WO2015050273A1 - 防眩フィルム - Google Patents

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WO2015050273A1
WO2015050273A1 PCT/JP2014/076872 JP2014076872W WO2015050273A1 WO 2015050273 A1 WO2015050273 A1 WO 2015050273A1 JP 2014076872 W JP2014076872 W JP 2014076872W WO 2015050273 A1 WO2015050273 A1 WO 2015050273A1
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mold
antiglare
glare
meth
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PCT/JP2014/076872
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勉 古谷
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住友化学株式会社
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    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133502—Antiglare, refractive index matching layers

Definitions

  • the present invention relates to an antiglare film having excellent antiglare properties.
  • Image display devices such as liquid crystal display, plasma display panel, cathode ray tube (CRT) display, organic electroluminescence (EL) display, etc.
  • An antiglare film is disposed on the display surface.
  • As an antiglare film a transparent film having an uneven surface shape is mainly studied.
  • Such an anti-glare film exhibits anti-glare properties by reducing reflection by scattering and reflecting external light (external light scattered light) due to the uneven surface shape.
  • external light scattering light is strong, so-called “whiteness” may occur in which the entire display surface of the image display device becomes whitish or the display becomes cloudy.
  • Patent Document 1 discloses an anti-glare film that does not generate glare even when placed in a high-definition image display device and that is sufficiently prevented from being whitish.
  • the surface irregularity shape is fine, and the average length PSm in the arbitrary sectional curve of the surface irregularity shape is 12 ⁇ m or less, and the ratio Pa / PSm of the arithmetic average height Pa to the average length PSm in the sectional curve is An anti-glare film having a surface ratio of 0.005 or more and 0.012 or less, the surface irregularity shape having an inclination angle of 2 ° or less, and a surface ratio having an inclination angle of 6 ° or less is 90% or more. It is disclosed.
  • the antiglare film disclosed in Patent Document 1 has a surface irregularity shape with a period of about 50 ⁇ m that makes it easy to generate glare by making the average length PSm in an arbitrary cross-sectional curve very small, Glare can be effectively suppressed.
  • the anti-glare film disclosed in Patent Document 1 tries to make the haze smaller (to make it low haze)
  • the anti-glare film when the display surface of the image display device on which the anti-glare film is arranged is observed obliquely. There was a case where the dazzle was reduced. Therefore, the antiglare film disclosed in Patent Document 1 has room for improvement in terms of antiglare properties at a wide observation angle.
  • the present invention provides an anti-glare film that has excellent anti-glare properties at a wide viewing angle even at low haze, and can sufficiently suppress the occurrence of whitish and glare when placed in an image display device.
  • the purpose is to do.
  • the present invention (1) An antiglare film comprising a transparent support and an antiglare layer having fine irregularities formed thereon, The total haze is 0.1% or more and 3% or less, An anti-glare film having a surface haze of 0.1% to 2%,
  • the root mean square roughness Rq (0.08) when measured with a cut-off length of 0.08 mm is 0.01 ⁇ m or more and 0.05 ⁇ m or less
  • the root mean square roughness Rq (0.25) when measured at a cutoff length of 0.25 mm is 0.05 ⁇ m or more and 0.1 ⁇ m or less
  • the root mean square roughness Rq (0.8) when measured with a cutoff length of 0.8 mm is 0.07 ⁇ m or more and 0.12 ⁇ m or less
  • the root mean square roughness Rq (2.5) when measured with a cutoff length of 2.5 mm is 0.08 ⁇ m or more and 0.15 ⁇ m or less
  • the average length Sm (0.25) when measured at a cutoff length of 0.25 mm is 90 ⁇ m or more and 160 ⁇ m or less
  • the average length Sm (0.8) when measured with a cutoff length of 0.8 mm is 100 ⁇ m or more and 300 ⁇ m or less
  • the antiglare film according to the above (1), wherein the average length Sm (2.5) when measured at a cutoff length of 2.5 mm is 200 ⁇ m or more and 400 ⁇ m or less.
  • an anti-glare film having sufficient anti-glare property at a wide observation angle even with low haze and sufficiently suppressed generation of whitish and glare when placed in an image display device. Can be provided.
  • FIG. 4 is a diagram showing a part of a pattern A used in Examples 1 to 3 and Comparative Example 1.
  • 10 is a diagram illustrating a part of a pattern B used in Comparative Example 2.
  • FIG. It is a figure which shows the power spectrum (GAMMA) (f) obtained by carrying out the discrete Fourier transform of the patterns A and B.
  • GAMMA power spectrum
  • the antiglare film of the present invention has a root mean square roughness Rq when measured at a predetermined cut-off length in the above-mentioned range, and reflectivity R (with a reflection angle of 30 ° for light incident at an incident angle of 30 °). 30) and the reflectance R (40) at a reflection angle of 40 °, the ratio R (40) / R (30) is 0.00001 or more and 0.0025 or less.
  • the anti-glare film of the present invention is the square when the cut-off length of the anti-glare layer provided on the anti-glare film is measured at 0.08 mm, 0.25 mm, 0.8 mm and 2.5 mm.
  • Average square root roughness Rq (0.08), Rq (0.25), Rq (0.8) and Rq (2.5) are 0.01 ⁇ m or more and 0.05 ⁇ m or less, 0.05 ⁇ m or more and 0.1 ⁇ m, respectively.
  • they are 0.07 ⁇ m or more and 0.12 ⁇ m or less and 0.08 ⁇ m or more and 0.15 ⁇ m or less.
  • Rq (0.08), Rq (0.25), Rq (0.8), and Rq (2.5) are set by the method according to JIS B 0601 by setting the measurement conditions as follows. Can be measured.
  • the root mean square roughness when measured at a predetermined cut-off length is obtained by blocking a long wavelength component longer than a predetermined cut-off length by a high-pass filter from the cross-sectional curve obtained by the measurement method defined in the above JIS.
  • the root mean square roughness when measured with a cut-off length of 0.08 mm means the root mean square roughness from the roughness curve when the surface irregularity shape having a wavelength of 0.08 mm or more is removed from the cross-sectional curve. This means that the surface uneven shape having a wavelength of 0.04 mm or less which is 1 ⁇ 2 of the cutoff length is mainly evaluated.
  • the root mean square roughness when measured with a cut-off length of 0.25 mm, 0.8 mm, or 2.5 mm is a wavelength of 0.25 mm or more, 0.8 mm or more, or 2.5 mm or more from the cross-sectional curve.
  • the surface irregularity shape having a wavelength of 1 is evaluated.
  • a large Rq (0.08) means that the surface uneven shape of the antiglare layer of the antiglare film of the present invention has many surface uneven shapes having a wavelength of 0.04 mm or less.
  • a large Rq (0.25) means that the antiglare layer has many surface irregularities having a wavelength of 0.04 mm or more and 0.125 mm or less
  • Rq (0.8) Is large means that it has many surface irregularities having a wavelength of 0.125 mm or more and 0.4 mm or less
  • Rq (2.5) is large is 0.4 mm or more and 1.25 mm or less. It means that it has many surface uneven
  • Rq (0.08) is less than 0.01 ⁇ m, there are very few short-period surface irregularities having a wavelength of 0.04 mm or less, that is, an anti-glare layer having an antiglare layer formed only from long-period surface irregularities.
  • Rq (0.08) exceeds 0.05 ⁇ m, it has an antiglare layer that causes strong scattering due to surface irregularities with a short period of a wavelength of 0.04 mm or less.
  • the image display device is likely to be whitish.
  • Rq (0.08) of the antiglare film of the present invention is in the above range, but is preferably 0.02 ⁇ m or more and 0.04 ⁇ m or less.
  • Rq (0.25) is less than 0.05 ⁇ m, an antiglare film having an antiglare layer with a small number of surface irregularities having a wavelength of 0.04 ⁇ m or more and 0.125 mm or less is obtained.
  • Rq (0.25) exceeds 0.1 ⁇ m, surface irregularities having a wavelength of 0.04 mm or more and 0.125 mm or less increase. Since the uneven surface shape in such a wavelength region is particularly strongly correlated with the occurrence of glare, the image display device provided with such an antiglare film is likely to cause glare.
  • Rq (0.25) of the antiglare film of the present invention is in the above range, but is preferably 0.06 ⁇ m or more and 0.08 ⁇ m or less.
  • Rq (0.8) When Rq (0.8) is less than 0.07 ⁇ m, an antiglare layer having a surface irregularity shape having a wavelength of 0.125 ⁇ m or more and 0.4 mm or less is obtained, and thus an image provided with an antiglare film having such an antiglare layer.
  • the anti-glare property is insufficient when the display device is observed obliquely (about 10 to 30 °).
  • Rq (0.8) exceeds 0.12 ⁇ m, an uneven shape having a wavelength of 0.125 mm or more and 0.4 mm or less is excessively obtained, and an image display device in which whitening is likely to occur is obtained.
  • Rq (0.8) of the antiglare film of the present invention is in the above range, but is preferably 0.08 ⁇ m or more and 0.10 ⁇ m or less.
  • Rq (2.5) is less than 0.08 ⁇ m, an antiglare layer having a small uneven shape with a wavelength of 0.4 ⁇ m or more and 1.25 mm or less is formed. Therefore, an image display including an antiglare film having such an antiglare layer is provided.
  • the antiglare property is insufficient when the device is observed obliquely (30 ° or more).
  • Rq (2.5) exceeds 0.15 ⁇ m, the number of long-period irregularities having a wavelength of 0.4 mm or more and 1.25 mm or less increases, and the surface texture of the antiglare film becomes rough.
  • FIG. 1 is a drawing (perspective view) for simply explaining the reflectance for each angle when light is incident at an incident angle of 30 ° from the antiglare layer side of the antiglare film of the present invention.
  • the incident direction and the reflection direction of the light from the glare-proof layer side with respect to the film 10 are shown typically.
  • the reflected light is reflected in the direction of the reflection angle of 30 °, that is, in the regular reflection direction 12.
  • the rate that is, the regular reflectance
  • the reflected light at an arbitrary reflection angle ⁇ is denoted by reference numeral 15, and the directions 12 and 15 of the reflected light when measuring the reflectance are within the plane 30 including the direction 11 of the incident light and the normal line 20.
  • the reflectance in the direction with a reflection angle of 40 ° is R (40). In measuring the reflectance of the antiglare film, it is necessary to accurately measure a reflectance of 0.001% or less.
  • a detector having a wide dynamic range it is effective to use a detector having a wide dynamic range, and such a commercially available optical power meter can be preferably used.
  • An aperture is provided in front of the detector of the optical power meter, and measurement is performed using a goniophotometer in which the angle at which the antiglare film is viewed is 2 °.
  • visible light 380 to 780 nm can be used as incident light.
  • a light source for measurement a collimated light emitted from a light source such as a halogen lamp may be used, or a monochromatic light source such as a laser having a high degree of parallelism may be used.
  • the smooth surface of the antiglare film that is the object of measurement should be adhered to the black acrylic resin plate with an adhesive or optically adhered using a liquid such as water or glycerin. Therefore, it is preferable that only the reflectance of the outermost surface of the antiglare film can be measured.
  • the reflectance in the direction of the reflection angle 30 ° with respect to the incident light having the incident angle of 30 ° that is, the reflectance R (40 in the direction of the reflection angle 40 ° of the regular reflectance R (30).
  • Ratio R (40) / R (30) is 0.00001 or more and 0.0025 or less.
  • An image display device in which an antiglare film having a ratio R (40) / R (30) of less than 0.00001 has an insufficient antiglare property.
  • an image display device in which an antiglare film having a ratio R (40) / R (30) exceeding 0.0025 is likely to be whitish.
  • the ratio R (40) / R (30) of the antiglare film is 0.00005 or more and 0.001.
  • the following is more preferable.
  • the antiglare film of the present invention exhibits antiglare properties and prevents whitishness, so that the total haze with respect to normal incident light is in the range of 0.1% to 3%, and the surface haze is 0.1. % Or more and 2% or less.
  • the total haze of the antiglare film can be measured by a method based on the method described in JIS K 7136.
  • An image display device in which an antiglare film having a total haze or surface haze of less than 0.1% is not preferable because it does not exhibit sufficient antiglare properties. Further, when the total haze exceeds 3% or the surface haze exceeds 2%, the antiglare film is not preferable because the image display device on which the antiglare film is disposed will generate whiteness. . In addition, such an image display device has a disadvantage that the contrast becomes insufficient. The lower the internal haze obtained by subtracting the surface haze from the total haze, the better.
  • the image display apparatus in which the antiglare film having the internal haze exceeding 2.5% has a tendency to decrease the contrast.
  • the surface irregularity shape of the antiglare layer has a root mean square roughness when measured with a predetermined cut-off length within the above range, but measured with such a predetermined cut-off length. It is preferable that the average length is in the range shown below. Specifically, the average length Sm (0.25) when measured at a cutoff length of 0.25 mm is 90 ⁇ m or more and 160 ⁇ m or less, and the average length Sm (0 when measured at a cutoff length of 0.8 mm).
  • An anti-glare film having Sm (0.25) of less than 90 ⁇ m has an anti-glare layer with many surface irregularities in the vicinity of 50 ⁇ m, and an image display device provided with such an anti-glare film is likely to cause glare.
  • An anti-glare film having Sm (0.25) exceeding 160 ⁇ m has an anti-glare layer having excessively long surface irregularities, and the surface texture may be rough.
  • An antiglare film having an Sm (0.8) of less than 100 ⁇ m has an antiglare layer having a surface irregularity shape having a period of 100 to 200 ⁇ m that contributes to antiglare properties when observed obliquely (about 10 to 30 °).
  • the image display device provided with such an antiglare film may have reduced antiglare properties when observed from an oblique direction.
  • the anti-glare film having Sm (0.8) exceeding 300 ⁇ m has an anti-glare layer having excessively long surface irregularities, and the surface texture may be rough.
  • Anti-glare film with Sm (2.5) less than 200 ⁇ m has less surface unevenness with a period of 200 to 300 ⁇ m that contributes to anti-glare properties when the anti-glare film is observed obliquely (30 ° or more)
  • An image display device having a layer and having such an antiglare film may have a reduced antiglare property when the antiglare film is observed obliquely (30 ° or more).
  • the anti-glare film having Sm (2.5) exceeding 400 ⁇ m has an anti-glare layer having excessively long surface irregularities, and the surface texture may be rough.
  • the antiglare film of the present invention preferably has a transmission clarity sum Tc of 375% or more determined under the following measurement conditions.
  • the sum Tc of transmitted sharpness is calculated by measuring the image sharpness using an optical comb having a predetermined width by a method based on JIS K 7105, and calculating the sum thereof. Specifically, five types of optical combs are used in which the ratio of the width of the dark part to the bright part is 1: 1 and the width is 0.125 mm, 0.25 mm, 0.5 mm, 1.0 mm, and 2.0 mm. The image definition is then measured, and the total is obtained as Tc.
  • the antiglare film of the present invention preferably has a reflection definition Rc (45) measured by incident light having an incident angle of 45 ° of 180% or less.
  • the reflection definition Rc (45) is measured by a method based on JIS K 7105, as in the case of Tc.
  • the width is 0.25 mm, 0.5 mm,
  • the image sharpness measured using four types of optical combs of 1.0 mm and 2.0 mm is measured, and the sum thereof is obtained as Rc (45).
  • Rc (45) is 180% or less, an image display device in which such an antiglare film is disposed is preferable because the antiglare property when observed from the front and oblique directions becomes better.
  • the lower limit of Rc (45) is not particularly limited, but is preferably 80% or more, for example, in order to satisfactorily suppress the occurrence of whitishness and glare.
  • the antiglare film of the present invention preferably has a reflection definition Rc (60) of 240% or less as measured with incident light having an incident angle of 60 °.
  • the reflection definition Rc (60) is measured by a method based on the same JIS K 7105 as the reflection definition Rc (45) except that the incident angle is changed.
  • Rc (60) is 240% or less, an image display device in which the antiglare film is disposed is preferable because the antiglare property when observed obliquely becomes better.
  • the lower limit of Rc (60) is not particularly limited, but is preferably, for example, 150% or more in order to better suppress the occurrence of whitish or glare.
  • the antiglare film of the present invention is produced, for example, as follows.
  • the first method is to prepare a fine unevenness forming mold having a surface uneven shape based on a predetermined pattern formed on the molding surface, and after transferring the shape of the uneven surface of the mold to a transparent support, In this method, the transparent support on which the shape of the uneven surface is transferred is peeled off from the mold.
  • the second method is to prepare a composition containing fine particles, a resin (binder) and a solvent, in which the fine particles are dispersed in a resin solution, apply the composition onto a transparent support, and dry as necessary. This is a method of curing the coating film (coating film containing fine particles) formed in (1).
  • the coating film thickness and the aggregation state of the fine particles are adjusted according to the composition of the composition, the drying conditions of the coating film, etc., thereby exposing the fine particles to the surface of the coating film, and transparent random irregularities. Form on the support.
  • the 1st method preferable as a manufacturing method of the anti-glare film of this invention is explained in full detail.
  • a prepared fine unevenness forming mold hereinafter sometimes abbreviated as “mold” is important.
  • the surface irregularity shape of the mold (hereinafter, sometimes referred to as “mold irregularity surface”) is formed based on a predetermined pattern, and this predetermined pattern represents its one-dimensional power spectrum.
  • the graph required when expressed as intensity against the spatial frequency is a spatial frequency of 0.015 ⁇ m. -1 0.05 ⁇ m or more -1
  • the “pattern” means image data for forming the fine uneven surface of the antiglare layer of the antiglare film, a mask having a light transmitting part and a light shielding part, etc. ".
  • a method for obtaining a two-dimensional power spectrum of a pattern will be described, for example, when the pattern is image data.
  • the gradation is expressed by a two-dimensional function g (x, y).
  • the obtained two-dimensional function g (x, y) is Fourier-transformed as shown in the following formula (1) to obtain a two-dimensional function G (f x , F y )
  • the obtained two-dimensional function G (f x , F y ) Is squared to obtain the two-dimensional power spectrum ⁇ (f x , F y )
  • x and y represent orthogonal coordinates in the image data plane.
  • F x And f y Represents the frequencies in the x and y directions, respectively, and has a dimension of the reciprocal of the length.
  • ⁇ is a pi and i is an imaginary unit.
  • This two-dimensional power spectrum ⁇ (f x , F y ) Represents the spatial frequency distribution of the pattern.
  • the pattern for anti-glare film manufacture of this invention also becomes isotropic. Therefore, the two-dimensional function ⁇ (f representing the two-dimensional power spectrum of the pattern x , F y ) Can be expressed by a one-dimensional function ⁇ (f) that depends only on the distance f from the origin (0, 0).
  • This one-dimensional function ⁇ (f) represents the one-dimensional power spectrum of the pattern.
  • the two-dimensional function ⁇ (f x , F y ) From which the one-dimensional function ⁇ (f) is obtained.
  • the two-dimensional function ⁇ (f x , F y ) Is displayed in polar coordinates as in equation (3).
  • ⁇ is a declination angle in Fourier space.
  • the one-dimensional function ⁇ (f) can be obtained by calculating the rotational average of the two-dimensional function ⁇ (fcos ⁇ , fsin ⁇ ) displayed in polar coordinates as shown in Equation (4).
  • the one-dimensional power spectrum ⁇ (f) of the pattern has a spatial frequency of 0.015 ⁇ m. -1 0.05 ⁇ m or more -1 It is preferable to have a minimum value below.
  • the two-dimensional function g (x, y) of gradation is usually obtained as a discrete function. In that case, a two-dimensional power spectrum may be calculated by discrete Fourier transform.
  • the one-dimensional power spectrum of the pattern is obtained in the same manner from the two-dimensional power spectrum of the pattern.
  • the average value of the two-dimensional function g (x, y) is the maximum value of the two-dimensional function g (x, y) and the two-dimensional function. It is preferably 30 to 70% of the difference from the minimum value of g (x, y).
  • the two-dimensional function g (x, y) is a pattern aperture ratio. With respect to the case where the mold uneven surface is manufactured by a lithography method, the pattern aperture ratio here is defined.
  • the aperture ratio when the resist used in the lithography method is a positive resist means the ratio of the exposed area to the entire surface area of the coating film when image data is drawn on the coating film of the positive resist.
  • the aperture ratio when the resist used in the lithography method is a negative resist means the ratio of the unexposed area to the entire surface area of the coating film when image data is drawn on the coating film of the negative resist.
  • the aperture ratio when the lithography method is batch exposure means the ratio of the light-transmitting portion of the mask having the light-transmitting portion and the light-shielding portion.
