもよい。以上により、光学デバイス１が製造される。

　図１８Ａ～図１８Ｆに示される光学デバイス１の製造方法は次のように変形され得る。図１８Ａ～図１８Ｃでは、第１基板１１の上に第１電極１３及び樹脂層１６０をこの順で形成したが、第１基板１１の上に樹脂層１６０を形成し、樹脂層１６０に凹凸を付与して樹脂層１６０が凹凸層１６になった後に、凹凸層１６の上に第１電極１３を形成してもよい。この場合、図２のような間接凹凸形成構造の光学デバイス１Ａが形成され得る。また、間接凹凸形成構造の場合、第１基板１１の上に樹脂層１６０と第１電極１３を形成した後に、インプリントにより樹脂層１６０と第１電極１３の両方に一括で凹凸構造を形成してもよい。屈折率調整層１５の材料は、第１電極１３の上に塗布され得る。また、図１８Ａ～図１８Ｆでは、屈折率調整層１５の材料を凹凸層１６の上に塗布したが、第２電極１４の上に屈折率調整層１５の材料を塗布してもよい。なお、屈折率調整層１５の材料は、第１電極１３と第２電極１４との間に隙間を設けて第１基板１１と第２基板１２とを接着してこの隙間に屈折率調整層１５の材料を注入する方法でも、配置され得る。

　図１８Ａ～図１８Ｆで作製される光学デバイス１は、光学調整体１０そのものである。このようにして得られた光学調整体１０を用いることにより、他の光学的な部（透明性可変部２０、発光体３０）を備える光学デバイス１が形成され得る。他の光学的な部は、光学調整体１０と厚み方向で重ねられ得る。また、光学調整体１０をガラスパネルユニット４０の内部に組み込むことにより、ガラスパネルユニット４０で構成される光学デバイスが形成され得る（たとえば図１５参照）。このとき、図１５に示されるように、たとえば、光学調整体１０が第１ガラスパネル４１と第２ガラスパネル４２との間に配置されて、これら２つのガラスパネルが接着され得る。

　図１９Ａ～図１９Ｃは、以上で説明した光学デバイス１の適用例を示している。図１９Ａは、実施の形態に係る光学デバイス１を建物１００に適用したときにおける光学デバイスの光学状態の一例を示す図であり、図１９Ａは透明状態、図１９Ｂは配光状態、図１９Ｃは遮蔽状態を示している。

　図１９Ａ～図１９Ｃでは、建物１００の壁１１０に光学デバイス１を取り付けた例を示している。壁１１０は、例えば外壁である。建物１００は、天井１２０を有しており、天井１２０には照明器具２００が設けられている。建物１００の内部は室内１３０と定義される。本適用例では、光学デバイス１は窓として機能する。

　図１９Ａに示すように、光学デバイス１が透明性を有する状態では、外光が光学デバイス１を通して室内１３０に入射する。外光は、通常、太陽の光である。光学デバイス１は、いわばガラス窓と同じような光学的状態である。このとき、室内１３０は、光が入ることにより明るくなるが、室内１３０の奥行が広い場合などには、室内１３０全体が明るくはなりにくい。そのため、ガラス窓を有する建物では、昼においても、照明器具２００が点灯されて、室内１３０が明るくされることがよく行われている。

　図１９Ｂでは、光学デバイス１が配光性を有する状態となっている。この場合、光学デバイス１が光の進行方向を変化させ、配光することにより、室内１３０の奥に届きやすい方向の光を発生あるいは増加させることができる。図１９Ｂでは、光は天井１２０に向かう方向に変化されている。斜め下方に進む光が、光学デバイス１を通過して、斜め上方に進む光になっている。ただし、光の配光は完全ではなく部分的に生じ得るものなので、天井１２０に向かう方向に曲げられた光と、直進する光とが存在してよい。このとき、光の主成分は配光されて曲げられた光であることが好ましい。そして、図１９Ｂのように光が配光されると、室内１３０の内部の方に光が届くため、室内１３０が奥（光学デバイス１から遠い所）まで明るくなる。そのため、照明器具２００をオフにしたり、照明器具２００での消費電力量を低下させたりすることができ、省エネルギー化を図ることができる。

