WO2007060834A1 - オプティカルインテグレータ、照明光学装置、露光装置、およびデバイスの製造方法 - Google Patents

オプティカルインテグレータ、照明光学装置、露光装置、およびデバイスの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2007060834A1
WO2007060834A1 PCT/JP2006/322245 JP2006322245W WO2007060834A1 WO 2007060834 A1 WO2007060834 A1 WO 2007060834A1 JP 2006322245 W JP2006322245 W JP 2006322245W WO 2007060834 A1 WO2007060834 A1 WO 2007060834A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
deflection
optical
light
refracting
optical integrator
Prior art date
Application number
PCT/JP2006/322245
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Osamu Tanitsu
Original Assignee
Nikon Corporation
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corporation filed Critical Nikon Corporation
Publication of WO2007060834A1 publication Critical patent/WO2007060834A1/ja

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
    • G02B27/0938—Using specific optical elements
    • G02B27/095—Refractive optical elements
    • G02B27/0955—Lenses
    • G02B27/0966—Cylindrical lenses
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B3/00—Simple or compound lenses
    • G02B3/02—Simple or compound lenses with non-spherical faces
    • G02B3/06—Simple or compound lenses with non-spherical faces with cylindrical or toric faces
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/70075—Homogenization of illumination intensity in the mask plane by using an integrator, e.g. fly's eye lens, facet mirror or glass rod, by using a diffusing optical element or by beam deflection
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/70091—Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
    • G03F7/70108—Off-axis setting using a light-guiding element, e.g. diffractive optical elements [DOEs] or light guides

