WO2015054905A1 - 固化框胶用遮光罩的制作方法 - Google Patents

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curing
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metal layer
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莫超德
李春良
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深圳市华星光电技术有限公司
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Definitions

  • the present invention relates to the field of display, and in particular to a method for manufacturing a hood for curing a sealant. Background technique
  • the sealant is an adhesive applied to the liquid crystal display panel, and the purpose is to combine the thin film transistor substrate and the color filter substrate by two glass substrates to avoid the outflow of the liquid crystal material between the two glass substrates.
  • FIG. 1 a schematic structural view of an existing liquid crystal display panel, wherein the sealant frame loo is formed by curing the sealant.
  • Frame glue can be divided into two types: thermosetting type and laser (UV) curing type.
  • the current ODF process basically uses UV-curing frame glue. In the new production line, the ODF process is used, and the UV-curing frame is used. Glue will become the mainstream.
  • the UV-curing frame seal contains a photoinitiator, an ultraviolet primer, and the like. The UV light is absorbed by the photoinitiator, causing the photoinitiator to initiate the generation of free radical or cationic reactive groups, these highly reactive free radicals or cationic groups, and the acrylic or epoxy monomers within the composition. And the corresponding oligomers are subjected to a chain extension reaction.
  • UV UV adhesive properties are characterized by a UV-light source that initiates a chemical chain reaction to cure the sealant.
  • the bonded material can be cured in a matter of seconds.
  • the hood generally includes a pattern portion 300 and a light shielding portion 500 disposed on the periphery of the pattern portion 300.
  • the frame glue of the liquid crystal display panel is UV-cured, the ultraviolet ray is irradiated onto the frame seal through the pattern portion 300.
  • the frame glue is cured, and the light shielding portion is used to block the UV ultraviolet rays to prevent the UV ultraviolet rays from illuminating other materials of the liquid crystal display panel, thereby causing the material to change.
  • the conventional hood for curing the sealant is generally: first, a metal layer 702 and a photoresist layer 704 are coated on the base plate 700; then, the light is passed through the mask 750. A predetermined pattern is exposed on the resist layer 704; then, development, etching, and photoresist stripping are performed; finally, a non-metal protective layer 706 is coated on the formed pattern.
  • the pattern on the mask 750 required needs to be the same as the size of the predetermined pattern, which makes it possible to manufacture the hood for the curing frame glue of different sizes and different types. Different masks are required; that is, each type of mask for each type of cured frame glue requires at least one corresponding mask, which is relatively high in production cost and is not suitable for uniform management. Summary of the invention
  • Object of the present invention is to provide a method of manufacturing a cured rubber block with a hood, which is a simple process to achieve the above object, the present invention provides a method for manufacturing a curable sealant with a hood, comprising the steps of:
  • Step 1 providing a transparent substrate
  • Step 2 sequentially forming a metal layer and a photoresist layer on the transparent substrate;
  • Step 3 Perform exposure at an edge position of the photoresist layer to form a detection mark
  • Step 4 Exposing the photoresist layer according to a predetermined path by using an edge exposure manner, where the predetermined path corresponds to a preset path of the sealant of the liquid crystal display panel;
  • Step 5 removing the exposed photoresist layer to expose the metal layer
  • Step 6 Etching the exposed metal layer and removing the unexposed photoresist layer; Step 7. Forming a transparent protective layer on the metal layer and the transparent substrate.
  • the transparent substrate is a glass substrate.
  • the metal layer is formed on the transparent substrate by physical vapor deposition.
  • the photoresist layer is formed on the metal layer by a coating method.
  • the step 3 includes: providing a UV light source, a mask plate, and a baffle, wherein the mask plate is provided with a pattern area and a marking area disposed outside the pattern area, the baffle is disposed under the pattern area, and the UV light source emits The UV light is irradiated onto the baffle through the pattern area, and the UV light emitted by the UV light source is irradiated onto the photoresist layer on the transparent substrate through the marking area, and the photoresist layer is exposed.
  • the step 4 includes: providing an edge exposure device, and exposing the photoresist layer according to a predetermined path.
  • the edge exposure device is an edge exposure machine.
  • the etching includes one of a thousand etching and a wet etching or a combination thereof.
  • the transparent protective layer is formed of a non-metallic material.
  • the transparent protective layer is formed by chemical vapor deposition.