　図１９Ｃでは、光学デバイス１が遮蔽性を有する状態となっている。この場合、光は光学デバイス１によって反射されて、室内１３０に届きにくくなる。光を遮断すると、断熱性を付与することができる。断熱性が高まると、冷暖房効率が高まるため、省エネルギー化を図ることができる。ここで、図１９Ｃのように、光の一部を反射し、光の一部を透過させるような反射性を発揮するようにすると、室内１３０に届く光の量を調整することが可能である。屋外の光が眩しいときには、室内１３０に入る光の量を調整することは有効である。また、反射性を高めて、光学デバイス１が光を通さないようにすると、光学デバイス１を通して向こう側の物体が視認されにくくなり、光学デバイス１はカーテンの機能を有し得る。光学デバイス１は、光散乱性の発揮によりすりガラス状になることも可能である。その場合、光学デバイス１の向こう側に配置された物体を、明瞭に見える透明状態と、うっすら見える散乱状態と、全く見えない不透明状態とに切り替えることも可能である。

　なお、図１３や図１４のように、第１電極１３、第２電極１４が分割され、光学的状態が異なる複数のエリアを有することが可能なように光学デバイスが構成されると、室内１３０への光の入り方を制御することができる。たとえば、窓（光学デバイス１）の上部では光をよく通し、窓の下側では光をあまり通さないといった制御が可能である。そのため、光学特性の高い光学デバイスが得られる。また、光学デバイスが、発光体３０を有すると、照明装置として機能し得る。窓と照明とを兼ねた光学デバイスを提供できる。また、光学デバイス１の散乱性を利用し、コントラストを高めて、光学デバイス１をスクリーンとして使用することも可能である。プロジェクタ、映写機などの画像を出射する装置と組み合わせて、画像を光学デバイス１に写し出すことができる。

　図２０Ａ～図２０Ｃは、実施の形態に係る光学デバイスの一例である光学デバイス２を用いた光学デバイス制御装置３の一例を模式的に示す図であり、図２０Ａは光学デバイス２が透明状態であるとき、図２０Ｂは光学デバイス２が配光状態であるとき、図２０Ｃは光学デバイス２が散乱状態であるときを示している。

　光学デバイス制御装置３に用いられる光学デバイス２と、光学デバイス２に入射する近赤外線量を検知する検知部７０と、検知部７０で検知した近赤外線量により第１電極１３と第２電極１４との間の電圧を制御する制御部とを備える光学デバイス２は、図１に示す光学デバイス１と同様に、第１電極１３と、第２電極１４と、屈折率調整層１５と、凹凸層１６とを備えている。また、光学デバイス２は、第１基板１１と第２基板１２とをさらに備えている。

　図１に示す光学デバイス１と図２０Ａ～図２０Ｃに示す光学デバイス２とは、屈折率調整層１５が異なる。具体的には、図１に示す光学デバイス１では、屈折率調整層１５は、領域可視光領域及び近赤外領域のうち可視光領域のみでの屈折率が調整可能としたが、図２０Ａ～図２０Ｃに示す光学デバイス２では、屈折率調整層１５は、可視光領域及び近赤外領域のうち近赤外領域のみでの屈折率が調整可能としている。つまり、光学デバイス２は、入射する近赤外線の方向を制御する近赤外線制御デバイスとして機能する。また、光学デバイス２では、屈折率調整層１５は、近赤外線に対して透過性を有する。そして、屈折率調整層１５は、近赤外線領域での屈折率について、凹凸層１６の屈折率に近い屈折率と、凹凸層１６の屈折率との屈折率差が大きい屈折率とに調整可能である。　なお、光学デバイス２では、第１電極１３、第２電極１４、凹凸層１６についても、近赤外線に対して透過性を有する。近赤外領域は、たとえば、波長７８０ｎｍ～２５００ｎｍの領域である。

　屈折率調整層１５は、図１に示す光学デバイス１における屈折率調整層１５と同様に、電圧が印加されたり電圧が印加されなかったりして屈折率が変化し、透明状態、配光状態及び散乱状態のいずかの状態となる。これにより、光学デバイス２は、透明状態、配光状態及び散乱状態のいずかの状態のいずれかに切り替えることができる。

　図２０Ａは、光学デバイス２が透明状態となったときの光（近赤外線）の進行を示している。この場合、光は、光学デバイス１の表面に垂直な方向（厚み方向と同じ方向）から傾斜した方向で進行し得る。

　図２０Ｂは、光学デバイス２が配光状態となったときの光（近赤外線）の進行を示している。この場合、光学デバイス２に入った光は、光学デバイス２内において進行方向が変化する。図２０Ｂでは、光学デバイス２に向かって進む光は、戻る方向（跳ね返る方向）に進行方向が変更されている。

