WO2014191061A1 - Apparatus and method for determining the focus position of a high-energy beam - Google Patents
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Definitions
- the present invention relates to a device for determining a
- the invention also relates to a method for determining a focus position of a high-energy beam, in particular a laser beam, in the beam direction of the high-energy beam relative to a workpiece and / or relative to a reference contour of a device having a focusing element for focusing the high-energy beam onto the workpiece.
- the device may, for example, be a machining head, in particular a laser machining head.
- the focus position or the position of the focal plane of a high-energy beam used for workpiece machining is an important parameter.
- the propagation direction of the high-energy beam is dependent on the divergence or convergence of the high-energy beam in front of the focusing element and on the focal length of the focusing element for the high-energy radiation used, more precisely for the wavelength range of the high-energy radiation or when using a laser beam for its operating wavelength.
- the divergence or convergence of the high energy beam is usually well controlled and subject to minor adjustments after a basic adjustment.
- the change in the focal length of the focusing element during the. Is critical for large beam powers and especially for CO2 laser radiation
- each selected intervals between the focusing element and workpiece each introduce a cut in the workpiece and close based on the width of the cut on the focus position relative to the workpiece.
- Laser processing head has a camera with an imaging optics
- Adjustment path of the imaging optics in the direction of the optical axis which is required to adjust the camera image again sharply when shifting the focus of the focusing lens, to calculate a correction Verstellweg, which is a focus shift of the focusing optic relative to the workpiece surface or relative to the workpiece surface defined position compensated.
- Welding device which is set up, a welding bead on a
- the system may include a plurality of cameras directed to the weld bead and configured to generate a corresponding number of images.
- a controller generates based on the images
- Stereoscopic image a parameter of the weld bead application.
- a single camera can be used to capture images from two different perspectives or perspectives, as well as perform a differential analysis of the images
- Observation device can as a stereomicroscope with two
- Imaging beam paths and two eyepieces are adapted to stereoscopically observe the object in a preparation mode.
- an optical Coupling device can by the same eyepieces and the course of the
- DE 10 201 1016 519 A1 discloses a method and a device for controlling the machining of a workpiece by means of a high-energy
- a surveillance camera is for generating an electronic
- the imaging beam path is focused by the lens on the impact site.
- An evaluation unit is provided, which is designed to use an adjustment path of the imaging optics in the direction of the optical axis, which is necessary to sharply adjust the camera image again during a shift of the focus of the focusing lens, to calculate a correction adjustment path, the one
- the invention has for its object to provide an apparatus and a method which allow a reliable determination of a focus position during the machining of a workpiece with a high energy beam.
- a device of the aforementioned type comprising: a focusing element for focusing the high energy beam on the Workpiece, an image detection device for detecting an area to be monitored on the surface of the workpiece and / or the reference contour by means of a passing through the focusing element
- Observation beam path wherein the image capture device is designed to form at least one observation beam, which is a non-coaxial or not parallel to the beam direction of the high-energy beam extending
- Observation is assigned and an imaging optics for generating at least one image of the area to be monitored and / or the
- Reference contour from the at least one observation direction comprises, as well as an evaluation device, which is used to determine the focus position of the
- High energy beam is formed or programmed by evaluating the at least one recorded image.
- the measuring principle proposed for determining the focus position in the beam direction of the high-energy beam is based on the detection of at least one image of the area to be monitored or the reference contour of at least one
- Has passed focusing element extends at an angle to the optical axis of the focusing element.
- changes in the focal length of the focusing element or, if appropriate, the object distance i. detected the distance between the workpiece and focusing element, determines the focus position in the beam direction of the laser beam and corrected if necessary.
- the evaluation device is designed to determine the focus position in the beam direction of the high-energy beam on the basis of a position of the reference contour in the at least one recorded image.
- Reference geometry for example, in a device in the form of a
- Laser processing head can be formed by a nozzle inner contour of a laser processing nozzle, used to determine the focus position.
- Reference contour has a constant distance in the beam direction to
- Focusing element such as a focusing lens
- a change in the Focal length of the focusing element for example by a thermal load, leads to a lateral displacement of the reference geometry in the recorded image.
- the focus position can be determined. It can also be concluded from the direction of the lateral displacement on the direction of displacement of the focus position from a desired focus position. For this purpose, for example, the deviation or the lateral offset to a reference position of the reference contour in a non-thermally loaded
- the reference position at the (known) focal length of the focusing element in the cold state i. without the application of a high-energy beam, can be determined before the evaluation of the image and stored in a memory device associated with the evaluation device, for example in the form of a reference image or a position, e.g. Centroid, the geometric center or a specific geometric feature, such as a geometry edge deposited.
- the image capture device is designed to form at least one further observation beam which is assigned to a further observation direction, wherein the imaging optical system generates at least two images of the region to be monitored and / or the
- Reference contour is formed from the at least two different observation directions, and wherein the evaluation device for determining the
- Focusing position of the high energy beam is formed by comparative evaluation of the recorded images.
- Focusing element through, ie on the recording of two or more images of the area to be monitored on the surface of the workpiece or the reference contour mounted in the device from two or more different observation directions or angles.
- the imaging optics typically form two or more observation beams, usually off-center (ie, not through the central axis) of the focusing element, and thus at different angles to the workpiece. Beam of the imaging or observation beam path on spaced areas of one or more detector surfaces.
- two or more images can also be detected on the same region of a detector surface in short chronological succession, as described in more detail below.
- the comparative evaluation of three or more images makes it possible to increase the significance of the comparison and thus the accuracy of the determination of the focus position.
- the viewing angles or the observation directions under which the images are taken differ as much as possible from each other.
- a large difference between the viewing angles can be obtained, in particular, when the two images of the surface region of the workpiece to be monitored pass through two diametrically opposite edge regions of the focusing element.
- a focusing element typically serve one or more focusing lenses or a focusing mirror, in particular an off-axis parabolic mirror.
- the monitoring area on the surface of the workpiece are laterally displaced relative to each other when the workpiece is outside, i. above or below, the focal plane of the focusing lens is located.
- the focal plane of the focusing lens is located.
- Imaging beam path located optical elements on the change of the focal length or the change of the focus position is taken into account.
- this applies to the thermal lens produced by a protective glass which prevents the termination of the device, e.g. in the form of a machining head, forms towards the workpiece.
- the device has an illumination source for illuminating the surface of the workpiece, in particular in the
- the illumination source can, for example, generate illumination at wavelengths between 360 nm and 800 nm (VIS) or approximately 800 nm and approximately 1000 nm (NIR).
- the illumination serves to obtain an image of contours on the surface of the workpiece in the region to be monitored or the reference contour formed on the device.
- the illumination may be coaxial with the high energy radiation, i. in the form of incident illumination. But it is also possible to use the illumination source to illuminate a defined measurement position within the device on which the reference contour or reference geometry is formed.
- Reference contour can, for example, from a directional illumination source irradiated and captured by the image capture device. Furthermore, a cutting nozzle attached to the cutting head for guiding a process gas can be used as reference contour. In one embodiment, the observation or imaging beam path of the image capture device for detecting the area to be monitored on the surface of the workpiece on an image acquisition area, which of the
- Image capture device detected image capture area.
- the evaluation device for determining the evaluation device for determining the evaluation device
- the focus position can be determined.
- the area of the workpiece to be observed comprises one
- a structured illumination can be used to illuminate the workpiece, for example in the form of a
- the imaging optics has at least two imaging optical elements associated with a respective observation direction.
- the imaging optical elements may be, for example
- the lens elements may be arranged at a distance from one another that corresponds approximately to the distance between the two images on the detector surface.
- Each of the two imaging optical elements generates its own imaging or observation beam for generating the respective associated image on the associated area of the detector surface.
- the two lens elements are typically eccentric, i. not coaxial to the beam path of the high energy beam or to its extension in the
- Observation beam arranged.
- two or more beams can be imaged, each passing through an edge region of the focusing lens and thus allow observation under two or more different observation angles or observation directions.
- spherical or aspherical lenses can be used as imaging optical elements.
- one of the imaging optical elements can be arranged coaxially with the beam path of the high-energy beam, as will be described in more detail below.
- the imaging optical elements are designed as cylindrical lenses.
- the imaging optics usually have at least one second cylindrical lens which has an imaging effect along a second, to the first vertical axis. Due to the crossed cylindrical lenses, the imaging optics can on the one hand be produced inexpensively and, on the other hand, the available imaging cross section can be used well.
- the imaging optical elements are in one
- Lens array or arranged in a grid arrangement.
- a raster arrangement of lens elements for example microlenses, also in the form of two crossed cylindrical lens arrays, can be used to form a
- Processing beam can be optimized by means of the focusing element by a suitable focusing element upstream beam shaping and / or it can be a coaxial observation of the workpiece for process monitoring, if necessary, at a different wavelength by a suitable correction of
- Wavefront aberrations represent a modification of the Shack-Hartmann sensor in which a local wavefront tilt is measured by a shift of focus points generated by the lenses of a two-dimensional lens array in the focal plane of the lens array.
- the imaging optics has a deflection device with at least two associated with a respective observation direction
- the deflection can be as geometric
- Beam splitters serve.
- the incident radiation can be any suitable wavelength
- an imaging optical element such as a lens element
- Two beams deflected by the deflecting device and impinging on diametrically opposite regions of the lens element are focused by the lens element on different spaced-apart regions in its focal plane, at which the images of the region to be monitored or the reference contour are generated.
- the deflection device has at least one deflection prism.
- At the deflection prism can several, in particular all
- Beam deflecting be formed, which may be formed, for example, as at an angle to the beam axis aligned facets or surface areas of the prism.
- the deflection prism may in particular have a central region in which this is designed as a plane-parallel plate and on which no deflection is made.
- Strahlumsch perennial can be arranged around the central area, so that overall results in an approximately concave or convex geometry of the deflection prism.
- the deflecting device can also be designed to be reflective and, for example, have a plurality of deflecting regions in the form of mirror surfaces, which comprise the
- the image capture device for forming the at least two associated with a respective observation direction
- Illumination beam path of the imaging optics for example, between two a beam telescope forming optical elements, be arranged.
- beam displacing means may comprise one, two or more blocks of material transparent to the illumination radiation, e.g. of quartz glass, which are formed as plane-parallel blocks or plates to produce a parallel offset of the incident observation radiation.
- the blocks are typically tilted with respect to each other so as to cause the two or more observation beams to be at different areas of the illumination radiation.
- Detector surface to create two or more laterally offset images.
- the image capture device can have a beam splitter to form the at least two observation beams associated with a respective observation direction.
- the beam splitter can split the observation radiation into two or more observation beams based on at least one property that changes over the beam cross section.
- the property may be, for example, the polarization direction, the power or the wavelength of the
- Observational beams on a detector surface may be provided in each case a separate imaging optical element, but it is also possible to make the image of the observation beams by means of a common imaging optics, for example in the form of a common focusing lens.
- the image capture device for forming the at least two associated with a respective observation direction may be provided in each case a separate imaging optical element, but it is also possible to make the image of the observation beams by means of a common imaging optics, for example in the form of a common focusing lens.
- the two or more images are acquired with a (short) time lag (typically in the range of a few microseconds or milliseconds) dependent on the frame rate of the detector or camera of the image capture device.
- a spatial separation of the observation beams on the detector surface is not required in this embodiment.
- For temporally successive recording of the images of the observation beam path is partially shaded, wherein for the recording of an image typically a different part of the
- the image capture device for forming the at least two associated with a respective observation direction
- Observation beams at least one aperture, which is in particular formed to form the two or more observation beams at different times or can be controlled.
- the aperture can be designed for this purpose, for example, as a displaceable, rotatable or switchable aperture.
- the diaphragm can be used for partial shading of the observation beam path, wherein temporally successive by a suitable control of the diaphragm
- An aperture through which the observation radiation passes typically produces an observation beam which is one of the observation beams
- the bezel may be in the form of an electronic shutter (e.g., a switchable pixel LCD screen) or an electronic shutter
- mechanical shutters e.g., an aperture plate movable (e.g., rotatable or displaceable) aperture plate
- Reference contour formed from different directions of observation As was shown above, it is usually sufficient for the determination of the focus position to determine the lateral offset along a direction between two images taken from different observation directions. However, the use of three or more images may possibly increase the significance of the comparison or the accuracy of the determination of the focus position.
- the generation of at least one further (third, fourth,...) Image can also serve to obtain further information about the focusing element, in particular in order to determine its wavefront aberrations, as was shown above. As a result, the change in the focal length of a high-power laser beamed focusing element or a focusing lens depending on location, i.
- Focusing element to be determined.
- a detector e.g. a camera
- the device comprises at least one imaging optical element for generating an image of the area to be monitored on the surface of the workpiece from a viewing direction coaxial with the high-energy beam.
- monitoring area usually an interaction area between the high energy beam and the workpiece.
- Elements can be created the process lighting of the process in the VIS area and / or a thermal image of the area to be monitored in the NIR / IR area to obtain information about the machining process, such as a welding or a cutting process. This as well
- Process monitoring can be called monitoring of the machining process in addition to the stereoscopic detection of the monitored area or the reference contour.
- the imaging optical element can be a lens element, which typically has a larger diameter than the lens elements associated with the respective observation directions, in order to obtain a higher resolution in the imaging. If necessary, the imaging optical element can also be used for the generation of two or more images which are recorded from different observation directions which do not run coaxially or parallel to the propagation direction of the high-energy beam. This is usually the case when the imaging optics has a deflection prism as described above.
- the evaluation device is for comparative
- Evaluation of the image recorded coaxially to the high energy beam and formed at least one non-coaxial with the high-energy beam recorded image The focus position of the high-energy beam can also be determined in the manner described above using the comparative evaluation of a coaxial and at least one image that is not coaxial with the high-energy beam.
- the image capture device for receiving the at least one image is formed by a nozzle opening of a laser processing nozzle for the passage of the laser beam onto the workpiece.
- a portion of the workpiece is picked up by the processing nozzle (e.g., laser cutting nozzle) and by the focusing element from one or more cameras.
- the device in this case is typically a laser processing head.
- the nozzle inner contour of the laser processing nozzle in particular of a laser cutting nozzle, forms the reference contour or reference geometry, which is used for stereoscopic image evaluation.
- the lateral distance between two images of the usually circular Nozzle inner contour can be determined to make a rough adjustment of the focus position.
- the comparative evaluation of the images of the inner contour of the nozzle opening can be carried out very quickly, since only the distance between the two typical manner is circular
- the image capture device has at least one detector, in particular a camera, with a detector surface on which the at least one image is generated.
- a detector surface on which the at least one image is generated.
- one and the same detector surface can be used e.g. serve in the form of a CCD chip or a CMOS chip of the camera, the images at different portions of the
- Detector surface are generated. Particularly in this case, it is favorable if the imaging optics has a beam telescope in order to adapt the imaging cross section to the available detector surface. It goes without saying that two or more cameras can also be provided in the image capture device in order to acquire one or more images on a respective detector surface. In particular, the determination of the position of the reference contour can also take place with a simpler optical sensor or detector, for example a four-quadrant diode or a line scan camera, instead of a surface camera.
- the evaluation device is designed to determine a distance between the reference contour and the upper side of the workpiece by comparative evaluation of the recorded images.
- the distance between the reference contour and the workpiece can be determined by determining the difference between the distance of a surface structure at the top of the workpiece, ie an image position of the workpiece surface, to an (identical) position on the reference contour in the two captured images.
- the device additionally comprises a device for changing the focus position of the high energy beam in the beam direction and a control and / or regulating device for controlling and / or regulating the
- the device for changing the focus position may, for example, be a so-called adaptive mirror whose
- Surface curvature can be selectively influenced to change the focus position in the beam direction of the high energy beam. Based on the determined in the manner described above actual focus position, the device can be controlled such that the focus position is controlled to a desired focus position, which typically remains constant during the machining process and, for example, on the workpiece top or a predetermined distance to Workpiece can be located. That way, the top ones
- Focus position i. the actuator, before the measuring position or before the
- the device additionally comprises a
- Control element is typically arranged in the observation beam path in this case, so that there is a control of the focus position of the imaging optics to the target focus position.
- the desired focus position of the imaging optics is typically located on the surface of the workpiece to be observed.
- the control or regulation to the desired focus position can according to the above in the In connection with the high-energy beam described procedure can be performed.
- the invention also relates to a method of the aforementioned type, which comprises the following steps: detecting an area to be monitored on the surface of the workpiece and / or the reference contour by means of an observation beam path passing through the focusing element, generating at least one image of the area to be monitored and / or the
- Reference contour by forming at least one observation beam, which is not associated with an observation direction coaxial with the high energy beam, and determining the focus position in the beam direction of the high energy beam by evaluating the at least one recorded image.
- the focus position in the beam direction of the high energy beam is determined based on a position of the reference contour in the at least one recorded image.
- the focus position in this case can be determined based on a lateral displacement of the reference contour within the recorded image, for example by comparison with a reference position.
- Observation direction associated observation beam formed to generate at least two images of the area to be monitored and / or the reference contour from at least two different observation directions, wherein the focus position of the high energy beam is determined by comparative evaluation of the recorded images. As has been shown above, in the comparative evaluation, a lateral offset between the two
- the invention also relates to a computer program product comprising code means adapted to perform all the steps of the method described above when the computer program is on a data processing system expires.
- the data processing system can be, for example, a control and regulating device and / or an evaluation device which is accommodated in a device as described above, but also an external device which is typically part of a processing machine.
- FIG. 1a shows a schematic representation of an embodiment of a
- FIG. 1 b shows a plan view of an imaging optical system of the device of FIG. 1 a
- FIG. 4a-c Representations of an imaging optics for the device of Fig. 1a, b with a plurality of cylindrical lenses
- FIG. 1a, b 5a-c representations of an imaging optics for the device of Fig. 1a, b with a cylindrical lens array, 1a, b with an approximately convexly curved deflection prism, Fig. 7a, b representations of an imaging optics for the device of Fig. 1a, b with an approximately concave curved deflection prism, Fig. 6a, b shows illustrations of an imaging optics for the device of FIG.
- FIG. 8a is a representation of an imaging optics for the device of Fig. 1 a, b with a deflection device with two mirror surfaces,
- Fig. 8b is an illustration of an imaging optics for the apparatus of Fig. 1 a, b with a Strahlversatz sink, and
- FIGS. 1 a, b representations of an imaging optical system for the device of FIGS. 1 a, b with a rotatable diaphragm in a side view and in a plan view,
- FIG. 10 is a schematic representation of an embodiment of a
- Fig. 1 1 a, b representations of two from the same direction of observation
- FIG. 1a shows an example of a construction of a device 1 for focusing a laser beam 2 on a workpiece 3, which is designed in the form of a laser processing head, which is part of a laser processing machine, not shown.
- the laser beam 2 is generated in the example shown by a C0 2 laser.
- the laser beam 2 can be generated for example by a solid-state laser.
- the laser beam 2 is to carry out a workpiece machining the workpiece 3, for example in the form of a laser welding or
- Focusing lens 4 focused on the workpiece 3.
- the focusing lens 4 in the example shown is a lens made of zinc selenide, which focuses the laser beam 2 on the workpiece 3 through a laser processing nozzle 5, more precisely through its nozzle opening 5a, specifically in the example shown
- a focusing lens for example. From quartz glass can be used.
- Fig. 1 a also visible is a partially transparent trained deflecting mirror 6, which transmits the incident laser beam 2 (with a wavelength of about 10 pm) and for process monitoring relevant observation radiation (for example in the visible wavelength range) to another
- the deflecting mirror is typically designed to be partially transmissive for a wavelength of approximately 1 ⁇ m.
- the further partially transparent deflection mirror 8 reflects the observation radiation to an image detection device 9.
- An illumination source 10 serves for the coaxial illumination of the workpiece 3 with illumination radiation 11.
- the illumination radiation 11 is transmitted by the further partially transmissive deflection mirror 8 and directed through the nozzle opening 5a of the laser processing nozzle 5 onto the workpiece 3.
- Hole mirror which reflect incident radiation only from an edge region, are used to supply the observation radiation 7 of the image capture device 9 and to supply the illumination radiation 1 1 to the workpiece 3.
- two laterally introduced into the beam path of the laser beam 2 mirror can be used to enable the observation.
- Diode lasers or LEDs can be provided as the illumination source 10, which can be arranged coaxially as shown in FIG. 1 a, but can also be arranged off-axis to the laser beam axis 13.
- the illumination source 10 may, for example, also be arranged outside (in particular next to) the device 1 and directed towards the workpiece 3; Alternatively, the illumination source 10 within the device 1 be arranged, but not coaxially aligned with the laser beam 2 on the workpiece 3.
- Illumination source 10 are operated.
- Part of the image capture device 9 is a geometrically arranged in the observation beam path 7 behind the further partially transparent deflection mirror 8
- Camera 12 may be a
- Act high-speed camera which is coaxial with the laser beam axis 13 and the extension of the laser beam axis 13 and thus arranged direction independent.
- the image is captured by the camera 12 in the incident light process in the VIS wavelength range, but it is also possible that the camera 12 takes pictures in the NIR / IR wavelength range to the
- a filter can be arranged in front of the camera 12 if further radiation or wavelength components are to be excluded from the detection with the camera 12.
- the filter may e.g. be designed as a narrowband bandpass filter.
- the image capture device 9 has imaging optics 14 which, in the example shown, two in the beam path of FIG Observation beam 7 has arranged lens elements 16a, 16b.
- the lens elements 16a, 16b are arranged in a common plane and each form only a partial beam or a partial beam of the observation beam path 7, each one
- Observation beam 7a, 7b form, on different areas of the detector surface 12a of the camera 12, so that there are two spaced-apart images B1, B2 are generated, as shown in Fig. 2a-c.
- the region or the image B 1, B 2 of the workpiece 3 respectively imaged by the lens elements 16 a, 16 b is of a circular inner contour 5 b
- Laser processing nozzle 5 limited.
- the respective part (observation beam 7a, 7b) of the observation beam path 7 imaged by the two lenses 16a, 16b on the detector surface 12a originates from two edge regions of the focusing lens 4 which are diametrically opposite one another in the X direction of an XYZ coordinate system and thus form the one to be monitored Area 15 of the workpiece 3 and the inner contour 5b of
- the two lenses 16a, 16b thus allow a stereoscopic observation of the area 15 to be monitored or the inner contour 5b of the
- the additional lens 18 has a significantly larger diameter than the two outer lenses 16 a, 16 b used for the stereoscopic observation.
- the additional lens 18 is for process observation, more precisely the observation of one in the
- monitoring area 15 contained interaction area between the laser beam 2 and the workpiece 3.
- Diameter of the additional lens 18 is a comparatively large and thus having a high number of pixels having image on the detector surface 12a generated, whereby the resolution in the process observation is improved. It goes without saying that, unlike in FIG. 1 a, it is also possible to dispense with the additional lens 18 and thus with the process observation. In this case, the distance in the X direction between the two lenses 16a, 16b is typically shortened in comparison to the illustration in FIGS. 1a, b.
- the focus position F, F ', F "of the laser beam 2 relative to Workpiece 3 can be determined by a comparative evaluation of the two recorded images B1, B2.
- the focus position F of the laser beam 2 is located on the upper side 3a of the workpiece 3, which in the present example corresponds to a desired focus position of the workpiece machining.
- the two images B1, B2 respectively capture a region 15 to be monitored
- Laser processing nozzle 5 limited area 15 identical and in particular have no lateral offset in the X direction.
- the two images B1, B2 are offset on the detector surface 12a by a distance A in the X direction, which is correlated with the distance between the two lenses 16a, 16b or substantially corresponds thereto.
- the focus position F 'of the laser beam 2 is above the top surface 3a of the workpiece 3.
- the one shown in the images B1, B2 is too monitoring area 15 of the workpiece 3 is not identical, but the surface structures to be recognized in the images B1, B2 are laterally offset from each other, namely the first image B1 to the right, ie in the positive X direction, while the imaged surface structures in the second image B2 after on the left, ie shifted in the negative X-direction, as indicated in each case by an arrow.
- the amount of the lateral offset between the imaged surface structures of the workpiece 3 in the two images B1, B2 depends on the distance of the focal position F 'from the workpiece 3, the lateral offset increasing as the distance between the focal position F' and the workpiece 3 increases this offset represents a measure of the deviation of the focus position F 'from the desired focus position F on the upper side 3 a of the workpiece 3.
- Fig. 2b also to is recognized, takes in the focus position shown F 'above the workpiece 3 and the distance A' between the two of the inner contour 5b of
- Laser processing nozzle 5 limited images B1, B2 on the detector surface 12a from. Whether the distance A or A 'between the two images B, B2 at a
- Shifting the focus position F 'in the direction of the laser processing head 1 increases or decreases depends on the imaging principle used for the generation of the images B1, B2.
- the focus position F "of the laser beam 2 is below the workpiece 3.