  • the invention also provides a method for manufacturing a hood for curing a sealant, comprising the following steps: Step 1. Providing a transparent substrate;
  • Step 2 sequentially forming a metal layer and a photoresist layer on the transparent substrate;
  • Step 3 Perform exposure at an edge position of the photoresist layer to form a mark
  • Step 4 Exposing the photoresist layer according to a predetermined path by using an edge exposure mode, where the predetermined path corresponds to a preset path of the sealant of the liquid crystal display panel;
  • Step 5 removing the exposed photoresist layer to expose the metal layer
  • Step 6. etching the exposed metal layer and removing the unexposed photoresist layer; step 7. forming a transparent protective layer on the metal layer and the transparent substrate;
  • the transparent substrate is a glass substrate
  • the metal layer is formed on the transparent substrate by physical vapor deposition; wherein the photoresist layer is formed on the metal layer by coating;
  • the step 3 includes: providing a UV light source, a mask, and a baffle, wherein the mask is provided with a graphic area and a marking area disposed outside the graphic area, and the baffle is disposed under the graphic area, The UV light emitted by the UV light source is irradiated onto the baffle through the pattern area, and the ⁇ light emitted by the UV light source is irradiated onto the photoresist layer on the transparent substrate through the marking area, and the photoresist layer is
  • the step 4 includes: providing an edge exposure device to perform exposure according to a predetermined path corresponding to the photoresist layer.
  • the edge exposure device is an edge exposure machine.
  • the etching includes one of a thousand etching and a wet etching or a combination thereof.
  • the transparent protective layer is formed of a non-metallic material.
  • the transparent protective layer is formed by chemical vapor deposition.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a conventional liquid crystal display panel
  • FIG. 2 is a schematic structural view of a conventional hood
  • FIG. 3 to FIG. 6 are schematic diagrams showing a manufacturing process of the existing hood
  • FIG. 7 is a flow chart of a method for manufacturing a hood for curing a sealant according to the present invention.
  • FIG. 8 to FIG. 14 are process diagrams showing a manufacturing method of a hood for curing a sealant according to the present invention. Specific travel mode
  • the present invention provides a method for manufacturing a hood for curing a sealant, comprising the following steps:
  • Step 1 Provide a transparent substrate 20.
  • the transparent substrate 20 may be a plastic substrate or a glass substrate. In this embodiment, the transparent substrate 20 is a glass substrate.
  • Step 2 A metal layer 22 and a photoresist layer 24 are sequentially formed on the transparent substrate 20.
  • the metal layer 22 is deposited by physical vapor deposition (Physical Vapor).
  • the Deposition, PVD) method is formed on the transparent substrate 20.
  • the photoresist layer 24 is formed on the metal layer 22 by coating.
  • Step 3 Exposure is performed at the edge position of the photoresist layer 24 to form the detection mark 242.
  • the step 3 includes: providing a UV light source 40, a mask 42 and a baffle 44.
  • the mask 42 is provided with a graphic area 422 and a marking area 424 disposed outside the graphic area 422.
  • the baffle 44 is disposed under the pattern area 422, and the UV light emitted by the UV light source 40 is irradiated onto the baffle 44 through the pattern area 422, and the UV light emitted by the UV light source 40 passes through the mark area 424.
  • the photoresist layer 24 is exposed to the photoresist layer 24 on the transparent substrate 20.
  • the UV light passing through the pattern region 422 cannot be irradiated onto the photoresist layer 24, so that the pattern on the pattern region 422 on the mask 42 cannot be copied onto the photoresist layer 24, which makes
  • the exposure of the photoresist layer 24 is independent of the pattern on the mask 42, so that production can be achieved as long as the size of the selected mask 24 corresponds to the size of the hood to be produced, avoiding the existing production.
  • due to the small number of prepared masks it is easy to manage, store, and reduce management and storage costs.
  • Step 4 Exposing the photoresist layer 24 according to a predetermined path by using an edge exposure method, wherein the predetermined path corresponds to a masking path of the liquid crystal display panel.
  • the step 4 includes: providing an edge exposure device 60 to perform exposure according to a predetermined path corresponding to the photoresist layer 24.
  • the edge exposure device 60 is an edge exposure device.
  • the edge exposure machine exposes a predetermined pattern on the photoresist layer 24 in accordance with a predetermined path, which is equivalent to drawing a predetermined pattern on the photoresist layer 24 in a predetermined path by the edge exposure machine.
  • Step 5 The exposed photoresist layer 24 is removed to expose the metal layer 22.
  • the exposed photoresist layer 24 is removed to expose the metal layer 22.
