WO2012063853A1 - 窒化アルミニウム単結晶の製造装置及び製造方法 - Google Patents

窒化アルミニウム単結晶の製造装置及び製造方法 Download PDF

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single crystal
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aluminum
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鎌田 弘之
智久 加藤
長井 一郎
知則 三浦
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株式会社フジクラ
独立行政法人産業技術総合研究所
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    • C30B29/40AIIIBV compounds wherein A is B, Al, Ga, In or Tl and B is N, P, As, Sb or Bi
    • C30B29/403AIII-nitrides

Definitions

  • the present invention relates to an apparatus and a method for manufacturing an aluminum nitride single crystal.
  • Aluminum nitride-based semiconductors have a wide band gap of 6.2 eV, and therefore are expected to be used for blue / ultraviolet light emitting elements, white LEDs, high voltage / high frequency power supply ICs, and the like.
  • the aluminum nitride single crystal has a small lattice mismatch with gallium nitride of 2.4%, it is also expected as a growth substrate when growing a gallium nitride based semiconductor.
  • the flux method is known as the solution method, the MOVPE method as the vapor phase method, the hydride vapor deposition method (Hydride Vapor Phase Epitaxy, HVPE), and the sublimation method.
  • the sublimation method is a powerful method for producing a bulk crystal because the growth rate is generally high.
  • the crucible which is a growth vessel, is heated to create a temperature difference between the upper and lower parts of the crucible, sublimate the raw material placed on the lower part, and the sublimation gas is regenerated in the upper growth part where the temperature is lower than the lower part.
  • aluminum nitride powder is used as a raw material.
  • aluminum gas and nitrogen gas are generated.
  • the aluminum nitride single crystal is grown around 2000 ° C., but in this temperature range, the corrosiveness of the generated aluminum gas is high. For this reason, the material which can be used for a crucible is limited. As such a material, it is known to use tantalum carbide (TaC) or tungsten (W) (Non-patent Document 1 and Patent Document 1).
  • Non-Patent Document 1 discloses that a TaC crucible is installed inside a graphite heating element.
  • Patent Document 1 discloses that the crucible is prevented from being broken by using a tungsten crucible including a wall structure that includes a large number of tungsten crystals and is expanded by absorption of aluminum.
  • Non-Patent Document 1 when the crucible described in Non-Patent Document 1 is used, there is a problem that a large amount of carbon is mixed in the grown aluminum nitride. Thus, when impurities such as carbon are mixed into the AlN crystal, the crystal quality is deteriorated. In addition, when carbon is mixed in a lump, AlN grows from this carbon as a base point and may be polycrystallized.
  • the tungsten crucible reacts with aluminum gas at a high temperature of 2320 ° C.
  • a difference in thermal expansion coefficient occurs between the place where the tungsten crucible and the aluminum gas react in the crucible and the place where the aluminum gas does not react, and the crucible may be damaged when the temperature is lowered.
  • the crucible is deformed before and after the growth due to the change in the volume of the crucible, making it difficult to use the crucible repeatedly.
  • tungsten is more expensive than carbon, which is commonly used as a crucible material in general, so that it cannot be used repeatedly is a problem in industrial use.
  • the present invention has been made in view of the above circumstances, and provides an apparatus and a method for manufacturing an aluminum nitride single crystal that can sufficiently reduce the amount of carbon mixed into an aluminum nitride crystal and can be repeatedly used.
  • the purpose is to provide.
  • Non-Patent Document 1 it was examined whether the carbon mixed in the single crystal of aluminum nitride originated from a TaC crucible as a growth vessel or a graphite heating element provided outside the Tac crucible. According to the initial expectation, the present inventors thought that it is unlikely that carbon from the graphite heating element would be mixed into the aluminum nitride single crystal because the TaC crucible was sealed. Therefore, the present inventors considered that the carbon mixed in the single crystal of aluminum nitride is derived from the TaC crucible.
  • the carbon mixed in the single crystal of aluminum nitride was mainly derived from a graphite heating element provided outside the TaC crucible, not the TaC crucible. Therefore, the present inventors considered arranging a heating element made of tungsten as a heating element provided outside the TaC crucible in order to prevent carbon derived from the heating element from being mixed into the aluminum nitride single crystal.
  • the carbon of the graphite heating element provided outside the TaC crucible is mixed into the single crystal, the aluminum gas generated in the TaC crucible leaks from the TaC crucible and reacts with the tungsten heating element. As a result, it was considered that the tungsten heating element was damaged. However, unexpectedly, the tungsten heating element was not damaged. Thus, the inventors have completed the present invention.
  • the present invention is an aluminum nitride single crystal production apparatus for producing an aluminum nitride single crystal by heating and sublimating an aluminum nitride raw material and recrystallizing the aluminum nitride into a seed crystal, which contains the aluminum nitride raw material And a growth vessel made of a material having corrosion resistance to the aluminum gas generated during sublimation of the aluminum nitride raw material, and the aluminum nitride raw material provided on the outside of the growth vessel and heating the aluminum nitride raw material via the growth vessel.
  • a heating element wherein the growth container has a main body part having a storage part for storing the aluminum nitride, and a lid body for sealing the storage part of the main body part, and the heating element contains tungsten.
  • This is an apparatus for producing an aluminum nitride single crystal made of a metal material.
  • the aluminum nitride raw material is stored in the storage portion in the main body of the growth vessel, the seed crystal is fixed to the lid, and the storage is sealed by the lid. Then, the heating element generates heat, and the aluminum nitride raw material is heated and sublimated through the growth vessel. At this time, aluminum gas and nitrogen gas are generated. Then, aluminum nitride is recrystallized on the seed crystal fixed to the lid, and an aluminum nitride single crystal is manufactured. At this time, the heating element provided outside the growth vessel is made of a metal material containing tungsten. For this reason, mixing of carbon from the heating element into the grown aluminum nitride single crystal is eliminated.
  • the growth vessel is made of a material having corrosion resistance against aluminum gas. For this reason, the growth vessel is sufficiently suppressed from being corroded by the aluminum gas. For this reason, leakage of aluminum gas from the growth vessel is sufficiently suppressed, and mixing of aluminum into the heating element is sufficiently suppressed. As a result, in the heating element, the difference in thermal expansion coefficient can be made sufficiently small. For this reason, when the temperature of the heating element is lowered, deformation of the heating element and generation of cracks in the heating element can be sufficiently suppressed.
