WO2014002364A1 - 液体中の元素分析装置 - Google Patents

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WO2014002364A1
WO2014002364A1 PCT/JP2013/003077 JP2013003077W WO2014002364A1 WO 2014002364 A1 WO2014002364 A1 WO 2014002364A1 JP 2013003077 W JP2013003077 W JP 2013003077W WO 2014002364 A1 WO2014002364 A1 WO 2014002364A1
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WO
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electrode
bubble
liquid
bubbles
light
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PCT/JP2013/003077
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English (en)
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裕典 熊谷
今井 伸一
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パナソニック株式会社
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/28Investigating the spectrum
    • G01J3/443Emission spectrometry
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/62Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
    • G01N21/66Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light electrically excited, e.g. electroluminescence
    • G01N21/67Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light electrically excited, e.g. electroluminescence using electric arcs or discharges
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
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    • G01N21/69Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light electrically excited, e.g. electroluminescence specially adapted for fluids, e.g. molten metal

Definitions

  • the present invention relates to an apparatus for analyzing elements present in a liquid by generating plasma in the liquid.
  • Patent Documents 1 to 3 Conventional elemental analyzers in liquids using plasma are described in Patent Documents 1 to 3. In any document, a method is disclosed in which elemental analysis is performed by detecting light emission derived from an element in a liquid caused by the action of plasma.
  • Patent Documents 1 to 3 use different plasma forming methods.
  • Patent Document 1 in a finely processed flow path, more specifically, in a flow path in which a narrow portion having a cross-sectional area significantly smaller than the cross-sectional area of the flow path is provided in a flow path formed of an insulating material.
  • Plasma is generated by applying an electric field to.
  • Patent Document 2 plasma is generated by performing so-called water discharge.
  • Patent Document 3 plasma is generated by laser irradiation.
  • An object of the present invention is to provide an elemental analysis apparatus in a liquid that enables simple and highly sensitive elemental analysis.
  • One embodiment of the present invention includes a first electrode at least part of which is disposed in a treatment tank containing a liquid, a second electrode at least part of which is disposed in the treatment tank, and the inside of the treatment tank.
  • a bubble generating unit that generates bubbles in the liquid when the liquid is put into the liquid, and at least a surface of the first electrode located in the treatment tank, the surface of which the conductor is exposed.
  • a bubble generation unit that generates the bubbles so as to be located in the bubble, and a gas supply device that supplies the bubble generation unit with an amount of gas necessary to generate the bubbles from the outside of the processing tank;
  • a power source for applying a voltage between the first electrode and the second electrode, and a photodetector for measuring an emission spectrum of plasma generated when the voltage is applied, At least part of the tank is optically transparent From the emission spectrum of the light detecting device is measured, an elemental analysis apparatus for carrying out the qualitative or quantitative analysis of components contained in the liquid to be taken into the processing bath.
  • elemental analysis contained in a liquid can be performed with higher sensitivity. Furthermore, it is possible to provide an element analysis apparatus in a liquid that is excellent in portability.
  • Embodiment 1 of this invention It is a block diagram of the elemental analyzer in Embodiment 1 of this invention. It is a spectrum figure in the Example of Embodiment 1 of this invention. It is the sectional side view which expanded the opening part vicinity of the electrode in the modification of Embodiment 1 of this invention. It is a block diagram of the elemental analyzer in Embodiment 2 of this invention. It is a block diagram of the elemental analyzer in Embodiment 3 of this invention. It is a spectrum figure at the time of using He for bubble formation. It is a block diagram of the elemental analyzer in Embodiment 4 of this invention. It is a figure explaining that the detection of plasma light changes with the attachment position of a photon detection apparatus.
  • FIG. 7 is a graph showing changes in the light emission voltage of the light receiving element of No. 3 in FIG.
  • Patent Document 1 does not disclose a method of generating plasma without using a specially processed cell, and the technique described in the document has a problem that a special cell needs to be separately prepared.
  • Patent Document 1 discloses that it is preferable to adjust the conductivity of a solution to generate plasma, particularly for a solution with low conductivity.
  • measurement preparation is complicated.
  • plasma can be generated relatively easily by performing a water discharge, but the plasma emits light mainly in the atmosphere, and the interaction with the liquid is limited to the plasma contact portion. Therefore, the plasma emission is relatively small. Therefore, the measuring apparatus described in Patent Document 2 has a problem that it is difficult to obtain sensitivity necessary for elemental analysis.
  • the analyzer described in Patent Document 3 requires a separate laser for generating plasma, and has a problem that the configuration of the apparatus becomes complicated.
  • the inventors have succeeded in generating plasma in the liquid easily by generating an air flow in the liquid. Accordingly, it is possible to generate a large plasma with a low power consumption of several tens of watts or less without requiring a liquid preconditioning for plasma discharge. And elemental analysis is possible from the emission spectrum of the plasma generated in the liquid by this method.
  • Aspect 1 of the present invention includes a first electrode at least part of which is disposed in a treatment tank containing a liquid, a second electrode at least part of which is disposed in the treatment tank, and the treatment tank.
  • a bubble generating unit that generates bubbles in the liquid when the liquid is added, and at least a surface of the first electrode that is exposed in the treatment tank is exposed on the surface.
  • a bubble generating unit that generates the bubbles so as to be located in the bubble, and a gas supply device that supplies an amount of gas necessary to generate the bubbles from the outside of the processing tank to the bubble generating unit;
  • a power source that applies a voltage between the first electrode and the second electrode; and a light detection device that measures an emission spectrum of plasma generated when the voltage is applied; At least a portion of which is optically transparent, From the emission spectrum detecting device is measured, an elemental analysis apparatus for carrying out the qualitative or quantitative analysis of components contained in the liquid to be taken into the processing bath.
  • a voltage between the first and second electrodes a gas supply device that supplies gas, a bubble generating unit that generates bubbles, and the first electrode and the second electrode.
  • An elemental analyzer comprising: a power source for applying a voltage; and a photodetection device for measuring an emission spectrum of plasma generated when the voltage is applied, At least a portion of the first electrode and at least a portion of the second electrode are immersed in a liquid at the same time;
  • the bubble generating unit supplies the gas supplied from the gas supply device into the liquid when at least a part of the first electrode is immersed in the liquid,
  • the bubbles are generated so that at least the surface where the conductor is exposed is located in the bubbles among the surfaces of the electrodes located in the liquid,
  • It is an elemental analysis device that performs qualitative or quantitative analysis of components contained in the liquid from an emission spectrum measured by the light detection device.
  • the elemental analyzer has a configuration in which at least a part of the first electrode and at least a part of the second electrode can be immersed in a liquid, and is excellent in portability. According to the elemental analysis device of this aspect, the element can be simply and without being selected at any time and place by immersing at least part of the first electrode and at least part of the second electrode in the liquid to be analyzed. Analysis can be performed.
  • Aspect 3 of the present invention is the elemental analysis apparatus according to aspect 1 or 2, further comprising a gas selection device that enables different gases to be supplied from the gas supply device.
  • the light detection device has a direction different from a traveling direction due to the buoyancy of the bubbles, for example, an angle greater than 90 degrees with respect to the traveling direction due to the buoyancy of the bubbles.
  • the elemental analysis device according to any one of aspects 1 to 3, which is disposed in a direction formed by the element.
  • the light emitted from the plasma is refracted or scattered at the interface between the bubbles and the liquid. Furthermore, since the bubbles cover the conductor portion of the first electrode and then separate and exist in the liquid for a while, the plasma light is also refracted or scattered at the interface between the separated bubbles and the liquid. Bubbles in the liquid change randomly when viewed in time series, and this change also changes the refraction or scattering of plasma light at the gas-liquid interface. For this reason, the intensity of the plasma light incident on the photodetection device fixed in advance varies, and as a result, the detection sensitivity varies.
  • the position of the photodetection device is selected so that the number of bubbles that pass through before the plasma light reaches the photodetection device is reduced. According to this aspect, it is possible to prevent or reduce the random reflection and refraction of the plasma light caused by the change in the shape, number, and distribution of bubbles existing between the plasma light and the light detection device. . Thereby, measurement sensitivity can be improved.
  • the first electrode is a hollow cylinder having an opening
  • An insulator is disposed in contact with the outer peripheral surface of the first electrode
  • the bubble generating part is for generating bubbles from the opening of the first electrode
  • the bubble generation unit is configured such that the insulator is not disposed among the surfaces of the first electrode located in the treatment tank, and the surface where the conductor is exposed is located in the bubble.
  • the elemental analysis device according to any one of aspects 1 to 4, wherein the bubbles are generated. With this configuration, plasma can be generated more easily.
  • Aspect 6 of the present invention is the elemental analysis apparatus according to aspect 5, wherein the insulator is optically transparent. With such a configuration, absorption of plasma light by the insulator can be prevented, and light can be detected efficiently.
  • Aspect 7 of the present invention is the elemental analysis apparatus according to aspect 6, wherein the insulator includes quartz. By adopting such a configuration, it is possible to prevent light absorption particularly in the ultraviolet region. In addition, an apparatus having high durability against plasma can be provided.
  • Aspect 8 of the present invention includes a bubble detection device that detects that at least a surface of the first electrode from which the conductor is exposed is located in the bubble, or detects a shape of the bubble,
  • the elemental analysis device according to aspect 1 or 2 further comprising a control device that controls any of the gas supply device, the power source, the light detection device, or a combination thereof based on a detection result of the bubble detection device.
  • a control device that controls any of the gas supply device, the power source, the light detection device, or a combination thereof based on a detection result of the bubble detection device.
  • Aspect 9 of the present invention A plurality of the light detection devices; The elemental analysis according to aspect 8, wherein the control device controls the plurality of light detection devices so that any one or more of the plurality of light detection devices detect an emission spectrum based on a detection result of the bubble detection device. Device. According to this configuration, more sensitive analysis can be performed.
