WO2015170716A1 - 眼鏡用保護具 - Google Patents

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WO2015170716A1
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protector
glasses
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西村　公孝
智 川村
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デクセリアルズ株式会社
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    • G02C9/04—Attaching auxiliary optical parts by fitting over or clamping on

Definitions

  • transverse cut hole may be formed in one of the plurality of temple protection portions.
  • the base film 11 is preferably composed of an unstretched film.
  • the in-plane retardation value of the eyeglass protector 1 can be set to 100 nm or less with respect to the visible light wavelength.
  • the material constituting the unstretched film is polycarbonate, polyethylene terephthalate, triacetyl cellulose, polyester, polyethylene naphthalate, polystyrene, polyurethane, polyvinyl alcohol, polymethyl methacrylate, cycloolefin, polypropylene, polyethylene. Etc. Polycarbonate is preferable from the viewpoint of impact resistance and versatility.
  • acrylic polymerizable compounds listed above examples include acrylic morpholine, glycerol acrylate, polyether acrylate, N-vinylformamide, N-vinylcaprolactone, ethoxydiethylene glycol acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, polyethylene glycol acrylate, Examples include EO-modified trimethylolpropane triacrylate, EO-modified bisphenol A diacrylate, aliphatic urethane oligomers, and polyester oligomers.
  • FIG. 6 (A), (B) you may form the fracture
  • FIG. 6 (A), (B) you may form the fracture
  • FIG. 6 (A), (B) you may form the fracture
  • FIG. The fracture suppression hole 26 ⁇ / b> A is a cut hole extending in a direction perpendicular to the length direction of the insertion holes 15, 16, 21, 22.
  • the fracture suppression hole 26 ⁇ / b> A only needs to extend in a direction intersecting the length direction of the insertion holes 15, 16, 21, 22.
  • the fracture suppressing hole 26 ⁇ / b> B is a hole whose diameter is larger than the width of the insertion holes 15, 16, 21, 22.
  • the control mechanism 230 includes a formatter 231 and a driver 233, and controls the irradiation with the laser light 200A.
  • the formatter 231 generates a modulation signal for controlling the irradiation of the laser light 200A, and the driver 233 controls the laser light source 201 based on the modulation signal generated by the formatter 231. Thereby, irradiation of the laser beam 200A to the master base material 41 is controlled.
  • a transfer apparatus 300 shown in FIG. 13 is a roll-to-roll transfer apparatus using a master 40.
  • the antireflection film 110 can be produced using such a transfer device 300.
  • the antireflection film 110 is manufactured using a photocurable resin.
  • the antireflection film 110 may be manufactured using other types of curable resins.
  • the base material supply roll 301 is a roll in which the long base film 11 is wound in a roll shape
  • the winding roll 302 is a roll that winds up the antireflection film 110.
  • the guide rolls 303 and 304 are rolls that transport the base film 11.
  • the nip roll 305 is a roll for bringing the base film 11 on which the uncured resin layer 310 is laminated, that is, the transfer film 100 into close contact with the master 40.
  • the peeling roll 306 is a roll for peeling the base film 11 on which the micro uneven structure 12 is formed, that is, the antireflection film 110 from the master 40.
  • Example 2 The same treatment as in Example 1 was performed except that an unstretched cycloolefin copolymer film (norbornene resin film) (100 ⁇ m thickness) was used as the base film 11. As a result, the retardation value was 3 nm, and the regular reflectance was 4.5%. The 3D evaluation was VG.
  • the spectacle protective device 1 in which the micro uneven structure 12 is formed on both surfaces and an unstretched film is used as the base film 11 is used. was found to be preferable.