  • the material constituting the growth vessel is a metal carbide or nitride having an ion radius of 1.37 times to 1.85 times the ion radius of aluminum. preferable.
  • the metal in the carbide or nitride of the metal since the metal in the carbide or nitride of the metal has an ionic radius larger than that of aluminum as described above, it replaces a part of aluminum in the aluminum gas generated by sublimation of the aluminum nitride raw material. Thus, the formation of a solid solution can be suppressed. For this reason, the metal carbide or nitride of the metal is more excellent in corrosion resistance against aluminum gas. Therefore, there is an advantage that impurities are less likely to be mixed into the aluminum nitride single crystal.
  • the material constituting the growth vessel is preferably at least one selected from the group consisting of tantalum carbide, zirconium nitride, tungsten nitride and tantalum nitride.
  • the metal material constituting the heating element is tungsten alone.
  • the heat resistance of the heating element can be further improved, and repeated use of the aluminum nitride single crystal manufacturing apparatus can be facilitated.
  • the heating element and the growth vessel are preferably in contact with each other.
  • the heating element and the growth vessel may be separated from each other. Even in this case, the aluminum nitride raw material can be heated through the growth vessel by the radiant heat from the heating element. If the heating element and the growth container are separated from each other, even if the aluminum gas leaks from the growth container, the heating element contacts the heating element after the aluminum gas is diluted. For this reason, the reaction between tungsten and aluminum gas is more sufficiently suppressed than in the case where the heating element and the growth vessel are in contact with each other, and deformation of the heating element when the temperature is lowered and generation of cracks in the heating element are further suppressed. It can be sufficiently suppressed.
  • the present invention is also a method for producing an aluminum nitride single crystal using the above-described apparatus for producing an aluminum nitride single crystal, wherein the aluminum nitride is provided in the housing portion of the main body of the growth vessel.
  • the heating element provided on the outside of the growth vessel is made of a metal material containing tungsten, carbon is not mixed into the grown aluminum nitride single crystal from the heating element. As a result, carbon can be sufficiently reduced in the aluminum nitride single crystal.
  • the growth vessel is made of a material having corrosion resistance against aluminum gas, the growth vessel is sufficiently suppressed from being corroded by the aluminum gas. For this reason, leakage of aluminum gas from the growth vessel is sufficiently suppressed, and mixing of aluminum into the heating element is sufficiently suppressed.
  • the difference in thermal expansion coefficient can be made sufficiently small, and the occurrence of cracks in the heating element can be sufficiently suppressed when the temperature of the heating element is lowered.
  • an apparatus and a method for manufacturing an aluminum nitride single crystal that can sufficiently reduce the amount of carbon mixed into an aluminum nitride crystal and can be repeatedly used.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing an embodiment of an apparatus for producing an aluminum nitride single crystal according to the present invention.
  • an aluminum nitride single crystal manufacturing apparatus (hereinafter simply referred to as “manufacturing apparatus”) 100 accommodates a crystal growth unit 1 in which an aluminum nitride single crystal 19 is grown and a crystal growth unit 1. And a high-frequency coil 3 wound around the housing portion 2.
  • a gas introduction port 4 and a gas discharge port 5 are formed in the storage unit 2, and an inert gas is introduced from the inert gas supply device (not shown) through the gas introduction port 4, and the inside of the storage unit 2
  • the gas is discharged through the gas discharge port 5 by a decompression device (for example, a vacuum pump).
  • nitrogen gas, argon gas, or the like is used as the inert gas.
  • an opening (not shown) for accommodating the crystal growth portion 1 is also formed in the accommodating portion 2.
  • the crystal growth unit 1 includes a growth container 7 that stores the aluminum nitride raw material 6, a heating element 8 provided outside the growth container 7, and a heat insulating material 9 that covers the heating element 8.
  • the growth vessel 7 for example, a crucible is used. Therefore, the growth vessel 7 has a main body portion 11 having a storage portion 10 for storing the aluminum nitride raw material 6 and a lid body 12 for sealing the storage portion 10 of the main body portion 11. A seed crystal 13 is fixed to the surface of the lid 12 on the storage unit 10 side.
  • the growth vessel 7 is made of a material having corrosion resistance against aluminum gas. As such a material, a metal carbide or nitride having an ionic radius of 1.37 times to 1.85 times the ionic radius of aluminum is preferable.
  • the metal in the carbide or nitride of the metal since the metal in the carbide or nitride of the metal has an ionic radius larger than that of aluminum as described above, it replaces a part of aluminum in the aluminum gas generated by sublimation of the aluminum nitride raw material. Thus, the formation of a solid solution can be suppressed. For this reason, the metal carbide or nitride of the metal is more excellent in corrosion resistance against aluminum gas. Therefore, impurities are less likely to be mixed into the aluminum nitride single crystal.
  • the metal carbide or nitride as described above include tantalum carbide (TaC), zirconium nitride, tungsten nitride, and tantalum nitride.
  • tantalum carbide is preferable because it is particularly excellent in corrosion resistance against aluminum gas.
  • the heating element 8 has a main body portion 14 that houses the growth vessel 7 and a lid body 15 that seals the main body portion 14.
  • the heating element 8 functions as a heating element that heats the aluminum nitride raw material 6 via the growth vessel 7 and is in contact with the growth vessel 7.
  • the heating element 8 generates heat when an induction current flows when a high frequency magnetic field is applied by the high frequency coil 3.
  • the heating element 8 is made of a material having a higher corrosion resistance to the aluminum gas generated during sublimation of the aluminum nitride raw material 6 than that of the growth vessel 7, that is, a metal material containing tungsten.
  • a metal material containing tungsten examples include tungsten alone, and an alloy of tungsten and a metal such as rhenium, iron, nickel, or copper. Of these, tungsten is preferable because of its excellent heat resistance.
  • the heat insulating material 9 has a main body portion 17 that houses the heating element 8 and a lid body 18 that seals the main body portion 17.