- the surface structures of the workpiece to be recognized in the images B1, B2 are 3 laterally offset from each other, namely in the first image B1 to the left, ie in the negative X direction, while the imaged surface structures in the second image B2 are shifted to the right, ie in the positive X direction, as indicated in each case by an arrow Amount of the lateral offset between the imaged surface structures of the workpiece 3 in the two bounded by the inner contour 5b images B1, B2 is a measure of the deviation of the focus position F "of the target focus position F at the top of the 3a
- the distance A "between the two images B1, B2 delimited by the inner contour 5b of the laser processing nozzle 5 also increases on the detector surface 12a.
- the direction of the lateral offset of the two images B 1, B 2 depends on whether the focus position is above or below the workpiece 3, so that the comparative analysis of FIG two images B, B2, in which the lateral offset, for example using a block matching algorithm or by a
- the focus position relative to the workpiece 3 can be determined not only in magnitude, but also in the direction. The same applies to the distance A, or ⁇ ', A "between the two images B1, B2 on the
- Detector surface 12a which is also a measure of the focus position F and F ', F ", but here relative to the reference contour formed by the nozzle inner contour 5b, represents. Deviations of the focus position from the desired focus position F on the upper side 3 a of the workpiece 3 typically occur during workpiece machining unintentionally, since the refractive index of the focusing lens 4 is temperature-dependent, as can be seen from FIG. 3, in which the refractive index n of FIG. 3, in which the refractive index n of FIG. 3, in which the refractive index n of FIG. 3, in which the refractive index n of FIG. 3, in which the refractive index n of FIG. 3, in which the refractive index n of FIG. 3, in which the refractive index n of FIG. 3, in which the refractive index n of FIG. 3, in which the refractive index n of FIG. 3, in which the refractive index n of FIG. 3,
- Laser beam 2 is shown.
- the beam density (in kW / cm 2 ) is shown, which impinges on the focusing lens 4 depending on the location or the radius coordinate and increases with increasing radiation power (in kW). Since the thermal load or the temperature of the focusing lens 4 can not or can not be predicted accurately enough during the machining process in order to adapt the focus position to the desired focus position F, the above-described determination of the focus position is advantageous for determining the target focus position F during the machining process in a desired, typically constant value.
- the laser processing head has a control or regulating device 20, with which the evaluation device 19 is in signal communication Regulation of the whole
- Deflection mirror 21 influences the focus position F or F ', F "in
- the curvature can be adjusted by means of the control device 20 in such a way that the thermally induced deviation of the focus position from the desired focus position F ', F "is just compensated on the adaptive
- Deflection mirror 21 is acted on until the situation shown in Fig. 2a occurs, i. until the structures identified in the two images B1, B2 no longer have a lateral distance from one another.
- the target focus position F does not necessarily have to lie on the upper side 3 a of the workpiece 3, but that this also to the top surface 3 a of the Workpiece 3 can be arranged at a distance.
- the control / regulation device 20 can be used to regulate to a predetermined lateral distance between the structures to be recognized in the two images B1, B2, which corresponds to the desired target focus position. Additionally or alternatively, the control of the focus position F or F ', F "also on the basis of
- Distance A or ⁇ ', A "between the two images B1, B2 done by this distance A or ⁇ ', A” is controlled to a desired distance A, which a target focus position and a desired focal length of the focusing lens 4 corresponds to the laser processing head 1.
- a coarse adjustment of the focus position F or F ', F can take place with the aid of the distance A or ⁇ ', A".
- (heat) images of the process lighting or the like may also be used by the evaluation device 19 for the image evaluation.
- the control / regulating device 20 can also be used to control the focus position of the imaging optics 14.
- the control device 20 acts on a device 32 for displacing the lenses 17a, 17b in the beam direction 13 of the laser beam 2, more precisely for varying the relative distance between the lenses 17a, 17b.
- the focus position of the imaging optics 14 is denoted by the same reference symbols F, F 1 , F "as the focus position of the laser beam 2.
- Workpiece 3 is arranged in the depth of focus range, so that the surface 3a of the workpiece 3 is sharply imaged on the detector surface 12a.
- the distance A or ⁇ ', A" between the two images B1, B2 is controlled to a predetermined or calculated by test measurements target distance ,
- cylindrical lenses 16 a, 16 b which are only in the X direction but not in the imaging optics 14 can be used instead of spherical lenses, which are each assigned to an observation direction R 1, R 2 have an imaging effect in the Y direction.
- the additional, centric lens is also formed as a cylindrical lens 18a, which also produces an optical effect only in the X direction.
- Another, aligned in the Y direction cylindrical lens 18b is used to generate an image in the Y direction.
- the imaging optics 14 shown in Fig. 5a-c also has a plurality of crossed first and second cylindrical lenses 22, 23, which in a
- the raster arrangement 24 of lens elements 22, 23 can be used to determine a spatially resolved determination of
- the beam focusing by means of the focusing lens 4 by a suitable one of
- Focusing lens 4 upstream beam shaping can be optimized by means of known per se, not described here in detail beam-shaping optical elements. Alternatively or additionally, a coaxial observation of the workpiece 3 for the process monitoring can be improved by a suitable correction.
- observation beam path 7 by the adaptation of
- FIGS. 6a, b An alternative embodiment of the imaging optical system 14 with an imaging lens 25 and a beam deflection device in the form of a deflection prism 26 is shown in FIGS. 6a, b.
- the deflection prism 26 has four wedge-shaped sections with planar surfaces 26a-d arranged at an angle to the observation radiation or to its beam axis, which are arranged around a central, planar region 27.
- the first two surfaces 26a, b serve as Strahlumsch Kunststoffe to
- the third surface 26c and the fourth surface 26d serve as corresponding
- the central area 27, which does not deflect the observation radiation, serves the purpose of
- deflecting prism 26 differs from that shown in Fig. 6a, b only in that it has a substantially concave geometry, whereby the assignment of the images B1, B2 to the partial beams 7a, 7b of
- Observation beam path 7 is reversed and corresponds to the assignment shown in Fig. 1.
- the assignment of the partial beams or the beam of the Observation beam 7 to the images B1, B2 and B3, B4 is in the
- FIG. 8a Another embodiment of an imaging optics with a beam deflection device 26, which is in the form of two mirrors with beam deflection regions is formed in the form of plane mirror surfaces 26a, 26b, is shown in Fig. 8a. Since the two mirror surfaces 26a, 26b are tilted towards each other, the
- incident observation radiation 7 is reflected in different directions and applies in the form of two of each observation direction R1, R2 associated observation beams 7a, 7b at different locations on the detector surface 12a, there to produce a first and second image B1, B2.
- FIG. 8b Another possibility for generating two (or more) images B1, B2 is shown in FIG. 8b. There are focused in the area of
- observational radiation impinges on each of the beam entrance side of a respective block 28a, 28b at an angle and exits at the same angle offset in parallel at the opposite beam exit side again. Due to the larger refractive index in the optically denser medium of the block 28a, 28b, the observation radiation in the quartz glass material extends at a smaller angle to the normal direction perpendicular to the entrance or exit surface.
- the part of the observation radiation entering a respective block 28a, 28b respectively forms an observation beam 7a, 7b associated with a respective observation direction R1, R2, the two observation beams 7a, 7b laterally impinging on the detector surface 12a due to the beam offset and displaced there laterally relative to one another Create pictures B1, B2.
- observation beams 7a, 7b intersect, since the normal directions (perpendicular to the beam entry or exit surface) of the mutually tilted blocks 28a, 28b are in the beam path behind the blocks 28a, 28b intersect.
- observation beams 7a, 7b can also run as shown in Fig. 7b, provided that the blocks 28a, 28b are tilted in opposite directions to each other, ie, when their normal directions intersect in front of the lens 17 in the beam path.
- Laser beam 2 can be determined. The same applies, of course, also to the imaging optics 14 described in conjunction with FIGS. 6a, b and 7a, b or the images B or B1 to B4 taken with them. It is understood that in the examples described above in the beam path of the
- Observation radiation 7 in addition one or more (fixed) aperture can be provided to hide parts of the observation radiation 7, which should not reach the detector surface 12a or not required for the formation of the two observation beams 7a, 7b.
- a beam splitter can be used to form two observation beams R1, R2 associated with the respective observation direction R1, R2 using two or more observation beams 7a on the basis of at least one characteristic varying over the beam cross section , 7b dividing parts.
- the beam splitter can be designed, for example, for the transmission or reflection of a radiation component of the observation beam path 7 on the basis of the wavelength, the polarization or the power of the observation radiation.
- a high-power observation beam 7b originating at the center of the observation beam path 7 can be transmitted to the beam splitter, and an observation beam 7a originating from the edge region of the observation beam path 7 and having a lower power can be reflected.
- Figures 9a, b show another way of forming two of each
- Observation direction R1, R2 associated observation beams 7a, 7b which differs from the possibilities described above in that the observation beams 7a, 7b formed in temporal succession.
- a diaphragm 31 is for this purpose in the imaging optical system 14 provided, which is rotatably mounted about a central axis of rotation B, so that moves the position of an eccentrically arranged aperture 31 a on a circular arc about the axis of rotation B during rotation.
- Aperture 31 a passing part of the observation beam path 7 forms an observation beam 7 a, 7 b. Due to the arrangement of the diaphragm 31 in the focused by a lens 17 beam path of the imaging optical system 14, the observation beams 7a, 7b from different, for example, diametrically opposite areas of the observation beam path 7 temporally successively imaged on the same location on the detector surface 12a.
- the images taken in succession by the camera 12 can be evaluated comparatively as described above for determining the focus position F, F ', F "of the laser beam 2 by means of the evaluation device 19.
- an electrically adjustable diaphragm for example in the form of an LCD array, can be used, in which individual pixels or groups of pixels are electronically switched on or off.
- the diaphragm 31 can also be realized in the form of one or more hinged and zuklappbarer elements and it can also be arranged in succession multiple apertures to realize the temporally successive generation of the images.
- FIG. 10 shows a further exemplary embodiment of a device 1 in the form of a laser processing head for focusing a laser beam 2 on a workpiece 3, which essentially differs from the device 1 shown in FIG. 1 in that only a single image B1 from the camera 12 to
- Observation beam 7a formed by means of the imaging optics 14, in the example shown, two lenses 17a, 17b in a telescope arrangement for adjusting the Beam cross-section of the observation beam 7a to the detector surface 12a of the camera 12 to the image B1 on the detector surface 12a and possibly additionally a higher-resolution image from an observation direction R coaxial with
- Section of the detector surface 12a show at different focus positions F, F 'of the laser beam 2, changes in a change of the focus position F, F' and the position P, P 'of the reference contour forming inner contour 5b of
- the focus position F of the laser beam 2 is located on the upper side 3a of the workpiece 3, which in the present example corresponds to the desired focus position.
- the focus position F 'of the laser beam 2 is located above the upper side 3a of FIG
- Focus position F 'of the target focus position F at the top 3a of the workpiece 3 represents.
- the lateral offset can be e.g. by means of a correlation of the
- the lateral offset can be determined by determining a characteristic position, for example the geometric center of gravity or a specific geometric feature, eg an object edge, in the captured image B1 and the reference image.
- the positional deviation between the characteristic positions in the two images can be determined by comparison and corresponds to the lateral offset. Whether with a shift of the focus position F 'in the direction of the
- Laser processing nozzle 5 takes place in the captured image B1 in the positive or in the negative Y-direction, depends on the imaging principle used for the generation of the image B1.
- the relationship between the direction of the lateral offset of the inner contour 5b and the direction of displacement of the focus position F is unique for a given imaging principle, so that, based on the direction of the lateral offset on the direction of displacement
- Focus position F can be closed.
- the aperture 31 may be formed slidably and stand for the control of the displacement with the evaluation device 19 and / or with the control / regulating device 20 in signal communication.
- the portion of the focusing lens 4 can be adjusted, which is traversed by the observation beam 7 a, whereby the
- Observation direction R1 and the observation angle can be changed, which has been found to be advantageous for certain applications.
- optical element which causes a beam shaping or focus adjustment in this case, an adaptive deflection mirror 21, more precisely on the optical surface 21 a, acted to the focal position F and F 'in the beam propagation direction 13 of the laser beam 2 to a target To fix focus position. Also, an effect on other optical elements which a
- Beam shaping or focus adjustment for example, a variable focal length lens (e.g., a liquid lens) or one in the position in
- Beam path sliding lens is possible.
- displacement of the lens 17a and the lens 17b may be on a shift of the focus position F, F ', F "of the laser beam. 2 be closed, which can be corrected in the laser beam 2 controlling.
- the control / regulating device 20 can also be used to control the focus position of the imaging optics 14 by acting on a displacement device 32 for displacement of the lenses 17a, 17b in the beam direction 13 of the laser beam 2, as described above in connection with FIG. In this way it can be ensured that the surface 3a of the workpiece 3 is always imaged sharply on the detector surface 12a.
- the focus position F or F ', F "of the laser beam 2 during workpiece machining can be determined and corrected if necessary the focus position ensures that the workpiece 3 is located in the focal plane of the focusing lens 4.
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Abstract
The invention relates to an apparatus (1), more particularly a laser processing head, for determining a focus position (F, F', F'') of a high-energy beam (2), more particularly of a laser beam, in the beam direction (13) of the high-energy beam (2) relative to a workpiece (3) and/or relative to a reference contour (5b) of the apparatus (1), comprising: a focusing element (4) for focusing the high-energy beam (2) onto the workpiece (3), an image capture device (9) for capturing a region to be monitored on the surface (3a) of the workpiece (3) and/or the reference contour (5b) by means of an observation beam path (7) running through the focusing element (4), wherein the image capture device (9) is designed for forming at least one observation beam (7a) which is assigned an observation direction (R1) running non-coaxially with respect to the high-energy beam (2), and comprises an imaging optical unit (14) for generating at least one image of the region to be monitored and/or the reference contour (5b) from the at least one observation direction (R1), and an evaluation device (19) for determining the focus position (F, F', F'') in the beam direction (13) of the high-energy beam (2) by evaluating the at least one recorded image. The invention also relates to a method for determining a focus position (F, F', F'') of a high-energy beam (2) in the beam direction (13) of the high-energy beam (2).
Description
Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung der Fokusposition eines Apparatus and method for determining the focus position of a
Hochenergiestrahls High energy beam
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Bestimmung einer The present invention relates to a device for determining a
Fokusposition eines Hochenergiestrahls, insbesondere eines Laserstrahls, in Focusing position of a high energy beam, in particular a laser beam, in
Strahlrichtung des Hochenergiestrahls relativ zu einem Werkstück und/oder relativ zu einer Referenzkontur der Vorrichtung. Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zum Bestimmen einer Fokusposition eines Hochenergiestrahls, insbesondere eines Laserstrahls, in Strahlrichtung des Hochenergiestrahls relativ zu einem Werkstück und/oder relativ zu einer Referenzkontur einer Vorrichtung, die ein Fokussierelement zur Fokussierung des Hochenergiestrahls auf das Werkstück aufweist. Bei der Vorrichtung kann es sich beispielsweise um einen Bearbeitungskopf, insbesondere um einen Laserbearbeitungskopf, handeln.
Für die Werkstückbearbeitung ist die Fokusposition bzw. die Lage der Fokusebene eines für die Werkstückbearbeitung verwendeten Hochenergiestrahls ein wichtiger Parameter. Die Lage der Fokusebene bzw. die Lage der Fokusposition in Beam direction of the high energy beam relative to a workpiece and / or relative to a reference contour of the device. The invention also relates to a method for determining a focus position of a high-energy beam, in particular a laser beam, in the beam direction of the high-energy beam relative to a workpiece and / or relative to a reference contour of a device having a focusing element for focusing the high-energy beam onto the workpiece. The device may, for example, be a machining head, in particular a laser machining head. For workpiece machining, the focus position or the position of the focal plane of a high-energy beam used for workpiece machining is an important parameter. The position of the focal plane or the position of the focus position in
Ausbreitungsrichtung des Hochenergiestrahls ist abhängig von der Divergenz bzw. der Konvergenz des Hochenergiestrahls vor dem Fokussierelement sowie von der Brennweite des Fokussierelements für die verwendete Hochenergiestrahlung, genauer gesagt für den Wellenlängenbereich der Hochenergiestrahlung bzw. bei Verwendung eines Laserstrahls für dessen Arbeitswellenlänge. Die Divergenz bzw. Konvergenz des Hochenergiestrahls ist in der Regel gut kontrollierbar und nach einer Grundjustage nur geringen Änderungen unterworfen. Kritisch bei großen Strahlleistungen und insbesondere bei CO2-Laserstrahlung ist jedoch die Änderung der Brennweite des Fokussierelements während der The propagation direction of the high-energy beam is dependent on the divergence or convergence of the high-energy beam in front of the focusing element and on the focal length of the focusing element for the high-energy radiation used, more precisely for the wavelength range of the high-energy radiation or when using a laser beam for its operating wavelength. The divergence or convergence of the high energy beam is usually well controlled and subject to minor adjustments after a basic adjustment. However, the change in the focal length of the focusing element during the. Is critical for large beam powers and especially for CO2 laser radiation
Werkstückbearbeitung. Wird eine Linse als Fokussierelement eingesetzt, bildet sich durch die inhomogene Erwärmung und Abkühlung der Linse ein radialer Workpiece machining. If a lens is used as the focusing element, the radial heating and cooling of the lens form a radial one
Temperaturgradient aus, der zu einer Änderung des Brechungsindex n der Linse führt, welcher von der radialen Koordinate abhängig ist (d.h. n = n(r)). Die Temperature gradient resulting in a change in the refractive index n of the lens which depends on the radial coordinate (i.e., n = n (r)). The
Brechungsindexänderung bei der Werkstückbearbeitung führt typischer Weise zu einer Verkürzung der Brennweite (so genannte thermische Linse). Die tatsächliche Brennweite fFL der Fokussierlinse ist damit u.a. eine Funktion der Strahlleistung PL und der Strahlform (z.B. dem Strahldurchmesser DR), dem Verschmutzungsgrad der Fokussierlinse und der Zeit: fL = f(Pi_, DR> t, ...). Zur Bestimmung der Fokusposition bzw. der Lage der Fokusebene während der Werkstückbearbeitung ist es daher in der Regel erforderlich, die tatsächliche Brennweite des Fokussierelements zu berücksichtigen. Refractive index change in workpiece processing typically leads to a shortening of the focal length (so-called thermal lens). The actual focal length fFL of the focusing lens is thus, inter alia, a function of the beam power P L and the beam shape (eg the beam diameter D R ), the degree of soiling of the focusing lens and the time: f L = f (Pi_, D R> t,. , To determine the focus position or the position of the focal plane during workpiece machining, it is therefore generally necessary to take into account the actual focal length of the focusing element.
Zur Bestimmung der Fokuslage eines Hochenergiestrahls in Strahlrichtung ist es u.a. bekannt, eine Vermessung des Strahlengangs bzw. der Strahlkaustik mittels einer geeigneten Messvorrichtung vorzunehmen oder ggf. die Strahlungsleistung lediglich in der Nähe der Strahltaille zu erfassen. Auch ist es möglich, bei mehreren To determine the focus position of a high energy beam in the beam direction, it is u.a. known to make a measurement of the beam path or the Strahlkaustik means of a suitable measuring device or possibly to detect the radiation power only in the vicinity of the beam waist. Also, it is possible at several
unterschiedlich gewählten Abständen zwischen Fokussierelement und Werkstück jeweils einen Schnitt in das Werkstück einzubringen und anhand der Breite des Schnittes auf die Fokuslage relativ zum Werkstück zu schließen. Die oben
beschriebenen Möglichkeiten erlauben es aber typischer Weise nicht, die Fokuslage on-line, d.h. während der Werkstückbearbeitung, zu erfassen. each selected intervals between the focusing element and workpiece each introduce a cut in the workpiece and close based on the width of the cut on the focus position relative to the workpiece. The above However, the possibilities described typically do not allow the focus position to be recorded on-line, ie during workpiece machining.
Aus der WO 2011/009594 A1 ist ein Laserbearbeitungskopf zur Bearbeitung eines Werkstücks mittels eines Laserstrahls bekannt geworden. Der From WO 2011/009594 A1, a laser processing head for processing a workpiece by means of a laser beam has become known. Of the
Laserbearbeitungskopf weist eine Kamera mit einer Abbildungsoptik zur Laser processing head has a camera with an imaging optics
Beobachtung eines Bearbeitungsbereichs des Werkstücks sowie eine Fokussierlinse zur Fokussierung des Laserstrahls auf die Werkstückoberfläche oder auf eine relativ zur Werkstückoberfläche definierte Lage auf. Weiterhin beschreibt die WO Observation of a processing area of the workpiece and a focusing lens for focusing the laser beam on the workpiece surface or on a relative to the workpiece surface defined position. Furthermore, the WO describes
201 1/009594 A1 eine Auswerteeinheit, die ausgebildet ist, anhand eines 201 1/009594 A1 an evaluation unit, which is formed by means of a
Verstellwegs der Abbildungsoptik in Richtung der optischen Achse, der benötigt wird, um bei einer Verschiebung des Brennpunkts der Fokussierlinse das Kamerabild wieder scharf einzustellen, einen Korrektur-Verstellweg zu berechnen, welcher eine Brennpunktverschiebung der Fokussieroptik relativ zur Werkstückoberfläche oder zu der relativ zur Werkstückoberfläche definierten Lage kompensiert. Adjustment path of the imaging optics in the direction of the optical axis, which is required to adjust the camera image again sharply when shifting the focus of the focusing lens, to calculate a correction Verstellweg, which is a focus shift of the focusing optic relative to the workpiece surface or relative to the workpiece surface defined position compensated.
Die DE 10 2010 017 316 A1 beschreibt ein System, welches eine DE 10 2010 017 316 A1 describes a system which has a
Schweißvorrichtung aufweist, die eingerichtet ist, eine Schweißraupe auf ein Welding device, which is set up, a welding bead on a
Werkstück aufzutragen. Das System kann mehrere Kameras aufweisen, die auf die Schweißraupe gerichtet und eingerichtet sind, eine entsprechende Anzahl von Bildern zu erzeugen. Eine Steuereinrichtung erzeugt anhand der Bilder ein Apply workpiece. The system may include a plurality of cameras directed to the weld bead and configured to generate a corresponding number of images. A controller generates based on the images
stereoskopisches Bild der Schweißraupe und stellt auf der Grundlage des stereoscopic image of the weld bead and represents on the basis of
stereoskopischen Bildes einen Parameter der Schweißraupenauftragung ein. An Stelle von mehreren Kameras kann auch eine einzelne Kamera verwendet werden, um Bilder aus zwei verschiedenen Perspektiven bzw. Blickrichtungen aufzunehmen sowie eine differentielle Analyse der Bilder durchzuführen bzw. um ein Stereoscopic image a parameter of the weld bead application. Instead of multiple cameras, a single camera can be used to capture images from two different perspectives or perspectives, as well as perform a differential analysis of the images
stereoskopisches Bild zu erzeugen. to produce stereoscopic image.
Aus der DE 10 2005 032 946 A1 ist eine Vorrichtung zur Bearbeitung eines Objektes mittels Laserstrahlung bekannt geworden, welche eine Beobachtungseinrichtung zur Abbildung des Objektes sowie eine Laser-Scan-Einrichtung aufweist. Die From DE 10 2005 032 946 A1 a device for processing an object by means of laser radiation has become known, which has an observation device for imaging the object and a laser scanning device. The
Beobachtungseinrichtung kann als Stereomikroskop mit zwei Observation device can as a stereomicroscope with two
Abbildungsstrahlengängen und zwei Okularen ausgebildet sein, um das Objekt in einem Vorbereitungsmodus stereoskopisch zu beobachten. Durch eine optische
Kopplungseinrichtung kann durch dieselben Okulare auch der Verlauf des Imaging beam paths and two eyepieces are adapted to stereoscopically observe the object in a preparation mode. Through an optical Coupling device can by the same eyepieces and the course of the
Bearbeitungsprozesses beim Betrieb der Laser-Scan-Einrichtung verfolgt werden. Processing process to be tracked during operation of the laser scanning device.
In der DE 10 201 1 016 519 A1 sind ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Steuern der Bearbeitung eines Werkstücks mittels eines hochenergetischen DE 10 201 1016 519 A1 discloses a method and a device for controlling the machining of a workpiece by means of a high-energy
Bearbeitungsstrahls beschrieben, bei dem der Bearbeitungsstrahl durch eine Linse hindurchtritt, die zum Verschieben einer Auftreffstelle des Bearbeitungsstrahls auf das Werkstück senkrecht zu ihrer optischen Achse bewegt werden kann. In einem Beispiel ist eine Überwachungskamera zur Erzeugung eines elektronisch Processing beam described in which the processing beam passes through a lens that can be moved to move a point of impact of the processing beam on the workpiece perpendicular to its optical axis. In one example, a surveillance camera is for generating an electronic
auswertbaren Bildes vorgesehen, deren Abbildungsstrahlengang durch die Linse auf die Auftreffstelle fokussiert wird. evaluable image provided, the imaging beam path is focused by the lens on the impact site.