  • Aspect 10 of the present invention Immersing at least a portion of the first electrode and at least a portion of the second electrode in the liquid; A voltage is applied between the first electrode and the second electrode immersed in the liquid using a power source, and a gas is supplied from a gas supply device to the bubble generation unit disposed in the liquid. Supplying bubbles to generate bubbles in the liquid, The bubble is generated so that at least a surface where the conductor is exposed is located in the bubble among the surfaces of the first electrode located in the liquid, By applying the voltage, plasma is generated in the bubbles, The emission spectrum of the plasma generated in the bubbles is measured with a light detection device, and from the emission spectrum, qualitative or quantitative analysis of the components contained in the liquid put in the treatment tank is performed. Elemental analysis method.
  • Aspect 11 of the present invention is the elemental analysis method according to aspect 10, further comprising disposing the photodetecting device in a direction different from the traveling direction due to the buoyancy of the bubbles when viewed from the first electrode.
  • This elemental analysis method is performed using, for example, the elemental analysis apparatus according to aspect 2, and the position of the light detection apparatus is selected so that the number of bubbles interposed before the plasma light reaches the light detection apparatus is reduced. Including that. According to this method, elemental analysis can be performed with higher measurement sensitivity.
  • Aspect 12 of the present invention The element analysis method according to aspect 10 or 11, further comprising: selecting a gas to be supplied to the bubble generation unit from a plurality of gases; and supplying the selected gas from the gas supply device to the bubble generation unit.
  • This elemental analysis method is performed using, for example, the elemental analysis apparatus according to aspect 3.
  • FIG. 1 is a configuration diagram of an elemental analyzer according to the present embodiment.
  • a part of the electrodes 102 and 104 is disposed in the water to be treated 109 filled in the optically transparent treatment tank 108. Note that it is not necessary that all of the treatment tank 108 is optically transparent. It suffices that the portion of the processing tank 108 positioned on the path until the plasma light reaches the light detection device 110 is transparent to the extent that the light detection device 110 can detect the emission spectrum by allowing the plasma light to pass therethrough.
  • the electrode 104 has a hollow structure that is open at both ends, and an opening opposite to the opening disposed in water is connected to a pump 105 that is a gas supply device. Bubbles are generated from the openings arranged in the water, and in this embodiment, the electrode 104 also functions as a bubble generator.
  • the material of the first electrode 104 and the second electrode 102 is not particularly limited, and any metal or alloy is used. These electrodes may be formed using, for example, an alloy containing one or more metals selected from iron, tungsten, copper, aluminum, or platinum, or a metal thereof. In particular, since tungsten and platinum have high melting points and are stable metals, when the first electrode 104 is formed of tungsten, platinum, or an alloy containing one or more metals selected from these metals, plasma light In the emission spectrum, the spectrum derived from the electrode can be eliminated or reduced.
  • the insulator 103 is disposed on the outer peripheral surface of the electrode 104.
  • alumina ceramics, insulating plastic, glass, quartz, or the like can be used.
  • plasma is also generated on the inner side of the end face of the insulator 103, and plasma light is generated from the end face of the insulator 103. It also occurs inside.
  • the insulator 103 is optically transparent with respect to light in the wavelength region to be measured and can pass plasma light so that the light generated inside can be detected by the light detection device 110.
  • the optically transparent insulator is particularly quartz, but is not limited thereto.
  • bubbles 106 are formed in the liquid.
  • the bubble 106 is formed so that at least the surface of the electrode 104 where the conductor is exposed is located in the bubble.
  • the end face of the opening of the first electrode 104 is not covered with the insulator 103, and the metal which is a conductor is exposed.
  • the state in which the vicinity of the opening of the first electrode 104 is covered with the gas in the bubble 106 can be maintained.
  • a gas having a flow rate necessary to generate such bubbles is selected so that at least the surface where the conductor is exposed is located in the bubbles 106.
  • a pump 105 that functions as a gas supply device supplies the first electrode 104 that functions as a bubble generation unit from the outside of the processing tank 108.
  • a voltage is applied between the first electrode 104 and the second electrode 102 using the pulse power supply 101.
  • the power source is not limited to the pulse power source, and an AC power source, a DC power source, or the like may be used as long as plasma can be formed in the liquid.
  • plasma 107 is formed in bubbles near the tip of the electrode 104.
  • an element present in the liquid comes into contact with the plasma, light emission derived from the element occurs.
  • the light detection device 110 provided separately, the element in the liquid can be analyzed.
  • the photodetector 110 for example, a PD (photodiode) and a spectroscope can be used in combination.
  • the PD is used to detect the intensity of light.
  • a CCD Charge Coupled Device
  • a CMOS Complementary Metal Oxide Semiconductor
  • the spectroscope for example, a diffraction grating, a prism, a filter, or the like is used. Further, it is also possible to configure the photodetecting device 110 by combining a PMT and a spectroscope using a PMT (Photomultiplier Tube) instead of PD.
  • PMT Photomultiplier Tube
  • An element that can be analyzed is one that emits light at a specific wavelength in plasma. Therefore, both organic substances and inorganic substances can be analyzed.
  • the components that can be analyzed are calcium, sodium, and potassium.
  • the analysis using the emission spectrum of plasma light may be either qualitative analysis or quantitative analysis. Therefore, the elemental analyzer of the present embodiment can be used as a liquid analyzer (for example, a water quality analyzer).
  • the elemental analyzer of the present embodiment may be used in, for example, a washing machine.
  • hardness can be measured by measuring the calcium concentration or magnesium concentration in water, and the amount of detergent can be adjusted according to the hardness.
  • the insulator 103 is placed on the first electrode so that the end face of the insulator 103 is located outside the end face of the first electrode 104.
  • the distance d between the tip of the insulator 103 and the tip of the first electrode 104 can be arbitrarily changed.
  • the tip portion of the first electrode 104 is easily covered with gas, and plasma can be generated efficiently.
  • Example 2 Elemental analysis using plasma light was performed using the apparatus shown in FIG. Here, a treatment tank 108 having a volume of about 100 cm 3 was used. Further, the first electrode 104 has a configuration in which an outer peripheral surface of a cylindrical body made of tungsten having an inner diameter of 1 mm and an outer diameter of 2 mm is coated with alumina having a thickness of 0.5 mm. The second electrode 102 has a cylindrical shape made of tungsten and having a diameter of 1 mm, and was positioned away from the first electrode 104 by about 40 mm.
  • a solution obtained by dissolving NaCl in pure water was placed in the treatment tank 108 as a liquid 109.
  • the conductivity of the liquid 109 was 300 mS / m.
  • the bubbles 106 were generated by introducing air from the outside at a flow rate of 2.0 liters / min using the pump 105.
  • Discharging was performed by supplying power of 200 W from the power source 101 and applying a pulse voltage having a peak voltage of 4 kV, a pulse width of 1 ⁇ s, and a frequency of 30 kHz to the first electrode 104. As a result, plasma was generated, and the emission spectrum of the plasma was measured using the photodetector 110.
  • a commercially available spectroscopic device was used as the light detection device 110, and light having a wavelength of 300 to 800 nm was measured. The exposure time was 20 ms.
  • An optical fiber attached to the spectroscope was installed in the vicinity of the plasma formed from the outside of the processing tank 108 formed of glass, and the emission spectrum of the plasma was measured.
  • Fig. 1-2 shows the measured spectrum. In the emission spectrum, a peak peculiar to Na appeared in the vicinity of 589 nm, and Na could be detected. From this example, it was found that Na, which is an impurity in pure water, can be detected by this embodiment.
  • Embodiment 2 In this embodiment, an elemental analysis apparatus as a module without a processing tank will be described.
  • the structure in which the electrode for generating plasma and the like is installed in the processing tank 108 has been described; however, the electrode and the like are not necessarily installed in the processing tank. Therefore, in the present embodiment, an embodiment will be described in which an element is analyzed by putting the entire module 211 including an element for generating plasma and an element for detecting plasma light into a liquid.
  • FIG. 2 is a block diagram of the elemental analyzer according to the present embodiment.
  • the module 211 corresponds to a configuration in which the treatment tank 108 and the water to be treated 109 are removed from the first embodiment described with reference to FIG.
  • the second electrode 102 and the first electrode 104 are arranged such that, when the module 211 is placed in a liquid, a part of both electrodes are immersed in the liquid at the same time and in contact with the liquid.
  • All of the elements constituting this embodiment are waterproofed, except for the portions of the first electrode 104 and the second electrode 102 that are immersed in the liquid, or in a waterproofed casing.
  • the elements included in the region surrounded by the alternate long and short dash line in FIG. 2 are waterproofed or arranged in a waterproofed casing.
  • each element can operate even when the entire module is placed in a liquid.
  • the waterproofing can be performed using a generally well-known method.
  • the module 211 is placed in the liquid 209 placed in the container 208 to generate plasma.
  • the liquid 209 is placed in the container 208, but the container 208 is not necessarily required.
  • the water quality can be measured by inserting the module 211 into the river.
  • the plasma generation method after the module 211 is placed in the liquid is the same as that in the first embodiment. According to the present embodiment, it is possible to provide an elemental analyzer having excellent portability.
  • the module by moving the module, it is possible to perform elemental analysis a plurality of times by changing the depth or place where plasma is generated. Thereby, for example, mapping of impurities contained in the liquid can be easily performed.
  • the other element or elements are outside the module. Arranged so that it cannot be placed in a liquid.
  • the pulse power source 101 may be disposed outside the module 211 and connected to the first electrode 104 and the second electrode 102 with a waterproofed cable.
  • the light detection device 110 may be arranged outside the module (for example, outside the container 208 in FIG. 2).