  • the heat insulating material 9 is for efficiently transferring the heat of the heating element 8 to the growth vessel 7, and is made of, for example, carbon.
  • the cover 18 of the heat insulating material 9 is removed, the cover 15 of the heating element 8 is removed, and the cover 12 of the growth vessel 7 is removed.
  • the aluminum nitride raw material 6 is stored in the storage unit 10 of the growth vessel 7.
  • the seed crystal 13 is fixed to the lid 12.
  • AlN aluminum nitride
  • SiC silicon carbide
  • the storage unit 10 of the main body 11 of the growth vessel 7 is sealed with the lid 12.
  • the lid 12 directs the seed crystal 13 toward the storage unit 10.
  • the main body 14 of the heating element 8 is sealed with the lid 15.
  • the main body 17 is sealed with the lid 18 (first step).
  • the crystal growth part 1 is accommodated inside from the opening of the accommodation part 2.
  • the container 2 is evacuated by a decompression device. Thereafter, an inert gas is introduced from the gas introduction port 4 into the accommodation unit 2 and the gas in the accommodation unit 2 is discharged from the gas discharge port 5.
  • the periphery of the crystal growth part 1 is placed in an inert gas atmosphere.
  • the inert gas include nitrogen gas and argon gas.
  • the internal pressure of the accommodating portion 2 is preferably 1.3 to 101 kPa, more preferably 13.3 to 80.0 kPa.
  • a high frequency current is applied to the high frequency coil 3, thereby applying a high frequency magnetic field to the heating element 8.
  • an induced current flows through the heating element 8 and the heating element 8 generates heat.
  • the heat of the lid 15 of the heating element 8 is transmitted to the aluminum nitride raw material 6 through the growth vessel 7, and the aluminum nitride raw material 6 is heated and sublimated.
  • the heat of the heating element 8 is efficiently transmitted to the growth container 7 and the aluminum nitride raw material 6 is efficiently heated.
  • the temperature of the aluminum nitride raw material 6 (hereinafter referred to as “raw material part temperature”) is higher than the temperature of the aluminum nitride single crystal 19 (hereinafter referred to as “growth part temperature”).
  • the raw material part temperature specifically refers to the temperature of the bottom part of the main body part 11, and the growth part temperature specifically refers to the temperature of the lid 12.
  • the raw material temperature is preferably 1800 ° C. or higher, more preferably 2000 ° C. or higher.
  • the growth rate can be increased more than when the raw material temperature is 1800 ° C. or lower.
  • the raw material part temperature is preferably set to a temperature lower than the melting point of the growth vessel 7.
  • the growth part temperature may be lower than the raw material part temperature, but is preferably lower by 50 ° C. to 200 ° C. than the raw material part temperature. In this case, a single crystal is easily obtained as compared with a case outside the above range. That is, compared with the case where it is out of the above range, the precipitation of polycrystal is more sufficiently suppressed, or the crystal is likely to grow.
  • the raw material part temperature and the growth part temperature are controlled by, for example, measuring the raw material part temperature and the growth part temperature with radiation thermometers provided on the bottom part of the main body part 14 of the heating element 8 and the lid body 15 respectively. Based on this, it can be performed by controlling the output of the high-frequency current flowing in the high-frequency coil 3.
  • the heating element 8 provided outside the growth vessel 7 is made of a metal material containing tungsten. For this reason, carbon is not mixed into the aluminum nitride single crystal 19 grown from the heating element 8. As a result, the amount of carbon mixed into the aluminum nitride single crystal 19 can be sufficiently reduced.
  • the growth vessel 7 is made of a material having corrosion resistance against aluminum gas, the growth vessel 7 is sufficiently suppressed from being corroded by the aluminum gas. For this reason, leakage of aluminum gas from the growth vessel 7 is sufficiently suppressed, and mixing of aluminum into the heating element 8 is sufficiently suppressed. As a result, the difference in thermal expansion coefficient can be made sufficiently small in the heating element 8, and deformation of the heating element 8 and generation of cracks in the heating element 8 can be sufficiently suppressed when the temperature of the heating element 8 is lowered. Can do. Therefore, the manufacturing apparatus 100 can be used repeatedly as well as once.
  • the present invention is not limited to the above embodiment.
  • the growth container 7 and the heating element 8 are in contact with each other, but the growth container 7 and the heating element 8 may be separated from each other.
  • the aluminum nitride raw material 6 can be heated via the growth vessel 7 by the radiant heat from the heating element 8. If the heating element 8 and the growth container 7 are separated from each other, even if the aluminum gas leaks from the growth container 7, the heating element 8 comes into contact with the heating element 8 after the aluminum gas is diluted. For this reason, the reaction between tungsten and aluminum gas is more sufficiently suppressed than when the heating element 8 and the growth vessel 7 are in contact with each other. Can be more sufficiently suppressed.
  • the heat generating body used for this invention does not need to be a crucible, and may have various shapes, such as plate shape, spherical shape, and rod shape.
  • the heat generating body is not limited to one, and may have a plurality of heat generating portions.
  • the plurality of heat generating portions may be in contact with each other or may be separated from each other.
  • the heating element 8 generates heat by induction heating with the high frequency coil 3, but the high frequency coil 3 is not necessarily required. In this case, the heating element 8 can be heated by resistance heating.
  • the manufacturing apparatus 100 includes the housing part 2 and the high-frequency coil 3 in addition to the crystal growth part 1, but may be configured by only the crystal growth part 1.
  • Example 1 An aluminum nitride single crystal was manufactured as follows using the manufacturing apparatus shown in FIG. That is, first, the cover 18 of the heat insulating material 9 made of carbon was removed, the cover 15 of the heating element 8 made of tungsten alone was removed, and the cover 12 of the growth vessel 7 made of tantalum carbide (TaC) was removed. . And the aluminum nitride powder which is a raw material was accommodated in the accommodating part 10 of the growth container 7. FIG. On the other hand, a seed crystal 13 having a diameter of 2 inches and a thickness of 0.5 mm was supported on the lid 12 by an adhesive. At this time, 6H—SiC (0001) was used as a seed crystal.
  • the crystal growth part 1 was installed in the accommodating part 2.