  • the one-dimensional power spectrum of the pattern has a spatial frequency of 0.015 ⁇ m.
  • a desired mold can be manufactured so as to have one minimum value below, and can be manufactured according to the first method using the mold.
  • Spatial frequency 0.015 ⁇ m -1 0.05 ⁇ m or more -1 In order to create a one-dimensional power spectrum pattern having a minimum value below, it has a random brightness distribution in which shading is determined by a pattern created by randomly arranging dots, a random number, or a pseudo-random number generated by a computer A pattern (preliminary pattern) is created in advance, and a component in a specific spatial frequency range is removed from the preliminary pattern. In order to remove components in this specific spatial frequency range, the preliminary pattern may be passed through a band pass filter.
  • a mold uneven surface for transferring the surface uneven shape formed based on the predetermined pattern to a transparent support is an embossing method characterized by producing an antiglare layer on a transparent support.
  • the embossing method include a photoembossing method using a photocurable resin and a hot embossing method using a thermoplastic resin. Of these, the photo-embossing method is preferable from the viewpoint of productivity.
  • a photocurable resin layer is formed on a transparent support (the surface of the transparent support), and the photocurable resin layer is cured while being pressed against the uneven surface of the mold.
  • This is a method of transferring the shape of the uneven surface of the mold to the photocurable resin layer.
  • a photocurable resin photocurable resin contained in the photocurable resin layer
  • a photocurable resin is cured by irradiating with a resin that can cure the resin, and then the cured photocurable resin layer is formed.
  • the support is peeled from the mold.
  • the cured photocurable resin layer becomes an antiglare layer.
  • an ultraviolet curable resin is preferable as the photocurable resin, and when the ultraviolet curable resin is used, ultraviolet light is used as the irradiation light (the ultraviolet curable resin is used as the photocurable resin).
  • the embossing method using a functional resin is hereinafter referred to as “UV embossing method”).
  • a polarizing film may be used as a transparent support, and the transparent support may be replaced with a polarizing film in the embossing method described here.
  • the kind of the ultraviolet curable resin used for the UV embossing method is not particularly limited, and an appropriate one can be used from commercially available resins according to the kind of transparent support to be used and the kind of ultraviolet light.
  • Such an ultraviolet curable resin is a concept including a monomer (polyfunctional monomer), an oligomer and a polymer that are photopolymerized by ultraviolet irradiation, and a mixture thereof.
  • a resin that can be cured even with visible light having a wavelength longer than that of ultraviolet rays can be used by using a combination of photoinitiators appropriately selected according to the type of the ultraviolet curable resin. A description of suitable examples of the ultraviolet curable resin will be given later.
  • the transparent support used in the UV embossing method for example, glass or plastic film can be used. Any plastic film can be used as long as it has appropriate transparency and mechanical strength. Specifically, for example, a transparent resin film made of cellulose acetate resin such as TAC (triacetyl cellulose); acrylic resin; polycarbonate resin; polyester resin such as polyethylene terephthalate; polyolefin resin such as polyethylene and polypropylene Is mentioned. These transparent resin films may be solvent cast films or extruded films.
  • the thickness of the transparent support is, for example, 10 to 500 ⁇ m, preferably 10 to 100 ⁇ m, and more preferably 10 to 60 ⁇ m.
  • the hot embossing method a transparent resin film formed of a thermoplastic resin is pressed against a mold uneven surface while being heated and softened, and the surface uneven shape of the mold uneven surface is transferred to the transparent resin film.
  • the transparent resin film used for the hot embossing method may be any material as long as it is substantially optically transparent. Specifically, examples include those exemplified as the transparent resin film used for the UV embossing method. Can do.
  • the molding surface of the mold can transfer the surface uneven shape formed based on the above-described predetermined pattern onto the transparent support (the surface uneven shape formed based on the predetermined pattern).
  • a lithography method is preferred. Further, the lithography method includes [1] first plating step, [2] polishing step, [3] photosensitive resin film forming step, [4] exposure step, [5] development step, and [6].
  • FIG. 2 is a diagram schematically illustrating a preferred example of the first half of the mold manufacturing method.
  • FIG. 2 schematically shows a cross section of the mold in each step.
  • die for glare-proof film manufacture of this invention is demonstrated in detail, referring FIG. [1] First plating process
  • a base material (mold base material) used for mold manufacture is prepared, and copper plating is applied to the surface of the mold base material.
  • Copper plating has a high covering property and a strong smoothing action, so that a flat and glossy surface can be formed by filling minute irregularities and voids of the mold base. Therefore, by performing copper plating on the mold substrate surface in this way, even if chromium plating is performed in the second plating step described later, it is caused by minute irregularities and voids existing on the substrate. The rough surface of the chrome plating that appears is eliminated, and the occurrence of fine cracks is reduced due to the high coverage of the copper plating.
  • copper used for the copper plating in the first plating step pure copper metal or an alloy containing copper as a main component (copper alloy) may be used. Therefore, “copper” used for copper plating is a concept including copper and a copper alloy.
  • the copper plating may be electrolytic plating or electroless plating, but the copper plating in the first plating step is preferably electrolytic plating.
  • the preferable plating layer in the first plating step is not limited to a copper plating layer but may be a laminate of a copper plating layer and a plating layer made of a metal other than copper. If the plating layer formed by applying copper plating on the surface of the mold base is too thin, the influence of the underlying surface (fine irregularities, voids, cracks, etc.) cannot be eliminated, so the thickness is 50 ⁇ m. The above is preferable. The upper limit of the plating layer thickness is not critical, but is preferably about 500 ⁇ m or less in consideration of cost and the like.
  • the mold base is preferably a base made of a metal material. Furthermore, from the viewpoint of cost, the metal material is preferably aluminum or iron.
  • a lightweight aluminum base is particularly preferable as the mold base.
  • aluminum and iron here do not need to be a pure metal, respectively, and may be an alloy containing aluminum or iron as a main component.
  • the shape of the base material for molds should just be an appropriate shape according to the manufacturing method of the anti-glare film of this invention. Specifically, it is selected from a flat substrate, a columnar substrate, a cylindrical (roll shape) substrate, and the like. When manufacturing the anti-glare film of this invention continuously, it is preferable in a metal mold
  • polishing process In the subsequent polishing step, the surface (plating layer) of the mold base that has been subjected to copper plating in the first plating step described above is polished.
  • die used for the manufacturing method of the anti-glare film of this invention it is preferable to grind
  • Commercial products such as flat and roll-shaped substrates used as mold substrates are often subjected to machining such as cutting and grinding to achieve the desired accuracy. Fine processed marks remain on the substrate surface. Therefore, even if a plating (preferably copper plating) layer is formed by the first plating step, the processed marks may remain.
  • the surface of the mold base is not always completely smooth. That is, even if the mold substrate having the surface with the deep processed marks remaining thereon is subjected to the steps [3] to [9] described later, the surface uneven shape of the obtained mold surface May differ from the surface uneven shape based on the predetermined pattern, or may include unevenness derived from the processed eyes.
  • the target optical characteristics such as anti-glare property cannot be sufficiently exhibited, and there is a possibility of unexpected influence.
  • the polishing method applied in the polishing step is not particularly limited, and a polishing method according to the shape and properties of the mold base material to be polished is selected.
  • polishing method applicable to the polishing step include a mechanical polishing method, an electrolytic polishing method, and a chemical polishing method.
  • the mechanical polishing method any of super finishing method, lapping, fluid polishing method, buff polishing method and the like can be used.
  • the surface of the base material for molds it is good also considering the surface of the base material for molds as a mirror surface by carrying out mirror surface cutting using a cutting tool in a grinding
  • carbide tool, CBN tool, ceramic tool, diamond tool, etc. can be used as the material and shape of the cutting tool depending on the type (metal material) of the mold base material. From this point of view, it is preferable to use a diamond bite.
  • the surface roughness after polishing is preferably 0.1 ⁇ m or less, and more preferably 0.05 ⁇ m or less, expressed as a centerline average roughness Ra based on JIS B 0601.
  • the center line average roughness Ra after polishing is larger than 0.1 ⁇ m, there is a possibility that the influence of the surface roughness remains on the mold uneven surface of the finally obtained mold.
  • the lower limit of the center line average roughness Ra is not particularly limited. Therefore, the lower limit may be determined from the viewpoint of processing time (polishing time) and processing cost in the polishing process.
  • a solution in which a photosensitive resin is dissolved in a solvent is applied to the surface 41 of the mold base 40 subjected to the mirror polishing obtained in the above-described polishing step.
  • a photosensitive resin film is formed by heating and drying.
  • FIG. 2 schematically shows a state in which the photosensitive resin film 50 is formed on the surface 41 of the mold base 40 (FIG. 2B).
  • the photosensitive resin conventionally known photosensitive resins can be used, and those already marketed as resists can be used as they are or after being purified by filtration or the like as necessary.
  • a negative photosensitive resin having a property of curing a photosensitive part a monomer or prepolymer of a (meth) acrylic acid ester having an acryloyl group or a methacryloyl group in a molecule, a mixture of bisazide and a diene rubber Polyvinyl cinnamate compounds and the like can be used.
  • a positive photosensitive resin having a property that a photosensitive portion is eluted by development and only an unexposed portion remains a phenol resin type or a novolac resin type can be used.
  • Such a positive or negative photosensitive resin can also be easily obtained from the market as a positive resist or a negative resist.
  • the photosensitive resin solution may contain various additives such as a sensitizer, a development accelerator, an adhesion modifier, and a coating property improver, if necessary. What mixed with the commercially available resist can also be used as a photosensitive resin solution.
  • an optimum solvent is selected to form a smoother photosensitive resin film, and the photosensitive resin is dissolved in the solvent.
  • a photosensitive resin solution obtained by dilution is preferable to use. Such a solvent is further selected depending on the type of the photosensitive resin and its solubility.
  • a cellosolve solvent, a propylene glycol solvent, an ester solvent, an alcohol solvent, a ketone solvent, a highly polar solvent, or the like is selected.
  • an optimal resist may be selected and used as a photosensitive resin solution depending on the type of the solvent contained in the resist or by conducting an appropriate preliminary experiment.
  • the method of applying the photosensitive resin solution to the mirror-polished surface of the mold base is as follows: meniscus coating, fountain coating, dip coating, spin coating, roll coating, wire bar coating, air knife coating, blade coating, curtain The method is selected from known methods such as coating and ring coating according to the shape of the mold base.
  • the thickness of the photosensitive resin film after coating is preferably in the range of 1 to 10 ⁇ m, more preferably in the range of 6 to 9 ⁇ m, as the thickness after drying.
  • Exposure process is a process of transferring the target pattern to the photosensitive resin film 50 by exposing the photosensitive resin film 50 formed in the above-described photosensitive resin film forming process.
  • the light source used in the exposure process may be appropriately selected according to the photosensitive wavelength and sensitivity of the photosensitive resin contained in the photosensitive resin film. For example, the g-line (wavelength: 436 nm) and h-line (wavelength: high-pressure mercury lamp).
  • the exposure method may be a batch exposure method using a mask corresponding to a target pattern, or a drawing method.
  • the graph when the one-dimensional power spectrum is expressed as the intensity with respect to the spatial frequency is the spatial frequency of 0.015 ⁇ m. -1 0.05 ⁇ m or more -1
  • it has one minimum value.
  • it is preferable to expose the target pattern on the photosensitive resin film in a precisely controlled state in order to form the surface uneven shape of the mold with higher accuracy.
  • a target pattern is created as image data on a computer, and a pattern based on the image data is formed on the photosensitive resin film by laser light emitted from a computer-controlled laser head. It is preferable to draw (laser drawing).
  • FIG. 2C schematically shows a state in which the pattern is exposed to the photosensitive resin film 50.
  • the photosensitive resin film 50 contains a negative photosensitive resin (for example, when a negative resist is used as the photosensitive resin solution)
  • the exposed region 51 receives the exposure energy and receives the photosensitive resin.
  • the crosslinking reaction proceeds and the solubility in the developer described later is lowered.
  • the unexposed area 52 in the development process is dissolved by the developer, and only the exposed area 51 remains on the surface of the base material to become the mask 60.
  • the photosensitive resin film 50 contains a positive photosensitive resin (for example, when a positive resist is used as the photosensitive resin solution)
  • the exposed region 51 receives the exposure energy and is exposed to light.
  • the bonding of the functional resin is broken, it is easily dissolved in the developer described later. Therefore, the area 51 exposed in the development process is dissolved by the developer, and only the unexposed area 52 remains on the substrate surface to become the mask 60.
  • the developer includes inorganic alkalis such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium silicate, sodium metasilicate, and aqueous ammonia; primary amines such as ethylamine and n-propylamine; Secondary amines such as n-butylamine; tertiary amines such as triethylamine and methyldiethylamine; alcohol amines such as dimethylethanolamine and triethanolamine; tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, trimethylhydroxyethylammonium Quaternary ammonium compounds such as hydroxide; alkaline aqueous solutions such as cyclic amines such as pyrrole and pihelidine; and organic solvents such as xylene and toluene.
  • inorganic alkalis such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium silicate, sodium metasilicate, and aqueous
  • FIG. 2D schematically shows a state after the development process is performed using a negative type photosensitive resin.
  • the unexposed area 52 is dissolved by the developer, and only the exposed area 51 remains on the substrate surface, and the photosensitive resin film in this area becomes the mask 60.
  • FIG. 2 (e) schematically shows a state after a development process is performed using a positive type photosensitive resin.
  • the exposed region 51 is dissolved by the developer, and only the unexposed region 52 remains on the substrate surface, and the photosensitive resin film in this region becomes the mask 60.
  • FIG. 3 is a diagram schematically showing a preferred example of the latter half of the mold manufacturing method.
  • FIG. 3A schematically shows a state after the plating layer mainly having no mask is etched by the first etching process.
  • the plating layer under the mask 60 is not etched because the photosensitive resin film acts as the mask 60, but etching from the region 45 without the mask proceeds with the progress of etching.
  • the plating layer under the mask 60 is also etched.
  • the etching process (first etching process) in the first etching step is usually ferric chloride (FeCl 3 ) Liquid, cupric chloride (CuCl) 2 ) Solution, alkaline etching solution (Cu (NH 3 ) 4 Cl 2 This is performed by corroding the plating layer (metal surface) in a region where the mask 60 is not present on the surface of the mold base using an etching solution such as).
  • etching treatment a strong acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid can be used as an etching solution.
  • a strong acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid
  • reverse electrolytic etching is performed by applying a potential opposite to that at the time of electrolytic plating.
  • Etching treatment can also be performed using.
  • the surface irregularities formed on the mold base when the etching process is performed are the constituent material (metal material) or plating layer of the mold base, the type of photosensitive resin film, and the first etching. Since it differs depending on the type of etching treatment in the process, etc., it cannot be generally stated.
  • the etching amount is 10 ⁇ m or less, the surface of the mold base in contact with the etching solution is etched approximately isotropically.
  • the etching amount here is the thickness of the plating layer that is scraped off by etching.
  • the etching amount in the first etching step is preferably 1 to 50 ⁇ m, more preferably 2 to 10 ⁇ m, and further preferably 5 to 8 ⁇ m.
  • the etching amount is less than 1 ⁇ m, almost no surface unevenness is formed on the mold, and the mold has a substantially flat surface. Therefore, even if an antiglare film is produced using the mold, it is necessary.
  • the antiglare film has almost no surface irregularity.
  • the first etching process in the first etching step may be performed by one etching process, or the etching process may be performed twice or more.
  • the total etching amount in the two or more etching processes is preferably 1 to 50 ⁇ m.
  • the subsequent photosensitive resin film peeling step is a step that acts as a mask 60 in the first etching step and removes the photosensitive resin film remaining on the mold base material. It is preferable to completely remove the remaining photosensitive resin film. In the photosensitive resin film peeling step, it is preferable to dissolve the photosensitive resin film using a peeling solution.
  • a peeling solution those prepared by changing the concentration and pH of the developer exemplified as the developer can be used. Or the same thing as the developing solution used at the image development process is used, and the photosensitive resin film can also be peeled by changing temperature, immersion time, etc. with the image development process.
  • the contact method (peeling method) between the peeling liquid and the mold substrate is not particularly limited, and immersion peeling, spray peeling, brush peeling, ultrasonic peeling, and the like can be used.
  • FIG. 3B schematically shows a state where the photosensitive resin film used as the mask 60 in the first etching process is completely dissolved and removed by the photosensitive resin film peeling process.
  • the first surface uneven shape 46 is formed on the surface of the mold base by the mask 60 made of the photosensitive resin film and the etching process.
  • Second etching step is a step for blunting the first surface unevenness 46 formed by the first etching step by further etching processing (second etching processing).
  • the surface inclination is steep in the surface uneven shape as described above.
  • Dulling the part is called “shape blunting”.
  • the first surface irregularity shape 46 of the mold base 40 is blunted by the second etching process, so that a portion with a steep surface inclination is blunted, and a gentle surface inclination is obtained.
  • a state in which the second surface uneven shape 47 is formed is shown.
  • die obtained by performing a 2nd etching process has the effect that the optical characteristic of the anti-glare film of this invention manufactured using the said metal mold
  • the second etching process in the second etching process an etching process using the same etching solution as that in the first etching process or reverse electrolytic etching can be used.
  • the degree of shape blunting after the second etching process depends on the material of the mold base material, the means for the second etching process, Since it differs depending on the size and depth of the unevenness in the surface unevenness shape obtained by one etching process, it cannot be generally stated, but the largest factor in controlling the bluntness (degree of shape blunting) is the second factor This is the etching amount in the etching process.
  • the etching amount here is also represented by the thickness of the base material to be cut by the second etching process.
  • the etching amount of the second etching process is small, the effect regarding the blunting of the surface uneven shape obtained by the first etching process becomes insufficient. Therefore, an antiglare film manufactured using a mold with insufficient shape blunting may cause whitening.
  • the etching amount in the second etching process is too large, the surface unevenness formed by the first etching process is almost eliminated, and the mold may have a substantially flat surface. An antiglare film manufactured using a mold having such a substantially flat surface may have insufficient antiglare properties.
  • the etching amount of the second etching treatment is preferably in the range of 1 to 50 ⁇ m, more preferably in the range of 4 to 20 ⁇ m, and further preferably in the range of 13 to 18 ⁇ m.
  • the second etching process may be performed by one etching process, or the etching process may be performed twice or more.
  • the total etching amount in the two or more etching processes is preferably 1 to 50 ⁇ m.
  • the second plating step it is possible to further blunt the surface irregularity shape 47 of the mold base and to protect the mold surface by the plating.
  • the chrome plating layer 71 is formed on the second surface concavo-convex shape 47 formed by the second etching process, so that the surface concavo-convex shape becomes dull (mold concavo-convex surface). 70).
  • the plating layer formed by the second plating step is preferably chromium plating in that it has gloss, high hardness, a low friction coefficient, and good release properties.
  • chromium plating that expresses good gloss, so-called glossy chromium plating or decorative chromium plating, is particularly preferable.
  • Chromium plating is usually performed by electrolysis, but chromic anhydride (CrO) is used as the plating bath. 3 ) And a small amount of sulfuric acid are used as the plating solution.
  • die for glare-proof film manufacture of this invention is obtained by performing the metal plating in a 2nd plating process, Preferably chromium plating.
  • the thickness of the chromium plating layer When the thickness is small, the degree of shape blunting becomes insufficient, and the antiglare film obtained using such a mold has a ratio R (40) of the reflectance R (30) and the reflectance R (40). ) / R (30) may exceed 0.0025. On the other hand, if the thickness of the chromium plating layer is too thick, the ratio R (40) / R (30) will be less than 0.00001.
  • the inventors of the present invention provide an antiglare film for sufficiently preventing the occurrence of whitish and obtaining an image display device having an excellent antiglare property, so that the thickness of the chromium plating layer is within a predetermined range.
  • the thickness of the chromium plating layer is preferably in the range of 1 to 10 ⁇ m, and more preferably in the range of 3 to 6 ⁇ m.
  • the chromium plating layer formed in the second plating step is preferably formed so as to have a Vickers hardness of 800 or more, and more preferably 1000 or more.
  • the chrome plating layer has a Vickers hardness of less than 800
  • the durability of the mold tends to decrease.
  • the said photoembossing method preferable as a method for manufacturing the anti-glare film of this invention is demonstrated.
  • the UV embossing method is particularly preferable as the photoembossing method.
  • the embossing method using an active energy ray-curable resin will be specifically described.