  • the modification of this Embodiment may be the structure which cannot put all elements other than a 1st electrode and a 2nd electrode in a liquid.
  • the other element which is not illustrated in the module 211 may be contained.
  • a gas cylinder may be arranged in the module 211 as a gas supply source connected to the pump 105 that is a gas supply device.
  • the bubble generation unit is configured to be immersed in the liquid together with the first electrode and the second electrode. Is done.
  • FIG. 3 is a configuration diagram of the elemental analyzer according to the present embodiment.
  • the elemental analyzer shown in FIG. 3 differs from that shown in FIG. 1 in that the pump 105 is connected to the gas selector 320 and the gas selector 320 is connected to the gas supply sources A to C.
  • any of the gases A to C selected by the gas selection device 320 is sent into the liquid via the electrode 104 to generate the bubble 106.
  • Other configurations are the same as those in the first embodiment.
  • the plasma light emission when the air bubbles 106 are formed using air, the plasma light emission generates not only air-derived light emission, specifically light emission derived from oxygen or nitrogen.
  • light emission derived from nitrogen can be seen in the vicinity of 300 to 400 nm.
  • light emission derived from oxygen occurs in the vicinity of 777 nm.
  • it becomes difficult to measure the light emission derived from the element in the liquid generated so as to overlap the light emission with high sensitivity.
  • Fig. 3-2 shows the spectrum when helium is used as the gas.
  • the spectrum derived from helium is different from the spectrum of FIG. 1-2, and emits little light between 300 nm and 400 nm. Therefore, the use of helium is suitable for detecting light emission derived from Ca, Cr, and Cu as described above.
  • a spectrum is observed around 588 nm as a peak derived from helium. Therefore, the use of helium is not suitable for detecting Na having a spectrum in the vicinity of 589 nm as shown in the example of the first embodiment.
  • gas in addition to helium and air, argon, nitrogen, oxygen, carbon dioxide, or the like can be used.
  • the gas that can be selected by the gas selection device is not limited to three types, and may be two types or four or more types.
  • FIG. 4 is a block diagram of the elemental analyzer according to the present embodiment. Bubbles that cover the surface where the conductor of the first electrode 104 is exposed by introducing a gas into the liquid, bubbles that are formed away from the first electrode, and bubbles that are separated from these bubbles Rises by buoyancy.
  • FIG. 4B is a diagram for explaining that the stability of the detection of the plasma light differs depending on the mounting position of the light detection device.
  • FIG. 4-2 (A) illustrates the case where the bubble 106 exists only in the vicinity of the electrode.
  • FIG. 4B shows a case where the bubble 106 and the bubble 406 after the bubble 106 is separated from the first electrode 104 are raised by buoyancy. The light emitted by the plasma formed in the bubble 106 is refracted and scattered at the interface between the liquid and the gas before reaching the light detection device.
  • the generated plasma light cannot be detected or reached by the light detection device 110A installed in the traveling direction due to the buoyancy of the bubbles as viewed from the first electrode 104.
  • the light may be attenuated considerably. Since the shape and number of bubbles formed by introducing a gas are relatively difficult to control, it is also difficult to control the interface between the liquid and the gas. From the above, when the light detection device is installed in the traveling direction due to the buoyancy of bubbles, it is assumed that elements in the liquid cannot be analyzed with high sensitivity by plasma light.
  • FIGS. 4-2 (A) and 4-2 (B) when viewed from the first electrode 104, in the direction opposite to the direction of travel due to the buoyancy of bubbles (below the electrode 104), Since the number of bubbles is small, the number of refraction or scattering is small. Therefore, if the light detection device 110 is arranged in this direction, plasma light can be detected stably.
  • the light detection device is viewed from the first electrode 104 in a direction different from the traveling direction due to bubble buoyancy, for example, in a direction that forms an angle greater than 90 degrees with the traveling direction due to bubble buoyancy. In particular, it is arranged in a direction that makes an angle of 180 degrees.
  • the light detection device may be arranged above or below the drawing sheet so that ⁇ is 90 degrees or more, for example.
  • the photodetection device 110 By arranging the photodetection device 110 in this way, the number of interfaces between the liquid and the gas until the plasma light reaches the photodetection device 110 can be reduced. For example, it can be substantially 1. . Accordingly, since refraction and scattering can be predicted, the plasma light can be detected with high sensitivity by controlling the installation location of the light detection device 110. That is, it becomes possible to analyze elements in the liquid with high sensitivity.
  • the light detection device 110 is installed in advance in a direction different from the traveling direction due to the buoyancy of bubbles when viewed from the first electrode 104. Can do.
  • the light detection device may be arranged at a position where plasma light can be stably detected.
  • a lamp may be attached to the tip of the electrode so that the direction in which light is stably detected can be determined by refraction and scattering of light from the lamp in a state where bubbles are generated.
  • FIG. 4-3 shows the results of the examples in which the detection of the plasma light differs depending on the mounting position of the light detection device.
  • the first electrode 104 and the second electrode are exposed when the surface of the first electrode 104 in the liquid where the conductor is exposed is covered with the bubble 106. A voltage is applied between them to generate plasma in the bubble 106. Therefore, when the bubble 106 is not formed, plasma is not generated, and as a result, light emission from the plasma cannot be obtained. Therefore, in order to obtain an emission spectrum without missing the timing of plasma generation, it is necessary to increase the exposure time of the light detection device 110.
  • the detection amount of the light detection device 110 may be saturated, so it is often necessary to reduce the exposure time of the light detection device 110 to some extent. Specifically, for example, a process of accumulating signals having a time of about milliseconds and taking an average value of a plurality of signals is performed.
  • the control device 520 controls the exposure of the light detection device 110. According to this configuration, since exposure while plasma light is not generated can be suppressed, the overall measurement sensitivity (or analysis sensitivity) of the apparatus can be improved.
  • the state of refraction and scattering of plasma light differs depending on the state of the interface between the bubbles and the water to be treated. For this reason, the state of the plasma light detected by the light detection device differs depending on the shape of the bubble.
  • the presence / absence and shape of bubbles are detected using the bubble detection device 530, and the control device 520 controls the light detection device 110 according to the detection result.
  • a plurality of light detection devices (two examples are shown in FIG. 5) are installed, and the light detection device 110 existing on the optical path assumed from the shape of the bubbles is selected by the control device 520.
  • the control device 520 controls the emission spectrum to be detected by any one of the plurality of light detection devices 110 based on the detection result by the bubble detection device 530. This eliminates the use of a signal when the photodetection device does not detect plasma light, so that elemental analysis can be performed with high sensitivity.
  • the light detection device 110 may be movable. In that case, based on the result of the bubble detection device 530, the light detection device 110 is moved on the assumed optical path. By doing so, elemental analysis can be performed with high sensitivity.
  • a high-speed camera can be used as the bubble detection device 530.
  • a high-speed camera is installed focusing on the bubble 106 in the vicinity of the first electrode 104.
  • the bubble shape is determined using a predetermined algorithm, and the determination result is transferred to the control device 520.
  • the control device 520 applies feedback to the power supply 101 and the light detection device 110 based on the determination result of the bubble detection device 530. For example, it is possible to determine whether or not the bubble 106 exists in the vicinity of the first electrode 104 based on the contrast of the image captured by the high-speed camera, and to feed back the result to the control device 520.
  • the optical path is estimated by detecting the shape of the bubble, and the light detection device 110 existing on the optical path is selected.
  • a known image detection method can be used for the bubble detection method. Accordingly, a voltage can be applied only when bubbles are present, wasteful power consumption can be eliminated, and elemental analysis can be performed with higher sensitivity.
  • a light emitting / receiving element can be used as the bubble detection device.
  • a semiconductor laser or a light emitting diode (LED) can be used as the light emitting element, and a photodiode can be used as the light receiving element.
  • FIG. 6 schematically shows a bubble detection method using a bubble detection device using a light emitting element and a light receiving element. The light emitting element is installed so that the optical path of the laser exists near the bubble at the tip of the first electrode 104. A light receiving element is installed at a position where light is received under the condition that bubbles do not exist (FIG. 6A).
  • the refractive index fluctuates, so the optical path of the laser changes and the amount of light received by the light receiving element fluctuates (FIG. 6B).
  • light is generated, which can be an interference factor of the light detection device.
  • the wavelength of the semiconductor laser can be set so as not to interfere with the plasma discharge spectrum.
  • the predetermined value is set as a threshold value, and the signal of the light receiving element is transferred to the control device.
  • the control device applies feedback to the power supply based on the result of the bubble detection device. Thereby, useless power consumption can be eliminated.
  • the use of a light detection device makes it possible to construct a bubble detection device at a relatively low cost.
  • the light emitting diode was installed on one side of the transparent treatment tank so that the central optical path of the light emitting diode (center wavelength 610 nm) as the light emitting element was present near the bubble at the tip of the electrode.
  • the illuminance sensor which is a light-receiving element that receives light from the light-emitting diode and measures the amount of light, is opposite to the side of the processing tank where the light-emitting diode is installed so that its sensitivity is maximized in the absence of bubbles. Installed on the side.
  • a total of three pairs of light emitting diodes and illuminance sensors were installed as shown in FIG. The distance between each pair was 1 cm.
  • pairs of light emitting diodes and illuminance sensors are shown as Nos. 1 to 3 in order from the one closest to the electrode.
  • the voltage generated by the illuminance sensor varies depending on the amount of light received. Therefore, the generated voltage of the illuminance sensor was detected using a commercially available data logger, and the change in the generated voltage due to the presence or absence of bubbles was measured. Measurements were performed at 100 ms intervals. An optical filter was not used in the illuminance sensor. The introduction of bubbles and the power source of the light emitting diode were controlled as shown in Table 1.