  • the inside of the accommodating part 2 was evacuated using the vacuum pump. Thereafter, nitrogen gas was introduced as an inert gas from the gas inlet 4 into the accommodating portion 2 at a flow rate of 500 sccm, and the gas in the accommodating portion 2 was discharged from the gas outlet 5. In this way, the pressure in the container 2 was maintained at 100 Torr.
  • the raw material part temperature and the growth part temperature of the growth vessel 7 were set to 1870 ° C. and 1800 ° C., respectively. Then, an aluminum nitride single crystal was grown for 200 hours.
  • Example 2 As shown in Table 1, the seed crystal was changed to the aluminum nitride crystal produced in Example 1, the pressure in the container was changed to 250 Torr, and the growth part temperature and the raw material part temperature were changed to 2000 ° C. and 2100 ° C., respectively. An aluminum nitride crystal was grown in the same manner as in Example 1 except that.
  • Example 3 As shown in Table 1, the seed crystal was changed to the aluminum nitride single crystal produced in Example 1, the pressure in the accommodating part was changed to 500 Torr, and the growth part temperature and the raw material part temperature were set to 2200 ° C. and 2320 ° C., respectively. An aluminum nitride single crystal was grown in the same manner as in Example 1 except for the change.
  • Example 2 As shown in Table 1, an aluminum nitride crystal was grown in the same manner as in Example 2 except that the constituent material of the heating element was changed to graphite and the seed crystal was changed to aluminum nitride.
  • Example 3 As shown in Table 1, aluminum nitride crystals were grown in the same manner as in Example 3 except that the constituent material of the growth vessel was changed to tungsten alone and no heating element was used.

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Abstract

 本発明は窒化アルミニウム原料を加熱して昇華させ、種結晶に窒化アルミニウムを再結晶させることにより窒化アルミニウム単結晶を製造する窒化アルミニウム単結晶の製造装置であって、窒化アルミニウム原料を収納し、窒化アルミニウム原料の昇華時に発生するアルミニウムガスに対して耐腐食性を有する材料からなる成長容器と、成長容器の外側に設けられ、成長容器を介して窒化アルミニウム原料を加熱する発熱体とを備え、成長容器が、窒化アルミニウムを収納する収納部を有する本体部と、本体部の収納部を密閉する蓋体とを有し、発熱体が、タングステンを含む金属材料で構成される窒化アルミニウム単結晶の製造装置である。

Description

窒化アルミニウム単結晶の製造装置及び製造方法
 本発明は、窒化アルミニウム単結晶の製造装置及び製造方法に関する。
 窒化アルミニウム系半導体は、6.2eVという広いバンドギャップを有することから、青色・紫外発光素子、白色LED、高耐圧・高周波電源ICなどへの利用が期待されている。また、窒化アルミニウム単結晶は、窒化ガリウムとの格子不整合が2.4%と小さいことから、窒化ガリウム系半導体を成長させる際の成長用基板としても期待されている。
 このような窒化アルミニウム単結晶の製造方法として、種々のものが知られている。例えば溶液法では、フラックス法、気相法では、MOVPE法、水素化物気相堆積法(Hydride Vapor Phase Epitaxy,HVPE)、昇華法などが知られている。中でも、昇華法は、一般的に成長速度が大きいため、バルク結晶の作製に対して有力な方法である。昇華法は、成長容器であるるつぼを加熱して、るつぼの上部および下部に温度差を設け、下部に載置した原料を昇華させ、その昇華ガスを下部より温度の低い上部の成長部において再結晶させることで結晶を成長させる方法である。この昇華法においては、原料に窒化アルミニウム粉末が用いられ、窒化アルミニウム粉末が昇華するとアルミニウムガス及び窒素ガスが発生する。窒化アルミニウム単結晶は2000℃付近で育成するが、この温度域では、発生するアルミニウムガスの腐食性が高い。このため、るつぼに使用可能な材料が限定される。このような材料として、炭化タンタル(TaC)やタングステン(W)を用いることが知られている(非特許文献1及び特許文献1)。
 具体的には、下記非特許文献1には、グラファイト製の発熱体の内側にTaCるつぼを設置することが開示されている。
