WO2006129512A1 - 液晶表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装置 - Google Patents

液晶表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装置 Download PDF

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WO2006129512A1
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liquid crystal
crystal display
display device
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spacer layer
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PCT/JP2006/310163
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English (en)
French (fr)
Inventor
Manabu Sawasaki
Takashi Takagi
Original Assignee
Sharp Kabushiki Kaisha
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    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars

Definitions

  • the present invention relates to a liquid crystal display device substrate and a liquid crystal display device including the same.
  • a liquid crystal display device generally has two substrates each provided with a transparent electrode, and a liquid crystal sandwiched between the two substrates.
  • a predetermined voltage is applied between transparent electrodes to drive a liquid crystal, and a desired display can be obtained by controlling light transmittance for each pixel.
  • the demand for liquid crystal display devices has increased, and the demand for liquid crystal display devices has also diversified. In particular, improvement of display quality is strongly demanded.
  • TFT-LCDs active matrix liquid crystal display devices each including a thin film transistor (TFT) as a switching element for each pixel are mainly used.
  • TFT-LCDs the distance between two substrates (cell thickness) is maintained by a plastic or glass spherical spacer or bar spacer.
  • these spacers are spread on either one of the substrates in the step of spreading the spacers before bonding the substrates. After that, the two substrates are bonded together, and both substrates are pressed from the outside so as to maintain the diameter of the cell thick spacer.
  • the spacers dispersed in the pixels cause liquid crystal alignment failure and light leakage.
  • alignment failure or light leakage occurs, the contrast and glare occur on the display screen, and the display quality deteriorates.
  • the uniform distribution of spacers has become difficult due to the increase in substrate size. If the spacers are dispersed unevenly, the cell thickness varies within the substrate surface, resulting in uneven brightness.
  • liquid crystal display devices in modes such as IPS (In- Plane Switching) and MVA (Multi-domain Vertical Alignment) have a higher luminance with respect to changes in cell thickness than liquid crystal display devices in TN (Twisted Nematic) mode. The change is great.
  • the spacer is reduced because the area of one pixel has become smaller due to the higher resolution of pixels. Is relatively large with respect to the pixel, and the effect on the display quality of the spacer becomes more prominent
  • columnar spacers made of photosensitive resin are used instead of spherical spacers. It is supposed to be. Since the columnar spacers are formed by a photolithography process, they can be arranged at an arbitrary arrangement density in a region shielded by a light shielding film (B M; Black Matrix). Therefore, liquid crystal alignment defects and light leakage do not occur in the pixel, so that contrast reduction and glare do not occur. In addition, the columnar spacer can be formed with a uniform film thickness (height) as compared with the variation in particle diameter in a spherical spacer or the like.
  • FIG. 10 is a process cross-sectional view illustrating a conventional method for manufacturing a color filter (CF) substrate using a columnar spacer.
  • BM145 is formed of Cr metal or resin black on an insulating substrate 111 such as glass.
  • CF resin layers 140R, 140G, red (R), green (G), and blue (B) of each color using a pigment-dispersed photosensitive coloring resin or the like are used. 140B is formed sequentially.
  • a common electrode 141 is formed by sputtering a transparent electrode such as ITO.
  • an acrylic resin-based negative photosensitive resist is applied onto the substrate, and a columnar shape having a predetermined size at a predetermined arrangement density at a predetermined position by using a photolithography method.
  • Spacer 146 is formed. Alignment films 151 and 150 are formed and rubbed on the CF substrate 104 and the TFT substrate 102 on which the pixel electrode 116 is formed for each pixel, and the two substrates 104 and 102 are bonded to each other to form an empty cell.
  • liquid crystal 106 is injected into the empty cell to produce a liquid crystal display panel as shown in FIG.
  • the cell gap between the substrates 104 and 102 is maintained by a structure 148 mainly composed of a columnar spacer 146 and a CF resin layer 140.
  • the compressive displacement of the material is plastic. Physical properties such as the amount of deformation are important.