  • Step 6 Etching the exposed metal layer 22 and removing the unexposed photoresist layer 24.
  • the etching may be one of a thousand etching and a wet etching or a combination thereof. In a specific operation, a corresponding etching manner may be selected according to different materials of the metal layer 22 .
  • Step 7 A transparent protective layer 26 is formed on the metal layer 22 and the transparent substrate 20.
  • the transparent protective layer 26 is formed of a non-metallic material, which is formed by chemical vapor deposition to protect the metal layer 22 to prevent the metal layer 22 from being oxidized or eroded, thereby extending the life of the hood.
  • the patterning exposure of the photoresist layer is realized according to a predetermined path by the side exposure method, and a specific mask is not required, thereby effectively reducing the preparation amount of the mask.
  • the cost of production materials is reduced.
  • due to the small amount of preparation of the mask it is easy to manage and store, and reduce management and storage costs.

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Abstract

一种固化框胶用遮光罩的制作方法，包括以下步骤：步骤1、提供一透明基板（20）；步骤2、在透明基板（20）上依次形成金属层（22）及光阻层（24）；步骤3、在光阻层（24）的边缘位置进行曝光，以形成检测标记（242）；步骤4、采用边曝光方式，按照预定路径对光阻层（24）进行曝光，所述预定路径对应液晶显示面板的框胶预设路径；步骤5、去除被曝光的光阻层（24），以露出金属层（22）；步骤6、对露出的金属层（22）进行蚀刻，并去除未曝光的光阻层（24）；步骤7、在金属层（22）与透明基板（20）上形成透明保护层（26）。通过边曝光方式实现对光阻层的曝光，不需要特定的掩模板，有效减少掩模板的预备量，降低生产材料成本。

Description

固化框胶用遮光翠的制作方法
本发明涉及显示领域， 尤其涉及一种固化框胶用遮光罩的制作方法。 背景技术
框胶是应用于液晶显示面板的一种接着剂， 其用途是将薄膜晶体管基 板和彩色滤光片基板两片玻璃基板结合在一起， 避免注入两片玻璃基板之 间的液晶材料流出。 请参阅图 1， 为现有的液晶显示面板的结构示意图， 其中， 密封胶框 loo就是由框胶经由固化形成的。
过去的制程是先在配向膜上面形成间隔物 （Spacer ) , 再将玻璃基板 用框胶粘合在一起， 做成空的液晶盒。 后来随着面板的尺寸朝大型化发 展， 采用液晶滴下法（One Drop Filling, ODF ) 的比例逐渐扩大， 制造程 序上做了一些改变， 于是框胶的性质也在变化之中。