  • [P1] A coating process for forming a coating layer by coating a coating liquid containing an active energy ray-curable resin on a transparent support that is continuously conveyed
  • [P2] A main curing step of irradiating an active energy ray from the transparent support side with the surface of the mold pressed against the surface of the coating layer; It is preferable to contain.
  • FIG. 4 is a diagram schematically showing a preferred example of a production apparatus used in the method for producing an antiglare film of the present invention.
  • the arrow in FIG. 4 shows the conveyance direction of a film, or the rotation direction of a roll.
  • a coating layer containing an active energy ray-curable resin is applied on the transparent support to form a coating layer.
  • a coating liquid containing an active energy ray-curable resin composition is applied in the coating zone 83 to the transparent support 81 that is fed from the feed roll 80.
  • Coating of the coating liquid on the transparent support 81 can be performed by, for example, a gravure coating method, a micro gravure coating method, a rod coating method, a knife coating method, an air knife coating method, a kiss coating method, a die coating method, or the like. .
  • the transparent support 81 only needs to be translucent, and for example, glass or plastic film can be used.
  • the plastic film only needs to have appropriate transparency and mechanical strength. Specifically, any of those already exemplified as the transparent support for use in the UV embossing method can be used. Further, in order to continuously produce the antiglare film of the present invention by the photoembossing method, an appropriate flexibility is obtained. Those having sex are selected.
  • the surface of the transparent support 81 (surface on the coating layer side) may be subjected to various surface treatments. Good.
  • the surface treatment examples include corona discharge treatment, glow discharge treatment, acid surface treatment, alkali surface treatment, and ultraviolet irradiation treatment. Further, another layer such as a primer layer may be formed on the transparent support 81, and a coating solution may be applied on the other layer.
  • the surface (coating layer and Is preferably hydrophilized by various surface treatments. This surface treatment may be performed after the production of the antiglare film.
  • the coating liquid contains an active energy ray-curable resin and usually further contains a photopolymerization initiator (radical polymerization initiator).
  • Active energy ray curable resin As the active energy ray-curable resin, for example, a resin containing a polyfunctional (meth) acrylate compound can be preferably used.
  • the polyfunctional (meth) acrylate compound is a compound having at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule.
  • polyfunctional (meth) acrylate compound examples include, for example, ester compounds of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid, urethane (meth) acrylate compounds, polyester (meth) acrylate compounds, epoxy (meth) acrylate compounds, and the like. And a polyfunctional polymerizable compound containing two or more (meth) acryloyl groups.
  • polyhydric alcohol examples include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, tetrapropylene glycol, polypropylene glycol, propanediol, butanediol, and pentanediol.
  • Hexanediol Hexanediol, neopentyl glycol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, 2,2'-thiodiethanol, divalent alcohols such as 1,4-cyclohexanedimethanol; trimethylolpropane, glycerol, pentaerythritol , Trihydric or higher alcohols such as diglycerol, dipentaerythritol and ditrimethylolpropane.
  • esterified products of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, and neopentyl glycol.
  • Examples of the urethane (meth) acrylate compound include a urethanization reaction product of an organic isocyanate having a plurality of isocyanate groups in one molecule and a (meth) acrylic acid derivative having a hydroxyl group.
  • Examples of organic isocyanates having a plurality of isocyanate groups in one molecule include two isocyanates in one molecule such as hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, tolylene diisocyanate, naphthalene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, and dicyclohexylmethane diisocyanate.
  • Organic isocyanate having a group organic isocyanate having three isocyanate groups in one molecule obtained by subjecting these organic isocyanates to isocyanurate modification, adduct modification, biuret modification, and the like.
  • examples of the (meth) acrylic acid derivative having a hydroxyl group include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2- Examples include hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate and pentaerythritol triacrylate.
  • a preferable polyester (meth) acrylate compound is a polyester (meth) acrylate obtained by reacting a hydroxyl group-containing polyester with (meth) acrylic acid.
  • the hydroxyl group-containing polyester preferably used is a hydroxyl group-containing polyester obtained by an esterification reaction of a polyhydric alcohol, a carboxylic acid, a compound having a plurality of carboxyl groups, and / or an anhydride thereof.
  • the polyhydric alcohol include the same compounds as those described above.
  • bisphenol A etc. are mentioned as phenols other than a polyhydric alcohol.
  • the carboxylic acid include formic acid, acetic acid, butyl carboxylic acid, benzoic acid and the like.
  • the compounds having a plurality of carboxyl groups and / or anhydrides thereof include maleic acid, phthalic acid, fumaric acid, itaconic acid, adipic acid, terephthalic acid, maleic anhydride, phthalic anhydride, trimellitic acid, cyclohexanedicarboxylic anhydride Thing etc. are mentioned.
  • polyfunctional (meth) acrylate compounds as described above hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meta) from the viewpoint of improving the strength of the cured product and availability.
  • Ester compounds such as acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate; hexamethylene diisocyanate and 2-hydroxyethyl Adduct of (meth) acrylate; adduct of isophorone diisocyanate and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate; of tolylene diisocyanate and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate Adducts; adduct adduct modified isophorone diisocyanate with 2-hydroxyethyl (meth) acrylate; and adducts with biuret of isophorone diisocyanate and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate.
  • the active energy ray curable resin may contain a monofunctional (meth) acrylate compound in addition to the polyfunctional (meth) acrylate compound.
  • the monofunctional (meth) acrylate compound include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) ) Acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, acryloylmorpholine , N-vinylpyrrolidone, tetrahydrofurfuryl (
  • the active energy ray-curable resin may contain a polymerizable oligomer.
  • the polymerizable oligomer is, for example, the polyfunctional (meth) acrylate compound, that is, an ester compound of a polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid, a urethane (meth) acrylate compound, a polyester (meth) acrylate compound, or an epoxy (meth). It can be an oligomer such as a dimer, trimer or the like such as an acrylate.
  • polymerizable oligomers include urethane (meth) acrylate oligomers obtained by reacting polyisocyanates having at least two isocyanate groups in the molecule with polyhydric alcohols having at least one (meth) acryloyloxy group.
  • polyisocyanate examples include hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, and a polymer of xylylene diisocyanate.
  • the polyhydric alcohol having at least one (meth) acryloyloxy group includes Hydroxyl group-containing (meth) acrylic acid ester obtained by esterification reaction of alcohol and (meth) acrylic acid, and as polyhydric alcohol, for example, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,6 -Hexanediol, diethylene glycol, triethylene glycol, neopentyl glycol, polyethylene glycol, polypropylene glycol, trimethylolpropane, glycerin, pentaerythritol, What is pentaerythritol.
  • this polyhydric alcohol having at least one (meth) acryloyloxy group a part of the alcoholic hydroxyl group of the polyhydric alcohol is esterified with (meth) acrylic acid, and the alcoholic hydroxyl group is present in the molecule. It remains.
  • a polyester (meta) obtained by reacting a compound having a plurality of carboxyl groups and / or an anhydride thereof with a polyhydric alcohol having at least one (meth) acryloyloxy group.
  • Acrylate oligomers a polyester (meta) obtained by reacting a compound having a plurality of carboxyl groups and / or an anhydride thereof with a polyhydric alcohol having at least one (meth) acryloyloxy group.
  • Examples of the compound having a plurality of carboxyl groups and / or anhydrides thereof are the same as those described for the polyester (meth) acrylate of the polyfunctional (meth) acrylate compound.
  • Examples of the polyhydric alcohol having at least one (meth) acryloyloxy group include those described for the urethane (meth) acrylate oligomer.
  • further examples of urethane (meth) acrylate oligomers are obtained by reacting isocyanates with hydroxyl groups of a hydroxyl group-containing polyester, a hydroxyl group-containing polyether or a hydroxyl group-containing (meth) acrylic acid ester.
  • the hydroxyl group-containing polyester preferably used is a hydroxyl group-containing polyester obtained by an esterification reaction of a polyhydric alcohol, a carboxylic acid, a compound having a plurality of carboxyl groups, and / or an anhydride thereof.
  • Examples of the polyhydric alcohol and the compound having a plurality of carboxyl groups and / or anhydrides thereof are the same as those described for the polyester (meth) acrylate compound of the polyfunctional (meth) acrylate compound.
  • the hydroxyl group-containing polyether preferably used is a hydroxyl group-containing polyether obtained by adding one or more alkylene oxides and / or ⁇ -caprolactone to a polyhydric alcohol.
  • the polyhydric alcohol may be the same as that which can be used for the hydroxyl group-containing polyester.
  • the hydroxyl group-containing (meth) acrylic acid ester preferably used include the same as those described for the polymerizable oligomeric urethane (meth) acrylate oligomer.
  • isocyanates compounds having one or more isocyanate groups in the molecule are preferable, and divalent isocyanate compounds such as tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, and isophorone diisocyanate are particularly preferable. These polymerizable oligomer compounds can be used alone or in combination of two or more.
  • Photopolymerization initiator A photoinitiator can be suitably selected according to the kind of active energy ray applied to anti-glare film manufacture of this invention. Moreover, when using an electron beam as an active energy ray, the coating liquid which does not contain a photoinitiator may be used for anti-glare film manufacture of this invention.
  • the photopolymerization initiator include acetophenone photopolymerization initiator, benzoin photopolymerization initiator, benzophenone photopolymerization initiator, thioxanthone photopolymerization initiator, triazine photopolymerization initiator, and oxadiazole photopolymerization initiator. An initiator or the like is used.
  • photopolymerization initiator examples include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2 '-Biimidazole, 10-butyl-2-chloroacridone, 2-ethylanthraquinone, benzyl, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, methyl phenylglyoxylate, titanocene compound and the like can also be used.
  • the amount of the photopolymerization initiator used is usually 0.5 to 20 parts by weight, preferably 1 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the active energy ray-curable resin.
  • the coating liquid may contain a solvent such as an organic solvent in order to improve the coating property on the transparent support.
  • organic solvents examples include aliphatic hydrocarbons such as hexane, cyclohexane, and octane; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; alcohols such as ethanol, 1-propanol, isopropanol, 1-butanol, and cyclohexanol; methyl ethyl ketone, methyl isobutyl Ketones such as ketone and cyclohexanone; esters such as ethyl acetate, butyl acetate and isobutyl acetate; glycols such as ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether and propylene glycol monoethyl ether Ethers; ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, etc.
  • aliphatic hydrocarbons such
  • Stealted glycol ethers such as 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, 2-butoxyethanol; 2- (2-methoxyethoxy) ethanol, 2- (2-ethoxyethoxy) ethanol, 2- (2- It can be selected from carbitols such as butoxyethoxy) ethanol in consideration of viscosity and the like.
  • These solvents may be used alone or as a mixture of several kinds as required. After coating, it is necessary to evaporate the organic solvent. Therefore, the boiling point is desirably in the range of 60 ° C to 160 ° C.
  • the saturated vapor pressure at 20 ° C. is preferably in the range of 0.1 kPa to 20 kPa.
  • a coating liquid contains a solvent
  • the drying temperature is appropriately selected depending on the solvent used and the type of transparent support. Generally, it is in the range of 20 ° C. to 120 ° C., but is not limited thereto. When there are a plurality of drying furnaces, the temperature may be changed for each drying furnace.
  • the thickness of the coating layer after drying is preferably 1 to 30 ⁇ m. Thus, a laminate in which the transparent support and the coating layer are laminated is formed.
  • the surface of the coating layer is irradiated with an active energy ray from the transparent support side in a state where the mold uneven surface (molded surface) having a desired surface uneven shape is pressed to cure the coating layer.
  • This is a step of forming a cured resin layer on the transparent support. Thereby, the coating layer is cured, and the surface irregularity shape of the mold irregularity surface is transferred to the coating layer surface.
  • the mold used here is of a roll shape, and is manufactured by using a roll-shaped mold substrate in the mold manufacturing method already described. For example, as shown in FIG.
  • this step is performed by, for example, coating zone 83 (drying zone 84 when drying is performed, and irradiation by active energy ray irradiation device 86 when a pre-curing step described later is performed.
  • the active energy ray is irradiated to the laminate having the coating layer that has passed through the pre-curing zone) using an active energy ray irradiating device 86 such as an ultraviolet ray irradiating device disposed on the transparent support 81 side. This can be done.
  • a roll-shaped mold 87 is pressed against the surface of the coating layer of the laminate that has undergone the curing process using a crimping device such as a nip roll 88, and in this state, the active energy ray irradiation device 86 is used to make the transparent
  • the coating layer 82 is cured by irradiating active energy rays from the support 81 side.
  • curing the coating layer means that the active energy ray-curable resin contained in the coating layer receives the energy of the active energy ray to cause a curing reaction.
  • the use of the nip roll is effective in preventing air bubbles from being mixed between the coating layer of the laminate and the mold.
  • One or a plurality of active energy ray irradiation apparatuses can be used. After irradiation with the active energy ray, the laminate is peeled from the mold 87 with the nip roll 89 on the outlet side as a fulcrum. In the obtained transparent support and the cured coating layer, the cured coating layer becomes an antiglare layer, and the antiglare film of the present invention is obtained.
  • the obtained antiglare film is usually wound up by a film winding device 90. At this time, for the purpose of protecting the antiglare layer, it may be wound up while a protective film made of polyethylene terephthalate, polyethylene or the like is adhered to the surface of the antiglare layer through a pressure-sensitive adhesive layer having removability.
  • the active energy ray used in this step is appropriately selected from ultraviolet rays, electron beams, near ultraviolet rays, visible light, near infrared rays, infrared rays, X-rays and the like according to the type of the active energy ray curable resin contained in the coating liquid.
  • ultraviolet rays and electron beams are preferable, and ultraviolet rays are particularly preferable because they are easy to handle and high energy is obtained (as described above, the UV embossing method is preferable).
  • a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, an electrodeless lamp, a metal halide lamp, a xenon arc lamp, or the like can be used.
  • An ArF excimer laser, a KrF excimer laser, an excimer lamp, synchrotron radiation, or the like can also be used.
  • an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, an electrodeless lamp, a xenon arc lamp, and a metal halide lamp are preferably used.
  • the electron beam 50 to 1000 keV emitted from various electron beam accelerators such as Cockloft Walton type, Bande graph type, resonance transformation type, insulation core transformation type, linear type, dynamitron type, and high frequency type, preferably 100
  • An electron beam having an energy of ⁇ 300 keV can be mentioned.
  • the active energy ray is ultraviolet light
  • the integrated light quantity in UVA of ultraviolet light is preferably 100 mJ / cm. 2 More than 3000mJ / cm 2 Or less, more preferably 200 mJ / cm. 2 More than 2000mJ / cm 2 It is as follows.
  • the integrated light quantity of ultraviolet rays in UVV is 100 mJ / cm. 2 More than 3000mJ / cm 2 Or less, preferably 200 mJ / cm 2 More than 2000mJ / cm 2 The following is more preferable.
  • Integrated light quantity is 100mJ / cm 2 If it is less than the above, the coating layer will be insufficiently cured, and the resulting antiglare layer will tend to be low in hardness, or uncured resin will adhere to the guide roll, etc., and may cause process contamination. .
  • the integrated light quantity is 3000mJ / cm 2 If it exceeds 1, the heat radiated from the ultraviolet irradiation device may cause the transparent support to shrink and cause wrinkles.
  • Precuring process This step is a step of precuring both end regions by irradiating active energy rays to both end regions in the width direction of the transparent support of the coating layer prior to the curing step.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing the preliminary curing step.
  • an end region 82b in the width direction of the coating layer (a direction orthogonal to the transport direction) is a region having a predetermined width from the end portion including the end portion of the coating layer.
  • the end region is cured in advance, thereby further improving the adhesion with the transparent support 81 in the end region, and part of the cured resin is peeled off in the step after the curing step. It can prevent falling and contaminating the process.
  • the end region 82b can be a region from 5 mm to 50 mm from the end of the coating layer 82, for example.
  • the irradiation of the active energy ray to the end region of the coating layer is performed, for example, with reference to FIGS. 4 and 5, for example, the coating layer that has passed through the coating zone 83 (drying zone 84 when drying is performed).
  • an active energy ray irradiating device 85 such as an ultraviolet ray irradiating device installed in the vicinity of both ends on the coating layer 82 side.
  • the active energy ray irradiation device 85 may be any device as long as it can irradiate the end region 82b of the coating layer 82 with active energy rays, and may be installed on the transparent support 81 side.
  • the type of active energy ray and the light source are the same as in the main curing step.
  • the active energy ray is ultraviolet light
  • the integrated light quantity in ultraviolet UVA is 10 mJ / cm.
  • the antiglare film of the present invention obtained as described above is used for an image display device or the like, and is usually used by being bonded to a polarizing film as a viewing side protective film of a viewing side polarizing plate (that is, an image). Placed on the surface of the display device).
  • a polarizing film is used as the transparent support, an antiglare film integrated with a polarizing film is obtained. Therefore, such an antiglare film integrated with a polarizing film may be used for an image display device. it can.
  • the image display device provided with the antiglare film of the present invention has sufficient antiglare properties at a wide viewing angle, and can well prevent both whitening and glare.
  • the internal haze was measured in the same manner as the total haze after a triacetyl cellulose film having a haze of approximately 0 was attached to the antiglare layer surface of the measurement sample after measuring the total haze with glycerin.
  • Transparency definition By the method based on JIS K 7105, the transmission clarity of the anti-glare film was measured using the image clarity measuring device “ICM-1DP” manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. Also in this case, in order to prevent the sample from warping, the surface opposite to the antiglare layer of the measurement sample was bonded to the glass substrate using an optically transparent adhesive, and then used for the measurement. In this state, light was incident from the glass substrate side and measurement was performed.
  • the measured values here are values measured using five types of optical combs in which the widths of the dark part and the bright part are 0.125 mm, 0.25 mm, 0.5 mm, 1.0 mm, and 2.0 mm, respectively. Is the sum of (Reflection sharpness measured at 45 ° light incident angle)
  • the reflection clarity of the antiglare film was measured using an image clarity measuring device “ICM-1DP” manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.
  • the surface opposite to the antiglare layer of the measurement sample was bonded to the black acrylic substrate using an optically transparent adhesive, and then subjected to measurement. .
  • the measured values are the total values of the values measured using four types of optical combs in which the widths of the dark part and the bright part are 0.25 mm, 0.5 mm, 1.0 mm and 2.0 mm, respectively. is there. (Reflection sharpness measured at 60 ° light incident angle)
  • the reflection clarity of the antiglare film was measured using an image clarity measuring device “ICM-1DP” manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.
  • the surface opposite to the antiglare layer of the measurement sample was bonded to the black acrylic substrate using an optically transparent adhesive, and then subjected to measurement. .
  • light was incident at 60 ° from the antiglare layer surface side, and measurement was performed.
  • the measured values are the total values of the values measured using four types of optical combs in which the widths of the dark part and the bright part are 0.25 mm, 0.5 mm, 1.0 mm and 2.0 mm, respectively. is there.
  • the antiglare layer of the antiglare film is irradiated with parallel light from a He-Ne laser having a wavelength of 543.5 nm from a direction inclined by 30 ° with respect to the normal line of the antiglare film, and the film normal line and the irradiation direction are changed.
  • the change in the angle of the reflectance in the plane including it was measured.
  • both “32903 Optical Power Sensor” and “3292 Optical Power Meter” manufactured by Yokogawa Electric Corporation were used.
  • Glare was evaluated according to the following procedure. That is, a photomask having a unit cell pattern as shown in a plan view in FIG. 6 was prepared. In this figure, a unit cell 100 has a key-shaped chrome light-shielding pattern 101 having a line width of 10 ⁇ m formed on a transparent substrate, and a portion where the chrome light-shielding pattern 101 is not formed is an opening 102.
  • a unit cell having a size of 211 ⁇ m ⁇ 70 ⁇ m (vertical ⁇ horizontal in the figure) and an opening having a dimension of 201 ⁇ m ⁇ 60 ⁇ m (vertical ⁇ horizontal in the figure) was used.
  • a large number of unit cells shown in the figure are arranged vertically and horizontally to form a photomask.
  • the chrome light-shielding pattern 111 of the photomask 113 is placed on the light box 115, and the antiglare film 110 is adhered to the glass plate 117 with an adhesive on the glass plate 117.
  • the sample bonded to the surface is placed on the photomask 113.
  • a light source 116 is disposed in the light box 115.
  • the degree of glare was sensory evaluated in seven stages.
  • Level 1 corresponds to a state where no glare is observed
  • level 7 corresponds to a state where severe glare is observed
  • level 4 refers to a state where only slight glare is observed.