  • the columnar spacer 146 needs to be designed to have both a softness that can follow the thermal expansion and contraction of the liquid crystal and a hardness that provides resistance to pressure. For this reason, as shown in FIG. 12, the column spacers 146 are usually arranged at a density of about one per several pixels.
  • the "columnar spacer compression displacement per unit area" is designed uniformly, and it is necessary to set this to an optimum value according to the design of the cell process. That is, after the cell assembly, the hardness of the cell depends on “the amount of compressive displacement of the columnar spacer per unit area”.
  • the columnar spacer 146 needs to be compressed to have both a softness capable of following the thermal expansion and contraction of the liquid crystal and a hardness for providing resistance to external pressure.
  • the columnar spacer 146 When the columnar spacer 146 is too hard, the columnar spacer 146 cannot follow the volume reduction of the liquid crystal due to thermal contraction at low temperatures, and therefore a vacuum region is generated, and bubbles are generated in the region. Will occur. Further, in the liquid crystal injection sealing process using the dip type vacuum injection method, after the liquid crystal is injected, the panel is pressurized from the outside with a predetermined pressure to discharge excess liquid crystal, thereby adjusting the cell thickness. However, if the columnar spacer 146 is too hard, the columnar spacer 146 cannot be sufficiently contracted even if it is pressurized at a predetermined pressure.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-333628
  • Patent Document 2 JP 2002-148633 A Disclosure of the invention
  • FIG. 13 is a graph showing the relationship between the load applied to the structure 148 (columnar spacer (PS) 146 and CF resin layer 140B) mainly made of resin and the amount of displacement.
  • FIG. 14 is a graph showing the relationship between the displacement of the structure 148 and the amount of plastic deformation.
  • the amount of plastic deformation of a spacer material increases as the displacement increases. As a result, the spacer material becomes weaker against external pressure. If the amount of displacement becomes too large (for example, a load of 150 mN, a displacement of about 1.1 ⁇ m), the elastic deformation limit will be exceeded and fracture will occur.
  • the characteristics of these organic materials vary somewhat depending on the material. In recent years, these characteristics have been improved and development is continuing. Generally, organic materials containing pigments used in CF resin layers, resin BM, etc. are prone to breakage and plastic deformation.
  • An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device capable of obtaining good display quality and a substrate for a liquid crystal display device used therefor.
  • the object is to provide a pair of substrates, a liquid crystal sealed between the pair of substrates, a color separation filter formed in a display region on one of the substrates, and the pair of substrates in the display region.
  • a liquid crystal display device having a structure that maintains a cell gap between substrates, the structure having a resin spacer layer occupying a volume of 90% or more of an organic member constituting the structure. This is achieved by a liquid crystal display device.
  • the resin spacer layer does not contain a pigment.
  • the structure has an organic member in addition to the resin spacer layer.
  • the structure has no organic member other than the resin spacer layer and the alignment film.
  • the object is to provide a cell gap in a display region between a transparent substrate sandwiching a liquid crystal together with a counter substrate disposed oppositely, a color separation filter formed on the transparent substrate, and the counter substrate. And a resin spacer layer that is formed on the transparent substrate and has an area overlapping with other organic films of 50% or less when viewed perpendicularly to the substrate surface. This is achieved by the device substrate.
  • the resin spacer layer does not contain a pigment.
  • the resin spacer layer overlaps with another organic film.
  • the substrate for a liquid crystal display device of the present invention is characterized in that it further has a light shielding film formed of a metal under the resin spacer layer.
  • the object is a liquid crystal display device comprising a pair of substrates arranged opposite to each other and a liquid crystal sealed between the pair of substrates, wherein the present invention is provided on one of the pair of substrates. This is achieved by a liquid crystal display device using the substrate for a liquid crystal display device.
  • FIG. 1 shows a schematic configuration of a liquid crystal display device according to the present embodiment.
  • the liquid crystal display device includes a gate bus line and a drain bus line formed so as to cross each other via an insulating film, and a TFT and a pixel electrode formed for each pixel. It has a TFT substrate 2.
  • the liquid crystal display device has a CF substrate 4 on which a CF and a common electrode are formed and arranged opposite to the TFT substrate 2.