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Abstract

【課題】眼鏡用保護具の使用者の眼に入射しうる反射光の発生を抑制し、ひいては、使用者の疲労を低減することが可能な、新規かつ改良された眼鏡用保護具を提供する。 【解決手段】上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、眼鏡のレンズ面を保護するレンズ面保護部を備え、レンズ面保護部は、基材フィルムと、基材フィルムの表面に形成され、凹凸の平均周期が可視光波長以下であるミクロ凹凸構造と、を備える、眼鏡用保護具が提供される。本発明の上記観点によれば、眼鏡用保護具のレンズ面保護部にミクロ凹凸構造が形成されているので、眼鏡用保護具の使用者の眼に入射しうる反射光の発生を抑制することができる。

Description

眼鏡用保護具
　本発明は、眼鏡用保護具に関する。
　医療従事者の職業感染の防止手段として個人用保護具が多く使用されている。特に血液や体液の暴露を防ぐための眼用保護具は検査や手術時に使用され、血液媒介病原体（ＨＩＶ、ＨＢＶ、ＨＣＶ）による職業感染の予防に役立っている。
　上記のような眼用保護具の一例として、特許文献１（特許第２９３９６２７号公報）には透明なバイザーをマスクに連結した顔面マスクおよびバイザーが開示されている。特許文献２（実用新案登録第３１６００３９号公報）にはマスクに着脱可能に取り付けられるアイシールドが開示されている。特許文献３（特表平３－５００４９７号公報）には眼鏡のテンプルを通すための溝穴があけられた顔面プロテクタが開示されている。
特許第２９３９６２７号公報 実用新案登録第３１６００３９号公報 特表平３－５００４９７号公報
　しかしながら、従来の眼用保護具には、光の反射防止に関する工夫は何ら施されていなかった。このため、眼用保護具の使用者は、眼用保護具の表面で反射した反射光によって幻惑される可能性があった。また、当該反射光によって眼精疲労が大きくなる可能性もあった。このため、眼用保護具の使用者は、反射光によって疲労を感じる可能性があった。特に、近年、眼用保護具は無影灯下で使用されることも増えてきている。このような場合、反射光の強度は特に大きくなるので、装着者の疲労は非常に大きくなってしまう。
　そこで、本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的とするところは、眼鏡用保護具の使用者の眼に入射しうる反射光の発生を抑制し、ひいては、使用者の疲労を低減することが可能な、新規かつ改良された眼鏡用保護具を提供することにある。
　上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、眼鏡のレンズ面を保護するレンズ面保護部を備え、レンズ面保護部は、基材フィルムと、基材フィルムの表面に形成され、凹凸の平均周期が可視光波長以下であるミクロ凹凸構造と、を備える、眼鏡用保護具が提供される。
　ここで、レンズ面保護部の長さ方向両端に形成され、眼鏡のテンプルを保護する複数のテンプル保護部を有し、テンプル保護部は、眼鏡用保護具を眼鏡のテンプルに装着可能な装着部を備えてもよい。
　また、装着部は、眼鏡のテンプルが挿入される複数の挿入孔を備え、複数の挿入孔は、テンプルの挿入方向に並べられていてもよい。
　また、装着部は、隣接する挿入孔の間を斜め方向に横断する横断切込み孔と、複数の挿入孔及び横断切込み孔によって形成される上側保持部及び下側保持部と、を備えていてもよい。
　また、横断切込み孔は、複数のテンプル保護部のうち、一方のテンプル保護部に形成されていてもよい。
　また、装着部は、挿入孔の外縁から挿入孔の外側に向かって伸びる一または複数の補助切込み孔と、補助切込み孔によって前記挿入孔の周囲に形成される補助保持部と、を備えていてもよい。
　また、ミクロ凹凸構造は、紫外線硬化性樹脂の硬化物で構成されていてもよい。
　また、ミクロ凹凸構造は親水性を有していてもよい。
　また、レンズ面保護部の面内リタデーション値が可視光波長に対して１００ｎｍ以下であってもよい。
　本発明の他の観点によれば、上記の眼鏡用保護具が積層されている、眼鏡用保護具積層体が提供される。
　本発明の上記観点によれば、眼鏡用保護具のレンズ面保護部にミクロ凹凸構造が形成されているので、眼鏡用保護具の使用者の眼に入射しうる反射光の発生を抑制することができる。
　以上説明したように本発明によれば、眼鏡用保護具の使用者の眼に入射しうる反射光の発生を抑制し、ひいては、使用者の疲労を低減することができる。
本実施形態に係る眼鏡用保護具を示す正面図である。 眼鏡用保護具を眼鏡に装着した状態を示す斜視図である。 レンズ面保護部の一例を示す断面図である。 レンズ面保護部の一例を示す斜視図である。 レンズ面保護部の変形例を示す断面図である。 挿入孔及びその周辺構造の一例を示す説明図である。 レンズ面保護部とテンプル保護部との境界線に切込み溝を施した状態を示す正面図である。 レンズ面保護部の上端部に切込み溝を施した状態を示す正面図である。 眼鏡用保護具積層体を示す側断面図である。 ミクロ凹凸構造が周面に形成された原盤の外観例を示す斜視図である。 露光装置の構成例を示すブロック図である。 反射防止フィルムの製造工程を示す側断面図である。 反射防止フィルムをロールツーロールで製造する転写装置の一例を示す模式図である。
　以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
　＜１．全体構成＞
　まず、図１及び図２に基づいて、本実施形態に係る眼鏡用保護具１の全体構成を説明する。眼鏡用保護具１は、レンズ面保護部２と、複数のテンプル保護部３とを備える。レンズ面保護部２は、眼鏡４のレンズ面４ａを保護する。テンプル保護部３は、レンズ面保護部２の長さ方向の両端に形成されており、眼鏡４のテンプル５を保護する。テンプル保護部３は、装着部３Ａ、３Ｂを有する。装着部３Ａ、３Ｂによって、眼鏡用保護具１が眼鏡４に装着され、または眼鏡４から脱着される。眼鏡用保護具１は、眼鏡４のレンズ面４ａ及びテンプル５を保護することによって、眼鏡用保護具１の使用者（以下、単に「使用者」とも称する）を各種の飛来物（例えば血液、体液などの液体、各種塊状体等）から保護する。
　ここで、眼鏡用保護具１が装着される眼鏡４の種類は特に制限されない。眼鏡４の例としては、例えば、各種矯正用眼鏡、手術用ルーペ（テンプル５を備えるもの）、３Ｄ画像用の眼鏡等が挙げられる。３Ｄ画像用の眼鏡は、各種表示装置が表示する３Ｄ画像を視認する際に使用されるものであってもよい。ここで、３Ｄ画像は、右目用画像と左目用画像とで構成される。右目用画像と左目用画像とは互いに異なる。特に、近年の手術では、低侵襲な鏡視下手術が行われることが多くなってきている。そして、鏡視下手術を行うための内視鏡装置として、施術対象物の立体観察が可能な３Ｄ内視鏡装置が採用されつつある。３Ｄ内視鏡装置は、施術対象物の３Ｄ画像を表示する。３Ｄ内視鏡装置に適用される３Ｄ方式としては、例えば円偏光方式が挙げられる。本実施形態に係る眼鏡用保護具１は、このような３Ｄ内視鏡装置に使用される眼鏡にも適用可能である。
　＜２．レンズ面保護部の構成＞
　次に、図１～図４に基づいて、レンズ面保護部２の詳細構成について説明する。レンズ面保護部２は、上述したように、眼鏡４のレンズ面４ａを保護する部材である。すなわち、レンズ面保護部２は、眼鏡用保護具１が眼鏡４に装着された際に、レンズ面４ａの外側に配置される。レンズ面保護部２は、レンズ面４ａよりも広いことが好ましい。レンズ面保護部２は、図３に示すように、基材フィルム１１と、ミクロ凹凸構造１２とを備える。
　（２－１．基材フィルムの構成）
　基材フィルム１１は、少なくとも透明性を有する材料で構成される。基材フィルムを構成する材料は、透明性を有するものであれば特に制限されない。例えば、基材フィルム１１の屈折率は、１．３０～２．００であることが好ましく、１．３４～２．００であることが好ましい。基材フィルムを構成する材料は、透明性の他に可撓性を有していることが好ましい。基材フィルムを構成する材料としては、例えばプラスチック材料等が挙げられる。
　ここで、基材フィルム１１に適用可能なプラスチック材料としては、例えば、メチルメタクリレート（共）重合体、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリスチレン、スチレン（共）重合体、メチルメタクリレート－スチレン共重合体、ポリメチルメタクリレート、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリビニルアルコール、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、シクロオレフィン、ポリスルフォン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリウレタン、ガラス等が挙げられるが、これらには限定されない。
　基材フィルム１１が上記のプラスチック材料で構成される場合、基材フィルム１１は、上記のプラスチック材料を伸延、あるいは溶剤に希釈後フィルム状に成膜して乾燥するなどの方法で作製される。