Definitions

  • Optical integrator illumination optical apparatus, exposure apparatus, and method of manufacturing device
  • the present invention relates to an optical integrator, an illumination optical apparatus, an exposure apparatus, and a method of manufacturing a device. More specifically, the present invention relates to an optical integrator suitable for an illumination optical device of an exposure apparatus used when manufacturing a device such as a semiconductor element, an imaging element, a liquid crystal display element, and a thin film magnetic head by a lithography process. is there.
  • a light beam emitted as a light source is incident on a fly's eye lens as a wavefront splitting type optical integrator, and a large number of light sources are formed in or near the back focal plane.
  • a secondary light source Form a secondary light source.
  • the luminous flux from the secondary light source is limited via an aperture stop disposed at or near the back focal plane of the fly's eye lens, and then enters a condenser lens.
  • the aperture stop limits the shape or size of the secondary light source to the desired shape or size, depending on the desired illumination conditions (exposure conditions).
  • the light flux collected by the condenser lens illuminates the mask on which a predetermined pattern is formed in a superimposed manner.
  • the light transmitted through the mask pattern is imaged on the wafer through the projection optical system.
  • the mask pattern is projected (transferred) onto the wafer.
  • the pattern formed on the mask is highly integrated, and it is essential to obtain a uniform illuminance distribution on the wafer in order to accurately transfer this fine pattern onto the wafer.
  • Patent Document 1 US Reissue Patent Invention No. 34, 634
  • the luminous flux from the relatively large rectangular secondary light source formed by the second fly eye lens is annular or multiple poles. It will be limited by the aperture stop which has an open aperture. That is, in the prior art, on the mask and the wafer due to the light quantity loss at the aperture stop that a considerable part of the light flux from the secondary light source is blocked by the aperture stop and does not contribute to the illumination (exposure) As a result, the illuminance as an exposure apparatus decreases, and the throughput as an exposure apparatus also decreases.
  • the ultraviolet region having a short wavelength such as KrF excimer laser light with a wavelength of 248 nm or ArF excimer laser light with a wavelength of 193 nm.
  • the first fly's eye lens is made of quartz, so it is difficult to secure sufficient durability to be easily damaged by irradiation with ultraviolet light having a short wavelength. is there.
  • the present invention has been made in view of the above-mentioned problems.
  • the light quantity loss can be suppressed to a small value at the time of deformation illumination of the illumination optical device, and sufficient durability against light in the ultraviolet region having a short wavelength is provided.
  • An object of the present invention is to provide an optical integrator having
  • An object of the present invention is to provide an illumination optical device capable of stably illuminating an illuminated surface.
  • the present invention uses an illumination optical apparatus that stably illuminates a mask under a desired illumination condition, and an exposure apparatus capable of stably performing good exposure under a desired illumination condition. And a method of manufacturing the device.
  • a first embodiment of the present invention relates to a method of manufacturing a wavefront splitting type optical integrator used for light in the vacuum ultraviolet region,
  • a second aspect of the present invention provides an optical integrator manufactured by the manufacturing method of the first aspect.
  • a third aspect of the present invention is a wavefront splitting type optical integrator used for light in the vacuum ultraviolet region
  • the single optical member may include a plurality of deflection surfaces arranged to be adjacent to each other, and each of the plurality of deflection surfaces may change the traveling direction of incident light.
  • a wavefront splitting optical integrator comprising: a single optical member formed of a fluoride crystal material;
  • the single optical members are disposed adjacent to each other to form a plurality of refracting surfaces for refracting incident light, and disposed adjacent to each other to change the traveling direction of the incident light.
  • an optical integrator characterized by comprising a plurality of deflection surfaces.
  • an illumination optical device for illuminating a surface to be illuminated based on light of light source power.
  • An illumination optical apparatus is provided, which is provided with an optical integrator of the second to fourth forms disposed in an optical path between the light source and the light receiving surface.
  • an exposure apparatus comprising the illumination optical apparatus of the fifth aspect for illuminating a predetermined pattern, the photosensitive pattern being exposed to the predetermined pattern.
  • an exposure step of exposing the photosensitive substrate to the predetermined pattern and a development step of the photosensitive substrate which has been subjected to the exposure step are performed using the exposure apparatus of the sixth aspect. And providing a device manufacturing method characterized by including a developing step.
  • the optical integrator of the present invention when used for the modified illumination of the illumination optical device, the incident light is divided by the plurality of refracting surfaces and the plurality of deflecting surfaces, and the light beams divided by the wavefront are deflected.
  • the loss of light can be suppressed to a small level by only slightly blocking at the opening of the aperture stop.
  • the optical integrator of the present invention is formed of a fluoride crystal material, it is possible to secure sufficient durability even to light in the ultraviolet region with a short wavelength.
  • the illumination optical apparatus it is desirable to use an optical integrator that can suppress the light quantity loss at the time of modified illumination small and has sufficient durability to light in the ultraviolet region with a short wavelength.
  • the illuminated surface can be illuminated stably under the illumination conditions of Further, in the exposure apparatus of the present invention, good exposure can be stably performed under good illumination conditions by using an illumination optical device that stably illuminates a pattern under desired illumination conditions. Devices can be manufactured with high throughput.
  • FIG. 1 schematically shows a configuration of an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a perspective view schematically showing the configuration of a cylindrical micro fly's eye lens.
  • FIG. 3 is a view schematically showing the configuration of a micro fly's eye lens for annular illumination according to the present embodiment, wherein (a) is a view also showing the light source side force, and (b) is a mask It is the figure seen from the side.
  • FIG. 4 is a view schematically showing an annular secondary light source formed on the rear side of the cylindrical micro fly's eye lens in the present embodiment.
  • FIG. 5 is a view for explaining the configuration and operation of a micro fly's eye lens for two-pole illumination according to a first modification.
  • FIG. 6 is a view for explaining the configuration and operation of a micro fly's-eye lens for four-pole illumination according to a second modification.
  • FIG. 8 is a view for explaining the configuration and operation of a micro fly's-eye lens for four-pole illumination according to a fourth modification.
  • FIG. 10 A diagram schematically showing a configuration of a micro fly's eye lens for modified annular illumination as in the second embodiment, wherein (a) is a view as seen from the light source side, (b) Is a view from the mask side.
  • FIG. 11 A view schematically showing a deformed ring-shaped secondary light source formed by a micro fly's-eye lens for deformed orbicular zone illumination according to a second embodiment.
  • FIG. 12 is a view for explaining the configuration and operation of a micro fly's eye lens for three-pole illumination according to a sixth modification.
  • FIG. 13 is a diagram for describing the configuration and operation of a micro fly's eye lens for five-pole illumination according to a seventh modified example.
  • FIG. 14 (a) shows a 3-pole secondary light source formed according to an eighth modification, (b) shows a 5-pole secondary light source formed according to the ninth modification (c FIG. 11 schematically shows a deformed annular secondary light source formed according to a tenth modification.
  • FIG. 15 is a diagram for describing a configuration of a micro fly's eye lens for two-pole illumination according to an eleventh modification.
  • FIG. 16 is a view for explaining the configuration and operation of a micro fly's eye lens for two-pole illumination according to an eleventh modification.
  • Fig. 17 is a diagram for describing the configuration and action of a micro fly's eye lens for two-pole illumination according to a twelfth modification.
  • FIG. 19 is a flow chart for explaining a third embodiment of the method for manufacturing a micro fly's eye lens for modified illumination according to each of the embodiments and the modifications.
  • FIG. 20 This is a flowchart of the method for obtaining a semiconductor device as a microdevice.
  • FIG. 21 It is a flowchart of the method at the time of obtaining the liquid crystal display element as a microdevice.
  • FIG. 1 is a view schematically showing the configuration of an exposure apparatus according to an embodiment of the present invention.
  • the Z axis is along the normal direction of the wafer W, which is a photosensitive substrate
  • the Y axis is in the direction parallel to the paper surface of FIG.
  • the X axis is set in the direction perpendicular to the plane of the paper.
  • the exposure apparatus of the present embodiment is configured to supply exposure light (illumination light).
  • a light source 1 is provided.
  • the light source 1 for example, an ArF excimer laser light source for supplying light of a wavelength of 193 nm or a KrF excimer laser light source for supplying light of a wavelength of 248 nm can be used.
  • an ArF excimer laser light source for supplying light of a wavelength of vacuum ultraviolet region (wavelength of 200 nm or less) is used as the light source 1.
  • the light emitted from the light source 1 is expanded into a light beam of a required cross-sectional shape by the shaping optical system 2, passes through the optical axis automatic tracking units 2a to 2c, and then the polarization state switching unit 3 and the micro fly's eye for annular illumination
  • the light is incident on the focal lens 5 through the lens 4.
  • the detailed configuration and action of the micro fly's eye lens 4 for annular illumination will be described later.
  • the optical axis automatic tracking unit includes one or more optical path deflecting mirrors 2a having rotation axes of two or more axes, and an angle deviation detecting unit 2b for detecting an angle deviation of the light from the light source 1 with respect to the optical axis. And a drive unit 2c that rotates (tilts) the optical path deflecting mirror 2a so as to correct the angular displacement based on the output from the angular displacement detection unit 2b, and enters the micro fly's eye lens 4 described later. It has a function to keep the angular deviation of light within a predetermined tolerance.
  • the polarization state switching unit 3 converts, in order from the light source side, elliptically polarized light incident with its crystal optical axis being configured so as to be rotated around the optical axis AX into linearly polarized light 1Z4 wavelength plate 3a And the crystal optical axis is rotatably configured about the optical axis AX to change the polarization direction of the linearly polarized light to be incident, and the depolarizer (non-polarization element) which can be inserted into and removed from the illumination light path. And 3c.
  • the polarization state switching unit 3 has a function of converting the light from the light source 1 into linearly polarized light having a desired polarization direction and causing the light to be incident on the micro fly's eye lens 4 in a state where the debinarizer 3c is retracted from the illumination light path. It has a function of converting the light from the light source 1 into substantially non-polarized light and entering the micro fly's eye lens 4 with the devolatizer 3c set in the illumination light path.
  • the front focal position of the front lens group 5a and the position of the micro fly's eye lens 4 substantially coincide, and the rear focal position of the rear lens group 5b and a predetermined surface shown by a broken line in the figure.
  • It is an afocal system (afocal optical system) set so as to substantially coincide with the position of.
  • the micro fly's eye lens 4 for annular illumination functions as a wavefront splitting type optical integrator, and also when a collimated light beam having a rectangular cross section is incident on the pupil plane of the afocal lens 5.
  • Form an annular light intensity distribution It has a function.
  • the substantially parallel light beam incident on the micro fly's eye lens 4 is emitted from the elastic lens 5 with an annular angular distribution.
  • a conical axicon system 7 is disposed at or near the pupil plane. The configuration and action of the conical axicon system 7 will be described later.
  • ⁇ value the mask side numerical aperture of the illumination optical device ⁇ the mask side numerical aperture of the projection optical system.
  • the cylindrical micro fly's eye lens 9 is composed of a first fly's eye member 9a disposed on the light source side and a second fly's eye member 9b disposed on the mask side.
  • cylindrical lens groups 9aa and 9ba arranged in the X direction are formed at pitch pi .
  • the pitches of the cylindrical lens groups 9ab and 9bb arranged in the Z direction are shown. It is formed of p2 (p2> pl). Focusing on the refracting action of the cylindrical micro fly's eye lens 9 in the X direction (that is, the refracting action on the XY plane), the collimated light beam incident along the optical axis AX is formed on the light source side of the first fly's eye member 9a.
  • the wave front is divided at a pitch pi along the X direction by the drorical lens group 9aa, and after receiving a condensing action on its refracting surface, the corresponding one of the cylindrical lens groups 9ba formed on the light source side of the second fly eye member 9b.
  • the light is collected by the refracting surface of the cylindrical lens and collected on the back focal plane of the cylindrical micro fly's eye lens 9.
  • the parallel light beam incident along the optical axis AX is the light of the first fly's eye member 9a.
  • a wavefront is divided at a pitch p2 along the Z direction by a cylindrical lens group 9ab formed on the mask side, and after receiving a condensing action on its refracting surface, a cylindrical lens formed on the mask side of the second fly member 9b Light is collected by the refracting surface of the corresponding cylindrical lens in the group 9bb to Focus on the back focal plane of the
  • the cylindrical micro fly's eye lens 9 is composed of the first fly's eye member 9a and the second fly's eye member 9b in which the cylindrical lens group is disposed on both sides. It exerts the same optical function as a micro fly's-eye lens in which a number of rectangular micro-refractive surfaces having a size of 1 and a size of p2 in the Z direction are integrally formed longitudinally and densely.
  • the change in distortion due to the variation in the surface shape of the micro refracting surface is suppressed to a small value, for example, the manufacturing error of a large number of micro refracting surfaces integrally formed by etching The influence of light on the illuminance distribution can be reduced.
  • the position of the predetermined surface 6 is disposed in the vicinity of the front focal position of the zoom lens 8, and the incident surface of the cylindrical micro fly's eye lens 9 is disposed in the vicinity of the rear focal position of the zoom lens 8.
  • the zoom lens 8 substantially arranges the predetermined surface 6 and the incident surface of the cylindrical micro fly eye lens 9 in a Fourier transform relationship, and the pupil surface of the afocal lens 5 and the cylindrical micro fly eye lens
  • the optical system is disposed substantially conjugate with the incident surface of 9.
  • a ring-shaped illumination field centered on the optical axis AX is formed on the incident surface of the cylindrical micro fly's eye lens 9, like the pupil surface of the afocal lens 5, for example.
  • the overall shape of this annular illumination field changes in a similar manner depending on the focal length of the zoom lens 8.
  • the rectangular micro-refractive surface as the wavefront division unit in the cylindrical micro fly's eye lens 9 is formed on the mask M by the shape of the illumination field to be formed (one on the wafer W, one on the wafer W). It is a rectangular shape similar to the shape of the exposure area to be formed.
  • the light beam incident on the cylindrical micro fly's eye lens 9 is divided two-dimensionally, and in the back focal plane or in the vicinity thereof (and hence the illumination pupil), substantially the same light as the illumination field formed by the incident light beam
  • a secondary light source having an intensity distribution that is, a secondary light source having a ring-shaped substantially planar light source power centered on the optical axis AX is formed.
  • a light flux having a secondary light source power formed at or near the rear focal plane of the cylindrical micro lens 9 is incident on the aperture stop 10 disposed in the vicinity thereof.
  • the aperture stop 10 is located at or near the back focal plane of the cylindrical micro fly's eye lens 9. It has a ring-shaped opening (light transmission part) corresponding to a ring-shaped secondary light source formed beside
  • the aperture stop 10 is configured to be insertable into and removable from the illumination light path, and is configured to be switchable from a plurality of aperture stops having openings of different sizes and shapes.
  • a switching method of the aperture stop for example, a known turret method or slide method can be used.
  • the aperture stop 10 is disposed at a position substantially optically conjugate with the entrance pupil plane of the projection optical system PL described later, and defines a range contributing to the illumination of the secondary light source.
  • the light of secondary light source power limited by the aperture stop 10 illuminates the mask blind 12 in a superimposed manner via the condenser optical system 11.
  • a rectangular illumination field corresponding to the shape of the rectangular minute refracting surface as the wavefront division unit of the cylindrical micro fly's eye lens 9 and the focal distance is formed.
  • the light beam passing through the rectangular opening (light transmitting portion) of the mask blind 12 illuminates the mask M on which a predetermined pattern is formed in a superimposed manner after receiving the light collecting action of the imaging optical system 13. . That is, the imaging optical system 13 forms an image of the rectangular opening of the mask blind 12 on the mask M.
  • the light flux transmitted through the pattern of the mask M held on the mask stage MS is transferred onto the wafer (photosensitive substrate) W held on the wafer stage WS via the projection optical system PL.
  • the wafer stage WS is two-dimensionally driven and controlled in a plane (XY plane) orthogonal to the optical axis AX of the projection optical system PL, and the wafer W is two-dimensionally driven and controlled collectively.
  • the pattern of the mask M is sequentially exposed on each exposure area of the wafer W.
  • various multi-pole illumination for example, by setting a micro fly's eye lens for multi-pole illumination in the illumination light path
  • Two-pole illumination, four-pole illumination, etc. can be performed.
  • various forms of modified illumination can be provided by setting a micro fly's eye lens having appropriate characteristics in the illumination light path instead of the micro fly's eye lens 4 for annular illumination.
  • a micro fly eye lens switching method for example, a known turret method or slide method can be used.
  • Conical axicon system 7 has a flat surface facing the light source side and a concave circle facing the mask side, in order from the light source side.
  • the first prism member 7a has a conical refracting surface
  • the second prism member 7b has a flat surface on the mask side and a convex conical refracting surface on the light source side.
  • the concave conical refracting surface of the first prism member 7a and the convex conical refracting surface of the second prism member 7b are formed complementarily so as to be able to abut each other.
  • first prism member 7a and the second prism member 7b is configured to be movable along the optical axis AX, and the concave conical refracting surface of the first prism member 7a and the second prism member 7a
  • the distance from the convex conical refracting surface of the prism member 7b is variable.
  • the conical axicon system 7 functions as a plane parallel plate. There is no effect on the annular or quadrupolar secondary light source formed.
  • the width of the ring-shaped or quadrupolar secondary light source (ring-shaped secondary light source Of the difference between the outer diameter and the inner diameter of 1Z2; the difference between the diameter (outer diameter) of the circle circumscribing the quadrupolar secondary light source and the diameter 1Z2 of the diameter (inner diameter) of the inscribed circle .
  • the outer diameter (inner diameter) of the ring-shaped or quadrupolar secondary light source changes. That is, the annular ratio (inner diameter Z outer diameter) and size (outer diameter) of the ring-shaped or quadrupolar secondary light source change.