 また下記特許文献1には、多数のタングステン結晶を含み、アルミニウムの吸収によって膨張されるように構成された壁組織からなるタングステンるつぼを用いることによりるつぼの破損を排除することが開示されている。
C. Hartmann et al. Journal of Crystal Growth 310(2008)930
特表2005-519841号公報
 しかし、上記非特許文献1及び特許文献1に記載のるつぼを使用した窒化アルミニウム結晶の製造方法は、以下の課題を有していた。
 即ち、非特許文献1に記載のるつぼを用いた場合、成長した窒化アルミニウムの中にカーボンが多く混入するという問題があった。このようにAlN結晶にカーボンのような不純物が混入すると、結晶品質が低下する。またカーボンが塊状に混入した場合には、このカーボンを基点としてAlNが成長してしまい、多結晶化してしまうことがあった。
 一方、特許文献1に記載のるつぼを用いた場合、2320℃という高温では、タングステンるつぼがアルミニウムガスと反応する。その結果、るつぼ内におけるタングステンるつぼとアルミニウムガスとが反応した場所と反応しない場所との間で熱膨張係数差が生じ、降温時にるつぼが破損するおそれがあった。またるつぼが破損しないまでも、るつぼの体積が変化することにより成長前後でるつぼが変形し、るつぼの繰り返し利用が困難となる。特に、タングステンは一般的にるつぼ材として良く利用されているカーボンに比べると高価であるため、繰り返し利用できないことは工業的に用いる上で問題となる。
 本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、窒化アルミニウムの結晶中へのカーボンの混入量を十分に低減でき、且つ、繰り返し利用が可能な窒化アルミニウム単結晶の製造装置及び製造方法を提供することを目的とする。
 本発明者らは上記課題を解決するため、非特許文献1において窒化アルミニウムの単結晶にカーボンが混入する原因について検討した。即ち窒化アルミニウムの単結晶に混入しているカーボンが、成長容器であるTaCるつぼに由来するのか、Tacるつぼの外側に設けられたグラファイト製の発熱体に由来するのかを検討した。当初の予想では、TaCるつぼが密閉されているため、グラファイト製の発熱体からのカーボンが窒化アルミニウム単結晶に混入することは考えにくいものと本発明者らは考えた。従って、窒化アルミニウムの単結晶に混入したカーボンは、TaCるつぼに由来するものと本発明者らは考えた。しかし、意外なことに、窒化アルミニウムの単結晶に混入したカーボンは、主として、TaCるつぼではなくTaCるつぼの外側に設けられたグラファイト製の発熱体に由来するものであった。そこで、本発明者らは、発熱体に由来するカーボンの窒化アルミニウム単結晶への混入を防止するため、TaCるつぼの外側に設ける発熱体として、タングステンからなる発熱体を配置することを考えた。ここで、TaCるつぼの外側に設けられたグラファイト製発熱体のカーボンが単結晶に混入することから、TaCるつぼ内で発生したアルミニウムガスがTaCるつぼから漏出してタングステンの発熱体と反応し、その結果、タングステンの発熱体の破損を招くことが考えられた。しかし、意外にも、タングステンの発熱体の破損は見られなかった。こうして本発明者らは、本発明を完成するに至った。
 即ち本発明は、窒化アルミニウム原料を加熱して昇華させ、種結晶に窒化アルミニウムを再結晶させることにより窒化アルミニウム単結晶を製造する窒化アルミニウム単結晶の製造装置であって、前記窒化アルミニウム原料を収納し、前記窒化アルミニウム原料の昇華時に発生するアルミニウムガスに対して耐腐食性を有する材料からなる成長容器と、前記成長容器の外側に設けられ、前記成長容器を介して前記窒化アルミニウム原料を加熱する発熱体とを備え、前記成長容器が、前記窒化アルミニウムを収納する収納部を有する本体部と、前記本体部の前記収納部を密閉する蓋体とを有し、前記発熱体が、タングステンを含む金属材料で構成される窒化アルミニウム単結晶の製造装置である。
 この製造装置によれば、成長容器の本体部における収納部に窒化アルミニウム原料が収納され、蓋体に種結晶が固定され、蓋体によって収納部が密閉される。そして、発熱体が発熱し、成長容器を介して窒化アルミニウム原料が加熱されて昇華する。このとき、アルミニウムガス及び窒素ガスが発生する。そして、蓋体に固定された種結晶に窒化アルミニウムが再結晶されて、窒化アルミニウム単結晶が製造される。このとき、成長容器の外側に設けられる発熱体は、タングステンを含む金属材料で構成されている。このため、発熱体から、成長した窒化アルミニウム単結晶へのカーボンの混入がなくなる。その結果、窒化アルミニウム単結晶へのカーボンの混入を十分に低減することができる。また成長容器は、アルミニウムガスに対して耐腐食性を有する材料からなる。このため、成長容器がアルミニウムガスによって腐食されることが十分に抑制される。このため、成長容器からのアルミニウムガスの漏出が十分に抑制され、発熱体中にアルミニウムが混入することが十分に抑制される。その結果、発熱体において、熱膨張係数差を十分に小さくすることが可能となる。このため、発熱体の降温時において、発熱体の変形や、発熱体におけるクラックの発生を十分に抑制することができる。
 上記窒化アルミニウム単結晶の製造装置においては、前記成長容器を構成する材料が、アルミニウムのイオン半径の1.37倍以上1.85倍以下のイオン半径を有する金属の炭化物または窒化物であることが好ましい。
 この場合、上記金属の炭化物または窒化物中の金属が、上記のようにアルミニウムのイオン半径よりも大きいイオン半径を有するため、窒化アルミニウム原料の昇華により発生するアルミニウムガスの一部のアルミニウムと置換して固溶体が形成されるのを抑制できる。このため、上記金属の炭化物または窒化物は、よりアルミニウムガスに対する耐食性に優れる。従って、窒化アルミニウム単結晶に不純物がより混入しにくいという利点がある。
 上記窒化アルミニウム単結晶の製造装置においては、前記成長容器を構成する材料が、炭化タンタル、窒化ジルコニウム、窒化タングステン及び窒化タンタルからなる群より選ばれる少なくとも1種であることが好ましい。
 これらの材料は、アルミニウムガスに対する耐食性により一層優れ、化学的により一層安定であるため、より一層窒化アルミニウム単結晶に不純物が混入しにくいという利点がある。
 上記窒化アルミニウム単結晶の製造装置においては、前記発熱体を構成する金属材料がタングステン単体であることが好ましい。
 この場合、発熱体の金属材料をタングステン単体とすることで、発熱体の耐熱性をより向上させることができ、窒化アルミニウム単結晶の製造装置の繰り返し利用をより容易にすることができる。