　また、基材フィルム１１が上記のプラスチック材料で構成される場合、基材フィルム１１の表面には、各種の下地層を形成してもよい。下地層を形成することで、基材フィルム１１の表面自由エネルギー、各種材料（例えばミクロ凹凸構造１２の材料となる光硬化性樹脂）の塗布性、表面のすべり性、平面性などを改善することができる。下地層を構成する材料は上記目的を達成できるものであれば特に制限されない。下地層を構成する材料としては、例えば、オルガノアルコキシメタル化合物、ポリエステル、アクリル変性ポリエステル、ポリウレタンなどが挙げられる。また、下地層を形成する代わりに、基材フィルム１１の表面にコロナ放電処理、ＵＶ照射処理などを行ってもよい。
　また、眼鏡４が円偏光方式の３Ｄ画像の視認に使用される場合、眼鏡用保護具１には、偏光の乱れを抑制することが求められる。眼鏡用保護具１によって３Ｄ画像の偏光が乱れると、クロストーク等の問題が生じる。ここで、クロストークとは、右目用画像が左目で視認され、左目用画像が右目で視認されることを意味する。３Ｄ画像の視認性を向上するためには、クロストークはなるべく生じないことが好ましい。クロストークの尺度としては、クロストーク値が知られており、３Ｄ画像として許容されるクロストーク値の範囲は５～１０％とされる場合がある。
　クロストーク値を上記の範囲内に収めるための方法の一つとして、眼鏡用保護具１の面内リタデーション値を可視光波長に対して１００ｎｍ以下にすることが挙げられる。そして、眼鏡用保護具１の面内リタデーション値を上記範囲内の値とする方法の一つとして、基材フィルム１１を無延伸フィルムで構成することが挙げられる。無延伸フィルムは、延伸フィルムよりも分子配向性が小さく、配向ムラも小さいので、面内リタデーション値を小さくすることができ、ひいては、クロストーク値を小さくすることができる。
　したがって、眼鏡４が円偏光方式の３Ｄ画像の視認に使用される場合、基材フィルム１１は、無延伸フィルムで構成されることが好ましい。この場合、眼鏡用保護具１の面内リタデーション値を可視光波長に対して１００ｎｍ以下にすることができる。無延伸フィルムを構成する材料としては、上記で列挙した材料のうち、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリエステル、ポリエチレンナフタレート、ポリスチレン、ポリウレタン、ポリビニルアルコール、ポリメチルメタクリレート、シクロオレフィン、ポリプロピレン、ポリエチレンなどが挙げられる。耐衝撃性や汎用性の観点からは、ポリカーボネートが好ましい。
　なお、眼鏡用保護具１の面内リタデーション値は１００ｎｍ以下が好ましく、３０ｎｍ以下がより好ましく、２０ｎｍ以下がより好ましい。眼鏡用保護具１の面内リタデーション値をこれらの範囲内の値にすることで、クロストークをより抑制することができる。眼鏡用保護具１の面内リタデーション値は、例えば、上記で列挙した無延伸フィルムの材料及び基材フィルム１１の厚さを選択することで調整可能である。また、リタデーション値は、各種の位相差測定装置等で測定可能である。
　基材フィルム１１の厚さは特に制限されず、眼鏡用保護具１の用途に応じて適宜選択されればよい。基材フィルム１１の厚さは、例えば１０～５００μｍ程度であってもよい。なお、本実施形態「フィルム」には、「シート」、「プレート」等が含まれるものとする。
　（２－２．ミクロ凹凸構造の構成）
　つぎに、ミクロ凹凸構造１２の構成について説明する。ミクロ凹凸構造１２は、基材フィルム１１の膜厚方向に凸である複数の凸部１２ａと、基材フィルム１１の膜厚方向に凹である複数の凹部１２ｂとを有する。凸部１２ａ及び凹部１２ｂは、基材フィルム１１上に周期的に配置される。図４の例では、凸部１２ａ及び凹部１２ｂは千鳥格子状に配置される。もちろん、凸部１２ａ及び凹部１２ｂは他の配列パターンで配置されていても良い。例えば、凸部１２ａ及び凹部１２ｂは矩形格子状に配置されていても良い。また、凸部１２ａ及び凹部１２ｂは、ランダムに配置されていてもよい。凸部１２ａ及び凹部１２ｂの形状は特に制限されない。凸部１２ａ及び凹部１２ｂの形状は、例えば錐体状、柱状、針状であってもよい。なお、凹部１２ｂの形状は、凹部１２ｂの内壁面によって形成される形状を意味する。
　ミクロ凹凸構造１２の凹凸の平均周期は、可視光波長以下（例えば、８３０ｎｍ以下）であり、好ましくは、１００ｎｍ以上３５０ｎｍ以下であり、さらに好ましくは１５０ｎｍ以上２８０ｎｍ以下である。したがって、ミクロ凹凸構造１２は、いわゆるモスアイ構造となっている。ここで、平均周期が１００ｎｍ未満である場合、ミクロ凹凸構造１２の形成が困難になる可能性があるため好ましくない。また、平均周期が３５０ｎｍを超える場合、可視光の回折現象が生じる可能性があるため好ましくない。
　ミクロ凹凸構造１２の平均周期は、互いに隣り合う凸部１２ａ間及び凹部１２ｂ間の距離の算術平均値である。なお、ミクロ凹凸構造１２は、例えば走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、あるいは断面透過型電子顕微鏡（断面ＴＥＭ）等によって観察可能である。また、平均周期の算出方法は例えば以下の通りである。すなわち、隣り合う凹部１２ｂの組み合わせ、及び隣り合う凸部１２ａの組み合わせを複数個ピックアップし、これらの距離を測定する。そして、測定値を算術平均することで、平均周期を算出すればよい。なお、図３及び図４では、ミクロ凹凸構造１２は基材フィルム１１の両面に形成されているが、少なくとも一方の表面に形成されていればよい。
　ミクロ凹凸構造１２は、硬化性樹脂の硬化物で構成される。硬化性樹脂の硬化物は、少なくとも透明性を有することが求められる。例えば、硬化性樹脂の硬化物の屈折率は、基材フィルム１１と同程度であることが好ましい。この場合、レンズ面保護部２の内部反射を抑制することができるので、眼鏡用保護具１が視認する画像のコントラストを向上することができる。
　硬化性樹脂は、重合性化合物と硬化開始剤とを含む。重合性化合物は、硬化開始剤によって重合することで硬化する樹脂である。重合性化合物としては、例えばエポキシ重合性化合物、及びアクリル重合性化合物等が挙げられる。エポキシ重合性化合物は、分子内に１つまたは２つ以上のエポキシ基を有するモノマー、オリゴマー、またはプレポリマーである。エポキシ重合性化合物としては、各種ビスフェノール型エポキシ樹脂（ビスフェノールＡ型、Ｆ型等）、ノボラック型エポキシ樹脂、ゴムおよびウレタン等の各種変性エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、及びこれらのプレポリマー等が挙げられる。
　アクリル重合性化合物は、分子内に１つまたは２つ以上のアクリル基を有するモノマー、オリゴマー、またはプレポリマーである。ここで、モノマーは、さらに分子内にアクリル基を１つ有する単官能モノマー、分子内にアクリル基を２つ有する二官能モノマー、分子内にアクリル基を３つ以上有する多官能モノマーに分類される。
　「単官能モノマー」としては、例えば、カルボン酸類（アクリル酸）、ヒドロキシ類（２－ヒドロキシエチルアクリレート、２－ヒドロキシプロピルアクリレート、４－ヒドロキシブチルアクリレート）、アルキル又は脂環類のモノマー（イソブチルアクリレート、ｔ－ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート）、その他機能性モノマー（２－メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、２－エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、Ｎ－イソプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチルアクリルアミド、Ｎ－ビニルピロリドン、２－（パーフルオロオクチル）エチルアクリレート、３－パーフルオロヘキシル－２－ヒドロキシプロピルアクリレート、３－パーフルオロオクチル－２－ヒドロキシプロピル－アクリレート、２－（パーフルオロデシル）エチル－アクリレート、２－（パーフルオロ－３－メチルブチル）エチルアクリレート）、２，４，６－トリブロモフェノールアクリレート、２，４，６－トリブロモフェノールメタクリレート、２－（２，４，６－トリブロモフェノキシ）エチルアクリレート）、２－エチルヘキシルアクリレートなどが挙げられる。
　「二官能モノマー」としては、例えば、トリ（プロピレングリコール）ジアクリレート、トリメチロールプロパン－ジアリルエーテル、ウレタンアクリレートなどが挙げられる。
　「多官能モノマー」としては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレートなどが挙げられる。
　上記で列挙したアクリル重合性化合物以外の例としては、アクリルモルフォリン、グリセロールアクリレート、ポリエーテル系アクリレート、Ｎ－ビニルホルムアミド、Ｎ－ビニルカプロラクトン、エトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、ポリエチレングリコールアクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート、脂肪族ウレタンオリゴマー、ポリエステルオリゴマー等が挙げられる。