  • the zoom lens 8 has a function to similarly enlarge or reduce the overall shape of the annular or quadrupolar secondary light source. For example, by enlarging the focal length of the zoom lens 8 to a predetermined value, the overall shape of the annular or quadrupolar secondary light source is similarly expanded. In other words, due to the action of the zoom lens 8, both the width and the size (outside diameter) of the annular zone of the annular or quadrupolar secondary light source are changed. As described above, the action of the conical axicon system 7 and the zoom lens 8 can control the annular ratio and the size (outside diameter) of the annular light source or quadrupolar secondary light source.
  • FIG. 3 is a view schematically showing a configuration of a micro fly's eye lens for annular illumination according to the present embodiment, wherein (a) is a view as seen from the light source side; ) Is a view as seen from the mask side, (c) is a view taken in the direction of the arrow AA ′, and (d) is a view taken in the direction of the arrow BB ′.
  • the micro fly's-eye lens 4 for annular illumination that works in this embodiment is formed of fluorite (CaF: calcium fluoride) It is configured as a single optical member (light transmitting member). As shown in FIGS.
  • Each refracting surface 4 a has a spherical convex shape (or a spherical concave shape) symmetrical with respect to each central axis parallel to the optical axis AX, and has a function of imparting a refracting action to incident light.
  • the exit side (mask side) of the micro fly's eye lens 4 corresponds to a large number of square refracting surfaces 4a.
  • a large number of square-shaped deflection surfaces 4b are formed densely arranged in the.
  • Each of the deflecting surfaces 4b has a conical surface shape that is symmetrical with respect to each central axis parallel to the optical axis AX and has an apex projecting on the outer side (emission side, mask side), and light passing through the corresponding refracting surface 4a Has the function of changing the direction of travel.
  • FIG. 7 (a), 8 (a), 9 (a), 10 (a), 10 (b), 15 (a), (b), 17 The same applies to a).
  • the micro fly's eye lens 4 is formed, for example, by physically processing a parallel flat plate made of fluorite (micromachine Jung, processing using a mold in a high temperature state, etc.).
  • the plane parallel plate made of fluorite belonging to the cubic system faces the crystal plane ⁇ 111 ⁇ with respect to the optical axis AX (that is, with respect to the traveling direction of the incident light to each refracting surface 4 a).
  • This arrangement of crystal planes can improve the easiness and stability of processing and can well suppress the influence of the birefringence of fluorite.
  • a rectangular substantially parallel light beam incident from the light source 1 to the micro fly's eye lens 4 is divided into wavefronts by a large number of square-shaped refracting surfaces 4a, and the refracting action is performed by each refracting surface 4a.
  • the received luminous flux is directed to the corresponding deflection surface 4b.
  • the light beam guided to each deflecting surface 4 b through each refracting surface 4 a is converted into a ring-shaped light beam by the deflecting action of each deflecting surface 4 b having a conical surface shape, and light is transmitted to the pupil surface of the afocal lens 5.
  • An annular light intensity distribution centered on the axis AX is formed in a superimposed manner.
  • FIG. 4 the rectangular micro refracting surface which is the wave-surface division unit of the cylindrical micro fly's eye lens 9 is shown by a broken line for clarity of the drawing, and the number thereof is displayed much smaller than the actual number. doing. This point is shown in FIGS. 5 (b), 6 (b), 7 (b), 8 (b), 9 (b), 11 (b) and 12 (b), which are related to FIG. (b) The same applies to FIGS. 14 (a) to 14 (c) and 16 (b).
  • the micro fly's eye lens 4 for annular illumination has a large number of square refracting surfaces 4 a having a wavefront dividing function, and a large number of square shapes having a light flux converting function. And the deflecting surface 4b. Therefore, the luminous fluxes divided in wavefront by each refracting surface 4a form an annular light intensity distribution on the pupil plane of the afocal lens 5 in an overlapping manner by the luminous flux converting action of each deflecting surface 4b.
  • An annular secondary light source 20 is formed at or near the back focal plane of the lens 9.
  • the shapes of the large number of refracting surfaces 4a having the wavefront dividing function and the large number of deflecting surfaces 4b having the light beam converting function are not limited to square shapes, and may be, for example, rectangular shapes.
  • the ring-shaped secondary light source 20 since the light intensity distribution of the ring-shaped band is formed by the micro fly's eye lens 4, the ring-shaped secondary light source 20 may not be limited by the aperture stop 10.
  • a secondary light source having a rectangular shape (or regular hexagonal shape or the like) similar to the shape of the wavefront division surface of the fly eye lens is formed.
  • the luminous flux is greatly restricted by the ring-shaped (or multipolar, etc.) opening, the light quantity loss at the aperture stop will be large.
  • the micro fly's-eye lens 4 for annular illumination is configured as a single optical member (light transmitting member) formed of fluorite, in other words, fluorite Since a plurality of refracting surfaces 4a and a plurality of deflecting surfaces 4b are integrally formed on a single optical member (light transmitting member) formed by the above process, it is possible to use ArF excimer laser light or KrF excimer laser light. Such a short wavelength !, sufficient durability against light in the ultraviolet region (pulsed light) can be secured. By the way, conventional fly's eye lenses made of quartz can not ensure sufficient durability to easily cause damage due to irradiation energy of ultraviolet light with short wavelength (especially pulsed light). ,.
  • a violet light attenuator having a short wavelength and capable of suppressing the light amount loss at the aperture stop 10 at the time of modified illumination such as annular illumination is used.
  • the mask (surface to be illuminated) M can be illuminated stably under a desired illumination condition.
  • the exposure apparatus (1 to PL) of the present embodiment using the illumination optical device for stably illuminating the mask M under a desired illumination condition, a good exposure can be stably performed under the desired illumination condition. be able to.
  • each deflection surface 4 b is formed in a conical surface shape.
  • Micro fly's-eye lenses for various multipole illuminations can be realized according to the same basic configuration by merely changing the surface shape of each deflecting surface which is not to be removed.
  • FIGS. 5 and 6 an example of the micro fly's eye lens for two-pole illumination with a first modification and the micro fly's eye lens for four-pole illumination with a second modification is illustrated. Explain it.
  • FIG. 5 (a) and FIG. 6 (a) are diagrams showing each deflection surface of the micro fly's eye lens for two-pole illumination, which is applied to the first modification and the second modification, as viewed from the mask side.
  • FIG. 6 (b) is a view schematically showing a two-pole secondary light source formed on the rear side of the cylindrical micro fly's eye lens 9 in the first and second modifications
  • FIG. 5 (c) and FIG. FIG. 6 (c) is a perspective view of a micro fly's eye lens for two-pole illumination according to the first modification and the second modification viewed from the mask side.
  • each deflection surface 4 lb formed on the exit side of the micro fly's lens for two-pole illumination in the first modification has a so-called roof type.
  • Have a surface shape of It is composed of two planes 41c and 41d different in normal direction. More specifically, the two flat surfaces 41c and 41d are symmetrical with respect to a ridge line 41e which bisects the square deflection surface 41b in the vertical direction in the figure, and as shown by the arrow in the figure, In Fig. 5 (a), it is inclined in the horizontal direction and in the direction of projecting outward (emission side, mask side).
  • each light flux guided to each deflection surface 41 b through each refracting surface has each roof deflection surface deflection.
  • the light beam is converted into two light beams by the deflecting action (light flux converting action) of the surface 41b, and a bipolar light intensity distribution centered on the optical axis AX is formed in a superimposed manner on the pupil plane of the afocal lens 5.
  • a two-pole illumination field having two illumination powers separated by a distance from the optical axis AX. Is formed.
  • a two-pole secondary light source consisting of la and 21b is formed.
  • the two surface light sources 21a and 21b have a rectangular shape similar to the two flat surfaces 41c and 41d of the respective deflection surfaces 41b.
  • the light flux from the bipolar secondary light source (21a, 21b) is slightly blocked by the bipolar aperture of the aperture stop, and the light quantity loss at the aperture stop Can be kept small.
  • the respective deflection surfaces 42b formed on the exit side of the micro fly-by lens for four-pole illumination with a second modification are parallel to the optical axis AX. It has a square pyramidal surface shape which is symmetrical about each central axis and whose apexes project outward on the outer side (emission side, mask side), and has four planes 42c, 42d, 42e, and 42f with different normal directions. It is configured. More specifically, the two planes 42c and 42d are horizontally inclined toward the center of each deflection plane 42b as shown by the arrows in the figure, and the two planes 426 and 42 are shown in FIG. As shown by the & arrow in the figure, the force is directed to the center of each deflection surface 42b and inclined in the vertical direction in the figure.
  • each light flux led to each deflection surface 42 b through each refracting surface has a square pyramidal surface shape. It is converted into four light fluxes by the deflection action (light flux conversion action) of the deflection surface 42b, and A quadrupole light intensity distribution centered on the optical axis AX is superimposed on the pupil plane of the lens 5. Then, on the entrance surface of the cylindrical micro fly's eye lens 9, as with the pupil surface of the afocal lens 5, there are four illumination fields of four illumination fields separated by a distance from the optical axis AX. It is formed.
  • a quadrupolar secondary light source is formed, which comprises 2a and 22b and two surface light sources 22c and 22d aligned in the vertical direction in the figure centering on the optical axis AX.
  • the two surface light sources 22a and 22b are similar in shape to the two flat surfaces 42c and 42d of each deflection surface 42b, and the two surface light sources 22c and 22d are two flat surfaces 42e and 42f of each deflection surface 42b.
  • the shape is similar to.
  • the luminous flux from the quadrupolar secondary light source (22a to 22d) is slightly blocked by the quadruple aperture of the aperture stop, and the light quantity loss in the aperture stop is reduced. It can be kept small.
  • each deflection surface has a conical, roof-shaped or pyramidal surface shape, but is not limited to this.
  • micro fly's eye for annular illumination and various multipolar illuminations.
  • a lens can also be realized.
  • FIG. 7, FIG. 8 and FIG. 9 the micro fly's eye lens for two-pole illumination according to the third modification, and the micro fly's eye lens for quadruple illumination according to the fourth modification, The micro fly's eye lens for annular illumination will be exemplarily described in the fifth and sixth modifications.
  • FIGS. 7 (a) to 9 (a) show the respective deflection surfaces of the 2nd and 4th poles of the third to fifth modifications, and the microphone aperture fly's eye lens for annular illumination.
  • FIGS. 7 (b) to 9 (b) show a bipolar, quadrupolar, or the like formed on the rear side of the cylindrical micro fly's eye lens 9 in the third to fifth modifications.
  • FIG. 7 (c) and FIG. 8 (c) schematically show a ring-shaped secondary light source
  • FIGS. 7 (c) and 8 (c) show micro fly's eye for two-pole and four-pole illumination according to the third and fourth modifications. It is the perspective view which looked at the lens from the mask side.
  • the third embodiment is directed to a microfrier for two-pole illumination.
  • two types of deflection surfaces 43 ba and 43 bb are formed in the same number, for example, in a random arrangement.
  • the deflection surface 43ba of the first group corresponds to the flat surface 41c in each deflection surface 41b of FIG. 5 (a), in the horizontal right direction in FIG. 7 (a) and outside (ejecting side, mask side) It has a flat shape inclined in the direction of protrusion.
  • the second group of deflection surfaces 43bb in the horizontal left direction in FIG. 7A, to the outer side (emission side, mask side) so as to correspond to the flat surface 41d in each deflection surface 41b of FIG. It has a flat shape inclined in the protruding direction.
  • the light beam incident on the micro fly's eye lens for two-pole illumination which is applied to the third modification, has a deflecting action of the deflecting surface 43ba of the first group and a deflecting action of the deflecting surface 43bb of the second group.
  • the light intensity distribution is converted into two light fluxes, and a dipole-like light intensity distribution centered on the optical axis AX is formed in a superimposed manner on the pupil plane of the afocal lens 5.
  • two illumination fields of two illumination fields with a distance of about the optical axis AX are formed. Be done.
  • a two-pole secondary light source consisting of 3a and 23b is formed.
  • the two surface light sources 23a and 23b have a square shape similar to the respective deflection surfaces (43ba, 43bb).
  • the luminous flux from the two-pole secondary light source (23a, 23b) is only slightly interrupted by the two-pole opening of the aperture stop. Light quantity loss can be suppressed to a low level.
  • deflecting surfaces 44ba, 44bb, 44bc and 44bd can be used as the exit surface J of the micro fly's lens for four-pole illumination that emphasizes the fourth modification.
  • the same number is formed, for example according to a random arrangement.
  • the first group of deflection surfaces 44a corresponds to the flat surface 42c of each deflection surface 42b in FIG. 6A, in FIG. 8A horizontally in the right direction and outside (ejecting side, mask side) It has a flat shape inclined in the direction to project to).
  • the second group of deflection surfaces 44bb project horizontally outward in FIG. 8 (a) to the outside (emission side, mask side) so as to correspond to the flat surfaces 42d of the respective deflection surfaces 42b of FIG. 6 (a). It has a flat shape inclined in the direction.
  • the third group of deflection surfaces 44bc corresponds to plane 42e in each deflection surface 42b of FIG. 6 (a).
  • FIG. 8 (a) it has a planar shape inclined downward and projecting outward (outside side, mask side) in the vertical direction in FIG.
  • the deflection surface 44bd of the fourth group protrudes vertically upward in FIG. 8 (a) to the outside (emission side, mask side) so as to correspond to the plane 42f of each deflection surface 42b in FIG. 6 (a). It has a flat shape inclined in the outgoing direction.
  • the luminous flux incident on the micro fly's eye lens for 4-pole illumination according to the fourth modification is converted into four luminous fluxes by the deflection action of the first to fourth groups of deflection surfaces 44ba to 44b d.
  • a quadrupole light intensity distribution centered on the optical axis AX is formed in a superimposed manner on the pupil plane of the focal lens 5.
  • the two planar light sources 24a and 24b are arranged horizontally in the figure with the optical axis AX at the center or in the vicinity of the back focal plane of the cylindrical micro fly's eye lens 9.
  • two surface light sources 24c and 24d aligned in the vertical direction in the figure centering on the optical axis AX and a quadrupolar secondary light source that also has a force are formed.
  • the four surface light sources 24a to 24d have a square shape similar to the respective polarization planes (44ba to 44bd).
  • the luminous flux as much as the power of the four-pole secondary light source (24a to 24d) is slightly blocked by the four-pole opening of the aperture stop, thereby reducing the light quantity loss at the aperture stop. It can be suppressed.
  • the exit fly J of the micro fly's eye lens for annular illumination which is the fifth modification, has 12 types of deflection surfaces 45ba, 45bb, 45bc, 45bd and 45be 45bf, 45bg, 45bh, 45bi, 45bj, 45bk and 45bm are formed in the same number, for example, in a random arrangement.
  • the first group of deflection surfaces 45ba has a planar shape inclined so as to correspond to the first group of deflection surfaces 44ba of FIG. 8A.
  • the fourth group of deflecting surfaces 45bd has a planar shape inclined so as to correspond to the third group of deflecting surfaces 44bc in FIG. 8 (a).
  • the seventh group of deflection surfaces 45bg has a planar shape inclined so as to correspond to the second group of deflection surfaces 44bb in FIG. 8 (a).
  • the tenth group of deflection surfaces 45bj has a planar shape inclined to correspond to the fourth group of deflection surfaces 44bd in FIG. 8A.
  • the second group of deflecting surfaces 45bb and the third group of deflecting surfaces 45bc are angularly divided equally between the inclination direction of the first group of deflection surfaces 45ba and the inclination direction of the fourth group of deflection surfaces 45bd. It has a planar shape inclined along an intermediate angle.
  • the fifth group of deflection surfaces 45be and the sixth group of deflection surfaces 45bf are inclined in the fourth group of deflection surfaces 45bd. It has a planar shape inclined along an intermediate angle obtained by equally dividing the angle between the direction and the inclination direction of the seventh group of deflection surfaces 45bg.
  • the deflection surface 45bh of the eighth group and the deflection surface 45bi of the ninth group are angularly disposed between the inclination direction of the deflection surface 45bg of the seventh group and the inclination direction of the deflection surface 45bj of the tenth group. It has a planar shape inclined along the intermediate angle divided by.
  • the deflection surface 45bk of the 11th group and the deflection surface 45bm of the 12th group are intermediately formed by angularly dividing the inclination direction of the deflection surface 45bj of the 10th group and the tilt direction of the deflection surface 45ba of the 1st group It has an inclined planar shape along a certain angle.
  • the luminous flux incident on the micro fly's eye lens for annular illumination which is applied to the fifth modification, is converted into twelve luminous fluxes by the deflecting action of the deflection surfaces 45ba to 45bm of the first to twelfth groups.
  • a light intensity distribution of twelve poles arranged in the circumferential direction of a circle centered on the optical axis AX that is, a substantially annular light intensity distribution is formed in a superimposed manner.
  • a substantially ring-shaped illumination field centered on the optical axis AX is formed on the incident surface of the cylindrical micro fly's eye lens 9 similarly to the pupil plane of the a focal lens 5, and the cylindrical micro fly's eye lens
  • a substantially ring-shaped secondary light source 25 centered on the optical axis AX is formed at or near the rear focal plane 9 of FIG.
  • the light flux from the substantially ring-shaped secondary light source 25 is slightly blocked by the ring-shaped opening of the aperture stop, and the light quantity loss at the aperture stop can be reduced.
  • each refracting surface (and each deflecting surface as well) has a square shape, but the shape of each refracting surface is Various modifications are possible. Although not shown, for example, each refracting surface can be set to another shape other than a square such as a polygon such as a rectangular shape (rectangular shape). Further, as shown in FIG. 10 (a), for example, a plurality of first refracting surfaces 46aa in a regular octagonal shape (first outer shape) and a plurality of second refracting surfaces 46ab in a square shape (second outer shape) are used. Based on the densely formed configuration on the incident side, it is possible to realize the micro fly's eye lens 46 for deformed annular illumination, which is the second embodiment.
  • a plurality of regular octagonal shapes corresponding to the plurality of first refracting surfaces 46 aa are provided on the exit side of the micro flyy lens 46 for deformed orbicular zone illumination according to the second embodiment.
  • a first deflection surface 46ba and a plurality of square second deflection surfaces 46bb corresponding to the plurality of second refracting surfaces 46ab are densely formed.
  • Each of the first refracting surface 46 aa and the second refracting surface 46 ab has a spherical convex shape that is symmetrical with respect to each central axis parallel to the optical axis AX, similarly to each refracting surface 4 a in the embodiment of FIG. Or, it has a spherical concave shape) and has the function of imparting refraction to incident light.
  • Each first deflection surface 46ba like each deflection surface 4b in the embodiment of FIG. 3, has its apexes projecting symmetrically on the respective center axes parallel to the optical axis AX and outside (emission side, mask side) It has a conical surface shape and has a function of changing the traveling direction of light through the corresponding first refractive surface 46aa.
  • Each second deflection surface 46bb has a planar shape perpendicular to the optical axis AX, and transmits without changing the traveling direction of the light beam incident in parallel to the optical axis AX via the corresponding second refracting surface 46ab. Have a function to
  • the light beam guided to each first deflection surface 46 ba through each first refracting surface 46 aa has a conical surface shape
  • the light beam is converted into a ring-shaped light beam by the deflecting action of each of the first deflecting surfaces 46 ba, and a ring-shaped light intensity distribution centered on the optical axis AX is superimposed on the pupil surface of the afocal lens 5.
