WO2011065451A1

WO2011065451A1 - ケトン化合物及びそれを含有する除草剤

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Publication number: WO2011065451A1
Application number: PCT/JP2010/071070
Authority: WO
Inventors: 雅人高延
Original assignee: 住友化学株式会社
Priority date: 2009-11-24
Filing date: 2010-11-18
Publication date: 2011-06-03
Also published as: TW201127286A; JP2011195561A

Abstract

　式（Ｉ）で示されるケトン化合物が雑草防除効力を有する。本発明化合物の有効量を雑草、雑草が生育する土壌、又は雑草が将来生育するであろう土壌に施用することにより、雑草を防除することができる。また、本発明は式（Ｉ）で示されるケトン化合物の製造方法及び製造中間体も提供する。

Description

ケトン化合物及びそれを含有する除草剤

　本発明は、ケトン化合物及びそれを含有する除草剤に関する。

　除草剤の有効成分となる化合物の開発が広く進められ、雑草防除効力を有する化合物が見出されている。例えば、Ｔｈｅ　Ｐｅｓｔｉｃｉｄｅ　Ｍａｎｕａｌ　Ｔｈｉｒｔｅｅｎｔｈ　Ｅｄｉｄｉｏｎには多くの除草剤の有効成分となる化合物が紹介されている。

　本発明は優れた雑草防除効力を有する化合物を提供することを課題とする。
　本発明者は、式（Ｉ）で表されるケトン化合物が雑草防除効力を有することを見出し、本発明に至った。
　本発明は以下のものである。
［１］　　式（Ｉ）

で示されるケトン化合物（以下、本発明化合物と記す。）。
［２］　　式（ＩＩ）

で示される化合物とメタクロロ過安息香酸とを反応させる工程を有する［１］記載のケトン化合物の製造方法。
［３］　　［１］記載のケトン化合物と不活性担体とを含有する除草剤。
［４］　　［１］記載のケトン化合物の有効量を雑草、雑草が生育する土壌、又は雑草が将来生育するであろう土壌に施用する雑草の防除方法。
［５］　　雑草防除のための［１］記載のケトン化合物の使用。
［６］　　式（ＩＩ）

で示される化合物。
［７］　　式（ＩＩＩ）：

で示される化合物と、式（ＩＶ）：

〔式中、Ｘはハロゲン原子を表す。〕
で示される化合物とをルイス酸存在下で反応させる工程を有する［６］記載の化合物の製造方法。
［８］　ルイス酸が塩化アルミニウムである［７］記載の製造方法。
　本発明化合物は、雑草防除効力を有することから、除草剤の有効成分として有用である。
　本発明化合物は例えば以下の製造法により製造することができる。
（製造法１）
　式（Ｉ）：

で示される本発明化合物は、式（ＩＩ）：

で示される化合物とメタクロロ過安息香酸とを反応させることにより製造することができる。
　該反応は通常溶媒中で行われる。
　反応に用いられる溶媒としては、例えば、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素が挙げられる。
　反応に用いられるメタクロロ過安息香酸の量は、式（ＩＩ）で示される化合物１モルに対して、通常２~４モルの割合である。
　該反応の反応温度は、通常−２０~４０℃の範囲である。該反応の反応時間は、通常１~１０時間の範囲である。
　反応終了後は、例えば、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出した後、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、本発明化合物を単離することができる。単離された本発明化合物は、再結晶、カラムクロマトグラフィー等によりさらに精製することもできる。
（製造法２）
　式（ＩＩ）：