　上記で列挙したアクリル重合性化合物のうち、２－ヒドロキシエチルアクリレート、アクリルモルフォリン、グリセロールアクリレート、ポリエーテル系アクリレート、Ｎ－ビニルホルムアミド、Ｎ－ビニルピロリドン、Ｎ－ビニルカプロラクトン、エトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、ポリエチレングリコールアクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート、脂肪族ウレタンオリゴマー、ポリエステルオリゴマーなどが特に好ましい。
　硬化開始剤は、硬化性樹脂を硬化させる材料である。硬化開始剤の例としては、例えば、熱硬化開始剤、光硬化開始剤等が挙げられる。硬化開始剤は、熱、光以外の何らかのエネルギー線（例えば電子線）等によって硬化するものであってもよい。硬化開始剤が熱硬化開始剤となる場合、硬化性樹脂は熱硬化性樹脂となり、硬化開始剤が光硬化開始剤となる場合、硬化性樹脂は光硬化性樹脂となる。
　ここで、硬化開始剤は、紫外線硬化開始剤であることが好ましい。したがって、硬化性樹脂は、紫外線硬化性樹脂であることが好ましい。紫外線硬化開始剤は、光硬化開始剤の一種である。紫外線硬化開始剤としては、例えば、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン、１－ヒドロキシ－シクロヘキシルフェニルケトン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オンなどが挙げられる。
　硬化性樹脂は、眼鏡用保護具１の用途等に応じて各種の添加剤を添加してもよい。このような添加剤としては、例えば、無機フィラー、有機フィラー、レベリング剤、表面調整剤、消泡剤などが挙げられる。なお、無機フィラーの種類としては、例えば、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、Ａｌ２Ｏ３などの金属酸化物微粒子が挙げられる。
　ミクロ凹凸構造１２には、眼鏡用保護具１の用途等に応じて各種の特性（例えば、親水性、撥水性等）を付与してもよい。例えば、眼鏡用保護具１の用途等に応じてミクロ凹凸構造１２に親水性または撥水性を付与することで、眼鏡用保護具１を曇りにくくすることができる。本実施形態では、ミクロ凹凸構造１２は、親水性を有することが好ましい。ミクロ凹凸構造１２を構成する硬化物に親水性を付与する方法としては、例えば、上述した重合性化合物として親水性の官能基（水酸基、カルボキシル基、およびカルボニル基など）を有する化合物を使用することが挙げられる。
　図３、４では、基材フィルム１１の両面にミクロ凹凸構造１２が形成されている。これらのミクロ凹凸構造１２の材質、特性は同じであっても良いが、異なっていてもよい。すなわち、眼鏡用保護具１の用途等に応じてこれらのミクロ凹凸構造１２の材質、特性を決定すれば良い。
　このように、本実施形態に係るレンズ面保護部２は、ミクロ凹凸構造１２を備えるので、レンズ面保護部２に優れた反射防止機能を付与することができる。具体的には、光がレンズ面保護部２の表面に入射する際に、光の進行方向上の屈折率が連続的に変化する。なお、光の進行方向上のいずれかの部分で屈折率が急激に変化する場合、その部分が光学的な界面となる。そして、その部分で光が反射する。本実施形態では、レンズ面保護部２の表面にはミクロ凹凸構造１２が形成されているので、この部分で屈折率が連続的に変化する。すなわち、レンズ面保護部２の表面は光学的な界面になりにくい。このため、レンズ面保護部２は光を反射しにくい。そして、光の進行方向上の屈折率は、光がどのような入射角度でレンズ面保護部２に入射する場合であっても、連続的に変化する。したがって、ミクロ凹凸構造１２によって、レンズ面保護部２の正反射率を反射角度によらず５％以下、好ましくは１％以下、更に好ましくは０．５％とすることができる。なお、正反射率の値は、ミクロ凹凸構造１２の平均周期等を調整することで調整可能である。また、基材フィルム１１の両面にミクロ凹凸構造１２を形成することで、正反射率を大きく低減することができる。
　特に、無影灯等のように照度が極めて大きい（例えば１０００００ルクス以上）光源の下で眼鏡用保護具１を使用した場合であっても、眼鏡用保護具１の使用者の眼に入射しうる反射光の発生を抑制し、ひいては、反射光による幻惑、眼精疲労を低減することができる。すなわち、眼鏡用保護具１は、医療用の眼鏡用保護具として好適に使用可能となる。
　ここで、ミクロ凹凸構造１２は基材フィルム１１と一体形成されてもよい。この場合、基材フィルム１１は、ミクロ凹凸構造１２を構成する材料、すなわち硬化性樹脂で構成される。また、図５に示すように、基材フィルム１１とミクロ凹凸構造１２との間に基底層１３を形成してもよい。基底層１３は、例えばミクロ凹凸構造１２と同じ材料で構成される。基材フィルム１１とミクロ凹凸構造１２との間に基底層１３を形成することで、基材フィルム１１とミクロ凹凸構造１２との密着性を向上することができる。なお、基材フィルム１１上に基底層１３を形成した後に基底層１３上にミクロ凹凸構造１２を形成してもよいし、ミクロ凹凸構造１２及び基底層１３を一体として基材フィルム１１上に形成しても良い。
　＜３．テンプル保護部の構成＞
　次に、図１、図２、及び図６に基づいて、テンプル保護部３の構成について説明する。上述したように、テンプル保護部３は、レンズ面保護部２の長さ方向の両端に設けられており、眼鏡４のテンプル５を保護する。すなわち、テンプル保護部３は、眼鏡用保護具１が眼鏡４に装着された際に、テンプル５の外側に配置される。テンプル保護部３の上下方向の長さは、テンプル５の上下方向の長さよりも長いことが好ましい。詳細は後述するが、本実施形態では、基材フィルム１１及びミクロ凹凸構造１２を有する反射防止フィルム１１０を眼鏡用保護具１の形状に切り出すことで、眼鏡用保護具１を作製する。したがって、テンプル保護部３も基材フィルム１１及びミクロ凹凸構造１２を有する。ただし、テンプル保護部３は必ずしも反射防止機能を要求されないので、テンプル保護部３はレンズ面保護部２と異なるフィルムで形成されていても良い。この場合、テンプル保護部３とレンズ面保護部２とを別々に作製し、これらを接合することで、眼鏡用保護具１を作製すればよい。テンプル保護部３は、左側のテンプル５を保護する左側テンプル保護部３１と、右側のテンプル５を保護する右側テンプル保護部３２とに区分される。左側テンプル保護部３１は装着部３Ａを有し、右側テンプル保護部３２は装着部３Ｂを有する。装着部３Ａ、３Ｂは、いずれも眼鏡用保護具１を眼鏡４に装着し、または眼鏡用保護具１を眼鏡４から脱着するものである。
　（３－１．装着部３Ａの構成）
　次に、図１～図２に基づいて、装着部３Ａの構成を説明する。装着部３Ａは、挿入孔１５、１６と、補助切込み孔１７と、補助保持部１８とを備える。
　挿入孔１５、１６は、テンプル５が装入される孔である。挿入孔１５、１６は、テンプル５の挿入方向に略垂直な方向に伸びている。挿入孔１５、１６の上下方向の長さは、テンプル５の上下方向の長さ（高さ）以上となる。また、挿入孔１５、１６は、互いに略平行に伸びており、テンプル５の挿入方向に並べられている。挿入孔１５、１６は、左側テンプル保護部３１に切込み孔を形成することで作製される。挿入孔１５、１６と同様の機能を有する挿入孔をさらに形成してもよい。すなわち、挿入孔は３つ以上であってもよい。
　補助切込み孔１７は、挿入孔１５、１６の外縁から外側に向かって伸びる切込み孔である。補助切込み孔は、挿入孔１５、１６の各々に複数形成されることが好ましいが、挿入孔１５、１６の各々に１本以上形成されれば良い。また、挿入孔１５、１６だけでテンプル５を十分に保持できる場合、補助切込み孔１７は省略されてもよい。図１に示すように、補助切込み孔１７は挿入孔１５、１６から直角方向に伸びていることが好ましいが、補助切込み孔１７は挿入孔１５、１６から斜め方向に伸びていてもよい。
　補助保持部１８は、補助切込み孔１７によって挿入孔１５、１６の周囲に形成される部分であり、テンプル５が挿入孔１５、１６に挿入された際に、テンプル５を保持する。
　装着部３Ａは、以下のようにテンプル５を保持する。すなわち、使用者は、眼鏡用保護具１の裏面側に眼鏡４を配置し、テンプル５を挿入孔１５、１６にこの順序で装入する。挿入孔１５、１６は、テンプル５を保持する。さらに、左側テンプル保護部３１を構成する各部分のうち、挿入孔１５、１６の間に配置された部分と、挿入孔１５、１６の外側に配置された部分とによってテンプル５を挟み込む。すなわち、これらの部分は、弾性復元力によってテンプル５を挟み込む。さらに、補助保持部１８によってもテンプル５が保持される。
　このように、装着部３Ａは、挿入孔１５、１６、挿入孔１５、１６の間に配置された部分と、挿入孔１５、１６の外側に配置された部分、及び補助保持部１８によってテンプル５を保持する。また、補助保持部１８によってテンプル５をさらに強固に保持することができるので、挿入孔１５、１６の上下方向の長さがテンプル５の上下方向の長さよりも長い場合であっても、テンプル５の位置ずれ、がたつき等を抑制することができる。なお、使用者は、テンプル５を挿入方向に沿って移動させることができる。これにより、使用者は、眼鏡用保護具１の装着位置を調整することができる。