  • the voltage generated by the illuminance sensors in No. 1 to 3 is almost 0V.
  • the gas was supplied from the outside in the 4 to 9 second region and the light emitting diode was turned on, only the voltage generated by the No. 1 illuminance sensor in which bubbles existed in the optical path caused bubbles to be generated. It was confirmed that it fluctuated accordingly. Specifically, it was confirmed that the generated voltage fluctuated between 0.5 V and 2.2 V according to the presence or absence of bubbles.
  • the generated voltage of the No. 2 and No. 3 illuminance sensors in which bubbles do not exist in the optical path was constant at 2.2 V regardless of whether bubbles were generated.
  • the power supply of the light emitting diode was turned on in the range of 9 to 12.5 seconds, and the gas supply was stopped.
  • the voltage generated by the No. 1 illuminance sensor was 2.2 V, which was substantially constant, as in the No. 2 and No. 3 illuminance sensors.
  • gas was supplied again in the region of 12.5 to 20 seconds. In that region, only the voltage generated by the No. 1 illuminance sensor again fluctuated according to the generation of bubbles. Therefore, according to this example, it was confirmed that the light emitting / receiving element can be used as the bubble detecting device.
  • measurement was performed at 100 ms intervals due to the performance of the data logger. The detection sensitivity can be further increased by shortening the measurement interval of the data logger.
  • a semiconductor laser can be used instead of the light emitting diode.
  • the light emitting element and the light receiving element are not necessarily paired.
  • the light emitting element may be an illumination device without illuminating the entire processing tank.
  • the light emitting elements and the light receiving elements can be arranged in a matrix. In that case, the presence or absence of bubbles can be detected two-dimensionally, and for example, the size of bubbles (or the degree of expansion of bubbles) and the shape of bubbles can also be detected.
  • the bubble detection device a detection device using a sound wave such as an ultrasonic wave can be used.
  • the detection device is set so that the sound wave passes through the bubble forming part.
  • the traveling path of the sound wave changes depending on the presence or absence of bubbles. Therefore, the presence or absence of bubbles can be detected by detecting the fluctuation.
  • this embodiment is based on the elemental analysis apparatus of the first embodiment.
  • the present embodiment may be provided as a configuration in which a bubble detection device and a control device are added to the elemental analysis device of the second embodiment.
  • the state of bubbles may change greatly depending on the angle of the electrodes when the first and second electrodes are immersed in the liquid. Therefore, in the analyzer of the second embodiment, it is necessary to control the light detection device according to the bubble.
  • the state of the bubble can be accurately grasped and accurately It becomes possible to guide plasma light to the light detection device.
  • the elemental analysis apparatus can perform highly sensitive elemental analysis with low power consumption. Therefore, for example, water quality management of water and sewage, wastewater management of factories, or agriculture and flower cultivation used. It can be used for liquid concentration control. Moreover, the elemental analyzer according to another embodiment of the present invention is excellent in portability, and makes it possible to easily analyze, for example, water quality at various places.

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Abstract

 液体109を入れることができ、かつ少なくとも一部が光学的に透明である処理槽108と、処理層内に配置された、絶縁体103に被覆された第1の電極104と、第2の電極102と、第1の電極104の処理槽108内に位置する表面のうち、少なくとも導電体が露出している表面が気泡106内に位置するように、気泡を発生させる気泡発生部と、気泡106を発生させるのに必要な量の気体を処理槽の外部から気泡発生部に供給する気体供給装置105と、第1の電極104と第2の電極102との間に電圧を印加する電源101と、電圧を印加した際に発生するプラズマの発光スペクトルを測定する光検出装置110と、を有する元素分析装置は、光検出装置110が測定した発光スペクトルから、液体109に含まれる成分の定性または定量分析を実施する。

Description

液体中の元素分析装置
 本発明は、液体中でプラズマを発生させることにより液体中に存在する元素を分析する装置に関する。
 従来のプラズマを用いた液体中の元素分析装置としては、特許文献1~3に記載のものがある。いずれの文献においても、プラズマを作用させて生じる、液体中の元素由来の発光を検出して元素分析を行う方法が開示されている。
 特許文献1~3はそれぞれ異なるプラズマ形成方法を用いている。特許文献1では微細加工された流路中、より具体的には、絶縁性材料で形成された流路に該流路の断面積よりも著しく小さい断面積を有する狭小部を設けた流路中に電界を印加することによってプラズマを発生させる。特許文献2ではいわゆる水上放電を行うことによりプラズマを発生させる。特許文献3ではレーザを照射することによりプラズマを発生させている。
WO2005/093394号公報 特開平9-26394号公報 特開2002-372495号公報
 本発明は、高感度な元素分析を簡便に行うことを可能とした液体中の元素分析装置を提供することを目的とする。
 本発明の一実施形態は、液体を入れる処理槽内に少なくとも一部が配置される第1の電極と、前記処理槽内に少なくとも一部が配置される第2の電極と、前記処理槽内に前記液体を入れたときに前記液体内に気泡を発生させる気泡発生部であって、前記第1の電極の前記処理槽内に位置する表面のうち、少なくとも導電体が露出している表面が前記気泡内に位置するように、前記気泡を発生させる気泡発生部と、前記気泡を発生させるのに必要な量の気体を、前記処理槽の外部から前記気泡発生部に供給する気体供給装置と、前記第1の電極と前記第2の電極との間に電圧を印加する電源と、前記電圧を印加した際に発生するプラズマの発光スペクトルを測定する光検出装置と、を有し、前記処理槽の少なくとも一部は光学的に透明であり、前記光検出装置が測定した発光スペクトルから、前記処理槽内に入れられる液体に含まれる成分の定性または定量分析を実施する元素分析装置である。