  • substantially parallel light beams guided to the respective second deflection surfaces 46bb via the respective second refracting surfaces 46ab are not substantially affected by the deflection action at the respective second deflection surfaces 46bb having the planar shape.
  • a square light intensity distribution centered on the optical axis AX is formed in a superimposed manner on the pupil plane of the lens 5.
  • a ring-shaped illumination field centered on the optical axis AX and a square illumination field are formed on the incident surface of the cylindrical micro fly's eye lens 9
  • an annular surface light source 26a centered on the optical axis AX and a square shape centered on the optical axis AX is formed, which comprises the surface light source 26b.
  • the modified annular illumination is formed using the micro fly's eye lens 46 for the modified annular illumination, in which each first deflection surface 46 ba is formed in a conical surface shape.
  • FIG. 12 and FIG. 13 an example of the micro fly's eye lens for three-pole illumination according to the sixth modification and the micro fly's eye lens for five pole illumination exerting the seventh modification is exemplified.
  • FIG. 12 and FIG. 13 an example of the micro fly's eye lens for three-pole illumination according to the sixth modification and the micro fly's eye lens for five pole illumination exerting the seventh modification is exemplified.
  • each first deflection surface 47b formed on the exit side of the micro fly's eye lens for three-pole illumination according to the sixth modification is a modification of the first modification of FIG.
  • Each of the deflecting surfaces 41 b has a roof-shaped surface shape and is constituted by two planes 47 c and 47 d different in the normal direction. Therefore, in the micro fly's eye lens for three-pole illumination which is applied to the sixth modification, each light flux guided to each first deflection surface 47b via each first refracting surface has a roof-shaped surface shape.
  • a pupil surface of the afocal lens 5 superposes a bipolar light intensity distribution spaced apart about the optical axis AX.
  • the light beams guided to the respective second polarization surfaces through the respective second refractive surfaces have a square light intensity distribution centered on the optical axis AX in the pupil surface of the afocal lens 5. Form in a superimposed manner.
  • a three-pole illumination field consisting of one illumination field is formed, and the optical axis AX is centered at or near the back focal plane of the cylindrical micro fly's eye lens 9, as shown in FIG. 12 (b).
  • a three-pole secondary light source is formed, which comprises two surface light sources 27aa and 27ab arranged horizontally in the drawing and one surface light source 27b centered on the optical axis AX.
  • the two plane light sources 27aa and 27ab are similar in shape to the two planes 47c and 47d of the respective first deflection planes 47b.
  • each first deflection surface 48b formed on the exit side of the micro fly's eye lens for five-pole illumination according to the seventh modification is a modification of the second modification of FIG.
  • each deflection surface 42b in the above it has a square pyramidal surface shape, and is constituted by four planes 48c, 48d, 48e, and 48f different in the normal direction. Therefore, in the microphone eye fly-eye lens for five-pole illumination, which is applied to the seventh modification, the light beam guided to each first deflection surface 48b via each first refracting surface has a square pyramidal surface shape.
  • the light beam is converted into four light beams by the deflection action (light flux conversion action) of each first deflection surface 48b, and the pupil plane of the afocal lens 5 is spaced about the optical axis AX. Separated quadrupolar light intensity distribution is formed in a superimposed manner.
  • the light beam guided to each second deflection surface via each second refractive surface has a square light intensity distribution centered on the optical axis AX superimposed on the pupil surface of the afocal lens 5.
  • two plane light sources 28aa and 28ab arranged horizontally in the figure, two plane light sources 28ac and 28ad arranged vertically in the figure with the optical axis AX at the center, and one plane centered at the optical axis AX
  • the four surface light sources 28aa to 28ad are similar in shape to the four flat surfaces 48c to 48f of the respective first deflection surfaces 48b.
  • each first deflection surface has a conical, roof or pyramidal surface shape, but is limited to this Based on the configuration in which there are a plurality of groups of first deflection surfaces each having a planar shape and having the same normal direction as each other, a plurality of modified annular illuminations and various plurality of first deflection surfaces are used. A micro fly's eye lens for polar illumination can also be realized.
  • the ninth modification applies the configuration of the four types of deflection surfaces 44ba to 44bd in the fourth modification of FIG. 8 to the large number of first deflection surfaces 46ba in the second embodiment of FIG.
  • a five-pole secondary light source is formed, which comprises surface light sources 30ac and 30ad and one surface light source 30b centered on the optical axis AX.
  • the four surface light sources 30aa to 30ad have a regular octagon shape similar to each first deflection surface. It is.
  • a tenth modification applies the configuration of 12 types of deflection surfaces 45ba to 45bm in the fifth modification of FIG. 9 to a large number of first deflection surfaces 46ba in the second embodiment of FIG. Then, as schematically shown in FIG. 14 (c), a deformed annular shape is formed by a substantially annular surface light source 31a centered on the optical axis AX and one surface light source 31b centered on the optical axis AX. A secondary light source is formed.
  • the micro fly's eye lens in which the refracting surface is formed on the incident side and the deflecting surface is formed on the emission side is used.
  • the micro fly's-eye lens 49 which works on the eleventh modified example in which the deflecting surface is formed on the incident side and the refracting surface is formed on the exit side, will be exemplarily described with reference to FIGS.
  • FIG. 15 is a view schematically showing a configuration of a micro fly's-eye lens for two-pole illumination, which may be considered as an eleventh modification, wherein (a) is a view as seen from the light source side; b) is a view from the mask side.
  • FIG. 16 is a diagram showing the action of the micro fly's eye lens for two-pole illumination, which is the 11th modified example, wherein (a) is a schematic optical path diagram of the micro fly's eye lens; b) is a figure which shows the 2 pole-like secondary light source formed in the back side focal plane of the micro fly's-eye lens 9 or its vicinity by the light beam which passed through the micro fly's-eye lens considered to the 11th modification .
  • each deflection surface 49a has a so-called roof-shaped surface shape, and is constituted by two planes 49c and 49d different in the normal direction.
  • FIG. 15 (b) on the exit side (mask side) of the micro fly's eye lens 49, a large number of square-shaped refractions are densely arranged to correspond to a large number of square-shaped deflection surfaces 49a.
  • the face 49b is formed.
  • each deflection surface 49a of the micro fly's eye lens 49 is a traveling beam of a beam divided while the incident light is divided by two planes 49c and 49d different from each other in the normal direction. Has a function to change the direction.
  • Each refracting surface 49 b has a function of imparting a refracting action to the light beam whose traveling direction has been changed by the two flat surfaces 49 c and 49 d of each deflecting surface 49 a.
  • the light beams having passed through the deflecting surfaces 49a and the refracting surfaces 49b of the micro fly's eye lens 49 are incident on the micro fly's eye lens 9 through the afocal lens 5 and the zoom lens 8 in this order, as shown in FIG.
  • a two-pole secondary light source is formed which is composed of two surface light sources 32a and 32b arranged in the horizontal direction in the figure with the optical axis AX as the center.
  • the two-pole secondary light source 32a, 32b
  • the light quantity loss at the aperture stop is reduced. It can be suppressed.
  • the force deflection surface formed of the bending surface (for example, a flat surface, a conical surface, etc.) has no deflection surface. It is not limited to the surface of the refractive power, and may be, for example, a convex spherical surface or an aspheric surface, or a concave spherical surface or an aspheric surface. By this configuration, it is possible to share the refracting action of the refracting surface on the incident side.
  • the plurality of refracting surfaces and the plurality of deflecting surfaces are separately formed on the incident side and the exit side of the micro fly's eye lens 4.
  • the functions of the plurality of refracting surfaces and the plurality of deflecting surfaces can be shared.
  • FIG. 17 is a view schematically showing a configuration of a micro fly's eye lens 491 for two-pole illumination according to a twelfth modification, wherein (a) is an XZ plan view also showing a light source side force, , (B) is a sectional view (YZ sectional view), and (c) is a two-pole-shaped two-pole formed in the back focal plane of the micro f ire lens 9 or near by the light beam through the micro fly eye lens 491. It is a figure which shows the following light source.
  • a large number of square-shaped refracting / deflecting surface sets 491al and 491a2 are formed densely arranged adjacent to each other.
  • the refractive deflection surface 491al is a spherical convex having an optical axis AX491al inclined by a predetermined angle + + with respect to an axis parallel to the optical axis AX.
  • the surface 4 91 a 2 is a spherical convex surface provided with an optical axis AX 491 a 2 inclined by a predetermined angle ⁇ with respect to an axis parallel to the optical axis AX.
  • the clockwise direction in the figure is positive
  • the counterclockwise direction is negative in the figure.
  • the optical axes of the refractive deflection surfaces 491 al and 491 a2 are connected with the boundaries of the effective regions of the refractive deflection surfaces 491 al and 49 la 2. It is defined as the surface normal. As shown in FIG. 17 (a), the overall shape of each set 491al, 49la2 of the refractive deflection surfaces is a square.
  • the light flux passing through the refractive deflection surface 491al is based on the light flux directed to the virtual focusing point 52a by the virtual lens surface 51a having the optical axis parallel to the optical axis AX.
  • the light is collected while being deflected in the negative direction to form a light collection point 50al.
  • the light beam passing through the refracting deflection surface 49a2 is deflected in the positive direction with respect to the virtual light focusing point 52a by the virtual lens surface 5 la having an optical axis parallel to the optical axis AX with reference to the luminous flux.
  • the light is collected in the above state to form a light collection point 50a2.
  • a two-pole secondary light source consisting of two surface light sources 33a and 33b is formed.
  • the surface light source 33a is formed by a light beam deflected in the positive direction
  • the surface light source 33b is formed by a light beam deflected in the negative direction.
  • the surface is provided with a plurality of refracting surfaces for deflecting the light beam in the positive direction while condensing, and a plurality of refracting surfaces for converging the light beam while deflecting the light beam in the negative direction. That is, the micro fly's eye lens 491 is provided with a plurality of refracting surfaces having an inclination in a cross section (YZ plane) including the deflection direction of the light beam emitted through the refracting surface.
  • the light quantity loss in the aperture stop can be reduced by only slightly blocking the light flux from the two-pole secondary light source (33a, 33b) at the two-pole opening of the aperture stop. It can be kept small.
  • the eleventh and twelfth modifications only an example in which a two-pole secondary light source is formed is shown.
  • 1S Three-pole secondary light source, four-pole secondary light source, five-pole shape
  • a secondary light source of the following, or an 8-pole secondary light source, or a ring-shaped secondary light source it can.
  • the refracting deflection surface is provided on the incident side of the micro fly's eye lens 491, but a refracting deflection surface may be provided on the exit side. Further, the refracting deflection surfaces may be provided on both the entrance side and the exit side. May be provided. At this time, one side may be a refracting surface or a deflection surface.
  • the shape of the refractive / deflecting surface is not limited to a spherical convex surface, and may be a spherical concave surface. In addition, it may be an aspheric shape which is smaller than a spherical shape.
  • the rotationally symmetric axis of the aspheric surface may be inclined to the optical axis.
  • the spherical shape may be aspherical.
  • the plurality of deflection surfaces or the plurality of refracting deflection surfaces formed on the emission side may not be densely arranged.
  • a region between the refracting surfaces or refracting surfaces on the exit side is also possible to provide a light shield at the
  • the incident side and The light shields 40a and 40b may be provided on at least one side of the light emission side. Further, as in the fourteenth modification shown in FIG. 18 (b), these light shielding parts 40a, 40b are provided on a light transmitting substrate 40c, 40d different from the micro fly's eye lens 4 for modified illumination, Even good.
  • a correction filter may be disposed on the illumination pupil plane.
  • a correction filter disposed in such an illumination pupil plane is disclosed, for example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-247527.
  • the third embodiment of the present invention is directed to the method of manufacturing the micro fly's-eye lens 4, 49, 491 for deformed illumination according to the above-described each embodiment and each modification.
  • the form will be described.
  • step 101 of FIG. As described, prepare a plane-parallel plate formed of a fluoride crystal material such as, for example, fluorite.
  • the crystal plane orientation of the plane parallel plate made of fluorite is measured, and it is determined whether or not the crystal plane ⁇ 111 ⁇ of the plane parallel plate made of fluorite is directed to the optical axis.
  • Check for example, a method of measuring the crystal plane orientation directly by performing Laue measurement. Force Birefringence of a parallel plane plate made of fluorite is measured, and a known crystal axis orientation and birefringence amount are measured. It is possible to apply a method of determining the measured birefringence power and crystal axis orientation based on the relationship.
  • the crystal plane ⁇ 111 ⁇ is directed to the optical axis means that the angle of deviation between the optical axis and the crystal axis direction is equal to or less than a predetermined allowable amount.
  • this crystal plane orientation it may be measurement of only one specific point of the parallel flat plate made of fluorite, or a plurality of points may be measured on the parallel flat plate made of fluorite. .
  • step 103 the parallel flat plate made of fluorite is physically processed (micromachine, processing using a mold at high temperature, etc.) to form a plurality of deflecting surfaces, a plurality of refracting surfaces, or a plurality of refracting surfaces. Create a refracting surface on the fluorite substrate.
  • a fluorite substrate having a plurality of deflecting surfaces, a plurality of refracting surfaces, or a plurality of refracting deflecting surfaces is inspected, that is, a micro fly's eye lens for modified illumination.
  • a micro fly's eye lens for modified illumination it is checked whether the outer shape or illuminance distribution of the ring-shaped or multipolar illumination field formed on the far field of the micro fly's eye lens is within a predetermined tolerance value.
  • the technology disclosed in US Patent Publication No. 20060166142 can be used.
  • US Patent Publication No. 2006Z0166142 is incorporated herein by reference.
  • the ring-shaped or multipolar illumination field outline It is preferable to calculate the density distribution of the correction filter for setting the illuminance distribution to a predetermined allowable value.
  • the information on the concentration distribution of this correction filter is It is preferable to have the fly-eye lens.
  • the information is imprinted on the substrate of the micro-fly's eye lens for modified illumination.
  • a wireless tag is provided on a holding member for holding a fly's eye lens and stored in the wireless tag, an illumination optical device in which a micro fly's eye lens is incorporated, or a process control in a manufacturing plant of an exposure apparatus.
  • a method of storing information of the correction filter for each serial number of the inspected microphone fly eye lens in the form of a correspondence table can be applied to the computer.
  • the inspected micro fly's eye lens is incorporated into the holding member.
  • the micro fly's-eye lens can be manufactured which can suppress the light amount loss at the aperture stop 10 at the time of the modified illumination small and has sufficient durability to the light in the ultraviolet region having a short wavelength. be able to.
  • the micro fly's eye lens that is effective in each embodiment and each modification is formed of fluorite.
  • fluoride crystal materials such as barium fluoride, lithium fluoride, sodium fluoride and strontium fluoride, for example.
  • a plurality of deflecting surfaces, a plurality of refracting surfaces, or a plurality of refracting deflection surfaces are staggered.
  • the plurality of deflecting surfaces, the plurality of refracting surfaces, or the plurality of refracting surfaces may be arranged in a two-dimensional matrix.
  • the plurality of deflecting surfaces and the plurality of refracting surfaces have an outer shape in which a regular octagon and a square are combined, a plurality of deflecting surfaces and a plurality
  • the combination of the shape of the refracting surface is not limited to the combination of a regular octagon and a square, and for example, a close-packed arrangement such as a combination of a regular pentagon and a rhombus or a combination of a regular heptagon and a regular pentagon Any combination of possible shapes is acceptable.
  • the illumination optical device illuminates the mask (reticle) (illumination step), and the transfer pattern formed on the mask is projected using the projection optical system.
  • microdevices semiconductor devices, imaging devices, liquid crystal display devices, thin film magnetic heads, etc.
  • a metal film is vapor-deposited on one lot of wafers.
  • photoresist is applied on the metal film on the one lot wafer.
  • the image of the pattern on the mask is sequentially exposed and transferred through the projection optical system to each shot area on the wafer of one lot.
  • etching is performed using the resist pattern as a mask on the wafer of one lot at step 305 to form a pattern on the mask.
  • Corresponding Circuit Pattern Force Formed on each shot area on each wafer.
  • a device such as a semiconductor element is manufactured. According to the above-described semiconductor device manufacturing method, a semiconductor device having a very fine circuit pattern can be obtained with high throughput.
  • the predetermined pattern on the plate (glass substrate) is the predetermined pattern on the plate (glass substrate)
  • a liquid crystal display element as a microdevice can also be obtained.
  • a so-called photolithography step is performed in which a mask pattern is transferred and exposed onto a photosensitive substrate (such as a glass substrate coated with a resist) using the exposure apparatus of the embodiment described above.
  • a photosensitive substrate such as a glass substrate coated with a resist
  • steps such as a developing step, an etching step, a resist removing step, etc. to form a predetermined pattern on the substrate, and the process proceeds to the next color filter forming step 402.
  • a set of three dots corresponding to R (Red), G (Green), and B (Blue) are arrayed in a matrix, or R, G, B's 3 Stra Form a color filter in which multiple sets of Eve's filters are arranged in the horizontal scan line direction
  • a cell assembly step 403 is performed.
  • a liquid crystal panel liquid crystal cell
  • liquid crystal is injected between the substrate having the predetermined pattern obtained in the pattern forming step 401 and the color filter obtained in the color filter forming step 402, Manufacture panels (liquid crystal cells). Thereafter, in a module assembling step 404, components such as an electric circuit for performing a display operation of the assembled liquid crystal panel (liquid crystal cell), a backlight and the like are attached to complete a liquid crystal display element. According to the above-described method of manufacturing a liquid crystal display device, a liquid crystal display device having a very fine circuit pattern can be obtained with high throughput.
  • the force using ArF excimer laser light (wavelength: 193 nm) or KrF excimer laser light (wavelength: 248 nm) as the exposure light is not limited to this, and other appropriate ones may be used.
  • Laser light source for example, F laser light for supplying laser light of wavelength 157 nm
  • the present invention can also be applied to two sources.
  • the present invention is applied to the illumination optical device for illuminating the mask or the wafer in the exposure apparatus in the above-described embodiment, the surface to be illuminated other than the mask or the wafer is not limited to this. It is possible to apply the present invention to a general illumination optical device for illuminating a light.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