で示される化合物は、式（ＩＩＩ）：

で示される化合物と、式（ＩＶ）：

〔式中、Ｘは、塩素、臭素等のハロゲン原子を表す。〕
で示される化合物とをルイス酸存在下で反応させることにより製造することができる。
　該反応は、通常、溶媒中で行われる。
　反応に用いられるルイス酸としては、例えば塩化アルミニウムが挙げられる。
　反応に用いられる溶媒としては、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素が挙げられる。
　反応に用いられる試剤の量は、式（ＩＩＩ）で示される化合物１モルに対して、式（ＩＶ）で示される化合物が通常１~２モルの割合であり、ルイス酸が通常１~２モルの割合である。
　該反応の反応温度は、通常−２０~４０℃の範囲である。該反応の反応時間は、通常１~１０時間の範囲である。
　反応終了後は、例えば、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出した後、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（ＩＩ）で示される化合物を単離することができる。単離された式（ＩＩ）で示される化合物は、精製することなく、次工程に使用することができる。
（参考製造法１）
　式（ＩＩＩ）：

で示される化合物は、式（Ｖ）：

で示される化合物と硫化物塩とを反応させることにより製造することができる。
　該反応は、通常、溶媒中で行われる。
　反応に用いられる溶媒としては、例えば、１−メチル−２−ピロリドン等の非プロトン性極性化合物が挙げられる。
　該反応に用いられる硫化物塩としては、例えば、硫化ナトリウム９水和物が挙げられる。
　反応に用いられる硫化物塩の量は、式（Ｖ）で示される化合物１モルに対して、通常１~４モルの割合である。
　該反応の反応温度は通常０~１８０℃の範囲である。該反応の反応時間は通常１~２０時間の範囲である。
　反応終了後は、例えば、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出した後、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（ＩＩＩ）で示される化合物を単離することができる。単離された式（ＩＩＩ）で示される化合物は、カラムクロマトグラフィー等によりさらに精製することができる。単離された式（ＩＩＩ）で示される化合物は、精製することなく、次工程に使用することもできる。
（参考製造法２）
　式（Ｖ）：