　図２０Ｃは、光学デバイス２が散乱状態となったときの光（近赤外線）の様子を示している。この場合、光学デバイス２に入射した光は散乱されながら進行するため、強い光の進行を抑制することができる。

　なお、光学デバイス２における屈折率調整層１５の屈折率調整材料としては、液晶材料を含んでいるとよい。これにより、印加する電圧を制御することで屈折率調整層１５の屈折率を容易に変化させることができるので、光学デバイス２の状態を容易に切り替えることができる。

　このように構成される光学デバイス２は、たとえば、光学デバイス２を建物の窓として取り付けた場合に、窓から入射する太陽光による日射熱（赤外線）を自由に制御することができる。これにより、建物の室内温度を快適化することができ、また、冷暖房費を削減することができる。例えば、建物の屋内の奥に日射線を入射させることができるので、部屋全体（特に部屋の奥）を暖かくすることが可能となる。また、部屋の床面全体に日射熱（赤外線）が届くように制御した場合、床面に接している足元が暖かくなるため、室内の体感温度を上昇させることができる。その結果、冷暖房設定温度を低くすることができるため、冷暖房費を下げることが可能となる。

　また、光学デバイス２は、光学デバイス制御装置３として構成することができる。図２０Ａ～図２０Ｃ及び図２１に示すように、光学デバイス制御装置３は、たとえば、上記の光学デバイス２と、近赤外線量を検知する検知部７０と、検知部７０で検知した近赤外線量に応じて第１電極１３と第２電極１４との間の電圧を制御する制御部９０とを備える。

　検知部７０は、光学デバイス２に入射する近赤外線量を検知する第１検知部と、光学デバイス２から出射する近赤外線量を検知する第２検知部の少なくとも一つによって構成されている。

　例えば、図２１に示すように、建物１００の屋外に、光学デバイス２に入射する近赤外線量を検知する第１検知部として２つの検知部７０を設置することができる。また、建物１００の室内１３０に、光学デバイス２から出射する近赤外線量を検知する第２検知部として２つの検知部７０を設置することができる。

　この場合、図２０Ａ～図２０Ｃに示される制御部９０は、検知部７０で検知した近赤外線量に応じて、第１電極１３と第２電極１４とに印加する電圧を制御する。これにより、光学デバイス２の状態（透明状態、配光状態、散乱状態）を切り替えることができるので、室内１３０の最適光量を調整することができる。効率的に冷暖房エネルギーや照明エネルギーの削減を行なうために、制御部９０は、室内の冷暖房機器や照明機器と連動させて動作させてもよい。

　図２１に示すように、屋外の検知部７０の一つは、建物の上部（屋根等）に設置されている。これにより、太陽からの赤外線量を正確に検知することができる。一方、屋外の検知部７０の他の一つは、光学デバイス２に設置されている。これにより、太陽からの赤外線量を比較的正確に検知することができるとともに、光学デバイス２に近いので簡便な施工により検知部７０を設置することができる。ただし、この場合、検知部７０は、軒下等の日陰にならない場所に設置するとよい。また、室内１３０の検知部７０の一つは、光学デバイス２に設置されている。これにより、窓となる光学デバイス２の汚れ等も含めて入射する赤外線量を評価することができるので、室内１３０の赤外線量を正確に検知することができる。さらに、この場合、光学デバイス２に近いので簡便な施工により検知部７０を設置することができる。一方、室内１３０の検知部７０の他の一つは、室内１３０の天井１２０に設置されている。これにより、室内１３０の平均的な赤外線量を検知することができるので、室内１３０の快適温度が制御しやすくなる。また、いずれの検知部７０についても、太陽からの赤外線を検知しやすいように、水平から上方に８０度までの角度を精度よくとれることが好ましい。

　また、図２０Ａ～図２０Ｃに示すように、光学デバイス制御装置３は、さらに、光学デバイス２における第１電極１３と第２電極１４とに電力を供給する電池６０を備えていてもよい。これにより、第１電極１３と第２電極１４とに印加する直流電圧を電池６０によって入力できる。このように、電池６０を用いて第１電極１３と第２電極１４とに電力を供給することによって、簡便な施工で光学デバイス制御装置３を実現できるとともに、電力供給用配線をなくすことができるので配線レス化が可能となる。なお、電池６０は、一次電池及び二次電池のいずれであってもよい。容量が大きいことから、電池６０としてはリチウムイオン電池を用いるとよい。また、電池６０として太陽電池を用いてもよいが、この場合、充電池を併用することによって、日射がない場合でも光学デバイス２を制御することができる。