框胶可以分为热硬化型和激光 ( UV )硬化型两大类， 目前的 ODF制 程基本釆用 UV硬化型的框胶， 在新生产线均采用 ODF制程的情¾下， UV硬化型的框胶将成为主流。 UV硬化型的框胶内含光起始剂、 紫外线接 着剂等成份。 UV 光被光起始剂吸收， 造成光起始剂引发产生自由基或阳 离子反应基， 这些具有高度反应性的自由基或阳离子基， 与组成内的压克 力单体或环氧基单体以及相对应的寡聚物进行链延长反应。 由于自由基反 应或阳离子基反应的反应性非常快， 在几秒至几分钟内反应物就完成反 应， 形成具有物性的高分子聚合物。 UV 紫外线接着剂特性是借由 UV 光 源照射起动化学连锁反应， 固化框胶。 在数秒内即可固化粘合材质。
对液晶显示面板进行整体 UV 照射， 会造成面板构成中的某些材料成 分发生质变， 影响材料性能， 最终影响液晶显示面板的品质和良率。 所 以， 通常会有选择地针对框胶进行 UV 照射和 UV硬化， 不需要进行 UV 照射的区域就要通过遮光的挡板遮挡起来， 该功能由遮光罩实现。 请 参阅图 2， 遮光罩一般包括： 图形部 300及设于图形部 300***的遮光部 500 , 在对液晶显示面板的框胶进行 UV 固化时， UV 紫外线通过图形部 300 照射于框胶上， 对框胶进行固化， 遮光部用于遮挡 UV 紫外线， 以免 UV紫外线对液晶显示面板的其他材料照射， 而导致该材料质变。
不同尺寸、 不同型号的液晶显示面板， 其框胶的设置位置不尽相同， 这就使得， 不同尺寸、 不同型号的液晶显示面板需要相应的不同尺寸、 不 同型号的遮光罩与之对应。
请参阅图 3 至图 6， 现有的固化框胶用遮光罩的制作方法一般为： 首 先， 在基.板 700 上涂布金属层 702、 光阻层 704; 接着， 通过掩模板 750 在光阻层 704上曝光出預定图形； 然后， 进行显影、 蚀刻及光阻剥离； 最 后， 在形成的图形上涂布非金属保护层 706。 其中， 在对光阻层 704进行 曝光时， 所需要的掩模板 750上的图形需要与预定图形的大小相同， 这就 使得， 在制作不同尺寸、 不同型号的固化框胶用遮光罩时， 所需要不同的 掩模板； 即， 每一种尺寸、 每一种型号的固化框胶用遮光罩需要至少一对 应的掩模板， 生产成本较高， 且不宜进行统一管理。 发明内容
本发明的目的在于提供一种固化框胶用遮光罩的制作方法， 其制程简 1 实现上述目的， 本发明提供一种固化框胶用遮光罩的制作方法， 包 括以下步骤：
步骤 1、 提供一透明基板；
步骤 2、 在透明基板上依次形成金属层及光阻层；
步骤 3、 在光阻层的边缘位置进行曝光， 以形成检测标记；
步骤 4、 采用边曝光方式， 按照预定路径对光阻层进行曝光， 所述预 定路径对应液晶显示面板的框胶预设路径；
步骤 5、 去除被曝光的光阻层， 以露出金属层；
步糠 6、 对露出的金属层进行蚀刻， 并去除未曝光的光阻层； 步骤 7、 在金属层与透明基板上形成透明保护层。
所述透明基板为玻璃基板。
所述金属层通过.物理气相沉积方式形成于透明基板上。
所述光阻层通过涂布方式形成于金属层上。
所述步骤 3 包括： 提供 UV光源、 掩模板及挡板， 所述掩模板设有图 形区及设于图形区外侧的标记区， 所述挡板设于图形区下方， 所述 UV光 源发出的 UV光穿过所述图形区照射于挡板上， 所述 UV光源发出的 UV 光穿过所述标记区照射于所述透明基板上的光阻层上， 对该光阻层进行曝 光。
所述步骤 4 包括： 提供边曝光设备， 按照预定路径对应光阻层进行曝 光。
所述边曝光设备为边曝光机。 所述蚀刻包括千蚀刻与湿蚀刻其中之一或其组合。
所述透明保护层由非金属材料形成。
所述透明保护层通过.化学气相沉积方式形成。
本发明还提供一种固化框胶用遮光罩的制作方法， 包括以下步骤： 步骤 1、 提供-—透明基板；
步骤 2、 在透明基板上依次形成金属层及光阻层；
步骤 3、 在光阻层的边缘位置进行曝光， 以形成 ^^测标记；
步骤 4、 釆用边曝光方式， 按照预定路径对光阻层进行曝光， 所述预 定路径对应液晶显示面板的框胶预设路径；
步骤 5、 去除被曝光的光阻层， 以露出金属层；
步骤 6、 对露出的金属层进行蚀刻， 并去除未曝光的光阻层； 步糠 7、 在金属层与透明基板上形成透明保护层；
其中， 所述透明基板为玻璃基板;
其中， 所述金属层通过物理气相沉积方式形成于透明基板上； 其中， 所述光阻层通过涂布方式形成于金属层上；
其中， 所述步骤 3 包括： 提,供 UV光源、 掩模板及挡板， 所述掩模板 设有图形区及设于图形区外侧的标记区， 所述挡板设于图形区下方， 所述 UV光源发出的 UV光穿过所述图形区照射于挡板上， 所述 UV光源发出 的 υν 光穿过所述标记区照射于所述透明基板上的光阻层上， 对该光阻层