In der EP 2 456 592 B1 ist ein Laserbearbeitungskopf beschrieben, der eine In EP 2 456 592 B1, a laser processing head is described which has a
Fokussieroptik zur Fokussierung eines Arbeitslaserstrahls auf die Focusing optics for focusing a working laser beam on the
Werkstückoberfläche oder auf eine relativ zur Werkstückoberfläche definierte Lage sowie eine Kamera mit einer davor im Strahlengang angeordneten Abbildungsoptik zur Beobachtung eines Bearbeitungsbereichs des Werkstücks aufweist. Es ist eine Auswerteeinheit vorgesehen, die ausgebildet ist, anhand eines Verstellweges der Abbildungsoptik in Richtung der optischen Achse, der dazu nötig ist, bei einer Verschiebung des Brennpunkts der Fokussierlinse das Kamerabild wieder scharf einzustellen, einen Korrektur-Verstellweg zu berechnen, der eine Having workpiece surface or on a relative to the workpiece surface defined position and a camera with a previously arranged in the beam path imaging optics for observing a processing region of the workpiece. An evaluation unit is provided, which is designed to use an adjustment path of the imaging optics in the direction of the optical axis, which is necessary to sharply adjust the camera image again during a shift of the focus of the focusing lens, to calculate a correction adjustment path, the one
Brennpunktverschiebung der Fokussieroptik relativ zur Werkstückoberfläche oder zu einer relativ zur Werkstückoberfläche definierten Lage kompensiert. Aufgabe der Erfindung Focus shift of the focusing optics relative to the workpiece surface or to a position defined relative to the workpiece surface compensated. Object of the invention
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung und ein Verfahren bereitzustellen, welche eine zuverlässige Bestimmung einer Fokusposition während des Bearbeitens eines Werkstücks mit einem Hochenergiestrahl ermöglichen. The invention has for its object to provide an apparatus and a method which allow a reliable determination of a focus position during the machining of a workpiece with a high energy beam.
Gegenstand der Erfindung Subject of the invention
Diese Aufgabe wird gelöst durch eine Vorrichtung der eingangs genannten Art, umfassend: ein Fokussierelement zur Fokussierung des Hochenergiestrahls auf das
Werkstück, eine Bilderfassungseinrichtung zur Erfassung eines zu überwachenden Bereichs an der Oberfläche des Werkstücks und/oder der Referenzkontur mittels eines durch das Fokussierelement hindurch verlaufenden This object is achieved by a device of the aforementioned type, comprising: a focusing element for focusing the high energy beam on the Workpiece, an image detection device for detecting an area to be monitored on the surface of the workpiece and / or the reference contour by means of a passing through the focusing element
Beobachtungsstrahlengangs, wobei die Bilderfassungseinrichtung zur Bildung mindestens eines Beobachtungsstrahls ausgebildet ist, der einer nicht koaxial bzw. nicht parallel zur Strahlrichtung des Hochenergiestrahls verlaufenden Observation beam path, wherein the image capture device is designed to form at least one observation beam, which is a non-coaxial or not parallel to the beam direction of the high-energy beam extending
Beobachtungsrichtung zugeordnet ist und eine Abbildungsoptik zur Erzeugung mindestens eines Bildes des zu überwachenden Bereichs und/oder der Observation is assigned and an imaging optics for generating at least one image of the area to be monitored and / or the
Referenzkontur aus der mindestens einen Beobachtungsrichtung umfasst, sowie eine Auswerteeinrichtung, die zur Bestimmung der Fokusposition des Reference contour from the at least one observation direction comprises, as well as an evaluation device, which is used to determine the focus position of the
Hochenergiestrahls durch Auswertung des mindestens eines aufgenommenen Bildes ausgebildet bzw. programmiert ist. High energy beam is formed or programmed by evaluating the at least one recorded image.
Das zur Bestimmung der Fokusposition in Strahlrichtung des Hochenergiestrahls vorgeschlagene Messprinzip basiert auf der Erfassung mindestens eines Bildes des zu überwachenden Bereichs bzw. der Referenzkontur aus mindestens einem The measuring principle proposed for determining the focus position in the beam direction of the high-energy beam is based on the detection of at least one image of the area to be monitored or the reference contour of at least one
Blickwinkel bzw. aus mindestens einer Beobachtungsrichtung nicht koaxial zum Hochenergiestrahl, d.h. der Teil des Beobachtungsstrahlengangs, der das Viewing angle or at least one observation direction not coaxial with the high energy beam, i. the part of the observation beam path that the
Fokussierelement durchlaufen hat, verläuft unter einem Winkel zur optischen Achse des Fokussierelements. Anhand eines solchen Beobachtungsstrahls können bei geeigneter Auswertung des aufgenommenen Bildes Veränderungen der Brennweite des Fokussierelements oder ggf. des Objektabstands, d.h. des Abstands zwischen Werkstück und Fokussierelement erkannt, die Fokusposition in Strahlrichtung des Laserstrahls bestimmt und falls erforderlich korrigiert werden. Has passed focusing element, extends at an angle to the optical axis of the focusing element. On the basis of such an observation beam, with suitable evaluation of the recorded image, changes in the focal length of the focusing element or, if appropriate, the object distance, i. detected the distance between the workpiece and focusing element, determines the focus position in the beam direction of the laser beam and corrected if necessary.
Bei einer Ausführungsform ist die Auswerteinrichtung ausgebildet, die Fokusposition in Strahlrichtung des Hochenergiestrahls anhand einer Position der Referenzkontur in dem mindestens einen aufgenommenen Bild zu bestimmen. In diesem Fall wird eine relativ zur Vorrichtung statisch angeordnete Referenzkontur bzw. In one embodiment, the evaluation device is designed to determine the focus position in the beam direction of the high-energy beam on the basis of a position of the reference contour in the at least one recorded image. In this case, a relative to the device statically arranged reference contour or
Referenzgeometrie, die beispielsweise bei einer Vorrichtung in Form eines Reference geometry, for example, in a device in the form of a
Laserbearbeitungskopfs durch eine Düseninnenkontur einer Laserbearbeitungsdüse gebildet werden kann, zur Bestimmung der Fokusposition genutzt. Die Laser processing head can be formed by a nozzle inner contour of a laser processing nozzle, used to determine the focus position. The
Referenzkontur weist einen konstanten Abstand in Strahlrichtung zum Reference contour has a constant distance in the beam direction to
Fokussierelement, beispielsweise einer Fokussierlinse, auf. Eine Änderung der
Brennweite des Fokussierelements, z.B. durch eine thermische Belastung, führt zu einer lateralen Verschiebung der Referenzgeometrie im aufgenommenen Bild. Focusing element, such as a focusing lens, on. A change in the Focal length of the focusing element, for example by a thermal load, leads to a lateral displacement of the reference geometry in the recorded image.
Anhand der Größe der lateralen Verschiebung der Position der Referenzgeometrie im aufgenommenen Bild kann die Fokusposition bestimmt werden. Auch kann anhand der Richtung der lateralen Verschiebung auf die Richtung der Verschiebung der Fokusposition aus einer Soll-Fokusposition geschlossen werden. Zu diesem Zweck kann beispielsweise die Abweichung bzw. der laterale Versatz zu einer Referenzposition der Referenzkontur bei einem nicht thermisch belasteten Based on the size of the lateral displacement of the position of the reference geometry in the captured image, the focus position can be determined. It can also be concluded from the direction of the lateral displacement on the direction of displacement of the focus position from a desired focus position. For this purpose, for example, the deviation or the lateral offset to a reference position of the reference contour in a non-thermally loaded
Fokussierelement bestimmt werden. Die Referenzposition bei der (bekannten) Brennweite des Fokussierelements im kalten Zustand, d.h. ohne die Beaufschlagung mit einem Hochenergiestrahl, kann vor der Auswertung des Bildes bestimmt und in einer der Auswerteeinrichtung zugeordneten Speichereinrichtung beispielsweise in Form eines Referenzbildes oder einer Position, z.B. Flächenschwerpunkts, der geometrischen Mitte oder eines spezifischen Geometriemerkmals, beispielsweise einer Geometriekante, hinterlegt werden. Focusing be determined. The reference position at the (known) focal length of the focusing element in the cold state, i. without the application of a high-energy beam, can be determined before the evaluation of the image and stored in a memory device associated with the evaluation device, for example in the form of a reference image or a position, e.g. Centroid, the geometric center or a specific geometric feature, such as a geometry edge deposited.
Bei einer weiteren Ausführungsform ist die Bilderfassungseinrichtung zur Bildung mindestens eines weiteren Beobachtungsstrahis ausgebildet, der einer weiteren Beobachtungsrichtung zugeordnet ist, wobei die Abbildungsoptik zur Erzeugung von mindestens zwei Bildern des zu überwachenden Bereichs und/oder der In a further embodiment, the image capture device is designed to form at least one further observation beam which is assigned to a further observation direction, wherein the imaging optical system generates at least two images of the region to be monitored and / or the
Referenzkontur aus den mindestens zwei unterschiedlichen Beobachtungsrichtungen ausgebildet ist, und wobei die Auswerteeinrichtung zur Bestimmung der Reference contour is formed from the at least two different observation directions, and wherein the evaluation device for determining the
Fokusposition des Hochenergiestrahls durch vergleichende Auswertung der aufgenommenen Bilder ausgebildet ist. Focusing position of the high energy beam is formed by comparative evaluation of the recorded images.
Das bei dieser Ausführungsform zur Bestimmung der Fokusposition vorgeschlagene Messprinzip basiert auf einer stereoskopischen Abstandsmessung durch das The measuring principle proposed in this embodiment for determining the focus position is based on a stereoscopic distance measurement by the
Fokussierelement hindurch, d.h. auf der Aufnahme von zwei oder mehr Bildern des zu überwachenden Bereichs an der Oberfläche des Werkstücks bzw. der in der Vorrichtung angebrachten Referenzkontur aus zwei oder mehr unterschiedlichen Beobachtungsrichtungen bzw. Blickwinkeln. Die Abbildungsoptik bildet zu diesem Zweck typischer Weise zwei oder mehr in der Regel außermittig (d.h. nicht durch die zentrale Achse) des Fokussierelements laufende und somit unter einem jeweils unterschiedlichen Winkel zum Werkstück verlaufende Beobachtungsstrahlen bzw.
Strahlenbündel des Abbildungs- bzw. Beobachtungsstrahlengangs auf voneinander beabstandeten Bereichen einer oder mehrerer Detektorflächen ab. Alternativ zur Erzeugung von zwei oder mehr Bildern an voneinander beabstandeten Bereichen der Detektorfläche(n) können zwei oder mehr Bilder auch an demselben Bereich einer Detektorfläche zeitlich kurz aufeinander folgend erfasst werden, wie weiter unten näher beschrieben wird. Die vergleichende Auswertung von drei oder mehr Bildern ermöglicht es, die Signifikanz des Vergleichs und damit die Genauigkeit der Bestimmung der Fokusposition zu erhöhen. Für die möglichst präzise Bestimmung der Fokusposition ist es günstig, wenn die Blickwinkel bzw. die Beobachtungsrichtungen, unter denen die Bilder aufgenommen werden, sich möglichst stark voneinander unterscheiden. Ein großer Unterschied zwischen den Blickwinkeln kann insbesondere erhalten werden, wenn die beiden Bilder des zu überwachenden Oberflächenbereichs des Werkstücks zwei sich diametral gegenüber liegende Randbereiche des Fokussierelements durchlaufen. Als Fokussierelement dienen typischer Weise eine oder mehrere Fokussierlinsen oder ein Fokussierspiegel, insbesondere ein Off-Axis-Parabolspiegel. Focusing element through, ie on the recording of two or more images of the area to be monitored on the surface of the workpiece or the reference contour mounted in the device from two or more different observation directions or angles. For this purpose, the imaging optics typically form two or more observation beams, usually off-center (ie, not through the central axis) of the focusing element, and thus at different angles to the workpiece. Beam of the imaging or observation beam path on spaced areas of one or more detector surfaces. As an alternative to the generation of two or more images at spaced-apart regions of the detector surface (s), two or more images can also be detected on the same region of a detector surface in short chronological succession, as described in more detail below. The comparative evaluation of three or more images makes it possible to increase the significance of the comparison and thus the accuracy of the determination of the focus position. For the most precise determination possible of the focus position, it is advantageous if the viewing angles or the observation directions under which the images are taken differ as much as possible from each other. A large difference between the viewing angles can be obtained, in particular, when the two images of the surface region of the workpiece to be monitored pass through two diametrically opposite edge regions of the focusing element. As a focusing element typically serve one or more focusing lenses or a focusing mirror, in particular an off-axis parabolic mirror.
Wenn sich das Werkstück in der Brennebene der Fokussierlinse befindet, sind die Abbildungen bzw. die Bilder des zu überwachenden Bereichs des Werkstücks aus den Randbereichen der Fokussierlinse identisch. Die beiden Bilder des zu When the workpiece is in the focal plane of the focusing lens, the images of the area of the workpiece to be monitored from the peripheral areas of the focusing lens are identical. The two pictures of the too
überwachenden Bereichs an der Oberfläche des Werkstücks sind aber lateral zueinander verschoben, wenn sich das Werkstück außerhalb, d.h. oberhalb oder unterhalb, der Brennebene der Fokussierlinse befindet. Anhand der Größe der lateralen Verschiebung zwischen den beiden Bildern kann auf die Abweichung bzw. den Abstand der Fokusposition bzw. der Fokusebene zum Werkstück geschlossen werden. but the monitoring area on the surface of the workpiece are laterally displaced relative to each other when the workpiece is outside, i. above or below, the focal plane of the focusing lens is located. On the basis of the size of the lateral displacement between the two images can be concluded that the deviation or the distance of the focus position or the focal plane to the workpiece.
Entsprechend kann auch anhand des lateralen Abstands zwischen zwei Bildern der in der Vorrichtung gebildeten Referenzkontur auf die Fokuslage relativ zur Accordingly, based on the lateral distance between two images of the reference contour formed in the device to the focus position relative to
Vorrichtung bzw. zur Referenzkontur bzw. Referenzgeometrie geschlossen werden. Um dies zu erreichen, kann der Abstand zwischen den beiden Bildern der Device or reference contour or reference geometry are closed. To achieve this, the distance between the two images of the
Referenzkontur der (bekannten) Brennweite des Fokussierelements im kalten Zustand, d.h. ohne die Beaufschlagung mit einem Hochenergiestrahl, zugeordnet
werden. Die sich durch die Änderung der Brennweite ergebende Änderung des Abstands zwischen den beiden Bildern kann einer entsprechenden Änderung der Fokusposition zugeordnet werden. Auf diese Weise ist eine Brennweitenmessung des Fokussierelements bzw. eine Bestimmung der Fokusposition relativ zur Reference contour of the (known) focal length of the focusing element in the cold state, ie without the application of a high energy beam assigned become. The change in the distance between the two images resulting from the change in the focal length can be assigned to a corresponding change in the focus position. In this way, a focal length measurement of the focusing element or a determination of the focus position relative to
Vorrichtung und damit unabhängig vom Werkstück möglich. Device and thus independent of the workpiece possible.
Zur Bestimmung der lateralen Abweichung zwischen den Bildern kann eine To determine the lateral deviation between the images, a
Ortskorrelation der beiden Bilder beispielsweise durch einen Blockmatching- Algorithmus oder durch eine örtliche Frequenzanalyse durchgeführt und die Position maximaler Übereinstimmung errechnet werden. Im Gegensatz zu der in der WO 2011/009594 A1 beschriebenen Messung der Bildschärfe erlaubt die Local correlation of the two images, for example, performed by a block matching algorithm or by a local frequency analysis and the position of maximum agreement are calculated. In contrast to the measurement of image sharpness described in WO 2011/009594 A1, the
stereoskopische Messung eine Bestimmung der Brennweitenabweichung sowohl im Betrag als auch in der Richtung (d.h. auf das Werkstück zu oder von diesem weg). Hierdurch ist eine schnelle Regelung der Fokuslage bzw. Fokusposition möglich (s.u.), ohne auf eine iterative Nachführung angewiesen zu sein. Es versteht sich, dass bei der stereoskopischen Abbildung auch der Einfluss weiterer sich im Stereoscopic measurement A determination of the focal length deviation both in magnitude and in direction (i.e., toward or away from the workpiece). As a result, rapid control of the focus position or focus position is possible (see above), without having to rely on iterative tracking. It is understood that in the stereoscopic image also the influence of others in the
Abbildungsstrahlengang befindlicher optischer Elemente auf die Änderung der Brennweite bzw. die Änderung der Fokuslage berücksichtigt wird. Beispielsweise gilt dies für die thermische Linse, die von einem Schutzglas erzeugt wird, welches den Abschluss der Vorrichtung, z.B. in Form eines Bearbeitungskopfes, zum Werkstück hin bildet. Imaging beam path located optical elements on the change of the focal length or the change of the focus position is taken into account. For example, this applies to the thermal lens produced by a protective glass which prevents the termination of the device, e.g. in the form of a machining head, forms towards the workpiece.
Bei einer Ausführungsform weist die Vorrichtung eine Beleuchtungsquelle zur Beleuchtung der Oberfläche des Werkstücks insbesondere in dem zu In one embodiment, the device has an illumination source for illuminating the surface of the workpiece, in particular in the
überwachenden Bereich und/oder der Referenzkontur auf. Die Beleuchtungsquelle kann beispielsweise eine Beleuchtung bei Wellenlängen zwischen 360nm und 800nm (VIS) oder ca. 800 nm und ca. 1000 nm (NIR) erzeugen. Die Beleuchtung dient dazu, eine Abbildung von Konturen an der Oberfläche des Werkstücks in dem zu überwachenden Bereich bzw. der an der Vorrichtung gebildeten Referenzkontur zu erhalten. Die Beleuchtung kann koaxial zur Hochenergiestrahlung erfolgen, d.h. in Form einer Auflichtbeleuchtung. Es ist aber auch möglich, die Beleuchtungsquelle zur Beleuchtung einer definierten Messposition innerhalb der Vorrichtung zu nutzen, an welcher die Referenzkontur bzw. Referenzgeometrie gebildet ist. Die monitoring area and / or the reference contour. The illumination source can, for example, generate illumination at wavelengths between 360 nm and 800 nm (VIS) or approximately 800 nm and approximately 1000 nm (NIR). The illumination serves to obtain an image of contours on the surface of the workpiece in the region to be monitored or the reference contour formed on the device. The illumination may be coaxial with the high energy radiation, i. in the form of incident illumination. But it is also possible to use the illumination source to illuminate a defined measurement position within the device on which the reference contour or reference geometry is formed. The
Referenzkontur kann beispielsweise von einer gerichteten Beleuchtungsquelle
bestrahlt und von der Bilderfassungseinrichtung erfasst werden. Weiterhin kann eine zur Führung eines Prozessgases am Schneidkopf angebrachte Schneiddüse als Referenzkontur verwendet werden. Bei einer Ausführungsform weist der Beobachtungs- bzw. Abbildungsstrahlengang der Bilderfassungseinrichtung zur Erfassung des zu überwachenden Bereichs an der Oberfläche des Werkstücks einen Bilderfassungsbereich auf, der von der Reference contour can, for example, from a directional illumination source irradiated and captured by the image capture device. Furthermore, a cutting nozzle attached to the cutting head for guiding a process gas can be used as reference contour. In one embodiment, the observation or imaging beam path of the image capture device for detecting the area to be monitored on the surface of the workpiece on an image acquisition area, which of the
Referenzkontur begrenzt ist. In diesem Fall kann die Beleuchtungsquelle Reference contour is limited. In this case, the illumination source
beispielsweise das Werkstück oder eine andere Fläche unterhalb der Referenzkontur beleuchten und die Referenzkontur bzw. die Referenzgeometrie bildet die For example, illuminate the workpiece or another surface below the reference contour and the reference contour or the reference geometry forms the
Begrenzung der Beleuchtung bzw. die Begrenzung des von der Limitation of the lighting or the limitation of the
Bilderfassungseinrichtung erfassten Bilderfassungsbereichs. Image capture device detected image capture area.
Bei einer Ausführungsform ist die Auswerteeinrichtung zur Bestimmung der In one embodiment, the evaluation device for determining the
Fokusposition des Hochenergiestrahls relativ zum Werkstück durch vergleichende Auswertung der Bilder der (rauen) Oberfläche des Werkstücks in dem zu Focus position of the high energy beam relative to the workpiece by comparative evaluation of the images of the (rough) surface of the workpiece in the zu
überwachenden Bereich ausgebildet. In diesem Fall wird für die vergleichende Auswertung bzw. Korrelation der beiden Bilder ausgenutzt, dass die Oberfläche des in der Regel plattenförmigen Werkstücks nicht vollständig glatt ist sondern trained monitoring area. In this case, the fact that the surface of the generally plate-shaped workpiece is not completely smooth is utilized for the comparative evaluation or correlation of the two images
(zumindest in mikroskopischen Größenordnungen) eine Rauigkeit und damit eine ortsabhängig variierende Oberflächenstruktur aufweist. Anhand eines lateralen Abstandes zwischen den Oberflächenstrukturen in den aus unterschiedlichen (At least in microscopic orders of magnitude) has a roughness and thus a location-dependent varying surface structure. Based on a lateral distance between the surface structures in the different
Beobachtungsrichtungen aufgenommenen Bildern kann die Fokuslage bestimmt werden. Observation directions recorded images, the focus position can be determined.
In der Regel umfasst der zu beobachtende Bereich des Werkstücks einen As a rule, the area of the workpiece to be observed comprises one
Wechselwirkungsbereich des Hochenergiestrahls mit dem Werkstück. Alternativ oder zusätzlich zur stereoskopischen Korrelation der Bilder der Konturen der rauen Werkstückoberfläche kann ggf. auch das Prozesseigenleuchten (thermische Interaction area of high energy beam with the workpiece. As an alternative or in addition to the stereoscopic correlation of the images of the contours of the rough workpiece surface, the process lighting (thermal
Strahlung, Plasmastrahlung) für die stereoskopische Auswertung der beiden Bilder genutzt werden. In beiden Fällen kann zur Beleuchtung des Werkstücks auch eine strukturierte Beleuchtung eingesetzt werden, beispielsweise in Form eines Radiation, plasma radiation) are used for the stereoscopic evaluation of the two images. In both cases, a structured illumination can be used to illuminate the workpiece, for example in the form of a
fokussierten Beleuchtungsstrahls in der Nähe des Wechselwirkungsbereichs.
Bei einer Ausführungsform weist die Abbildungsoptik mindestens zwei einer jeweiligen Beobachtungsrichtung zugeordnete abbildende optische Elemente auf. Bei den abbildenden optischen Elementen kann es sich beispielsweise um focused illumination beam near the interaction region. In one embodiment, the imaging optics has at least two imaging optical elements associated with a respective observation direction. The imaging optical elements may be, for example
Linsenelemente handeln. Die Linsenelemente können in einem Abstand voneinander angeordnet sein, der näherungsweise dem Abstand zwischen den beiden Bildern auf der Detektorfläche entspricht. Jedes der beiden abbildenden optischen Elemente erzeugt hierbei einen eigenen Abbildungs- bzw. Beobachtungsstrahl zur Erzeugung des jeweils zugehörigen Bildes auf dem zugehörigen Bereich der Detektorfläche. Die beiden Linsenelemente sind typischer Weise außermittig, d.h. nicht koaxial zum Strahlengang des Hochenergiestrahls bzw. zu dessen Verlängerung im Act lens elements. The lens elements may be arranged at a distance from one another that corresponds approximately to the distance between the two images on the detector surface. Each of the two imaging optical elements generates its own imaging or observation beam for generating the respective associated image on the associated area of the detector surface. The two lens elements are typically eccentric, i. not coaxial to the beam path of the high energy beam or to its extension in the
Beobachtungsstrahlengang angeordnet. Auf diese Weise können zwei oder mehr Strahlenbündel abgebildet werden, die jeweils einen Randbereich der Fokussierlinse durchlaufen und somit eine Beobachtung unter zwei oder mehr unterschiedlichen Beobachtungswinkeln bzw. Beobachtungsrichtungen ermöglichen. Als abbildende optische Elemente können beispielsweise sphärische oder asphärische Linsen verwendet werden. Es versteht sich, dass ggf. eines der abbildenden optischen Elemente koaxial zum Strahlengang des Hochenergiestrahls angeordnet werden kann, wie weiter unten näher dargestellt wird. Bei einer Weiterbildung sind die abbildenden optischen Elemente als Zylinderlinsen ausgebildet. Zusätzlich zu ersten Zylinderlinsen, die eine Krümmung bzw. eine abbildende Wirkung entlang einer ersten Achse erzeugen, weist die Abbildungsoptik in der Regel mindestens eine zweite Zylinderlinse auf, welche eine abbildende Wirkung entlang einer zweiten, zur ersten senkrechten Achse aufweist. Durch die gekreuzten Zylinderlinsen kann die Abbildungsoptik einerseits kostengünstig hergestellt werden und andererseits kann der verfügbare Abbildungsquerschnitt gut genutzt werden. Observation beam arranged. In this way, two or more beams can be imaged, each passing through an edge region of the focusing lens and thus allow observation under two or more different observation angles or observation directions. For example, spherical or aspherical lenses can be used as imaging optical elements. It is understood that, if appropriate, one of the imaging optical elements can be arranged coaxially with the beam path of the high-energy beam, as will be described in more detail below. In a further development, the imaging optical elements are designed as cylindrical lenses. In addition to first cylindrical lenses, which produce a curvature or an imaging effect along a first axis, the imaging optics usually have at least one second cylindrical lens which has an imaging effect along a second, to the first vertical axis. Due to the crossed cylindrical lenses, the imaging optics can on the one hand be produced inexpensively and, on the other hand, the available imaging cross section can be used well.