 上記実施形態の元素分析装置によれば、液体中に含まれる元素分析をより高感度で行うことができる。さらには可搬性に優れる液体中の元素分析装置を提供することができる。
本発明の実施の形態1における元素分析装置の構成図である。 本発明の実施の形態1の実施例におけるスペクトル図である。 本発明の実施の形態1の変形例における電極の開口部近傍を拡大した側断面図である。 本発明の実施の形態2における元素分析装置の構成図である。 本発明の実施の形態3における元素分析装置の構成図である。 気泡形成にHeを用いた場合のスペクトル図である。 本発明の実施の形態4における元素分析装置の構成図である。 光検出装置の取り付け位置によってプラズマ光の検出が異なることを説明する図である。 光検出装置の取り付け位置によってプラズマ光の検出が異なる実施例の結果を示す図である。 本発明の実施の形態5における元素分析装置の構成図である。 発光素子および受光素子を用いた気泡検出装置による気泡検出方法を示す図である。 気泡検出装置として発光受光素子を用いたときの気泡検出方法の別の例を示す模式図である。 (a)図7におけるNo.1の組の受光素子の発光電圧の変化を示すグラフ、(b)図7におけるNo.2の組の受光素子の発光電圧の変化を示すグラフ、(c)図7におけるNo.3の組の受光素子の発光電圧の変化を示すグラフである。
(本発明の態様1に至った経緯)
 特許文献1は特殊加工したセルを用いることなくプラズマを発生させる方法を開示しておらず、同文献に記載の技術は特殊なセルを別途準備する必要があるといった課題を有する。特許文献1においては、特に、導電率の低い溶液に対しては、プラズマ発生のために溶液の導電率を調整することが好ましい旨が開示されており、同文献に記載の技術は、その点においても、測定準備が煩雑であるといった課題を有する。特許文献2に記載の測定装置では、水上放電を行うことにより比較的簡便にプラズマを発生させることができるが、プラズマは主に大気中で発光し、液体との相互作用がプラズマ接触部に限定されるので、プラズマ発光が比較的小さい。そのため、特許文献2に記載の測定装置は元素分析に必要な感度を得ることが困難であるといった課題を有する。特許文献3に記載の分析装置は、プラズマ発生のために別途レーザを必要とし、装置構成が複雑となる課題を有する。
 本発明者らは、鋭意検討の結果、液体中に気流を発生させることで、簡便に液体中でプラズマを発生させることに成功した。これにより、プラズマ放電のために特に液体の事前調整を必要とせず、また、数十W以下の低消費電力で大きなプラズマを発生させることが可能である。そして、この方法により液体中で発生させたプラズマの発光スペクトルから、元素分析が可能である。
(態様1)
 本発明の態様1は、液体を入れる処理槽内に少なくとも一部が配置される第1の電極と、前記処理槽内に少なくとも一部が配置される第2の電極と、前記処理槽内に前記液体を入れたときに前記液体内に気泡を発生させる気泡発生部であって、前記第1の電極の前記処理槽内に位置する表面のうち、少なくとも導電体が露出している表面が前記気泡内に位置するように、前記気泡を発生させる気泡発生部と、前記気泡を発生させるのに必要な量の気体を、前記処理槽の外部から前記気泡発生部に供給する気体供給装置と、前記第1の電極と前記第2の電極との間に電圧を印加する電源と、前記電圧を印加した際に発生するプラズマの発光スペクトルを測定する光検出装置と、を有し、前記処理槽の少なくとも一部は光学的に透明であり、前記光検出装置が測定した発光スペクトルから、前記処理槽内に入れられる液体に含まれる成分の定性または定量分析を実施する元素分析装置である。本態様に係る発明によって、低消費電力で簡便にプラズマを生成することができるため、容易に液体中における元素を分析することができる。また、低消費電力でプラズマを発生させるので、電極に含まれる成分の蒸発が無く又は少なく、プラズマの発光スペクトルにおいて電極に由来するスペクトルを無くす又は減少させることができる。特に、電極をタングステンなどの高融点金属で形成する場合には、その効果は顕著である。
(態様2)
 本発明の態様2は、第1および第2の電極と、気体を供給する気体供給装置と、気泡を発生させる気泡発生部と、前記第1の電極と前記第2の電極との間に電圧を印加する電源と、前記電圧を印加した際に発生するプラズマの発光スペクトルを測定する光検出装置と、を有する元素分析装置であって、
 前記第1の電極の少なくとも一部、および前記第2の電極の少なくとも一部は、同時に液体に浸漬されるようになっており、
 前記気泡発生部は、前記第1の電極の少なくとも一部が液体に浸漬されたときに、前記気体供給装置から供給された気体を前記液体内に供給し、前記液体内に、前記第1の電極の前記液体内に位置する表面のうち、少なくとも導電体が露出している表面が前記気泡内に位置するように、前記気泡を発生し、
 前記光検出装置が測定した発光スペクトルから、前記液体に含まれる成分の定性または定量分析を実施する
元素分析装置である。
 上記態様1の分析装置のように、電極が処理槽等に取り付けられた構成を有する場合、分析対象となる液体を処理槽に入れる作業が必要となり、いつでもどこでも測定を行いたいニーズに応えられないことがある。本態様に係る元素分析装置は、第1の電極の少なくとも一部および第2の電極の少なくとも一部を液体中に浸すことが可能な構成を有し、可搬性に優れている。本態様の元素分析装置によれば、分析対象となる液体に第1の電極の少なくとも一部および第2の電極の少なくとも一部を浸漬することにより、時と場所を選ばずに、簡便に元素分析を行うことができる。
(態様3)
 本発明の態様3は、前記気体供給装置から異なる気体が供給されることを可能にする、気体選択装置をさらに有する、態様1または2の元素分析装置である。
 態様1および2の元素分析装置において、第1の電極の導電体が液体中で露出している表面を覆う気泡を発生させるために気体を導入すると、得られるプラズマにおいて、導入した気体に由来する発光が生じるといった課題が生じる。例えば気体として空気を導入する際には、少なからず窒素および酸素由来の発光が生じることになる。このため、検出したい元素の発光波長と気体由来の発光波長とが重なる場合には、検出感度が低下する。本態様は、気泡を構成する気体の種類を選択することを可能にし、それにより定性または定量分析の対象となる元素と重なる波長の光が気体に由来して生じることを未然に防止する。よって、本態様によれば、測定感度を向上させることができる。
(態様4)
 本発明の態様4は、前記光検出装置が、前記第1の電極から見て、前記気泡の浮力による進行方向とは異なる方向、例えば、前記気泡の浮力による進行方向と90度より大きい角度をなす方向に配置されている、態様1~3のいずれかの元素分析装置である。
 気泡を形成し、気泡内でプラズマを発生させる場合には、プラズマから発光される光は当該気泡と液体の界面で屈折または散乱する。さらに、気泡は第1の電極の導体部を覆った後、分離して液体内にしばらく存在するため、この分離した気泡と液体の界面においてもプラズマ光は屈折または散乱する。液体内の気泡は時系列で見た場合にランダムに変化し、この変化によりプラズマ光の気液界面における屈折または散乱も変化する。そのため、あらかじめ固定された光検出装置に入射するプラズマ光の強度にばらつきが生じ、ひいては検出感度のばらつきが生じる。
 態様4は、プラズマ光が光検出装置に到達するまでに通過する気泡の数が少なくなるように、光検出装置の位置を選択している。この態様によれば、プラズマ光と光検出装置との間に存在する気泡の形状、数および分布が変化することに起因する、プラズマ光のランダムな反射および屈折等を防止ないしは少なくすることができる。それにより、測定感度を向上させることができる。
(態様5)
 本発明の態様5は、
 前記第1の電極が、開口部を有する中空の筒状であり、
 前記第1の電極の外周面に接して、絶縁体が配置されており、
 前記気泡発生部は、前記第1の電極の開口部から気泡を発生させるものであり、
 前記気泡発生部は、前記第1の電極の前記処理槽内に位置する表面のうち前記絶縁体が配置されておらず、前記導電体が露出している表面が前記気泡内に位置するように、前記気泡を発生させる、態様1~4のいずれかの元素分析装置である。このような構成とすることによって、さらに容易にプラズマを生成することができる。
(態様6)
 本発明の態様6は、前記絶縁体が光学的に透明である、態様5の元素分析装置である。このような構成とすることによって、絶縁体によるプラズマ光の吸収を防ぎ、効率よく光を検出することが可能となる。
(態様7)
 本発明の態様7は、前記絶縁体が石英を含む、態様6の元素分析装置である。このような構成とすることによって、特に紫外領域における光の吸収を防ぐことができる。また、プラズマに対する耐久性の高い装置を提供することができる。
(態様8)
 本発明の態様8は、前記第1の電極の少なくとも導電体が露出している表面が前記気泡内に位置していることを検出するか、あるいは前記気泡の形状を検出する気泡検出装置と、
 前記気泡検出装置の検出結果に基づいて前記気体供給装置、前記電源、前記光検出装置のいずれか、またはその組み合わせを制御する制御装置をさらに有する、態様1または2の元素分析装置である。この構成において、例えば、光検出装置の露光を制御すれば、プラズマ光が生じていない間の光検出装置の露光を抑制することができ、分析装置の測定感度をより向上させることができる。
(態様9)
 本発明の態様9は、
 前記光検出装置を複数有し、
 前記制御装置は、前記気泡検出装置による検出結果に基づいて、前記複数の光検出装置のいずれか1または複数が発光スペクトルを検出するように前記複数の光検出装置を制御する態様8の元素分析装置である。この構成によれば、より高感度な分析を実施できる。
(態様10)
 本発明の態様10は、
 液体中に第1の電極の少なくとも一部と、第2の電極の少なくとも一部を浸漬すること、
 前記液体中に浸漬された前記第1の電極と前記第2の電極との間に、電源を用いて電圧を印加すること、および
 前記液体中に配置された気泡発生部に気体供給装置から気体を供給して前記液体中に気泡を発生させること
を含み、
 前記気泡を、前記第1の電極の前記液体中に位置する表面のうち、少なくとも導電体が露出している表面を前記気泡内に位置させるように発生させ、
 前記電圧を印加することにより、前記気泡内にプラズマを発生させ、
 前記気泡内に発生させたプラズマの発光スペクトルを光検出装置で測定し、前記発光スペクトルから、前記処理槽内に入れられる液体に含まれる成分の定性または定量分析を実施する、
元素分析方法である。
(態様11)
 本発明の態様11は、前記光検出装置を、前記第1の電極から見て、前記気泡の浮力による進行方向とは異なる方向に配置することをさらに含む、態様10の元素分析方法である。この元素分析方法は、例えば、態様2の元素分析装置を用いて実施され、プラズマ光が光検出装置に到達するまでに介在する気泡の数が少なくなるように、光検出装置の位置を選択することを含む。この方法によれば、より高い測定感度で元素分析を実施できる。
(態様12)
 本発明の態様12は、
 前記気泡発生部に供給する気体を複数の気体から選択すること、および
 選択した気体を前記気体供給装置から前記気泡発生部に供給すること
をさらに含む、態様10または11の元素分析方法である。この元素分析方法は、例えば、態様3の元素分析装置を用いて実施される。