 上記窒化アルミニウム単結晶の製造装置においては、前記発熱体と前記成長容器とが接触していることが好ましい。
 この場合、発熱体から成長容器への伝熱が効率よく行われるため、窒化アルミニウム原料の昇華をより効率よく行うことができる。
 上記窒化アルミニウム単結晶の製造装置においては、前記発熱体と前記成長容器とが離間していてもよい。この場合でも、発熱体からの輻射熱によって成長容器を介して窒化アルミニウム原料を加熱することができる。また発熱体と成長容器とが離間していると、仮に成長容器からアルミニウムガスが漏出した場合でも、アルミニウムガスが希釈されてから発熱体に接触する。このため、タングステンとアルミニウムガスとの反応が、発熱体と成長容器とが接触している場合に比べてより十分に抑制され、発熱体の降温時における変形や、発熱体におけるクラックの発生をより十分に抑制することができる。
 また本発明は、上述した窒化アルミニウム単結晶の製造装置を用いて窒化アルミニウム単結晶を製造する窒化アルミニウム単結晶の製造方法であって、前記成長容器の前記本体部における前記収納部に前記窒化アルミニウム原料を収納し、前記蓋体に種結晶を固定し、前記蓋体で前記収納部を密閉する第1工程と、前記発熱体を発熱させ、前記成長容器を介して前記窒化アルミニウム原料を加熱して昇華させ、前記蓋体に固定された前記種結晶に窒化アルミニウムを再結晶させることにより前記窒化アルミニウム単結晶を製造する第2工程とを含む、窒化アルミニウム単結晶の製造方法である。
 この製造方法によれば、成長容器の外側に設けられる発熱体が、タングステンを含む金属材料で構成されているため、発熱体から、成長した窒化アルミニウム単結晶へのカーボンの混入がなくなる。その結果、窒化アルミニウム単結晶へのカーボンの混入を十分に低減することができる。また、成長容器は、アルミニウムガスに対して耐腐食性を有する材料からなるため、成長容器がアルミニウムガスによって腐食されることが十分に抑制される。このため、成長容器からのアルミニウムガスの漏出が十分に抑制され、発熱体中にアルミニウムが混入することが十分に抑制される。その結果、発熱体において、熱膨張係数差を十分に小さくすることが可能となり、発熱体の降温時において、発熱体におけるクラックの発生を十分に抑制することができる。
 本発明によれば、窒化アルミニウムの結晶中へのカーボンの混入量を十分に低減でき、且つ、繰り返し利用が可能な窒化アルミニウム単結晶の製造装置及び製造方法が提供される。
本発明に係る窒化アルミニウム単結晶の製造装置の一実施形態を示す断面図である。
 以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
 図1は、本発明に係る窒化アルミニウム単結晶の製造装置の一実施形態を示す断面図である。図1に示すように、窒化アルミニウム単結晶の製造装置(以下、単に「製造装置」と呼ぶ)100は、窒化アルミニウム単結晶19の成長が行われる結晶成長部1と、結晶成長部1を収容する収容部2と、収容部2の周囲に巻回される高周波コイル3とから構成されている。収容部2には、ガス導入口4と、ガス排出口5とが形成されており、不活性ガス供給装置(図示せず)からガス導入口4を通して不活性ガスが導入され、収容部2内のガスが、減圧装置(例えば真空ポンプ)によってガス排出口5を通して排出されるようになっている。ここで、不活性ガスとしては、窒素ガス、アルゴンガスなどが使用されるようになっている。また収容部2には、結晶成長部1を収容するための開口部(図示せず)も形成されている。
 結晶成長部1は、窒化アルミニウム原料6を収納する成長容器7と、成長容器7の外側に設けられる発熱体8と、発熱体8を覆う断熱材9とを備えている。
 成長容器7としては、例えばるつぼが用いられる。従って、成長容器7は、窒化アルミニウム原料6を収納する収納部10を有する本体部11と、本体部11の収納部10を密閉する蓋体12とを有している。蓋体12の収納部10側の面には種結晶13が固定されるようになっている。成長容器7は、アルミニウムガスに対して耐腐食性を有する材料からなる。このような材料としては、アルミニウムのイオン半径の1.37倍以上1.85倍以下のイオン半径を有する金属の炭化物または窒化物が好ましい。この場合、上記金属の炭化物または窒化物中の金属が、上記のようにアルミニウムのイオン半径よりも大きいイオン半径を有するため、窒化アルミニウム原料の昇華により発生するアルミニウムガスの一部のアルミニウムと置換して固溶体が形成されるのを抑制できる。このため、上記金属の炭化物または窒化物は、よりアルミニウムガスに対する耐食性に優れる。従って、窒化アルミニウム単結晶に不純物がより混入しにくくなる。上記のような金属の炭化物または窒化物としては、炭化タンタル(TaC)、窒化ジルコニウム、窒化タングステン及び窒化タンタルなどが挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。これらの材料は、アルミニウムガスに対する耐食性により一層優れ、化学的に特に安定であるため、より一層窒化アルミニウム単結晶に不純物が混入しにくいという利点がある。中でも、アルミニウムガスに対する耐腐食性に特に優れることから、炭化タンタルが好ましい。
 発熱体8としては、例えばるつぼが用いられる。従って、発熱体8は、成長容器7を収納する本体部14と、本体部14を密閉する蓋体15とを有している。発熱体8は、成長容器7を介して窒化アルミニウム原料6を加熱する発熱体として機能するものであり、成長容器7に接触している。発熱体8は、高周波コイル3によって高周波磁場を印加されることにより誘導電流が流され、発熱するようになっている。
 発熱体8は、窒化アルミニウム原料6の昇華時に発生するアルミニウムガスに対する耐腐食性が成長容器7よりも大きい材料、即ち、タングステンを含む金属材料で構成されている。このような金属材料としては、タングステン単体、タングステンとレニウム、鉄、ニッケル又は銅などの金属との合金が挙げられる。中でも、耐熱性に優れることから、タングステン単体が好ましい。
 断熱材9は、発熱体8を収納する本体部17と、本体部17を密閉する蓋体18とを有している。断熱材9は、発熱体8の熱を成長容器7に効率よく伝えるためのものであり、例えばカーボンなどで構成される。
 次に、上記製造装置100を用いた窒化アルミニウム単結晶の製造方法について説明する。
 まず結晶成長部1において、断熱材9の蓋体18を外し、発熱体8の蓋体15を外し、成長容器7の蓋体12を外した状態にする。
 次に、成長容器7の収納部10に窒化アルミニウム原料6を収納する。一方、蓋体12には、種結晶13を固定する。種結晶13としては通常、窒化アルミニウム(AlN)が用いられるが、炭化ケイ素(SiC)などを使用することも可能である。