Bei einer Weiterbildung sind die abbildenden optischen Elemente in einem In a further development, the imaging optical elements are in one
Linsenarray bzw. in einer Rasteranordnung angeordnet. Eine Rasteranordnung von Linsenelementen („Lenslet" bzw. Linsenarray), z.B. von Mikrolinsen, auch in Form von zwei gekreuzten Zylinderlinsenarrays, kann genutzt werden, um eine Lens array or arranged in a grid arrangement. A raster arrangement of lens elements ("lenslet"), for example microlenses, also in the form of two crossed cylindrical lens arrays, can be used to form a
ortsaufgelöste Bestimmung von Wellenfrontaberrationen zu ermöglichen, welche durch das thermisch belastete Linsenelement hervorgerufen werden. Durch die
Bestimmung der Wellenfrontaberrationen kann die Strahlfokussierung des Spatially resolved determination of wavefront aberrations caused by the thermally stressed lens element. By the Determination of the wavefront aberrations may be the beam focusing of the
Bearbeitungsstrahls mit Hilfe des Fokussierelements durch eine geeignete dem Fokussierelement vorgeschaltete Strahlformung optimiert werden und/oder es kann eine koaxiale Beobachtung des Werkstücks für die Prozessüberwachung ggf. bei einer anderen Wellenlänge durch eine geeignete Korrektur des Processing beam can be optimized by means of the focusing element by a suitable focusing element upstream beam shaping and / or it can be a coaxial observation of the workpiece for process monitoring, if necessary, at a different wavelength by a suitable correction of
Beobachtungsstrahlengangs verbessert werden. Die Korrektur sowohl der Strahlform des Bearbeitungsstrahls als auch der Beobachtung des Werkstücks kann Observation beam to be improved. The correction of both the beam shape of the machining beam and the observation of the workpiece can
beispielsweise durch eine geeignete Anpassung von Blendendurchmessern, durch eine Änderung des Abstandes von Linsen im Strahlengang, durch verformbare Spiegel, etc. realisiert werden. Das Messprinzip für die Bestimmung der For example, by a suitable adjustment of aperture diameters, by changing the distance of lenses in the beam path, by deformable mirrors, etc. can be realized. The measuring principle for the determination of
Wellenfrontaberrationen stellt eine Abwandlung des Shack-Hartmann Sensors dar, bei dem eine lokale Wellenfrontneigung durch eine Verschiebung von Fokuspunkten, die von den Linsen eines zweidimensionalen Linsenarrays erzeugt werden, in der Brennebene des Linsenarrays vermessen werden. Wavefront aberrations represent a modification of the Shack-Hartmann sensor in which a local wavefront tilt is measured by a shift of focus points generated by the lenses of a two-dimensional lens array in the focal plane of the lens array.
In einer weiteren Ausführungsform weist die Abbildungsoptik eine Umlenkeinrichtung mit mindestens zwei einer jeweiligen Beobachtungsrichtung zugeordneten In a further embodiment, the imaging optics has a deflection device with at least two associated with a respective observation direction
Strahlumlenkbereichen auf. Die Umlenkeinrichtung kann als geometrischer Beam deflection on. The deflection can be as geometric
Strahlteiler dienen. Beispielsweise kann die einfallende Strahlung auf Beam splitters serve. For example, the incident radiation can
unterschiedliche Bereiche eines abbildenden optischen Elements, beispielsweise eines Linsenelements, gelenkt werden. Zwei von der Umlenkeinrichtung umgelenkte und an einander diametral gegenüber liegenden Bereichen des Linsenelements auftreffende Strahlenbündel werden von dem Linsenelement auf unterschiedliche, voneinander beabstandete Bereiche in dessen Brennebene fokussiert, an denen die Bilder des zu überwachenden Bereichs bzw. der Referenzkontur erzeugt werden. different areas of an imaging optical element, such as a lens element, are steered. Two beams deflected by the deflecting device and impinging on diametrically opposite regions of the lens element are focused by the lens element on different spaced-apart regions in its focal plane, at which the images of the region to be monitored or the reference contour are generated.
Bei einer Weiterbildung weist die Umlenkeinrichtung mindestens ein Umlenkprisma auf. An dem Umlenkprisma können mehrere, insbesondere alle In a further development, the deflection device has at least one deflection prism. At the deflection prism can several, in particular all
Strahlumlenkbereiche gebildet werden, die beispielsweise als unter einem Winkel zur Strahlachse ausgerichtete Facetten bzw. Oberflächenbereiche des Prismas ausgebildet sein können. Das Umlenkprisma kann insbesondere einen zentralen Bereich aufweisen, in dem dieses als planparallele Platte ausgebildet ist und an dem keine Umlenkung vorgenommen wird. Die Strahlumlenkbereiche bzw. Beam deflecting be formed, which may be formed, for example, as at an angle to the beam axis aligned facets or surface areas of the prism. The deflection prism may in particular have a central region in which this is designed as a plane-parallel plate and on which no deflection is made. The beam deflecting areas or
Strahlumlenkflächen können um den zentralen Bereich herum angeordnet sein, so
dass sich insgesamt eine näherungsweise konkave oder konvexe Geometrie des Umlenkprismas ergibt. Alternativ zur Verwendung eines Umlenkprismas kann die Umlenkeinrichtung auch reflektierend ausgebildet sein und beispielsweise mehrere Strahlumlenkbereiche in Form von Spiegelflächen aufweisen, welche die Strahlumlenkflächen can be arranged around the central area, so that overall results in an approximately concave or convex geometry of the deflection prism. As an alternative to the use of a deflecting prism, the deflecting device can also be designed to be reflective and, for example, have a plurality of deflecting regions in the form of mirror surfaces, which comprise the
Beobachtungsstrahlung in unterschiedliche Richtungen umlenken, die einer jeweiligen Beobachtungsrichtung zugeordnet sind. To redirect observation radiation in different directions, which are assigned to a respective observation direction.
Bei einer weiteren Ausführungsform weist die Bilderfassungseinrichtung zur Bildung der mindestens zwei einer jeweiligen Beobachtungsrichtung zugeordneten In a further embodiment, the image capture device for forming the at least two associated with a respective observation direction
Beobachtungsstrahlen eine Strahlversatzeinrichtung auf. Die Observing beams on a Strahlversatzeinrichtung. The
Strahlversatzeinrichtung kann insbesondere im fokussierten Strahlversatzeinrichtung can in particular in focused
Beleuchtungsstrahlengang der Abbildungsoptik, beispielsweise zwischen zwei ein Strahlteleskop bildenden optischen Elementen, angeordnet sein. Die Illumination beam path of the imaging optics, for example, between two a beam telescope forming optical elements, be arranged. The
Strahlversatzeinrichtung kann beispielsweise einen, zwei oder mehr Blöcke aus einem für die Beleuchtungsstrahlung transparenten Material, z.B. aus Quarzglas, aufweisen, die als planparallele Blöcke bzw. Platten ausgebildet sind, um einen Parallelversatz der auftreffenden Beobachtungsstrahlung herzustellen. Die Blöcke sind typischer Weise zueinander verkippt angeordnet, um zu erreichen, dass die zwei oder mehr Beobachtungsstrahlen an unterschiedlichen Bereichen der For example, beam displacing means may comprise one, two or more blocks of material transparent to the illumination radiation, e.g. of quartz glass, which are formed as plane-parallel blocks or plates to produce a parallel offset of the incident observation radiation. The blocks are typically tilted with respect to each other so as to cause the two or more observation beams to be at different areas of the
Detektorfläche auftreffen, um zwei oder mehr lateral versetzte Bilder zu erzeugen. Detector surface to create two or more laterally offset images.
Die Bilderfassungseinrichtung kann zur Bildung der mindestens zwei einer jeweiligen Beobachtungsrichtung zugeordneten Beobachtungsstrahlen einen Strahlteiler aufweisen. Der Strahlteiler kann die Beobachtungsstrahlung anhand mindestens einer sich über den Strahlquerschnitt verändernden Eigenschaft in zwei oder mehr Beobachtungsstrahlen aufteilen. Bei der Eigenschaft kann es sich beispielsweise um die Polarisationsrichtung, die Leistung oder die Wellenlänge der The image capture device can have a beam splitter to form the at least two observation beams associated with a respective observation direction. The beam splitter can split the observation radiation into two or more observation beams based on at least one property that changes over the beam cross section. The property may be, for example, the polarization direction, the power or the wavelength of the
Beobachtungsstrahlung handeln, die über den Querschnitt des Observational radiation acting over the cross section of the
Beobachtungsstrahlengangs variiert. Für die Abbildung der jeweiligen Observation beam varies. For the illustration of the respective
Beobachtungsstrahlen auf eine Detektorfläche kann jeweils ein eigenes abbildendes optisches Element vorgesehen sein, es ist aber auch möglich, die Abbildung der Beobachtungsstrahlen mittels einer gemeinsamen Abbildungsoptik beispielsweise in Form einer gemeinsamen Fokussierlinse vorzunehmen.
Bei einer weiteren Ausführungsform ist die Bilderfassungseinrichtung zur Bildung der mindestens zwei einer jeweiligen Beobachtungsrichtung zugeordneten Observational beams on a detector surface may be provided in each case a separate imaging optical element, but it is also possible to make the image of the observation beams by means of a common imaging optics, for example in the form of a common focusing lens. In a further embodiment, the image capture device for forming the at least two associated with a respective observation direction
Beobachtungsstrahlen zu unterschiedlichen Zeitpunkten ausgebildet. Bei dieser Ausführungsform werden die zwei oder mehr Bilder mit einem (kurzen) von der Bildwiederholrate des Detektors bzw. der Kamera der Bilderfassungseinrichtung abhängigen zeitlichen Versatz (typischer Weise im Bereich weniger Mikrosekunden oder Millisekunden) aufgenommen. Auf diese Weise können die zwei oder mehr Bilder an ein- und derselben Stelle einer Detektorfläche erzeugt werden, d.h. eine räumliche Separation der Beobachtungsstrahlen auf der Detektorfläche ist bei dieser Ausführungsform nicht erforderlich. Zur zeitlich aufeinander folgenden Aufnahme der Bilder wird der Beobachtungsstrahlengang teilweise abgeschattet, wobei für die Aufnahme eines Bildes typischer Weise ein jeweils unterschiedlicher Teil des Observation beams formed at different times. In this embodiment, the two or more images are acquired with a (short) time lag (typically in the range of a few microseconds or milliseconds) dependent on the frame rate of the detector or camera of the image capture device. In this way, the two or more images can be generated at one and the same location of a detector surface, i. a spatial separation of the observation beams on the detector surface is not required in this embodiment. For temporally successive recording of the images of the observation beam path is partially shaded, wherein for the recording of an image typically a different part of the
Beobachtungsstrahlengangs abgeschattet wird. In einer weiteren Ausführungsform weist die Bilderfassungseinrichtung zur Bildung der mindestens zwei einer jeweiligen Beobachtungsrichtung zugeordneten Observation beam is shadowed. In a further embodiment, the image capture device for forming the at least two associated with a respective observation direction
Beobachtungsstrahlen mindestens eine Blende auf, die insbesondere zur Bildung der zwei oder mehr Beobachtungsstrahlen zu unterschiedlichen Zeitpunkten ausgebildet ist bzw. angesteuert werden kann. Die Blende kann zu diesem Zweck beispielsweise als verschiebbare, drehbare oder schaltbare Blende ausgebildet sein. Die Blende kann zur teilweisen Abschattung des Beobachtungsstrahlengangs dienen, wobei durch eine geeignete Ansteuerung der Blende zeitlich aufeinander folgend Observation beams at least one aperture, which is in particular formed to form the two or more observation beams at different times or can be controlled. The aperture can be designed for this purpose, for example, as a displaceable, rotatable or switchable aperture. The diaphragm can be used for partial shading of the observation beam path, wherein temporally successive by a suitable control of the diaphragm
unterschiedliche Teile des Beobachtungsstrahlengangs abgeschattet werden können. Eine Blendenöffnung, durch welche die Beobachtungsstrahlung hindurch tritt, erzeugt typischer Weise einen Beobachtungsstrahl, der einer different parts of the observation beam path can be shaded. An aperture through which the observation radiation passes typically produces an observation beam which is one of the observation beams
Beobachtungsrichtung zugeordnet ist. Die Blende kann in Form eines elektronischen Shutters (z.B. eines LCD-Bildschirms mit schaltbaren Pixeln) oder eines Is assigned observation direction. The bezel may be in the form of an electronic shutter (e.g., a switchable pixel LCD screen) or an electronic shutter
mechanischen Shutters (z.B. einer in der Blendenebene bewegbaren (z.B. drehbaren oder verschiebbaren) Lochblende) ausgebildet sein und dazu dienen, mechanical shutters (e.g., an aperture plate movable (e.g., rotatable or displaceable) aperture plate) and serve to
unterschiedliche Bereiche des Beobachtungsstrahlengangs zeitlich aufeinander folgend zu verdecken bzw. zu öffnen, um zeitlich aufeinander folgend zwei oder mehr Bilder aus unterschiedlichen Beobachtungsrichtungen zu erzeugen. Es versteht sich, dass zur hochauflösenden Beobachtung des zu überwachenden Bereichs des Werkstücks mit dem Ziel einer Prozessbeobachtung weitere Bereiche der Apertur
des Beobachtungsstrahlengangs geöffnet oder geschlossen werden können. To hide or open different areas of the observation beam path temporally successive, to produce temporally successive two or more images from different directions of observation. It goes without saying that for high-resolution observation of the area of the workpiece to be monitored with the goal of process observation, further regions of the aperture of the observation beam path can be opened or closed.
In einer weiteren Ausführungsform ist die Abbildungsoptik zur Erzeugung von mindestens drei Bildern des zu überwachenden Bereichs und/oder der In a further embodiment, the imaging optics for generating at least three images of the area to be monitored and / or the
Referenzkontur aus unterschiedlichen Beobachtungsrichtungen ausgebildet. Wie weiter oben dargestellt wurde, ist es für die Bestimmung der Fokusposition in der Regel ausreichend, den lateralen Versatz entlang einer Richtung zwischen zwei aus unterschiedlichen Beobachtungsrichtungen aufgenommenen Bildern zu bestimmen. Die Verwendung von drei oder mehr Bildern kann aber ggf. die Signifikanz des Vergleichs bzw. die Genauigkeit der Bestimmung der Fokusposition erhöhen. Die Erzeugung von mindestens einem weiteren (dritten, vierten,...) Bild kann auch dazu dienen, weitere Informationen über das Fokussierelement zu erhalten, insbesondere um dessen Wellenfrontaberrationen zu bestimmen, wie weiter oben dargestellt wurde. Hierdurch kann die Änderung der Brennweite eines mit hoher Laserleistung durchstrahlten Fokussierelements bzw. einer Fokussierlinse ortsabhängig, d.h. Reference contour formed from different directions of observation. As was shown above, it is usually sufficient for the determination of the focus position to determine the lateral offset along a direction between two images taken from different observation directions. However, the use of three or more images may possibly increase the significance of the comparison or the accuracy of the determination of the focus position. The generation of at least one further (third, fourth,...) Image can also serve to obtain further information about the focusing element, in particular in order to determine its wavefront aberrations, as was shown above. As a result, the change in the focal length of a high-power laser beamed focusing element or a focusing lens depending on location, i.
abhängig von der radialen Position bezüglich der optischen Achse des depending on the radial position with respect to the optical axis of
Fokussierelements, bestimmt werden. Mit Hilfe von mehr als zwei abbildenden optischen Elementen (z.B. in Form eines Linsenarrays) bzw. mit Hilfe von mehr als zwei Strahlumlenkbereichen können drei oder mehr Bilder der Werkstückoberfläche und/oder der Referenzkontur erzeugt und auf einem Detektor, z.B. einer Kamera, abgebildet werden. Focusing element to be determined. With the aid of more than two imaging optical elements (for example in the form of a lens array) or with the aid of more than two beam deflection regions, three or more images of the workpiece surface and / or the reference contour can be generated and recorded on a detector, e.g. a camera, to be imaged.
Bei einer weiteren Ausführungsform umfasst die Vorrichtung mindestens ein abbildendes optisches Element zur Erzeugung eines Bildes des zu überwachenden Bereichs an der Oberfläche des Werkstücks aus einer Beobachtungsrichtung koaxial zum Hochenergiestrahl. Wie weiter oben dargestellt wurde, enthält der zu In a further embodiment, the device comprises at least one imaging optical element for generating an image of the area to be monitored on the surface of the workpiece from a viewing direction coaxial with the high-energy beam. As has been shown above, the contains to
überwachende Bereich in der Regel einen Wechselwirkungsbereich zwischen dem Hochenergiestrahl und dem Werkstück. Mit Hilfe des abbildenden optischen monitoring area usually an interaction area between the high energy beam and the workpiece. With the help of the imaging optical
Elements kann das Prozesseigenleuchten des Bearbeitungsprozesses im VIS- Bereich und/oder ein Wärmebild des zu überwachenden Bereichs im NIR/IR-Bereich erstellt werden, um Informationen über den Bearbeitungsprozess, beispielsweise einen Schweiß- oder einen Schneidprozess, zu erhalten. Diese auch als Elements can be created the process lighting of the process in the VIS area and / or a thermal image of the area to be monitored in the NIR / IR area to obtain information about the machining process, such as a welding or a cutting process. This as well
Prozessbeobachtung bezeichnete Überwachung des Bearbeitungsprozesses kann
zusätzlich zur stereoskopischen Erfassung des zu überwachenden Bereichs bzw. der Referenzkontur erfolgen. Process monitoring can be called monitoring of the machining process in addition to the stereoscopic detection of the monitored area or the reference contour.
Bei dem abbildenden optischen Element kann es sich um ein Linsenelement handeln, welches typischer Weise einen größeren Durchmesser als die den jeweiligen Beobachtungsrichtungen zugeordneten Linsenelemente aufweist, um eine höhere Auflösung bei der Abbildung zu erhalten. Das abbildende optische Element kann ggf. auch für die Erzeugung von zwei oder mehr Bildern dienen, die aus unterschiedlichen Beobachtungsrichtungen aufgenommen werden, welche nicht koaxial bzw. parallel zur Ausbreitungsrichtung des Hochenergiestrahls verlaufen. Dies ist in der Regel der Fall, wenn die Abbildungsoptik ein Umlenkprisma wie oben beschrieben aufweist. The imaging optical element can be a lens element, which typically has a larger diameter than the lens elements associated with the respective observation directions, in order to obtain a higher resolution in the imaging. If necessary, the imaging optical element can also be used for the generation of two or more images which are recorded from different observation directions which do not run coaxially or parallel to the propagation direction of the high-energy beam. This is usually the case when the imaging optics has a deflection prism as described above.
Bei einer Ausführungsform ist die Auswerteeinrichtung zur vergleichenden In one embodiment, the evaluation device is for comparative
Auswertung des koaxial zum Hochenergiestrahl aufgenommenen Bildes und mindestens eines nicht koaxial zum Hochenergiestrahl aufgenommenen Bildes ausgebildet. Auch anhand der vergleichenden Auswertung eines koaxial und mindestens eines nicht koaxial zum Hochenergiestrahl aufgenommenen Bildes lässt sich die Fokusposition des Hochenergiestrahls auf die weiter oben beschriebene Weise bestimmen. Evaluation of the image recorded coaxially to the high energy beam and formed at least one non-coaxial with the high-energy beam recorded image. The focus position of the high-energy beam can also be determined in the manner described above using the comparative evaluation of a coaxial and at least one image that is not coaxial with the high-energy beam.
In einer weiteren Ausführungsform ist die Bilderfassungseinrichtung zur Aufnahme des mindestens einen Bildes durch eine Düsenöffnung einer Laserbearbeitungsdüse zum Durchtritt des Laserstrahls auf das Werkstück ausgebildet. Bei dieser so genannten koaxialen Beobachtung werden die Bilder des zu überwachenden In a further embodiment, the image capture device for receiving the at least one image is formed by a nozzle opening of a laser processing nozzle for the passage of the laser beam onto the workpiece. In this so-called coaxial observation, the images of the monitored
Bereichs des Werkstücks durch die Bearbeitungsdüse (z.B. Laserschneiddüse) sowie durch das Fokussierelement hindurch von einer oder von mehreren Kameras aufgenommen. Bei der Vorrichtung handelt es sich in diesem Fall typischer Weise um einen Laserbearbeitungskopf. A portion of the workpiece is picked up by the processing nozzle (e.g., laser cutting nozzle) and by the focusing element from one or more cameras. The device in this case is typically a laser processing head.
Bei einer Weiterbildung bildet die Düseninnenkontur der Laserbearbeitungsdüse, insbesondere einer Laserschneiddüse, die Referenzkontur bzw. Referenzgeometrie, welche für eine stereoskopische Bildauswertung genutzt wird. Beispielsweise kann der laterale Abstand zwischen zwei Bildern der in der Regel kreisförmigen
Düseninnenkontur bestimmt werden, um eine Grobjustage der Fokusposition vorzunehmen. Hierbei kann ausgenutzt werden, dass die vergleichende Auswertung der Bilder der Innenkontur der Düsenöffnung sehr schnell durchgeführt werden kann, da lediglich der Abstand zwischen den beiden typischer Weise kreisförmigen In a development, the nozzle inner contour of the laser processing nozzle, in particular of a laser cutting nozzle, forms the reference contour or reference geometry, which is used for stereoscopic image evaluation. For example, the lateral distance between two images of the usually circular Nozzle inner contour can be determined to make a rough adjustment of the focus position. In this case, it can be utilized that the comparative evaluation of the images of the inner contour of the nozzle opening can be carried out very quickly, since only the distance between the two typical manner is circular
Begrenzungen des durch die Düsenöffnung aufgenommenen Bildes des Werkstücks bestimmt werden muss. Die Bestimmung eines lateralen Versatzes zwischen den Bildern der Werkstückoberfläche, bei der die Konturen bzw. die Limits of the captured by the nozzle opening image of the workpiece must be determined. The determination of a lateral offset between the images of the workpiece surface, in which the contours or
Oberflächengeometrie des Werkstücks ausgewertet werden muss, erfordert in der Regel mehr Rechenzeit und kann für eine Feinjustage der Fokusposition genutzt werden. Surface geometry of the workpiece must be evaluated, usually requires more computing time and can be used for a fine adjustment of the focus position.
In einer Ausführungsform weist die Bilderfassungseinrichtung mindestens einen Detektor, insbesondere eine Kamera, mit einer Detektorfläche auf, an der das mindestens eine Bild erzeugt wird. Für die Erfassung mehrerer Bilder kann ein- und dieselbe Detektorfläche z.B. in Form eines CCD-Chips oder eines CMOS-Chips der Kamera dienen, wobei die Bilder an unterschiedlichen Teilbereichen der In one embodiment, the image capture device has at least one detector, in particular a camera, with a detector surface on which the at least one image is generated. For the detection of several images, one and the same detector surface can be used e.g. serve in the form of a CCD chip or a CMOS chip of the camera, the images at different portions of the
Detektorfläche erzeugt werden. Insbesondere in diesem Fall ist es günstig, wenn die Abbildungsoptik ein Strahlteleskop aufweist, um den Abbildungsquerschnitt auf die verfügbare Detektorfläche anzupassen. Es versteht sich, dass auch zwei oder mehr Kameras in der Bilderfassungseinrichtung vorgesehen werden können, um an einer jeweiligen Detektorfläche eines oder mehrere Bilder zu erfassen. Insbesondere die Bestimmung der Position der Referenzkontur kann anstelle einer Flächen-Kamera auch mit einem einfacheren optischen Sensor bzw. Detektor, beispielsweise einer Vierquadrantendiode oder einer Zeilenkamera, erfolgen. Detector surface are generated. Particularly in this case, it is favorable if the imaging optics has a beam telescope in order to adapt the imaging cross section to the available detector surface. It goes without saying that two or more cameras can also be provided in the image capture device in order to acquire one or more images on a respective detector surface. In particular, the determination of the position of the reference contour can also take place with a simpler optical sensor or detector, for example a four-quadrant diode or a line scan camera, instead of a surface camera.
In einer weiteren Ausführungsform ist die Auswerteeinrichtung ausgebildet, durch vergleichende Auswertung der aufgenommenen Bilder einen Abstand zwischen der Referenzkontur und der Oberseite des Werkstücks zu bestimmen. Der Abstand zwischen der Referenzkontur und dem Werkstück kann bestimmt werden, indem die Differenz zwischen dem Abstand einer Oberflächenstruktur an der Oberseite des Werkstücks, d.h. einer Bildposition der Werkstückoberfläche, zu einer (identischen) Position an der Referenzkontur in den beiden aufgenommenen Bildern bestimmt wird.