' 其中， 所述步骤 4 包括： 提供边曝光设备， 按照预定路径对应光阻层 进行曝光。
所述边曝光设备为边曝光机。
所述蚀刻包括千蚀刻与湿蚀刻其中之一或其组合。
所述透明保护层由非金属材料形成。
所述透明保护层通过.化学气相沉积方式形成。
本发明的有益效果： 本发明的固化框胶用遮光罩的制作方法， 通过边 曝光方式按照预定路径实现对光阻层的图案化曝光， 不需要特定的掩模 板， 有效减少掩模板的预备量， 降低生产材料成本， 同时， 由于掩模板的 预备量较少， 易统一管理、 存储， 降低管理及存储成本。
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容， 请参阔以下有关本 发明的详细说明与附图， 然而附图仅提供参考与说明用， 并非用来对本发 明加以限制。 附图说明
下面结合附图， 通过对本发明的具体实施方式详细描述， 将使本发明 的技术方案及其它有益效果显而易见。
附图中，
图 1为现有的液晶显示面板的剖面示意图；
图 2为现有的遮光罩的结构示意图；
图 3至图 6为现有的遮光罩生产制程示意图；
图 7为本发明固化框胶用遮光罩的制作方法的流程图；
图 8至图 14为本发明固化框胶用遮光罩的制作方法的制程图。 具体实旅方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果， 以下结合本发明 的优选实施例及其附图进行详 ·细描述. tl
请参阅图 7 , 本发明提供一种固化框胶用遮光罩的制作方法， 包括以 下步骤：
步骤 1、 提供一透明基板 20。
所述透明基板 20， 可选用塑料基板或玻璃基板， 在本实施例中， 所述 透明基板 20为玻璃基板„
步骤 2、 在透明基板 20上依次形成金属层 22及光阻层 24。
请参阅图 8， 所述金属层 22 通过物理气相沉积 （Physical Vapor
Deposition, PVD )方式形成于透明基板 20上。 所述所述光阻层 24通过涂 布方式形成于金属层 22上。
步骤 3、 在光阻层 24的边缘位置进行曝光， 以形成检测标记 242。 具体地， 请参阅图 9, 所述步骤 3包括： 提供 UV光源 40、 掩模板 42 及挡板 44， 所述掩模板 42设有图形区 422及设于图形区 422外侧的标记 区 424， 所述挡板 44设于图形区 422下方， 所述 UV光源 40发出的 UV 光穿过所述图形区 422照射于挡板 44上， 所述 UV光源 40发出的 UV光 穿过所述标记区 424照射于所述透明基板 20上的光阻层 24上， 对该光阻 层 24进行曝光。
由于挡板 44的遮挡， 所述穿过图形区 422的 UV光不能照射到光阻 层 24上， 所以掩模板 42上的图形区 422上的图形不能复制到光阻层 24 上， 这就使得对光阻层 24的曝光与掩模板 42上的图形无关， 那么， 只要 所选用的掩模板 24 的尺寸与所要制得的遮光罩的尺寸大小相对应即可实 现生产， 避免了现有的生产制程中必需配置相应图形区的掩^ I板才能实现 生产的困扰， 有效减少掩模板的预备数量， 进而降低生产材料成本， 同 时， 由于预备的掩模板的数量较少， 易统一管理， 存储， 降低管理及存储 成本。
步骤 4、 釆用边曝光方式， 按照预定路径对光阻层 24进行曝光， 所述 预定路径对应液晶显示面板的框胶 i¾设路径。
具体地， 请参阅图 10， 所述步骤 4 包括： 提供边曝光设备 60， 按照 预定路径对应光阻层 24进行曝光„ 在本实施例中， 所述边曝光设备 60为 边曝光机。
边曝光机按照预定路径在光阻层 24 上曝光出预定图形， 该过程相当 于用边曝光机在光阻层 24上按照预定路径画出預定图形。
步骤 5、 去除被曝光的光阻层 24, 以露出金属层 22。
请参阅图 11， 去除被曝光的光阻层 24， 以露出金属层 22。
步骤 6、 对露出的金属层 22进 蚀刻， 并去除未曝光的光阻层 24。 请参阅图 12及图 13 , 所述蚀刻可为千蚀刻与湿蚀刻其中之一或其组 合， 具体操作时， 可根据金属层 22的材料不同选择相应的蚀刻方式。
步骤 7、 在金属层 22与透明基板 20上形成透明保护层 26。
请参阅图 14, 所述透明保护层 26 由非金属材料形成， 其通过化学气 相沉积方式形成， 用于保护金属层 22 , 以避免金属层 22被氧化或侵蚀， 进而延长遮光罩的使用寿命。