　（３－２．装着部３Ｂの構成）
　次に、図１～図２に基づいて、装着部３Ｂの構成を説明する。装着部３Ｂは、挿入孔２１、２２と、横断切込み孔２３と、上側保持部２０Ａと、下側保持部２０Ｂと、補助切込み孔２４と、補助保持部２５とを備える。
　挿入孔２１、２２、補助切込み孔２４、及び補助保持部２５は、挿入孔１５、１６、補助切込み孔１７、及び補助保持部１８と同様である。
　横断切込み孔２３は、隣接する挿入孔２１、２２の間を斜め方向に横断する切込み孔である。上側保持部２０Ａ及び下側保持部２０Ｂは、挿入孔２１、２２及び横断切込み孔２３によって形成される部分である。すなわち、右側テンプル保護部３２を構成する各部分のうち、挿入孔２１、２２の間に配置された部分は、横断切込み孔２３によって上側保持部２０Ａ及び下側保持部２０Ｂに分離される。
　装着部３Ｂは、以下のようにテンプル５を保持する。すなわち、使用者は、左側テンプル保護部３１をテンプル５に固定する。ついで、使用者は、装着部３Ａを眼鏡４のレンズ面４ａ側に寄せる。ついで、使用者は、レンズ面保護部２でレンズ面４ａを覆い、テンプル５の外側に右側テンプル保護部３２を配置する。ついで、使用者は、上側保持部２０Ａ及び下側保持部２０Ｂを外側から押しこむことで、テンプル５の内側に上側保持部２０Ａ及び下側保持部２０Ｂを配置する。
　これにより、挿入孔２１、２２は、テンプル５を保持する。さらに、上側保持部２０Ａ及び下側保持部２０Ｂと、挿入孔２１、２２の外側に配置された部分とによってテンプル５を挟み込む。すなわち、これらの部分は、弾性復元力によってテンプル５を挟み込む。さらに、補助保持部２５によってもテンプル５が保持される。
　このように、装着部３Ｂは、挿入孔２１、２２、上側保持部２０Ａ、下側保持部２０Ｂ、挿入孔２１、２２の外側に配置された部分、及び補助保持部２５によってテンプル５を保持する。また、補助保持部２５によってテンプル５をさらに強固に保持することができるので、挿入孔２１、２２の上下方向の長さがテンプル５の上下方向の長さよりも長い場合であっても、テンプル５の位置ずれ、がたつき等を抑制することができる。なお、使用者は、テンプル５を挿入方向に沿って移動させることができる。これにより、使用者は、眼鏡用保護具１の装着位置を調整することができる。
　さらに、上側保持部２０Ａと下側保持部２０Ｂとの間には横断切込み孔２３が形成されている。このため、使用者は、右側テンプル保護部３２をテンプル５から脱着する際には、上側保持部２０Ａ及び下側保持部２０Ｂを上下方向に押しのけつつ、テンプル５を右側テンプル保護部３２から脱着すればよい。このように、使用者は、右側テンプル保護部３２をテンプル５から容易に脱着することができる。
　さらに、左側テンプル保護部３１には装着部３Ａが形成され、右側テンプル保護部３２には装着部３Ｂが形成されている。言い換えれば、横断切込み孔２３は、装着部３Ｂのみに形成されている。したがって、眼鏡用保護具１は、装着部３Ａ、３Ｂによってテンプル保護部３をテンプル５に強固に保持しつつ、装着部３Ｂからテンプル５を容易に脱着することができる。このため、仮に装着部３Ｂからテンプル５が脱落したとしても、装着部３Ａによってテンプル５を強固に保持することができる。すなわち、眼鏡用保護具１は、眼鏡４から落下しにくくなる。なお、装着部３Ａ、３Ｂの設置位置を左右逆転させてもよい。さらに、左側テンプル保護部３１及び右側テンプル保護部３２の双方に装着部３Ａを形成してもよく、双方に装着部３Ｂを形成してもよい。ただし、強固な保持と容易な脱着とを両立するためには、一方のテンプル保護部３に装着部３Ａを、他方のテンプル保護部３に装着部３Ｂを形成することが好ましい。
　また、装着部３Ａ、３Ｂによる保持力では十分でない場合、例えば装着部３Ｂとテンプル５とを接着テープ等で貼りあわせても良い。また、装着部３Ａ、３Ｂは省略されてもよく、この場合、接着テープ等によってテンプル保護部３をテンプル５に固定してもよい。
　（３－３．破断抑制孔の構成）
　また、図６（Ａ）、（Ｂ）に示すように、挿入孔１５、１６、２１、２２の上下端には、破断抑制孔２６Ａ、２６Ｂを形成してもよい。破断抑制孔２６Ａは、挿入孔１５、１６、２１、２２の長さ方向に垂直な方向に伸びる切込み孔である。破断抑制孔２６Ａは、挿入孔１５、１６、２１、２２の長さ方向に交差する方向に伸びていれば良い。破断抑制孔２６Ｂは、その直径が挿入孔１５、１６、２１、２２の幅よりも大きな孔である。挿入孔１５、１６、２１、２２の上下端に破断抑制孔２６Ａ、２６Ｂを形成することで、テンプル５の着脱時等に大きな負荷が挿入孔１５、１６、２１、２２の上下端に掛かった場合に、テンプル保護部３の破断を抑制することができる。
　（３－４．切込み溝の構成）
　また、図７に示すように、レンズ面保護部２とテンプル保護部３との境界線３０に第１の切込み溝３０Ａを形成してもよい。第１の切込み溝３０Ａは、眼鏡用保護具１の表面（使用者に対向する面と反対側の面）に形成される。第１の切込み溝３０Ａは、眼鏡用保護具１を貫通しない。すなわち、第１の切込み溝３０Ａの深さは、眼鏡用保護具１の厚さよりも小さい。例えば、第１の切込み溝３０Ａの深さは、眼鏡用保護具１の厚さの半分程度となる。レンズ面保護部２とテンプル保護部３との境界線３０に第１の切込み溝３０Ａを形成することで、眼鏡用保護具１を眼鏡４の形状に沿って変形しやすくなる。例えば、右側テンプル保護部３２とレンズ面保護部２との間に第１の切込み溝３０Ａが存在しない場合、右側テンプル保護部３２は、その弾性復元力によってテンプル５から外れる可能性がある。しかし、右側テンプル保護部３２とレンズ面保護部２との間に第１の切込み溝３０Ａを形成することで、右側テンプル保護部３２をテンプル５から外れにくくすることができる。
　また、図８に示すように、レンズ面保護部２の上端側を横断する第２の切込み溝３３を形成してもよい。第２の切込み溝３３は、眼鏡用保護具１の表面（使用者に対向する面と反対側の面）に形成される。第２の切込み溝３３は、眼鏡用保護具１を貫通しない。すなわち、切込み溝３３の深さは、眼鏡用保護具１の厚さよりも小さい。例えば、切込み溝３３の深さは、眼鏡用保護具１の厚さの半分程度となる。レンズ面保護部２の上端側を横断する第２の切込み溝３３を形成することで、使用者は、レンズ面保護部２の上端側を内側（使用者側）に容易に折り曲げることができる。この場合、眼鏡用保護具１は、飛来物からより確実に使用者を保護することができる。
　＜４．眼鏡用保護具の使用方法＞
　次に、眼鏡用保護具１の使用方法について説明する。使用者は、以下の方法で眼鏡用保護具１を眼鏡４に装着する。まず、使用者は、眼鏡用保護具１の裏面側に眼鏡４を配置し、テンプル５を挿入孔１５、１６にこの順序で装入する。これにより、使用者は、左側テンプル保護部３１をテンプル５に保持する。ついで、使用者は、装着部３Ａを眼鏡４のレンズ面４ａ側に寄せる。ついで、使用者は、レンズ面保護部２でレンズ面４ａを覆い、テンプル５の外側に右側テンプル保護部３２を配置する。ついで、使用者は、上側保持部２０Ａ及び下側保持部２０Ｂを外側から押しこむことで、上側保持部２０Ａ及び下側保持部２０Ｂの内側に配置させる。これにより、使用者は、右側テンプル保護部３２をテンプル５に保持する。以上の工程により、使用者は、眼鏡用保護具１を眼鏡４に装着する。その後、使用者は、眼鏡用保護具１が装着された眼鏡４を装着し、各種の作業を行う。
　使用者は、以下の方法で眼鏡用保護具１を眼鏡４から脱着する。まず、使用者は、上側保持部２０Ａ及び下側保持部２０Ｂを上下方向に押しのけつつ、テンプル５を右側テンプル保護部３２から脱着する。ついで、使用者は、テンプル５を挿入孔１５、１６から引き抜く。これにより、使用者は、左側テンプル保護部３１をテンプル５から脱着する。以上の工程により、使用者は、眼鏡用保護具１を眼鏡４から脱着する。
　このように、眼鏡用保護具１は、眼鏡４に装着されることで、使用者を各種の飛来物から保護することができる。さらに、レンズ面保護部２は、透明性のある材料で構成され、かつ、面内リタデーション値が可視光波長に対して１００ｎｍ以下となっている。したがって、眼鏡用保護具１は、使用者が３Ｄ画像を視認する場合であっても、使用者の視認性、作業性を維持することができる。
　さらに、レンズ面保護部２の表面にはミクロ凹凸構造１２が形成されているので、眼鏡用保護具１の使用者の眼に入射しうる反射光の発生を抑制することができる。したがって、使用者の反射光による幻惑、眼精疲労を抑制することができる。また、ミクロ凹凸構造１２は、液晶ディスプレイ等に用いられる特定波長に対応した反射防止フィルムよりも広い波長帯域で反射光の発生を抑制することができる。したがって、使用者がレンズ面保護部２を介して作業対象物を視認した場合と、使用者がレンズ面保護部２を介さずに作業対象物を視認した場合とで、ほぼ同様の色みの作業対象物を視認できる。また、眼鏡用保護具１を装着した使用者は、周囲の照度が大きく変化しても、照度の変化に容易に対応できる。なお、眼鏡用保護具１は、医療用のみならず、様々な用途に使用可能である。