で示される化合物は、式（ＶＩ）：

で示される化合物とパラトルエンスルホニルクロリドとを反応させることにより製造することができる。
　該反応は、通常、ピリジン等の塩基性溶媒中で行われる。
　反応に用いられるパラトルエンスルホニルクロリドの量は、式（ＶＩ）で示される化合物１モルに対して、通常１~４モルの割合である。
　該反応の反応温度は通常−１０~５０℃の範囲である。該反応の反応時間は通常１~１０時間の範囲である。
　反応終了後は、例えば、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出した後、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（Ｖ）で示される化合物を単離することができる。単離された式（Ｖ）で示される化合物は、カラムクロマトグラフィー等によりさらに精製することができる。単離された式（Ｖ）で示される化合物は、精製することなく、次工程に使用することもできる。
　式（ＶＩ）で示される化合物は、例えば、Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ（２００７）Ｖｏｌ．５０，（Ｎｏ．１２），Ｐ２８１８−２８４１記載の方法により製造できる。
　本発明化合物は優れた雑草防除の効力を有し、除草剤の有効成分として使用することができる。本発明化合物が効力を有する雑草としては、例えば、タイヌビエ、イヌホタルイ、アゼナ、ウリカワ等の水田雑草が挙げられる。
　本発明の除草剤は本発明化合物と不活性担体とを含有する。本発明の除草剤に含有される不活性担体としては、例えば液体担体及び固体担体が挙げられる。
　本発明の除草剤は、通常、本発明化合物を適当な液体担体に溶解若しくは分散する、本発明化合物と適当な固体担体と混合する、又は本発明化合物を適当な固体担体に吸着させることによって製剤化されたものである。本発明の除草剤の製剤形態としては、例えば乳剤、液剤、油剤、水和剤、粉剤、粒剤、顆粒水和剤、水溶剤、フロアブル剤、ドライフロアブル剤、ジャンボ剤、及び錠剤が挙げられる。これらの製剤には、必要に応じて、乳化剤、分散剤、展着剤、浸透剤、湿潤剤、結合剤、増粘剤、防腐剤、酸化防止剤、着色剤等の製剤補助剤が添加されている。
　本発明の除草剤には、本発明化合物が通常０．０１~９０重量％含有される。
　液体担体としては、例えば、水、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、及びエチレングリコール）、ケトン類（例えば、アセトン、及びメチルエチルケトン）、エーテル類（例えば、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、及びプロピレングリコールモノメチルエーテル）、脂肪族炭化水素類（例えば、ヘキサン、オクタン、シクロヘキサン、灯油、燃料油、及び機械油）、芳香族炭化水素類（例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、及びメチルナフタレン）、ハロゲン化炭化水素類（例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、及び四塩化炭素）、酸アミド類（例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、及びＮ−メチルピロリドン）、エステル類（例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、及び脂肪酸グリセリンエステル）、及びニトリル類（例えば、アセトニトリル、及びプロピオニトリル）が挙げられる。
　固体担体としては、植物性粉末（例えば、大豆粉、タバコ粉、小麦粉、及び木粉）、鉱物性粉末（例えば、カオリン、ベントナイト、酸性白土、クレイ等のクレイ類；滑石粉、ロウ石粉等のタルク類；珪藻土、及び雲母粉等のシリカ類）、アルミナ、硫黄粉末、活性炭、糖類（例えば、乳糖、及びブドウ糖）、無機塩類（例えば、炭酸カルシウム、及び炭酸水素ナトリウム）、及びガラス中空体が挙げられる。
　液体担体又は固体担体は、本発明の除草剤にその全量に対して通常１~９９重量％、好ましくは約１０~９９重量％の割合で含有される。
　製剤化する際に使用される乳化剤、分散剤、展着剤、浸透剤、湿潤剤等としては通常界面活性剤が用いられる。かかる界面活性剤としては、例えば、アルキル硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテルリン酸エステル塩、リグニンスルホン酸塩、ナフタレンスルホネートホルムアルデヒド重縮合物等の陰イオン系界面活性剤、及びポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルポリオキシプロピレンブロックコポリマ−、ソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン性界面活性剤が挙げられる。界面活性剤は、本発明の除草剤にその全量に対して通常０．１~５０重量％、好ましくは約０．１~２５重量％の割合で含有される。