Bei einer Ausführungsform umfasst die Vorrichtung zusätzlich eine Einrichtung zur Veränderung der Fokusposition des Hochenergiestrahls in Strahlrichtung sowie eine Steuer- und/oder Regeleinrichtung zur Steuerung und/oder Regelung der In a further embodiment, the evaluation device is designed to determine a distance between the reference contour and the upper side of the workpiece by comparative evaluation of the recorded images. The distance between the reference contour and the workpiece can be determined by determining the difference between the distance of a surface structure at the top of the workpiece, ie an image position of the workpiece surface, to an (identical) position on the reference contour in the two captured images. In one embodiment, the device additionally comprises a device for changing the focus position of the high energy beam in the beam direction and a control and / or regulating device for controlling and / or regulating the
Fokusposition des Hochenergiestrahls an eine Soll-Fokusposition relativ zum Focus position of the high energy beam to a target focus position relative to
Werkstück. Bei der Einrichtung zur Veränderung der Fokusposition kann es sich beispielsweise um einen so genannten adaptiven Spiegel handeln, dessen Workpiece. The device for changing the focus position may, for example, be a so-called adaptive mirror whose
Oberflächenkrümmung gezielt beeinflusst werden kann, um die Fokusposition in Strahlrichtung des Hochenergiestrahls zu verändern. Anhand der auf die oben beschriebene Weise bestimmten Ist-Fokusposition kann die Einrichtung derart angesteuert werden, dass die Fokusposition auf eine Soll-Fokusposition geregelt wird, die typischer Weise während des Bearbeitungsprozesses konstant bleibt und die sich beispielsweise an der Werkstückoberseite oder in einem vorgegebenen Abstand zum Werkstück befinden kann. Auf diese Weise können die oben Surface curvature can be selectively influenced to change the focus position in the beam direction of the high energy beam. Based on the determined in the manner described above actual focus position, the device can be controlled such that the focus position is controlled to a desired focus position, which typically remains constant during the machining process and, for example, on the workpiece top or a predetermined distance to Workpiece can be located. That way, the top ones
dargestellten durch eine thermische Belastung des Fokussierelements represented by a thermal load of the focusing element
hervorgerufenen Veränderungen der Brennweite des Fokussierelements caused changes in the focal length of the focusing element
ausgeglichen werden. Befindet sich die Einrichtung zur Veränderung der be compensated. Is the device for changing the
Fokusposition, d.h. das Stellelement, vor der Messposition bzw. vor dem Focus position, i. the actuator, before the measuring position or before the
Beobachtungsstrahlengang, erfolgt eine Steuerung der Fokusposition an die Soll- Fokusposition. Aus der Ermittlung der Fokusposition auf dem Werkstück und des Fokusabstandes der Referenzkontur im Bearbeitungskopf (z.B. Laserschneiddüse) kann weiterhin der Abstand dieser Referenzkontur zur Werkstückoberfläche ermittelt werden (s.o.) und ggfls. mittels der Steuer- und/oder Regeleinrichtung gesteuert bzw. geregelt werden. Bei einer weiteren Ausführungsform umfasst die Vorrichtung zusätzlich eine Observation beam, there is a control of the focus position to the target focus position. From the determination of the focus position on the workpiece and the focal distance of the reference contour in the machining head (for example laser cutting nozzle), the distance of this reference contour to the workpiece surface can be determined (see above) and, if necessary. be controlled or regulated by means of the control and / or regulating device. In a further embodiment, the device additionally comprises a
Einrichtung zur Veränderung der Fokusposition der Abbildungsoptik in Strahlrichtung des Hochenergiestrahls, sowie eine Steuer- und/oder Regeleinrichtung zur Device for changing the focus position of the imaging optics in the beam direction of the high-energy beam, and a control and / or regulating device for
Steuerung und/oder Regelung der Fokusposition der Abbildungsoptik an eine Soll- Fokusposition. Die Einrichtung zur Veränderung der Fokusposition bzw. das Control and / or regulation of the focus position of the imaging optics to a desired focus position. The device for changing the focus position or the
Stellelement ist in diesem Fall typischer Weise im Beobachtungsstrahlengang angeordnet, so dass eine Regelung der Fokusposition der Abbildungsoptik an die Soll-Fokusposition erfolgt. Die Soll-Fokusposition der Abbildungsoptik liegt typischer Weise an der zu beobachtenden Oberfläche des Werkstücks. Die Steuerung bzw. Regelung an die Soll-Fokusposition kann entsprechend der weiter oben im
Zusammenhang mit dem Hochenergiestrahl beschriebenen Vorgehensweise durchgeführt werden. Control element is typically arranged in the observation beam path in this case, so that there is a control of the focus position of the imaging optics to the target focus position. The desired focus position of the imaging optics is typically located on the surface of the workpiece to be observed. The control or regulation to the desired focus position can according to the above in the In connection with the high-energy beam described procedure can be performed.
Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren der eingangs genannten Art, welches folgende Schritte aufweist: Erfassen eines zu überwachenden Bereichs an der Oberfläche des Werkstücks und/oder der Referenzkontur mittels eines durch das Fokussierelement hindurch verlaufenden Beobachtungsstrahlengangs, Erzeugen mindestens eines Bildes des zu überwachenden Bereichs und/oder der The invention also relates to a method of the aforementioned type, which comprises the following steps: detecting an area to be monitored on the surface of the workpiece and / or the reference contour by means of an observation beam path passing through the focusing element, generating at least one image of the area to be monitored and / or the
Referenzkontur durch Bilden mindestens eines Beobachtungsstrahls, der einer Beobachtungsrichtung nicht koaxial zum Hochenergiestrahl zugeordnet ist, sowie Bestimmen der Fokusposition in Strahlrichtung des Hochenergiestrahls durch Auswerten des mindestens einen aufgenommenen Bildes. Reference contour by forming at least one observation beam, which is not associated with an observation direction coaxial with the high energy beam, and determining the focus position in the beam direction of the high energy beam by evaluating the at least one recorded image.
Bei einer Variante wird die Fokusposition in Strahlrichtung des Hochenergiestrahls anhand einer Position der Referenzkontur in dem mindestens einen aufgenommenen Bild bestimmt. Wie weiter oben dargestellt wurde, kann die Fokusposition in diesem Fall anhand einer lateralen Verschiebung der Referenzkontur innerhalb des aufgenommenen Bildes beispielsweise durch Vergleich mit einer Referenzposition bestimmt werden. In one variant, the focus position in the beam direction of the high energy beam is determined based on a position of the reference contour in the at least one recorded image. As was shown above, the focus position in this case can be determined based on a lateral displacement of the reference contour within the recorded image, for example by comparison with a reference position.
Bei einer weiteren Variante wird mindestens ein weiterer einer weiteren In another variant, at least one more of another
Beobachtungsrichtung zugeordneter Beobachtungsstrahl gebildet, um mindestens zwei Bilder des zu überwachenden Bereichs und/oder der Referenzkontur aus mindestens zwei unterschiedlichen Beobachtungsrichtungen zu erzeugen, wobei die Fokusposition des Hochenergiestrahls durch vergleichendes Auswerten der aufgenommenen Bilder bestimmt wird. Wie weiter oben dargestellt wurde, kann beim vergleichenden Auswerten ein lateraler Versatz zwischen den beiden Observation direction associated observation beam formed to generate at least two images of the area to be monitored and / or the reference contour from at least two different observation directions, wherein the focus position of the high energy beam is determined by comparative evaluation of the recorded images. As has been shown above, in the comparative evaluation, a lateral offset between the two
aufgenommenen Bildern bzw. den auf diesen zu erkennenden Strukturen bestimmt werden, welcher ein Maß für die Lage der Fokusposition relativ zur Referenzkontur bzw. relativ zum Werkstück darstellt. recorded images or to be recognized on these structures, which is a measure of the position of the focus position relative to the reference contour or relative to the workpiece.
Die Erfindung betrifft auch ein Computerprogrammprodukt, welches Codemittel aufweist, die zur Durchführung aller Schritte des oben beschriebenen Verfahrens angepasst sind, wenn das Computerprogramm auf einer Datenverarbeitungsanlage
abläuft. Bei der Datenverarbeitungsanlage kann es sich beispielsweise um eine Steuer- und Regeleinrichtung und/oder um eine Auswerteeinrichtung handeln, die in einer Vorrichtung wie oben beschrieben untergebracht ist, aber auch um eine externe Einrichtung, die typischer Weise Teil einer Bearbeitungsmaschine ist. The invention also relates to a computer program product comprising code means adapted to perform all the steps of the method described above when the computer program is on a data processing system expires. The data processing system can be, for example, a control and regulating device and / or an evaluation device which is accommodated in a device as described above, but also an external device which is typically part of a processing machine.
Weitere Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der Beschreibung und der Zeichnung. Ebenso können die vorstehend genannten und die noch weiter aufgeführten Merkmale je für sich oder zu mehreren in beliebigen Kombinationen Verwendung finden. Die gezeigten und beschriebenen Ausführungsformen sind nicht als abschlie- ßende Aufzählung zu verstehen, sondern haben vielmehr beispielhaften Charakter für die Schilderung der Erfindung. Further advantages of the invention will become apparent from the description and the drawings. Likewise, the features mentioned above and the features listed further can be used individually or in combination in any combination. The embodiments shown and described are not to be understood as exhaustive enumeration, but rather have exemplary character for the description of the invention.
Es zeigen: Fig. 1a eine schematische Darstellung eines Ausführungsbeispiels einer FIG. 1a shows a schematic representation of an embodiment of a
Vorrichtung zur Bestimmung einer Fokusposition eines Laserstrahls anhand von zwei durch ein Fokussierelement hindurch aufgenommenen Bildern, Fig. 1 b eine Draufsicht auf eine Abbildungsoptik der Vorrichtung von Fig. 1a, Device for determining a focus position of a laser beam on the basis of two images taken through a focusing element, FIG. 1 b shows a plan view of an imaging optical system of the device of FIG. 1 a,
Fig. 2a-c Darstellungen von zwei aus unterschiedlichen Beobachtungsrichtungen aufgenommen Bildern eines zu überwachenden Bereichs eines Werkstücks bei unterschiedlichen Fokuspositionen des Laserstrahls, eine Darstellung eines auf eine Fokussierlinse der Vorrichtung einfallenden radialen Strahlprofils und einer daraus resultierenden radialen Brechungsindexverteilung der Fokussierlinse, Fig. 4a-c Darstellungen einer Abbildungsoptik für die Vorrichtung von Fig. 1a, b mit mehreren Zylinderlinsen, 2a-c representations of two images taken from different observation directions of a region of a workpiece to be monitored at different focal positions of the laser beam, a representation of an incident on a focusing lens of the device radial beam profile and a resulting radial refractive index distribution of the focusing lens, Fig. 4a-c Representations of an imaging optics for the device of Fig. 1a, b with a plurality of cylindrical lenses,
Fig. 5a-c Darstellungen einer Abbildungsoptik für die Vorrichtung von Fig. 1 a, b mit einem Zylinderlinsenarray,
Fig. 6a, b Darstellungen einer Abbildungsoptik für die Vorrichtung von Fig. 1a,b mit einem näherungsweise konvex gekrümmten Umlenkprisma, Fig. 7a, b Darstellungen einer Abbildungsoptik für die Vorrichtung von Fig. 1 a,b mit einem näherungsweise konkav gekrümmten Umlenkprisma, 5a-c representations of an imaging optics for the device of Fig. 1a, b with a cylindrical lens array, 1a, b with an approximately convexly curved deflection prism, Fig. 7a, b representations of an imaging optics for the device of Fig. 1a, b with an approximately concave curved deflection prism, Fig. 6a, b shows illustrations of an imaging optics for the device of FIG.
Fig. 8a eine Darstellung einer Abbildungsoptik für die Vorrichtung von Fig. 1 a,b mit einer Umlenkeinrichtung mit zwei Spiegelflächen, 8a is a representation of an imaging optics for the device of Fig. 1 a, b with a deflection device with two mirror surfaces,
Fig. 8b eine Darstellung einer Abbildungsoptik für die Vorrichtung von Fig. 1 a,b mit einer Strahlversatzeinrichtung, und Fig. 8b is an illustration of an imaging optics for the apparatus of Fig. 1 a, b with a Strahlversatzeinrichtung, and
Fig. 9a, b Darstellungen einer Abbildungsoptik für die Vorrichtung von Fig. 1 a,b mit einer drehbaren Blende in einer Seitenansicht und in einer Draufsicht, 9 a, b representations of an imaging optical system for the device of FIGS. 1 a, b with a rotatable diaphragm in a side view and in a plan view,
Fig. 10 eine schematische Darstellung eines Ausführungsbeispiels einer 10 is a schematic representation of an embodiment of a
Vorrichtung zur Bestimmung einer Fokusposition eines Laserstrahls anhand eines durch ein Fokussierelement hindurch aufgenommenen Bildes, und Apparatus for determining a focus position of a laser beam on the basis of an image taken through a focusing element, and
Fig. 1 1 a,b Darstellungen von zwei aus derselben Beobachtungsrichtung Fig. 1 1 a, b representations of two from the same direction of observation
aufgenommen Bildern einer Referenzkontur bei unterschiedlichen Fokuspositionen des Laserstrahls. taken pictures of a reference contour at different focus positions of the laser beam.
In der folgenden Beschreibung der Zeichnungen werden für gleiche bzw. In the following description of the drawings are for the same or
funktionsgleiche Bauteile identische Bezugszeichen verwendet. functionally identical components identical reference numerals used.
Fig. 1a zeigt einen beispielhaften Aufbau einer Vorrichtung 1 zur Fokussierung eines Laserstrahls 2 auf ein Werkstück 3, welche in Form eines Laserbearbeitungskopfs ausgebildet ist, der Teil einer nicht näher dargestellten Laserbearbeitungsmaschine ist. Der Laserstrahl 2 wird im gezeigten Beispiel von einem C02-Laser erzeugt. 1a shows an example of a construction of a device 1 for focusing a laser beam 2 on a workpiece 3, which is designed in the form of a laser processing head, which is part of a laser processing machine, not shown. The laser beam 2 is generated in the example shown by a C0 2 laser.
Alternativ kann der Laserstrahl 2 beispielsweise durch einen Festkörperlaser erzeugt werden. Der Laserstrahl 2 wird für die Durchführung einer Werkstückbearbeitung an
dem Werkstück 3, beispielsweise in Form eines Laserschweiß- oder Alternatively, the laser beam 2 can be generated for example by a solid-state laser. The laser beam 2 is to carry out a workpiece machining the workpiece 3, for example in the form of a laser welding or
Laserschneidprozesses, mittels eines Fokussierelements in Form einer Laser cutting process, by means of a focusing element in the form of a
Fokussierlinse 4 auf das Werkstück 3 fokussiert. Bei der Fokussierlinse 4 handelt es sich im gezeigten Beispiel um eine Linse aus Zinkselenid, die den Laserstrahl 2 durch eine Laserbearbeitungsdüse 5, genauer gesagt durch deren Düsenöffnung 5a, auf das Werkstück 3 fokussiert, und zwar im gezeigten Beispiel auf eine Focusing lens 4 focused on the workpiece 3. The focusing lens 4 in the example shown is a lens made of zinc selenide, which focuses the laser beam 2 on the workpiece 3 through a laser processing nozzle 5, more precisely through its nozzle opening 5a, specifically in the example shown
Fokusposition F an der Oberseite 3a des Werkstücks 3. Im Falle eines Laserstrahls 2 aus einem Festkörperlaser kann eine Fokussierlinse bspw. aus Quarzglas eingesetzt werden. Focusing position F at the top 3a of the workpiece 3. In the case of a laser beam 2 from a solid-state laser, a focusing lens, for example. From quartz glass can be used.
In Fig. 1 a ebenfalls zu erkennen ist ein teildurchlässig ausgebildeter Umlenkspiegel 6, welcher den einfallenden Laserstrahl 2 (mit einer Wellenlänge von ca. 10 pm) transmittiert und für eine Prozessüberwachung relevante Beobachtungsstrahlung (beispielsweise im sichtbaren Wellenlängenbereich) auf einen weiteren In Fig. 1 a also visible is a partially transparent trained deflecting mirror 6, which transmits the incident laser beam 2 (with a wavelength of about 10 pm) and for process monitoring relevant observation radiation (for example in the visible wavelength range) to another
teildurchlässigen Umlenkspiegel 8 reflektiert. Im Falle eines Laserstrahls 2 aus einem Festkörperlaser ist der Umlenkspiegel typischer Weise für eine Wellenlänge von ca. 1 μιη teildurchlässig ausgebildet. Der weitere teildurchlässige Umlenkspiegel 8 reflektiert die Beobachtungsstrahlung zu einer Bilderfassungseinrichtung 9. Eine Beleuchtungsquelle 10 dient zur koaxialen Beleuchtung des Werkstücks 3 mit Beleuchtungsstrahlung 1 1 . Die Beleuchtungsstrahlung 1 1 wird von dem weiteren teiltransmissiven Umlenkspiegel 8 transmittiert und durch die Düsenöffnung 5a der Laserbearbeitungsdüse 5 hindurch auf das Werkstück 3 gelenkt. Alternativ zu den teildurchlässigen Umlenkspiegeln 6, 8 können auch Scraperspiegel oder partially reflecting deflecting mirror 8 reflected. In the case of a laser beam 2 from a solid-state laser, the deflecting mirror is typically designed to be partially transmissive for a wavelength of approximately 1 μm. The further partially transparent deflection mirror 8 reflects the observation radiation to an image detection device 9. An illumination source 10 serves for the coaxial illumination of the workpiece 3 with illumination radiation 11. The illumination radiation 11 is transmitted by the further partially transmissive deflection mirror 8 and directed through the nozzle opening 5a of the laser processing nozzle 5 onto the workpiece 3. As an alternative to the partially transparent deflecting mirrors 6, 8 and Scraperspiegel or
Lochspiegel, welche einfallende Strahlung nur aus einem Randbereich reflektieren, eingesetzt werden, um die Beobachtungsstrahlung 7 der Bilderfassungseinrichtung 9 zuzuführen bzw. um die Beleuchtungsstrahlung 1 1 dem Werkstück 3 zuzuführen. Auch zwei seitlich in den Strahlengang des Laserstrahls 2 eingebrachte Spiegel können verwendet werden, um die Beobachtung zu ermöglichen. Als Beleuchtungsquelle 10 können Diodenlaser oder LED's vorgesehen werden, die wie in Fig. 1 a gezeigt koaxial, aber auch off-axis zur Laserstrahlachse 13 angeordnet werden können. Die Beleuchtungsquelle 10 kann beispielsweise auch außerhalb (insbesondere neben) der Vorrichtung 1 angeordnet und auf das Werkstück 3 gerichtet sein; alternativ kann die Beleuchtungsquelle 10 innerhalb der Vorrichtung 1
angeordnet sein, jedoch nicht koaxial zum Laserstrahl 2 auf das Werkstück 3 ausgerichtet sein. Gegebenenfalls kann die Vorrichtung 1 auch ohne eine Hole mirror, which reflect incident radiation only from an edge region, are used to supply the observation radiation 7 of the image capture device 9 and to supply the illumination radiation 1 1 to the workpiece 3. Also, two laterally introduced into the beam path of the laser beam 2 mirror can be used to enable the observation. Diode lasers or LEDs can be provided as the illumination source 10, which can be arranged coaxially as shown in FIG. 1 a, but can also be arranged off-axis to the laser beam axis 13. The illumination source 10 may, for example, also be arranged outside (in particular next to) the device 1 and directed towards the workpiece 3; Alternatively, the illumination source 10 within the device 1 be arranged, but not coaxially aligned with the laser beam 2 on the workpiece 3. Optionally, the device 1 without a
Beleuchtungsquelle 10 betrieben werden. Teil der Bilderfassungseinrichtung 9 ist eine im Beobachtungsstrahlengang 7 hinter dem weiteren teildurchlässigen Umlenkspiegel 8 angeordnete geometrisch Illumination source 10 are operated. Part of the image capture device 9 is a geometrically arranged in the observation beam path 7 behind the further partially transparent deflection mirror 8
hochauflösende Kamera 12. Bei der Kamera 12 kann es sich um eine high-resolution camera 12. Camera 12 may be a
Hochgeschwindigkeitskamera handeln, die koaxial zur Laserstrahlachse 13 bzw. zur Verlängerung der Laserstrahlachse 13 und somit richtungsunabhängig angeordnet ist. Beim dargestellten Beispiel erfolgt die Aufnahme von Bildern durch die Kamera 12 im Auflichtverfahren im VIS-Wellenlängenbereich, es ist aber auch möglich, dass die Kamera 12 Bilder im NIR/IR-Wellenlängenbereich aufnimmt, um das Act high-speed camera, which is coaxial with the laser beam axis 13 and the extension of the laser beam axis 13 and thus arranged direction independent. In the illustrated example, the image is captured by the camera 12 in the incident light process in the VIS wavelength range, but it is also possible that the camera 12 takes pictures in the NIR / IR wavelength range to the
Prozesseigenleuchten bzw. ein Wärmebild des Bearbeitungsprozesses Process lights or a thermal image of the machining process
aufzunehmen. Auch eine Aufnahme von Bildern im UV-Bereich ist möglich, um eine Auflichtbeleuchtung oder eine Prozess- (Plasma-)strahlung aufzunehmen. Bei dem in Fig. 1 a gezeigten Beispiel kann ein Filter vor der Kamera 12 angeordnet werden, wenn weitere Strahlungs- bzw. Wellenlängenanteile von der Erfassung mit der Kamera 12 ausgeschlossen werden sollen. Der Filter kann z.B. als schmalbandiger Bandpassfilter ausgebildet sein. take. It is also possible to take pictures in the UV range in order to record incident light illumination or process (plasma) radiation. In the example shown in FIG. 1 a, a filter can be arranged in front of the camera 12 if further radiation or wavelength components are to be excluded from the detection with the camera 12. The filter may e.g. be designed as a narrowband bandpass filter.
Zur Erzeugung von Bildern B1 , B2 eines in Fig. 2a-c gezeigten zu überwachenden Bereichs 15 an der Oberfläche 3a des Werkstück 3 auf eine Detektorfläche 12a der Kamera 12 weist die Bilderfassungseinrichtung 9 eine Abbildungsoptik 14 auf, welche im gezeigten Beispiel zwei im Strahlweg des Beobachtungsstrahlengangs 7 angeordnete Linsenelemente 16a, 16b aufweist. Die Linsenelemente 16a, 16b sind in einer gemeinsamen Ebene angeordnet und bilden jeweils nur einen Teilstrahl bzw. ein Teilbündel des Beobachtungsstrahlengangs 7, die jeweils einen In order to generate images B1, B2 of a region 15 to be monitored on the surface 3a of the workpiece 3 on a detector surface 12a of the camera 12 shown in FIGS. 2a-c, the image capture device 9 has imaging optics 14 which, in the example shown, two in the beam path of FIG Observation beam 7 has arranged lens elements 16a, 16b. The lens elements 16a, 16b are arranged in a common plane and each form only a partial beam or a partial beam of the observation beam path 7, each one
Beobachtungsstrahl 7a, 7b bilden, auf unterschiedliche Bereiche der Detektorfläche 12a der Kamera 12 ab, so dass dort zwei voneinander beabstandete Bilder B1 , B2 erzeugt werden, wie in Fig. 2a-c dargestellt ist. Wie in Fig. 2a-c zu erkennen ist, wird der jeweils von den Linsenelementen 16a, 16b abgebildete Bereich bzw. das Bild B1 , B2 des Werkstücks 3 von einer kreisförmigen Innenkontur 5b der Observation beam 7a, 7b form, on different areas of the detector surface 12a of the camera 12, so that there are two spaced-apart images B1, B2 are generated, as shown in Fig. 2a-c. As can be seen in FIGS. 2 a - c, the region or the image B 1, B 2 of the workpiece 3 respectively imaged by the lens elements 16 a, 16 b is of a circular inner contour 5 b
Laserbearbeitungsdüse 5 begrenzt. Um den Abbildungsquerschnitt an die Größe der
Detektorfläche 12a anzupassen, weist die Abbildungsoptik 14 ein Strahlteleskop mit zwei weiteren Linsen 17a, 17b auf. Laser processing nozzle 5 limited. To the image cross section to the size of Adjusting detector surface 12a, the imaging optics 14 on a beam telescope with two other lenses 17a, 17b.