　照明光学装置の変形照明に際して光量損失を小さく抑え且つ波長の短い紫外域の光に対して十分な耐久性を有するオプティカルインテグレータ。本発明にかかる波面分割型のオプティカルインテグレータは、フッ化物結晶材料により形成された単一の光学部材（４）を備えている。単一の光学部材の入射側には、互いに隣り合うように配置されて入射光に屈折作用を付与するための複数の屈折面（４ａ）が形成されている。単一の光学部材の射出側には、複数の屈折面に対応するように配置されて屈折面を介した光の進行方向を変えるための複数の偏向面（４ｂ）が形成されている。

Description

明 細 書
オプティカルインテグレータ、照明光学装置、露光装置、およびデバイス の製造方法
技術分野
[0001] 本発明は、オプティカルインテグレータ、照明光学装置、露光装置、およびデバイ スの製造方法に関する。さらに詳細には、本発明は、半導体素子、撮像素子、液晶 表示素子、薄膜磁気ヘッド等のデバイスをリソグラフィー工程で製造する際に使用さ れる露光装置の照明光学装置に好適なオプティカルインテグレータに関するもので ある。
背景技術
[0002] この種の典型的な露光装置においては、光源力も射出された光束が、波面分割型 のオプティカルインテグレータとしてのフライアイレンズに入射し、その後側焦点面ま たはその近傍に多数の光源カゝらなる二次光源を形成する。二次光源からの光束は、 フライアイレンズの後側焦点面またはその近傍に配置された開口絞りを介して制限さ れた後、コンデンサーレンズに入射する。開口絞りは、所望の照明条件 (露光条件） に応じて、二次光源の形状または大きさを所望の形状または大きさに制限する。
[0003] コンデンサーレンズにより集光された光束は、所定のパターンが形成されたマスクを 重畳的に照明する。マスクのパターンを透過した光は、投影光学系を介してウェハ上 に結像する。こうして、ウェハ上には、マスクパターンが投影露光 (転写）される。なお 、マスクに形成されたパターンは高集積ィ匕されており、この微細パターンをウェハ上 に正確に転写するにはウェハ上において均一な照度分布を得ることが不可欠である
[0004] 従来技術では、ウェハ上における照度均一性の向上を図るために、マスクを照明す る照明光学装置において 2つのフライアイレンズをタンデム配置した構成、すなわち ダブル'フライアイ構成が提案されている（たとえば特許文献 1を参照)。
[0005] 特許文献 1 :米国再発行特許発明第 34, 634号明細書
発明の開示 発明が解決しょうとする課題
[0006] 近年、フライアイレンズの射出側に配置された開口絞りの開口部（光透過部）の形 状を輪帯状や複数極状 (2極状、 4極状など）に設定することにより、二次光源の形状 を輪帯状や複数極状に制限して、投影光学系の焦点深度や解像力を向上させる変 形照明の技術が注目されている。ダブル'フライアイ構成の従来技術では、第 1フライ アイレンズ (光源側のフライアイレンズ)の作用により、第 2フライアイレンズの入射面 上に矩形状の照野が形成され、第 2フライアイレンズの後側焦点面またはその近傍 に同じく矩形状の二次光源が形成される。
[0007] この場合、変形照明（輪帯照明や複数極照明）を行うには、第 2フライアイレンズに より形成された比較的大きな矩形状の二次光源からの光束を輪帯状や複数極状の 開口部を有する開口絞りによって制限することになる。すなわち、従来技術では、変 形照明に際して二次光源からの光束の相当部分が開口絞りで遮蔽されて照明（露光 )に寄与することがなぐ開口絞りにおける光量損失に起因してマスクおよびウェハ上 での照度が低下し、ひ ヽては露光装置としてのスループットも低下する。
[0008] また、近年、投影光学系の解像力（解像度）の向上のために、たとえば波長が 248 nmの KrFエキシマレーザ光や波長が 193nmの ArFエキシマレーザ光のように波長 の短い紫外域の露光光が用いられている。し力しながら、従来技術では、第 1フライ アイレンズが石英により形成されているので、波長の短い紫外域の光の照射を受け て損傷し易ぐ十分な耐久性を確保することが困難である。
[0009] 本発明は、前述の課題に鑑みてなされたものであり、たとえば照明光学装置の変形 照明に際して光量損失を小さく抑えることができ、且つ波長の短い紫外域の光に対し て十分な耐久性を有するオプティカルインテグレータを提供することを目的とする。
[0010] また、本発明は、変形照明に際して光量損失を小さく抑えることができ且つ波長の 短 、紫外域の光に対して十分な耐久性を有するオプティカルインテグレータを用い て、所望の照明条件で被照射面を安定的に照明することのできる照明光学装置を提 供することを目的とする。
[0011] また、本発明は、所望の照明条件でマスクを安定的に照明する照明光学装置を用 いて、所望の照明条件の下で良好な露光を安定的に行うことのできる露光装置およ びデバイスの製造方法を提供することを目的とする。
課題を解決するための手段
[0012] 前記課題を解決するために、本発明の第 1形態では、真空紫外域の光で用いられ る波面分割型のオプティカルインテグレータの製造方法であって、
フッ化物結晶材料の単一の光学部材を準備する工程と、
互いに隣り合うように配置されてそれぞれ入射光の進行方向を変える複数の偏向 面を、前記単一の光学部材の第 1の表面に創成する工程と
を備えることを特徴とするオプティカルインテグレータの製造方法を提供する。
[0013] 本発明の第 2形態では、第 1形態の製造方法により製造されたことを特徴とするォ プティカルインテグレータを提供する。
[0014] 本発明の第 3形態では、真空紫外域の光で用いられる波面分割型のオプティカル インテグレータであって、
フッ化物結晶材料により形成された単一の光学部材を備え、
前記単一の光学部材は、互いに隣り合うように配置された複数の偏向面を備え、 前記複数の偏向面の各々は入射光の進行方向を変えることを特徴とするォプティ カルインテグレータを提供する。
[0015] 本発明の第 4形態では、波面分割型のオプティカルインテグレータにおいて、 フッ化物結晶材料により形成された単一の光学部材を備え、
前記単一の光学部材は、互いに隣り合うように配置されて入射光に屈折作用を付 与するための複数の屈折面と、互いに隣り合うように配置されて入射光の進行方向を 変えるための複数の偏向面とを備えていることを特徴とするオプティカルインテグレー タを提供する。
[0016] 本発明の第 5形態では、光源力 の光に基づいて被照射面を照明する照明光学装 ¾【こ; i l /、て、
前記光源と前記被照射面との間の光路中に配置された第 2乃至第 4形態のォプテ イカルインテグレータを備えていることを特徴とする照明光学装置を提供する。
[0017] 本発明の第 6形態では、所定のパターンを照明するための第 5形態の照明光学装 置を備え、前記所定のパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光装置 を提供する。
[0018] 本発明の第 7形態では、第 6形態の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前 記感光性基板に露光する露光工程と、前記露光工程を経た前記感光性基板を現像 する現像工程とを含むことを特徴とするデバイスの製造方法を提供する。
発明の効果
[0019] たとえば照明光学装置の変形照明に際して本発明のオプティカルインテグレータを 用いる場合、複数の屈折面と複数の偏向面とによって、入射光を波面分割して波面 分割された光束を偏向することにより、所望形状または所望形状に近い形状の二次 光源を形成する。その結果、所望形状の場合には光量損失なぐ所望形状に近い形 状の二次光源の場合には開口絞りの開口部でわずかに遮られるだけで光量損失を 小さく抑えることができる。そして、本発明のオプティカルインテグレータがフッ化物結 晶材料により形成されているので、波長の短い紫外域の光に対しても十分な耐久性 を確保することができる。
[0020] したがって、本発明の照明光学装置では、変形照明に際して光量損失を小さく抑 えることができ且つ波長の短い紫外域の光に対して十分な耐久性を有するォプティ カルインテグレータを用いて、所望の照明条件で被照射面を安定的に照明すること ができる。また、本発明の露光装置では、所望の照明条件でパターンを安定的に照 明する照明光学装置を用いて、良好な照明条件の下で良好な露光を安定的に行う ことができ、ひ 、ては良好なデバイスを高スループットで製造することができる。 図面の簡単な説明
[0021] [図 1]本発明の実施形態に力かる露光装置の構成を概略的に示す図である。
[図 2]シリンドリカルマイクロフライアイレンズの構成を概略的に示す斜視図である。
[図 3]本実施形態にカゝかる輪帯照明用のマイクロフライアイレンズの構成を概略的に 示す図であって、（a)は光源側力も見た図であり、（b)はマスク側から見た図である。
[図 4]本実施形態においてシリンドリカルマイクロフライアイレンズの後側に形成される 輪帯状の二次光源を概略的に示す図である。
[図 5]第 1変形例に力かる 2極照明用のマイクロフライアイレンズの構成および作用に ついて説明する図である。 [図 6]第 2変形例に力かる 4極照明用のマイクロフライアイレンズの構成および作用に ついて説明する図である。
圆 7]第 3変形例に力かる 2極照明用のマイクロフライアイレンズの構成および作用に ついて説明する図である。
[図 8]第 4変形例に力かる 4極照明用のマイクロフライアイレンズの構成および作用に ついて説明する図である。
圆 9]第 5変形例に力かる輪帯照明用のマイクロフライアイレンズの構成および作用に ついて説明する図である。
圆 10]第 2実施形態にカゝかる変形輪帯照明用のマイクロフライアイレンズの構成を概 略的に示す図であって、（a)は光源側から見た図であり、（b)はマスク側から見た図 である。
圆 11]第 2実施形態に力かる変形輪帯照明用のマイクロフライアイレンズにより形成さ れる変形輪帯状の二次光源を概略的に示す図である。
圆 12]第 6変形例に力かる 3極照明用のマイクロフライアイレンズの構成および作用 について説明する図である。
圆 13]第 7変形例に力かる 5極照明用のマイクロフライアイレンズの構成および作用 について説明する図である。
[図 14] (a)は第 8変形例にしたがって形成される 3極状の二次光源を、 (b)は第 9変形 例にしたがって形成される 5極状の二次光源を、 (c)は第 10変形例にしたがって形 成される変形輪帯状の二次光源を概略的に示す図である。
[図 15]第 11変形例に力かる 2極照明用のマイクロフライアイレンズの構成について説 明する図である。
[図 16]第 11変形例に力かる 2極照明用のマイクロフライアイレンズの構成および作用 について説明する図である。
圆 17]第 12変形例に力かる 2極照明用のマイクロフライアイレンズの構成および作用 について説明する図である。
圆 18]第 13および第 14変形例に力かる変形照明用マイクロフライアイレンズの構成 について説明する図である。 [図 19]各実施形態ならびに各変形例に力かる変形照明用のマイクロフライアイレンズ の製造方法に力かる第 3実施形態について説明するフローチャートである。
[図 20]マイクロデバイスとしての半導体デバイスを得る際の手法のフローチャートであ る。
[図 21]マイクロデバイスとしての液晶表示素子を得る際の手法のフローチャートである 符号の説明
[0022] 1 光源
3 偏光状態切換部
4 マイクロフライアイレンズ
5 ァフォー力ノレレンズ
7 円錐アキシコン系
8 ズームレンズ
10 開口絞り
11 コンデンサー光学系
12 マスクブラインド
13 結像光学系
M マスク
PL 投影光学系
W ウェハ
発明を実施するための最良の形態
[0023] 本発明の実施形態を、添付図面に基づいて説明する。図 1は、本発明の実施形態 にかかる露光装置の構成を概略的に示す図である。図 1において、感光性基板であ るウェハ Wの法線方向に沿つて Z軸を、ウェハ Wの面内において図 1の紙面に平行な 方向に Y軸を、ウェハ Wの面内において図 1の紙面に垂直な方向に X軸をそれぞれ 設定している。
[0024] 図 1を参照すると、本実施形態の露光装置は、露光光 (照明光)を供給するための 光源 1を備えている。光源 1として、たとえば 193nmの波長の光を供給する ArFェキ シマレーザ光源や 248nmの波長の光を供給する KrFエキシマレーザ光源などを用 V、ることができる。本実施形態では真空紫外域の波長（200nm以下の波長）の光を 供給する ArFエキシマレーザ光源を光源 1として用いる。光源 1から射出された光は 、整形光学系 2により所要の断面形状の光束に拡大され、光軸自動追尾部 2a〜2c を経た後、偏光状態切換部 3および輪帯照明用のマイクロフライアイレンズ 4を介して 、ァフォーカルレンズ 5に入射する。輪帯照明用のマイクロフライアイレンズ 4の詳細 な構成および作用につ 、ては後述する。
[0025] 光軸自動追尾部は、 2軸以上の回転軸を持つ 1つ以上の光路偏向ミラー 2aと、光 源 1からの光の光軸に対する角度ずれを検出するための角度ずれ検出部 2bと、当該 角度ずれ検出部 2bからの出力に基づいて、角度ずれを補正するように光路偏向ミラ 一 2aを回転 (傾斜）させる駆動部 2cとを備え、後述するマイクロフライアイレンズ 4に 入射する光の角度ずれを所定の許容値内におさめる機能を有する。
[0026] 偏光状態切換部 3は、光源側から順に、光軸 AXを中心として結晶光学軸が回転自 在に構成されて入射する楕円偏光の光を直線偏光の光に変換する 1Z4波長板 3a と、光軸 AXを中心として結晶光学軸が回転自在に構成されて入射する直線偏光の 偏光方向を変化させる 1Z2波長板 3bと、照明光路に対して挿脱自在なデボラライザ (非偏光化素子） 3cとを備えている。偏光状態切換部 3は、デボラライザ 3cを照明光 路から退避させた状態で、光源 1からの光を所望の偏光方向を有する直線偏光の光 に変換してマイクロフライアイレンズ 4へ入射させる機能を有し、デボラライザ 3cを照 明光路中に設定した状態で、光源 1からの光を実質的に非偏光の光に変換してマイ クロフライアイレンズ 4へ入射させる機能を有する。
[0027] ァフォーカルレンズ 5は、前側レンズ群 5aの前側焦点位置とマイクロフライアイレン ズ 4の位置とがほぼ一致し且つ後側レンズ群 5bの後側焦点位置と図中破線で示す 所定面 6の位置とがほぼ一致するように設定されたァフォーカル系（無焦点光学系） である。輪帯照明用のマイクロフライアイレンズ 4は、後述するように、波面分割型の オプティカルインテグレータとして機能するとともに、矩形状の断面を有する平行光束 が入射した場合に、ァフォーカルレンズ 5の瞳面に輪帯状の光強度分布を形成する 機能を有する。
[0028] したがって、マイクロフライアイレンズ 4に入射したほぼ平行光束は、ァフォーカルレ ンズ 5の瞳面に輪帯状の光強度分布を形成した後、輪帯状の角度分布でァフォー力 ルレンズ 5から射出される。ァフォーカルレンズ 5の前側レンズ群 5aと後側レンズ群 5b との間の光路中においてその瞳面またはその近傍には、円錐アキシコン系 7が配置 されて 、る。円錐アキシコン系 7の構成および作用につ 、ては後述する。
[0029] ァフォーカルレンズ 5を介した光束は、 σ値（σ値 =照明光学装置のマスク側開口 数 Ζ投影光学系のマスク側開口数)可変用のズームレンズ 8を介して、シリンドリカル マイクロフライアイレンズ 9に入射する。シリンドリカルマイクロフライアイレンズ 9は、図 2に示すように、光源側に配置された第 1フライアイ部材 9aとマスク側に配置された第 2フライアイ部材 9bとから構成されている。第 1フライアイ部材 9aの光源側の面および 第 2フライアイ部材 9bの光源側の面には、 X方向に並んで配列されたシリンドリカルレ ンズ群 9aaおよび 9baがそれぞれピッチ piで形成されている。
[0030] 一方、第 1フライアイ部材 9aのマスク側の面および第 2フライアイ部材 9bのマスク側 の面には、 Z方向に並んで配列されたシリンドリカルレンズ群 9abおよび 9bbがそれぞ れピッチ p2 (p2 >pl)で形成されている。シリンドリカルマイクロフライアイレンズ 9の X 方向に関する屈折作用（すなわち XY平面に関する屈折作用）に着目すると、光軸 A Xに沿って入射した平行光束は、第 1フライアイ部材 9aの光源側に形成されたシリン ドリカルレンズ群 9aaによって X方向に沿ってピッチ piで波面分割され、その屈折面 で集光作用を受けた後、第 2フライアイ部材 9bの光源側に形成されたシリンドリカル レンズ群 9baのうちの対応するシリンドリカルレンズの屈折面で集光作用を受け、シリ ンドリカルマイクロフライアイレンズ 9の後側焦点面上に集光する。
[0031] 一方、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ 9の Z方向に関する屈折作用（すなわ ち YZ平面に関する屈折作用）に着目すると、光軸 AXに沿って入射した平行光束は 、第 1フライアイ部材 9aのマスク側に形成されたシリンドリカルレンズ群 9abによって Z 方向に沿ってピッチ p2で波面分割され、その屈折面で集光作用を受けた後、第 2フ ライアィ部材 9bのマスク側に形成されたシリンドリカルレンズ群 9bbのうちの対応する シリンドリカルレンズの屈折面で集光作用を受け、シリンドリカルマイクロフライアイレ ンズ 9の後側焦点面上に集光する。
[0032] このように、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ 9は、シリンドリカルレンズ群が両 側面に配置された第 1フライアイ部材 9aと第 2フライアイ部材 9bとにより構成されてい るが、 X方向に p 1のサイズを有し Z方向に p2のサイズを有する多数の矩形状の微小 屈折面が縦横に且つ稠密に一体形成されたマイクロフライアイレンズと同様の光学 的機能を発揮する。シリンドリカルマイクロフライアイレンズ 9では、微小屈折面の面形 状のばらつきに起因する歪曲収差の変化を小さく抑え、たとえばエッチングカ卩ェによ り一体的に形成される多数の微小屈折面の製造誤差が照度分布に与える影響を小 さく抑免ることができる。
[0033] 所定面 6の位置はズームレンズ 8の前側焦点位置の近傍に配置され、シリンドリカ ルマイクロフライアイレンズ 9の入射面はズームレンズ 8の後側焦点位置の近傍に配 置されている。換言すると、ズームレンズ 8は、所定面 6とシリンドリカルマイクロフライ アイレンズ 9の入射面とを実質的にフーリエ変換の関係に配置し、ひ 、てはァフォー カルレンズ 5の瞳面とシリンドリカルマイクロフライアイレンズ 9の入射面とを光学的に ほぼ共役に配置している。
[0034] したがって、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ 9の入射面上には、ァフォーカル レンズ 5の瞳面と同様に、たとえば光軸 AXを中心とした輪帯状の照野が形成される。 この輪帯状の照野の全体形状は、ズームレンズ 8の焦点距離に依存して相似的に変 化する。シリンドリカルマイクロフライアイレンズ 9における波面分割単位としての矩形 状の微小屈折面は、マスク M上にお!、て形成すべき照野の形状（ひ 、てはウェハ W 上にお 1、て形成すべき露光領域の形状)と相似な矩形状である。
[0035] シリンドリカルマイクロフライアイレンズ 9に入射した光束は二次元的に分割され、そ の後側焦点面またはその近傍 (ひいては照明瞳）には、入射光束によって形成される 照野とほぼ同じ光強度分布を有する二次光源、すなわち光軸 AXを中心とした輪帯 状の実質的な面光源力もなる二次光源が形成される。シリンドリカルマイクロフライア ィレンズ 9の後側焦点面またはその近傍に形成された二次光源力もの光束は、その 近傍に配置された開口絞り 10に入射する。
[0036] 開口絞り 10は、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ 9の後側焦点面またはその近 傍に形成される輪帯状の二次光源に対応した輪帯状の開口部 (光透過部）を有する
。開口絞り 10は、照明光路に対して挿脱自在に構成され、且つ大きさおよび形状の 異なる開口部を有する複数の開口絞りと切り換え可能に構成されている。開口絞りの 切り換え方式として、たとえば周知のターレット方式やスライド方式などを用いることが できる。開口絞り 10は、後述する投影光学系 PLの入射瞳面と光学的にほぼ共役な 位置に配置され、二次光源の照明に寄与する範囲を規定する。
[0037] 開口絞り 10により制限された二次光源力もの光は、コンデンサー光学系 11を介し て、マスクブラインド 12を重畳的に照明する。こうして、照明視野絞りとしてのマスクブ ラインド 12には、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ 9の波面分割単位である矩形 状の微小屈折面の形状と焦点距離とに応じた矩形状の照野が形成される。マスクブ ラインド 12の矩形状の開口部（光透過部）を介した光束は、結像光学系 13の集光作 用を受けた後、所定のパターンが形成されたマスク Mを重畳的に照明する。すなわ ち、結像光学系 13は、マスクブラインド 12の矩形状開口部の像をマスク M上に形成 すること〖こなる。
[0038] マスクステージ MS上に保持されたマスク Mのパターンを透過した光束は、投影光 学系 PLを介して、ウェハステージ WS上に保持されたウェハ (感光性基板) W上にマ スクパターンの像を形成する。こうして、投影光学系 PLの光軸 AXと直交する平面 (X Y平面）内においてウェハステージ WSを二次元的に駆動制御しながら、ひいてはゥ ェハ Wを二次元的に駆動制御しながら一括露光またはスキャン露光を行うことにより 、ウェハ Wの各露光領域にはマスク Mのパターンが順次露光される。
[0039] なお、輪帯照明用のマイクロフライアイレンズ 4に代えて、たとえば複数極照明用の マイクロフライアイレンズを照明光路中に設定することによって、様々な複数極照明（
2極照明、 4極照明など)を行うことができる。同様に、輪帯照明用のマイクロフライア ィレンズ 4に代えて、適当な特性を有するマイクロフライアイレンズを照明光路中に設 定することによって、様々な形態の変形照明を行うことができる。マイクロフライアイレ ンズの切り換え方式として、たとえば周知のターレット方式やスライド方式などを用い ることがでさる。
[0040] 円錐アキシコン系 7は、光源側から順に、光源側に平面を向け且つマスク側に凹円 錐状の屈折面を向けた第 1プリズム部材 7aと、マスク側に平面を向け且つ光源側に 凸円錐状の屈折面を向けた第 2プリズム部材 7bとから構成されている。そして、第 1 プリズム部材 7aの凹円錐状の屈折面と第 2プリズム部材 7bの凸円錐状の屈折面とは 、互いに当接可能なように相補的に形成されている。また、第 1プリズム部材 7aおよ び第 2プリズム部材 7bのうち少なくとも一方の部材が光軸 AXに沿って移動可能に構 成され、第 1プリズム部材 7aの凹円錐状の屈折面と第 2プリズム部材 7bの凸円錐状 の屈折面との間隔が可変に構成されている。以下、輪帯状または 4極状の二次光源 に着目して、円錐アキシコン系 7の作用およびズームレンズ 8の作用を説明する。
[0041] ここで、第 1プリズム部材 7aの凹円錐状屈折面と第 2プリズム部材 7bの凸円錐状屈 折面とが互いに当接している状態では、円錐アキシコン系 7は平行平面板として機能 し、形成される輪帯状または 4極状の二次光源に及ぼす影響はない。しかしながら、 第 1プリズム部材 7aの凹円錐状屈折面と第 2プリズム部材 7bの凸円錐状屈折面とを 離間させると、輪帯状または 4極状の二次光源の幅 (輪帯状の二次光源の外径と内 径との差の 1Z2;4極状の二次光源に外接する円の直径 (外径)と内接する円の直 径（内径)との差の 1Z2)を一定に保ちつつ、輪帯状または 4極状の二次光源の外径 (内径)が変化する。すなわち、輪帯状または 4極状の二次光源の輪帯比（内径 Z外 径)および大きさ (外径)が変化する。