 以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。
(実施の形態1)
 本実施の形態では、液体中でプラズマを発生させ元素分析を行う基本的な態様について説明する。
 図1は本実施の形態における元素分析装置の構成図である。光学的に透明な処理槽108中に満たされた被処理水109の中に、電極102、104の一部が配置されている。なお、処理槽108はその全てが光学的に透明である必要はない。プラズマ光が光検出装置110に到達するまでの経路に位置する処理槽108の部分が、プラズマ光を通過させて、光検出装置110がその発光スペクトルを検出できる程度に透明であればよい。本実施の形態において電極104は両端が開口している中空構造を有しており、水中に配置されている開口部とは反対の開口部が気体供給装置であるポンプ105に接続されている。水中に配置されている開口部からは、気泡が発生し、本実施の形態において、電極104は気泡発生部としても働く。
 第1の電極104および第2の電極102の材料は特に限定されず、任意の金属または合金が用いられる。これらの電極は、例えば、鉄、タングステン、銅、アルミニウム、もしくは白金、またはそれらの金属から選ばれる1または複数の金属を含む合金などを用いて形成してよい。特に、タングステンおよび白金は高い融点を有し、安定な金属であるから、タングステン、白金、またはそれらの金属から選ばれる1または複数の金属を含む合金で第1の電極104を形成すると、プラズマ光の発光スペクトルにおいて、電極に由来するスペクトルを無くす、または小さくすることができる。
 本実施の形態では、電極104の外周面に絶縁体103を配置する。絶縁体としてはアルミナセラミックス、絶縁性のプラスチック、ガラス、および石英などを用いることができる。後述するように、電極104の端面を絶縁体103の端面よりも内側にしてプラズマを生成する場合には、プラズマが絶縁体103の端面より内側にも生じ、プラズマ光が絶縁体103の端面より内側でも発生する。この内側で発生する光も光検出装置110で検出されるように、測定したい波長領域の光に対して、絶縁体103は光学的に透明であって、プラズマ光を通過させ得ることが好ましい。光学的に透明な絶縁体は、特に石英であるが、これに限定されない。
 ポンプ105から電極104を通じて気体を液体中に送ることによって、液体中に気泡106が形成される。気泡106は、電極104の少なくとも導電体が露出している表面が前記気泡内に位置するように形成されたものである。第1の電極104の開口部の端面は、絶縁体103で覆われておらず、導電体である金属が露出している。ポンプ105を用いて気体の供給量を適切に設定することにより、第1の電極104の開口部近傍が気泡106内の気体で覆われた状態を維持できる。第1の電極104の処理槽内に位置する表面のうち、少なくとも導電体が露出している表面が気泡106内に位置するように、そのような気泡を発生させるのに必要な流量の気体を、気体供給装置として機能するポンプ105が、処理槽108の外部から気泡発生部として機能する第1の電極104へ供給する。
 本実施の形態ではパルス電源101を用いて第1の電極104と第2の電極102との間に電圧を印加する。なお、電源としてはパルス電源に限られるものではなく、液体中でプラズマを形成することが出来る範囲で、交流電源や直流電源等を用いることも可能である。電圧を印加することによって、電極104先端付近の気泡内にプラズマ107が形成される。液体中に存在する元素がプラズマに接触することにより、元素由来の発光が生じる。この発光を別途設けた光検出装置110で検出することにより、液体中の元素を分析することができる。光検出装置110として、例えば、PD(Photodiode:フォトダイオード)および分光器を組み合わせて用いることができる。PDは、光の強度を検出するために用いられるものであり、PDとしては、例えば、CCD(Charge Coupled Device)やCMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)センサなどが用いられる。分光器には、例えば、回折格子、プリズム、フィルタなどが用いられる。また、PDの代わりにPMT(Photomultiplier Tube:光電子増倍管)を用いて、PMTおよび分光器を組み合わせて、光検出装置110を構成することも可能である。
 分析の対象となり得る元素は、プラズマ中において固有の波長で光を発するものである。よって、有機物質および無機物質のいずれも、分析の対象となり得る。例えば、分析の対象となり得る成分は、カルシウム、ナトリウム、およびカリウムである。また、プラズマ光の発光スペクトルを用いた分析は、定性分析および定量分析のいずれであってもよい。したがって、本実施の形態の元素分析装置は、液体分析装置(例えば、水質分析装置)として用いることができる。
 本実施の形態の元素分析装置は、例えば、洗濯機において利用してよい。その場合、水中のカルシウム濃度やマグネシウム濃度を測定することにより硬度を測定し、硬度に応じて洗剤量を調整することができる。あるいは、本実施の形態の液体分析装置は、植物栽培溶液管理のために用いてよい。具体的には、植物栽培溶液中のナトリウム量およびカリウム量などを分析するために用いてよい。
 本実施の形態の変形例においては、図1-3に示すように、絶縁体103の端面が第1の電極104の端面よりも外側に位置するように、絶縁体103を第1の電極の外周面に配置してよい。例えば、絶縁体103を第1の電極104に対してスライド可能に構成すれば、絶縁体103の先端と第1の電極104の先端との間の距離dを任意に変化させることができる。このように絶縁体103と第1の電極104を配置すると、第1の電極104の先端部分が、気体によって覆われ易くなり、プラズマを効率よく発生させることができる。
(実施例)
 図1に示す装置を用いてプラズマ光による元素分析を実施した。ここでは、容積が約100cmの処理槽108を使用した。また、第1の電極104は、タングステンから成る内径が1mm、外径が2mmの筒状体の外周面に、厚さ0.5mmのアルミナを被覆させた構成とした。第2の電極102はタングステンから成る直径1mmの円柱状のものであり、第1の電極104から約40mm離して位置させた。
 純水にNaClを溶解したものを液体109として処理槽108に入れた。液体109の導電率は300mS/mとした。気泡106は、ポンプ105を用いて、外部から空気を、流量2.0リットル/minで導入して発生させた。放電は、電源101から200Wの電力を供給し、第1の電極104にピーク電圧が4kVで、パルス幅が1μs、周波数が30kHzのパルス電圧を印加して実施した。これによってプラズマを発生させ、プラズマの発光スペクトルを、光検出装置110を用いて測定した。光検出装置110として、市販の分光装置を用い、300~800nmの波長の光を測定した。露光時間は20msとした。分光装置に付属の光ファイバーを、ガラスで形成された処理槽108の外側からプラズマが形成される付近に設置し、プラズマの発光スペクトルを測定した。図1-2に測定されたスペクトル図を示す。発光スペクトルにおいて、589nm付近にNa特有のピークが現れ、Naを検出することができた。この実施例により、純水においては不純物である、Naを本実施の形態により検出できることがわかった。
(実施の形態2)
 本実施の形態では、処理槽がないモジュールとしての元素分析装置について説明する。
 実施の形態1では、プラズマを発生させる電極などが処理槽108に設置されている構成について説明したが、電極等が必ずしも処理槽に設置されている必要はない。そこで本実施の形態においては、プラズマを発生させる要素およびプラズマ光を検出する要素を備えたモジュール211全体を、液体中に入れることによって元素を分析する形態について説明する。
 図2は本実施の形態における元素分析装置の構成図である。モジュール211は図1で説明した実施の形態1から、処理槽108および被処理水109を取り除いた構成に相当する。第2の電極102および第1の電極104は、モジュール211を液体に入れた際に両電極の一部が同時に液体に浸漬されて液体と接するように配置されている。本実施の形態を構成する要素はいずれも、第1の電極104および第2の電極102の液体に浸漬される部分を除いては、防水加工が施され、あるいは防水加工を施した筐体内に配置されている。具体的には、図2において一点鎖線で囲まれた領域に含まれる要素が防水加工を施され、あるいは防水加工を施された筐体内に配置される。したがって、モジュール全体が液体中に配置されても、各要素は動作できる。防水加工は、一般的に良く知られた方法を用いて行うことができる。
 本モジュール211を容器208中に入れられた液体209中に入れ、プラズマを発生させる。本実施の形態では容器208中に液体209を入れる構成としたが、容器208は必ずしも必須ではない。例えば川の水質を測定したい場合は、川にモジュール211を入れることによって水質を測定することが可能となる。モジュール211を液体中に入れた後のプラズマの発生方法は実施の形態1と同様である。本実施の形態によれば、可搬性に優れた元素分析装置を提供することが可能となる。
 また本実施の形態によれば、例えば、モジュールを移動させることにより、プラズマを発生させる深さまたは場所を変えて、複数回、元素分析を実施することが可能である。それにより、例えば、液体に含まれる不純物のマッピングなどを容易に行うことができる。
 本実施の形態の変形例は、第1の電極の一部および第2の電極の一部が液体に浸漬されて、プラズマを生成する限りにおいて、他の1または複数の要素がモジュールの外に配置されて、液体中に入れられない構成を有する。例えば、パルス電源101をモジュール211の外に配置して、第1の電極104および第2の電極102と防水加工を施したケーブルで接続してよい。あるいは、光検出装置110をモジュールの外部(例えば、図2の容器208の外側)に配置するようにしてよい。あるいは、本実施の形態の変形例は、第1の電極および第2の電極以外のすべての要素が、液体中に入れられない構成であってよい。
 あるいは、本実施の形態の変形例においては、モジュール211内に、図示していない他の要素が含まれてよい。例えば、気体供給装置であるポンプ105と接続する気体供給源として、ガスボンベがモジュール211内に配置されていてよい。
 あるいは、本実施の形態の変形例において、気泡発生部が第1の電極とは別に設けられる場合には、気泡発生部は第1の電極および第2の電極とともに液体に浸漬されるように構成される。
(実施の形態3)
 本実施の形態では、気体選択装置を用いて高感度に元素分析を行う態様について説明する。
 図3は本実施の形態における元素分析装置の構成図である。図3に示す元素分析装置は、図1に示すそれとは、ポンプ105が気体選択装置320に接続され、気体選択装置320が気体供給源A~Cと接続されている点で異なっている。図3に示す装置においては、気体選択装置320によって選択された気体A~Cのいずれかが、電極104を経由して液体中に送られて、気泡106を生成する。その他の構成については実施の形態1と同様である。
 例えば空気を用いて気泡106を形成した場合、プラズマ発光には空気由来の発光、具体的には、酸素や窒素由来の発光が少なからず生じてしまう。例えば図1-2において300nm~400nm付近には窒素由来の発光が見て取れる。また、777nm付近には酸素由来の発光が生じている。このため、その発光に重なるように生じる液体中の元素由来の発光を、高感度に測定することが困難となる。一例として、Ca(317.9nm)、Cr(357.9nm)、Cu(327.4nm)などの発光を観察することが困難となり得る。