　結合剤及び増粘剤としては、例えば、デキストリン、カルボキシメチルセルロースのナトリウム塩、ポリカルボン酸高分子化合物、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアルコール、リグニンスルホン酸ナトリウム、リグニンスルホン酸カルシウム、ポリアクリル酸ナトリウム、アラビアガム、アルギン酸ナトリウム、マンニトール、ソルビトール、ベントナイト鉱物質、ポリアクリル酸とその誘導体、カルボキシメチルセルロースのナトリウム塩、ホワイトカーボン、及び天然の糖類誘導体（例えば、キサンタンガム、グアーガム等）が挙げられる。
　製剤中の本発明化合物の含有割合は、例えば以下の通りである。
１．乳剤、水和剤、顆粒水和剤、液剤、水溶剤、フロアブル剤、錠剤、ドライフロアブル剤について：通常、１~９０重量％の割合。
２．油剤、粉剤について：通常、０．０１~１０重量％の割合。
３．粒剤、ジャンボ剤について：通常、０．０５~２５重量％の割合。
　乳剤、水和剤、顆粒水和剤、液剤、水溶剤、フロアブル剤等は、通常は水等で約１００~１００，０００倍に希釈して使用される。
　本発明の雑草の防除方法は、本発明化合物の有効量を雑草、雑草が生育する土壌、又は雑草が将来生育するであろう土壌に施用することにより行われる。本発明の雑草の防除方法は、通常本発明化合物の製剤を雑草、雑草が生育する土壌、又は雑草が将来生育するであろう土壌に施用することで行われる。
　本発明化合物を雑草防除に使用する際の施用方法は、通常の公知の農薬の施用方法と同じ方法が用いられる。かかる施用方法としては、例えば土壌処理、及び茎葉処理があげられる。本発明化合物を雑草防除に使用する場合、本発明化合物の施用量は通常、施用場所１００００ｍ^２あたり１~５０００ｇの割合である。
　本発明化合物は水田の雑草防除に使用することができる。本発明化合物を水田の雑草防除に使用する場合、本発明化合物の使用量は、通常は水田１００００ｍ^２あたり１~５０００ｇの割合である。
　本発明の除草剤は水田雑草防除用としては通常、雑草の出芽前または出芽後に施用される。
　本発明化合物が乳剤、水和剤、顆粒水和剤、水溶剤、フロアブル剤、ドライフロアブル剤等に製剤化されている場合は、本発明化合物濃度が０．１~１０００ｐｐｍになるように水で希釈した後に散布により施用される。本発明化合物が液剤、油剤、粉剤、粒剤、ジャンボ剤、錠剤等に製剤化されている場合は、該製剤は通常そのまま施用される。
　本発明の除草剤は、必要に応じて、１種以上の他の除草剤、植物生長調節剤、殺菌剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤等と同時に施用及び／又は混合して施用することができる。。
　かかる他の除草剤の有効成分としては、例えば、
（１）フェノキシ脂肪酸除草性化合物、
（２）安息香酸除草性化合物、
（３）尿素除草性化合物、
（４）トリアジン除草性化合物、
（５）ビピリジニウム除草性化合物、
（６）ヒドロキシベンゾニトリル除草性化合物、
（７）ジニトロアニリン除草性化合物、
（８）有機リン除草性化合物、
（９）カーバメート除草性化合物、
（１０）酸アミド除草性化合物、
（１１）クロロアセトアニリド除草性化合物、
（１２）ジフェニルエーテル除草性化合物、
（１３）環状イミド除草性化合物、
（１４）ピラゾール除草性化合物、
（１５）トリケトン除草性化合物、
（１６）アリールオキシフェノキシプロピオン酸除草性化合物、
（１７）トリオンオキシム除草性化合物、
（１８）スルホニル尿素除草性化合物、
（１９）イミダゾリノン除草性化合物、及び
（２１）ピリミジニルオキシ安息香酸除草性化合物
が挙げられる。
　かかる殺菌剤の有効成分としては、例えば、
（１）ポリハロアルキルチオ殺菌性化合物、
（２）有機リン殺菌性化合物、
（３）ベンズイミダゾール殺菌性化合物、
（４）カルボキシアミド殺菌性化合物、
（６）アシルアラニン殺菌性化合物、
（７）アゾール殺菌性化合物、
（８）モルフォリン殺菌性化合物、
（９）ストロビルリン殺菌性化合物、
（１０）抗生物質、及び
（１１）ジチオカーバメート殺菌性化合物
が挙げられる。
　かかる殺虫剤の有効成分としては、例えば、
（１）有機リン殺虫性化合物、
（２）カルバメート殺虫性化合物、
（３）ピレスロイド殺虫性化合物、
（４）ネライストキシン殺虫性化合物、
（５）ネオニコチノイド殺虫性化合物、
（６）ベンゾイルフェニル尿素殺虫性化合物、及び
（７）マクロライド殺虫性化合物
が挙げられる。
　本発明の除草剤には、色素、肥料（例えば、尿素等）等が混合されていてもよい。
　本発明化合物は、イネ等の作物が栽培されている農耕地において、雑草を防除することができる。