[0042] ズームレンズ 8は、輪帯状または 4極状の二次光源の全体形状を相似的に拡大ま たは縮小する機能を有する。たとえば、ズームレンズ 8の焦点距離を最小値力 所定 の値へ拡大させることにより、輪帯状または 4極状の二次光源の全体形状が相似的 に拡大される。換言すると、ズームレンズ 8の作用により、輪帯状または 4極状の二次 光源の輪帯比が変化することなぐその幅および大きさ（外径)がともに変化する。こ のように、円錐アキシコン系 7およびズームレンズ 8の作用により、輪帯状または 4極 状の二次光源の輪帯比と大きさ (外径)とを制御することができる。
[0043] 図 3は、本実施形態にカゝかる輪帯照明用のマイクロフライアイレンズの構成を概略 的に示す図であって、（a)は光源側から見た図であり、（b)はマスク側から見た図であ り、（c)は AA'矢視図であり、（d)は BB'矢視図である。本実施形態に力かる輪帯照 明用のマイクロフライアイレンズ 4は、蛍石（CaF：フッ化カルシウム）により形成された 単一の光学部材 (光透過部材）として構成されている。図 3 (a)、（c)、（d)に示すよう に、マイクロフライアイレンズ 4の入射側（光源側）には、互いに隣り合うように稠密配 置された多数の正方形状の屈折面 4aが形成されている。各屈折面 4aは、光軸 AXに 平行な各中心軸線に関して対称な球面状の凸面形状 (または球面状の凹面形状)を 有し、入射光に屈折作用を付与する機能を有する。
[0044] 一方、図 3 (b)、（c)、 (d)に示すように、マイクロフライアイレンズ 4の射出側（マスク 側）には、多数の正方形状の屈折面 4aに対応するように稠密配置された多数の正方 形状の偏向面 4bが形成されている。各偏向面 4bは、光軸 AXに平行な各中心軸線 に関して対称で且つ外側 (射出側、マスク側）に頂点が突出した円錐状の面形状を 有し、対応する屈折面 4aを介した光の進行方向を変える機能を有する。なお、図面 の明瞭化のために、図 3ではマイクロフライアイレンズ 4を構成する多数の屈折面 4a および偏向面 4bの一部だけを表示している。この点は、図 3に関連する図 7 (a)、図 8 (a)、図 9 (a)、図 10 (a) , (b)、図 15 (a) , (b)、図 17 (a)においても同様である。
[0045] マイクロフライアイレンズ 4は、たとえば蛍石により形成された平行平面板を、物理的 に加工 (マイクロマシーンユング、高温状態で金型を用いる加工など)することにより 形成される。このとき、立方晶系に属する蛍石により形成された平行平面板は、光軸 AXに対して (すなわち各屈折面 4aへの入射光の進行方向に対して）結晶面 { 111 } を向けていることが好ましい。この結晶面の配置により、加工の容易性および安定性 を向上させるとともに、蛍石の複屈折性の影響を良好に抑えることができる。なお、光 軸 AXに対して (すなわち各屈折面 4aへの入射光の進行方向に対して）結晶面 { 100 }を向ける配置であっても、蛍石の複屈折性の影響を良好に抑えることができる。
[0046] 本実施形態では、光源 1からマイクロフライアイレンズ 4に入射した矩形状のほぼ平 行光束が、多数の正方形状の屈折面 4aにより波面分割され、各屈折面 4aにより屈 折作用を受けた光束は対応する偏向面 4bへ導かれる。各屈折面 4aを介して各偏向 面 4bへ導かれた光束は、円錐状の面形状を有する各偏向面 4bの偏向作用により輪 帯状の光束に変換され、ァフォーカルレンズ 5の瞳面に光軸 AXを中心とした輪帯状 の光強度分布を重畳的に形成する。
[0047] こうして、上述したように、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ 9の入射面上には、 ァフォーカルレンズ 5の瞳面と同様に、光軸 AXを中心とした輪帯状の照野が形成さ れる。また、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ 9の後側焦点面またはその近傍に は、図 4に示すように、光軸 AXを中心とした輪帯状の二次光源 20が形成される。な お、図 4では、図面の明瞭化のために、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ 9の波 面分割単位である矩形状の微小屈折面を破線で示すとともに、その数を実際よりも はるかに少なく表示している。この点は、図 4に関連する図 5 (b)、図 6 (b)、図 7 (b)、 図 8 (b)ゝ図 9 (b)ゝ図 11、図 12 (b)ゝ図 13 (b)ゝ図 14 (a)〜（c)、図 16 (b)ゝ図 17 (c) においても同様である。
[0048] 以上のように、本実施形態では、輪帯照明用のマイクロフライアイレンズ 4が、波面 分割機能を有する多数の正方形状の屈折面 4aと、光束変換機能を有する多数の正 方形状の偏向面 4bとを備えている。したがって、各屈折面 4aにより波面分割された 光束は、各偏向面 4bの光束変換作用により、ァフォーカルレンズ 5の瞳面に輪帯状 の光強度分布を重畳的に形成し、ひいてはシリンドリカルマイクロフライアイレンズ 9 の後側焦点面またはその近傍に輪帯状の二次光源 20を形成する。なお、波面分割 機能を有する多数の屈折面 4aおよび光束変換機能を有する多数の偏向面 4bの形 状は、正方形状には限定されず、たとえば長方形状などの多角形状とすることができ る。
[0049] その結果、本実施形態では、輪帯状の二次光源 20からの光束が開口絞り 10の輪 帯状の開口部でわずかに遮られるだけで、開口絞り 10における光量損失を小さく抑 えることができる。なお、本実施形態では、マイクロフライアイレンズ 4によって輪帯状 の光強度分布を形成しているため、輪帯状の二次光源 20を開口絞り 10によって制 限しなくとも良い。ちなみに、波面分割機能だけを有する従来のフライアイレンズでは 、フライアイレンズの波面分割面の形状と相似な矩形状 (または正六角形状など)の 二次光源が形成されるため、二次光源力もの光束が輪帯状 (または複数極状など） の開口部によって大きく制限されることになり、開口絞りにおける光量損失が大きく発 生してしまう。
[0050] また、本実施形態では、輪帯照明用のマイクロフライアイレンズ 4が蛍石により形成 された単一の光学部材 (光透過部材）として構成されているので、言い換えると、蛍石 により形成された単一の光学部材 (光透過部材）に複数の屈折面 4aおよび複数の偏 向面 4bがー体的に形成されて!、るので、 ArFエキシマレーザ光や KrFエキシマレー ザ光のような波長の短!、紫外域の光 (パルス光）に対しても十分な耐久性を確保する ことができる。ちなみに、石英により形成された従来のフライアイレンズでは、波長の 短い紫外域の光 (特にパルス光)の照射エネルギに起因する損傷が発生し易ぐ十 分な耐久性を確保することができな 、。
[0051] こうして、本実施形態の照明光学装置（1〜13)では、輪帯照明のような変形照明 に際して開口絞り 10における光量損失を小さく抑えることができ且つ波長の短い紫 テグレータ) 4を用いて、所望の照明条件でマスク (被照射面) Mを安定的に照明する ことができる。また、本実施形態の露光装置（1〜PL)では、所望の照明条件でマスク Mを安定的に照明する照明光学装置を用いて、所望の照明条件の下で良好な露光 を安定的に行うことができる。
[0052] なお、上述の説明では、各偏向面 4bを円錐状の面形状に形成した輪帯照明用の マイクロフライアイレンズ 4を用いて輪帯照明を行う例を示している力 これに限定さ れることなぐ各偏向面の面形状を変えるだけで同様の基本的構成にしたがって、様 々な複数極照明用のマイクロフライアイレンズを実現することができる。以下、図 5お よび図 6を参照して、第 1変形例に力かる 2極照明用のマイクロフライアイレンズおよ び第 2変形例に力かる 4極照明用のマイクロフライアイレンズについて例示的に説明 する。
[0053] ここで、図 5 (a)および図 6 (a)は第 1変形例および第 2変形例に力かる 2極照明用 のマイクロフライアイレンズの各偏向面をマスク側から見た図であり、図 5 (b)および図
6 (b)は第 1変形例および第 2変形例においてシリンドリカルマイクロフライアイレンズ 9の後側に形成される 2極状の二次光源を概略的に示す図であり、図 5 (c)および図 6 (c)は第 1変形例および第 2変形例に力かる 2極照明用のマイクロフライアイレンズ をマスク側から見た斜視図である。
[0054] 図 5 (a)および (c)を参照すると、第 1変形例に力かる 2極照明用のマイクロフライア ィレンズの射出側に形成された各偏向面 4 lbは、 、わゆる屋根型の面形状を有し、 法線方向の異なる 2つの平面 41cと 41dとにより構成されている。さらに詳細には、 2 つの平面 41cと 41dとは、正方形状の偏向面 41bを図中鉛直方向に 2等分する稜線 41eに関して対称であり、図中矢印で示すように稜線 41eに向力つて図 5 (a)中水平 方向に且つ外側 (射出側、マスク側)へ突出する向きに傾斜している。
[0055] したがって、第 1変形例に力かる 2極照明用のマイクロフライアイレンズでは、各屈 折面を介して各偏向面 41bへ導かれた光束が、屋根型の面形状を有する各偏向面 41bの偏向作用（光束変換作用）により 2つの光束に変換され、ァフォーカルレンズ 5 の瞳面に光軸 AXを中心とした 2極状の光強度分布を重畳的に形成する。そして、シ リンドリカルマイクロフライアイレンズ 9の入射面上には、ァフォーカルレンズ 5の瞳面と 同様に、光軸 AXを中心として間隔を隔てた 2つの照野力もなる 2極状の照野が形成 される。
[0056] こうして、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ 9の後側焦点面またはその近傍には 、図 5 (b)に示すように、光軸 AXを中心として図中水平方向に並んだ 2つの面光源 2 laおよび 21bからなる 2極状の二次光源が形成される。ここで、 2つの面光源 21aお よび 21bは、各偏向面 41bの 2つの平面 41cおよび 41dと相似な長方形状である。そ の結果、第 1変形例においても、 2極状の二次光源（21a, 21b)からの光束が開口絞 りの 2極状の開口部でわずかに遮られるだけで、開口絞りにおける光量損失を小さく 抑えることができる。
[0057] 図 6 (a)および (c)を参照すると、第 2変形例に力かる 4極照明用のマイクロフライア ィレンズの射出側に形成された各偏向面 42bは、光軸 AXに平行な各中心軸線に関 して対称で且つ外側 (射出側、マスク側）に頂点が突出した正四角錐状の面形状を 有し、法線方向の異なる 4つの平面 42cと 42dと 42eと 42fとにより構成されている。さ らに詳細には、 2つの平面 42cと 42dとは図中矢印で示すように各偏向面 42bの中心 に向かって図中水平方向に傾斜し、 2っの平面426と42 は図6 (&)中矢印で示す ように各偏向面 42bの中心に向力つて図中鉛直方向に傾斜している。
[0058] したがって、第 2変形例に力かる 4極照明用のマイクロフライアイレンズでは、各屈 折面を介して各偏向面 42bへ導かれた光束が、正四角錐状の面形状を有する各偏 向面 42bの偏向作用（光束変換作用）により 4つの光束に変換され、ァフォーカルレ ンズ 5の瞳面に光軸 AXを中心とした 4極状の光強度分布を重畳的に形成する。そし て、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ 9の入射面上には、ァフォーカルレンズ 5の 瞳面と同様に、光軸 AXを中心として間隔を隔てた 4つの照野力 なる 4極状の照野 が形成される。
[0059] こうして、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ 9の後側焦点面またはその近傍には 、図 6 (b)に示すように、光軸 AXを中心として図中水平方向に並んだ 2つの面光源 2 2aおよび 22bと、光軸 AXを中心として図中鉛直方向に並んだ 2つの面光源 22cおよ び 22dとからなる 4極状の二次光源が形成される。ここで、 2つの面光源 22aおよび 2 2bは各偏向面 42bの 2つの平面 42cおよび 42dと相似な形状であり、 2つの面光源 2 2cおよび 22dは各偏向面 42bの 2つの平面 42eおよび 42fと相似な形状である。そ の結果、第 2変形例においても、 4極状の二次光源（22a〜22d)からの光束が開口 絞りの 4極状の開口部でわずかに遮られるだけで、開口絞りにおける光量損失を小さ く抑えることができる。
[0060] なお、上述の図 3の実施形態、第 1変形例および第 2変形例では、各偏向面が円 錐状、屋根型または角錐状の面形状を有するが、これに限定されることなぐ多数の 偏向面の各々が平面形状を有し且つ互いに同じ法線方向を有する偏向面の群が複 数有るような構成に基づいて、輪帯照明や様々な複数極照明用のマイクロフライアイ レンズを実現することもできる。以下、図 7、図 8および図 9を参照して、第 3変形例に 力かる 2極照明用のマイクロフライアイレンズ、第 4変形例に力かる 4極照明用のマイ クロフライアイレンズ、および第 5変形例に力かる輪帯照明用のマイクロフライアイレン ズについて例示的に説明する。
[0061] ここで、図 7 (a)〜図 9 (a)は第 3〜第 5変形例に力かる 2極、 4極、輪帯照明用のマ イク口フライアイレンズの各偏向面をマスク側力 見た図であり、図 7 (b)〜図 9 (b)は 第 3〜第 5変形例においてシリンドリカルマイクロフライアイレンズ 9の後側に形成され る 2極状、 4極状、輪帯状の二次光源を概略的に示す図であり、図 7 (c)および図 8 (c )は第 3変形例および第 4変形例に力かる 2極、 4極照明用のマイクロフライアイレンズ をマスク側から見た斜視図である。
[0062] 図 7 (a)および (c)を参照すると、第 3変形例に力かる 2極照明用のマイクロフライア ィレンズの射出側には、 2種類の偏向面 43baと 43bbとが互いに同じ数だけ、例えば ランダム配置にしたがって形成されている。ここで、第 1群の偏向面 43baは、図 5 (a) の各偏向面 41bにおける平面 41cに対応するように、図 7 (a)中水平右方向に且つ 外側 (射出側、マスク側)へ突出する向きに傾斜した平面形状を有する。一方、第 2 群の偏向面 43bbは、図 5 (a)の各偏向面 41bにおける平面 41dに対応するように、 図 7 (a)中水平左方向に且つ外側 (射出側、マスク側)へ突出する向きに傾斜した平 面形状を有する。
[0063] この場合、第 3変形例に力かる 2極照明用のマイクロフライアイレンズへ入射した光 束は、第 1群の偏向面 43baの偏向作用と第 2群の偏向面 43bbの偏向作用とにより 2 つの光束に変換され、ァフォーカルレンズ 5の瞳面に光軸 AXを中心とした 2極状の 光強度分布を重畳的に形成する。そして、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ 9の 入射面上には、ァフォーカルレンズ 5の瞳面と同様に、光軸 AXを中心として間隔を 隔てた 2つの照野力 なる 2極状の照野が形成される。
[0064] こうして、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ 9の後側焦点面またはその近傍には 、図 7 (b)に示すように、光軸 AXを中心として図中水平方向に並んだ 2つの面光源 2 3aおよび 23bからなる 2極状の二次光源が形成される。 2つの面光源 23aおよび 23b は、各偏向面 (43ba, 43bb)と相似な正方形状である。その結果、第 3変形例にお いても、 2極状の二次光源（23a, 23b)からの光束が開口絞りの 2極状の開口部でわ ずかに遮られるだけで、開口絞りにおける光量損失を小さく抑えることができる。
[0065] 図 8 (a)および (c)を参照すると、第 4変形例に力かる 4極照明用のマイクロフライア ィレンズの射出佃 Jには、 4種類の偏向面 44baと 44bbと 44bcと 44bdと力互!ヽに同じ 数だけ、例えばランダム配置にしたがって形成されている。ここで、第 1群の偏向面 4 4baは、図 6 (a)の各偏向面 42bにおける平面 42cに対応するように、図 8 (a)中水平 右方向に且つ外側 (射出側、マスク側)へ突出する向きに傾斜した平面形状を有す る。第 2群の偏向面 44bbは、図 6 (a)の各偏向面 42bにおける平面 42dに対応する ように、図 8 (a)中水平左方向に且つ外側 (射出側、マスク側)へ突出する向きに傾斜 した平面形状を有する。
[0066] 第 3群の偏向面 44bcは、図 6 (a)の各偏向面 42bにおける平面 42eに対応するよう に、図 8 (a)中鉛直下方向に且つ外側 (射出側、マスク側)へ突出する向きに傾斜し た平面形状を有する。第 4群の偏向面 44bdは、図 6 (a)の各偏向面 42bにおける平 面 42fに対応するように、図 8 (a)中鉛直上方向に且つ外側 (射出側、マスク側）へ突 出する向きに傾斜した平面形状を有する。この場合、第 4変形例にかかる 4極照明用 のマイクロフライアイレンズへ入射した光束は、第 1群〜第 4群の偏向面 44ba〜44b dの偏向作用により 4つの光束に変換され、ァフォーカルレンズ 5の瞳面に光軸 AXを 中心とした 4極状の光強度分布を重畳的に形成する。
[0067] こうして、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ 9の入射面上には、ァフォーカルレ ンズ 5の瞳面と同様に光軸 AXを中心として間隔を隔てた 4つの照野力 なる 4極状 の照野が形成され、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ 9の後側焦点面またはその 近傍には、図 8 (b)に示すように、光軸 AXを中心として図中水平方向に並んだ 2つの 面光源 24a, 24bと、光軸 AXを中心として図中鉛直方向に並んだ 2つの面光源 24c , 24dと力もなる 4極状の二次光源が形成される。 4つの面光源 24a〜24dは、各偏 向面 (44ba〜44bd)と相似な正方形状である。その結果、第 4変形例においても、 4 極状の二次光源（24a〜24d)力もの光束が開口絞りの 4極状の開口部でわずかに 遮られるだけで、開口絞りにおける光量損失を小さく抑えることができる。
[0068] 図 9 (a)を参照すると、第 5変形例に力かる輪帯照明用のマイクロフライアイレンズの 射出佃 Jには、 12種類の偏向面 45baと 45bbと 45bcと 45bdと 45beと 45bfと 45bgと 4 5bhと 45biと 45bjと 45bkと 45bmとが互いに同じ数だけ、例えばランダム配置にした 力 て形成されている。ここで、第 1群の偏向面 45baは、図 8 (a)の第 1群の偏向面 4 4baに対応するように傾斜した平面形状を有する。第 4群の偏向面 45bdは、図 8 (a) の第 3群の偏向面 44bcに対応するように傾斜した平面形状を有する。
[0069] 第 7群の偏向面 45bgは、図 8 (a)の第 2群の偏向面 44bbに対応するように傾斜し た平面形状を有する。第 10群の偏向面 45bjは、図 8 (a)の第 4群の偏向面 44bdに 対応するように傾斜した平面形状を有する。第 2群の偏向面 45bbおよび第 3群の偏 向面 45bcは、第 1群の偏向面 45baの傾斜方向と第 4群の偏向面 45bdの傾斜方向 との間を角度的に 3等分した中間的な角度に沿って傾斜した平面形状を有する。第 5群の偏向面 45beおよび第 6群の偏向面 45bfは、第 4群の偏向面 45bdの傾斜方 向と第 7群の偏向面 45bgの傾斜方向との間を角度的に 3等分した中間的な角度に 沿って傾斜した平面形状を有する。
[0070] 第 8群の偏向面 45bhおよび第 9群の偏向面 45biは、第 7群の偏向面 45bgの傾斜 方向と第 10群の偏向面 45bjの傾斜方向との間を角度的に 3等分した中間的な角度 に沿って傾斜した平面形状を有する。第 11群の偏向面 45bkおよび第 12群の偏向 面 45bmは、第 10群の偏向面 45bjの傾斜方向と第 1群の偏向面 45baの傾斜方向と の間を角度的に 3等分した中間的な角度に沿って傾斜した平面形状を有する。この 場合、第 5変形例に力かる輪帯照明用のマイクロフライアイレンズへ入射した光束は 、第 1群〜第 12群の偏向面 45ba〜45bmの偏向作用により 12つの光束に変換され 、ァフォーカルレンズ 5の瞳面に、光軸 AXを中心とした円の周方向に並んだ 12極状 の光強度分布、すなわちほぼ輪帯状の光強度分布を重畳的に形成する。
[0071] こうして、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ 9の入射面上には、ァフォーカルレ ンズ 5の瞳面と同様に光軸 AXを中心としたほぼ輪帯状の照野が形成され、シリンドリ カルマイクロフライアイレンズ 9の後側焦点面またはその近傍には、図 10 (b)に模式 的に示すように、光軸 AXを中心としたほぼ輪帯状の二次光源 25が形成される。その 結果、第 5変形例においても、ほぼ輪帯状の二次光源 25からの光束が開口絞りの輪 帯状の開口部でわずかに遮られるだけで、開口絞りにおける光量損失を小さく抑え ることがでさる。
[0072] なお、上述の図 3の実施形態、第 1変形例〜第 5変形例では、各屈折面が（ひいて は各偏向面も）正方形状を有するが、各屈折面の形状については様々な変形例が 可能である。図示を省略するが、たとえば各屈折面を長方形状 (矩形状)などの多角 形のような正方形状以外の他の形状に設定することができる。また、図 10 (a)に示す ように、たとえば正八角形状 (第 1外形形状)の複数の第 1屈折面 46aaと、正方形状（ 第 2外形形状)の複数の第 2屈折面 46abとを入射側に稠密に形成した構成に基づ いて、第 2実施形態に力かる変形輪帯照明用のマイクロフライアイレンズ 46を実現す ることがでさる。
[0073] 図 10 (b)を参照すると、第 2実施形態に力かる変形輪帯照明用のマイクロフライア ィレンズ 46の射出側には、複数の第 1屈折面 46aaに対応した正八角形状の複数の 第 1偏向面 46baと、複数の第 2屈折面 46abに対応した正方形状の複数の第 2偏向 面 46bbとが稠密に形成されている。各第 1屈折面 46aaおよび各第 2屈折面 46abは 、図 3の実施形態における各屈折面 4aと同様に、光軸 AXに平行な各中心軸線に関 して対称な球面状の凸面形状 (または球面状の凹面形状)を有し、入射光に屈折作 用を付与する機能を有する。
[0074] 各第 1偏向面 46baは、図 3の実施形態における各偏向面 4bと同様に、光軸 AXに 平行な各中心軸線に関して対称で且つ外側 (射出側、マスク側）に頂点が突出した 円錐状の面形状を有し、対応する第 1屈折面 46aaを介した光の進行方向を変える 機能を有する。各第 2偏向面 46bbは、光軸 AXに対して垂直な平面形状を有し、対 応する第 2屈折面 46abを介して光軸 AXに平行に入射した光線の進行方向を変える ことなく透過させる機能を有する。
[0075] 第 2実施形態に力かる変形輪帯照明用のマイクロフライアイレンズ 46では、各第 1 屈折面 46aaを介して各第 1偏向面 46baへ導かれた光束は、円錐状の面形状を有 する各第 1偏向面 46baの偏向作用により輪帯状の光束に変換され、ァフォーカルレ ンズ 5の瞳面に光軸 AXを中心とした輪帯状の光強度分布を重畳的に形成する。ま た、各第 2屈折面 46abを介して各第 2偏向面 46bbへ導かれたほぼ平行光束は、平 面形状を有する各第 2偏向面 46bbにおいて偏向作用を実質的に受けることなぐァ フォーカルレンズ 5の瞳面に光軸 AXを中心とした正方形状の光強度分布を重畳的 に形成する。
[0076] こうして、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ 9の入射面上には、ァフォーカルレ ンズ 5の瞳面と同様に光軸 AXを中心とした輪帯状の照野と正方形状の照野とが形 成され、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ 9の後側焦点面またはその近傍には、 図 11に示すように、光軸 AXを中心とした輪帯状の面光源 26aと光軸 AXを中心とし た 1つの正方形状の面光源 26bとからなる変形輪帯状の二次光源 26が形成される。