 そこで本実施の形態では、あらかじめ気体由来の発光と液体中の元素由来の発光が重複することが予想される場合に気体選択装置を用いて、重複をさけるように気体を選択する。図3-2に気体としてヘリウムを用いた場合のスペクトルを示す。図3-2に示すようにヘリウム由来のスペクトルは図1-2のスペクトルとは異なり、300nm~400nmの間に発光が少ないことがわかる。したがって、ヘリウムの使用は、先に示したようなCa,Cr,Cu由来の発光を検出する際には適している。逆に、ヘリウム由来のピークとして588nm付近にスペクトルが観察される。したがって、ヘリウムの使用は、実施の形態1の実施例で示したように589nm付近にスペクトルを有するNaを検出したい場合には適していない。
 よって、本実施の形態では、Caを検出すべきことが予めわかっている場合に、気体選択装置320を用いてHeを選択し、Naを検出することが分かっている場合は、気体選択装置320を用いて空気を選択する。その後プラズマを発生させ、スペクトルの検出を行う。プラズマの発生方法等は、実施の形態1と同様の方法を用いることができる。これによって、CaやNaを高感度に検出することができる。
 気体としては、ヘリウムおよび空気のほか、アルゴン、窒素、酸素、炭酸ガスなどを用いることができる。気体選択装置により選択可能な気体は3種類に限られず、2種類であってもよく、4種類以上であってよい。
 また、検出したい元素が複数存在し、どの気体を選択しても、いずれかの元素の検出が気体由来のスペクトルによって妨害される場合には、複数のガスを別々に用いてスペクトルを取得し、最後に検出結果を総合して、全元素の分析結果を得ることも可能である。例えば液体中にCaとNaが混在していることが想定される場合、まずはHeを選択してCa由来のスペクトルを取得し、その後、空気を選択してNa由来のスペクトルを取得することが可能である。それぞれの測定結果を総合することによって、Ca、Naともにスペクトルを高感度に測定することが可能となる。
(実施の形態4)
 本実施の形態では、光検出装置の取り付け位置を選択することによって高感度に元素分析を行う態様について図4、図4-2、図4-3を用いて説明する。
 図4は本実施の形態における元素分析装置の構成図である。液体中に気体を導入して、第1の電極104の導電体が露出している表面を覆う気泡、その気泡が第1の電極から離れて形成される気泡、およびそれらの気泡から分離する気泡は、浮力によって上昇する。図4-2に、光検出装置の取り付け位置によってプラズマ光の検出の安定性が異なることを説明する図を示す。図4-2(A)には、電極近傍にのみ気泡106が存在する場合を図示している。図4-2(B)には、気泡106、および気泡106が第1の電極104から離れた後の気泡406が浮力によって上昇している場合を示す。気泡106内で形成されるプラズマによる発光は、光検出装置に到達するまでに液体と気体の界面で屈折、散乱等を起こす。
 図4-2(A)に示すように、単一の気泡のみが存在している場合は、屈折や散乱の回数が少ないので、第1の電極104から見て、気泡の浮力方向に接地した光検出装置110Aに到達する光は比較的安定である。しかしながら、気泡が大量に形成され、浮力によって上昇すると、第1の電極104から見て、浮力方向には気泡が数多く存在することになるため、液体と気体の界面の数が増加し、その分、屈折、散乱の回数が増加することとなる。これによって、図4-2(B)に示すように、第1の電極104から見て、気泡の浮力による進行方向に設置した光検出装置110Aでは、発生したプラズマ光を検出できない、もしくは到達する光が相当に減衰していることがある。気体を導入して形成される気泡の形状や個数は、比較的制御が困難であることから、液体と気体の界面を制御することも困難である。以上より、光検出装置を気泡の浮力による進行方向に設置すると、液体中の元素をプラズマ光により高感度に分析できないことが想定される。
 一方、図4-2(A)および図4-2(B)においても、第1の電極104から見て、気泡の浮力による進行方向とは反対側の方向(電極104の下側)では、気泡の数が少ないので屈折または散乱の回数が少ない。そのため、この方向に光検出装置110を配置すると、プラズマ光を安定して検出することができる。
 そこで本実施の形態では、光検出装置を、第1の電極104から見て、気泡の浮力による進行方向とは異なる方向、例えば、気泡の浮力による進行方向と90度より大きい角度をなす方向に配置され、特に180度の角度をなす方向に配置する。具体的には、図4において、光検出装置110は、例えば、θ=90度となる位置から、θ=180度となるまでの位置にあってよい。より具体的には、図4において一点鎖線で表される位置に、プラズマ光を検出する部分が位置するように、光検出装置110を配置してよい。θ=90度以上の方向においては、気泡の数が少ないことによる。あるいは、光検出装置は、θが例えば90度以上となるように、図面の紙面の上方または下方に配置されてよい。
 このように光検出装置110を配置することによって、プラズマ光が光検出装置110に到達するまでの、液体と気体の界面数を少なくすることができ、例えば、実質的に1とすることができる。これによって、屈折や散乱が予測可能なものとなるため、光検出装置110の設置箇所を制御することによって高感度にプラズマ光を検出することができる。すなわち、高感度に液体中の元素を分析することが可能となる。
 本実施の形態のように処理槽108が設けられている構成においては、光検出装置110を第1の電極104から見て、気泡の浮力による進行方向とは異なる方向に予め設置しておくことができる。別の形態において、実施の形態2のように処理槽が無く、モジュールを液体に浸漬する装置を使用する場合には、光検出装置の位置を予め決定することが困難な場合がある。その場合には、例えば、液体に電極を浸漬した状態で、気泡を発生させて浮力の方向を確認してから、プラズマ光が安定して検出できる位置に光検出装置を配置してよい。例えば、電極の先端にランプを取り付け、気泡を発生した状態でランプからの光の屈折および散乱により、安定して光が検出される方向を見極めるようにしてよい。
(実施例)
 図4-3に光検出装置の取り付け位置によってプラズマ光の検出が異なる実施例の結果を示す。図4-3(A)に、純水におけるプラズマ光スペクトルを示す。図4-3(A)に示すH(655nm)とO(777nm)の発光強度に着目し、20秒間放電を続けた場合の光検出装置の受光強度の変動を測定した。測定は、光検出装置を図4においてθ=0°となる位置に設置した場合と、θ=90°となる位置に設置した場合の両方について実施した。図4-3(B)にはθ=0°の場合の受光強度を、図4-3(C)にはθ=90°の場合の受光強度を示す。
 図4-3(B)に示すように、θ=0°、すなわち気泡の浮力方向とほぼ同じ方向に光検出装置を設置した場合は、ランダムに存在する気泡の影響によって、受光強度が大きく変動していることが確認できた。一方、図4-3(C)に示すように、θ=90°、すなわち液体と気体の界面数が少ない状態で光を検出すると、20秒間にわたって受光強度は安定していることが確認できた。この結果、受光強度が安定するように光検出装置の場所を選択することで、高感度にプラズマ光を検出し、元素分析が可能であることがわかった。
(実施の形態5)
 本実施の形態では、実施の形態1の構成に、制御装置520、気泡検出装置530を追加し、制御装置520によって気泡検出装置530および光検出装置110を制御する態様について説明する。図5を用いて本実施の形態について説明する。
 気泡の有無もしくは気泡の形状は時間の経過とともにランダムに変化するため、気泡と液体の界面を厳密に制御することは困難である。
 本実施の形態の元素分析装置においては、液体中において第1の電極104の導電体が露出している表面が、気泡106によって覆われているときに、第1の電極104および第2の電極間に電圧を印加して、当該気泡106内でプラズマを発生させる。そのため、気泡106が形成されていないときには、プラズマが生成せず、ひいてはプラズマからの発光が得られない。そこで、プラズマ発生のタイミングを逃さずに発光スペクトルを得るためには、光検出装置110の露光時間を大きくする必要がある。しかし、露光時間が大きいと、光検出装置110の検出量が飽和することがあるので、光検出装置110の露光時間をある程度絞らなければならないことも多い。具体的には、例えば、ミリ秒程度の時間の信号を積算し、複数回の信号の平均値を取る処理などが行われる。
 光検出装置110として、例えば一般的なCCDを用いる場合、微視的な時間で見れば偶発的である放電のタイミングに同期させて光が検出されるわけではない。そのため、露光を行っているミリ秒単位の時間内に、電極104付近に気泡が形成されていない場合には、光検出量はほぼ0となり、検出感度が低減する。そこで、本実施の形態においては、気泡検出装置530が気泡を検出している場合に、光検出装置110の露光を制御装置520で制御する。この構成によれば、プラズマ光が生じていない間の露光を抑制することができるため、装置の全体的な測定感度(または分析感度)を向上させることが可能となる。
 また、実施の形態4で説明したように、気泡と被処理水の界面の状態によってプラズマ光の屈折や散乱の状態が異なる。このため、気泡の形状の違いによって、光検出装置が検出するプラズマ光の状態が異なることとなる。
 そこで本実施の形態では、気泡検出装置530を用いて気泡の有無、および形状を検出し、その検出結果に合わせて制御装置520が光検出装置110を制御する。例えば、図5に示すように光検出装置を複数(図5では2つ設けた例を示す)設置し、気泡の形状から想定される光路上に存在する光検出装置110を制御装置520によって選択する。すなわち、制御装置520は、気泡検出装置530による検出結果に基づいて、複数の光検出装置110のうちのいずれかによって発光スペクトルを検出するよう制御する。こうすることによって、光検出装置がプラズマ光を検出しない場合の信号を用いることがなくなるため、高感度に元素分析を行うことができる。
 また、図示はしていないが、光検出装置110を可動としてよい。その場合、気泡検出装置530の結果に基づいて、想定される光路上に光検出装置110を移動させる。こうすることによっても、高感度に元素分析を行うことができる。
 本実施の形態では、気泡検出装置530としては、高速度カメラを用いることができる。第1の電極104近傍の気泡106に焦点を合わせて高速度カメラを設置する。所定のアルゴリズムを用いて気泡の形状を判断し、制御装置520に判断結果を転送する。制御装置520は、気泡検出装置530の判断結果を元に、電源101および光検出装置110にフィードバックをかける。例えば、高速度カメラが撮影した画像のコントラストから第1の電極104近傍に気泡106が存在するか否かを演算処理装置を用いて判断し、結果を制御装置520にフィードバックすることができる。また、気泡の形状を検出することによって光路を推定し、光路上に存在する光検出装置110を選択する。その他、気泡の検出方法については、既知の画像検出方法を用いることができる。これによって、気泡が存在する場合のみ電圧を印加することができ、無駄な電力消費を無くすことができるとともに、より高感度に元素分析を行うことが可能となる。