 そして、蓋体12によって、成長容器7の本体部11の収納部10を密閉する。このとき、蓋体12は、種結晶13を収納部10側に向ける。続いて、蓋体15により発熱体8の本体部14を密閉する。さらに続いて、蓋体18により本体部17を密閉する(第1工程)。
 そして、結晶成長部1を、収容部2の開口部から内部に収容する。
 次に、収容部2を減圧装置により真空引きする。その後、ガス導入口4から収容部2に不活性ガスを導入するとともにガス排出口5から収容部2内のガスを排出させる。こうして、結晶成長部1の周囲を不活性ガス雰囲気下に置く。ここで、不活性ガスとしては、例えば窒素ガス、アルゴンガスなどが挙げられる。またこのとき、収容部2の内部の圧力は、好ましくは1.3~101kPaとし、より好ましくは13.3~80.0kPaとする。
 次に、高周波コイル3に高周波電流を印加し、それにより発熱体8に高周波磁場を印加する。すると、発熱体8に誘導電流が流れ、発熱体8が発熱する。そして、発熱体8の蓋体15の熱が、成長容器7を介して窒化アルミニウム原料6に伝わり、窒化アルミニウム原料6が加熱され、昇華される。このとき、発熱体8と成長容器7とが接触しているため、発熱体8の熱は、成長容器7に効率よく伝わり、窒化アルミニウム原料6が効率よく加熱される。
 こうして窒化アルミニウム原料6が、昇華点以上の温度まで加熱されると、窒化アルミニウム原料6からアルミニウムガスと窒素ガスとが発生する。
 このとき、成長容器7においては、窒化アルミニウム原料6の温度(以下、「原料部温度」と呼ぶ)が、窒化アルミニウム単結晶19の温度(以下、「成長部温度」と呼ぶ)よりも高くなるように設定する。ここで、原料部温度とは、具体的には、本体部11の底部の温度を言い、成長部温度とは、具体的には、蓋体12の温度を言う。このように成長容器7の温度プロファイルを設定することで、アルミニウムガスと窒素ガスとが、蓋体12に固定された種結晶13に付着して再結晶し、窒化アルミニウム単結晶19が成長する。こうして窒化アルミニウム単結晶19が製造される(第2工程)。
 ここで、原料部温度は、1800℃以上の温度であることが好ましく、2000℃以上であることがより好ましい。この場合、原料部温度が、1800℃以下である場合に比べて、成長速度をより増大させることができる。但し、原料部温度は、好ましくは成長容器7の融点未満の温度にする。
 また成長部温度は、原料部温度よりも低い温度であればよいが、原料部温度よりも50℃~200℃だけ低いことが好ましい。この場合、上記範囲を外れる場合に比べて、単結晶が得られやすい。即ち、上記範囲を外れる場合に比べて、多結晶の析出がより十分に抑制されたり、結晶が成長しやすくなったりする。
 原料部温度および成長部温度の制御は、例えば、発熱体8の本体部14の底部、及び蓋体15にそれぞれ設けた放射温度計で原料部温度および成長部温度を測定し、その測定結果に基づいて高周波コイル3に流れる高周波電流の出力を制御することにより行うことができる。
 また成長容器7の外側に設けられる発熱体8は、タングステンを含む金属材料で構成されている。このため、発熱体8中から成長した窒化アルミニウム単結晶19へのカーボンの混入がなくなる。その結果、窒化アルミニウム単結晶19へのカーボンの混入量を十分に低減することができる。
 また成長容器7は、アルミニウムガスに対して耐腐食性を有する材料からなるため、成長容器7がアルミニウムガスによって腐食されることが十分に抑制される。このため、成長容器7からのアルミニウムガスの漏出が十分に抑制され、発熱体8中にアルミニウムが混入することが十分に抑制される。その結果、発熱体8において、熱膨張係数差を十分に小さくすることが可能となり、発熱体8の降温時において、発熱体8の変形や、発熱体8におけるクラックの発生を十分に抑制することができる。よって、製造装置100を1回のみならず、繰り返し利用することが可能となる。
 本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。例えば上記実施形態では、成長容器7と発熱体8とが接触しているが、成長容器7と発熱体8とは離間していてもよい。この場合でも、発熱体8からの輻射熱によって成長容器7を介して窒化アルミニウム原料6を加熱することができる。また発熱体8と成長容器7とが離間していると、仮に成長容器7からアルミニウムガスが漏出した場合でも、アルミニウムガスが希釈されてから発熱体8に接触することになる。このため、タングステンとアルミニウムガスとの反応が、発熱体8と成長容器7とが接触している場合に比べてより十分に抑制され、発熱体8の降温時における変形や、発熱体8におけるクラックの発生をより十分に抑制することができる。なお、本発明に用いる発熱体は、るつぼである必要はなく、板状、球状、棒状等、種々の形状を有していてもよい。また発熱体は、1つに限らず、複数の発熱部を有していてもよい。ここで、複数の発熱部は、互いに接触していても、離間していてもよい。
 また上記実施形態では、発熱体8は、高周波コイル3により誘導加熱によって発熱しているが、高周波コイル3は必ずしも必要ではない。この場合、抵抗加熱によって発熱体8を発熱させることが可能である。
 さらに上記実施形態では、製造装置100は、結晶成長部1のほか、収容部2、高周波コイル3を備えているが、結晶成長部1のみで構成されてもよい。
 以下、本発明の内容を、実施例を挙げてより具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。
 (実施例1)
 図1に示す製造装置を用いて以下のようにして窒化アルミニウム単結晶を製造した。即ち、まずカーボンからなる断熱材9の蓋体18を外し、タングステン単体からなる発熱体8の蓋体15を外し、炭化タンタル(TaC)からなる成長容器7の蓋体12を外した状態にした。そして、成長容器7の収納部10に、原料である窒化アルミニウム粉末を収納した。一方、蓋体12には、接着剤によって、直径2インチ、厚さ0.5mmの種結晶13を担持させた。このとき、種結晶としては、6H-SiC(0001)を用いた。
 そして、蓋体12で、成長容器7の本体部11の収納部10を密閉した。続いて、蓋体15により発熱体8の本体部14を密閉し、最後に蓋体18により本体部17を密閉した。
 そして、結晶成長部1を収容部2内に設置した。次に、収容部2内を真空ポンプを用いて真空引きした。その後、ガス導入口4から収容部2に不活性ガスとして窒素ガスを500sccmの流量で導入するとともに、ガス排出口5から収容部2内のガスを排出させた。こうして収容部2内の圧力を100Torrに保持した。