Der jeweilige von den beiden Linsen 16a, 16b auf die Detektorfläche 12a abgebildete Teil (Beobachtungsstrahl 7a, 7b) des Beobachtungsstrahlengangs 7 stammt von zwei sich einander in X-Richtung eines XYZ-Koordinatensystems diametral gegenüber liegenden Randbereichen der Fokussierlinse 4 und bilden somit den zu überwachenden Bereich 15 des Werkstücks 3 sowie die Innenkontur 5b der The respective part (observation beam 7a, 7b) of the observation beam path 7 imaged by the two lenses 16a, 16b on the detector surface 12a originates from two edge regions of the focusing lens 4 which are diametrically opposite one another in the X direction of an XYZ coordinate system and thus form the one to be monitored Area 15 of the workpiece 3 and the inner contour 5b of
Laserbearbeitungsdüse 5 aus unterschiedlichen Beobachtungsrichtungen R1 , R2 bzw. aus unterschiedlichen Beobachtungswinkeln relativ zur Laserstrahlachse 13 ab. Die beiden Linsen 16a, 16b ermöglichen somit eine stereoskopische Beobachtung des zu überwachenden Bereichs 15 bzw. der Innenkontur 5b der Laser processing nozzle 5 from different observation directions R1, R2 or from different observation angles relative to the laser beam axis 13 from. The two lenses 16a, 16b thus allow a stereoscopic observation of the area 15 to be monitored or the inner contour 5b of the
Laserbearbeitungsdüse 5. In Fig. 1 a weist die Abbildungsoptik 14 eine zusätzliche Linse 18 auf, welche zur Abbildung von Beobachtungsstrahlung aus einem zentralen, die Laserstrahlachse 13 schneidenden Bereich der Fokussierlinse 4 auf die Detektorfläche 12a der Kamera 12 dient. Wie in Fig. 1 b zu erkennen ist, weist die zusätzliche Linse 18 einen deutlich größeren Durchmesser als die beiden für die stereoskopische Beobachtung verwendeten äußeren Linsen 16a, 16b auf. Die zusätzliche Linse 18 dient der Prozessbeobachtung, genauer gesagt der Beobachtung eines in dem zu Laser processing nozzle 5. In Fig. 1 a, the imaging optics 14 on an additional lens 18, which serves for imaging observation radiation from a central, the laser beam axis 13 intersecting region of the focusing lens 4 on the detector surface 12a of the camera 12. As can be seen in FIG. 1 b, the additional lens 18 has a significantly larger diameter than the two outer lenses 16 a, 16 b used for the stereoscopic observation. The additional lens 18 is for process observation, more precisely the observation of one in the
überwachenden Bereich 15 enthaltenen Wechselwirkungsbereichs zwischen dem Laserstrahl 2 und dem Werkstück 3. Durch den vergleichsweise großen monitoring area 15 contained interaction area between the laser beam 2 and the workpiece 3. By the comparatively large
Durchmesser der zusätzlichen Linse 18 wird ein vergleichsweise großes und damit eine hohe Anzahl von Pixeln aufweisendes Bild auf der Detektorfläche 12a erzeugt, wodurch die Auflösung bei der Prozessbeobachtung verbessert ist. Es versteht sich, dass anders als in Fig. 1 a gezeigt auch auf die zusätzliche Linse 18 und damit auf die Prozessbeobachtung verzichtet werden kann. In diesem Fall wird der Abstand in X-Richtung zwischen den beiden Linsen 16a, 16b typischer Weise gegenüber der Darstellung in Fig. 1 a, b verkürzt. Diameter of the additional lens 18 is a comparatively large and thus having a high number of pixels having image on the detector surface 12a generated, whereby the resolution in the process observation is improved. It goes without saying that, unlike in FIG. 1 a, it is also possible to dispense with the additional lens 18 and thus with the process observation. In this case, the distance in the X direction between the two lenses 16a, 16b is typically shortened in comparison to the illustration in FIGS. 1a, b.
Nachfolgend wird anhand von Fig. 2a-c dargestellt, wie in einer Auswerteeinrichtung 19 der Vorrichtung 1 die Fokusposition F, F', F" des Laserstrahls 2 relativ zum
Werkstück 3 durch eine vergleichende Auswertung der beiden aufgenommenen Bilder B1 , B2 bestimmt werden kann. Subsequently, with reference to FIG. 2a-c, as in an evaluation device 19 of the device 1, the focus position F, F ', F "of the laser beam 2 relative to Workpiece 3 can be determined by a comparative evaluation of the two recorded images B1, B2.
Bei der in Fig. 2a gezeigten Darstellung der beiden von den Linsen 16a, 16b erzeugten Bilder B1 , B2 befindet sich die Fokusposition F des Laserstrahls 2 an der Oberseite 3a des Werkstücks 3, die im vorliegenden Beispiel einer Soll- Fokusposition der Werkstückbearbeitung entspricht. Die beiden Bilder B1 , B2 erfassen jeweils einen dem zu überwachenden Bereich 15 entsprechenden In the representation of the two images B1, B2 produced by the lenses 16a, 16b, the focus position F of the laser beam 2 is located on the upper side 3a of the workpiece 3, which in the present example corresponds to a desired focus position of the workpiece machining. The two images B1, B2 respectively capture a region 15 to be monitored
Ausschnitt der Oberfläche 3a des plattenförmigen Werkstücks 3, die eine Rauigkeit und somit eine Oberflächenstruktur aufweist, die beispielhaft in Fig. 2a angedeutet ist. Wie anhand von Fig. 2a zu erkennen ist, sind die beiden durch die einen Section of the surface 3a of the plate-shaped workpiece 3, which has a roughness and thus a surface structure, which is exemplified in Fig. 2a. As can be seen from Fig. 2a, the two are through the one
Bilderfassungsbereich bildende Düsenöffnung 5a aufgenommenen Bilder B1 , B2 der Oberfläche 3a bzw. der Strukturen an der Oberfläche des Werkstücks 3 in dem zu überwachenden, von der eine Referenzkontur bildenden Innenkontur 5b der Images B1, B2 of the surface 3a and the structures on the surface of the workpiece 3 in the monitored, from the one reference contour forming inner contour 5b of
Laserbearbeitungsdüse 5 begrenzten Bereich 15 identisch und weisen insbesondere keinen lateralen Versatz in X-Richtung auf. Die beiden Bilder B1 , B2 sind auf der Detektorfläche 12a um einen Abstand A in X-Richtung versetzt, der mit dem Abstand zwischen den beiden Linsen 16a, 16b korreliert ist bzw. diesem im Wesentlichen entspricht. Laser processing nozzle 5 limited area 15 identical and in particular have no lateral offset in the X direction. The two images B1, B2 are offset on the detector surface 12a by a distance A in the X direction, which is correlated with the distance between the two lenses 16a, 16b or substantially corresponds thereto.
Bei der in Fig. 2b gezeigten Darstellung der beiden Bilder B1 , B2 befindet sich die Fokusposition F' des Laserstrahls 2 oberhalb der Oberseite 3a des Werkstücks 3. Wie in Fig. 2b zu erkennen ist, ist der in den Bildern B1 , B2 abgebildete zu überwachende Bereich 15 des Werkstücks 3 nicht identisch, vielmehr sind die in den Bildern B1 , B2 zu erkennenden Oberflächenstrukturen zueinander lateral versetzt, und zwar beim ersten Bild B1 nach rechts, d.h. in positiver X-Richtung, während die abgebildeten Oberflächenstrukturen im zweiten Bild B2 nach links, d.h. in negativer X-Richtung verschoben sind, wie jeweils durch einen Pfeil angedeutet ist. Der Betrag des lateralen Versatzes zwischen den abgebildeten Oberflächenstrukturen des Werkstücks 3 in den beiden Bildern B1 , B2 hängt vom Abstand der Fokusposition F' vom Werkstück 3 ab, wobei der laterale Versatz mit zunehmendem Abstand zwischen der Fokusposition F' und dem Werkstück 3 zunimmt, so dass dieser Versatz ein Maß für die Abweichung der Fokusposition F' von der Soll-Fokusposition F an der Oberseite 3a des Werkstücks 3 darstellt. Wie in Fig. 2b ebenfalls zu
erkennen ist, nimmt bei der gezeigten Fokusposition F' oberhalb des Werkstücks 3 auch der Abstand A' zwischen den beiden von der Innenkontur 5b der In the illustration of the two images B1, B2 shown in FIG. 2b, the focus position F 'of the laser beam 2 is above the top surface 3a of the workpiece 3. As can be seen in FIG. 2b, the one shown in the images B1, B2 is too monitoring area 15 of the workpiece 3 is not identical, but the surface structures to be recognized in the images B1, B2 are laterally offset from each other, namely the first image B1 to the right, ie in the positive X direction, while the imaged surface structures in the second image B2 after on the left, ie shifted in the negative X-direction, as indicated in each case by an arrow. The amount of the lateral offset between the imaged surface structures of the workpiece 3 in the two images B1, B2 depends on the distance of the focal position F 'from the workpiece 3, the lateral offset increasing as the distance between the focal position F' and the workpiece 3 increases this offset represents a measure of the deviation of the focus position F 'from the desired focus position F on the upper side 3 a of the workpiece 3. As in Fig. 2b also to is recognized, takes in the focus position shown F 'above the workpiece 3 and the distance A' between the two of the inner contour 5b of
Laserbearbeitungsdüse 5 begrenzten Bildern B1 , B2 auf der Detektorfläche 12a ab. Ob der Abstand A bzw. A' zwischen den beiden Bildern B , B2 bei einer Laser processing nozzle 5 limited images B1, B2 on the detector surface 12a from. Whether the distance A or A 'between the two images B, B2 at a
Verschiebung der Fokusposition F' in Richtung auf den Laserbearbeitungskopf 1 zunimmt oder abnimmt, hängt von dem für die Erzeugung der Bilder B1 , B2 verwendeten Abbildungsprinzip ab. Shifting the focus position F 'in the direction of the laser processing head 1 increases or decreases depends on the imaging principle used for the generation of the images B1, B2.
Bei der in Fig. 2c gezeigten Darstellung der beiden Bilder B1 , B2 befindet sich die Fokusposition F" des Laserstrahls 2 unterhalb des Werkstücks 3. Wie in Fig. 2c zu erkennen ist, sind die in den Bildern B1 , B2 zu erkennenden Oberflächenstrukturen des Werkstücks 3 lateral zueinander versetzt, und zwar beim ersten Bild B1 nach links, d.h. in negativer X-Richtung, während die abgebildeten Oberflächenstrukturen im zweiten Bild B2 nach rechts, d.h. in positiver X-Richtung verschoben sind, wie jeweils durch einen Pfeil angedeutet ist. Der Betrag des lateralen Versatzes zwischen den abgebildeten Oberflächenstrukturen des Werkstücks 3 in den beiden durch die Innenkontur 5b begrenzten Bildern B1 , B2 ist ein Maß für die Abweichung der Fokusposition F" von der Soll-Fokusposition F an der Oberseite 3a des In the representation of the two images B1, B2 shown in FIG. 2c, the focus position F "of the laser beam 2 is below the workpiece 3. As can be seen in FIG. 2c, the surface structures of the workpiece to be recognized in the images B1, B2 are 3 laterally offset from each other, namely in the first image B1 to the left, ie in the negative X direction, while the imaged surface structures in the second image B2 are shifted to the right, ie in the positive X direction, as indicated in each case by an arrow Amount of the lateral offset between the imaged surface structures of the workpiece 3 in the two bounded by the inner contour 5b images B1, B2 is a measure of the deviation of the focus position F "of the target focus position F at the top of the 3a
Werkstücks 3. Wie in Fig. 2c ebenfalls zu erkennen ist, nimmt auch der Abstand A" zwischen den beiden von der Innenkontur 5b der Laserbearbeitungsdüse 5 begrenzten Bildern B1 , B2 auf der Detektorfläche 12a zu. 3. As can also be seen in FIG. 2c, the distance A "between the two images B1, B2 delimited by the inner contour 5b of the laser processing nozzle 5 also increases on the detector surface 12a.
Wie anhand eines Vergleichs von Fig. 2b mit Fig. 2c zu erkennen ist, hängt die Richtung des lateralen Versatzes der beiden Bilder B1 , B2 davon ab, ob sich die Fokusposition oberhalb oder unterhalb des Werkstücks 3 befindet, so dass anhand einer vergleichenden Auswertung der beiden Bilder B , B2, bei welcher der laterale Versatz z.B. mit Hilfe eines Blockmatching-Algorithmus oder durch eine As can be seen from a comparison of FIG. 2 b with FIG. 2 c, the direction of the lateral offset of the two images B 1, B 2 depends on whether the focus position is above or below the workpiece 3, so that the comparative analysis of FIG two images B, B2, in which the lateral offset, for example using a block matching algorithm or by a
Frequenzanalyse bestimmt wird, die Fokuslage relativ zum Werkstück 3 nicht nur im Betrag, sondern auch in der Richtung bestimmt werden kann. Entsprechendes gilt für den Abstand A, bzw. Α', A" zwischen den beiden Bildern B1 , B2 auf der Frequency analysis is determined, the focus position relative to the workpiece 3 can be determined not only in magnitude, but also in the direction. The same applies to the distance A, or Α ', A "between the two images B1, B2 on the
Detektorfläche 12a, der ebenfalls ein Maß für die Fokusposition F bzw. F', F", hier jedoch relativ zur von der Düseninnenkontur 5b gebildeten Referenzkontur, darstellt.
Abweichungen der Fokusposition von der Soll-Fokusposition F an der Oberseite 3a des Werkstücks 3 treten typischer Weise während der Werkstückbearbeitung ungewollt auf, da der Brechungsindex der Fokussierlinse 4 temperaturabhängig ist, wie anhand von Fig. 3 zu erkennen ist, in welcher der Brechungsindex n der Detector surface 12a, which is also a measure of the focus position F and F ', F ", but here relative to the reference contour formed by the nozzle inner contour 5b, represents. Deviations of the focus position from the desired focus position F on the upper side 3 a of the workpiece 3 typically occur during workpiece machining unintentionally, since the refractive index of the focusing lens 4 is temperature-dependent, as can be seen from FIG. 3, in which the refractive index n of FIG
Fokussierlinse 5 für unterschiedliche Strahlungsleistungen des einfallenden Focusing lens 5 for different radiation powers of the incident
Laserstrahls 2 dargestellt ist. In Fig. 3 ist auch die Strahldichte (in kW/cm2) gezeigt, die in Abhängigkeit vom Ort bzw. der Radiuskoordinate auf die Fokussierlinse 4 auftrifft und die mit zunehmender Strahlungsleistung (in kW) zunimmt. Da die thermische Belastung bzw. die Temperatur der Fokussierlinse 4 während des Bearbeitungsprozesses sich nicht bzw. nicht genau genug vorhersagen lässt, um die Fokusposition an die Soll-Fokusposition F anzupassen, ist die oben beschriebene Bestimmung der Fokuslage vorteilhaft, um die Soll-Fokusposition F während des Bearbeitungsprozesses auf einen gewünschten, typischer Weise konstanten Wert zu regeln. Laser beam 2 is shown. In Fig. 3, the beam density (in kW / cm 2 ) is shown, which impinges on the focusing lens 4 depending on the location or the radius coordinate and increases with increasing radiation power (in kW). Since the thermal load or the temperature of the focusing lens 4 can not or can not be predicted accurately enough during the machining process in order to adapt the focus position to the desired focus position F, the above-described determination of the focus position is advantageous for determining the target focus position F during the machining process in a desired, typically constant value.
Für die Regelung der Fokusposition F bzw. F', F" an die Soll-Fokusposition weist der Laserbearbeitungskopf eine Steuer- bzw. Regeleinrichtung 20 auf, mit welcher die Auswerteeinrichtung 19 in signaltechnischer Verbindung steht. Die Steuer- /Regeleinrichtung 20 dient der Steuerung bzw. Regelung des gesamten For the regulation of the focus position F or F ', F "to the desired focus position, the laser processing head has a control or regulating device 20, with which the evaluation device 19 is in signal communication Regulation of the whole
Laserbearbeitungsprozesses und wirkt im vorliegenden Fall auf einen weiteren im Strahlengang des Laserstrahls 2 angeordneten adaptiven Umlenkspiegel 21 , genauer gesagt auf dessen optische Oberfläche 21a ein, deren Krümmung auf an sich bekannte Weise eingestellt werden kann. Die Krümmung des adaptiven Laser processing process and acts in the present case on a further arranged in the beam path of the laser beam 2 adaptive deflection mirror 21, more precisely on the optical surface 21 a, the curvature of which can be adjusted in a known per se. The curvature of the adaptive
Umlenkspiegels 21 beeinflusst die Fokusposition F bzw. F', F" in Deflection mirror 21 influences the focus position F or F ', F "in
Strahlausbreitungsrichtung 13 des Laserstrahls 2. Die Krümmung kann mit Hilfe der Steuer-/Regeleinrichtung 20 so eingestellt werden, dass die thermisch bedingte Abweichung der Fokusposition von der Soll-Fokusposition F', F" gerade kompensiert wird. Im hier beschriebenen Beispiel bedeutet dies, dass auf den adaptiven The curvature can be adjusted by means of the control device 20 in such a way that the thermally induced deviation of the focus position from the desired focus position F ', F "is just compensated on the adaptive
Umlenkspiegel 21 so lange eingewirkt wird, bis die in Fig. 2a gezeigte Situation eintritt, d.h. bis die in den beiden Bildern B1 , B2 identifizierten Strukturen keinen lateralen Abstand mehr zueinander aufweisen. Deflection mirror 21 is acted on until the situation shown in Fig. 2a occurs, i. until the structures identified in the two images B1, B2 no longer have a lateral distance from one another.
Es versteht sich, dass die Soll-Fokuslage F nicht zwingend an der Oberseite 3a des Werkstücks 3 liegen muss, sondern dass diese auch zur Oberseite 3a des
Werkstück 3 beabstandet angeordnet sein kann. Auch in diesem Fall kann die Steuer-/Regelungseinrichtung 20 zur Regelung auf einen vorgegebenen lateralen Abstand zwischen den in den beiden Bildern B1 , B2 zu erkennenden Strukturen dienen, welcher der gewünschten Soll-Fokusposition entspricht. Zusätzlich oder alternativ kann die Regelung der Fokusposition F bzw. F', F" auch anhand desIt is understood that the target focus position F does not necessarily have to lie on the upper side 3 a of the workpiece 3, but that this also to the top surface 3 a of the Workpiece 3 can be arranged at a distance. In this case as well, the control / regulation device 20 can be used to regulate to a predetermined lateral distance between the structures to be recognized in the two images B1, B2, which corresponds to the desired target focus position. Additionally or alternatively, the control of the focus position F or F ', F "also on the basis of
Abstandes A bzw. Α', A" zwischen den beiden Bildern B1 , B2 erfolgen, indem dieser Abstand A bzw. Α', A" auf einen gewünschten Abstand A geregelt wird, welcher einer Soll-Fokusposition bzw. einer Soll-Brennweite der Fokussierlinse 4 relativ zum Laserbearbeitungskopf 1 entspricht. Insbesondere kann mit Hilfe des Abstandes A bzw. Α', A" eine Grobjustage der Fokusposition F bzw. F', F" erfolgen. Auch kann anhand eines Vergleichs zwischen dem Abstand A bzw. Α', A" und dem lateralen Versatz zwischen den in den beiden Bildern B1 , B2 zu erkennenden Distance A or Α ', A "between the two images B1, B2 done by this distance A or Α', A" is controlled to a desired distance A, which a target focus position and a desired focal length of the focusing lens 4 corresponds to the laser processing head 1. In particular, a coarse adjustment of the focus position F or F ', F "can take place with the aid of the distance A or Α', A". Also, based on a comparison between the distance A or Α ', A "and the lateral offset between the in the two images B1, B2 to be recognized
Oberflächenstrukturen der Abstand D zwischen der Laserbearbeitungsdüse 5 und dem Werkstück 3 bzw. der Oberseite 3a des Werkstücks 3 bestimmt werden. Surface structures of the distance D between the laser machining nozzle 5 and the workpiece 3 and the top 3a of the workpiece 3 are determined.
Konkret wird zur Bestimmung des Abstandes D die Differenz zwischen den Specifically, to determine the distance D, the difference between the
Abständen der gleichen Oberflächenstruktur in den beiden Bildern B1 , B2 zu dem durch die Referenzkontur 5b gebildeten Rand des jeweiligen Bildes B1 , B2 (in X- Richtung) bestimmt. Dieser Differenz wird anhand eines bekannten, z.B. durch Testmessungen ermittelten oder berechneten funktionalen Zusammenhangs der Abstand D zum Werkstück 3 zugeordnet. Es versteht sich, dass an Stelle der oben beschriebenen Bestimmung des lateralen Versatzes zwischen den in den Bildern B1 , B2 zu erkennenden Oberflächenstrukturen auch andere Merkmale des Werkstücks 3 herangezogen werden können, um den lateralen Versatz zu bestimmen, Distances of the same surface structure in the two images B1, B2 to the edge formed by the reference contour 5b of the respective image B1, B2 determined (in the X direction). This difference is determined by a known, e.g. assigned by test measurements or calculated functional relationship of the distance D to the workpiece 3 assigned. It is understood that instead of the above-described determination of the lateral offset between the surface structures to be recognized in the images B1, B2, other features of the workpiece 3 can also be used to determine the lateral offset,
beispielsweise können ggf. auch (Wärme-)Bilder des Prozesseigenleuchtens oder dergleichen von der Auswerteeinrichtung 19 für die Bildauswertung herangezogen werden. For example, (heat) images of the process lighting or the like may also be used by the evaluation device 19 for the image evaluation.
Die Steuer-/Regelungseinrichtung 20 kann auch zur Regelung der Fokuslage der Abbildungsoptik 14 dienen. Zu diesem Zweck wirkt die Steuer-/Regeleinrichtung 20 auf eine Einrichtung 32 zur Verschiebung der Linsen 17a, 17b in Strahlrichtung 13 des Laserstrahls 2, genauer gesagt zur Veränderung des relativen Abstandes zwischen den Linsen 17a, 17b ein. Die Fokusposition der Abbildungsoptik 14 wird zur Vereinfachung mit denselben Bezugszeichen F, F1, F" wie die Fokusposition des Laserstrahls 2 bezeichnet. Durch die Regelung der Fokusposition F', F', F" der
Abbildungsoptik 19 kann sichergestellt werden, dass die Oberfläche 3a des The control / regulating device 20 can also be used to control the focus position of the imaging optics 14. For this purpose, the control device 20 acts on a device 32 for displacing the lenses 17a, 17b in the beam direction 13 of the laser beam 2, more precisely for varying the relative distance between the lenses 17a, 17b. For reasons of simplicity, the focus position of the imaging optics 14 is denoted by the same reference symbols F, F 1 , F "as the focus position of the laser beam 2. By controlling the focus position F ', F', F" of FIG Imaging optics 19 can be ensured that the surface 3a of the
Werkstücks 3 in deren Tiefenschärfebereich angeordnet ist, so dass die Oberfläche 3a des Werkstücks 3 scharf auf die Detektorfläche 12a abgebildet wird. Für die Regelung der Fokusposition F, F', F" an die Soll-Fokusposition auf dem Werkstück 3 wird der Abstand A bzw. Α', A" zwischen den beiden Bildern B1 , B2 auf einen durch Testmessungen bestimmten oder berechneten Soll-Abstand geregelt. Workpiece 3 is arranged in the depth of focus range, so that the surface 3a of the workpiece 3 is sharply imaged on the detector surface 12a. For the regulation of the focus position F, F ', F "to the desired focus position on the workpiece 3, the distance A or Α', A" between the two images B1, B2 is controlled to a predetermined or calculated by test measurements target distance ,
Wie anhand von Fig. 4a-c zu erkennen ist, können in der Abbildungsoptik 14 an Stelle von sphärischen Linsen, welche jeweils einer Beobachtungsrichtung R1 , R2 zugeordnet sind, auch Zylinderlinsen 16a, 16b eingesetzt werden, die nur in X- Richtung, nicht aber in Y-Richtung eine abbildende Wirkung aufweisen. In diesem Fall ist die zusätzliche, zentrische Linse ebenfalls als Zylinderlinse 18a ausgebildet, die ebenfalls nur in X-Richtung eine optische Wirkung erzeugt. Eine weitere, in Y- Richtung ausgerichtete Zylinderlinse 18b dient zur Erzeugung einer Abbildung auch in Y-Richtung. Durch die gekreuzten Zylinderlinsen 16a,b, 18a bzw. 18b kann der verfügbare Abbildungsquerschnitt auf der Detektorfläche 12a gut ausgenutzt werden. As can be seen from FIGS. 4 a - c, cylindrical lenses 16 a, 16 b which are only in the X direction but not in the imaging optics 14 can be used instead of spherical lenses, which are each assigned to an observation direction R 1, R 2 have an imaging effect in the Y direction. In this case, the additional, centric lens is also formed as a cylindrical lens 18a, which also produces an optical effect only in the X direction. Another, aligned in the Y direction cylindrical lens 18b is used to generate an image in the Y direction. By the crossed cylindrical lenses 16a, b, 18a and 18b, the available imaging cross section on the detector surface 12a can be well utilized.