综上所述， 本发明的固化框胶用遮光罩的制作方法， 通过边曝光方式 按照預定路径实现对光阻层的图案化曝光， 不需要特定的掩模板， 有效减 少掩模板的预备量， 降低生产材料成本， 同时， 由于掩模板的预备量较 少， 易统一管理、 存储， 降低管理及存储成本。
以上所述， 对于本领域的普通技术人员来说， 可以根据本发明的技术 方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形， 而所有这些改变和变形 都应属于本发明权利要求的保护范围。

Claims

权 利 要 求
】、 一种固化框胶用遮光罩的制作方法， 包括以下步骤：
步骤 1、 提供-—透明基板；
步骤 2、 在透明基板上依次形成金属层及光阻层；
步骤 3、 在光阻层的边缘位置进行曝光， 以形成 ^^测标记；
步骤 4、 釆用边曝光方式， 按照预定路径对光阻层进行曝光， 所述预 定路径对应液晶显示面板的框胶预设路径；
步骤 5、 去除被曝光的光阻层， 以露出金属层；
步骤 6、 对露出的金属层进行蚀刻， 并去除未曝光的光阻层； 步糠 7、 在金属层与透明基板上形成透明保护层。
2、 如权利要求 1 所述的固化框胶用遮光罩的制作方法， 其中， 所述 透明基板为玻璃基板。
3、 如权利要求 1 所述的固化框胶用遮光罩的制作方法， 其中， 所述 金属层通过物理气相沉积方式形成于透明基板上。
4、 如权利要求 所述的固化框胶用遮光罩的制作方法， 其中， 所述 光阻层通过涂布方式形成于金属层上
5、 如权利要求 1 所述的固化框胶用遮光罩的制作方法， 其中， 所述 步骤 3 包括： 提供 UV光源、 掩模板及挡板， 所述掩模板设有图形区及设 于图形区外侧的标记区， 所述挡板设于图形区下方， 所述 UV 光源发出的 UV光穿过所述图形区照射于挡板上， 所述 UV光源发出的 UV光穿过所 述标记区照射于所述透明基板上的光阻层上， 对该光阻层进行曝光。
6、 如权利要求 1 所述的固化框胶用遮光罩的制作方法， 其中， 所述 步骤 4包括： 提供边曝光设备， 按照预定路径对应光阻层进行曝光。
7、 如权利要求 6 所述的固化框胶用遮光罩的制作方法， 其中， 所述 边曝光设备为边曝光机。
8 如权利要求 i 所述的固化框胶用遮光罩的制作方法， 其中， 所述 蚀刻包括千蚀刻与湿蚀刻其中之一或其组合。
9、 如权利要求 1 所述的固化框胶用遮光罩的制作方法， 其中， 所述 透明保护层由非金属材料形成。
10、 如权利要求 1 所述的固化框胶用遮光罩的制作方法， 其中， 所述
11、 一种固化 胶用遮光 制作方法， 包括以下步骤： 步骤 1、 提供 透明基板；
步骤 2、 在透明基板上依次形成金属层及光阻层；
步骤 3、 在光阻层的边缘位置进行曝光， 以形成检测标记；
步骤 4、 采用边曝光方式， 按照预定路径对光阻层进行曝光， 所述預 定路径对应液晶显示面板的框胶预设路径；
步骤 5、 去除被曝光的光阻层， 以露出金属层；
步骤 6、 对露出的金属层进行蚀刻， 并去除未曝光的光阻层； 步骤 7、 在金属层与透明.基板上形成透明保护层；
其中， 所述透明基板为玻璃基板；
其中， 所述金属层通过物理气相沉积方式形成于透明基板上； 其中， 所述光阻层通过涂布方式形成于金属层上；
其中， 所述步骤 3 包括： 提供 UV光源、 掩模板及挡板， 所述掩模板 设有图形区及设于图形区外侧的标记区， 所述挡板设于图形区下方， 所述 UV光源发出的 UV光穿过所述图形区照射于挡板上， 所述 UV光源发出 的 UV 光穿过所述标记区照射于所述透明基板上的光阻层上， 对该光阻层 进行曝光；
其中， 所述步骤 4 包括： 提供边曝光设备， 按照预定路径对应光阻层 进.行曝光。
12 , 如权利要求 11 所述的固化框胶用遮光罩的制作方法， 其中， 所 述边曝光设备为边曝光机。
】3、 如权利要求 11 所述的固化框胶用遮光罩的制作方法， 其中， 所 述 ；刻包括千蚀刻与湿蝕刻其中之一或其组合。
14、 如权利要求 11 所述的固化框胶用遮光罩的制作方法， 其中， 所 述透明保护层由非金属材料形成。
15、 如权利要求 11 所述的固化框胶用遮光罩的制作方法， 其中， 所 述透明保护层通过化学气相沉积方式形成。
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