  • a liquid crystal 6 (not shown in FIG. 1) is sealed between the substrates 2 and 4.
  • a gate bus line driving circuit 80 on which a driver IC for driving a plurality of gate bus lines is mounted and a driver IC for driving a plurality of drain bus lines are mounted.
  • the drain bus line driving circuit 82 is connected.
  • These drive circuits 80 and 82 are configured to output a scanning signal and a data signal to a predetermined gate bus line or drain bus line based on a predetermined signal output from the control circuit 84.
  • a polarizing plate 87 is disposed on the surface opposite to the TFT element forming surface of the TFT substrate 2, and the polarizing plate 86 is crossed Nicol to the polarizing plate 87 on the surface opposite to the common electrode forming surface of the CF substrate 4. It is placed.
  • a backlight unit 88 is disposed on the surface of the polarizing plate 87 opposite to the TFT substrate 2.
  • FIG. 2 shows a cross-sectional configuration of three pixels in the display area of the liquid crystal display device according to the present embodiment.
  • the CF substrate 4 has a BM 45 that is formed on the glass substrate 11 and shields the periphery of the pixel region.
  • BM45 is formed of a metal film such as Cr.
  • a CF resin layer 40 (40R, 40G, 40B) of one color of any of R, G, and B is formed as a color separation filter.
  • a common electrode 41 is formed on the entire surface of the substrate on the CF resin layer 40.
  • a resin spacer layer 46 having a predetermined size and height is formed on the common electrode 41 with a predetermined arrangement density.
  • the resin spacer layer 46 is formed of a resin not containing a pigment, and is disposed on the BM 45 in a region where the CF resin layer 40 is removed.
  • the resin spacer layer 46 may be formed on the TFT substrate 2 side.
  • An alignment film 51 is formed on the entire surface of the common electrode 41 and the resin spacer layer 46.
  • the TFT substrate 2 disposed so as to face the CF substrate 4 has pixel electrodes 16 formed for each pixel region on the glass substrate 10.
  • An alignment film 50 is formed on the entire surface of the substrate on the pixel electrode 16.
  • a liquid crystal 6 is sealed between the CF substrate 4 and the TFT substrate 2.
  • the cell gap between the CF substrate 4 and the TFT substrate 2 is maintained by the structure 48.
  • the structure 48 includes a BM (Cr film) 45, a common electrode 41, a resin spacer layer 46, alignment films 50 and 51, a silicon nitride film (not shown), and the like.
  • the organic members are the resin spacer layer 46 and the alignment films 50 and 51.
  • This embodiment is characterized in that the structure 48 does not contain a CF resin layer or a resin BM, compared to the conventional structure, and 90% or more of the organic member constituting the structure 48 is made of resin. Spacer layer 46 occupies. This makes it possible to reduce the ratio of materials (such as resins containing pigments) that are easily damaged or plastically deformed in the structure 48.
  • FIG. 3 is a graph showing the relationship between the load applied to the structure and the amount of displacement.
  • the horizontal axis of the graph represents the displacement (zm), and the vertical axis represents the load (mN).
  • Line a shows the change in displacement with respect to the load of the structure 48 according to the present embodiment
  • line b and line c show the change in displacement with respect to the load on the conventional structure 148.
  • the conventional structure 148 is mainly composed of a resin spacer layer and a CF resin layer, and the volume ratio of the resin spacer layer in the organic members constituting the structure 148 is less than 90%. is there.
  • Figure 4 is a graph showing the relationship between the displacement of the structure and the amount of plastic deformation.
  • Line d indicates the amount of plastic deformation relative to the amount of displacement of the structure 48 according to the present embodiment
  • line e indicates the amount of plastic deformation relative to the amount of displacement of the conventional structure 148.
  • the structure 48 according to the present embodiment has a smaller amount of displacement with respect to a load having a smaller plastic deformation than the conventional structure 148.
  • the spacer characteristics such as pressure resistance are improved. Is done.
  • the resin spacer layer 46 is formed on the CF substrate 4, the area of the overlap between the resin spacer layer 46 and another organic film (especially the CF resin layer) when viewed perpendicularly to the substrate surface. By setting it to 50% or less (preferably 0%), the same effect as above can be obtained.