　なお、図９に示すように、複数の眼鏡用保護具１を積層することで眼鏡用保護具積層体５０を形成してもよい。複数の眼鏡用保護具１は、接着層５１によって互いに接着されている。また、各眼鏡用保護具１は、脱着可能となっている。接着層５１は、複数の眼鏡用保護具１の界面の一部のみに形成されていてもよい。この場合、界面の一部は空間５２となる。この場合、接着層５１は、使用者の視界を妨げない位置、例えばレンズ面保護部２の外周部分、テンプル保護部３等に形成されることが好ましい。テンプル保護部３に接着層５１を形成する場合、接着層５１は、例えばテンプル保護部３の上下方向に渡って所定長さで形成されてもよい。あるいは、接着層５１は、テンプル保護部３の上下方向に渡って所定間隔毎に形成されてもよい。接着層５１は、複数の眼鏡用保護具１の界面の一部のみに形成される場合、眼鏡用保護具１の剥離性が向上する。また、接着層５１が眼鏡用保護具積層体５０に残留しにくいので、接着層５１の残留物（残渣）による視認性の低下も抑制することができる。また、接着層５１による眼鏡用保護具積層体５０の厚みの変動も抑制することができる。
　また、複数の眼鏡用保護具１は、これらの界面で互いに接触していてもよく、接触していなくてもよい。また、ミクロ凹凸構造１２の凸部１２ａの先端同士が接触していてもよく、接触していなくてもよい。また、一方の眼鏡用保護具１の凸部１２ａが他方の眼鏡用保護具１の凹部１２ｂ内に侵入していてもよい。また、ミクロ凹凸構造１２の凸部１２ａ及び凹部１２ｂが規則的に配列されている場合、複数の眼鏡用保護具１の界面での接着性が良好となる。
　複数の眼鏡用保護具１を積層することで、上記の効果に加え、以下の効果が期待できる。すなわち、使用者は、最表面の眼鏡用保護具１が飛来物で汚染された場合に、その眼鏡用保護具１を眼鏡用保護具積層体５０から引き剥がすことができる。この場合、使用者は、飛来物によって視界が妨げられた場合であっても、すぐに視界を回復することができる。また、使用者は、飛来物によって視界が妨げられた場合であっても、飛来物を眼鏡用保護具積層体５０から除去する（例えば拭き取る）必要がない。また、飛来物が人体に有害なものである場合、そもそも使用者は飛来物に接触すべきではない。この場合、使用者は、飛来物に接触することなく、視界を回復することができる。
　また、複数の眼鏡用保護具１の界面に空間５２が形成されたとしても、当該空間５２によって透過性はほとんど損なわれない。また、ミクロ凹凸構造１２によって複数の眼鏡用保護具１の界面での反射光の発生を抑制することができる。なお、眼鏡用保護具積層体５０の透過性を最優先とする場合には、接着層５１を複数の眼鏡用保護具１の界面の全域に形成してもよい。この場合、接着層５１の屈折率が視認性を妨げない程度の値となるように、接着層５１の組成が選択される。
　＜５．原盤の構成＞
　ミクロ凹凸構造１２は、図１０に示す原盤４０を用いて作製される。そこで、次に、原盤４０の構成について説明する。原盤４０は、例えば、ナノインプリント法で使用される原盤であり、円筒形状となっている。原盤４０は円柱形状であっても、他の形状（例えば平板状）であってもよい。ただし、原盤４０が円柱または円筒形状である場合、ロールツーロール方式によって原盤４０のミクロ凹凸構造４２を樹脂基材等にシームレスで転写することができる。これにより、原盤４０のミクロ凹凸構造４２が転写された反射防止フィルム１１０（図１３参照）を高い生産効率で作製することができる。なお、反射防止フィルム１１０は、基材フィルム１１とミクロ凹凸構造１２とを有するフィルムであり、反射防止フィルム１１０を眼鏡用保護具１の形状に切り出すことで、眼鏡用保護具１が作製される。このような観点からは、原盤４０の形状は、円筒形状または円柱形状であることが好ましい。
　原盤４０は、原盤基材４１と、原盤基材４１の表面に形成されたミクロ凹凸構造４２とを備える。原盤基材４１は、例えば、ガラス体であり、具体的には、石英ガラスで形成される。ただし、原盤基材４１は、ＳｉＯ２純度が高いものであれば、特に限定されず、溶融石英ガラスまたは合成石英ガラス等で形成されてもよい。原盤基材４１の形状は円筒形状であるが、円柱形状、他の形状であってもよい。ただし、上述のように、原盤基材４１は円筒形状または円柱形状であることが好ましい。ミクロ凹凸構造４２は、ミクロ凹凸構造１２の反転形状を有する。
　＜６．原盤の製造方法＞
　つぎに、原盤の製造方法を説明する。まず、原盤基材４１上に、基材レジスト層を形成（成膜）する。ここで、基材レジスト層を構成するレジスト材は特に制限されず、有機レジスト材及び無機レジスト材のいずれであってもよい。有機レジスト材としては、例えば、ノボラック系レジスト、または化学増幅型レジストなどが挙げられる。また、無機レジスト材としては、例えば、タングステン（Ｗ）またはモリブデン（Ｍｏ）などの１種または２種以上の遷移金属を含む金属酸化物等が挙げられる。ただし、熱反応リソグラフィを行うためには、基材レジスト層は、金属酸化物を含む熱反応型レジストで形成されることが好ましい。
　有機レジスト材を使用する場合、基材レジスト層は、スピンコーティング、スリットコーティング、ディップコーティング、スプレーコーティング、またはスクリーン印刷等を用いることで原盤基材４１上に形成されてもよい。また、基材レジスト層に無機レジスト材を使用する場合、基材レジスト層は、スパッタ法を用いることで形成されてもよい。
　次に、露光装置２００（図１１参照）により基材レジスト層の一部を露光することで、基材レジスト層に潜像を形成する。具体的には、露光装置２００は、レーザ光２００Ａを変調し、レーザ光２００Ａを基材レジスト層に対して照射する。これにより、レーザ光２００Ａが照射された基材レジスト層の一部が変性するため、基材レジスト層にミクロ凹凸構造４２に対応する潜像を形成することができる。潜像は、可視光波長以下の平均周期で基材レジスト層に形成される。
　続いて、潜像が形成された基材レジスト層上に現像液を滴下することで、基材レジスト層を現像する。これにより、基材レジスト層にミクロ凹凸構造が形成される。ついで、基材レジスト層をマスクとして原盤基材４１及び基材レジスト層をエッチングすることで、原盤基材４１上にミクロ凹凸構造４２を形成する。なお、エッチングの方法は特に制限されないが、垂直異方性を有するドライエッチングであることが好ましく、例えば、反応性イオンエッチング（Ｒｅａｃｔｉｖｅ　Ｉｏｎ　Ｅｔｃｈｉｎｇ：ＲＩＥ）であることが好ましい。以上の工程により、原盤４０を作製する。
　＜７．露光装置の構成＞
　次に、図１１に基づいて、露光装置２００の構成について説明する。露光装置２００は、基材レジスト層を露光する装置である。露光装置２００は、レーザ光源２０１と、第１ミラー２０３と、フォトダイオード（Ｐｈｏｔｏｄｉｏｄｅ：ＰＤ）２０５と、偏向光学系と、制御機構２３０と、第２ミラー２１３と、移動光学テーブル２２０と、スピンドルモータ２２５と、ターンテーブル２２７とを備える。また、原盤基材４１は、ターンテーブル２２７上に載置され、回転することができるようになっている。
　レーザ光源２０１は、レーザ光２００Ａを発する光源であり、例えば、固体レーザまたは半導体レーザなどである。レーザ光源２０１が発するレーザ光２００Ａの波長は、特に限定されないが、例えば、４００ｎｍ～５００ｎｍの青色光帯域の波長であってもよい。また、レーザ光２００Ａのスポット径（レジスト層に照射されるスポットの直径）は、ミクロ凹凸構造４２の凹部の開口面の直径より小さければよく、例えば２００ｎｍ程度であればよい。レーザ光源２０１から発せられるレーザ光２００Ａは制御機構２３０によって制御される。
　レーザ光源２０１から出射されたレーザ光２００Ａは、平行ビームのまま直進し、第１ミラー２０３で反射され、偏向光学系に導かれる。
　第１ミラー２０３は、偏光ビームスプリッタで構成されており、偏光成分の一方を反射させ、偏光成分の他方を透過させる機能を有する。第１ミラー２０３を透過した偏光成分は、フォトダイオード２０５によって受光され、光電変換される。また、フォトダイオード２０５によって光電変換された受光信号は、レーザ光源２０１に入力され、レーザ光源２０１は、入力された受光信号に基づいてレーザ光２００Ａの位相変調を行う。
　また、偏向光学系は、集光レンズ２０７と、電気光学偏向素子（Ｅｌｅｃｔｒｏ　Ｏｐｔｉｃ　Ｄｅｆｌｅｃｔｏｒ：ＥＯＤ）２０９と、コリメータレンズ２１１とを備える。
　偏向光学系において、レーザ光２００Ａは、集光レンズ２０７によって、電気光学偏向素子２０９に集光される。電気光学偏向素子２０９は、レーザ光２００Ａの照射位置を制御することが可能な素子である。露光装置２００は、電気光学偏向素子２０９により、移動光学テーブル２２０上に導かれるレーザ光２００Ａの照射位置を変化させることも可能である。レーザ光２００Ａは、電気光学偏向素子２０９によって照射位置を調整された後、コリメータレンズ２１１によって、再度、平行ビーム化される。偏向光学系から出射されたレーザ光２００Ａは、第２ミラー２１３によって反射され、移動光学テーブル２２０上に水平かつ平行に導かれる。
　移動光学テーブル２２０は、ビームエキスパンダ（Ｂｅａｍ　ｅｘｐａｄｅｒ：ＢＥＸ）２２１と、対物レンズ２２３とを備える。移動光学テーブル２２０に導かれたレーザ光２００Ａは、ビームエキスパンダ２２１により所望のビーム形状に整形された後、対物レンズ２２３を介して、原盤基材４１上に形成された基材レジスト層に照射される。また、移動光学テーブル２２０は、原盤基材４１が１回転する毎に矢印Ｒ方向（送りピッチ方向）に１送りピッチ（トラックピッチ）だけ移動する。ターンテーブル２２７上には、原盤基材４１が設置される。スピンドルモータ２２５はターンテーブル２２７を回転させることで、原盤基材４１を回転させる。