  • the polarizing plates on both the front and back surfaces were peeled off from a commercially available liquid crystal television (“KDL-32EX550” manufactured by Sony Corporation).
  • both the back side and the display side are polarizing plates "Sumikaran SRDB831E” manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd. so that the respective absorption axes coincide with the absorption axes of the original polarizing plates.
  • the antiglare film shown in each of the following examples was laminated on the display surface side polarizing plate via an adhesive such that the concavo-convex surface was the surface.
  • the liquid crystal television thus obtained was activated in a dark room, and the luminance in the black display state and the white display state was measured using a luminance meter “BM5A” manufactured by Topcon Corporation, and the contrast was calculated.
  • the contrast is represented by the ratio of the luminance in the white display state to the luminance in the black display state.
  • the result showed the contrast measured in the state which bonded the anti-glare film in the ratio of the contrast measured in the state which does not bond an anti-glare film.
  • Two-dimensional function G (f x, f y) of a two-dimensional function gamma (f x, f y) of the absolute value squared by the two-dimensional power spectrum to calculate the one-dimensional power is a function of the distance f from the origin
  • a one-dimensional function ⁇ (f) of the spectrum was calculated.
  • Copper ballad plating consists of a copper plating layer / thin silver plating layer / surface copper plating layer, and the thickness of the entire plating layer was set to be about 200 ⁇ m.
  • the copper plating surface was mirror-polished, and a photosensitive resin was applied to the polished copper plating surface and dried to form a photosensitive resin film.
  • a pattern in which the pattern A shown in FIG. 8 was repeatedly arranged was exposed on a photosensitive resin film with a laser beam and developed. Laser beam exposure and development were performed using Laser Stream FX (manufactured by Sink Laboratories).
  • As the photosensitive resin film a film containing a positive photosensitive resin was used.
  • the pattern A is created by passing a plurality of Gaussian function type band pass filters from a pattern having a random brightness distribution, the aperture ratio is 45.0%, the one-dimensional power spectrum has a frequency of 0. It is a pattern having a minimum value at 0195 ⁇ m ⁇ 1 .
  • the 1st etching process was performed with the cupric chloride liquid. The etching amount at that time was set to 5 ⁇ m.
  • the photosensitive resin film was removed from the roll after the first etching treatment, and the second etching treatment was performed again with cupric chloride solution. The etching amount at that time was set to 13 ⁇ m. Then, the chromium plating process was performed and the metal mold
  • the chromium plating thickness was set to 4 ⁇ m.
  • Each of the following components was dissolved in ethyl acetate at a solid content concentration of 60%, and an ultraviolet curable resin composition A capable of forming a film having a refractive index of 1.53 after curing was prepared.
  • Pentaerythritol triacrylate 60 parts Multifunctional urethanated acrylate 40 parts (Reaction product of hexamethylene diisocyanate and pentaerythritol triacrylate) 5 parts of diphenyl (2,4,6-trimethoxybenzoyl) phosphine oxide
  • TAC triacetyl cellulose
  • this UV curable resin composition A is dried to have a thickness of 5 ⁇ m. And dried in a dryer set at 60 ° C. for 3 minutes. The dried film was brought into close contact with the molding surface of the mold A obtained previously (the surface having an uneven surface shape) with a rubber roll so that the coating layer after drying was on the mold side.
  • an anti-glare film is manufactured by irradiating light from a high-pressure mercury lamp with an intensity of 20 mW / cm 2 from the TAC film side so that the amount of light converted to h-ray is 200 mJ / cm 2 and curing the coating layer. did. Thereafter, the obtained antiglare film was peeled off from the mold to produce a transparent antiglare film A having an antiglare layer on the TAC film.
  • Example 2> Except that the chrome plating thickness in the chrome plating process was set to 3 ⁇ m, the mold B was prepared in the same manner as the mold A in Example 1, and the mold A was replaced with the mold B. An antiglare film was prepared in the same manner as in Example 1.
  • This antiglare film is designated as an antiglare film B.
  • Example 3> Except that the chrome plating thickness in the chrome plating process was set to 5 ⁇ m, the mold C was manufactured in the same manner as the mold A in Example 1, and the mold A was replaced with the mold C.
  • An antiglare film was prepared in the same manner as in Example 1.
  • This antiglare film is designated as an antiglare film C.
  • ⁇ Comparative Example 1> Except that the chrome plating thickness in the chrome plating process was set to 2 ⁇ m, the mold D was manufactured in the same manner as the mold A in Example 1, and the mold A was replaced with the mold D.
  • An antiglare film was prepared in the same manner as in Example 1. This antiglare film is designated as an antiglare film D.
  • ⁇ Comparative example 2> Other than having prepared a 200 mm diameter aluminum roll (JIS A6063) with copper ballad plating on the surface, and exposing a pattern in which pattern B shown in FIG. 9 is repeatedly arranged on the photosensitive resin film with laser light Produced a mold E in the same manner as the mold A in Example 1, and produced an antiglare film in the same manner as in Example 1 except that the mold A was replaced with the mold E.
  • This antiglare film is designated as an antiglare film E.
  • the pattern B is created by passing a plurality of Gaussian function type bandpass filters from a pattern having a random brightness distribution, the aperture ratio is 45.0%, and the one-dimensional power spectrum of the pattern is a frequency.
  • the pattern does not have a minimum value of 0.015 ⁇ m ⁇ 1 or more and 0.05 ⁇ m ⁇ 1 or less.
  • ⁇ Comparative Example 3> The surface of a 300 mm diameter aluminum roll (JIS A5056) is mirror-polished, and the polished aluminum surface is coated with zirconia beads TZ-SX-17 (Tosoh Corp.) using a blasting device (Fuji Seisakusho). ), Average particle size: 20 ⁇ m), and blasted at a blast pressure of 0.1 MPa (gauge pressure, the same applies hereinafter) and a bead usage of 8 g / cm 2 (a used amount per 1 cm 2 of surface area of the roll, the same applies hereinafter) The roll surface was uneven.
  • the obtained uneven aluminum roll was subjected to electroless nickel plating to produce a mold F.
  • the electroless nickel plating thickness was set to 15 ⁇ m.
  • An antiglare film was produced in the same manner as in Example 1 except that the mold A was replaced with the mold F. This antiglare film is designated as an antiglare film F.
  • a 200 mm diameter aluminum roll (A5056 according to JIS) was prepared by applying copper ballad plating to the surface. Copper ballad plating consists of a copper plating layer / thin silver plating layer / surface copper plating layer, and the thickness of the entire plating layer was about 200 ⁇ m.
  • the copper plating surface is mirror-polished, and the blasting device (manufactured by Fuji Seisakusho Co., Ltd.) is used on the polished surface. 20 ⁇ m) was blasted at a blast pressure of 0.05 MPa (gauge pressure, the same applies hereinafter) and a bead usage of 6 g / cm 2 , and the aluminum roll surface was uneven. The resulting copper-plated aluminum roll with unevenness was subjected to chrome plating to produce a mold G. At this time, the chromium plating thickness was set to 6 ⁇ m.
  • An antiglare film was produced in the same manner as in Example 1 except that the mold A was replaced with the mold G. This antiglare film is designated as an antiglare film G.
  • FIG. 10 is a diagram showing a power spectrum ⁇ (f) obtained by performing a discrete Fourier transform on the patterns A and B used for the production of the antiglare films A to E (Examples 1 to 3, Comparative Examples 1 and 2). It corresponds to.
  • Table 1 shows the results of evaluating the above antiglare films for the above Examples and Comparative Examples.
  • the antiglare films A to C (Examples 1 to 3) satisfying the requirements of the present invention have low haze, they have excellent antiglare properties regardless of whether the observation angle is front or oblique. In addition, the effect of suppressing whitishness and glare was sufficient.
  • the antiglare film D (Comparative Example 1) was whitish.
  • Anti-glare film E (Comparative Example 2) had insufficient anti-glare properties when observed obliquely.
  • the antiglare film F (Comparative Example 3) was easily glaring.
  • the antiglare film G (Comparative Example 4) had insufficient antiglare properties when observed from an oblique direction.
  • the antiglare film of the present invention is useful for an image display device such as a liquid crystal display.

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Abstract

　低ヘイズであっても広い観察角度において優れた防眩性を有し、画像表示装置に配置したとき、白ちゃけ及びギラツキの発生を十分抑制し得る防眩フィルムを提供する。　透明支持体と、その上に形成された微細な凹凸を有する防眩層とを備え、全ヘイズが０．１％以上３％以下、表面ヘイズが１．１％以上２％以下であり、例えば、カットオフ長０．０８ｍｍで測定したときの二乗平均平方根粗さＲｑ（０．０８）が０．０１μｍ以上０．０５μｍ以下といった所定カットオフ長で測定したときの二乗平均平方根粗さが所定の範囲にあり、入射角３０°で入射した光に対し、反射角３０°の反射率Ｒ（３０）と反射角４０°の反射率Ｒ（４０）との比Ｒ（４０）／Ｒ（３０）が０．００００１以上０．００２５以下である防眩フィルムが提供される。

Description

防眩フィルム
　本発明は、防眩性に優れた防眩（アンチグレア）フィルムに関する。
　液晶ディスプレイやプラズマディスプレイパネル、ブラウン管（陰極線管：ＣＲＴ）ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイなどの画像表示装置は、その表示面に外光が映り込むことによる視認性の悪化を避けるために、当該表示面に防眩フィルムが配置されている。
　防眩フィルムとしては、表面凹凸形状を備えた透明フィルムが主として検討されている。かかる防眩フィルムは、表面凹凸形状により外光を散乱反射させること（外光散乱光）で映り込みを低減することにより防眩性を発現する。しかしながら、外光散乱光が強い場合には、画像表示装置の表示面全体が白っぽくなったり、表示が濁った色になったりする、いわゆる「白ちゃけ」が発生することがある。また、画像表示装置の画素と防眩フィルムの表面凹凸とが干渉して、輝度分布が発生して見えにくくなる、いわゆる「ギラツキ」も発生することがある。以上のことから、防眩フィルムには、優れた防眩性を確保しつつ、この「白ちゃけ」や「ギラツキ」の発生を十分防止することが要望されている。
　かかる防眩フィルムとして、例えば特許文献１には、高精細な画像表示装置に配置した際にもギラツキが発生せず、白ちゃけの発生も十分防止された防眩フィルムとして、透明基材上に微細な表面凹凸形状が形成されており、該表面凹凸形状の任意の断面曲線における平均長さＰＳｍが１２μｍ以下、該断面曲線における算術平均高さＰａと平均長さＰＳｍの比Ｐａ／ＰＳｍが０．００５以上０．０１２以下、該表面凹凸形状が傾斜角度２°以下である面の割合が５０％以下、該傾斜角度６°以下である面の割合が９０％以上である防眩フィルムが開示されている。
　特許文献１に開示された防眩フィルムは、任意の断面曲線における平均長さＰＳｍを非常に小さくすることで、ギラツキを発生させやすくする５０μｍ付近の周期を持つ表面凹凸形状をなくすことにより、当該ギラツキを効果的に抑制することができる。しかしながら、特許文献１に開示された防眩フィルムはヘイズをより小さくしようとすると（低ヘイズにしようとすると）、この防眩フィルムを配置した画像表示装置の表示面を斜めから観察したときの防眩性が低下する場合があった。したがって、特許文献１に開示された防眩フィルムは、広い観察角度における防眩性の点では改良の余地が残されていた。