  • FIG. 5 is a diagram showing the configuration of the fabricated CF substrate 4, and FIGS. 6A to 6D are process cross-sectional views taken along the line A_A in FIG.
  • a low reflection Cr film film thickness: 0.2 ⁇ m
  • a photoresist is applied, exposed, and developed to form a resist mask.
  • the Cr film is etched using a resist mask, and then the resist mask is peeled off to form a BM45 as shown in Fig. 6 (a).
  • a photosensitive pigment dispersion type R resist (film thickness: 1.8 xm) is applied and patterned to form a CF resin layer 40R in the R pixel portion.
  • a photosensitive pigment dispersion type G resist (film thickness 1.8 ⁇ 8 ⁇ ) is applied and patterned, and CF ⁇ is applied to the G pixel area. Oil layer 40G is formed.
  • a photosensitive pigment dispersion type B resist (film thickness of 1.8 xm) is applied and patterned to form a CF resin layer 40B in the B pixel portion.
  • the resin spacer layer 46 is formed in a part of the B pixel, the CF (B in this example) resist is not left in the spacer formation portion 55. To do.
  • an ITO film (thickness 150 nm) is formed as a transparent electrode, and a common electrode 41 is formed.
  • an acrylic resin negative photosensitive resist is applied on the common electrode 41.
  • This resist contains no pigment.
  • the film thickness of the resist on the CF resin layer 40 is 4. ⁇ ⁇ ⁇ , and the film thickness of the resist at the spacer formation scheduled portion 5 5 where the CF resin layer 40 does not exist is 5.6 / im. It is.
  • the resist is patterned, and a resin spacer layer 46 is formed on the spacer formation scheduled portion 55.
  • a CF substrate 4 as shown in FIG. 5 is produced.
  • the structure 48 'on the CF substrate 4 side includes a low-reflection Cr film (inorganic material), an ITO film (inorganic material), and a resin spacer layer 46 (organic material).
  • the resin spacer layer 46 overlaps with other organic films (especially the CF resin layer 40) when viewed perpendicular to the substrate surface.
  • the structure 48 has the characteristics shown by the line a in FIG. 3 and the line d in FIG. 4, and is different from the conventional structure in which the resin spacer layer is formed on the CF resin layer. In comparison, the amount of plastic deformation at the same displacement was small, and no fracture occurred even at the displacement where the conventional structure broke.
  • the resin spacer layer 46 does not overlap with other organic films at all, but as shown in FIG. 7, the arrangement space of the resin spacer layer 46 and the CF resin layer 40 In consideration of pattern accuracy, a part of the resin spacer layer 46 may overlap the CF resin layer 40. If the overlapping area of the resin spacer layer 46 and the CF resin layer 40 is 50% or less of the area of the resin spacer layer 46, the same effect as above can be expected.
  • An alignment film 51 was formed on the surface of the CF substrate 4 according to Example 1, and an alignment film 50 was formed on the surface of the TFT substrate 2 manufactured through a predetermined process. After that, through steps such as rubbing, seal formation, bonding, cutting, liquid crystal injection, sealing, and polarizing plate application, the TN as shown in FIG. A mode liquid crystal display device was produced.
  • the structure 48 Since no organic film other than the alignment film 50 is formed on the TFT substrate 2 side of the manufactured liquid crystal display device, as a result, the structure 48 has a structure other than the resin spacer layer 46 and the alignment films 50 and 51.
  • the structure does not contain organic materials.
  • the alignment films 50 and 51 are extremely thin with a thickness of about 0.1 l x m, and the characteristics of the structure 48 are hardly affected. For this reason, the structure 48 had the characteristics shown by the line a in FIG. 3 and the line d in FIG. Since the amount of plastic deformation with respect to the displacement of the structure 48 is small and it does not easily break, a liquid crystal display device with improved pressure resistance was obtained.
  • the resin spacer layer 46 is formed on the CF substrate 4 side, but the resin spacer layer 46 may be formed on the TFT substrate 2 side.
  • FIG. 8 shows a cross-sectional configuration of the liquid crystal display device according to this example.