[0077] なお、第 2実施形態に関する上述の説明では、各第 1偏向面 46baを円錐状の面形 状に形成した変形輪帯照明用のマイクロフライアイレンズ 46を用いて変形輪帯照明 を行う例を示している力 これに限定されることなぐ各第 1偏向面の面形状を変える だけで同様の基本的構成にしたがって、様々な複数極照明用のマイクロフライアイレ ンズを実現することができる。以下、図 12および図 13を参照して、第 6変形例にかか る 3極照明用のマイクロフライアイレンズおよび第 7変形例に力かる 5極照明用のマイ クロフライアイレンズについて例示的に説明する。
[0078] 図 12 (a)を参照すると、第 6変形例に力かる 3極照明用のマイクロフライアイレンズ の射出側に形成された各第 1偏向面 47bは、図 5の第 1変形例における各偏向面 41 bと同様に屋根型の面形状を有し、法線方向の異なる 2つの平面 47cと 47dとにより 構成されている。したがって、第 6変形例に力かる 3極照明用のマイクロフライアイレン ズでは、各第 1屈折面を介して各第 1偏向面 47bへ導かれた光束が、屋根型の面形 状を有する各第 1偏向面 47bの偏向作用（光束変換作用）により 2つの光束に変換さ れ、ァフォーカルレンズ 5の瞳面に光軸 AXを中心として間隔を隔てた 2極状の光強 度分布を重畳的に形成する。また、上述したように、各第 2屈折面を介して各第 2偏 向面へ導かれた光束は、ァフォーカルレンズ 5の瞳面に光軸 AXを中心とした正方形 状の光強度分布を重畳的に形成する。
[0079] こうして、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ 9の入射面上には、ァフォーカルレ ンズ 5の瞳面と同様に、光軸 AXを中心として間隔を隔てた 2つの照野と光軸 AXを中 心とした 1つの照野とからなる 3極状の照野が形成され、シリンドリカルマイクロフライ アイレンズ 9の後側焦点面またはその近傍には、図 12 (b)に示すように、光軸 AXを 中心として図中水平方向に並んだ 2つの面光源 27aaおよび 27abと光軸 AXを中心 とした 1つの面光源 27bとからなる 3極状の二次光源が形成される。ここで、 2つの面 光源 27aaおよび 27abは、各第 1偏向面 47bの 2つの平面 47cおよび 47dと相似な 形状である。
[0080] 図 13 (a)を参照すると、第 7変形例に力かる 5極照明用のマイクロフライアイレンズ の射出側に形成された各第 1偏向面 48bは、図 6の第 2変形例における各偏向面 42 bと同様に正四角錐状の面形状を有し、法線方向の異なる 4つの平面 48cと 48dと 48 eと 48fとにより構成されている。したがって、第 7変形例に力かる 5極照明用のマイク 口フライアイレンズでは、各第 1屈折面を介して各第 1偏向面 48bへ導かれた光束が 、正四角錐状の面形状を有する各第 1偏向面 48bの偏向作用（光束変換作用）によ り 4つの光束に変換され、ァフォーカルレンズ 5の瞳面に光軸 AXを中心として間隔を 隔てた 4極状の光強度分布を重畳的に形成する。また、上述したように、各第 2屈折 面を介して各第 2偏向面へ導かれた光束は、ァフォーカルレンズ 5の瞳面に光軸 AX を中心とした正方形状の光強度分布を重畳的に形成する。
[0081] こうして、シリンドリカルマイクロフライアイレンズ 9の入射面上には、ァフォーカルレ ンズ 5の瞳面と同様に、光軸 AXを中心として間隔を隔てた 4つの照野と光軸 AXを中 心とした 1つの照野とからなる 5極状の照野が形成され、シリンドリカルマイクロフライ アイレンズ 9の後側焦点面またはその近傍には、図 13 (b)に示すように、光軸 AXを 中心として図中水平方向に並んだ 2つの面光源 28aaおよび 28abと、光軸 AXを中 心として図中鉛直方向に並んだ 2つの面光源 28acおよび 28adと、光軸 AXを中心と した 1つの面光源 28bと力もなる 5極状の二次光源が形成される。ここで、 4つの面光 源 28aa〜28adは、各第 1偏向面 48bの 4つの平面 48c〜48fと相似な形状である。
[0082] なお、上述の図 10の第 2実施形態、第 6変形例および第 7変形例では、各第 1偏向 面が円錐状、屋根型または角錐状の面形状を有するが、これに限定されることなぐ 多数の第 1偏向面の各々が平面形状を有し且つ互いに同じ法線方向を有する第 1 偏向面の群が複数有るような構成に基づいて、変形輪帯照明や様々な複数極照明 用のマイクロフライアイレンズを実現することもできる。
[0083] 図 10の第 2実施形態における多数の第 1偏向面 46baに対して、図 7の第 3変形例 における 2種類の偏向面 43baおよび 43bbの構成を適用する第 8変形例では、図 14 (a)に示すように、光軸 AXを中心として図中水平方向に並んだ 2つの面光源 29aa および 29abと、光軸 AXを中心とした 1つの面光源 29bとからなる 3極状の二次光源 が形成される。ここで、 2つの面光源 29aaおよび 29abは、各第 1偏向面と相似な正 八角形状である。
[0084] また、図 10の第 2実施形態における多数の第 1偏向面 46baに対して、図 8の第 4変 形例における 4種類の偏向面 44ba〜44bdの構成を適用する第 9変形例では、図 1 4 (b)に示すように、光軸 AXを中心として図中水平方向に並んだ 2つの面光源 30aa および 30abと、光軸 AXを中心として図中鉛直方向に並んだ 2つの面光源 30acおよ び 30adと、光軸 AXを中心とした 1つの面光源 30bとからなる 5極状の二次光源が形 成される。ここで、 4つの面光源 30aa〜30adは、各第 1偏向面と相似な正八角形状 である。
[0085] また、図 10の第 2実施形態における多数の第 1偏向面 46baに対して、図 9の第 5変 形例における 12種類の偏向面 45ba〜45bmの構成を適用する第 10変形例では、 図 14 (c)に模式的に示すように、光軸 AXを中心としたほぼ輪帯状の面光源 31aと、 光軸 AXを中心とした 1つの面光源 31bとからなる変形輪帯状の二次光源が形成され る。
[0086] また、上述の第 1〜第 2実施形態および第 1〜第 10変形例においては、入射側に 屈折面を形成すると共に射出側に偏向面を形成したマイクロフライアイレンズを用 Vヽ たが、入射側に偏向面を形成すると共に射出側に屈折面を形成したマイクロフライア ィレンズを用いても良い。図 15および図 16を参照して、入射側に偏向面を形成する と共に射出側に屈折面を形成した第 11変形例に力かるマイクロフライアイレンズ 49 について例示的に説明する。
[0087] 図 15は、第 11変形例にカゝかる 2極照明用のマイクロフライアイレンズの構成を概略 的に示す図であって、（a)は光源側から見た図であり、（b)はマスク側から見た図であ る。また、図 16は、第 11変形例に力かる 2極照明用のマイクロフライアイレンズの作 用を示す図であって、（a)はマイクロフライアイレンズの概略的な光路図であり、 (b) は第 11変形例にカゝかるマイクロフライアイレンズを介した光束によりマイクロフライアイ レンズ 9の後側焦点面またはその近傍に形成される 2極状の二次光源を示す図であ る。
[0088] 図 15 (a)に示すように、マイクロフライアイレンズ 49の入射側（光源側）には、互い に隣り合うように稠密配置された多数の正方形状の偏向面 49aが形成されて 、る。各 偏向面 49aは、いわゆる屋根型の面形状を有し、法線方向の異なる 2つの平面 49c と 49dとにより構成されている。一方、図 15 (b)に示すように、マイクロフライアイレン ズ 49の射出側（マスク側）には、多数の正方形状の偏向面 49aに対応するように稠密 配置された多数の正方形状の屈折面 49bが形成されている。図 16 (a)に示すように 、マイクロフライアイレンズ 49の各偏向面 49aは、互いに法線方向の異なる 2つの平 面 49cおよび 49dにより入射光を波面分割しつつ波面分割された光束の進行方向を 変える機能を有する。 [0089] そして、各屈折面 49bは、各偏向面 49aの 2つの平面 49c, 49dによって進行方向 が変えられた光束に屈折作用を付与する機能を有する。そして、マイクロフライアイレ ンズ 49の各偏向面 49aおよび各屈折面 49bを通過した光束は、ァフォーカルレンズ 5およびズームレンズ 8を順に介してマイクロフライアイレンズ 9に入射し、図 16 (b)に 示すように、光軸 AXを中心として図中水平方向に並んだ 2つの面光源 32aおよび 3 2bからなる 2極状の二次光源が形成される。この結果、第 11変形例においても、 2極 状の二次光源（32a, 32b)からの光束が開口絞りの 2極状の開口部でわずかに遮ら れるだけで、開口絞りにおける光量損失を小さく抑えることができる。
[0090] なお、上述の第 1〜第 2実施形態、および第 1〜第 11変形例では、偏向面を無屈 折力の面 (たとえば平面、円錐面など)で形成した力 偏向面は無屈折力の面には限 定されず、たとえば凸形状の球面または非球面、凹形状の球面または非球面であつ ても良い。この構成により、入射側の屈折面の屈折作用を分担することができる。また 、上述の第 1〜第 2実施形態、および第 1〜第 11変形例では、複数の屈折面と複数 の偏向面とをマイクロフライアイレンズ 4の入射側と射出側とに別々に形成していたが 、これら複数の屈折面と複数の偏向面との作用を兼用させることができる。
[0091] 図 17は、第 12変形例に力かる 2極照明用のマイクロフライアイレンズ 491の構成を 概略的に示す図であって、（a)は光源側力も見た XZ平面図であり、（b)は断面図 (Y Z断面図）であり、（c)はマイクロフライアイレンズ 491を介した光束によりマイクロフラ ィアイレンズ 9の後側焦点面またはその近傍に形成される 2極状の二次光源を示す 図である。図 17 (a)に示すマイクロフライアイレンズ 491には、互いに隣り合うように稠 密配置された多数の正方形状の屈折偏向面の組 491al, 491a2が形成されている
[0092] 図 17 (b)に示すように、屈折偏向面 491alは光軸 AXと平行な軸線に対して所定 角度 + Θだけ傾いた光軸 AX491alを備えた球面形状の凸面であり、屈折偏向面 4 91a2は光軸 AXと平行な軸線に対して所定角度— Θだけ傾いた光軸 AX491a2を 備えた球面形状の凸面である。なお、ここでは、 X軸を中心とした回転方向のうち、図 中右回り方向を正とし、図中左回り方向を負としている。ここでは、各屈折偏向面 491 al, 491a2の光軸を、各屈折偏向面 491al, 49 la2の有効領域の境界線を結んだ 面の法線と定義している。なお、図 17 (a)に示した通り、各屈折偏向面の組 491al, 49 la2の全体形状は正方形となっている。
[0093] この構成により、屈折偏向面 491alを介した光束は、光軸 AXと平行な光軸を有す る仮想的なレンズ面 51aによる仮想的な集光点 52aに向力 光束を基準として、負方 向に偏向された状態で集光されて、集光点 50alを形成する。また、屈折偏向面 49a 2を介した光束は、光軸 AXと平行な光軸を有する仮想的なレンズ面 5 laによる仮想 的な集光点 52aに向力 光束を基準として、正方向に偏向された状態で集光されて、 集光点 50a2を形成する。
[0094] これらの光束がァフォーカルレンズ 5およびズームレンズ 8を順に介してマイクロフラ ィアイレンズ 9に入射し、図 17 (c)に示すように、光軸 AXを中心として図中垂直方向 に並んだ 2つの面光源 33aおよび 33bからなる 2極状の二次光源が形成される。ここ で、面光源 33aは、正方向に偏向された光束により形成され、面光源 33bは負方向 に偏向された光束により形成される。
[0095] なお、ここでは、説明を簡単にするために屈折偏向面の糸且 491al, 491a2につい ての作用のみを記載したが、二極照明用のマイクロフライアイレンズ 491を構成する 多数の屈折面は、正方向に光束を偏向させつつ集光する複数の屈折面と、負方向 に光束を偏向させつつ集光する複数の屈折面とを備えている。すなわち、マイクロフ ライアイレンズ 491は、屈折面を介して射出される光束の偏向方向を含む断面 (YZ 平面）において傾きを持つ複数の屈折面を備えている。
[0096] そして、正方向に光束を偏向させつつ集光する複数の屈折偏向面を介した複数の 光束が重畳されて面光源 33aが形成され、負方向に光束を偏向させつつ集光する 複数の屈折偏向面を介した複数の光束が重畳されて面光源 33bが形成される。この 結果、第 12変形例においても、 2極状の二次光源（33a, 33b)からの光束が開口絞 りの 2極状の開口部でわずかに遮られるだけで、開口絞りにおける光量損失を小さく 抑えることができる。
[0097] また、第 11および第 12変形例では、 2極状の二次光源を形成する例のみを示した 1S 3極状の二次光源や、 4極状の二次光源、 5極状の二次光源、さらには 8極状の 二次光源など、様々な多極状の二次光源や、輪帯状の二次光源をも形成することが できる。なお、第 12変形例では、マイクロフライアイレンズ 491の入射側に屈折偏向 面を設けたが、射出側に屈折偏向面を設けても良ぐさらには入射側および射出側 の双方に屈折偏向面を設けても良い。このとき、一方の側を屈折面または偏向面とし ても良い。
[0098] ここで、第 12変形例において、屈折偏向面の形状は球面形状の凸面に限られず、 球面形状の凹面であっても良い。また、球面形状ではなぐ非球面形状であっても良 い。なお、第 12変形例において屈折偏向面を回転対称非球面形状とする場合には 、この非球面の回転対称軸を光軸に対して傾ければ良い。なお、上述の第 1〜第 2 実施形態および第 1〜第 11変形例においても、球面形状を非球面形状にしても良 い。
[0099] また、上述の実施形態および第 1〜12変形例において、射出側に形成される複数 の偏向面または複数の屈折偏向面は稠密配置されていなくても良い。このとき、入射 側の複数の屈折面または複数の屈折偏向面の間からの漏れ光 (0次光)を遮光する ために、射出側の複数の偏向面または複数の屈折偏向面の間の領域に遮光部を設 けても良い。
[0100] なお、図 18 (a)に示す第 13変形例のように、複数の偏向面、複数の屈折面または 複数の屈折偏向面が稠密配置されている場合であっても、入射側および射出側の 少なくとも一方の側に遮光部 40a、 40bを設けても良い。また、図 18 (b)に示す第 14 変形例のように、これらの遮光部 40a、 40bは変形照明用のマイクロフライアイレンズ 4とは別の光透過性基板 40c、 40dに設けられて 、ても良 、。
[0101] また、マイクロフライアイレンズ 4, 49, 491を物理的な加工を用いて形成する場合、 加工誤差が生じると二次光源の光強度分布が所望の光強度分布とならない恐れが あるが、このような場合には、たとえば照明瞳面に補正フィルターを配置すれば良い 。このような照明瞳面に配置される補正フィルタ一は、たとえば特開 2004— 247527 号公報に開示されている。
[0102] 次に、図 19のフローチャートを参照して、上述の各実施形態ならびに各変形例に 力かる変形照明用のマイクロフライアイレンズ 4、 49、 491の製造方法に力かる第 3実 施形態について説明する。まず、図 19のステップ 101において、第 1実施形態で既 述したように、たとえば蛍石などのフッ化物結晶材料で形成される平行平面板を準備 する。
[0103] 次のステップ 102において、蛍石製の平行平面板の結晶面方位を測定し、蛍石製 の平行平面板の結晶面 { 111 }が光軸に向 、て 、る力否かを確認する。このステップ 102では、たとえばラウエ (Laue)測定を行い、結晶面方位を直接的に測定する手法 力 蛍石製の平行平面板の複屈折を測定し、既知の結晶軸方位と複屈折量との関 係に基づいて、測定された複屈折力 結晶軸方位を定める手法を適用することがで きる。
[0104] ここで、結晶面 { 111 }が光軸に向けられているとは、光軸と結晶軸方向とのずれ角 が所定の許容量以下であることを意味する。なお、この結晶面方位の測定に際して は、蛍石製の平行平面板の特定の 1点だけの測定であっても良いし、蛍石製の平行 平面板において複数点の測定をしても良い。なお、蛍石製の平行平面板において 異端的に結晶面方位のずれがある領域が局部的に存在する場合、その結晶面方位 のずれが許容値以下であれば良 、。
[0105] その後、ステップ 103において、蛍石製の平行平面板を物理的に加工（マイクロマ シーンユング、高温状態で金型を用いる加工など）して、複数の偏向面、複数の屈折 面または複数の屈折偏向面を蛍石製の基板上に創成する。
[0106] その後、ステップ 104において、複数の偏向面、複数の屈折面または複数の屈折 偏向面を有する蛍石製の基板、すなわち変形照明用のマイクロフライアイレンズの検 查を行う。このマイクロフライアイレンズの検査では、マイクロフライアイレンズのファー フィールドに形成される輪帯状または多極状の照野の外形や照度分布が所定の許 容値内であるか否かを検査する。この検査に際しては、たとえば米国特許公開第 20 06Z0166142号公報に開示される技術を用いることができる。ここでは、米国特許 公開第 2006Z0166142号公報を参照として援用する。
[0107] なお、所定の許容値から外れている場合には、上述したように照明瞳面に配置され る補正フィルターと組み合わせて使うことになるので、輪帯状または多極状の照野の 外形や照度分布を所定の許容値とするための補正フィルターの濃度分布を算出して おくことが好ましい。この補正フィルターの濃度分布に関する情報は、検査されたマイ クロフライアイレンズに持たせておくことが好ましい。ここで、補正フィルターの濃度分 布に関する情報を変形照明用マイクロフライアイレンズに持たせる手法としては、変 形照明用マイクロフライアイレンズの基板に情報を刻印する、後述する変形照明用マ イク口フライアイレンズを保持する保持部材にたとえば無線タグを設けて当該無線タ グに記憶させる等の手法や、マイクロフライアイレンズが組み込まれる照明光学装置 、あるいは露光装置の製造工場内の工程管理用のコンピュータに、検査されたマイク 口フライアイレンズの製造番号毎の補正フィルターの情報を対応表の形で記憶させる 手法などが適用できる。
[0108] その後、ステップ 105において、検査されたマイクロフライアイレンズを保持部材に 組み込む。上述の第 3実施形態に従えば、変形照明に際して開口絞り 10における光 量損失を小さく抑えることができ且つ波長の短い紫外域の光に対して十分な耐久性 を有するマイクロフライアイレンズを製造することができる。
[0109] なお、上述の説明では、波長の短い紫外域の光に対して十分な耐久性を確保する ために、各実施形態および各変形例に力かるマイクロフライアイレンズを蛍石により 形成しているが、これに限定されることなぐたとえばフッ化バリウム、フッ化リチウム、 フッ化ナトリウム、フッ化ストロンチウムのような他のフッ化物結晶材料により形成する ことちでさる。
[0110] また、第 1実施形態ならびに第 1〜第 5、第 11および第 12変形例に力かるマイクロ フライアイレンズにおいては、複数の偏向面、複数の屈折面または複数の屈折偏向 面を千鳥状に配列したが、これら複数の偏向面、複数の屈折面または複数の屈折偏 向面を 2次元マトリックス状に配列しても良い。
[0111] また、第 2実施形態ならびに第 6〜第 10変形例においては、複数の偏向面および 複数の屈折面を正八角形と正方形とを組み合わせた外形形状としたが、複数の偏向 面および複数の屈折面の形状の組合せとしては、正八角形と正方形との組合せには 限定されず、たとえば正五角形状と菱形との組合せや、正七角形と正五角形との組 合せなどの最密充填配置が可能な形状の組合せであれば良い。
[0112] 上述の実施形態に力かる露光装置では、照明光学装置によってマスク（レチクル） を照明し (照明工程)、投影光学系を用いてマスクに形成された転写用のパターンを 感光性基板に露光する（露光工程)ことにより、マイクロデバイス（半導体素子、撮像 素子、液晶表示素子、薄膜磁気ヘッド等)を製造することができる。以下、上述の実 施形態の露光装置を用いて感光性基板としてのウェハ等に所定の回路パターンを形 成することによって、マイクロデバイスとしての半導体デバイスを得る際の手法の一例 にっき図 20のフローチャートを参照して説明する。
[0113] 先ず、図 20のステップ 301において、 1ロットのウェハ上に金属膜が蒸着される。次 のステップ 302において、その 1ロットのウェハ上の金属膜上にフォトレジストが塗布さ れる。その後、ステップ 303において、上述の実施形態の露光装置を用いて、マスク 上のパターンの像がその投影光学系を介して、その 1ロットのウェハ上の各ショット領 域に順次露光転写される。その後、ステップ 304において、その 1ロットのウェハ上の フォトレジストの現像が行われた後、ステップ 305において、その 1ロットのウェハ上で レジストパターンをマスクとしてエッチングを行うことによって、マスク上のパターンに 対応する回路パターン力 各ウェハ上の各ショット領域に形成される。その後、更に 上のレイヤの回路パターンの形成等を行うことによって、半導体素子等のデバイスが 製造される。上述の半導体デバイス製造方法によれば、極めて微細な回路パターン を有する半導体デバイスをスループット良く得ることができる。
[0114] また、上述の実施形態の露光装置では、プレート (ガラス基板)上に所定のパターン
(回路パターン、電極パターン等）を形成することによって、マイクロデバイスとしての 液晶表示素子を得ることもできる。以下、図 21のフローチャートを参照して、このとき の手法の一例につき説明する。図 21において、パターン形成工程 401では、上述の 実施形態の露光装置を用いてマスクのパターンを感光性基板 (レジストが塗布された ガラス基板等）に転写露光する、所謂光リソグラフィー工程が実行される。この光リソ グラフィー工程によって、感光性基板上には多数の電極等を含む所定パターンが形 成される。その後、露光された基板は、現像工程、エッチング工程、レジスト剥離工程 等の各工程を経ることによって、基板上に所定のパターンが形成され、次のカラーフ ィルター形成工程 402へ移行する。
[0115] 次に、カラーフィルター形成工程 402では、 R (Red)、 G (Green)、 B (Blue)に対応し た 3つのドットの組がマトリックス状に多数配列されたり、または R、 G、 Bの 3本のストラ イブのフィルターの組を複数水平走査線方向に配列したカラーフィルターを形成する
。そして、カラーフィルター形成工程 402の後に、セル組み立て工程 403が実行され る。セル組み立て工程 403では、パターン形成工程 401にて得られた所定パターン を有する基板、およびカラーフィルター形成工程 402にて得られたカラーフィルター 等を用いて液晶パネル (液晶セル)を組み立てる。
[0116] セル組み立て工程 403では、例えば、パターン形成工程 401にて得られた所定パ ターンを有する基板とカラーフィルター形成工程 402にて得られたカラーフィルターと の間に液晶を注入して、液晶パネル (液晶セル)を製造する。その後、モジュール組 み立て工程 404にて、組み立てられた液晶パネル (液晶セル）の表示動作を行わせ る電気回路、バックライト等の各部品を取り付けて液晶表示素子として完成させる。上 述の液晶表示素子の製造方法によれば、極めて微細な回路パターンを有する液晶 表示素子をスループット良く得ることができる。
[0117] なお、上述の実施形態では、露光光として ArFエキシマレーザ光 (波長： 193nm) や KrFエキシマレーザ光（波長： 248nm)を用いている力 これに限定されることなく 、他の適当なレーザ光源、たとえば波長 157nmのレーザ光を供給する Fレーザ光
2 源などに対して本発明を適用することもできる。
[0118] また、上述の実施形態では、露光装置においてマスクまたはウェハを照明する照明 光学装置に対して本発明を適用しているが、これに限定されることなぐマスクまたは ウェハ以外の被照射面を照明する一般的な照明光学装置に対して本発明を適用す ることちでさる。