特開２００７−１８７９５２号公報
　本発明は、低ヘイズであっても広い観察角度において優れた防眩性を有し、画像表示装置に配置したときに、白ちゃけ及びギラツキの発生を十分に抑制し得る防眩フィルムを提供することを目的とする。
　本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討を行った結果、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、
（１）透明支持体と、その上に形成された微細な凹凸を有する防眩層とを備える防眩フィルムであって、
　全ヘイズが０．１％以上３％以下であり、
　表面ヘイズが０．１％以上２％以下である防眩フィルムであって、
　カットオフ長０．０８ｍｍで測定したときの二乗平均平方根粗さＲｑ（０．０８）が０．０１μｍ以上０．０５μｍ以下であり、
　カットオフ長０．２５ｍｍで測定したときの二乗平均平方根粗さＲｑ（０．２５）が０．０５μｍ以上０．１μｍ以下であり、
　カットオフ長０．８ｍｍで測定したときの二乗平均平方根粗さＲｑ（０．８）が０．０７μｍ以上０．１２μｍ以下であり、
　カットオフ長２．５ｍｍで測定したときの二乗平均平方根粗さＲｑ（２．５）が０．０８μｍ以上０．１５μｍ以下であり、
　入射角３０°で入射した光に対し、反射角３０°の反射率Ｒ（３０）と反射角４０°の反射率Ｒ（４０）との比Ｒ（４０）／Ｒ（３０）が０．００００１以上０．００２５以下であることを特徴とする防眩フィルムである。
　さらに本発明においては、下記（２）及び（３）の防眩フィルムが好ましい。
（２）カットオフ長０．２５ｍｍで測定したときの平均長さＳｍ（０．２５）が９０μｍ以上１６０μｍ以下であり、
　カットオフ長０．８ｍｍで測定したときの平均長さＳｍ（０．８）が１００μｍ以上３００μｍ以下であり、
　カットオフ長２．５ｍｍで測定したときの平均長さＳｍ（２．５）が２００μｍ以上４００μｍ以下である上記（１）に記載の防眩フィルム。
（３）暗部と明部の幅がそれぞれ、０．１２５ｍｍ、０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍである５種類の光学くしを用いて測定される透過鮮明度の和Ｔｃが３７５％以上であり、
　暗部と明部の幅がそれぞれ、０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍである４種類の光学くしを用いて光の入射角４５°で測定される反射鮮明度の和Ｒｃ（４５）が１８０％以下であり、
　暗部と明部の幅がそれぞれ、０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍである４種類の光学くしを用いて光の入射角６０°で測定される反射鮮明度の和Ｒｃ（６０）が２４０％以下である上記（１）又は（２）に記載の防眩フィルム。
　本発明によれば、低ヘイズであっても広い観察角度において十分な防眩性を有し、画像表示装置に配置したときに、白ちゃけ及びギラツキの発生が十分抑制された防眩フィルムを提供することができる。
防眩層側から入射角３０°で光を入射したときの角度毎の防眩フィルムの反射率を簡単に説明するための図である。 金型の製造方法（前半部分）の好ましい一例を模式的に示す図である。 金型の製造方法（後半部分）の好ましい一例を模式的に示す図である。 本発明の防眩フィルムの製造方法に用いられる製造装置の好ましい一例を模式的に示す図である。 本発明の防眩フィルムの製造方法において、好適な予備硬化工程を模式的に示す図である。 ギラツキ評価のためのユニットセルを模式的に示す図である。 ギラツキ評価装置を模式的に示す図である。 実施例１~３及び比較例１で用いたパターンＡの一部を表す図である。 比較例２で用いたパターンＢの一部を表す図である。 パターンＡ及びＢを離散フーリエ変換して得られたパワースペクトルΓ（ｆ）を示す図である。
　以下、本発明の好ましい実施形態を必要に応じて図面を参照して説明するが、当該図面に示す寸法などは、見やすさのために任意になっている。
　本発明の防眩フィルムは所定カットオフ長で測定したときの二乗平均平方根粗さＲｑがそれぞれ前記の範囲にあり、入射角３０°で入射した光に対し、反射角３０°の反射率Ｒ（３０）と反射角４０°の反射率Ｒ（４０）との比Ｒ（４０）／Ｒ（３０）が０．００００１以上０．００２５以下であることを特徴とする。
　まずは、本発明の防眩フィルムに関し、二乗平均平方根粗さＲｑ及び反射率比Ｒ（４０）／Ｒ（３０）の求め方について説明する。
［二乗平均平方根粗さＲｑ］
　本発明の防眩フィルムは、当該防眩フィルムに備えられた防眩層の微細凹凸表面をカットオフ長が、０．０８ｍｍ、０．２５ｍｍ、０．８ｍｍ及び２．５ｍｍで測定したときの二乗平均平方根粗さＲｑ（０．０８）、Ｒｑ（０．２５）、Ｒｑ（０．８）及びＲｑ（２．５）がそれぞれ、０．０１μｍ以上０．０５μｍ以下、０．０５μｍ以上０．１μｍ以下、０．０７μｍ以上０．１２μｍ以下及び０．０８μｍ以上０．１５μｍ以下である。これらＲｑ（０．０８）、Ｒｑ（０．２５）、Ｒｑ（０．８）及びＲｑ（２．５）は、測定条件を以下のように設定することで、ＪＩＳ　Ｂ　０６０１に準拠した方法によって測定することができる。
　Ｒｑ（０．０８）：カットオフ長０．０８ｍｍ、評価長さ０．４ｍｍ
　Ｒｑ（０．２５）：カットオフ長０．２５ｍｍ、評価長さ１．２５ｍｍ
　Ｒｑ（０．８）　：カットオフ長０．８ｍｍ、　評価長さ４ｍｍ
　Ｒｑ（２．５）　：カットオフ長２．５ｍｍ、　評価長さ１２．５ｍｍ
　所定カットオフ長で測定したときの二乗平均平方根粗さとは、前記のＪＩＳで定められた測定方法で求められる断面曲線から、所定カットオフ長以上の長波長成分を高域フィルタによって遮断することにより得られる粗さ曲線を用いることで求められる表面粗さを意味する。したがって、カットオフ長０．０８ｍｍで測定したときの二乗平均平方根粗さとは、前記断面曲線から０．０８ｍｍ以上の波長を有する表面凹凸形状を除去したときの粗さ曲線から二乗平均平方根粗さを求めることを意味し、主にカットオフ長の１／２である０．０４ｍｍ以下の波長を有する表面凹凸形状を評価することとなる。同様に、カットオフ長０．２５ｍｍ、０．８ｍｍ又は２．５ｍｍで測定したときの二乗平均平方根粗さとは、前記断面曲線から、０．２５ｍｍ以上、０．８ｍｍ以上又は２．５ｍｍ以上の波長を有する表面凹凸形状を除去したときの粗さ曲線を用いて求められる表面粗さを意味し、主にカットオフ長の１／２である０．１２５ｍｍ以下、０．４ｍｍ以下又は１．２５ｍｍ以下の波長を有する表面凹凸形状を評価することとなる。
　Ｒｑ（０．０８）が大きいとは、本発明の防眩フィルムが有する防眩層の表面凹凸形状が、０．０４ｍｍ以下の波長を有する表面凹凸形状を多く有するものであることを意味する。同様に、Ｒｑ（０．２５）が大きいとは、防眩層が０．０４ｍｍ以上０．１２５ｍｍ以下の波長を有する表面凹凸形状を多く有するものであることを意味し、Ｒｑ（０．８）が大きいとは、０．１２５ｍｍ以上０．４ｍｍ以下の波長を有する表面凹凸形状を多く有するものであることを意味し、Ｒｑ（２．５）が大きいとは、０．４ｍｍ以上１．２５ｍｍ以下の波長を有する表面凹凸形状を多く有するものであることを意味する。Ｒｑ（０．０８）が０．０１μｍを下回ると、波長０．０４ｍｍ以下の短周期の表面凹凸形状が非常に少ない、すなわち、長周期の表面凹凸形状からのみ形成された防眩層を有する防眩フィルムとなるため、その表面質感が粗くなる。Ｒｑ（０．０８）が０．０５μｍを上回ると、波長０．０４ｍｍ以下の短周期の表面凹凸形状による散乱が強く生じる防眩層を有するものとなるため、このような防眩フィルムを備えた画像表示装置は白ちゃけを発生しやすくなる。本発明の防眩フィルムのＲｑ（０．０８）は前記の範囲であるが、０．０２μｍ以上０．０４μｍ以下であると好ましい。
　Ｒｑ（０．２５）が０．０５μｍを下回ると、波長０．０４μｍ以上０．１２５ｍｍ以下の表面凹凸形状が少ない防眩層を有する防眩フィルムとなることから、当該防眩フィルムを備えた画像表示装置を正面（０~１０°程度）から観察したとき、その防眩性が不十分となる。Ｒｑ（０．２５）が０．１μｍを上回ると、波長０．０４ｍｍ以上０．１２５ｍｍ以下の表面凹凸形状が多くなる。このような波長域の表面凹凸形状は特に、ギラツキの発生と相関が強いため、かかる防眩フィルムを備えた画像表示装置はギラツキが発生しやすいものとなる。本発明の防眩フィルムのＲｑ（０．２５）は前記の範囲であるが、０．０６μｍ以上０．０８μｍ以下であると好ましい。
　Ｒｑ（０．８）が０．０７μｍを下回ると、波長０．１２５μｍ以上０．４ｍｍ以下の表面凹凸形状が少ない防眩層となることから、かかる防眩層を有する防眩フィルムを備えた画像表示装置を斜め（１０~３０°程度）から観察したときの防眩性が不十分となる。Ｒｑ（０．８）が０．１２μｍを上回ると、波長０．１２５ｍｍ以上０．４ｍｍ以下の凹凸形状が多くなりすぎ、白ちゃけが発生しやすい画像表示装置が得られる。本発明の防眩フィルムのＲｑ（０．８）は前記の範囲であるが、０．０８μｍ以上０．１０μｍ以下であると好ましい。
　Ｒｑ（２．５）が０．０８μｍを下回ると、波長０．４μｍ以上１．２５ｍｍ以下の凹凸形状が少ない防眩層となることから、かかる防眩層を有する防眩フィルムを備えた画像表示装置を斜め（３０°以上）から観察したときの防眩性が不十分となる。Ｒｑ（２．５）が０．１５μｍを上回ると、波長０．４ｍｍ以上１．２５ｍｍ以下の長周期の凹凸形状が多くなりすぎ、防眩フィルムの表面質感が粗くなる。本発明の防眩フィルムのＲｑ（２．５）は前記の範囲であるが、０．０９μｍ以上０．１１μｍ以下であると好ましい。
［反射率比］
　次に、反射率の比Ｒ（４０）／Ｒ（３０）の求め方について説明する。
　図１は、本発明の防眩フィルムが有する防眩層側から入射角３０°で光を入射したときの角度毎の反射率を簡単に説明するための図面（斜視図）であり、防眩フィルム１０に対する防眩層側からの光の入射方向と反射方向とを模式的に示している。この図では、防眩フィルム１０の防眩層側で法線２０から３０°の角度で入射した入射光１１に対し、反射角３０°の方向、すなわち、正反射方向１２への反射光の反射率（つまり正反射率）をＲ（３０）とする。また、任意の反射角θでの反射光を符号１５で表しており、反射率を測定するときの反射光の方向１２，１５は、入射光の方向１１と法線２０とを含む面３０内とする。そして、反射角４０°の方向への反射率をＲ（４０）とする。
　防眩フィルムの反射率を測定するにあたっては、０．００１％以下の反射率を精度良く測定することが必要である。そのため、ダイナミックレンジの広い検出器の使用が有効であり、そのような市販の光パワーメーターなどを好ましく用いることができる。この光パワーメーターの検出器前にアパーチャーを設け、防眩フィルムを見込む角度が２°になるようにした変角光度計を用いて測定を行う。この場合の入射光としては、３８０~７８０ｎｍの可視光線を用いることができる。測定用光源としては、ハロゲンランプ等の光源から出た光をコリメートしたものを用いてもよいし、レーザなどの単色光源で平行度の高いものを用いてもよい。裏面が平滑で透明な防眩フィルムに関して反射率を求める場合には、防眩フィルム裏面からの反射が測定値に影響を及ぼすことがあり、かかる影響を避ける必要がある。そのため、反射率を測定する際に、測定対象である防眩フィルムの平滑面を黒色のアクリル樹脂板に、粘着剤により密着させたり、水やグリセリンなどの液体を用いて光学密着させたりすることにより、防眩フィルム最表面の反射率のみが測定できるようにすることが好ましい。
　本発明の防眩フィルムにおいては、入射角３０°の入射光に対し、反射角３０°の方向の反射率、すなわち正反射率Ｒ（３０）の反射角４０°の方向の反射率Ｒ（４０）の比Ｒ（４０）／Ｒ（３０）が０．００００１以上０．００２５以下である。比Ｒ（４０）／Ｒ（３０）が０．００００１を下回る防眩フィルムを配置した画像表示装置は、その防眩性が不十分となる。一方、比Ｒ（４０）／Ｒ（３０）が０．００２５を上回る防眩フィルムを配置した画像表示装置は、白ちゃけが発生しやすくなる。優れた防眩性を有し、白ちゃけの発生が十分防止された画像表示装置を得るためには、防眩フィルムの比Ｒ（４０）／Ｒ（３０）は０．００００５以上０．００１以下であるとより好ましい。
［全ヘイズ、表面ヘイズ］
　本発明の防眩フィルムは、防眩性を発現し、白ちゃけを防止するために、垂直入射光に対する全ヘイズが０．１％以上３％以下の範囲であり、表面ヘイズが０．１％以上２％以下の範囲のものである。防眩フィルムの全ヘイズは、ＪＩＳ　Ｋ　７１３６に示される方法に準拠した方法により測定することができる。全ヘイズ又は表面ヘイズが０．１％を下回る防眩フィルムを配置した画像表示装置は、十分な防眩性を発現しないため好ましくない。また、全ヘイズが３％を上回る場合、又は表面ヘイズが２％を上回る場合の防眩フィルムは、当該防眩フィルムを配置した画像表示装置が、白ちゃけを発生するものとなるため好ましくない。また、かかる画像表示装置は、そのコントラストも不十分となるといった不都合もある。
　全ヘイズから表面ヘイズを差し引いて求められる内部ヘイズは低いほど好ましい。当該内部ヘイズが２．５％を上回る防眩フィルムを配置した画像表示装置は、そのコントラストが低下する傾向がある。
［所定カットオフ長で測定したときの平均長さＳｍ］
　本発明の防眩フィルムにおいて、その防眩層の表面凹凸形状は、所定カットオフ長で測定したときの二乗平均平方根粗さが前記の範囲のものであるが、かかる所定カットオフ長で測定したときの平均長さがそれぞれ以下に示す範囲であると好ましい。具体的には、カットオフ長０．２５ｍｍで測定したときの平均長さＳｍ（０．２５）が９０μｍ以上１６０μｍ以下であり、カットオフ長０．８ｍｍで測定したときの平均長さＳｍ（０．８）が１００μｍ以上３００μｍ以下であり、カットオフ長２．５ｍｍで測定したときの平均長さＳｍ（２．５）は２００μｍ以上４００μｍ以下であると好ましい。
　Ｓｍ（０．２５）が９０μｍを下回る防眩フィルムは、５０μｍ付近の表面凹凸形状が多い防眩層を有するものであり、かかる防眩フィルムを配置した画像表示装置は、ギラツキが発生しやすくなることがある。Ｓｍ（０．２５）が１６０μｍを上回る防眩フィルムは、長周期の表面凹凸形状が多くなりすぎた防眩層を有するものであり、その表面質感が粗くなることがある。Ｓｍ（０．８）が１００μｍを下回る防眩フィルムは、斜め（１０~３０°程度）から観察したときの防眩性に寄与する１００~２００μｍの周期を有する表面凹凸形状が少ない防眩層を有するものであり、かかる防眩フィルムを配置した画像表示装置は、斜めから観察したときの防眩性が低下することがある。Ｓｍ（０．８）が３００μｍを上回る防眩フィルムは、長周期の表面凹凸形状が多くなりすぎた防眩層を有するものであり、その表面質感が粗くなることがある。Ｓｍ（２．５）が２００μｍを下回る防眩フィルムは、斜め（３０°以上）から防眩フィルムを観察したときの防眩性に寄与する２００~３００μｍの周期を有する表面凹凸形状が少ない防眩層を有するものであり、かかる防眩フィルムを備えた画像表示装置は、斜め（３０°以上）から防眩フィルムを観察したときの防眩性が低下することがある。Ｓｍ（２．５）が４００μｍを上回る防眩フィルムは、長周期の表面凹凸形状が多くなりすぎた防眩層を有するものであり、その表面質感が粗くなることがある。
［透過鮮明度Ｔｃ、反射鮮明度Ｒｃ（４５）、及び反射鮮明度Ｒｃ（６０）］
　本発明の防眩フィルムは、下記する測定条件で求められる透過鮮明度の和Ｔｃが３７５％以上であることが好ましい。透過鮮明度の和Ｔｃは、ＪＩＳ　Ｋ　７１０５に準拠する方法により所定幅の光学くしを用いて像鮮明度をそれぞれ測定し、その合計を求めることで算出される。具体的には、暗部と明部の幅の比が１：１で、その幅が０．１２５ｍｍ、０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍである５種類の光学くしを用いて像鮮明度をそれぞれ測定し、その合計を求めて、Ｔｃとする。Ｔｃが３７５％を下回る防眩フィルムは、より高精細な画像表示装置に配置した場合に、ギラツキが発生しやすくなることがある。Ｔｃの上限は、その最大値である５００％以下の範囲で選ばれるが、このＴｃが高すぎると、正面からの防眩性が低下しやすい画像表示装置が得られるため、例えば４５０％以下であることが好ましい。
　本発明の防眩フィルムは、入射角４５°の入射光で測定される反射鮮明度Ｒｃ（４５）が１８０％以下であることが好ましい。反射鮮明度Ｒｃ（４５）は、前記Ｔｃと同様に、ＪＩＳ　Ｋ　７１０５に準拠する方法で測定されるものであり、前記５種類の光学くしのうち、その幅が０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍである４種類の光学くしを用いて測定された像鮮明度をそれぞれ測定し、その合計を求めて、Ｒｃ（４５）とする。Ｒｃ（４５）が１８０％以下であると、かかる防眩フィルムを配置した画像表示装置は、正面及び斜めから観察したときの防眩性がより良好となるので、好ましい。Ｒｃ（４５）の下限は特に制限されないが、白ちゃけやギラツキの発生を良好に抑制するためには、例えば８０％以上であることが好ましい。
　本発明の防眩フィルムは、入射角６０°の入射光で測定される反射鮮明度Ｒｃ（６０）が２４０％以下であることが好ましい。反射鮮明度Ｒｃ（６０）は、入射角を変更する以外は、反射鮮明度Ｒｃ（４５）と同じＪＩＳ　Ｋ　７１０５に準拠する方法で測定される。Ｒｃ（６０）が２４０％以下であると、その防眩フィルムを配置した画像表示装置は、斜めから観察したときの防眩性がより良好となるので、好ましい。Ｒｃ（６０）の下限は特に制限されないが、白ちゃけやギラツキの発生をより良好に抑制するためには、例えば１５０％以上であることが好ましい。
［本発明の防眩フィルムの製造方法］
　本発明の防眩フィルムは、例えば以下のようにして製造される。第１の方法は、所定のパターンに基づいた表面凹凸形状が、成形表面に形成された微細凹凸形成用金型を準備し、当該金型の凹凸面の形状を透明支持体に転写した後、凹凸面の形状が転写された透明支持体を金型から剥がすといった方法である。第２の方法は、微粒子、樹脂（バインダー）及び溶剤を含み、かかる微粒子が樹脂溶液に分散した組成物を準備し、当該組成物を透明支持体上に塗布し、必要に応じて乾燥することで形成した塗布膜（微粒子を含む塗布膜）を硬化するという方法である。第２の方法では、塗布膜厚や微粒子の凝集状態を、前記組成物の組成や前記塗布膜の乾燥条件等によって調整することで、微粒子を塗布膜の表面に露出させ、ランダムな凹凸を透明支持体上に形成する。防眩フィルムの生産安定性、生産再現性の観点からは、第１の方法により本発明の防眩フィルムを製造することが好ましい。
　ここでは、本発明の防眩フィルムの製造方法として好ましい第１の方法について詳述する。
　上述のような特性を有する表面凹凸形状の防眩層を精度よく形成するためには、準備する微細凹凸形成用金型（以下、「金型」と略記することがある）が重要である。より具体的には、金型が有する表面凹凸形状（以下、「金型凹凸表面」ということがある）が所定のパターンに基づいて形成されており、この所定パターンが、その一次元パワースペクトルを空間周波数に対する強度として表したときに求められるグラフが、空間周波数０．０１５μｍ−１以上０．０５μｍ−１以下において１つの極小値を有するものであると好ましい。ここで、「パターン」とは、防眩フィルムが有する防眩層の微細凹凸表面を形成するための画像データや透光部と遮光部を有するマスクなどを意味するものであり、以下、「パターン」と略記することとする。
　まずは、本発明の防眩フィルムが有する防眩層の表面凹凸形状を形成するためのパターンを定める方法について説明する。
　パターンの二次元パワースペクトルの求め方を、例えば当該パターンが画像データである場合について示す。まず、当該画像データを２階調の二値化画像データに変換した後、その階調を二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）で表す。得られた二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）を下記式（１）のようにフーリエ変換して二次元関数Ｇ（ｆｘ，ｆｙ）を計算し、下記式（２）に示すように、得られた二次元関数Ｇ（ｆｘ，ｆｙ）の絶対値を二乗することによって、二次元パワースペクトルΓ（ｆｘ，ｆｙ）を求める。ここで、ｘ及びｙは画像データ面内の直交座標を表す。また、ｆｘ及びｆｙはそれぞれ、ｘ方向及びｙ方向の周波数を表しており、長さの逆数の次元を持つ。
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000001
　式（１）中のπは円周率、ｉは虚数単位である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000002
　この二次元パワースペクトルΓ（ｆｘ，ｆｙ）はパターンの空間周波数分布を表している。通常、防眩フィルムは等方的であることが求められるため、本発明の防眩フィルム製造用のパターンも等方的となる。そのため、パターンの二次元パワースペクトルを表す二次元関数Γ（ｆｘ，ｆｙ）は、原点（０，０）からの距離ｆのみに依存する一次元関数Γ（ｆ）で表すことができる。この一次元関数Γ（ｆ）はパターンの一次元パワースペクトルを表す。次に、二次元関数Γ（ｆｘ，ｆｙ）から一次元関数Γ（ｆ）を求める方法を説明する。まず、標高の二次元パワースペクトルである二次元関数Γ（ｆｘ，ｆｙ）を式（３）のように極座標で表示する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000003
　ここで、θはフーリエ空間中の偏角である。一次元関数Γ（ｆ）は極座標表示した二次元関数Γ（ｆｃｏｓθ，ｆｓｉｎθ）の回転平均を式（４）のように計算することによって求めることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-I000004
　本発明の防眩フィルムを精度良く得るためには、パターンの一次元パワースペクトルΓ（ｆ）が空間周波数０．０１５μｍ−１以上０．０５μｍ−１以下に極小値を有すると好ましい。
　パターンの二次元パワースペクトルを求める場合には、階調の二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）は通常、離散関数として得られる。その場合は、離散フーリエ変換によって、二次元パワースペクトルを計算すればよい。パターンの一次元パワースペクトルは、パターンの二次元パワースペクトルから、同様にして求められる。
　また、得られる表面凹凸形状を均一で連続的な曲面とするために、二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）の平均値は、二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）の最大値と、二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）の最小値との差の３０~７０％であることが好ましい。金型凹凸表面をリソグラフィー法により製造する場合には、この二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）はパターンの開口率となる。金型凹凸表面をリソグラフィー法により製造する場合に関して、ここでいうパターンの開口率を定義しておく。リソグラフィー法に用いるレジストがポジレジストである場合の開口率は、当該ポジレジストの塗布膜に画像データを描画したとき、当該塗布膜の全表面領域に対する、露光される領域の割合を意味する。一方、リソグラフィー法に用いるレジストがネガレジストである場合の開口率は、当該ネガレジストの塗布膜に画像データを描画するとき、当該塗布膜の全表面領域に対する、露光されない領域の割合を意味する。リソグラフィー法が一括露光である場合の開口率は、透光部と遮光部を有するマスクの透光部の割合を意味する。