  • linear protrusions 54 are formed on the CF substrate 4 as alignment regulating structures that regulate the alignment of the liquid crystal 6.
  • a slit (ITO film removal) 52 is formed as an alignment regulating structure.
  • the liquid crystal 6 has negative dielectric anisotropy, for example.
  • the structure 48 has a structure containing no organic material other than the resin spacer layer 46 and the alignment films 50 and 51.
  • FIG. 9 is a diagram showing a manufacturing process of a liquid crystal display panel using the ODF method.
  • 9 (a), (c), and (e) are perspective views showing the state of the CF substrate 4 in each process
  • FIGS. 9 (b), (d), and (f) are resin slides in each process.
  • 6 is a schematic cross-sectional view showing a state in the vicinity of the spacer layer 46.
  • FIG. First alignment films are formed on the surfaces of the CF substrate 4 on which the protrusions 54 are formed and the TFT substrate 2 on which the slits 52 are formed. Next, as shown in FIGS.
  • FIGS. 9C and 9D for example, a photocurable sealing material 60 is applied to the entire circumference of the outer peripheral portion of the CF substrate 4 without breaks.
  • a predetermined amount of liquid crystal 6 is dropped on the CF substrate 4.
  • FIG. 9 (d) shows the liquid crystal 6 in a state where it is filled in a process described later, rather than the liquid crystal 6 in a dropped state.
  • Fig. 9 (e) and (f) the CF substrate 4 and the TFT substrate 2 are bonded together in a vacuum, and the liquid crystal 6 is filled between the substrates 4 and 2 by returning to atmospheric pressure. To do.
  • the cell gap is controlled by the dropping amount of the liquid crystal 6, and the resin spacer layer 46 is in contact with the TFT substrate 2. Thus, it is compressed by a predetermined displacement amount.
  • the liquid crystal display panel is completed through processes such as panel cutting and polarizing plate pasting. After that, the liquid crystal display device is completed through module processes and the like.
  • the type of liquid crystal is not particularly limited.
  • the structure 48 that maintains the cell gap of the liquid crystal display device using the color separation filter is 90% or more of the organic members constituting the structure 48. It has a resin spacer layer 46 that occupies a volume.
  • the structure 48 preferably contains no organic material other than the resin spacer layer 46 or contains no organic material other than the resin spacer layer 46 and the alignment films 50 and 51. As a result, the amount of plastic deformation with respect to the displacement of the structure 48 is reduced, and the structure 48 is not easily destroyed. Therefore, a highly reliable liquid crystal display device that has high resistance to external pressure while maintaining sufficient flexibility and hardly generates cell thickness unevenness can be manufactured with high yield.
  • the power of the transmissive liquid crystal display device is taken as an example.
  • the liquid crystal display device in which the electrodes are respectively formed on the opposing surfaces of the pair of substrates arranged to face each other has been described as an example.
  • the present invention is not limited to this, and the present invention is not limited to this. It can also be applied to IPS mode liquid crystal display devices in which electrodes are formed only on one side.
  • an active matrix type liquid crystal display device is taken as an example.
  • the present invention is not limited to this, and can also be applied to a simple matrix type liquid crystal display device.
  • FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view showing a configuration for three pixels of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 3 is a graph showing the relationship between the load applied to the structure and the amount of displacement.
  • FIG. 4 is a graph showing the relationship between the displacement of a structure and the amount of plastic deformation.
  • FIG. 5 is a diagram showing a configuration of a substrate for a liquid crystal display device according to Example 1 of one embodiment of the present invention.
  • FIG. 6 is a process cross-sectional view illustrating a method for manufacturing a substrate for a liquid crystal display device according to Example 1 of an embodiment of the present invention.
  • FIG. 7 is a diagram showing a modification of the configuration of the substrate for a liquid crystal display device according to Example 1 of one embodiment of the present invention.
  • FIG. 8 is a cross-sectional view showing a configuration of a liquid crystal display device according to Example 3 of an embodiment of the present invention.
  • FIG. 9 is a diagram showing a method of manufacturing a liquid crystal display device according to Example 3 of an embodiment of the present invention.