　以下に製造例、参考例、製剤例及び試験例を挙げて、本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらの例に限定されない。
製造例１
５−ベンゾイル−４−クロロ−２，３−ジヒドロベンゾ［ｂ］チオフェン−１，１−ジオキシドの合成

　４−クロロ−２，３−ジヒドロベンゾ［ｂ］チオフェン１．００ｇと塩化アルミニウム１．２０ｇとをクロロホルム１０ｍｌに加えた。この混合物に、氷冷下で塩化ベンゾイル１．０ｍｌを滴下した。この混合物を氷冷下で２時間攪拌した。氷水２０ｍｌに、反応混合物とクロロホルム２０ｍｌとを加え、次いで分液した。有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（移動相：酢酸エチル／ヘキサン＝１／１０）に付して５−ベンゾイル−４−クロロ−２，３−ジヒドロベンゾ［ｂ］チオフェンと７−ベンゾイル−４−クロロ−２，３−ジヒドロベンゾ［ｂ］チオフェンとの混合物を１．５７ｇ得た。クロロホルム２０ｍｌに、氷冷下で５−ベンゾイル−４−クロロ−２，３−ジヒドロベンゾ［ｂ］チオフェンと７−ベンゾイル−４−クロロ−２，３−ジヒドロベンゾ［ｂ］チオフェンとの混合物及び７０％メタクロロ過安息香酸３．００ｇを加えた。得られた混合物を室温で６時間攪拌した。反応混合物に飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液を１ｍｌ加えた。この溶液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液４０ｍｌで４回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮した。得られた残渣を中圧分取ＨＰＬＣ（酢酸エチル：ヘキサン＝３：７から１：１）に付して５−ベンゾイル−４−クロロ−２，３−ジヒドロベンゾ［ｂ］チオフェン−１，１−ジオキシドを１．３１ｇと７−ベンゾイル−４−クロロ−２，３−ジヒドロベンゾ［ｂ］チオフェン−１，１−ジオキシド０．１０ｇとを得た。
５−ベンゾイル−４−クロロ−２，３−ジヒドロベンゾ［ｂ］チオフェン−１，１−ジオキシド
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δｐｐｍ：３．４５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），３．６２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），７．４９−７．５３（３Ｈ，ｍ），７．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．６６−７．８０（３Ｈ，ｍ）．
７−ベンゾイル−４−クロロ−２，３−ジヒドロベンゾ［ｂ］チオフェン−１，１−ジオキシド
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δｐｐｍ：３．４４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），３．５７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），７．４９−７．５２（２Ｈ，ｍ），７．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．６２−７．６７（２Ｈ，ｍ），７．８３−７．８５（２Ｈ，ｍ）．
　以下、本発明化合物の原料化合物の製造例を参考例として示す。
参考例１
２−クロロ−６−フルオロフェニルアセトニトリルの合成

　２−クロロ−６−フルオロベンジルクロリド５０．０ｇをジメチルスルホキシド３００ｍｌに溶解した。この溶液にシアン化ナトリウム１６．０ｇを加えて２３℃で５時間攪拌した。反応混合物を水１０００ｍｌに加えて、ｔ−ブチルメチルエーテル１０００ｍｌで抽出した。有機層を飽和食塩水１０００ｍｌで洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して２−クロロ−６−フルオロフェニルアセトニトリルを４７．６ｇ得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δｐｐｍ：３．８５（２Ｈ，ｓ），７．０８−７．１０（１Ｈ，ｍ），７．２６−７．３２（２Ｈ，ｍ）．
参考例２
２−クロロ−６−フルオロフェニル酢酸の合成

　水１５０ｍｌに２−クロロ−６−フルオロフェニルアセトニトリル４７．６ｇ、及び９６％硫酸１５０ｍｌを加えた。この混合物を１２０℃で１２時間攪拌した。反応混合物に水６００ｍｌを加え、室温で２時間、さらに氷冷下で３０分間冷却した。析出した固体を濾過により集め、水３００ｍｌで洗浄し、乾燥して２−クロロ−６−フルオロフェニル酢酸を４９．２ｇ得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）δｐｐｍ：３．７０（２Ｈ，ｓ），７．２０−７．２８（１Ｈ，ｍ），７．３０−７．４４（２Ｈ，ｍ）．
参考例３
２−（２−クロロ−６−フルオロフェニル）エタノールの合成