 次に、高周波コイル3に高周波磁場を印加して発熱体8を発熱させ、成長容器7を介して窒化アルミニウム粉末を加熱した。このとき、成長容器7の原料部温度と、成長部温度はそれぞれ、1870℃及び1800℃となるようにした。そして、200hにわたって窒化アルミニウム単結晶を成長させた。
 (実施例2)
 表1に示すように、種結晶を、実施例1で作製した窒化アルミニウム結晶に変更し、収容部内の圧力を250Torrに変更し、成長部温度と原料部温度をそれぞれ2000℃、2100℃に変更したこと以外は実施例1と同様にして窒化アルミニウム結晶を成長させた。
 (実施例3)
 表1に示すように、種結晶を、実施例1で作製した窒化アルミニウム単結晶に変更し、収容部内の圧力を500Torrに変更し、成長部温度と原料部温度をそれぞれ2200℃、2320℃に変更したこと以外は実施例1と同様にして窒化アルミニウム単結晶を成長させた。
 (比較例1)
 表1に示すように、発熱体の構成材料を黒鉛に変更したこと以外は実施例1と同様にして窒化アルミニウム結晶を成長させた。
 (比較例2)
 表1に示すように、発熱体の構成材料を黒鉛に変更し、種結晶を窒化アルミニウムに変更したこと以外は実施例2と同様にして窒化アルミニウム結晶を成長させた。
 (比較例3)
 表1に示すように、成長容器の構成材料をタングステン単体に変更し、発熱体を使用しなかったこと以外は実施例3と同様にして窒化アルミニウム結晶を成長させた。
 実施例1~3及び比較例1~3で得られた窒化アルミニウムの単結晶について、成長速度、結晶性、カーボン濃度、及び成長容器におけるクラックの有無を以下のようにして調べた。
 (成長速度)
 窒化アルミニウム単結晶の厚さを測定し、下記式:
成長速度(μm/h)=(窒化アルミニウム単結晶の厚さ)/200h
に基づいて成長速度を算出した。結果を表1に示す。
 (結晶性)
 窒化アルミニウム単結晶について、X線回折装置を用いて窒化アルミニウム(0002)反射のロッキングカーブを得た。そして、このロッキングカーブの半値幅(FWHM:Full Width at Half Maximum)を測定した。結果を表1に示す。
 (カーボン濃度)
 窒化アルミニウム単結晶について、二次イオン質量分析計(SIMS:Secondary Ion Mass Spectrometry)でカーボン濃度の定量分析を行った。結果を表1に示す。
 (成長容器におけるクラックの有無)
 成長容器におけるクラックの有無を目視にて観察した。結果を表1に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
 表1に示す結果より、実施例1~3の窒化アルミニウム単結晶においてはカーボン濃度が100ppmを下回っており、成長容器においてクラックの発生は見られないことが分かった。これに対し、比較例1~2の窒化アルミニウム単結晶においては、成長容器においてクラックの発生が見られなかったものの、カーボン濃度が150~15000ppmと非常に高く、カーボンの混入量が十分に低減されないことが分かった。
 また比較例3の窒化アルミニウム単結晶においてはカーボン濃度が10ppmと非常に小さかったものの、成長容器にクラックが発生することが分かった。クラックが発生したのは、成長容器のタングステンとアルミニウムとが反応して成長容器が体積膨張し、窒化アルミニウム単結晶に応力が印加され、窒化アルミニウム単結晶がひずんだためと考えられる。また成長容器は非常に脆くなっており、複数回の使用は困難であった。
 なお、実施例1~3の窒化アルミニウム単結晶はいずれも、小さいFWHMを有しており、良好な結晶性を有することが分かった。これに対し、比較例1の窒化アルミニウム単結晶では、カーボン濃度が高かったためか、FWHMが広く、結晶性が低かった。また比較例2の窒化アルミニウム単結晶も、FWHMが広く、結晶性が低いものであった。比較例3は、FWHMがかなり広くなっており、結晶性がかなり低いものであった。
 以上より、本発明の窒化物単結晶の製造装置及び製造方法によれば、窒化アルミニウムの結晶中へのカーボンの混入量を十分に低減でき、且つ、繰り返し利用が可能であることが確認された。
 6…窒化アルミニウム原料
 7…成長容器
 8…発熱体
 10…収納部
 11…本体部
 12…蓋体
 13…種結晶
 14…本体部
 15…蓋体
 19…窒化アルミニウムの単結晶
 100…窒化アルミニウム単結晶の製造装置

Claims (7)

  1.  窒化アルミニウム原料を加熱して昇華させ、種結晶に窒化アルミニウムを再結晶させることにより窒化アルミニウム単結晶を製造する窒化アルミニウム単結晶の製造装置であって、
     前記窒化アルミニウム原料を収納し、前記窒化アルミニウム原料の昇華時に発生するアルミニウムガスに対して耐腐食性を有する材料からなる成長容器と、
     前記成長容器の外側に設けられ、前記成長容器を介して前記窒化アルミニウム原料を加熱する発熱体とを備え、
     前記成長容器が、前記窒化アルミニウムを収納する収納部を有する本体部と、前記本体部の前記収納部を密閉する蓋体とを有し、
     前記発熱体が、タングステンを含む金属材料で構成される窒化アルミニウム単結晶の製造装置。
  2.  前記成長容器を構成する材料が、アルミニウムのイオン半径の1.37倍以上1.85倍以下のイオン半径を有する金属の炭化物または窒化物である請求項1に記載の窒化アルミニウム単結晶の製造装置。
  3.  前記成長容器を構成する材料が、炭化タンタル、窒化ジルコニウム、窒化タングステン及び窒化タンタルからなる群より選ばれる少なくとも1種である請求項1又は2に記載の窒化アルミニウム単結晶の製造装置。
  4.  前記発熱体を構成する金属材料がタングステン単体である請求項1~3のいずれか一項に記載の窒化アルミニウム単結晶の製造装置。
  5.  前記発熱体と前記成長容器とが接触している請求項1~4のいずれか一項に記載の窒化アルミニウム単結晶の製造装置。
  6.  前記発熱体と前記成長容器とが離間している請求項1~4のいずれか一項に記載の窒化アルミニウム単結晶の製造装置。
  7.  請求項1~6のいずれか一項に記載の窒化アルミニウム単結晶の製造装置を用いて窒化アルミニウム単結晶を製造する窒化アルミニウム単結晶の製造方法であって、
     前記成長容器の前記本体部における前記収納部に前記窒化アルミニウム原料を収納し、前記蓋体に種結晶を固定し、前記蓋体で前記収納部を密閉する第1工程と、
     前記発熱体を発熱させ、前記成長容器を介して前記窒化アルミニウム原料を加熱して昇華させ、前記蓋体に固定された前記種結晶に窒化アルミニウムを再結晶させることにより前記窒化アルミニウム単結晶を製造する第2工程とを含む、窒化アルミニウム単結晶の製造方法。
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