　本発明の防眩フィルムは、パターンの一次元パワースペクトルが空間周波数０．０１５μｍ−１以上０．０５μｍ−１以下に一つの極小値を有するようにして、所望の金型を製造し、当該金型を用いた第１の方法によれば製造することができる。
　空間周波数０．０１５μｍ−１以上０．０５μｍ−１以下に極小値を有する一次元パワースペクトルのパターンを作成するためには、ドットをランダムに配置して作成したパターンや乱数若しくは計算機によって生成された疑似乱数により濃淡を決定したランダムな明度分布を有するパターン（予備パターン）を予め作成し、当該予備パターンから特定の空間周波数範囲の成分を除去する。この特定の空間周波数範囲の成分除去には、前記予備パターンをバンドパスフィルターに通過させればよい。
　所定パターンに基づいた表面凹凸形状が形成された防眩層を有する防眩フィルムを製造するため、当該所定パターンに基づいて形成された表面凹凸形状を透明支持体に転写するための金型凹凸表面を有する金型を製造する。かかる金型を用いる前記第１の方法は、防眩層を透明支持体上に作製することを特徴とするエンボス法である。
　前記エンボス法としては、光硬化性樹脂を用いる光エンボス法、熱可塑性樹脂を用いるホットエンボス法などが例示される。中でも、生産性の観点から、光エンボス法が好ましい。
　光エンボス法は、透明支持体上（透明支持体の表面）に光硬化性樹脂層を形成し、その光硬化性樹脂層を金型の金型凹凸表面に押し付けながら硬化させることで、金型の金型凹凸表面の形状を、光硬化性樹脂層に転写するという方法である。具体的には、透明支持体上に光硬化性樹脂を塗布して形成した光硬化性樹脂層を、金型凹凸表面に密着させた状態で、透明支持体側から光（当該光は光硬化性樹脂が硬化し得るものを用いる）を照射して光硬化性樹脂（光硬化性樹脂層に含まれる光硬化性樹脂）を硬化させ、その後、硬化後の光硬化性樹脂層が形成された透明支持体を金型から剥離する。このような製造方法で得られる防眩フィルムは、硬化後の光硬化性樹脂層が防眩層となる。なお、製造の容易さからみれば、光硬化性樹脂としては紫外線硬化性樹脂が好ましく、当該紫外線硬化性樹脂を用いる場合には、照射する光は紫外線を用いる（光硬化性樹脂として、紫外線硬化性樹脂を用いるエンボス法を以下、「ＵＶエンボス法」という）。偏光フィルムと一体化した防眩フィルムを製造するためには、透明支持体として偏光フィルムを用い、ここで説明したエンボス法において透明支持体を偏光フィルムに置き換えて実施すればよい。
　ＵＶエンボス法に用いる紫外線硬化性樹脂の種類は、特に限定されず、市販樹脂の中から、用いる透明支持体の種類や紫外線の種類に応じて適宜のものを用いることができる。かかる紫外線硬化性樹脂は、紫外線照射により光重合するモノマー（多官能モノマー）、オリゴマー及びポリマー、並びにそれらの混合物を含む概念である。また、紫外線硬化性樹脂の種類に応じて適宜、選択された光開始剤を組み合わせて用いることにより、紫外線より波長の長い可視光でも硬化が可能な樹脂を用いることもできる。この紫外線硬化性樹脂の好適例などの説明は後述する。
　ＵＶエンボス法に用いる透明支持体としては、例えばガラスやプラスチックフィルムなどを用いることができる。プラスチックフィルムとしては適度の透明性、機械強度を有していれば使用可能である。具体的には、例えば、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等のセルロースアセテート系樹脂；アクリル系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系樹脂などからなる透明樹脂フィルムが挙げられる。これらの透明樹脂フィルムは、溶剤キャストフィルムであっても、押出フィルムであってもよい。
　透明支持体の厚みは、例えば１０~５００μｍであり、好ましくは１０~１００μｍであり、より好ましくは１０~６０μｍである。透明支持体の厚みがこの範囲であると、十分な機械強度を有する防眩フィルムが得られる傾向があり、当該防眩フィルムを備えた画像表示装置が、より一層ギラツキを発生しにくいものとなる。
　一方、ホットエンボス法は、熱可塑性樹脂で形成された透明樹脂フィルムを、加熱して軟化させた状態で金型凹凸表面に押し付け、当該金型凹凸表面の表面凹凸形状を透明樹脂フィルムに転写する方法である。ホットエンボス法に用いる透明樹脂フィルムも、実質的に光学的に透明なものであればいかなるものであってもよく、具体的には、ＵＶエンボス法に用いる透明樹脂フィルムとして例示したものを挙げることができる。
　続いて、エンボス法に用いる金型を製造する方法について説明する。
　金型の製造方法については、当該金型の成形面が、上述した所定パターンに基づいて形成された表面凹凸形状を透明支持体上に転写し得る（所定パターンに基づいて形成された表面凹凸形状の防眩層を形成し得る）金型凹凸表面となる範囲で、特に制限されないが、当該表面凹凸形状の防眩層を精度よく、かつ、再現性よく製造するために、リソグラフィー法が好ましい。さらに、当該リソグラフィー法は、〔１〕第１めっき工程と、〔２〕研磨工程と、〔３〕感光性樹脂膜形成工程と、〔４〕露光工程と、〔５〕現像工程と、〔６〕第１エッチング工程と、〔７〕感光性樹脂膜剥離工程と、〔８〕第２エッチング工程と、〔９〕第２めっき工程とを含むと好ましい。
　図２は、金型の製造方法の前半部分の好ましい一例を模式的に示す図である。図２は各工程での金型の断面を模式的に示している。以下、図２を参照しながら、本発明の防眩フィルム製造用の金型の製造方法の各工程について詳細に説明する。
〔１〕第１めっき工程
　まず、金型製造に用いる基材（金型用基材）を準備し、当該金型用基材の表面に、銅めっきを施す。このように、金型用基材の表面に銅めっきを施すことにより、後述の第２めっき工程におけるクロムめっきの密着性や光沢性を向上させることができる。銅めっきは、被覆性が高く、また平滑化作用が強いことから、金型用基材の微小な凹凸や鬆などを埋めて平坦で光沢のある表面を形成することができる。そのため、このようにして銅めっきを金型用基材表面に施すことで、後述する第２めっき工程においてクロムめっきを施したとしても、基材に存在していた微小な凹凸や鬆に起因すると思われるクロムめっき表面の荒れが解消され、また、銅めっきの被覆性の高さから、細かいクラックの発生が低減される。したがって、所定パターンに基づいた表面凹凸形状（微細凹凸表面形状）を金型用基材成形面に作成したとしても、微小な凹凸や鬆、クラック等の下地（金型用基材）表面の影響によるずれを十分防止することができる。
　第１めっき工程の銅めっきに用いられる銅としては、銅の純金属を用いても、銅を主成分とする合金（銅合金）を用いてもよい。したがって、銅めっきに用いられる「銅」は、銅及び銅合金を含む概念である。銅めっきは、電解めっきであっても、無電解めっきであってもよいが、第１めっき工程の銅めっきは、電解めっきを用いることが好ましい。さらに、第１めっき工程における好ましいめっき層は、銅めっき層からなるもののみならず、銅めっき層と、銅以外の金属からなるめっき層とが積層されたものであってもよい。
　金型用基材の表面上に銅めっきを施して形成されるめっき層は余り薄いと、下地表面の影響（微小な凹凸や鬆、クラック等）が排除しきれないことから、その厚みは５０μｍ以上であることが好ましい。めっき層厚みの上限は臨界的でないが、コストなどを考慮した場合には、５００μｍ程度以下であると好ましい。
　金型用基材は金属材料からなる基材が好ましい。さらに、コストの観点からは当該金属材料の材質としては、アルミニウム、鉄などが好ましい。さらに金型用基材の取扱いの利便性からみれば、軽量なアルミニウムからなる基材が金型用基材として特に好ましい。なお、ここでいうアルミニウムや鉄も、それぞれ純金属である必要はなく、アルミニウム又は鉄を主成分とする合金であってもよい。
　金型用基材の形状は、本発明の防眩フィルムの製造方法に応じて適宜の形状のものであればよい。具体的には、平板状基材、円柱状基材又は円筒状（ロール形状）基材などから選択される。本発明の防眩フィルムを連続的に製造する場合には、金型はロール形状であると好ましい。このような金型はロール形状の金型用基材から製造される。
〔２〕研磨工程
　続く研磨工程では、上述した第１めっき工程にて銅めっきが施された金型用基材の表面（めっき層）を研磨する。本発明の防眩フィルムの製造方法に用いる金型の製造方法では、当該研磨工程を経て、金型用基材表面を、鏡面に近い状態にまで研磨することが好ましい。金型用基材として用いる平板状基材やロール形状基材の市販品は、所望の精度にするために、切削や研削などの機械加工が施されていることが多く、それにより金型用基材表面には微細な加工目が残っている。そのため、第１めっき工程によりめっき（好ましくは、銅めっき）層を形成したとしても、前記加工目が残ることがある。また、第１めっき工程におけるめっきを施したとしても、金型用基材の表面が完全に平滑になるとは限らない。すなわち、このような深い加工目などが残った表面がある金型用基材に対して、後述する〔３〕~〔９〕の工程を施したとしても、得られる金型表面の表面凹凸形状が所定パターンに基づく表面凹凸形状とは異なることがあったり、加工目などに由来する凹凸が含まれることがあったりする。加工目などの影響が残っている金型を用いて防眩フィルムを製造した場合には、目的とする防眩性などの光学特性が十分発現できず、予期できない影響を及ぼすおそれがある。
　研磨工程において適用する研磨方法は特に制限されるものではなく、研磨対象となる金型用基材の形状・性状に応じた研磨方法が選択される。研磨工程に適用できる研磨方法を具体的に例示すると、機械研磨法、電解研磨法及び化学研磨法などが挙げられる。これらのうち、機械研磨法としては、超仕上げ法、ラッピング、流体研磨法、バフ研磨法などのいずれも使用できる。また、研磨工程において切削工具を用いて鏡面切削することによって、金型用基材の表面を鏡面としてもよい。この場合の切削工具の材質・形状は金型用基材の材質（金属材料）の種類に応じて、超硬バイト、ＣＢＮバイト、セラミックバイト、ダイヤモンドバイトなどを使用することができるが、加工精度の観点からはダイヤモンドバイトを用いることが好ましい。研磨後の表面粗度は、ＪＩＳ　Ｂ　０６０１に準拠した中心線平均粗さＲａで表して、０．１μｍ以下であることが好ましく、０．０５μｍ以下であることがより好ましい。研磨後の中心線平均粗さＲａが０．１μｍより大きいと、最終的に得られる金型の金型凹凸表面に、かかる表面粗度の影響が残るおそれがある。また、中心線平均粗さＲａの下限については特に制限されない。したがって、研磨工程における加工時間（研磨時間）や加工コストの観点から、下限を定めればよい。
〔３〕感光性樹脂膜形成工程
　続いて、感光性樹脂膜形成工程を、図２を参照して説明する。
　感光性樹脂膜形成工程では、上述した研磨工程によって得られた鏡面研磨を施した金型用基材４０の表面４１に、感光性樹脂を溶媒に溶解した溶液（感光性樹脂溶液）を塗布し、加熱・乾燥することにより、感光性樹脂膜（レジスト膜）を形成する。図２では、金型用基材４０の表面４１に感光性樹脂膜５０が形成された状態を模式的に示している（図２（ｂ））。
　感光性樹脂としては従来公知の感光性樹脂を用いることができるし、すでにレジストとして市販されているものをそのまま、又は必要に応じてろ過等で精製してから用いることもできる。例えば、感光部分が硬化する性質をもったネガ型の感光性樹脂としては、分子中にアクリロイル基又はメタクリロイル基を有する（メタ）アクリル酸エステルの単量体やプレポリマー、ビスアジドとジエンゴムとの混合物、ポリビニルシンナマート系化合物などを用いることができる。また、現像により感光部分が溶出し、未感光部分だけが残る性質をもったポジ型の感光性樹脂としてはフェノール樹脂系やノボラック樹脂系などを用いることができる。このようなポジ型又はネガ型の感光性樹脂は、ポジレジストやネガレジストとして市場から容易に入手することもできる。また、感光性樹脂溶液は、必要に応じて、増感剤、現像促進剤、密着性改質剤、塗布性改良剤などの各種添加剤が配合されていてもよく、このような添加剤を市販のレジストに混合したものを感光性樹脂溶液として用いることもできる。
　これらの感光性樹脂溶液を金型用基材４０の表面４１に塗布するためには、より平滑な感光性樹脂膜を形成するうえで最適な溶剤を選択し、かかる溶剤に感光性樹脂を溶解・希釈して得られる感光性樹脂溶液を用いると好ましい。このような溶剤はさらに、感光性樹脂の種類及びその溶解性によって選択される。具体的には、例えば、セロソルブ系溶剤、プロピレングリコール系溶剤、エステル系溶剤、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤、高極性溶剤などから選択される。市販のレジストを用いる場合、当該レジストに含まれる溶剤の種類に応じて、又は、適当な予備実験を行って、最適なレジストを選択し、感光性樹脂溶液として用いてもよい。
　金型用基材の鏡面研磨された表面に感光性樹脂溶液を塗布する方法は、メニスカスコート、ファウンティンコート、ディップコート、回転塗布、ロール塗布、ワイヤーバー塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、カーテン塗布、リングコートなどの公知の方法のなかから、当該金型用基材の形状などに応じて選択される。塗布後の感光性樹脂膜の厚さは、乾燥後の厚さで１~１０μｍの範囲とすることが好ましく、６~９μｍの範囲とすることがより好ましい。
〔４〕露光工程
　続く露光工程は、目的とするパターンを、上述した感光性樹脂膜形成工程で形成された感光性樹脂膜５０を露光することで、当該感光性樹脂膜５０に転写する工程である。露光工程に用いる光源は、感光性樹脂膜に含まれる感光性樹脂の感光波長や感度等に合わせて適宜選択すればよく、例えば、高圧水銀灯のｇ線（波長：４３６ｎｍ）、ｈ線（波長：４０５ｎｍ）、又はｉ線（波長：３６５ｎｍ）、半導体レーザ（波長：８３０ｎｍ、５３２ｎｍ、４８８ｎｍ、４０５ｎｍなど）、ＹＡＧレーザ（波長：１０６４ｎｍ）、ＫｒＦエキシマレーザ（波長：２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（波長：１９３ｎｍ）、Ｆ２エキシマレーザ（波長：１５７ｎｍ）などを用いることができる。露光方式は、目的とするパターンに対応したマスクを用いて一括露光する方式でもよいし、描画方式でもよい。なお、目的とするパターンとはすでに説明したとおり、一次元パワースペクトルを空間周波数に対する強度として表したときのグラフが、空間周波数０．０１５μｍ−１以上０．０５μｍ−１以下において１つの極小値を有するものである。
　金型の製造方法において、当該金型の表面凹凸形状をより精度良く形成するためには、目的とするパターンを感光性樹脂膜上に、精密に制御された状態で露光することが好ましい。このような状態で露光するためには、コンピュータ上で目的のパターンを画像データとして作成し、その画像データに基づいたパターンを、コンピュータ制御されたレーザヘッドから発するレーザ光によって感光性樹脂膜上に描画（レーザ描画）することが好ましい。レーザ描画を行うに際しては、例えば印刷版作製などで汎用のレーザ描画装置を使用することができる。このようなレーザ描画装置の市販品としては、例えば、Ｌａｓｅｒ　Ｓｔｒｅａｍ　ＦＸ（（株）シンク・ラボラトリー製）などが挙げられる。
　図２（ｃ）は、感光性樹脂膜５０にパターンが露光された状態を模式的に示している。感光性樹脂膜５０にネガ型の感光性樹脂が含まれる場合（例えば、感光性樹脂溶液としてネガレジストを用いた場合）には、露光された領域５１は、露光エネルギーを受けて感光性樹脂の架橋反応が進行し、後述する現像液に対する溶解性が低下する。よって、現像工程において露光されていない領域５２が現像液によって溶解され、露光された領域５１のみ基材表面上に残り、マスク６０となる。一方、感光性樹脂膜５０にポジ型の感光性樹脂が含まれる場合（例えば、感光性樹脂溶液としてポジレジストを用いた場合）には、露光された領域５１では、露光エネルギーを受けて、感光性樹脂の結合が切断されるなどにより、後述する現像液に溶解されやすくなる。よって、現像工程において露光された領域５１が現像液によって溶解され、露光されていない領域５２のみ基材表面上に残り、マスク６０となる。
〔５〕現像工程
　現像工程においては、感光性樹脂膜５０にネガ型の感光性樹脂が含まれる場合には、露光されていない領域５２は現像液によって溶解され、露光された領域５１が金型用基材上に残存しマスク６０となる。一方、感光性樹脂膜５０にポジ型の感光性樹脂が含まれる場合には、露光された領域５１のみ現像液によって溶解され、露光されていない領域５２が、金型用基材上に残存しマスク６０となる。所定のパターンを感光性樹脂膜として形成せしめた金型用基材は、第１エッチング工程において、金型用基材上に残存する感光性樹脂膜が、後述の第１エッチング工程におけるマスクとして作用する。
　現像工程に用いる現像液については従来公知のもののなかから、用いた感光性樹脂の種類に応じて適切なものを選択することができる。例えば、当該現像液は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア水などの無機アルカリ類；エチルアミン、ｎ−プロピルアミンなどの第一アミン類；ジエチルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミンなどの第二アミン類；トリエチルアミン、メチルジエチルアミンなどの第三アミン類；ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミンなどのアルコールアミン類；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシドなどの第四級アンモニウム化合物；ピロール、ピヘリジンなどの環状アミン類などのアルカリ性水溶液、キシレン、トルエンなどの有機溶剤などが挙げられる。
　現像工程における現像方法については特に制限されず、浸漬現像、スプレー現像、ブラシ現像、超音波現像などを用いることができる。
　図２（ｄ）には、感光性樹脂としてネガ型のものを用い、現像工程を行った後の状態を模式的に示している。図２（ｄ）において露光されていない領域５２が現像液によって溶解され、露光された領域５１のみ基材表面上に残り、この領域の感光性樹脂膜がマスク６０となる。図２（ｅ）には、感光性樹脂としてポジ型のものを用い、現像工程を行った後の状態を模式的に示している。図２（ｅ）において露光された領域５１が現像液によって溶解され、露光されていない領域５２のみ基材表面上に残り、この領域の感光性樹脂膜がマスク６０となる。
〔６〕第１エッチング工程
　第１エッチング工程は、上述した現像工程後に金型用基材表面上に残存した感光性樹脂膜をマスクとして用い、金型用基材表面のうち、主にマスクのない領域にあるめっき層をエッチングする工程である。
　図３は、金型の製造方法の後半部分の好ましい一例を模式的に示す図である。図３（ａ）には、第１エッチング工程によって、主にマスクのない領域のめっき層がエッチングされた後の状態を模式的に示している。マスク６０の下部のめっき層は感光性樹脂膜がマスク６０として働くことでエッチングされないが、エッチングの進行とともにマスクのない領域４５からのエッチングが進行する。よって、マスク６０のある領域と、マスクのない領域４５の境界付近では、マスク６０の下部にあるめっき層もエッチングされることになる。このように、マスク６０のある領域と、マスクのない領域４５の境界付近において、マスク６０の下部のめっき層もエッチングされることをサイドエッチングと呼ぶ。
　第１エッチング工程におけるエッチング処理（第１エッチング処理）は、通常、塩化第二鉄（ＦｅＣｌ３）液、塩化第二銅（ＣｕＣｌ２）液、アルカリエッチング液（Ｃｕ（ＮＨ３）４Ｃｌ２）などのエッチング液を用いて、金型用基材表面のうち、主としてマスク６０のない領域のめっき層（金属表面）を腐食させることによって行われる。当該エッチング処理としては、塩酸や硫酸などの強酸をエッチング液として用いることもできるし、当該めっき層を電解めっきにより形成した場合には、電解めっきの時と逆の電位をかけることによる逆電解エッチングを用いてエッチング処理することもできる。エッチング処理を施した際の金型用基材に形成される表面凹凸形状は、金型用基材の構成材料（金属材料）又はめっき層の種類、感光性樹脂膜の種類及び、第１エッチング工程におけるエッチング処理の種類などによって異なるため、一概にはいえないが、エッチング量が１０μｍ以下である場合には、エッチング液に接触する金型用基材表面から略等方的にエッチングされる。ここでいうエッチング量とは、エッチングにより削られるめっき層の厚みである。
　第１エッチング工程におけるエッチング量は好ましくは１~５０μｍであり、より好ましくは２~１０μｍであり、さらに好ましくは５~８μｍである。エッチング量が１μｍ未満である場合には、金型に表面凹凸形状がほとんど形成されず、ほぼ平坦な表面を有するものとなるため、当該金型を用いて防眩フィルムを製造しても、かかる防眩フィルムは表面凹凸形状をほとんど有さないものとなる。このような防眩フィルムを配置した画像表示装置では、十分な防眩性を示さなくなってしまう。また、エッチング量が大きすぎる場合には、最終的に得られる金型凹凸表面が、凹凸の高低差が大きいものとなりやすい。当該金型を用いて防眩フィルムを製造しても、当該防眩フィルムを備えた画像表示装置では、白ちゃけの発生を十分防止できないことがある。第１エッチング工程における第１エッチング処理は１回のエッチング処理によって行ってもよいし、エッチング処理を２回以上に分けて行ってもよい。ここでエッチング処理を２回以上に分けて行う場合には、２回以上のエッチング処理におけるエッチング量の合計が１~５０μｍであることが好ましい。
〔７〕感光性樹脂膜剥離工程
　続く感光性樹脂膜剥離工程では、第１エッチング工程でマスク６０として作用し、金型用基材上に残存した感光性樹脂膜を除去する工程であり、当該工程により、金型用基材上に残存した感光性樹脂膜を完全に除去することが好ましい。感光性樹脂膜剥離工程では剥離液を用いて感光性樹脂膜を溶解することが好ましい。剥離液としては、現像液として例示したものを、その濃度やｐＨなどを変更することで調製したものを用いることができる。又は、現像工程で用いた現像液と同じものを用い、現像工程とは、温度や浸漬時間などを変えることで感光性樹脂膜を剥離することもできる。感光性樹脂膜剥離工程において、剥離液と金型用基材との接触方法（剥離方法）については特に制限されず、浸漬剥離、スプレー剥離、ブラシ剥離、超音波剥離などを用いることができる。
　図３（ｂ）は、感光性樹脂膜剥離工程によって、第１エッチング工程でマスク６０として使用した感光性樹脂膜を完全に溶解し除去した状態を模式的に示している。感光性樹脂膜によるマスク６０と、エッチング処理とによって、第１の表面凹凸形状４６が金型用基材表面に形成される。
〔８〕第２エッチング工程
　第２エッチング工程では、第１エッチング工程によって形成された第１の表面凹凸形状４６を、さらなるエッチング処理（第２エッチング処理）によって鈍らせるための工程である。この第２エッチング処理によって、第１エッチング処理によって形成された第１の表面凹凸形状４６において、表面傾斜が急峻な部分がなくなる（以下、このように表面凹凸形状のなかで、表面傾斜が急峻な部分を鈍らせることを「形状鈍化」という）。図３（ｃ）には、第２エッチング処理によって、金型用基材４０の第１の表面凹凸形状４６を形状鈍化させることで、表面傾斜が急峻な部分が鈍らされ、緩やかな表面傾斜を有する第２の表面凹凸形状４７が形成された状態が示されている。このようにして第２エッチング処理を行って得られる金型は、当該金型を用いて製造される本発明の防眩フィルムの光学特性がより好ましくなるという効果がある。