　テトラヒドロフラン６００ｍｌに２−クロロ−６−フルオロフェニル酢酸２４．６ｇを加え、次いで氷冷下でリチウムアルミニウムヒドリド４．２０ｇを加えた。この混合物を室温で１時間攪拌し、次いで３時間加熱還流した。反応混合物を室温まで冷却した。反応混合物を氷冷した水１３ｍｌとテトロヒドロフラン５３ｍｌとの混合物を加えた。１０分後、この混合物をセライトを通して濾過し、濾過残渣をテトロヒドロフラン３００ｍｌで洗浄した。ろ液を減圧濃縮して２−（２−クロロ−６−フルオロフェニル）エタノールを１４．８ｇ得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δｐｐｍ：１．６０（１Ｈ，ｂｒ），３．０８−３．１１（２Ｈ，ｍ），３．８４−３．８８（２Ｈ，ｍ），６．９６−７．００（１Ｈ，ｍ），７．１２−７．１９（２Ｈ，ｍ）．
参考例４
２−（２−クロロ−６−フルオロフェニル）エチル　ｐ−トルエンスルホネートの合成

　ピリジン８７ｍｌに２−（２−クロロ−６−フルオロフェニル）エタノール２９．２ｇを加え、次いで氷冷下でパラトルエンスルホニルクロリド３０．０ｇを加えた。この混合物を室温で５時間攪拌した。水８７０ｍｌに反応混合物を加え、ｔ−ブチルメチルエーテル８７０ｍｌで抽出した。有機層を３．５％塩酸９００ｍｌ及び飽和食塩水９００ｍｌで順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧濃縮して２−（２−クロロ−６−フルオロフェニル）エチル　ｐ−トルエンスルホネートを４７．３ｇ得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δｐｐｍ：２．４３（３Ｈ，ｓ），３．１４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），４．２１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．１Ｈｚ），６．９０−７．００（１Ｈ，ｍ），７．１２−７．１５（２Ｈ，ｍ），７．２８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），７．７１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）．
参考例５
４−クロロ−２，３−ジヒドロベンゾ［ｂ］チオフェン　の合成

　１−メチル−２−ピロリドン４７０ｍｌに２−（２−クロロ−６−フルオロフェニル）エチル　ｐ−トルエンスルホネート４７．０ｇ及び硫化ナトリウム９水和物４０．２ｇを加えた。この混合物を１５０℃で１０時間攪拌した。水９４０ｍｌに反応混合物を加え、ｔ−ブチルメチルエーテル９４０ｍｌで抽出した。有機層を飽和食塩水１０００ｍｌで二回洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（移動相：ヘキサン）に付して４−クロロ−２，３−ジヒドロベンゾ［ｂ］チオフェンを１１．６ｇ得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δｐｐｍ：３．４０（４Ｈ，ｓ），６．９５−７．１０（３Ｈ，ｍ）．
参考例６
５−ベンゾイル−４−クロロ−２，３−ジヒドロベンゾ［ｂ］チオフェンと７−ベンゾイル−４−クロロ−２，３−ジヒドロベンゾ［ｂ］チオフェンの合成
　４−クロロ−２，３−ジヒドロベンゾ［ｂ］チオフェン３７ｇのクロロホルム３５５ｍｌに溶液に塩化アルミニウム粉末４１．６ｇを加えた。ここに氷冷下で塩化ベンゾイル３８．０ｇを滴下した。この混合物を４時間撹拌した。氷水５３３ｍｌに反応混合物を加えて分液した。有機層を水１７８ｍｌで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮して残渣８２．９ｇを得た。この残渣に、ジイソプロピルエーテル１６５ｍｌとヘキサン１６５ｍｌを加え、この混合物を３０分間加熱還流した。反応混合物を室温まで放冷し、次いで３０分間氷冷した。析出した固体を濾過により集め、５−ベンゾイル−４−クロロ−２，３−ジヒドロベンゾ［ｂ］チオフェンと７−ベンゾイル−４−クロロ−２，３−ジヒドロベンゾ［ｂ］チオフェンとの混合物４６．４ｇ得た。５−ベンゾイル−４−クロロ−２，３−ジヒドロベンゾ［ｂ］チオフェンと７−ベンゾイル−４−クロロ−２，３−ジヒドロベンゾ［ｂ］チオフェンとの混合物４００ｍｇを、アセトニトリル６ｍｌに溶解して、得られた溶液をＯＤＳ中圧カラム〔移動相：アセトニトリル／水＝８６％／１４％（容量％）〕に付し、　５−ベンゾイル−４−クロロ−２，３−ジヒドロベンゾ［ｂ］チオフェンを３５０ｍｇ、７−ベンゾイル−４−クロロ−２，３−ジヒドロベンゾ［ｂ］チオフェンを３ｍｇ得た。
５−ベンゾイル−４−クロロ−２，３−ジヒドロベンゾ［ｂ］チオフェン