　また、制御機構２３０は、フォーマッタ２３１と、ドライバ２３３とを備え、レーザ光２００Ａの照射を制御する。フォーマッタ２３１は、レーザ光２００Ａの照射を制御する変調信号を生成し、ドライバ２３３は、フォーマッタ２３１が生成した変調信号に基づいて、レーザ光源２０１を制御する。これにより、原盤基材４１へのレーザ光２００Ａの照射が制御される。
　フォーマッタ２３１は、基材レジスト層に描画する任意のパターンが描かれた入力画像に基づいて、基材レジスト層にレーザ光２００Ａを照射するための制御信号を生成する。具体的には、まず、フォーマッタ２３１は、基材レジスト層に描画する任意のパターンが描かれた入力画像を取得する。入力画像は、軸方向に基材レジスト層の外周面を切り開いて一平面に伸ばした、基材レジスト層の外周面の展開図に相当する画像である。次に、フォーマッタ２３１は、入力画像を所定の大きさの小領域に分割し（例えば、格子状に分割し）、小領域の各々に描画パターンが含まれるか否かを判断する。続いて、フォーマッタ２３１は、描画パターンが含まれると判断した各小領域にレーザ光２００Ａを照射するよう制御する制御信号に生成する。さらに、ドライバ２３３は、フォーマッタ２３１が生成した制御信号に基づいてレーザ光源２０１の出力を制御する。これにより、基材レジスト層へのレーザ光２００Ａの照射が制御される。
　＜８．原盤を用いた反射防止フィルムの製造方法＞
（８－１．概要）
　まず、図１２に基づいて、原盤４０を用いた反射防止フィルム１１０の製造方法の概要を説明する。まず、図１２（Ａ）に示すように、基材フィルム１１上に未硬化の硬化性樹脂を塗工することで、未硬化樹脂層３１０を形成する。ついで、未硬化樹脂層３１０に原盤４０のミクロ凹凸構造４２を押し付ける。ついで、エネルギー線源３０９からエネルギー線を未硬化樹脂層３１０に照射することで、未硬化樹脂層３１０を硬化させる。ここで、エネルギー線源３０９から出射されるエネルギー線の種類は、硬化型樹脂の種類によって選択されればよい。エネルギー線の種類としては、電子線、紫外線、赤外線、レーザ光線、可視光線、電離放射線（Ｘ線、α線、β線、γ線など）、マイクロ波、高周波などが挙げられる。
　これにより、ミクロ凹凸構造４２を未硬化樹脂層３１０に転写する。すなわち、図１２（Ｂ）に示すように、基材フィルム１１の一方の表面にミクロ凹凸構造１２を形成する。これにより、一方の表面にミクロ凹凸構造１２が形成された反射防止フィルム１１０が形成される。反射防止フィルム１１０の両面にミクロ凹凸構造１２を形成したい場合、さらに以下の工程を行う。
　すなわち、図１２（Ｂ）に示す反射防止フィルム１１０の他方の表面（ミクロ凹凸構造１２が形成されていない面）に未硬化の硬化性樹脂を塗工することで、未硬化樹脂層３１０を形成する。その後、図１２（Ｃ）に示すように、未硬化樹脂層３１０に原盤４０のミクロ凹凸構造４２を押し付ける。ついで、エネルギー線源３０９からエネルギー線を未硬化樹脂層３１０に照射することで、未硬化樹脂層３１０を硬化させる。これにより、ミクロ凹凸構造４２を未硬化樹脂層３１０に転写する。すなわち、図１２（Ｄ）に示すように、基材フィルム１１の他方の表面にミクロ凹凸構造１２を形成する。これにより、両面にミクロ凹凸構造１２が形成された反射防止フィルム１１０が形成される。なお、上記各工程において、ミクロ凹凸構造１２と基材フィルム１１との間に基底層１３を形成してもよい。また、反射防止フィルム１１０の表面に各種の保護フィルムを形成してもよい。
　（８－２．詳細）
　次に、図１３を参照して、原盤４０を用いた反射防止フィルム１１０の製造方法の詳細について説明する。図１３に示す転写装置３００は、原盤４０を用いたロールツーロール方式の転写装置である。反射防止フィルム１１０は、このような転写装置３００を用いて作製可能である。なお、転写装置３００では、光硬化性樹脂を用いて反射防止フィルム１１０を作製する。もちろん、他の種類の硬化性樹脂を用いて反射防止フィルム１１０を作製していてもよい。
　転写装置３００は、原盤４０と、基材供給ロール３０１と、巻取りロール３０２と、ガイドロール３０３、３０４と、ニップロール３０５と、剥離ロール３０６と、塗布装置３０７と、エネルギー線源３０９とを備える。
　基材供給ロール３０１は、長尺な基材フィルム１１がロール状に巻かれたロールであり、巻取りロール３０２は、反射防止フィルム１１０を巻き取るロールである。また、ガイドロール３０３、３０４は、基材フィルム１１を搬送するロールである。ニップロール３０５は、未硬化樹脂層３１０が積層された基材フィルム１１、すなわち被転写フィルム１００を原盤４０に密着させるロールである。剥離ロール３０６は、ミクロ凹凸構造１２が形成された基材フィルム１１、すなわち反射防止フィルム１１０を原盤４０から剥離するロールである。
　塗布装置３０７は、コーターなどの塗布手段を備え、未硬化の光硬化性樹脂を基材フィルム１１に塗布し、未硬化樹脂層３１０を形成する。塗布装置３０７は、例えば、グラビアコーター、ワイヤーバーコーター、またはダイコーターなどであってもよい。また、エネルギー線源３０９は、光硬化性樹脂を硬化可能な波長の光を発する光源であり、例えば、紫外線ランプなどであってもよい。
　転写装置３００では、まず、基材供給ロール３０１からガイドロール３０３を介して、基材フィルム１１が連続的に送出される。なお、送出の途中で基材供給ロール３０１を別ロットの基材供給ロール３０１に変更してもよい。送出された基材フィルム１１に対して、塗布装置３０７により未硬化の光硬化性樹脂が塗布され、基材フィルム１１に未硬化樹脂層３１０が積層される。これにより、被転写フィルム１００が作製される。被転写フィルム１００は、ニップロール３０５により、原盤４０と密着させられる。エネルギー線源３０９は、原盤４０に密着した未硬化樹脂層３１０に光を照射することで、未硬化樹脂層３１０を硬化する。これにより、原盤４０の外周面に形成されたミクロ凹凸構造４２が未硬化樹脂層３１０に転写される。すなわち、基材フィルム１１上にミクロ凹凸構造１２が形成される。続いて、ミクロ凹凸構造１２が形成された基材フィルム１１、すなわち反射防止フィルム１１０は、剥離ロール３０６により原盤４０から剥離される。ついで、反射防止フィルム１１０は、ガイドロール３０４を介して、巻取りロール３０２によって巻き取られる。
　このように、転写装置３００では、被転写フィルム１００をロールツーロールで搬送する一方で、原盤４０の周面形状を被転写フィルム１００に転写する。これにより、反射防止フィルム１１０が作製される。
　なお、反射防止フィルム１１０を熱可塑性樹脂で作製する場合、塗布装置３０７及びエネルギー線源３０９は不要となる。また、基材フィルム１１を熱可塑性樹脂フィルムとし、原盤４０よりも上流側に加熱装置を配置する。この加熱装置によって基材フィルム１１を加熱して柔らかくし、その後、基材フィルム１１を原盤４０に押し付ける。これにより、原盤４０の周面に形成されたミクロ凹凸構造４２が基材フィルム１１に転写される。なお、基材フィルム１１を熱可塑性樹脂以外の樹脂で構成されたフィルムとし、基材フィルム１１と熱可塑性樹脂フィルムとを積層してもよい。この場合、積層フィルムは、加熱装置で加熱された後、原盤４０に押し付けられる。
　したがって、転写装置３００は、原盤４０に形成されたミクロ凹凸構造４２が転写された転写物、すなわち反射防止フィルム１１０を連続的に作製することができる。ここで、原盤４０の周面に形成されたミクロ凹凸構造４２は、所望の平均周期を有する。したがって、反射防止フィルム１１０に形成されたミクロ凹凸構造１２は、所望の平均周期を有する。
　＜９．眼鏡用保護具の製造方法＞
　次に、反射防止フィルム１１０を用いた眼鏡用保護具１の製造方法について説明する。まず、反射防止フィルム１１０を眼鏡用保護具１の形状に裁断することで、反射防止フィルム１１０から眼鏡用保護具１の形状を切り出す。ついで、切り出した反射防止フィルム１１０に装着部３Ａ、３Ｂを形成することで、眼鏡用保護具１を作製する。ここで、反射防止フィルム１１０の裁断、装着部３Ａ、３Ｂの形成は、例えば数値制御された切削加工機、レーザ加工装置、打ち抜きプレス装置などを用いることで行われれば良い。なお、打ち抜きプレス装置を用いることで、反射防止フィルム１１０の裁断、装着部３Ａ、３Ｂの形成を一つの工程で行うことができる。したがって、打ち抜きプレス装置を用いて眼鏡用保護具１を作製することが好ましい。
　次いで、本実施形態の実施例について説明する。本実施例では、基材フィルム１１の種類、ミクロ凹凸構造１２を形成した面の数（片面または両面）を変更して複数種類の眼鏡用保護具を作製した。そして、これらの眼鏡用保護具の波長５５０ｎｍに対するリタデーション値、正反射率（％）、及び３Ｄ性能を評価した。
　（リタデーション値）
　位相差測定装置（ＲＥＴＳ－１００：大塚電子株式会社）を用いて、測定波長（λ）５５０ｎｍに対するリタデーション値を測定した。ここで、波長が５５０ｎｍとなる光は、人間の視感度が最も高い光として知られている。したがって、この光に対するリタデーション値が低ければ、他の可視光波長に対するリタデーション値も低いと推測できる。