　第２エッチング工程の第２エッチング処理も、第１エッチング工程と同様のエッチング液を用いるエッチング処理や逆電解エッチングを用いることができる。第２エッチング処理後の形状鈍化の度合い（第１エッチング工程後の表面凹凸形状における表面傾斜が急峻な部分の消失度合い）は、金型用基材の材質、第２エッチング処理の手段、及び第１エッチング工程により得られた表面凹凸形状にある凹凸のサイズと深さなどによって異なるため、一概にはいえないが、鈍り具合（形状鈍化の度合い）を制御する上で最も大きな因子は、第２エッチング処理におけるエッチング量である。ここでいうエッチング量も、第１エッチング工程の場合と同様に、第２エッチング処理により削られる基材の厚みで表す。第２エッチング処理のエッチング量が小さいと、第１エッチング工程により得られた表面凹凸形状の形状鈍化に関する効果が不十分となる。したがって、形状鈍化が不十分な金型を用いて製造される防眩フィルムは、白ちゃけが発生することがある。一方で、第２エッチング処理におけるエッチング量が大きすぎると、第１エッチング工程により形成された表面凹凸形状の凹凸がほとんどなくなってしまい、ほぼ平坦な表面を有する金型となってしまうことがある。このようなほぼ平坦な表面を有する金型を用いて製造される防眩フィルムは、防眩性が不十分となることがある。そこで、第２エッチング処理のエッチング量は１~５０μｍの範囲内であることが好ましく、４~２０μｍの範囲内であることがより好ましく、１３~１８μｍの範囲内であることがさらに好ましい。第２エッチング処理についても、第１エッチング工程と同様に、１回のエッチング処理によって行ってもよいし、エッチング処理を２回以上に分けて行ってもよい。ここでエッチング処理を２回以上に分けて行う場合には、２回以上のエッチング処理におけるエッチング量の合計が１~５０μｍであることが好ましい。
〔９〕第２めっき工程
　金型製造の最後の段階は、前記〔６〕及び〔７〕の工程を経た金型用基材、好ましくは前記〔６〕~〔８〕の工程を経た金型用基材の表面にめっき（好ましくは、後述のクロムめっき）を施す第２めっき工程である。第２めっき工程を行うことにより、金型用基材の表面凹凸形状４７をさらに鈍らせるとともに、当該めっきによって金型表面を保護することができる。図３（ｄ）には、上述したように第２エッチング処理によって形成された第２の表面凹凸形状４７上にクロムめっき層７１を形成することで、表面凹凸形状が形状鈍化（金型凹凸表面７０）した状態を示している。
　第２めっき工程により形成するめっき層としては、光沢があって、硬度が高く、摩擦係数が小さく、良好な離型性を与え得るという点でクロムめっきが好ましい。クロムめっきのなかでも、いわゆる光沢クロムめっきや装飾用クロムめっきなどと呼ばれる、良好な光沢を発現するクロムめっきが特に好ましい。クロムめっきは通常、電解によって行われるが、そのめっき浴としては、無水クロム酸（ＣｒＯ３）と少量の硫酸を含む水溶液がめっき液として用いられる。電流密度と電解時間を調節することにより、クロムめっき層の厚みを制御することができる。
　このようにして第２めっき工程におけるめっき、好ましくはクロムめっきを施すことで、本発明の防眩フィルム製造用の金型が得られる。第２エッチング処理後の金型用基材表面にある表面凹凸形状に、クロムめっきを施すことにより、形状鈍化ができるとともに、その表面硬度が高められた金型が得られる。この場合の形状鈍化の度合いを制御するうえで最も大きな因子は、クロムめっき層の厚みである。当該厚みが薄いと、形状鈍化の度合いが不十分となり、このような金型を用いて得られる防眩フィルムは、その反射率Ｒ（３０）と反射率Ｒ（４０）との比Ｒ（４０）／Ｒ（３０）が０．００２５を上回ることがある。一方、クロムめっき層の厚みが厚すぎると、比Ｒ（４０）／Ｒ（３０）が０．００００１を下回ることとなる。本発明者らは、白ちゃけの発生を十分防止し、優れた防眩性を有する画像表示装置を得るための防眩フィルムは、クロムめっき層の厚みが所定の範囲となるように金型を製造することが有効であることを見出している。すなわち、クロムめっき層の厚みは１~１０μｍの範囲内であると好ましく、３~６μｍの範囲内であるとより好ましい。
　第２めっき工程で形成されるクロムめっき層は、ビッカース硬度が８００以上となるように形成されていることが好ましく、１０００以上となるように形成されていることがより好ましい。クロムめっき層のビッカース硬度が８００未満である場合には、金型を使用して防眩フィルムを製造する際、当該金型の耐久性が低下する傾向がある。
　以下では、本発明の防眩フィルムを製造するための方法として好ましい前記光エンボス法について説明する。すでに述べたとおり、ＵＶエンボス法が光エンボス法として特に好ましいが、ここでは活性エネルギー線硬化性樹脂を用いるエンボス法について具体的に説明する。
　本発明の防眩フィルムを連続的に製造するために、本発明の防眩フィルムを光エンボス法によって製造する場合は、下記工程：
　〔Ｐ１〕連続して搬送される透明支持体上に、活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する塗工液を塗工して、塗工層を形成する塗工工程、
　〔Ｐ２〕塗工層の表面に、金型の表面を押し当てた状態で、透明支持体側から活性エネルギー線を照射する本硬化工程、
を含むことが好ましい。
　また、本発明の防眩フィルムを光エンボス法によって製造する場合は、
　〔Ｐ３〕塗工工程〔Ｐ１〕の後であって、硬化工程〔Ｐ２〕の前に、塗工層の幅方向の両方の端部領域に活性エネルギー線を照射する予備硬化工程を含むことがより好ましい。
　以下、図面を参照しながら、各工程について詳細に説明する。図４は、本発明の防眩フィルムの製造方法に用いられる製造装置の好ましい一例を模式的に示す図である。図４中の矢印は、フィルムの搬送方向又はロールの回転方向を示す。
〔Ｐ１〕塗工工程
　塗工工程では、透明支持体上に、活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する塗工液を塗工して、塗工層を形成する。塗工工程は、例えば図４に示されるように、送り出しロール８０から繰り出される透明支持体８１に対し、塗工ゾーン８３で活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を含有する塗工液が塗布される。
　塗工液の透明支持体８１上への塗工は、例えば、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、ロッドコート法、ナイフコート法、エアーナイフコート法、キスコート法、ダイコート法などによって行うことができる。
（透明支持体）
　透明支持体８１は透光性のものであればよく、例えばガラスやプラスチックフィルムなどを用いることができる。プラスチックフィルムとしては適度の透明性、機械強度を有していればよい。具体的には、すでにＵＶエンボス法に用いる透明支持体として例示したものがいずれも使用可能であり、さらに光エンボス法により連続的に本発明の防眩フィルムを製造するために、適度な可とう性を有するものが選択される。
　塗工液の塗工性の改良、透明支持体と塗工層との接着性の改良を目的として、透明支持体８１の表面（塗工層側表面）には、各種表面処理を施してもよい。表面処理としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、酸表面処理、アルカリ表面処理、紫外線照射処理などが挙げられる。また、透明支持体８１上に、例えばプライマー層等の他の層を形成し、この他の層の上に、塗工液を塗工するようにしてもよい。
　また、本発明の防眩フィルムとして、偏光フィルムと一体化したものを製造する場合には、透明支持体と偏光フィルムとの接着性を向上させるために、透明支持体の表面（塗工層とは反対側の表面）を各種表面処理によって親水化しておくことが好ましい。この表面処理は、防眩フィルムの製造後に行ってもよい。
（塗工液）
　塗工液は、活性エネルギー線硬化性樹脂を含有し、通常は、光重合開始剤（ラジカル重合開始剤）をさらに含む。必要に応じて、透光性微粒子、有機溶剤等の溶剤、レベリング剤、分散剤、帯電防止剤、防汚剤、界面活性剤等の各種添加剤を含んでいてもよい。
（１）活性エネルギー線硬化性樹脂
　活性エネルギー線硬化性樹脂としては、例えば、多官能（メタ）アクリレート化合物を含有するものを好ましく用いることができる。多官能（メタ）アクリレート化合物とは、分子中に少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物である。多官能（メタ）アクリレート化合物の具体例としては、例えば、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル化合物、ウレタン（メタ）アクリレート化合物、ポリエステル（メタ）アクリレート化合物、エポキシ（メタ）アクリレート化合物等の（メタ）アクリロイル基を２個以上含む多官能重合性化合物等が挙げられる。
　多価アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、テトラプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、プロパンジオール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２，２′−チオジエタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノールのような２価のアルコール；トリメチロールプロパン、グリセロール、ペンタエリスリトール、ジグリセロール、ジペンタエリスリトール、ジトリメチロールプロパンのような３価以上のアルコールが挙げられる。
　多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル化物として、具体的には、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタグリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートが挙げられる。
　ウレタン（メタ）アクリレート化合物としては、１分子中に複数個のイソシアネート基を有する有機イソシアネートと、水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体のウレタン化反応物を挙げることができる。１分子中に複数個のイソシアネート基を有する有機イソシアネートとしては、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシレリンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート等の１分子中に２個のイソシアネート基を有する有機イソシアネート、それら有機イソシアネートをイソシアヌレート変性、アダクト変性、ビウレット変性した１分子中に３個のイソシアネート基を有する有機イソシアネート等が挙げられる。水酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートが挙げられる。
　ポリエステル（メタ）アクリレート化合物として好ましいものは、水酸基含有ポリエステルと（メタ）アクリル酸とを反応させて得られるポリエステル（メタ）アクリレートである。好ましく用いられる水酸基含有ポリエステルは、多価アルコールとカルボン酸や複数のカルボキシル基を有する化合物及び／又はその無水物のエステル化反応によって得られる水酸基含有ポリエステルである。多価アルコールとしては前述した化合物と同様のものが例示できる。また、多価アルコール以外にも、フェノール類としてビスフェノールＡ等が挙げられる。カルボン酸としては、ギ酸、酢酸、ブチルカルボン酸、安息香酸等が挙げられる。複数のカルボキシル基を有する化合物及び／又はその無水物としては、マレイン酸、フタル酸、フマル酸、イタコン酸、アジピン酸、テレフタル酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、トリメリット酸、シクロヘキサンジカルボン酸無水物等が挙げられる。
　以上のような多官能（メタ）アクリレート化合物の中でも、その硬化物の強度向上や入手の容易性の点から、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等のエステル化合物；ヘキサメチレンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートの付加体；イソホロンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートの付加体；トリレンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートの付加体；アダクト変性イソホロンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートの付加体；及びビウレット変性イソホロンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの付加体が好ましい。さらに、これらの多官能（メタ）アクリレート化合物は、それぞれ単独で、又は２種以上を併用することができる。
　活性エネルギー線硬化性樹脂は、上記の多官能（メタ）アクリレート化合物のほかに、単官能（メタ）アクリレート化合物を含有していてもよい。単官能（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルフォリン、Ｎ−ビニルピロリドン、テトラヒドロフルフリール（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、アセチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、フェノキシ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性フェノキシ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド（メタ）アクリレート、ノニルフェノール（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ノニルフェノール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート類を挙げることができる。これらの化合物はそれぞれ単独で又は２種類以上を併用することができる。
　また、活性エネルギー線硬化性樹脂は重合性オリゴマーを含有していてもよい。重合性オリゴマーを含有させることにより、硬化物の硬度を調整することができる。重合性オリゴマーは、例えば、前記多官能（メタ）アクリレート化合物、すなわち、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル化合物、ウレタン（メタ）アクリレート化合物、ポリエステル（メタ）アクリレート化合物又はエポキシ（メタ）アクリレート等の２量体、３量体などのようなオリゴマーであることができる。
　その他の重合性オリゴマーとしては、分子中に少なくとも２個のイソシアネート基を有するポリイソシアネートと、少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールとの反応により得られるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーを挙げることができる。ポリイソシアネートとしては、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシレリンジイソシアネートの重合物等が挙げられ、少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸のエステル化反応によって得られる水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルであって、多価アルコールとして、例えば、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等であるものが挙げられる。この少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールは、多価アルコールのアルコール性水酸基の一部が（メタ）アクリル酸とエステル化反応しているとともに、アルコール性水酸基が分子中に残存するものである。
　さらに、その他の重合性オリゴマーの例として、複数のカルボキシル基を有する化合物及び／又はその無水物と、少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールとの反応により得られるポリエステル（メタ）アクリレートオリゴマーを挙げることができる。複数のカルボキシル基を有する化合物及び／又はその無水物としては、前記多官能（メタ）アクリレート化合物のポリエステル（メタ）アクリレートで記載したものと同様のものが例示できる。また、少なくとも１個の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多価アルコールとしては、上記ウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーで記載したものと同様のものが例示できる。
　以上のような重合性オリゴマーに加えて、さらにウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーの例として、水酸基含有ポリエステル、水酸基含有ポリエーテル又は水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルの水酸基にイソシアネート類を反応させて得られる化合物が挙げられる。好ましく用いられる水酸基含有ポリエステルは、多価アルコールとカルボン酸や複数のカルボキシル基を有する化合物及び／又はその無水物のエステル化反応によって得られる水酸基含有ポリエステルである。多価アルコールや、複数のカルボキシル基を有する化合物及び／又はその無水物としては、それぞれ、多官能（メタ）アクリレート化合物のポリエステル（メタ）アクリレート化合物で記載したものと同様のものが例示できる。好ましく用いられる水酸基含有ポリエーテルは、多価アルコールに１種又は２種以上のアルキレンオキサイド及び／又はε−カプロラクトンを付加することによって得られる水酸基含有ポリエーテルである。多価アルコールは、前記水酸基含有ポリエステルに使用できるものと同じものであってよい。好ましく用いられる水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルとしては、重合性オリゴマーのウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーで記載したものと同様のものが例示できる。イソシアネート類としては、分子中に１個以上のイソシアネート基を持つ化合物が好ましく、トリレンジイソシアネートや、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートなどの２価のイソシアネート化合物が特に好ましい。
　これらの重合性オリゴマー化合物はそれぞれ単独で又は２種以上を併用することができる。
（２）光重合開始剤
　光重合開始剤は、本発明の防眩フィルム製造に適用する活性エネルギー線の種類に応じて適宜選択できる。また、活性エネルギー線として電子線を用いる場合には、光重合開始剤を含有しない塗工液を本発明の防眩フィルム製造に用いることもある。
　光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤、トリアジン系光重合開始剤、オキサジアゾール系光重合開始剤などが用いられる。また、光重合開始剤として、例えば、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，２′−ビス（ｏ−クロロフェニル）−４，４′，５，５′−テトラフェニル−１，２′−ビイミダゾール、１０−ブチル−２−クロロアクリドン、２−エチルアントラキノン、ベンジル、９，１０−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、フェニルグリオキシル酸メチル、チタノセン化合物等も用いることができる。光重合開始剤の使用量は、活性エネルギー線硬化性樹脂１００重量部に対して、通常０．５~２０重量部であり、好ましくは１~５重量部である。
　塗工液は、透明支持体に対する塗工性を改良するために、有機溶剤等の溶剤を含むこともある。有機溶剤としては、ヘキサン、シクロヘキサン、オクタンなどの脂肪族炭化水素；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素；エタノール、１−プロパノール、イソプロパノール、１−ブタノール、シクロヘキサノールなどのアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチルなどのエステル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル化グリコールエーテル類；２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−ブトキシエタノール等のセルソルブ類；２−（２−メトキシエトキシ）エタノール、２−（２−エトキシエトキシ）エタノール、２−（２−ブトキシエトキシ）エタノール等のカルビトール類などから、粘度等を考慮して選択して用いることができる。これらの溶剤は、単独で用いてもよいし、必要に応じて数種類を混合して用いてもよい。塗工後は、上記有機溶剤を蒸発させる必要がある。そのため、沸点は６０℃~１６０℃の範囲であることが望ましい。また、２０℃における飽和蒸気圧は０．１ｋＰａ~２０ｋＰａの範囲であることが好ましい。
　塗工液が溶剤を含む場合、上記塗工工程の後、第１硬化工程の前に、溶剤を蒸発させて乾燥を行う乾燥工程を設けることが好ましい。乾燥は、例えば図４に示される例のように、塗工層を備える透明支持体８１を、乾燥ゾーン８４内を通過させることによって行うことができる。乾燥温度は、使用する溶剤や透明支持体の種類により適宜選択される。一般に２０℃~１２０℃の範囲であるが、これに限定されない。また、乾燥炉が複数ある場合は、乾燥炉毎に温度を変えてもよい。乾燥後の塗工層の厚みは、１~３０μｍであることが好ましい。
　かくして、透明支持体と塗工層とが積層した積層体が形成される。
〔Ｐ２〕硬化工程
　本工程は、塗工層の表面に、所望の表面凹凸形状を有する金型凹凸表面（成形面）を押し当てた状態で、透明支持体側から活性エネルギー線を照射し、塗工層を硬化させることにより、透明支持体上に硬化された樹脂層を形成する工程である。これにより、塗工層が硬化されるとともに、金型凹凸表面の表面凹凸形状が塗工層表面に転写される。ここで用いる金型はロール形状のものであり、すでに説明した金型製造方法においてロール形状の金型用基材を用いることで製造されたものである。
　本工程は、例えば図４に示されるように、例えば、塗工ゾーン８３（乾燥を行う場合には、乾燥ゾーン８４、後述する予備硬化工程を行う場合にはさらに活性エネルギー線照射装置８６による照射がなされる予備硬化ゾーン）を通過した塗工層を有する積層体に対して、透明支持体８１側に配置された紫外線照射装置等の活性エネルギー線照射装置８６を用いて、活性エネルギー線を照射することにより行うことができる。
　まず、硬化工程を経た積層体の塗工層の表面に、ニップロール８８等の圧着装置を用いて、ロール形状の金型８７を押し当て、この状態で活性エネルギー線照射装置８６を用いて、透明支持体８１側から活性エネルギー線を照射して塗工層８２を硬化させる。ここで、「塗工層を硬化させる」とは、当該塗工層に含まれる活性エネルギー線硬化性樹脂が活性エネルギー線のエネルギーを受けて硬化反応を生じさせることをいう。ニップロールの使用は、積層体の塗工層と金型との間への気泡の混入を防止するうえで有効である。活性エネルギー線照射装置は、１機若しくは複数機を使用することができる。