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）：３．４５（４Ｈ，ｓ），７．１４~７．１８（２Ｈ，ｍ），７．４４~７．４８（２Ｈ，ｍ），７．５７~７．６１（１Ｈ，ｍ），７．８１~７．８３（２Ｈ，ｍ）．
７−ベンゾイル−４−クロロ−２，３−ジヒドロベンゾ［ｂ］チオフェン

^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３）δ（ｐｐｍ）：３．３４~３．４６（４Ｈ，ｍ），７．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２９Ｈｚ），７．４４~７．５０（３Ｈ，ｍ），７．５５~７．６０（１Ｈ，ｍ），７．７０~７．７２（２Ｈ，ｍ）．
　次に、本発明化合物を含有する製剤例を示す。
製剤例１
　　本発明化合物　　　　　　　　　　　　　５０重量％
　　リグニンスルホン酸ナトリウム　　　　　　５重量％
　　ポリオキシエチレンアルキルエーテル　　　５重量％
　　ホワイトカーボン　　　　　　　　　　　　５重量％
　　クレイ　　　　　　　　　　　　　　　　３５重量％
を混合粉砕して水和剤を得る。
製剤例２
　　本発明化合物　　　　　　　　　　　　１．５重量％
　　リグニンスルホン酸ナトリウム　　　　　　２重量％
　　タルク　　　　　　　　　　　　　　　　４０重量％
　　ベントナイト　　　　　　　　　　　５６．５重量％
を混合し、水を加えて練り合わせ造粒して粒剤を得る。
　次に、本発明化合物が雑草の防除に有用であることを試験例に示す。
試験例１
プラスチックポット（φ９ｃｍ×１０ｃｍ）に土を詰め、水を入れて代掻きし、３日間静置した。このポットにアゼナ種子を混ぜた土を均一に蒔き、温室内（２０~２５℃）で６日間放置した。このポットに深さ３ｃｍになるように水を入れた。次いで、このポットに、試験化合物をアセトンで溶解して純水で希釈した薬液を所定薬量分入れた。薬剤処理３週間後に、アゼナに対する除草効果を観察し、１１段階評価（０：無作用~１０：完全枯殺）を行った。その結果、本発明化合物は４０００ｇ／ｈａの処理薬量で効力８を示した。

　本発明化合物は雑草防除効力を有する。本発明化合物の有効量を雑草、雑草が生育する土壌、又は雑草が将来生育するであろう土壌に施用することにより、雑草を防除することができる。

Claims

　式（Ｉ）

で示されるケトン化合物。
　式（ＩＩ）

で示される化合物とメタクロロ過安息香酸とを反応させる工程を有する請求項１記載のケトン化合物の製造方法。
　請求項１記載のケトン化合物と不活性担体とを含有する除草剤。
　請求項１記載のケトン化合物の有効量を雑草、雑草が生育する土壌、又は雑草が将来生育するであろう土壌に施用する雑草の防除方法。
　雑草防除のための請求項１記載のケトン化合物の使用。
　式（ＩＩ）

で示される化合物。
　式（ＩＩＩ）：

で示される化合物と、式（ＩＶ）：

〔式中、Ｘはハロゲン原子を表す。〕
で示される化合物とをルイス酸存在下で反応させる工程を有する請求項６記載の化合物の製造方法。
　ルイス酸が塩化アルミニウムである請求項７記載の製造方法。