　（正反射率）
　紫外可視分光光度計（Ｖ－５００：日本分光株式会社）を用いて、入射角５°での正反射分光測定を行い、この結果に基づいて、入射角５°での正反射率（分光正反射率）を測定した。なお、正反射分光測定では、光源からの光は、直接、試料（すなわち眼鏡用保護具）に照射される。そして、試料からの反射光は、球面ミラーにて集光され、積分球へ導かれる。その後、反射光は、積分球内で多重反射して均質化された後、検出される。なお、レンズ面保護部２の表面にミクロ凹凸構造１２が形成されている場合、他の入射角であっても正反射率は低いと推測できる。
　（３Ｄ性能評価）
　偏光方式３Ｄモニタ（Ｄ２３４２Ｐ：ＬＧエレクトロニクス社）の付属偏光眼鏡に眼鏡用保護具を装着した。そして、観察者に付属偏光眼鏡（眼鏡用保護具を装着したもの）を装着させた。そして、偏光方式３Ｄモニタに３Ｄ画像を表示させ、観察者に３Ｄ画像を視認させた。そして、観察者が視認した画像の品質を評価した。
　３Ｄ性能としての評価基準は、
　ＶＧ（Ｖｅｒｙ　Ｇｏｏｄ）：立体視に問題無し
　Ｇ（Ｇｏｏｄ）：クロストークが発生しているが、立体視は可能
　Ｂ（Ｂａｄ）：立体視が不可能
　とした。
　（実施例１）
　実施例１では、平板状の原盤４０を用意した。原盤４０には、平均周期が３００ｎｍであるミクロ凹凸構造４２が形成されている。そして、ミクロ凹凸構造４２上に紫外線硬化性樹脂（アクリル系樹脂）を滴下することで、未硬化樹脂層３１０を形成した。ついで、未硬化樹脂層３１０上に基材フィルム１１として１５０μｍ厚の無延伸ポリカーボネートフィルム（住友化学社製テクノロイ）を積層した。ついで、基材フィルム１１をゴムローラでしごいた。ついで、未硬化樹脂層３１０に紫外線を照射することで、未硬化樹脂層３１０を完全に硬化させた。これにより、基材フィルム１１上にミクロ凹凸構造１２を形成した。すなわち、反射防止フィルム１１０を作製した。ついで、反射防止フィルム１１０を用いて眼鏡用保護具１を作製した。そして、眼鏡用保護具１のリタデーション値、正反射率、３Ｄ性能を測定、評価した。この結果、リタデーション値は１６ｎｍ、正反射率は４．７％であった。また、３Ｄ評価はＶＧであった。
　（実施例２）
　基材フィルム１１として無延伸シクロオレフィンコポリマーフィルム（ノルボルネン樹脂フィルム）（１００μｍ厚）を使用した他は、実施例１と同様の処理を行った。この結果、リタデーション値は３ｎｍ、正反射率は４．５％であった。また、３Ｄ評価はＶＧであった。
　（実施例３）
　基材フィルム１１の両面にミクロ凹凸構造１２を形成した他は、実施例１と同様の処理を行った。この結果、リタデーション値は１６ｎｍ、正反射率は０．４％であった。また、３Ｄ評価はＶＧであった。
　（実施例４）
　基材フィルム１１の両面にミクロ凹凸構造１２を形成した他は、実施例２と同様の処理を行った。この結果、リタデーション値は３ｎｍ、正反射率は０．８％であった。また、３Ｄ評価はＶＧであった。
　（実施例５）
　基材フィルム１１として３００μｍ厚の無延伸ポリカーボネートフィルム（三菱ガス化学社製ユーピロン）を使用したこと、基材フィルム１１の両面にミクロ凹凸構造１２を形成した他は、実施例１と同様の処理を行った。この結果、リタデーション値は１００ｎｍ、正反射率は０．５％であった。また、３Ｄ評価はＧであった。
　（実施例６）
　基材フィルム１１として１２５μｍ厚の延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（１２５μｍ厚）（帝人デュポンフィルム社製テトロン）を使用した他は、実施例１と同様の処理を行った。この結果、リタデーション値は５５００ｎｍ、正反射率は５．１％であった。また、３Ｄ評価はＢであった。
　（実施例７）
　基材フィルム１１として１００μｍ厚の延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（１００μｍ厚）（帝人デュポンフィルム社製テトロン）を使用した他は、実施例１と同様の処理を行った。この結果、リタデーション値は５５００ｎｍ、正反射率は０．６％であった。また、３Ｄ評価はＢであった。
　（比較例１）
　比較例１では、実施例１で使用した基材フィルム１１を用いて眼鏡用保護具を作製した。この結果、リタデーション値は１８ｎｍ、正反射率は１０．９％であった。また、３Ｄ評価はＶＧであった。
　（比較例２）
　比較例２では、実施例２で使用した基材フィルム１１を用いて眼鏡用保護具を作製した。この結果、リタデーション値は３ｎｍ、反射率は８．８％であった。また、３Ｄ評価はＶＧであった。
　（比較例３）
　比較例３では、延伸シクロオレフィンコポリマーフィルム（ノルボルネン樹脂フィルム）（７５μｍ厚）を用いて眼鏡用保護具を作製した。この結果、リタデーション値は１００ｎｍ、正反射率は８．８％であった。また、３Ｄ評価はＧであった。
　（比較例４）
　比較例４では、実施例６で使用した基材フィルム１１を用いて眼鏡用保護具を作製した。この結果、リタデーション値は５５００ｎｍ、反射率は１１．２％であった。また、３Ｄ評価はＢであった。
　実施例、比較例の評価を表１にまとめて示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　表１に示すように、実施例１～７では、正反射率を５％以下に抑えることができた。この結果、実施例１～７では、反射光の発生を抑制することができ、ひいては、反射光による幻惑及び眼精疲労を低減できることがわかった。特に、ミクロ凹凸構造１２を基材フィルム１１の両面に形成することで、正反射率を１．０％以下と非常に小さい値にすることができた。したがって、無影灯等が使用される環境下では、ミクロ凹凸構造１２が両面に形成された眼鏡用保護具１を使用することが好ましいことがわかった。
　さらに、実施例１～５では、無延伸フィルムを基材フィルム１１として用いて眼鏡用保護具１を作製しているので、リタデーション値が１００ｎｍ以下となった。この結果、３Ｄ画像を問題なく視認することができた。なお、リタデーション値が２０ｎｍ以下となる実施例１～４では、特に３Ｄ評価の結果が良好であった。
　したがって、無影灯及び３Ｄ内視鏡装置を用いた手術を行う場合、ミクロ凹凸構造１２が両面に形成され、かつ、基材フィルム１１として無延伸フィルムを使用した眼鏡用保護具１を用いることが好ましいことがわかった。
　一方、比較例１～４では、正反射率が非常に高くなった。したがって、比較例１～４に係る眼鏡用保護具は、反射光を十分に抑制することができないことがわかった。
　以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
　１　　眼鏡用保護具
　２　　レンズ面保護部
　３　　テンプル保護部
３Ａ、３Ｂ　　装着部
１１　　　基材フィルム
１２　　　ミクロ凹凸構造
１５、１６、２１、２２　　挿入孔
１７、２４　　　補助切込み孔
１８、２５　　　補助保持部
２０Ａ　　　上側保持部
２０Ｂ　　　下側保持部

Claims (10)

  1. 　眼鏡のレンズ面を保護するレンズ面保護部を備え、
    　前記レンズ面保護部は、
    　基材フィルムと、
    　前記基材フィルムの表面に形成され、凹凸の平均周期が可視光波長以下であるミクロ凹凸構造と、を備える、眼鏡用保護具。
  2. 　前記レンズ面保護部の長さ方向両端に形成され、前記眼鏡のテンプルを保護する複数のテンプル保護部を有し、
    　前記テンプル保護部は、前記眼鏡用保護具を前記眼鏡のテンプルに装着可能な装着部を備える、請求項１記載の眼鏡用保護具。
  3. 　前記装着部は、前記眼鏡のテンプルが挿入される複数の挿入孔を備え、
    　前記複数の挿入孔は、前記テンプルの挿入方向に並べられている、請求項２記載の眼鏡用保護具。
  4. 　前記装着部は、隣接する前記挿入孔の間を斜め方向に横断する横断切込み孔と、
    　前記複数の挿入孔及び前記横断切込み孔によって形成される上側保持部及び下側保持部と、を備える、請求項３記載の眼鏡用保護具。
  5. 　前記横断切込み孔は、前記複数のテンプル保護部のうち、一方のテンプル保護部に形成されることを特徴とする、請求項４記載の眼鏡用保護具。
  6. 　前記装着部は、前記挿入孔の外縁から前記挿入孔の外側に向かって伸びる一または複数の補助切込み孔と、
    　前記補助切込み孔によって前記挿入孔の周囲に形成される補助保持部と、を備える、請求項３～５のいずれか１項に記載の眼鏡用保護具。
  7. 　前記ミクロ凹凸構造は、紫外線硬化性樹脂の硬化物で構成される、請求項１～６のいずれか１項に記載の眼鏡用保護具。
  8. 　前記ミクロ凹凸構造は親水性を有する、請求項１～７のいずれか１項に記載の眼鏡用保護具。
  9. 　前記レンズ面保護部の面内リタデーション値が可視光波長に対して１００ｎｍ以下である、請求項１～８のいずれか１項に記載の眼鏡用保護具。
  10. 　請求項１～９の何れか１項に記載の眼鏡用保護具が積層されている、眼鏡用保護具積層体。
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