Die in Fig. 5a-c gezeigte Abbildungsoptik 14 weist ebenfalls eine Mehrzahl von gekreuzten ersten und zweiten Zylinderlinsen 22, 23 auf, die in einer The imaging optics 14 shown in Fig. 5a-c also has a plurality of crossed first and second cylindrical lenses 22, 23, which in a
Rasteranordnung 24 angeordnet sind, um eine Anzahl von 5 x 5 = 25 Bildern auf der Detektorfläche 12a zu erzeugen. Die Rasteranordnung 24 von Linsenelementen 22, 23 kann genutzt werden, um eine ortsaufgelöste Bestimmung von Raster arrangement 24 are arranged to produce a number of 5 x 5 = 25 images on the detector surface 12 a. The raster arrangement 24 of lens elements 22, 23 can be used to determine a spatially resolved determination of
Wellenfrontaberrationen zu ermöglichen, welche durch die thermisch belastete Fokussierlinse 4 hervorgerufen werden. Anhand der Wellenfrontaberrationen kann die Strahlfokussierung mit Hilfe der Fokussierlinse 4 durch eine geeignete derTo allow wavefront aberrations, which are caused by the thermally loaded focusing lens 4. On the basis of the wavefront aberrations, the beam focusing by means of the focusing lens 4 by a suitable one of
Fokussierlinse 4 vorgeschaltete Strahlformung mit Hilfe von an sich bekannten, hier nicht näher beschriebenen strahlformenden optischen Elementen optimiert werden. Alternativ oder zusätzlich kann eine koaxiale Beobachtung des Werkstücks 3 für die Prozessüberwachung durch eine geeignete Korrektur verbessert werden. Focusing lens 4 upstream beam shaping can be optimized by means of known per se, not described here in detail beam-shaping optical elements. Alternatively or additionally, a coaxial observation of the workpiece 3 for the process monitoring can be improved by a suitable correction.
Beispielsweise kann der Beobachtungsstrahlengang 7 durch die Anpassung vonFor example, the observation beam path 7 by the adaptation of
Aperturen und/oder Abständen zwischen abbildenden optischen Elementen und/oder durch frei justierbare Spiegel angepasst werden.
Eine alternative Ausgestaltung der Abbildungsoptik 14 mit einer Abbild ungslinse 25 und einer Strahl-Umlenkeinrichtung in Form eines Umlenkprismas 26 ist in Fig. 6a,b dargestellt. Das Umlenkprisma 26 weist vier keilförmige Abschnitte mit planen, zur Beobachtungstrahlung bzw. zu deren Strahlachse unter einem Winkel angeordneten Flächen 26a-d auf, die um einen zentralen, planen Bereich 27 herum angeordnet sind. Die ersten beiden Flächen 26a, b dienen als Strahlumlenkbereiche zur Apertures and / or distances between imaging optical elements and / or be adjusted by freely adjustable mirror. An alternative embodiment of the imaging optical system 14 with an imaging lens 25 and a beam deflection device in the form of a deflection prism 26 is shown in FIGS. 6a, b. The deflection prism 26 has four wedge-shaped sections with planar surfaces 26a-d arranged at an angle to the observation radiation or to its beam axis, which are arranged around a central, planar region 27. The first two surfaces 26a, b serve as Strahlumlenkbereiche to
Umlenkung der einfallenden Beobachtungsstrahlung in X-Richtung, so dass diese nicht senkrecht zur Mittelebene der Abbildungslinse 25 auf diese auftrifft und ein erstes und zweites Bild B1 , B2 auf der Detektorfläche 12a erzeugt, die entlang der X- Achse voneinander beabstandet sind. Deflection of the incident observation radiation in the X direction so that it is not perpendicular to the center plane of the imaging lens 25 impinges on this and a first and second image B1, B2 on the detector surface 12a generated, which are spaced apart along the X axis.
Die dritte Fläche 26c und die vierte Fläche 26d dienen entsprechend als The third surface 26c and the fourth surface 26d serve as corresponding
Strahlumlenkbereiche zur Erzeugung eines dritten und vierten Bildes B3, B4 auf der Detektorfläche 12a, die entlang der Y-Richtung voneinander beabstandet sind. Der zentrale, die Beobachtungsstrahlung nicht umlenkende Bereich 27 dient der Beam redirecting regions for generating third and fourth images B3, B4 on the detector surface 12a, which are spaced apart along the Y direction. The central area 27, which does not deflect the observation radiation, serves the purpose of
Erzeugung eines zentrisch im Strahlengang der Beobachtungsstrahlung Generation of a centric in the beam path of the observation radiation
angeordneten Bildes B auf der Detektorfläche 12a, welches wie weiter oben dargestellt zur Prozessbeobachtung verwendet werden kann. Durch die Erzeugung von vier Bildern B1 , B2 bzw. B3, B4, die jeweils paarweise miteinander verglichen werden, können weitere Informationen über die Fokussierlinse 4 erhalten werden, insbesondere kann ein Hinweis auf Wellenfrontaberrationen bzw. auf arranged image B on the detector surface 12a, which as shown above can be used for process observation. By generating four images B1, B2 and B3, B4, which are compared in pairs with each other, more information about the focusing lens 4 can be obtained, in particular, an indication of wavefront aberrations or on
unterschiedliche thermische Belastungen in den beiden Richtungen (X bzw. Y) erhalten werden. Auch kann ggf. eine vergleichende Auswertung von dreien oder von allen vier Bildern B1 , B2 bzw. B3, B4 in der Auswerteeinrichtung 19 erfolgen, um die Signifikanz der Korrelation und damit die Präzision bei der Bestimmung der different thermal loads in the two directions (X and Y) are obtained. Also, if necessary, a comparative evaluation of three or all four images B1, B2 or B3, B4 in the evaluation device 19 can take place in order to determine the significance of the correlation and thus the precision in the determination of the correlation
Fokusposition F, F', F" zu erhöhen. Focusing position F, F ', F "increase.
Bei der in Fig. 6a, b gezeigten Ausführungsform ergibt sich insgesamt eine In the embodiment shown in Fig. 6a, b results in a total of
annäherungsweise konvexe Geometrie des Umlenkprismas. Das in Fig. 7a,b Approximately convex geometry of the deflection prism. That in Fig. 7a, b
dargestellte Umlenkprisma 26 unterscheidet sich von dem in Fig. 6a, b gezeigten lediglich dadurch, dass dieses eine im Wesentlichen konkave Geometrie aufweist, wodurch sich die Zuordnung der Bilder B1 , B2 zu den Teilstrahlen 7a, 7b des shown deflecting prism 26 differs from that shown in Fig. 6a, b only in that it has a substantially concave geometry, whereby the assignment of the images B1, B2 to the partial beams 7a, 7b of
Beobachtungsstrahlengangs 7 umkehrt und der in Fig. 1 gezeigten Zuordnung entspricht. Die Zuordnung der Teilstrahlen bzw. der Strahlenbündel des
Beobachtungsstrahlengangs 7 zu den Bildern B1 , B2 bzw. B3, B4 ist bei der Observation beam path 7 is reversed and corresponds to the assignment shown in Fig. 1. The assignment of the partial beams or the beam of the Observation beam 7 to the images B1, B2 and B3, B4 is in the
Identifikation der Richtung der Änderung der Fokusposition F bzw. F', F" (auf das Werkstück 3 zu bzw. von diesem weg) zu berücksichtigen. Ein weiteres Ausführungsbeispiel einer Abbildungsoptik mit einer Strahl- Umlenkeinrichtung 26, die in Form von zwei Spiegeln mit Strahlumlenkbereichen in Form von planen Spiegelflächen 26a, 26b ausgebildet ist, ist in Fig. 8a dargestellt. Da die beiden Spiegelflächen 26a, 26b zueinander verkippt sind, wird die Identification of the direction of the change of the focus position F or F ', F "(toward and away from the workpiece 3.) Another embodiment of an imaging optics with a beam deflection device 26, which is in the form of two mirrors with beam deflection regions is formed in the form of plane mirror surfaces 26a, 26b, is shown in Fig. 8a. Since the two mirror surfaces 26a, 26b are tilted towards each other, the
auftreffende Beobachtungsstrahlung 7 in unterschiedliche Richtungen reflektiert und trifft in Form von zwei einer jeweiligen Beobachtungsrichtung R1 , R2 zugeordneten Beobachtungsstrahlen 7a, 7b an unterschiedlichen Stellen auf die Detektorfläche 12a auf, um dort ein erstes und zweites Bild B1 , B2 zu erzeugen. incident observation radiation 7 is reflected in different directions and applies in the form of two of each observation direction R1, R2 associated observation beams 7a, 7b at different locations on the detector surface 12a, there to produce a first and second image B1, B2.
Eine weitere Möglichkeit zur Erzeugung von zwei (oder mehr) Bildern B1 , B2 ist in Fig. 8b dargestellt. Dort sind im Bereich des fokussierten Another possibility for generating two (or more) images B1, B2 is shown in FIG. 8b. There are focused in the area of
Beobachtungsstrahlengangs 7 hinter einer Linse 17 zwei Blöcke 28a, 28b Observation beam 7 behind a lens 17 two blocks 28a, 28b
(planparallele Platten) aus Quarzglas angeordnet, welche zwei parallele Stirnseiten aufweisen und als Strahlversatzeinrichtung dienen. Die fokussierte (plane-parallel plates) arranged of quartz glass, which have two parallel end faces and serve as Strahlversatzeinrichtung. The focused
Beobachtungsstrahlung trifft jeweils unter einem Winkel auf die Strahleintrittsseite eines jeweiligen Blocks 28a, 28b auf und tritt unter demselben Winkel parallel versetzt an der gegenüber liegenden Strahlaustrittsseite wieder aus. Aufgrund der größeren Brechzahl im optisch dichteren Medium des Blocks 28a, 28b verläuft die Beobachtungsstrahlung im Quarzglasmaterial unter einem kleineren Winkel zur Normalenrichtung senkrecht zur Eintritts- bzw. Austrittsfläche. Der in einen jeweiligen Block 28a, 28b eintretende Teil der Beobachtungsstrahlung bildet jeweils einen einer jeweiligen Beobachtungsrichtung R1 , R2 zugeordneten Beobachtungsstrahl 7a, 7b, wobei die beiden Beobachtungsstrahlen 7a, 7b aufgrund des Strahlversatzes lateral versetzt an der Detektorfläche 12a auftreffen und dort zwei lateral zueinander verschobene Bilder B1 , B2 erzeugen. Observational radiation impinges on each of the beam entrance side of a respective block 28a, 28b at an angle and exits at the same angle offset in parallel at the opposite beam exit side again. Due to the larger refractive index in the optically denser medium of the block 28a, 28b, the observation radiation in the quartz glass material extends at a smaller angle to the normal direction perpendicular to the entrance or exit surface. The part of the observation radiation entering a respective block 28a, 28b respectively forms an observation beam 7a, 7b associated with a respective observation direction R1, R2, the two observation beams 7a, 7b laterally impinging on the detector surface 12a due to the beam offset and displaced there laterally relative to one another Create pictures B1, B2.
Bei dem in Fig. 8b gezeigten Beispiel kreuzen sich wie bei dem in Fig. 6b gezeigten Beispiel die Beobachtungsstrahlen 7a, 7b, da die Normalenrichtungen (senkrecht zur Strahleintritts- bzw. Strahlaustrittsfläche) der gegeneinander verkippten Blöcke 28a, 28b sich im Strahlengang hinter den Blöcken 28a, 28b kreuzen. Es versteht sich,
dass die Beobachtungsstrahlen 7a, 7b auch wie in Fig. 7b gezeigt verlaufen können, sofern die Blöcke 28a, 28b in entgegengesetzter Richtung zueinander verkippt werden, d.h. wenn sich deren Normalen-Richtungen im Strahlengang vor der Linse 17 schneiden. In the example shown in FIG. 8b, as in the example shown in FIG. 6b, the observation beams 7a, 7b intersect, since the normal directions (perpendicular to the beam entry or exit surface) of the mutually tilted blocks 28a, 28b are in the beam path behind the blocks 28a, 28b intersect. It goes without saying that the observation beams 7a, 7b can also run as shown in Fig. 7b, provided that the blocks 28a, 28b are tilted in opposite directions to each other, ie, when their normal directions intersect in front of the lens 17 in the beam path.
Durch vergleichende Auswertung der beiden Bilder kann auf die oben beschriebene Weise mittels der Auswerteeinrichtung 19 die Fokusposition F, F', F" des By comparing the two images, the focusing position F, F ', F "of the
Laserstrahls 2 bestimmt werden. Entsprechendes gilt selbstverständlich auch für die in Zusammenhang mit Fig. 6a, b und Fig. 7a, b beschriebenen Abbildungsoptiken 14 bzw. die mit diesen aufgenommenen Bilder B bzw. B1 bis B4. Es versteht sich, dass bei den weiter oben beschriebenen Beispielen im Strahlengang der Laser beam 2 can be determined. The same applies, of course, also to the imaging optics 14 described in conjunction with FIGS. 6a, b and 7a, b or the images B or B1 to B4 taken with them. It is understood that in the examples described above in the beam path of the
Beobachtungsstrahlung 7 zusätzlich eine oder mehrere (feststehende) Blenden vorgesehen sein können, um Teile der Beobachtungsstrahlung 7 auszublenden, die nicht zur Detektorfläche 12a gelangen sollen bzw. die nicht zur Bildung der beiden Beobachtungsstrahlen 7a, 7b benötigt werden. Observation radiation 7 in addition one or more (fixed) aperture can be provided to hide parts of the observation radiation 7, which should not reach the detector surface 12a or not required for the formation of the two observation beams 7a, 7b.
In einer nicht bildlich dargestellten Variante kann zur Bildung von zwei einer jeweiligen Beobachtungsrichtung R1 , R2 zugeordneten Beobachtungsstrahlen 7a, 7b ein Strahlteiler verwendet werden, der den Beobachtungsstrahlengang 7 anhand von mindestens einer sich über den Strahlquerschnitt verändernden Eigenschaft in zwei (oder mehr) die Beobachtungsstrahlen 7a, 7b bildende Teile aufteilt. Der Strahlteiler kann beispielsweise zur Transmission bzw. zur Reflexion eines Strahlungsanteils des Beobachtungsstrahlengangs 7 anhand der Wellenlänge, der Polarisation oder der Leistung der Beobachtungsstrahlung ausgebildet sein. Beispielsweise kann an dem Strahlteiler ein Beobachtungsstrahl 7b mit hoher Leistung, der aus der Mitte des Beobachtungsstrahlengangs 7 stammt, transmittiert und ein aus dem Randbereich des Beobachtungsstrahlengangs 7 stammender Beobachtungsstrahl 7a, der eine geringere Leistung aufweist, reflektiert werden. Fig. 9a, b zeigen eine weitere Möglichkeit zur Bildung von zwei einer jeweiligenIn a variant which is not shown in the drawing, a beam splitter can be used to form two observation beams R1, R2 associated with the respective observation direction R1, R2 using two or more observation beams 7a on the basis of at least one characteristic varying over the beam cross section , 7b dividing parts. The beam splitter can be designed, for example, for the transmission or reflection of a radiation component of the observation beam path 7 on the basis of the wavelength, the polarization or the power of the observation radiation. For example, a high-power observation beam 7b originating at the center of the observation beam path 7 can be transmitted to the beam splitter, and an observation beam 7a originating from the edge region of the observation beam path 7 and having a lower power can be reflected. Figures 9a, b show another way of forming two of each
Beobachtungsrichtung R1 , R2 zugeordneten Beobachtungsstrahlen 7a, 7b, die sich von den weiter oben beschriebenen Möglichkeiten dadurch unterscheidet, dass die Beobachtungsstrahlen 7a, 7b zeitlich aufeinander folgend gebildet werden. Wie in Fig. 9a, b gezeigt ist, ist zu diesem Zweck in der Abbildungsoptik 14 eine Blende 31
vorgesehen, die um eine zentrale Drehachse B drehbar gelagert ist, so dass sich bei der Drehung die Position einer exzentrisch angeordneten Blendenöffnung 31 a auf einem Kreisbogen um die Drehachse B bewegt. Ein jeweils durch die Observation direction R1, R2 associated observation beams 7a, 7b, which differs from the possibilities described above in that the observation beams 7a, 7b formed in temporal succession. As shown in FIGS. 9 a, b, a diaphragm 31 is for this purpose in the imaging optical system 14 provided, which is rotatably mounted about a central axis of rotation B, so that moves the position of an eccentrically arranged aperture 31 a on a circular arc about the axis of rotation B during rotation. One each by the
Blendenöffnung 31 a hindurch tretender Teil des Beobachtungsstrahlengangs 7 bildet einen Beobachtungsstrahl 7a, 7b. Durch die Anordnung der Blende 31 im mittels einer Linse 17 fokussierten Strahlengangs der Abbildungsoptik 14 werden die Beobachtungsstrahlen 7a, 7b aus unterschiedlichen, beispielsweise einander diametral gegenüber liegenden Bereichen des Beobachtungsstrahlengangs 7 zeitlich aufeinander folgend auf dieselbe Stelle auf der Detektoroberfläche 12a abgebildet. Die von der Kamera 12 nacheinander aufgenommenen Bilder können wie weiter oben beschrieben zur Bestimmung der Fokusposition F, F', F" des Laserstrahls 2 mittels der Auswerteeinrichtung 19 vergleichend ausgewertet werden. Aperture 31 a passing part of the observation beam path 7 forms an observation beam 7 a, 7 b. Due to the arrangement of the diaphragm 31 in the focused by a lens 17 beam path of the imaging optical system 14, the observation beams 7a, 7b from different, for example, diametrically opposite areas of the observation beam path 7 temporally successively imaged on the same location on the detector surface 12a. The images taken in succession by the camera 12 can be evaluated comparatively as described above for determining the focus position F, F ', F "of the laser beam 2 by means of the evaluation device 19.
Es versteht sich, dass an Stelle einer mechanisch verstellbaren Blende 31 auch eine elektrisch verstellbare Blende, beispielsweise in Form eines LCD-Arrays, verwendet werden kann, bei der einzelne Pixel oder Pixelgruppen elektronisch an- bzw. It is understood that instead of a mechanically adjustable diaphragm 31, an electrically adjustable diaphragm, for example in the form of an LCD array, can be used, in which individual pixels or groups of pixels are electronically switched on or off.
ausgeschaltet werden, um die Blendenwirkung zu erzeugen. Auch kann die mechanische Blende 31 anders als in Fig. 9a, b gezeigt quer zum be turned off to produce the aperture effect. Also, the mechanical aperture 31, unlike in Fig. 9a, b shown transversely to
Beobachtungsstrahlengang 7, beispielsweise in der XY-Ebene bewegt bzw. Observation beam 7, for example, in the XY plane moves or
verschoben werden, um zeitlich aufeinander folgend unterschiedliche Teile desbe moved to temporally successive different parts of the
Beobachtungsstrahlengangs 7 abzuschatten bzw. für die Beobachtung zu öffnen. Die Blende 31 kann auch in Form eines oder mehrerer auf- und zuklappbarer Elemente realisiert werden und es können auch mehrere Blenden hintereinander angeordnet werden, um die zeitlich aufeinander folgende Erzeugung der Bilder zu realisieren. Observation beam 7 shield or open for observation. The diaphragm 31 can also be realized in the form of one or more hinged and zuklappbarer elements and it can also be arranged in succession multiple apertures to realize the temporally successive generation of the images.
Fig. 10 zeigt ein weiteres Ausführungsbeispiel einer Vorrichtung 1 in Form eines Laserbearbeitungskopfs zur Fokussierung eines Laserstrahls 2 auf ein Werkstück 3, welche sich von der in Fig. 1 gezeigten Vorrichtung 1 im Wesentlichen dadurch unterscheidet, dass von der Kamera 12 nur ein einziges Bild B1 des zu 10 shows a further exemplary embodiment of a device 1 in the form of a laser processing head for focusing a laser beam 2 on a workpiece 3, which essentially differs from the device 1 shown in FIG. 1 in that only a single image B1 from the camera 12 to
überwachenden Bereichs 15 bzw. der die Referenzkontur bildenden Innenkontur 5b der Laserbearbeitungsdüse 5 aufgenommen wird. Zu diesem Zweck wird von der Bilderfassungseinrichtung 9 mittels einer Blende 31 ein (einziger) monitoring area 15 and the reference contour forming inner contour 5b of the laser processing nozzle 5 is received. For this purpose, from the image capture device 9 by means of a shutter 31 a (single)
Beobachtungsstrahl 7a gebildet, der mittels der Abbildungsoptik 14, die im gezeigten Beispiel zwei Linsen 17a, 17b in einer Teleskopanordnung zur Anpassung des
Strahlquerschnitts des Beobachtungsstrahls 7a an die Detektorfläche 12a der Kamera 12 aufweist, um das Bild B1 an der Detektorfläche 12a sowie ggf. zusätzlich ein höher aufgelöstes Bild aus einer Beobachtungsrichtung R koaxial zum Observation beam 7a formed by means of the imaging optics 14, in the example shown, two lenses 17a, 17b in a telescope arrangement for adjusting the Beam cross-section of the observation beam 7a to the detector surface 12a of the camera 12 to the image B1 on the detector surface 12a and possibly additionally a higher-resolution image from an observation direction R coaxial with
Hochenergiestrahl 2 zu erzeugen, wie dies weiter oben im Zusammenhang mit Fig. 1 beschrieben wurde. To generate high energy beam 2, as described above in connection with FIG. 1.
Wie in Fig. 11a,b zu erkennen ist, welche das Bild B1 , genauer gesagt einen As can be seen in Fig. 11a, b, which the image B1, more precisely a
Ausschnitt der Detektorfläche 12a, bei unterschiedlichen Fokuspositionen F, F' des Laserstrahls 2 zeigen, verändert sich bei einer Änderung der Fokusposition F, F' auch die Position P, P' der die Referenzkontur bildenden Innenkontur 5b der Section of the detector surface 12a, show at different focus positions F, F 'of the laser beam 2, changes in a change of the focus position F, F' and the position P, P 'of the reference contour forming inner contour 5b of
Laserbearbeitungsdüse 5 innerhalb des Bildes B1 bzw. auf der Detektorfläche 12a. Laser processing nozzle 5 within the image B1 and on the detector surface 12a.
Bei der in Fig. 1 1 a gezeigten Darstellung befindet sich die Fokusposition F des Laserstrahls 2 an der Oberseite 3a des Werkstücks 3, was im vorliegenden Beispiel der Soll-Fokusposition entspricht. Bei der in Fig. 1 1 b gezeigten Darstellung befindet sich die Fokusposition F' des Laserstrahls 2 oberhalb der Oberseite 3a des In the illustration shown in FIG. 11a, the focus position F of the laser beam 2 is located on the upper side 3a of the workpiece 3, which in the present example corresponds to the desired focus position. In the illustration shown in FIG. 11 b, the focus position F 'of the laser beam 2 is located above the upper side 3a of FIG
Werkstücks 3 und die Position P' der Innenkontur 5b ist lateral (in negativer Y- Richtung) gegenüber der in Fig. 1 1 a gezeigten Position P versetzt. Der Betrag des lateralen Versatzes zwischen den Positionen P, P' in dem aufgenommenen Bild B1 hängt vom Abstand der Fokusposition F' vom Werkstück 3 ab. Der laterale Versatz nimmt mit zunehmendem Abstand zwischen der Fokusposition F' und dem Workpiece 3 and the position P 'of the inner contour 5b is offset laterally (in the negative Y direction) relative to the position P shown in FIG. 11a. The amount of the lateral offset between the positions P, P 'in the captured image B1 depends on the distance of the focus position F' from the workpiece 3. The lateral offset increases with increasing distance between the focus position F 'and the
Werkstück 3 zu, so dass dieser Versatz ein Maß für die Abweichung der Workpiece 3 too, so that this offset is a measure of the deviation of
Fokusposition F' von der Soll-Fokusposition F an der Oberseite 3a des Werkstücks 3 darstellt. Der laterale Versatz lässt sich z.B. mittels einer Korrelation des Focus position F 'of the target focus position F at the top 3a of the workpiece 3 represents. The lateral offset can be e.g. by means of a correlation of the
aufgenommenen Bildes B1 mit einem Referenzbild bestimmen, das bei der gewünschten Soll-Fokusposition F aufgenommen wurde. Alternativ kann der laterale Versatz dadurch bestimmt werden, dass in dem aufgenommenen Bild B1 und dem Referenzbild eine charakteristische Position, beispielsweise der geometrische Schwerpunkt oder ein spezifisches Geometriemerkmal, z.B. eine Objektkante, ermittelt wird. Die Positionsabweichung zwischen den charakteristischen Positionen in den beiden Bildern kann durch Vergleich bestimmt werden und entspricht dem lateralen Versatz.