　また、図２２に示すように、光学デバイス制御装置３は、さらに、検知部７０で検知した近赤外線量を表示する表示部８０を備えていてもよい。近赤外線量を表示部８０に表示する場合、図２２に示すように、近赤外線量を数値化して表示してもよいし、近赤外線量をキャラクタの態様によって表示してもよいし、これらの両方で表示してもよい。このように、近赤外線量を表示部８０に表示することで、ユーザには見えない赤外線の量を可視化することができる。なお、表示部８０は、窓となる光学デバイス２の一部に設けられていてもよいし、光学デバイス２から離して設けられていてもよい。

　以上、本開示に係る光学デバイス及び光学デバイス制御装置について、実施の形態及び変形例に基づいて説明したが、本開示は、上記実施の形態及び変形例に限定されるものではない。例えば、上記実施の形態及び変形例に対して当業者が思いつく各種変形を施して得られる形態や、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で上記実施の形態及び変形例における構成要素及び機能を任意に組み合わせることで実現される形態も本開示に含まれる。

　１、１Ａ～１Ｎ、２　　光学デバイス
　３　　　光学デバイス制御装置
　１０　　光学調整体
　１１　　第１基板
　１２　　第２基板
　１３　　第１電極
　１４　　第２電極
　１５　　屈折率調整層
　１５Ａ　高分子含有部
　１５Ｂ　高分子非含有部
　１５１　スペーサ
　１６　　凹凸層
　１６ａ　凸部
　１６０　樹脂層
　１６１　柱部
　１７　　ポリマー構造
　１７ａ　到達点
　１９　　電極接続部
　１９ａ　第１電極接続部
　１９ｂ　第２電極接続部
　２０　　透明性可変部
　２５　　電極分割部分
　３０　　発光体
　４１　　第１ガラスパネル
　４２　　第２ガラスパネル
　４３　　密閉空間
　５０　　配線
　５１　　第１配線
　５２　　第２配線
　５３　　第３配線
　５４　　第４配線
　６０　　電池
　７０　　検知部
　８０　　表示部
　９０　　制御部
　１００　建物
　１１０　壁
　１２０　天井
　１３０　室内
　２００　照明器具