Claims

請求の範囲
[1] 真空紫外域の光で用いられる波面分割型のオプティカルインテグレータの製造方法 であって、
フッ化物結晶材料の単一の光学部材を準備する工程と、
互いに隣り合うように配置されてそれぞれ入射光の進行方向を変える複数の偏向 面を、前記単一の光学部材の第 1の表面に創成する工程と
を備えることを特徴とするオプティカルインテグレータの製造方法。
[2] 前記単一の光学部材の第 2の表面に、前記複数の偏向面に対応する複数の屈折面 を設ける工程をさらに備えていることを特徴とする請求項 1に記載のオプティカルイン テグレータの製造方法。
[3] 前記単一の光学部材の前記第 1の表面と前記第 2の表面とは異なる表面であること を特徴とする請求項 2に記載のオプティカルインテグレータの製造方法。
[4] 前記単一の光学部材は、フッ化物結晶材料力 なる平行平面板であることを特徴と する請求項 1乃至 3のいずれ力 1項に記載のオプティカルインテグレータの製造方法
[5] 前記単一の光学部材は、立方晶系のフッ化物結晶材料により形成されることを特徴 とする請求項 1乃至 4のいずれ力 1項に記載のオプティカルインテグレータの製造方 法。
[6] 前記立方晶系のフッ化物結晶材料により形成される単一の光学部材の結晶面方位 を確認する工程をさらに備えていることを特徴とする請求項 5に記載のオプティカルィ ンテグレータの製造方法。
[7] 前記単一の光学部材の所定の結晶面方位を入射光の進行方向に対して設定する 工程をさらに備えていることを特徴とする請求項 6に記載のオプティカルインテグレー タの製造方法。
[8] 前記所定の結晶面は結晶面 { 111 }であることを特徴とする請求項 7に記載のォプテ イカルインテグレータの製造方法。
[9] 請求項 1乃至 8のいずれか 1項に記載の製造方法により製造されたことを特徴とする オプティカルインテグレータ。
[10] 真空紫外域の光で用いられる波面分割型のオプティカルインテグレータであって、 フッ化物結晶材料により形成された単一の光学部材を備え、
前記単一の光学部材は、互いに隣り合うように配置された複数の偏向面を備え、 前記複数の偏向面の各々は入射光の進行方向を変えることを特徴とするォプティ カルインテグレータ。
[11] 前記単一の光学部材は、互いに隣り合うように配置されて入射光に屈折作用を付与 するための複数の屈折面をさらに備えることを特徴とする請求項 10に記載のォプテ イカルインテグレータ。
[12] 前記複数の屈折面は、前記単一の光学部材の入射側に形成され、
前記複数の偏向面は、前記複数の屈折面に対応するように前記単一の光学部材 の射出側に形成されて、前記複数の屈折面を介した光の進行方向を変えることを特 徴とする請求項 11に記載のオプティカルインテグレータ。
[13] 前記複数の屈折面は、第 1外形形状を有する複数の第 1屈折面と、第 1外形形状と は異なる第 2外形形状を有する複数の第 2屈折面とを有することを特徴とする請求項
11または 12に記載のオプティカルインテグレータ。
[14] 前記複数の第 1屈折面に対応するように配置された複数の第 1偏向面の各々は、法 線方向の異なる複数の平面を有し、
前記複数の第 2屈折面に対応するように配置された複数の第 2偏向面の各々は平 面形状を有することを特徴とする請求項 13に記載のオプティカルインテグレータ。
[15] 前記複数の第 1屈折面に対応するように配置された複数の第 1偏向面の各々は、円 錐状の面形状を有し、
前記複数の第 2屈折面に対応するように配置された複数の第 2偏向面の各々は平 面形状を有することを特徴とする請求項 13に記載のオプティカルインテグレータ。
[16] 前記複数の第 1偏向面は、互いにほぼ同じ法線方向を有する偏向面の群を複数有 することを特徴とする請求項 14または 15に記載のオプティカルインテグレータ。
[17] 前記複数の偏向面群の各々は、互いにほぼ同じ数の偏向面を有することを特徴とす る請求項 16に記載のオプティカルインテグレータ。
[18] 前記複数の屈折面と前記複数の偏向面とは、前記単一の光学部材上の同じ面に複 数の屈折偏向面として形成されていることを特徴とする請求項 11に記載のォプティ カルインテグレータ。
[19] 前記複数の屈折偏向面の各々は、稜線を有することを特徴とする請求項 18に記載 のォプティカノレインテグレータ。
[20] 前記複数の偏向面は、前記単一の光学部材の入射側に形成されて入射光の進行 方向を変え、
前記複数の屈折面は、前記複数の偏向面に対応するように前記単一の光学部材 の射出側に形成されて!ヽることを特徴とする請求項 11に記載のオプティカルインテ グレータ。
[21] 前記複数の偏向面の各々は、稜線を有することを特徴とする請求項 20に記載のォ プティカノレインテグレータ。
[22] 波面分割型のオプティカルインテグレータにお 、て、
フッ化物結晶材料により形成された単一の光学部材を備え、
前記単一の光学部材は、互いに隣り合うように配置されて入射光に屈折作用を付 与するための複数の屈折面と、互いに隣り合うように配置されて入射光の進行方向を 変えるための複数の偏向面とを備えていることを特徴とするオプティカルインテグレー タ。
[23] 前記複数の屈折面は、単一の光学部材の入射側に形成され、
前記複数の偏向面は、前記複数の屈折面に対応するように前記単一の光学部材 の射出側に形成されて、前記複数の屈折面を介した光の進行方向を変えることを特 徴とする請求項 22に記載のオプティカルインテグレータ。
[24] 前記複数の屈折面の各々は、球面状の凸面形状または球面状の凹面形状を有する ことを特徴とする請求項 22または 23に記載のオプティカルインテグレータ。
[25] 前記複数の偏向面の各々は、法線方向の異なる複数の平面を有することを特徴とす る請求項 22乃至 24のいずれ力 1項に記載のオプティカルインテグレータ。
[26] 前記複数の偏向面の各々は、複数の平面で形成される稜線を有することを特徴とす る請求項 22乃至 24のいずれ力 1項に記載のオプティカルインテグレータ。
[27] 前記複数の偏向面の各々は、円錐状の面形状を有することを特徴とする請求項 22 乃至 24のいずれ力 1項に記載のオプティカルインテグレータ。
[28] 前記複数の偏向面の各々は平面形状を有し、
前記複数の偏向面は、互いにほぼ同じ法線方向を有する偏向面の群を複数有す ることを特徴とする請求項 22乃至 24のいずれか 1項に記載のオプティカルインテグ レータ。
[29] 前記複数の偏向面群の各々は、互いにほぼ同じ数の偏向面を有することを特徴とす る請求項 28に記載のオプティカルインテグレータ。
[30] 前記複数の屈折面は、第 1外形形状を有する複数の第 1屈折面と、第 1外形形状と は異なる第 2外形形状を有する複数の第 2屈折面とを有することを特徴とする請求項
22乃至 24のいずれ力 1項に記載のオプティカルインテグレータ。
[31] 前記複数の第 1屈折面に対応するように配置された複数の第 1偏向面の各々は、法 線方向の異なる複数の平面を有し、
前記複数の第 2屈折面に対応するように配置された複数の第 2偏向面の各々は平 面形状を有することを特徴とする請求項 30に記載のオプティカルインテグレータ。
[32] 前記複数の第 1屈折面に対応するように配置された複数の第 1偏向面の各々は、円 錐状の面形状を有し、
前記複数の第 2屈折面に対応するように配置された複数の第 2偏向面の各々は平 面形状を有することを特徴とする請求項 30に記載のオプティカルインテグレータ。
[33] 前記複数の第 1屈折面に対応するように配置された複数の第 1偏向面の各々は平面 形状を有し、該複数の第 1偏向面は互いにほぼ同じ法線方向を有する偏向面の群を 複数有し、
前記複数の第 2屈折面に対応するように配置された複数の第 2偏向面の各々は平 面形状を有することを特徴とする請求項 30に記載のオプティカルインテグレータ。
[34] 前記複数の偏向面群の各々は、互いにほぼ同じ数の偏向面を有することを特徴とす る請求項 33に記載のオプティカルインテグレータ。
[35] 前記複数の屈折面と前記複数の偏向面とは、前記単一の光学部材上の同じ面に複 数の屈折偏向面として形成されていることを特徴とする請求項 22に記載のォプティ カノレインテグレータ。
[36] 前記複数の屈折偏向面の各々は、稜線を有することを特徴とする請求項 35に記載 のォプティカノレインテグレータ。
[37] 前記複数の偏向面は、前記単一の光学部材の入射側に形成されて入射光の進行 方向を変え、
前記複数の屈折面は、前記複数の偏向面に対応するように前記単一の光学部材 の射出側に形成されていることを特徴とする請求項 22に記載のオプティカルインテ グレータ。
[38] 前記複数の偏向面の各々は、稜線を有することを特徴とする請求項 37に記載のォ プティカノレインテグレータ。
[39] 前記オプティカルインテグレータは、フッ化物結晶材料により形成された平行平面板 をカロェすることにより形成されていることを特徴とする請求項 10乃至 38のいずれか 1 項に記載のオプティカルインテグレータ。
[40] 前記単一の光学部材は、立方晶系のフッ化物結晶材料により形成され、前記入射光 の進行方向に対して結晶面 { 111 }を向けて 、ることを特徴とする請求項 10乃至 39 のいずれ力 1項に記載のオプティカルインテグレータ。
[41] 光源力もの光に基づいて被照射面を照明する照明光学装置において、
前記光源と前記被照射面との間の光路中に配置された請求項 9乃至 40のいずれ 力 1項に記載のオプティカルインテグレータを備えていることを特徴とする照明光学 装置。
[42] 前記オプティカルインテグレータからの光束の光路中に配置された第 2オプティカル インテグレータと、該第 2オプティカルインテグレータからの光を前記被照射面へ重畳 的に導くための導光光学系とをさらに備えていることを特徴とする請求項 41に記載の 照明光学装置。
[43] 前記光源は、ほぼ平行な光束を供給することを特徴とする請求項 41または 42に記 載の照明光学装置。
[44] 前記光源からの光束の光軸に対する角度ずれを検出する検出部と、該検出部から の出力に基づ 、て前記光束の前記角度ずれを補正する補正部とをさらに備えて 、る ことを特徴とする請求項 41乃至 43のいずれか 1項に記載の照明光学装置。
[45] 所定のパターンを照明するための請求項 41乃至 44のいずれ力 1項に記載の照明光 学装置を備え、前記所定のパターンを感光性基板に露光することを特徴とする露光 装置。
[46] 請求項 45に記載の露光装置を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露 光する露光工程と、
前記露光工程を経た前記感光性基板を現像する現像工程とを含むことを特徴とす るデバイスの製造方法。
PCT/JP2006/322245 2005-11-24 2006-11-08 オプティカルインテグレータ、照明光学装置、露光装置、およびデバイスの製造方法 WO2007060834A1 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005338129 2005-11-24
JP2005-338129 2005-11-24

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2007060834A1 true WO2007060834A1 (ja) 2007-05-31

Family

ID=38067067

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2006/322245 WO2007060834A1 (ja) 2005-11-24 2006-11-08 オプティカルインテグレータ、照明光学装置、露光装置、およびデバイスの製造方法

Country Status (2)

Country Link
TW (1) TW200722803A (ja)
WO (1) WO2007060834A1 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008227496A (ja) * 2007-03-13 2008-09-25 Nikon Corp オプティカルインテグレータ系、照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法
WO2009031605A1 (ja) * 2007-09-07 2009-03-12 Nikon Corporation ワーク欠陥検査装置およびそれを用いた光学部材の製造方法
EP2209135A1 (en) * 2007-11-06 2010-07-21 Nikon Corporation Illumination optical device and exposure device

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999049505A1 (fr) * 1998-03-24 1999-09-30 Nikon Corporation Illuminateur, procede et appareil d'exposition, procede de fabrication dudit dispositif
JP2000056101A (ja) * 1998-08-05 2000-02-25 Ngk Insulators Ltd フライアイレンズおよびその作製方法
JP2003050349A (ja) * 2001-05-30 2003-02-21 Nikon Corp 光学系および該光学系を備えた露光装置
JP2005116831A (ja) * 2003-10-08 2005-04-28 Nikon Corp 投影露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999049505A1 (fr) * 1998-03-24 1999-09-30 Nikon Corporation Illuminateur, procede et appareil d'exposition, procede de fabrication dudit dispositif
JP2000056101A (ja) * 1998-08-05 2000-02-25 Ngk Insulators Ltd フライアイレンズおよびその作製方法
JP2003050349A (ja) * 2001-05-30 2003-02-21 Nikon Corp 光学系および該光学系を備えた露光装置
JP2005116831A (ja) * 2003-10-08 2005-04-28 Nikon Corp 投影露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008227496A (ja) * 2007-03-13 2008-09-25 Nikon Corp オプティカルインテグレータ系、照明光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法
WO2009031605A1 (ja) * 2007-09-07 2009-03-12 Nikon Corporation ワーク欠陥検査装置およびそれを用いた光学部材の製造方法
JPWO2009031605A1 (ja) * 2007-09-07 2010-12-16 株式会社ニコン ワーク欠陥検査装置およびそれを用いた光学部材の製造方法
JP5359876B2 (ja) * 2007-09-07 2013-12-04 株式会社ニコン ワーク欠陥検査装置およびそれを用いた光学部材の製造方法
EP2209135A1 (en) * 2007-11-06 2010-07-21 Nikon Corporation Illumination optical device and exposure device
KR20100099152A (ko) * 2007-11-06 2010-09-10 가부시키가이샤 니콘 조명 광학 장치 및 노광 장치
EP2209135A4 (en) * 2007-11-06 2011-06-08 Nikon Corp OPTICAL LIGHTING DEVICE AND EXPOSURE DEVICE
US8094290B2 (en) 2007-11-06 2012-01-10 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
KR101644660B1 (ko) 2007-11-06 2016-08-01 가부시키가이샤 니콘 조명 광학 장치 및 노광 장치

Also Published As

Publication number Publication date
TW200722803A (en) 2007-06-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6493325B2 (ja) 光束変換素子、照明光学装置、露光装置、および露光方法
KR101249205B1 (ko) 광학계, 노광 장치, 노광 방법 및 디바이스의 제조 방법
US8611013B2 (en) Optical integrator, illumination optical device, aligner, and method for fabricating device
WO2005076045A1 (ja) 偏光変換素子、照明光学装置、露光装置、および露光方法
JP4470095B2 (ja) 照明光学装置、露光装置および露光方法
JP4952800B2 (ja) 照明光学系、露光装置および露光方法
WO2007060834A1 (ja) オプティカルインテグレータ、照明光学装置、露光装置、およびデバイスの製造方法
JP5761329B2 (ja) 照明光学装置、露光装置および露光方法
JP2010123983A (ja) 照明光学装置、露光装置および露光方法
JP6547887B2 (ja) 照明光学系、露光装置およびデバイス製造方法
JP5644921B2 (ja) 照明光学装置
JP5533917B2 (ja) 照明光学系、露光装置およびデバイス製造方法
JP5338863B2 (ja) 照明光学系、露光装置、露光方法およびデバイス製造方法
JP2015172749A (ja) 照明光学装置、露光装置および露光方法
JP6330830B2 (ja) 照明光学装置、露光装置および露光方法
JP6493445B2 (ja) 照明光学装置、露光装置および露光方法
JP2007048851A (ja) 照明光学装置、露光装置、およびデバイスの製造方法
JP2006210471A (ja) 照明光学装置、露光装置、および露光方法

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 06823149

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: JP