Ob bei einer Verschiebung der Fokusposition F' in Richtung auf den captured image B1 with a reference image that was taken at the desired target focus position F. Alternatively, the lateral offset can be determined by determining a characteristic position, for example the geometric center of gravity or a specific geometric feature, eg an object edge, in the captured image B1 and the reference image. The positional deviation between the characteristic positions in the two images can be determined by comparison and corresponds to the lateral offset. Whether with a shift of the focus position F 'in the direction of the
Laserbearbeitungskopf 1 die Verschiebung der Innenkontur 5b der Laser processing head 1, the displacement of the inner contour 5b of
Laserbearbeitungsdüse 5 in dem aufgenommenen Bild B1 in positiver oder in negativer Y-Richtung erfolgt, hängt von dem für die Erzeugung des Bildes B1 verwendeten Abbildungsprinzip ab. Die Zuordnung zwischen der Richtung des lateralen Versatzes der Innenkontur 5b und der Richtung der Verschiebung der Fokusposition F ist für ein gegebenes Abbildungsprinzip eindeutig, so dass anhand der Richtung des lateralen Versatzes auf die Richtung der Verschiebung der Laser processing nozzle 5 takes place in the captured image B1 in the positive or in the negative Y-direction, depends on the imaging principle used for the generation of the image B1. The relationship between the direction of the lateral offset of the inner contour 5b and the direction of displacement of the focus position F is unique for a given imaging principle, so that, based on the direction of the lateral offset on the direction of displacement
Fokusposition F geschlossen werden kann. Focus position F can be closed.
Wie in Fig. 10 angedeutet ist, kann die Blende 31 verschiebbar ausgebildet sein und für die Steuerung der Verschiebung mit der Auswerteeinrichtung 19 und/oder mit der Steuer-/Regeleinrichtung 20 in signaltechnischer Verbindung stehen. Durch die Verschiebung der Blende 31 kann der Teilbereich der Fokussierlinse 4 eingestellt werden, der vom Beobachtungsstrahl 7a durchlaufen wird, wodurch die As indicated in Fig. 10, the aperture 31 may be formed slidably and stand for the control of the displacement with the evaluation device 19 and / or with the control / regulating device 20 in signal communication. By shifting the diaphragm 31, the portion of the focusing lens 4 can be adjusted, which is traversed by the observation beam 7 a, whereby the
Beobachtungsrichtung R1 bzw. der Beobachtungswinkel verändert werden kann, was sich für bestimmte Anwendungen als vorteilhaft herausgestellt hat. Observation direction R1 and the observation angle can be changed, which has been found to be advantageous for certain applications.
Auch bei der in Fig. 10 gezeigten Vorrichtung 1 kann mit Hilfe der Steuer- /Regeleinrichtung 20 auf ein weiteres im Strahlengang des Laserstrahls 2 Also in the case of the apparatus 1 shown in FIG. 10, with the aid of the control / regulating device 20, another can be arranged in the beam path of the laser beam 2
angeordnetes optisches Element, das eine Strahlformung bzw. Fokusanpassung bewirkt, in diesem Falle einen adaptiven Umlenkspiegel 21 , genauer gesagt auf dessen optische Oberfläche 21 a, eingewirkt werden, um die Fokusposition F bzw. F' in Strahlausbreitungsrichtung 13 des Laserstrahls 2 an eine Soll-Fokusposition zu regeln. Auch eine Einwirkung auf andere optische Elemente, welche eine arranged optical element which causes a beam shaping or focus adjustment, in this case, an adaptive deflection mirror 21, more precisely on the optical surface 21 a, acted to the focal position F and F 'in the beam propagation direction 13 of the laser beam 2 to a target To fix focus position. Also, an effect on other optical elements which a
Strahlformung bzw. Fokusanpassung ermöglichen, beispielsweise eine Linse mit variabler Brennweite (z.B. eine Flüssiglinse) oder eine in der Position im Beam shaping or focus adjustment, for example, a variable focal length lens (e.g., a liquid lens) or one in the position in
Strahlengang verschiebbare Linse ist möglich. Anhand des lateralen Versatzes der Innenkontur 5b oder aus dem Betrag der für die Fokuskorrektur bzw. die Regelung der Fokuslage der Abbildungsoptik 14 erforderlichen Verschiebung der Linse 17a bzw. der Linse 17b kann auf eine Verschiebung der Fokusposition F, F', F" des Laserstrahls 2 geschlossen werden, welche steuernd im Laserstrahl 2 korrigiert werden kann.
Die Steuer-/Regelungseinrichtung 20 kann auch zur Regelung der Fokuslage der Abbildungsoptik 14 dienen, indem diese auf eine Verschiebeeinrichtung 32 zur Verschiebung der Linsen 17a, 17b in Strahlrichtung 13 des Laserstrahls 2 einwirkt, wie weiter oben im Zusammenhang mit Fig. 1 beschrieben wurde. Auf diese Weise kann sichergestellt werden, dass die Oberfläche 3a des Werkstücks 3 stets scharf auf die Detektorfläche 12a abgebildet wird. Beam path sliding lens is possible. On the basis of the lateral offset of the inner contour 5b or from the amount of the required for the focus correction or the control of the focus position of the imaging optics 14 displacement of the lens 17a and the lens 17b may be on a shift of the focus position F, F ', F "of the laser beam. 2 be closed, which can be corrected in the laser beam 2 controlling. The control / regulating device 20 can also be used to control the focus position of the imaging optics 14 by acting on a displacement device 32 for displacement of the lenses 17a, 17b in the beam direction 13 of the laser beam 2, as described above in connection with FIG. In this way it can be ensured that the surface 3a of the workpiece 3 is always imaged sharply on the detector surface 12a.
Zusammenfassend kann auf die oben beschriebene Weise die Fokusposition F bzw. F', F" des Laserstrahls 2 während der Werkstückbearbeitung bestimmt und falls erforderlich korrigiert werden. Befindet sich die Soll-Fokusposition F an der Oberseite 3a des Werkstücks 3, ist bei einer entsprechenden Regelung der Fokusposition sichergestellt, dass das Werkstück 3 sich in der Brennebene der Fokussierlinse 4 befindet. Neben der Verbesserung der Prozessqualität kann bei entsprechender Regelung der Fokusposition der Abbildungsoptik 14 auch das zentrisch In summary, in the manner described above, the focus position F or F ', F "of the laser beam 2 during workpiece machining can be determined and corrected if necessary the focus position ensures that the workpiece 3 is located in the focal plane of the focusing lens 4. In addition to the improvement of the process quality, with appropriate control of the focus position of the imaging optics 14 and the centric
aufgenommene Bild B der Oberfläche 3a des Werkstücks 3, welches der taken picture B of the surface 3a of the workpiece 3, which is the
Prozessbeobachtung dient, durch die Fokussierlinse 4„scharf", d.h. ohne Process observation serves "sharply" through the focusing lens 4, i.e. without
Defokussierung, abgebildet werden, wodurch die Prozessbeobachtung verbessert wird.
Defocussing, thereby improving process observation.
Claims
1 . Vorrichtung (1 ) zur Bestimmung einer Fokusposition (F, F',F") eines 1 . Device (1) for determining a focus position (F, F ', F ") of a
Hochenergiestrahls (2), insbesondere eines Laserstrahls, in Strahlrichtung (13) des Hochenergiestrahls (2) relativ zu einem Werkstück (3) und/oder relativ zu einer Referenzkontur (5b) der Vorrichtung (1 ), umfassend: High-energy beam (2), in particular a laser beam, in the beam direction (13) of the high-energy beam (2) relative to a workpiece (3) and / or relative to a reference contour (5b) of the device (1), comprising:
ein Fokussierelement (4) zur Fokussierung des Hochenergiestrahls (2) auf das Werkstück (3), a focusing element (4) for focusing the high-energy beam (2) onto the workpiece (3),
eine Bilderfassungseinrichtung (9) zur Erfassung eines zu überwachenden Bereichs (15) an der Oberfläche (3a) des Werkstücks (3) und/oder der an image detection device (9) for detecting a region (15) to be monitored on the surface (3a) of the workpiece (3) and / or the
Referenzkontur (5b) mittels eines durch das Fokussierelement (4) hindurch verlaufenden Beobachtungsstrahlengangs (7), wobei die Reference contour (5b) by means of a through the focusing element (4) extending observation beam path (7), wherein the
Bilderfassungseinrichtung (9) zur Bildung mindestens eines Beobachtungsstrahls (7a) ausgebildet ist, der einer nicht koaxial zum Hochenergiestrahl (2) Image detection device (9) is designed to form at least one observation beam (7a) which is not coaxial with the high-energy beam (2).
verlaufenden Beobachtungsrichtung (R1 ) zugeordnet ist und eine Abbildungsoptik (14) zur Erzeugung mindestens eines Bildes (B1 ) des zu überwachenden is associated with extending observation direction (R1) and an imaging optics (14) for generating at least one image (B1) of the monitored
Bereichs (15) und/oder der Referenzkontur (5b) aus der mindestens einen Beobachtungsrichtung (R1 ) umfasst, sowie Area (15) and / or the reference contour (5b) from the at least one observation direction (R1) includes, as well as
eine Auswerteeinrichtung (19) zur Bestimmung der Fokusposition (F, F\ F") in Strahlrichtung (13) des Hochenergiestrahls (2) durch Auswertung des mindestens einen aufgenommenen Bildes (B1 ). an evaluation device (19) for determining the focus position (F, F \ F ") in the beam direction (13) of the high-energy beam (2) by evaluating the at least one recorded image (B1).
2. Vorrichtung nach Anspruch 1 , bei der die Auswerteeinrichtung (19) ausgebildet ist, die Fokusposition (F, F', F") in Strahlrichtung (13) des Hochenergiestrahls (2) anhand einer Position (P, P') der Referenzkontur (5b) in dem mindestens einen aufgenommenen Bild (B1 ) zu bestimmen. 2. Apparatus according to claim 1, wherein the evaluation device (19) is formed, the focus position (F, F ', F ") in the beam direction (13) of the high-energy beam (2) based on a position (P, P') of the reference contour ( 5b) in the at least one recorded image (B1).
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 , bei der die Bilderfassungseinrichtung (9) zur 3. Device according to claim 1, wherein the image capture device (9) for
Bildung mindestens eines weiteren Beobachtungsstrahls (7b) ausgebildet ist, der einer weiteren Beobachtungsrichtung (R2; R) zugeordnet ist, wobei die Forming at least one further observation beam (7b) is formed, which is associated with a further observation direction (R2; R), wherein the
Abbildungsoptik (14) zur Erzeugung von mindestens zwei Bildern (B1 , B2; B3, B4) des zu überwachenden Bereichs (15) und/oder der Referenzkontur (5b) aus
2 Imaging optics (14) for generating at least two images (B1, B2, B3, B4) of the area to be monitored (15) and / or the reference contour (5b) 2
WO 2014/191061 PCT/EP2013/069029 den mindestens zwei unterschiedlichen Beobachtungsrichtungen (R1 , R2) ausgebildet ist, und wobei WO 2014/191061 PCT / EP2013 / 069029 the at least two different observation directions (R1, R2) is formed, and wherein
die Auswerteeinrichtung (19) zur Bestimmung der Fokusposition (F, F', F") des Hochenergiestrahls (2) durch vergleichende Auswertung der aufgenommenen Bilder (B1 , B2; B3, B4) ausgebildet ist. the evaluation device (19) for determining the focus position (F, F ', F ") of the high-energy beam (2) is formed by comparative evaluation of the recorded images (B1, B2; B3, B4).
4. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, welche eine 4. Device according to one of the preceding claims, which is a
Beleuchtungsquelle (10) zur Beleuchtung der Oberseite (3a) des Werkstücks (3) insbesondere in dem zu überwachenden Bereich (15) und/oder zur Beleuchtung der Referenzkontur (5b) aufweist. Lighting source (10) for illuminating the upper side (3a) of the workpiece (3) in particular in the area to be monitored (15) and / or for illuminating the reference contour (5b).
5. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei welcher der 5. Device according to one of the preceding claims, wherein the
Beobachtungsstrahlengang (7) der Bilderfassungseinrichtung (9) zur Erfassung des zu überwachenden Bereichs (15) an der Oberfläche (3a) des Werkstücks (3) einen Bilderfassungsbereich (5a) aufweist, der von der Referenzkontur(5b) begrenzt ist. Observation beam (7) of the image capture device (9) for detecting the area to be monitored (15) on the surface (3a) of the workpiece (3) has an image detection area (5a) which is bounded by the reference contour (5b).
6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 bis 5, bei welcher die 6. Device according to one of claims 3 to 5, wherein the
Auswerteeinrichtung (19) zur Bestimmung der Fokusposition (F, F', F") des Hochenergiestrahls (2) relativ zum Werkstück (3) durch vergleichende Evaluation device (19) for determining the focus position (F, F ', F ") of the high-energy beam (2) relative to the workpiece (3) by comparing
Auswertung der Bilder (B1 , B2; B3, B4) der Oberfläche (3a) des Werkstücks (3) in dem zu überwachenden Bereich (15) ausgebildet ist. Evaluation of the images (B1, B2, B3, B4) of the surface (3a) of the workpiece (3) in the area to be monitored (15) is formed.
7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 bis 6, bei welcher die Abbildungsoptik (14) mindestens zwei einer jeweiligen Beobachtungsrichtung (R1 , R2) 7. Device according to one of claims 3 to 6, wherein the imaging optics (14) at least two of a respective observation direction (R1, R2)
zugeordnete abbildende optische Elemente (22, 16a, 16b) aufweist. associated imaging optical elements (22, 16a, 16b).
8. Vorrichtung nach Anspruch 7, bei welcher die abbildenden optischen Elemente als Zylinderlinsen (22, 16a, 16b) ausgebildet sind. 8. Apparatus according to claim 7, wherein the imaging optical elements as cylindrical lenses (22, 16 a, 16 b) are formed.
9. Vorrichtung nach Anspruch 7 oder 8, bei welcher die abbildenden optischen 9. Apparatus according to claim 7 or 8, wherein the imaging optical
Elemente (22) ein Linsenarray (24) bilden. Elements (22) form a lens array (24).
10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 bis 9, bei welcher die Abbildungsoptik
3 10. Device according to one of claims 3 to 9, wherein the imaging optics 3
WO 2014/191061 PCT/EP2013/069029 WO 2014/191061 PCT / EP2013 / 069029
(14) eine Umlenkeinrichtung (26) mit mindestens zwei einer jeweiligen (14) a deflecting device (26) with at least two of a respective one
Beobachtungsrichtung (R1 , R2, ...) zugeordneten Strahlumlenkbereichen (26a, 26b; 26c, 26d) aufweist. Observation direction (R1, R2, ...) associated Strahlumlenkbereichen (26a, 26b, 26c, 26d).
11. Vorrichtung nach Anspruch 10, bei welcher die Umlenkeinrichtung mindestens ein Umlenkprisma (26) aufweist. 11. The device according to claim 10, wherein the deflection device has at least one deflecting prism (26).
12. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 bis 11 , bei welcher die 12. Device according to one of claims 3 to 11, wherein the
Bilderfassungseinrichtung (9) zur Bildung der mindestens zwei einer jeweiligen Beobachtungsrichtung (R1 , R2; R1 , R) zugeordneten Beobachtungsstrahlen (7a, 7b) eine Strahlversatzeinrichtung (28a, 28b) aufweist. Image capture device (9) for forming the at least two observation beams (7a, 7b) associated with a respective observation direction (R1, R2; R1, R) has a beam offset device (28a, 28b).
13. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 bis 12, bei welcher die 13. Device according to one of claims 3 to 12, wherein the
Bilderfassungseinrichtung (9) zur Bildung der mindestens zwei einer jeweiligen Beobachtungsrichtung (R1 , R2; R1 , R) zugeordneten Beobachtungsstrahlen (7a, 7b) zu unterschiedlichen Zeitpunkten ausgebildet ist. Image capture device (9) for forming the at least two observation beams (7a, 7b) associated with a respective observation direction (R1, R2, R1, R) is formed at different times.
14. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 bis 13, bei welcher die 14. Device according to one of claims 3 to 13, wherein the
Bilderfassungseinrichtung (9) zur Bildung der mindestens zwei einer jeweiligen Beobachtungsrichtung (R1 , R2; R1 , R) zugeordneten Beobachtungsstrahlen (7a, 7b) mindestens eine Blende (31 ) aufweist. Image detection device (9) for forming the at least two observation beams (7a, 7b) associated with a respective observation direction (R1, R2, R1, R) has at least one diaphragm (31).
15. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 bis 14, bei welcher die Abbildungsoptik (14) zur Erzeugung von mindestens drei Bildern (B1 , B2; B3, B4) des zu überwachenden Bereichs (15) und/oder der Referenzkontur (5b) aus 15. Device according to one of claims 3 to 14, wherein the imaging optics (14) for generating at least three images (B1, B2, B3, B4) of the area to be monitored (15) and / or the reference contour (5b) from
unterschiedlichen Beobachtungsrichtungen (R1 , R2, ...) ausgebildet ist. different observation directions (R1, R2, ...) is formed.
16. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei der die 16. Device according to one of the preceding claims, wherein the
Abbildungsoptik (14) ein abbildendes optisches Element (18) zur Erzeugung eines Bildes (B) des zu überwachenden Bereichs (15) an der Oberfläche (3a) des Werkstücks (3) aus einer Beobachtungsrichtung (R) koaxial zum Imaging optics (14) an imaging optical element (18) for generating an image (B) of the area to be monitored (15) on the surface (3a) of the workpiece (3) from an observation direction (R) coaxial with
Hochenergiestrahl (2) aufweist. High energy beam (2).
17. Vorrichtung nach Anspruch 16, bei der die Auswerteeinrichtung (19) zur 17. The apparatus of claim 16, wherein the evaluation device (19) for
vergleichenden Auswertung des koaxial zum Hochenergiestrahl (2)
4 comparative evaluation of the coaxial to the high energy beam (2) 4
WO 2014/191061 PCT/EP2013/069029 aufgenommenen Bildes (B) und mindestens eines nicht koaxial zum WO 2014/191061 PCT / EP2013 / 069029 recorded image (B) and at least one non-coaxial with the
Hochenergiestrahl (2) aufgenommenen Bildes (B1 bis B4) ausgebildet ist. High-energy beam (2) recorded image (B1 to B4) is formed.
18. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei welcher die 18. Device according to one of the preceding claims, wherein the
Bilderfassungseinrichtung (9) zur Aufnahme des mindestens einen Bildes (B1 bis B4, B) durch eine Düsenöffnung (5a) einer Laserbearbeitungsdüse (5) zum Durchtritt des Laserstrahls (2) auf das Werkstück (3) ausgebildet ist. Image detection means (9) for receiving the at least one image (B1 to B4, B) through a nozzle opening (5a) of a laser processing nozzle (5) for passage of the laser beam (2) on the workpiece (3) is formed.
19. Vorrichtung nach Anspruch 18, bei welcher eine Düseninnenkontur (5b) der 19. The apparatus of claim 18, wherein a nozzle inner contour (5 b) of the
Laserbearbeitungsdüse (5) die Referenzkontur bildet. Laser processing nozzle (5) forms the reference contour.
20. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei welcher die 20. Device according to one of the preceding claims, in which the
Bilderfassungseinrichtung (9) mindestens einen Detektor, insbesondere eine Kamera (12), mit einer Detektorfläche (12a) aufweist, an der das mindestens eine Bild (B1 bis B4, B) erzeugt wird. Image capture device (9) has at least one detector, in particular a camera (12), with a detector surface (12a) on which the at least one image (B1 to B4, B) is generated.
21.Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 bis 20, bei welcher die 21.Vorrichtung according to one of claims 3 to 20, wherein the
Auswerteeinrichtung (19) ausgebildet ist, durch vergleichende Auswertung der aufgenommenen Bilder (B1 bis B4, B) einen Abstand (D) zwischen der Evaluation device (19) is formed by a comparative evaluation of the recorded images (B1 to B4, B) a distance (D) between the
Referenzkontur (5a) und der Oberseite (3a) des Werkstücks (3) zu bestimmen. Reference contour (5a) and the top (3a) of the workpiece (3) to determine.
22. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, weiter umfassend: eine Einrichtung (21) zur Veränderung der Fokusposition (F, F\ F") des 22. Device according to one of the preceding claims, further comprising: means (21) for changing the focus position (F, F \ F ") of the
Hochenergiestrahls (2) in Strahlrichtung (13), sowie High energy beam (2) in the beam direction (13), as well
eine Steuer- und/oder Regeleinrichtung (20) zur Steuerung und/oder Regelung der Fokusposition (F', F") des Hochenergiestrahls (2) an eine Soll-Fokusposition (F). a control and / or regulating device (20) for controlling and / or regulating the focus position (F ', F ") of the high-energy beam (2) to a desired focus position (F).
23. Vorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, weiter umfassend: eine Einrichtung (32) zur Veränderung der Fokusposition (F, F', F") der 23. Device according to one of the preceding claims, further comprising: means (32) for changing the focus position (F, F ', F') of the
Abbildungsoptik (14) in Strahlrichtung (13) des Hochenergiestrahls (2), sowie eine Steuer- und/oder Regeleinrichtung (20) zur Steuerung und/oder Regelung der Fokusposition (F1, F") der Abbildungsoptik (14) an eine Soll-Fokusposition (F).
5 Imaging optics (14) in the beam direction (13) of the high-energy beam (2), and a control and / or regulating device (20) for controlling and / or regulating the focus position (F 1 , F ") of the imaging optics (14) to a target Focus position (F). 5
WO 2014/191061 PCT/EP2013/069029 WO 2014/191061 PCT / EP2013 / 069029
24. Verfahren zum Bestimmen einer Fokusposition (F, F\ F") eines 24. Method for determining a focus position (F, F \ F ") of a
Hochenergiestrahls (2), insbesondere eines Laserstrahls, in Strahlrichtung (13) des Hochenergiestrahls (2) relativ zu einem Werkstück (3) und/oder relativ zu einer Referenzkontur (5b) einer Vorrichtung (1 ), die ein Fokussierelement (4) zur Fokussierung des Hochenergiestrahls (2) auf das Werkstück (3) aufweist, umfassend: High-energy beam (2), in particular a laser beam, in the beam direction (13) of the high-energy beam (2) relative to a workpiece (3) and / or relative to a reference contour (5b) of a device (1) having a focusing element (4) for focusing of the high energy beam (2) on the workpiece (3), comprising:
Erfassen eines zu überwachenden Bereichs (15) an der Oberfläche (3a) des Werkstücks (3) und/oder der Referenzkontur (5b) mittels eines durch das Fokussierelement (4) hindurch verlaufenden Beobachtungsstrahlengangs (7), Erzeugen mindestens eines Bildes (B1 bis B4) des zu überwachenden Bereichs (15) und/oder der Referenzkontur (5b) durch Bilden mindestens eines Detecting a region (15) to be monitored on the surface (3a) of the workpiece (3) and / or the reference contour (5b) by means of an observation beam path (7) passing through the focusing element (4), generating at least one image (B1 to B4 ) of the area to be monitored (15) and / or the reference contour (5b) by forming at least one
Beobachtungsstrahls (7a), der einer nicht koaxial zum Hochenergiestrahl (2) verlaufenden Beobachtungsrichtung (R1 ) zugeordnet ist, sowie Observation beam (7a) associated with a non-coaxial to the high energy beam (2) extending observation direction (R1), and
Bestimmen der Fokusposition (F, F', F") in Strahlrichtung (13) des Determining the focus position (F, F ', F ") in the beam direction (13) of
Hochenergiestrahls (2) durch Auswerten des mindestens einen aufgenommenen Bildes (B1 ). High energy beam (2) by evaluating the at least one recorded image (B1).
25. Verfahren nach Anspruch 24, bei dem die Fokusposition (F, F\ F") in 25. The method of claim 24, wherein the focus position (F, F \ F ") in
Strahlrichtung (13) des Hochenergiestrahls (2) anhand einer Position (P, P') der Referenzkontur (5b) in dem mindestens einen aufgenommenen Bild (B1 ) bestimmt wird. Beam direction (13) of the high energy beam (2) based on a position (P, P ') of the reference contour (5b) in the at least one recorded image (B1) is determined.
26. Verfahren nach Anspruch 24, bei dem mindestens ein weiterer, einer weiteren Beobachtungsrichtung (R2; R) zugeordneter Beobachtungsstrahl (7b) gebildet wird, um mindestens zwei Bilder (B1 bis B4) des zu überwachenden Bereichs (15) und/oder der Referenzkontur (5b) aus mindestens zwei unterschiedlichen Beobachtungsrichtungen (R1 , R2) zu erzeugen, wobei die Fokusposition (F, F', F") des Hochenergiestrahls (2) durch vergleichendes Auswerten der 26. Method according to claim 24, wherein at least one further observation beam (7b) assigned to a further observation direction (R2; R) is formed by at least two images (B1 to B4) of the area to be monitored (15) and / or the reference contour (5b) from at least two different observation directions (R1, R2) to produce, wherein the focus position (F, F ', F ") of the high energy beam (2) by comparative evaluation of
aufgenommenen Bilder (B1 , B2; B3, B4) bestimmt wird. recorded images (B1, B2, B3, B4) is determined.
27. Computerprogrammprodukt, welches Codemittel aufweist, die zur Durchführung aller Schritte des Verfahrens nach einem der Ansprüche 24 bis 26 angepasst sind, wenn das Computerprogramm auf einer Datenverarbeitungsanlage abläuft.
27. Computer program product having code means adapted to perform all steps of the method according to any one of claims 24 to 26, when the computer program runs on a data processing system.
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