　活性エネルギー線の照射後、積層体は、出口側のニップロール８９を支点として金型８７から剥離される。得られた透明支持体と硬化した塗工層は、当該硬化した塗工層が防眩層となって本発明の防眩フィルムが得られる。得られた防眩フィルムは通常、フィルム巻き取り装置９０によって巻き取られる。この際、防眩層を保護する目的で、再剥離性を有した粘着剤層を介して、防眩層表面にポリエチレンテレフタレートやポリエチレン等からなる保護フィルムを貼着しながら巻き取ってもよい。なお、ここでは用いる金型はロール形状のものの場合を説明したが、ロール形状以外の金型を用いることもできる。また、金型から剥離された後に、追加の活性エネルギー線照射を行ってもよい。
　本工程で用いる活性エネルギー線としては、塗工液に含まれる活性エネルギー線硬化性樹脂の種類に応じて紫外線、電子線、近紫外線、可視光、近赤外線、赤外線、Ｘ線などから適宜選択することができるが、これらの中で紫外線及び電子線が好ましく、取り扱いが簡便で高エネルギーが得られることから紫外線が特に好ましい（上述のとおり、光エンボス法としては、ＵＶエンボス法が好ましい）。
　紫外線の光源としては、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、無電極ランプ、メタルハライドランプ、キセノンアークランプ等を用いることができる。また、ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ、エキシマランプ又はシンクロトロン放射光等も用いることができる。これらの中でも、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、無電極ランプ、キセノンアークランプ、メタルハライドランプが好ましく用いられる。
　また、電子線としては、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０~１０００ｋｅＶ、好ましくは１００~３００ｋｅＶのエネルギーを有する電子線を挙げることができる。
　活性エネルギー線が紫外線である場合、紫外線のＵＶＡにおける積算光量は、好ましくは１００ｍＪ／ｃｍ２以上３０００ｍＪ／ｃｍ２以下であり、より好ましくは２００ｍＪ／ｃｍ２以上２０００ｍＪ／ｃｍ２以下である。また、透明支持体が短波長側の紫外線を吸収する場合もあるため、紫外線のＵＶＶ（３９５~４４５ｎｍ）における積算光量が、１００ｍＪ／ｃｍ２以上３０００ｍＪ／ｃｍ２以下であることが好ましく、２００ｍＪ／ｃｍ２以上２０００ｍＪ／ｃｍ２以下であることがより好ましい。積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２未満である場合、塗工層の硬化が不十分となり、得られる防眩層の硬度が低くなったり、未硬化の樹脂がガイドロール等に付着し、工程汚染の原因となったりする傾向がある。また、積算光量が３０００ｍＪ／ｃｍ２を超える場合、紫外線照射装置から放射される熱により、透明支持体が収縮して皺の原因になることがある。
〔Ｐ３〕予備硬化工程
　本工程は、前記硬化工程に先立って、塗工層の透明支持体の幅方向の両方の端部領域に活性エネルギー線を照射して、この両端部領域を予備硬化させる工程である。図５は、予備硬化工程を模式的に示す断面図である。図５において、塗工層の幅方向（搬送方向と直交する方向）の端部領域８２ｂは、塗工層の端部を含み端部から所定の幅の領域である。
　予備硬化工程において、端部領域を予め硬化させておくことにより、端部領域において、透明支持体８１との密着性を一段と高めて、硬化工程後の工程で、硬化樹脂の一部が剥がれて落下し、工程が汚染されるのを防止することができる。端部領域８２ｂは、塗工層８２の端部から、例えば、５ｍｍ以上５０ｍｍ以下の領域とすることができる。
　塗工層の端部領域への活性エネルギー線の照射は、図４及び図５を参照して、例えば、塗工ゾーン８３（乾燥を行う場合には、乾燥ゾーン８４）を通過した塗工層８２を有する透明支持体８１に対して、塗工層８２側の両端部近傍にそれぞれ設置された紫外線照射装置等の活性エネルギー線照射装置８５を用いて、活性エネルギー線を照射することにより行うことができる。活性エネルギー線照射装置８５は、塗工層８２の端部領域８２ｂに活性エネルギー線を照射できるものであればよく、透明支持体８１側に設置されていてもよい。
　活性エネルギー線の種類及び光源については本硬化工程と同様である。活性エネルギー線が紫外線である場合、紫外線のＵＶＡにおける積算光量は、１０ｍＪ／ｃｍ２以上４００ｍＪ／ｃｍ２以下であることが好ましく、５０ｍＪ／ｃｍ２以上４００ｍＪ／ｃｍ２以下であることがより好ましい。５０ｍＪ／ｃｍ２以上となるように照射することにより、本硬化工程にける変形をより効果的に防止することができる。なお、４００ｍＪ／ｃｍ２を超えると、硬化反応が過度に進行する結果、硬化部分と未硬化部分との境界において、膜厚差や内部応力の歪みに起因して樹脂剥がれが生じる場合がある。
［本発明の防眩フィルムの用途］
　以上のようにして得られる本発明の防眩フィルムは画像表示装置などに用いられるものであり、通常、視認側偏光板の視認側保護フィルムとして偏光フィルムに貼合して用いられる（すなわち、画像表示装置の表面に配置される。）。また、すでに述べたとおり、透明支持体として偏光フィルムを用いた場合には、偏光フィルム一体型の防眩フィルムが得られるため、かかる偏光フィルム一体型の防眩フィルムを画像表示装置に用いることもできる。本発明の防眩フィルムを備えた画像表示装置は、広い観察角度において十分な防眩性を有し、さらに白ちゃけ及びギラツキの発生をともに良好に防止することができる。
　以下に実施例を挙げて、本発明をさらに詳しく説明する。例中、含有量ないし使用量を表す「％」及び「部」は、特記ない限り重量基準である。
　以下の例における金型又は防眩フィルムの評価方法は、次のとおりである。
〔１〕防眩フィルムの表面形状の測定
（微細凹凸表面の表面粗さパラメータ）
　ＪＩＳ　Ｂ　０６０１に準拠した方法により、（株）ミツトヨ製の表面粗さ測定機サーフテストＳＪ−３０１を用いて、防眩フィルムの表面粗さパラメータを測定した。測定サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用い、測定サンプルの防眩層とは反対側の面をガラス基板に貼合してから、測定に供した。
〔２〕防眩フィルムの光学特性の測定
（ヘイズ）
　防眩フィルムの全ヘイズは、防眩フィルムを光学的に透明な粘着剤を用い、測定サンプルの防眩層とは反対側の面をガラス基板に貼合し、該ガラス基板に貼合された防眩フィルムについて、ガラス基板側から光を入射させ、ＪＩＳ　Ｋ　７１３６に準拠した方法により、（株）村上色彩技術研究所製のヘイズメーター「ＨＭ−１５０」型を用いて、測定した。表面ヘイズは、防眩フィルムの内部ヘイズを求め、次式
　表面ヘイズ＝全ヘイズ−内部ヘイズ
によって全ヘイズから内部ヘイズを差し引くことで求めた。内部ヘイズは、全ヘイズを測定した後の測定サンプルの防眩層面にヘイズがほぼ０のトリアセチルセルロースフィルムをグリセリンで貼り付けた後、全ヘイズと同様にして測定した。
（透過鮮明度）
　ＪＩＳ　Ｋ　７１０５に準拠した方法により、スガ試験機（株）製の写像性測定器「ＩＣＭ−１ＤＰ」を用いて、防眩フィルムの透過鮮明度を測定した。この場合も、サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて、測定サンプルの防眩層とは反対側の面をガラス基板に貼合してから、測定に供した。この状態でガラス基板側から光を入射させ、測定を行った。ここでの測定値は、暗部と明部の幅がそれぞれ０．１２５ｍｍ、０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍである５種類の光学くしを用いて、それぞれ測定された値の合計値である。
（光の入射角４５°で測定される反射鮮明度）
　ＪＩＳ　Ｋ　７１０５に準拠した方法により、スガ試験機（株）製の写像性測定器「ＩＣＭ−１ＤＰ」を用いて、防眩フィルムの反射鮮明度を測定した。この場合も、サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて、測定サンプルの防眩層とは反対側の面を黒色アクリル基板に貼合してから、測定に供した。この状態で防眩層面側から光を４５°で入射させ、測定を行った。ここでの測定値は、暗部と明部の幅がそれぞれ０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍである４種類の光学くしを用いて、それぞれ測定された値の合計値である。
（光の入射角６０°で測定される反射鮮明度）
　ＪＩＳ　Ｋ　７１０５に準拠した方法により、スガ試験機（株）製の写像性測定器「ＩＣＭ−１ＤＰ」を用いて、防眩フィルムの反射鮮明度を測定した。この場合も、サンプルの反りを防止するため、光学的に透明な粘着剤を用いて、測定サンプルの防眩層とは反対側の面を黒色アクリル基板に貼合してから、測定に供した。この状態で防眩層面側から光を６０°で入射させ、測定を行った。ここでの測定値は、暗部と明部の幅がそれぞれ０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍである４種類の光学くしを用いて、それぞれ測定された値の合計値である。
　防眩フィルムの防眩層に、当該防眩フィルムの法線に対して３０°傾斜した方向から、波長５４３．５ｎｍのＨｅ−Ｎｅレーザからの平行光を照射し、フィルム法線と照射方向を含む平面内における反射率の角度変化の測定を行った。反射率の測定には、いずれも横河電機（株）製の“３２９２　０３オプティカルパワーセンサー”及び“３２９２オプティカルパワーメーター”を用いた。
〔３〕防眩フィルムの防眩性能の評価
（映り込み、白ちゃけの目視評価）
　防眩フィルムの裏面からの反射を防止するために、測定サンプルの防眩層とは反対側の面を黒色アクリル樹脂板に防眩フィルムを貼合し、蛍光灯のついた明るい室内で防眩層側から目視で観察し、蛍光灯の映り込みの程度、白ちゃけの程度を目視で評価した。映り込みに関しては、防眩フィルムを正面から観察したときの映り込みの程度と斜め３０°から観察したときの映り込みの程度をそれぞれ評価した。映り込み及び白ちゃけは、それぞれ１から３の３段階で次の基準により評価した。
　映り込み　１：映り込みが観察されない。
　　　　　　２：映り込みが少し観察される。
　　　　　　３：映り込みが明瞭に観察される。
　白ちゃけ　１：白ちゃけが観察されない。
　　　　　　２：白ちゃけが少し観察される。
　　　　　　３：白ちゃけが明瞭に観察される。
（ギラツキの評価）
　ギラツキは次の手順で評価した。すなわち、まず図６に平面図で示すようなユニットセルのパターンを有するフォトマスクを用意した。この図において、ユニットセル１００は、透明な基板上に、線幅１０μｍでカギ形のクロム遮光パターン１０１が形成され、そのクロム遮光パターン１０１の形成されていない部分が開口部１０２となっている。ここでは、ユニットセルの寸法が２１１μｍ×７０μｍ（図の縦×横）、したがって開口部の寸法が２０１μｍ×６０μｍ（図の縦×横）のものを用いた。図示するユニットセルが縦横に多数並んで、フォトマスクを形成する。
　そして、図７に模式的な断面図で示すように、フォトマスク１１３のクロム遮光パターン１１１を上にしてライトボックス１１５に置き、ガラス板１１７に粘着剤で防眩フィルム１１０をその防眩層が表面となるように貼合したサンプルをフォトマスク１１３上に置く。ライトボックス１１５の中には、光源１１６が配置されている。この状態で、サンプルから約３０ｃｍ離れた位置１１９で目視観察することにより、ギラツキの程度を７段階で官能評価した。レベル１はギラツキが全く認められない状態、レベル７はひどくギラツキが観察される状態に該当し、レベル４はごくわずかにギラツキが観察される状態である。
（コントラストの評価）
　市販の液晶テレビ〔ソニー（株）製の“ＫＤＬ−３２ＥＸ５５０”〕　から表裏両面の偏光板を剥離した。それらオリジナル偏光板の代わりに、背面側及び表示面側とも、住友化学（株）製の偏光板“スミカランＳＲＤＢ８３１Ｅ”を、それぞれの吸収軸がオリジナルの偏光板の吸収軸と一致するように粘着剤を介して貼合し、さらに表示面側偏光板の上には、以下の各例に示す防眩フィルムを凹凸面が表面となるように粘着剤を介して貼合した。こうして得られた液晶テレビを暗室内で起動し、（株）トプコン製の輝度計“ＢＭ５Ａ”型を用いて、黒表示状態及び白表示状態における輝度を測定し、コントラストを算出した。ここでコントラストは、黒表示状態の輝度に対する白表示状態の輝度の比で表される。結果は防眩フィルムを貼合した状態で測定されたコントラストを、防眩フィルムを貼合しない状態で測定したコントラストの比で示した。
〔４〕防眩フィルム製造用のパターンの評価
　作成したパターンデータを２階調の二値化画像データとし、階調を二次元の離散関数ｇ（ｘ，ｙ）で表した。離散関数ｇ（ｘ，ｙ）の水平分解能Δｘ及びΔｙはともに、２μｍとした。得られた二次元関数ｇ（ｘ，ｙ）を離散フーリエ変換して、二次元関数Ｇ（ｆｘ，ｆｙ）を求めた。二次元関数Ｇ（ｆｘ，ｆｙ）の絶対値を二乗して二次元パワースペクトルの二次元関数Γ（ｆｘ，ｆｙ）を計算し、原点からの距離ｆの関数である一次元パワースペクトルの一次元関数Γ（ｆ）を計算した。
＜実施例１＞
（防眩フィルム製造用の金型の作製）
　直径３００ｍｍのアルミロール（ＪＩＳによるＡ６０６３）の表面に銅バラードめっきが施されたものを準備した。銅バラードめっきは、銅めっき層／薄い銀めっき層／表面銅めっき層からなるものであり、めっき層全体の厚みは、約２００μｍとなるように設定した。その銅めっき表面を鏡面研磨し、研磨された銅めっき表面に感光性樹脂を塗布、乾燥して感光性樹脂膜を形成した。ついで、図８に示すパターンＡを繰り返し並べたパターンを感光性樹脂膜上にレーザ光によって露光し、現像した。レーザ光による露光、及び現像はＬａｓｅｒ　Ｓｔｒｅａｍ　ＦＸ（（株）シンク・ラボラトリー製）を用いて行った。感光性樹脂膜としてはポジ型の感光性樹脂を含むものを使用した。ここで、パターンＡはランダムな明度分布を有するパターンから、複数のガウス関数型のバンドパスフィルターを通過させて作成したものであり、開口率が４５．０％、一次元パワースペクトルが周波数０．０１９５μｍ−１に極小値を有するパターンである。
　その後、塩化第二銅液で第１エッチング処理を行った。その際のエッチング量は５μｍとなるように設定した。第１エッチング処理後のロールから感光性樹脂膜を除去し、再度、塩化第二銅液で第２エッチング処理を行った。その際のエッチング量は１３μｍとなるように設定した。その後、クロムめっき加工を行い、金型Ａを作製した。このとき、クロムめっき厚みが４μｍとなるように設定した。
（防眩フィルムの作製）
　以下の各成分が酢酸エチルに固形分濃度６０％で溶解されており、硬化後に１．５３の屈折率を示す膜を形成し得る紫外線硬化性樹脂組成物Ａを準備した。
　ペンタエリスリトールトリアクリレート　　　　　　　　　　　　　　６０部
　多官能ウレタン化アクリレート　　　　　　　　　　　　　　　　　　４０部
　（ヘキサメチレンジイソシアネートとペンタエリスリトールトリアクリレートの反応生成物）
　ジフェニル（２，４，６−トリメトキシベンゾイル）ホスフィンオキシド
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５部
　この紫外線硬化性樹脂組成物Ａを厚み６０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム上に、乾燥後の塗布層の厚みが５μｍとなるように塗布し、６０℃に設定した乾燥機中で３分間乾燥させた。乾燥後のフィルムを、先に得られた金型Ａの成形面（表面凹凸形状を有する面）に、乾燥後の塗工層が金型側となるようにゴムロールで押し付けて密着させた。この状態でＴＡＣフィルム側より、強度２０ｍＷ／ｃｍ２の高圧水銀灯からの光をｈ線換算光量で２００ｍＪ／ｃｍ２となるように照射して、塗工層を硬化させることで防眩フィルムを製造した。この後、得られた防眩フィルムを金型から剥離して、ＴＡＣフィルム上に防眩層を備えた透明な防眩フィルムＡを作製した。
＜実施例２＞
　クロムめっき加工におけるクロムめっき厚みを３μｍとなるように設定したこと以外は実施例１の金型Ａ作製と同様にして金型Ｂを作製し、金型Ａを金型Ｂに置き換えた以外は実施例１と同様にして防眩フィルムを作製した。この防眩フィルムを防眩フィルムＢとする。
＜実施例３＞
　クロムめっき加工におけるクロムめっき厚みを５μｍとなるように設定したこと以外は実施例１の金型Ａ作製と同様にして金型Ｃを作製し、金型Ａを金型Ｃに置き換えた以外は実施例１と同様にして防眩フィルムを作製した。この防眩フィルムを防眩フィルムＣとする。
＜比較例１＞
　クロムめっき加工におけるクロムめっき厚みを２μｍとなるように設定したこと以外は実施例１の金型Ａ作製と同様にして金型Ｄを作製し、金型Ａを金型Ｄに置き換えた以外は実施例１と同様にして防眩フィルムを作製した。この防眩フィルムを防眩フィルムＤとする。
＜比較例２＞
　直径２００ｍｍのアルミロール（ＪＩＳによるＡ６０６３）の表面に銅バラードめっきが施されたものを準備し、図９に示すパターンＢを繰り返し並べたパターンを感光性樹脂膜上にレーザ光によって露光したこと以外は実施例１の金型Ａ作製と同様にして金型Ｅを作製し、金型Ａを金型Ｅに置き換えた以外は実施例１と同様にして防眩フィルムを作製した。この防眩フィルムを防眩フィルムＥとする。ここで、パターンＢはランダムな明度分布を有するパターンから、複数のガウス関数型のバンドパスフィルターを通過させて作成したものであり、開口率が４５．０％、パターンの一次元パワースペクトルが周波数０．０１５μｍ−１以上０．０５μｍ−１以下に極小値を有さないパターンである。
＜比較例３＞
　直径３００ｍｍのアルミロール（ＪＩＳによるＡ５０５６）の表面を鏡面研磨し、研磨されたアルミ面に、ブラスト装置（（株）不二製作所製）を用いて、ジルコニアビーズＴＺ−ＳＸ−１７（東ソー（株）製、平均粒径：２０μｍ）を、ブラスト圧力０．１ＭＰａ（ゲージ圧、以下同じ）、ビーズ使用量８ｇ／ｃｍ２（ロールの表面積１ｃｍ２あたりの使用量、以下同じ）でブラストし、アルミロール表面に凹凸をつけた。得られた凹凸つきアルミロールに対し、無電解ニッケルめっき加工を行い、金型Ｆを作製した。このとき、無電解ニッケルめっき厚みが１５μｍとなるように設定した。金型Ａを金型Ｆに置き換えた以外は、実施例１と同様にして防眩フィルムを作製した。この防眩フィルムを防眩フィルムＦとする。
＜比較例４＞
　直径２００ｍｍのアルミロール（ＪＩＳによるＡ５０５６）の表面に銅バラードめっきが施されたものを準備した。銅バラードめっきは、銅めっき層／薄い銀めっき層／表面銅めっき層からなるものであり、めっき層全体の厚さは、約２００μｍであった。その銅めっき表面を鏡面研磨し、さらにその研磨面に、ブラスト装置（（株）不二製作所製）を用いて、ジルコニアビーズ“ＴＺ−ＳＸ−１７”（東ソー（株）製、平均粒径：２０μｍ）を、ブラスト圧力０．０５ＭＰａ（ゲージ圧、以下同じ）、ビーズ使用量６ｇ／ｃｍ２でブラストし、アルミロール表面に凹凸をつけた。得られた凹凸つき銅めっきアルミロールにクロムめっき加工を行い、金型Ｇを作製した。このとき、クロムめっき厚みが６μｍとなるように設定した。金型Ａを金型Ｇに置き換えた以外は、実施例１と同様にして防眩フィルムを作製した。この防眩フィルムを防眩フィルムＧとする。
［各金型の製造に用いたパターンの一次元パワースペクトル］
　図１０は、防眩フィルムＡ~Ｅ（実施例１~３、比較例１及び２）の作製に使用したパターンＡ及びＢを離散フーリエ変換して得られたパワースペクトルΓ（ｆ）を示す図に相当する。
［評価結果］
　以上の実施例及び比較例について、上述の防眩フィルムの評価を行った結果を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
 　本発明の要件を満たす防眩フィルムＡ~Ｃ（実施例１~３）は低ヘイズであるにも拘わらず、観察角度が正面であっても斜めであっても優れた防眩性を有し、白ちゃけ及びギラツキの抑制効果も十分なものであった。一方、防眩フィルムＤ（比較例１）は白ちゃけが発生するものであった。防眩フィルムＥ（比較例２）は、斜めから観察した際の防眩性が不十分であった。防眩フィルムＦ（比較例３）はギラツキが発生しやすいものであった。防眩フィルムＧ（比較例４）は、斜めから観察したときの防眩性が不十分であった。
　１０　防眩フィルム，
　１１　光の入射角（３０°），１２　正反射角への反射光（３０°），
　４０　金型用基材，
　４１　第１めっき工程及び研磨工程を経た金型用基材表面（めっき層），
　４６　第１エッチング処理によって形成された第１の表面凹凸形状，
　４７　第２エッチング処理によって形状鈍化した表面凹凸形状，
　５０　感光性樹脂膜，６０　マスク，
　７０　クロムめっき後の表面凹凸形状が形状鈍化した表面，
　７１　クロムめっき層，
　８０　送り出しロール，８１　透明支持体，８３　塗工ゾーン，
　８６　活性エネルギー線照射装置，　８７　ロール形状の金型，
　８８，８９　ニップロール，９０　フィルム巻き取り装置。
　本発明の防眩フィルムは、液晶ディスプレイなどの画像表示装置に有用である。

Claims (3)

  1. 　透明支持体と、その上に形成された微細な凹凸表面を有する防眩層とを備える防眩フィルムであって、
    　全ヘイズが０．１％以上３％以下であり、
    　表面ヘイズが０．１％以上２％以下であり、
    　カットオフ長０．０８ｍｍで測定したときの二乗平均平方根粗さＲｑ（０．０８）が０．０１μｍ以上０．０５μｍ以下であり、
    　カットオフ長０．２５ｍｍで測定したときの二乗平均平方根粗さＲｑ（０．２５）が０．０５μｍ以上０．１μｍ以下であり、
    　カットオフ長０．８ｍｍで測定したときの二乗平均平方根粗さＲｑ（０．８）が０．０７μｍ以上０．１２μｍ以下であり、
    　カットオフ長２．５ｍｍで測定したときの二乗平均平方根粗さＲｑ（２．５）が０．０８μｍ以上０．１５μｍ以下であり、
    　入射角３０°で入射した光に対し、反射角３０°の反射率Ｒ（３０）と反射角４０°の反射率Ｒ（４０）との比Ｒ（４０）／Ｒ（３０）が０．００００１以上０．００２５以下であることを特徴とする防眩フィルム。
  2. 　カットオフ長０．２５ｍｍで測定したときの平均長さＳｍ（０．２５）が９０μｍ以上１６０μｍ以下であり、
    　カットオフ長０．８ｍｍで測定したときの平均長さＳｍ（０．８）が１００μｍ以上３００μｍ以下であり、
    　カットオフ長２．５ｍｍで測定したときの平均長さＳｍ（２．５）が２００μｍ以上４００μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の防眩フィルム。
  3. 　暗部と明部の幅が０．１２５ｍｍ、０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍである５種類の光学くしを用いて測定される透過鮮明度の和Ｔｃが３７５％以上であり、
    　暗部と明部の幅が０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍである４種類の光学くしを用いて光の入射角４５°で測定される反射鮮明度の和Ｒｃ（４５）が１８０％以下であり、
    　暗部と明部の幅が０．２５ｍｍ、０．５ｍｍ、１．０ｍｍ及び２．０ｍｍである４種類の光学くしを用いて光の入射角６０°で測定される反射鮮明度の和Ｒｃ（６０）が２４０％以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の防眩フィルム。
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