 あるいは、気泡検出装置としては、発光受光素子を用いることができる。例えば発光素子として半導体レーザまたは発光ダイオード(LED)を、受光素子としてフォトダイオードを用いることができる。図6に発光素子および受光素子を用いた気泡検出装置による気泡検出方法を模式的に示す。第1の電極104の先端の気泡付近にレーザの光路が存在するように、発光素子を設置する。気泡が存在しない条件で受光する位置に受光素子を設置する(図6(a))。気泡が発生すると、屈折率が変動するため、レーザの光路が変化し、受光素子において受光する光の量が変動する(図6(b))。プラズマ放電することで、光が発生し、光検出装置の干渉要因となりうるが、あらかじめ条件を設定することによって、そのような干渉を回避することができる。例えば、プラズマの放電スペクトルに干渉しないように、半導体レーザの波長を設定することができる。所定の値を閾値にし、受光素子の信号を制御装置に転送する。制御装置は、気泡検出装置の結果をもとに電源にフィードバックをかける。これによって、無駄な電力消費を無くすことができる。光検出装置の使用は比較的安価に気泡検出装置を構成することを可能にする。
 以下に、気泡検出装置として発光受光素子を用いた気泡検出の例を説明する。図7に示すように、発光素子である発光ダイオード(中心波長610nm)の中心光路が電極先端部の気泡付近に存在するように、透明な処理槽の片側に発光ダイオードを設置した。また、発光ダイオードからの光を受光してその光量を測定する受光素子である照度センサを、気泡が存在しない条件でその感度が最大となるように、発光ダイオードを設置した処理槽の側と反対の側に設置した。発光ダイオードと照度センサは図7に示すように合計3対設置した。また、それぞれの対の間隔は1cmとした。図7においては、発光ダイオードと照度センサの対を、電極に近いものから順に、No.1~3として示している。
 照度センサが発生する電圧は、それの受光量によって変化する。そこで、照度センサの発生電圧を市販のデータロガーを用いて検出し、気泡の発生の有無による発生電圧の変化を測定した。測定は100ms間隔で実施した。照度センサにおいては、光学フィルターを用いなかった。気泡の導入および発光ダイオードの電源は表1に示すように制御した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 図8に示すように、発光ダイオードの電源がOFFの状態である0~4秒の領域では、No.1~3における照度センサの発生電圧はいずれもほぼ0Vであった。次に4~9秒の領域で外部から気体を供給し、発光ダイオードの電源をONの状態にしたところ、気泡が光路に存在するNo.1の照度センサの発生電圧のみが、気泡の発生に応じて変動することを確認した。具体的には、発生電圧が、0.5V~2.2Vの間で気泡の有無に合わせて変動することを確認した。気泡が光路に存在しないNo.2、No.3の照度センサの発生電圧は、気泡の発生の有無によらず、2.2Vで一定であった。
 次に、9~12.5秒の領域で発光ダイオードの電源をONの状態にして、気体の供給を停止した。その領域では、No.1の照度センサの発生電圧も、No.2、No.3の照度センサと同様に、2.2Vであり略一定であった。最後に12.5~20秒の領域で再度気体を供給した。その領域では、No.1の照度センサの発生電圧のみが、再度、気泡の発生に応じて変動した。よって、この例により、気泡検出装置として発光受光素子を利用できることを確認することができた。この例では、データロガーの性能上100ms間隔での測定を行った。データロガーの測定間隔を短くすることによって、さらに検出感度を上げることができる。
 上記の例において、発光ダイオードに代えて、半導体レーザを用いることも可能である。さらに、発光素子と受光素子は必ずしも対にする必要はない。例えば、発光素子を、処理槽全体を照らず照明装置としてもよい。あるいは、発光素子および受光素子は、マトリックス状に配置することも可能である。その場合、二次元的に気泡の有無を検知することも可能であり、例えば、気泡のサイズ(または気泡の広がりの度合い)や気泡の形状を合わせて検出することも可能である。
 あるいは、気泡検出装置としては、超音波などの音波を用いた検出装置を用いることができる。発光受光素子の場合と同様に、気泡形成部を音波が通過するように検出装置をセットする。光の場合と同様に、気泡の有無によって音波の進行路が変化するため、その変動を検出することによって気泡の有無を検出することができる。また、気泡の流速をもとに、ドップラー効果によって音波の波長シフトを検出することも可能である。この場合、発光受光素子の場合と同様にマトリックス状に形成することによって気泡の形状を検出することが可能となる。
 なお、本実施の形態は実施の形態1の元素分析装置をベースとしている。本実施の形態は、実施の形態2の元素分析装置に、気泡検出装置および制御装置を追加した構成のものとして提供してよい。実施の形態2の分析装置を使用するときには、液体に第1および第2の電極を浸漬するときの電極の角度等によって、気泡の状態が大きく変わることがある。そのため、実施の形態2の分析装置においては、気泡に応じて光検出装置を制御することがより必要となり、気泡検出装置および制御装置を用いることによって、気泡の状態を正確に把握し、正確に光検出装置にプラズマ光を導くことが可能となる。
 本発明の一実施形態にかかる元素分析装置は、低消費電力で高感度な元素分析を行うことができるため、例えば上下水の水質管理、工場の廃液管理、または農業や花の栽培に用いる養液の濃度管理に用いることができる。また、本発明の別の実施形態にかかる元素分析装置は可搬性に優れ、種々の場所で例えば水質を容易に分析することを可能にする。
 101 パルス電源
 102 第2の電極
 103 絶縁体
 104 第1の電極
 105 ポンプ
 106 気泡(気流)
 107 プラズマ
 108 処理槽
 109 被処理水
 110 光検出装置
 211 モジュール
 320 気体選択装置
 520 制御装置
 530 気泡検出装置

Claims (12)

  1.  液体を入れる処理槽内に少なくとも一部が配置される第1の電極と、
     前記処理槽内に少なくとも一部が配置される第2の電極と、
     前記処理槽内に前記液体を入れたときに前記液体内に気泡を発生させる気泡発生部であって、前記第1の電極の前記処理槽内に位置する表面のうち、少なくとも導電体が露出している表面が前記気泡内に位置するように、前記気泡を発生させる気泡発生部と、
     前記気泡を発生させるのに必要な量の気体を、前記処理槽の外部から前記気泡発生部に供給する気体供給装置と、
     前記第1の電極と前記第2の電極との間に電圧を印加する電源と、
     前記電圧を印加した際に発生するプラズマの発光スペクトルを測定する光検出装置と、を有し、
     前記処理槽は少なくとも一部は光学的に透明であり、
     前記光検出装置が測定した発光スペクトルから、前記処理槽内に入れられる液体に含まれる成分の定性または定量分析を実施する元素分析装置。
  2.  第1および第2の電極と、
     気体を供給する気体供給装置と、
     気泡を発生させる気泡発生部と、
     前記第1の電極と前記第2の電極との間に電圧を印加する電源と、
     前記電圧を印加した際に発生するプラズマの発光スペクトルを測定する光検出装置と、を有する元素分析装置であって、
     前記第1の電極の少なくとも一部、および前記第2の電極の少なくとも一部は、同時に液体に浸漬されるようになっており、
     前記気泡発生部は、前記第1の電極の少なくとも一部が液体に浸漬されたときに、前記気体供給装置から供給された気体を前記液体内に供給し、前記液体内に、前記第1の電極の前記液体内に位置する表面のうち、少なくとも導電体が露出している表面が前記気泡内に位置するように、前記気泡を発生し、
     前記光検出装置が測定した発光スペクトルから、前記液体に含まれる成分の定性または定量分析を実施する
    元素分析装置。
  3.  前記気体供給装置から異なる気体が供給されることを可能にする、気体選択装置をさらに有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の元素分析装置。
  4.  前記光検出装置が、前記第1の電極から見て、前記気泡の浮力による進行方向とは異なる方向に配置されている、請求項1ないし3のいずれかに記載の元素分析装置。
  5.  前記第1の電極が、開口部を有する中空の筒状であり、
     前記第1の電極の外周面に接して、絶縁体が配置されており、
     前記気泡発生部は、前記第1の電極の開口部から気泡を発生させるものであり、
     前記第1の電極の外周面に絶縁体が配置されており、
     前記気泡発生部は、前記第1の電極の前記処理槽内に位置する表面のうち前記絶縁体が配置されておらず、前記導電体が露出している表面が前記気泡内に位置するように、前記気泡を発生させる、請求項1ないし4のいずれかに記載の元素分析装置。
  6.  前記絶縁体が光学的に透明である請求項5に記載の元素分析装置。
  7.  前記絶縁体が石英を含む、請求項6に記載の元素分析装置。
  8.  前記第1の電極の少なくとも導電体が露出している表面が前記気泡内に位置していることを検出するか、あるいは前記気泡の形状を検出する気泡検出装置と、
     前記気泡検出装置の検出結果に基づいて前記気体供給装置、前記電源、前記光検出装置のいずれか、またはその組み合わせを制御する制御装置をさらに有する請求項1または2に記載の元素分析装置。
  9.  前記光検出装置を複数有し、
     前記制御装置は、前記気泡検出装置による検出結果に基づいて、前記複数の光検出装置のいずれか1または複数によって発光スペクトルを検出するよう前記複数の光検出装置を制御する、請求項8記載の元素分析装置。
  10.  液体中に第1の電極の少なくとも一部と、第2の電極の少なくとも一部を浸漬すること、
     前記液体中に浸漬された前記第1の電極と前記第2の電極との間に、電源を用いて電圧を印加すること、および
     前記液体中に配置された気泡発生部に気体供給装置から気体を供給して前記液体中に気泡を発生させること
    を含み、
     前記気泡を、前記第1の電極の前記液体中に位置する表面のうち、少なくとも導電体が露出している表面を前記気泡内に位置させるように発生させ、
     前記電圧を印加することにより、前記気泡内にプラズマを発生させ、
     前記気泡内に発生させたプラズマの発光スペクトルを光検出装置で測定し、前記発光スペクトルから、前記処理槽内に入れられる液体に含まれる成分の定性または定量分析を実施する、
    元素分析方法。
  11.  前記光検出装置を、前記第1の電極から見て、前記気泡の浮力による進行方向とは異なる方向に配置することをさらに含む、請求項10に記載の元素分析方法。
  12.  前記気泡発生部に供給する気体を複数の気体から選択すること、および
     選択した気体を前記気体供給装置から前記気泡発生部に供給すること
    をさらに含む、請求項10または11に記載の元素分析方法。
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