Claims

　光透過性を有する第１電極と、
　前記第１電極と電気的に対となり、光透過性を有する第２電極と、
　前記第１電極と前記第２電極との間に配置され、可視光領域から近赤外光領域までの任意の波長帯域での屈折率が調整可能な屈折率調整層と、
　前記屈折率調整層の表面を凹凸にする膜状の凹凸層と、を備え、
　前記屈折率調整層は、透明状態と、入射光を配光する状態とが変化可能である、
　光学デバイス。
　前記屈折率調整層は、前記可視光領域での屈折率が調整可能である、
　請求項１に記載の光学デバイス。
　前記屈折率調整層は、前記膜状の凹凸層の屈折率に近い屈折率と、前記膜状の凹凸層の屈折率との屈折率差が大きい屈折率とに調整可能である、
　請求項２に記載の光学デバイス。
　前記屈折率調整層は、光散乱性が変化可能である、
　請求項１～３のいずれか１項に記載の光学デバイス。
　前記屈折率調整層は、前記入射光を配光させた状態で前記光散乱性を発現可能である、
　請求項４に記載の光学デバイス。
　前記屈折率調整層は、高分子を含む、
　請求項１～３のいずれか１項に記載の光学デバイス。
　前記高分子は、前記屈折率調整層内でポリマー構造を形成し、
　前記ポリマー構造は、前記屈折率調整層の前記凹凸層側の表面に到達する複数の到達点を有し、
　前記複数の到達点の間の平均距離は、前記凹凸層の平均凹凸ピッチよりも大きい、
　請求項６に記載の光学デバイス。
　前記屈折率調整層は、前記凹凸層から離れる方向に、前記高分子の含有量が大きくなる、
　請求項６に記載の光学デバイス。
　前記屈折率調整層は、不透明性を有する状態に変化可能である、
　請求項１～８のいずれか１項に記載の光学デバイス。
　透明性を有する状態と、不透明性を有する状態とが変化可能な透明性可変部を備え、
　前記透明性可変部と前記屈折率調整層との間に、前記第１電極が配置されている、
　請求項１に記載の光学デバイス。
　発光体をさらに備える、
　請求項１に記載の光学デバイス。
　前記発光体からの光は、前記屈折率調整層を導光する、
　請求項１１に記載の光学デバイス。
　前記第１電極及び前記第２電極の少なくとも一方は、複数に分割されている、
　請求項１～１２のいずれか１項に記載の光学デバイス。
　第１ガラスパネルと、
　第２ガラスパネルと、をさらに備え、
　前記第１ガラスパネルと第２ガラスパネルとの間に、密閉空間が設けられ、
　前記第１電極と前記屈折率調整層と前記第２電極とを備えた光学調整体は、前記密閉空間に配置されている、
　請求項１に記載の光学デバイス。
　透明性を有する状態と、不透明性を有する状態とが変化可能な透明性可変部を備え、
　前記光学調整体は、前記第２ガラスパネルに支持され、
　前記透明性可変部は、前記密閉空間に配置され、前記第１ガラスパネルに支持されている、
　請求項１４に記載の光学デバイス。
　前記第１ガラスパネルは、前記透明性可変部の基板である、
　請求項１５に記載の光学デバイス。
　前記凹凸層は、前記第１電極と前記屈折率調整層との間に配置される、
　請求項１～１６のいずれか１項に記載の光学デバイス。
　前記屈折率調整層は、スペーサを含み、
　前記スペーサは、前記凹凸層の凹凸のピッチよりも大きく、前記屈折率調整層の厚みを形成する、
　請求項１７に記載の光学デバイス。
　前記凹凸層は、複数の柱部を備え、
　前記複数の柱部は、前記屈折率調整層を貫通して前記第２電極に接し、前記屈折率調整層の厚みを形成する、
　請求項１７に記載の光学デバイス。
　前記凹凸層と前記屈折率調整層との間に、前記第１電極が配置され、
　前記第１電極は、凹凸面を有する、
　請求項１～１６のいずれか１項に記載の光学デバイス。
　前記凹凸層は、不規則な凹凸を有する、
　請求項１～１６のいずれか１項に記載の光学デバイス。
　前記凹凸層は、前記屈折率調整層に向かって突出する複数の凸部を備え、
　前記複数の凸部の先端は、突出位置が揃っている、
　請求項２１に記載の光学デバイス。
　前記第１電極及び前記第２電極の少なくとも一方は、平面視において前記凹凸層からはみ出した電極接続部を備えている、
　請求項１～１６のいずれか１項に記載の光学デバイス。
　前記屈折率調整層は、前記近赤外光領域での屈折率が調整可能である、
　請求項１に記載の光学デバイス。
　前記屈折率調整層は、前記膜状の凹凸層の屈折率に近い屈折率と、前記膜状の凹凸層の屈折率との屈折率差が大きい屈折率とに調整可能である、
　請求項２４に記載の光学デバイス。
　請求項２４又は２５に記載の光学デバイスと、
　前記光学デバイスに入射する近赤外線量を検知する第１検知部及び前記光学デバイスから出射する近赤外線量を検知する第２検知部の少なくとも一つと、
　前記第１検知部又は前記第２検知部で検知した前記近赤外線量に応じて前記第１電極と前記第２電極との間の電圧を制御する制御部とを備える、
　光学デバイス制御装置。
　さらに、前記第１検知部又は前記第２検知部で検知した前記近赤外線量を表示する表示部を備える、
　請求項２６に記載の光学デバイス制御装置。
　さらに、前記光学デバイスにおける前記第１電極と前記第２電極とに電力を供給する電池を備える、
　請求項２６又は２７に記載の光学デバイス制御装置。
　前記光学デバイスにおける前記屈折率調整層の屈折率調整材料として液晶材料を含む、
　請求項２６～２８のいずれか１項に記載の光学デバイス制御装置。
　請求項１～１６のいずれか１項に記載の光学デバイスの製造方法であって、
　第１基板の上に前記第１電極及び樹脂層を形成し、
　前記樹脂層の形成後に、インプリントにより前記樹脂層の表面に凹凸を与えて、前記樹脂層から前記凹凸層を形成し、
　第２基板の上に前記第２電極を形成し、
　前記屈折率調整層の材料を、前記凹凸層及び前記第１電極のうちの一方の上、又は、前記第２電極の上に塗布し、
　前記第１電極と前記第２電極とを対向させて、前記第１基板と前記第２基板とを接着する、
　光学デバイスの製造方法。