  • FIG. 10 A cross-sectional process diagram illustrating a conventional method of manufacturing a CF substrate.

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Abstract

【課題】本発明は、液晶表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装置に関し、良好な表示品質の得られる液晶表示装置及びそれに用いられる液晶表示装置用基板を提供することを目的とする。 【解決手段】一対の基板２、４と、基板２、４間に封止された液晶６と、基板４上の表示領域に形成されたＣＦ樹脂層４０Ｒ、４０Ｇ、４０Ｂと、表示領域での基板２、４間のセルギャップを維持する構造物４８とを有する液晶表示装置であって、構造物４８は、構造物４８を構成する有機部材のうち９０％以上の体積を占める樹脂スペーサ層４６を有する。

Description

明 細 書
液晶表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装置
技術分野
[0001] 本発明は、液晶表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装置に関する。
背景技術
[0002] 液晶表示装置は、一般に透明電極をそれぞれ備えた 2枚の基板と、両基板間に挟 持された液晶とを有している。液晶表示装置は、透明電極間に所定の電圧を印加し て液晶を駆動させ、画素毎に光透過率を制御することにより所望の表示が得られるよ うになつている。近年、液晶表示装置の需要は増加しており、液晶表示装置に対する 要求も多様化している。その中で、特に表示品質の改善が強く要求されている。
[0003] 現在、スイッチング素子として薄膜トランジスタ（TFT; Thin Film Transistor)を 画素毎に備えたアクティブマトリクス型の液晶表示装置 (TFT—LCD)が主流になつ ている。 TFT— LCDでは、 2枚の基板間の間隔（セル厚）はプラスチック製やガラス 製の球状スぺーサ又は棒状スぺーサにより維持されている。通常、これらのスぺーサ は、基板貼合せ前のスぺーサ散布工程で、どちらか一方の基板上に散布される。そ の後、 2枚の基板を貼り合わせ、セル厚力スぺーサの直径程度に維持されるように両 基板を外側から加圧する。
[0004] しかし、画素内に散布されたスぺーサは、液晶の配向不良や光漏れ等の原因にな る。配向不良や光漏れが生じると、表示画面上でコントラスト低下やぎらつきが発生し 、表示品質が低下する。また、基板サイズの大型化によってスぺーサの均一な散布 が困難になっている。スぺーサが不均一に散布されると、基板面内でのセル厚のば らつきが生じ、輝度むらが発生する。特に IPS (In— Plane Switching)や、 MVA ( Multi- domain Vertical Alignment)等のモードの液晶表示装置では、 TN (T wisted Nematic)モードの液晶表示装置に比較して、セル厚の変化に対する輝度 の変化が大きい。このため、特に IPSモードや MVAモードの液晶表示装置において 輝度むらのない表示を得るには、より均一なセル厚の制御が必要になる。さらに、画 素の高精細化によって 1画素の面積が小さくなつているため、スぺーサの占める面積 が画素に対して相対的に大きくなり、スぺーサの表示品質への影響がより顕著になる
[0005] 近年の基板サイズの大型化や画素の高精細化に伴い、球状スぺーサゃ棒状スぺ ーサに代えて、感光性樹脂からなる柱状スぺーサ (樹脂スぺーサ）が用いられるよう になっている。柱状スぺーサは、フォトリソグラフイエ程で形成されるため、遮光膜 (B M ; Black Matrix)で遮光される領域に任意の配置密度で配置することができる。 したがって、画素内では液晶の配向不良や光漏れが生じないため、コントラスト低下 やぎらつきが発生することがない。また、球状スぺーサ等における粒径のばらつきと 比較して、柱状スぺーサは膜厚（高さ）を均一に形成できる。このため、セル厚を基板 面内で均一に精度良く制御することが可能になる。したがって、セル厚のばらつきに よる輝度むらが生じなレ、。このように、柱状スぺーサを用いた液晶表示装置では、球 状スぺーサゃ棒状スぺーサを用いた液晶表示装置に比較して、より高い表示品質が 得られる。
[0006] 柱状スぺーサは、通常 BMで遮光される部分に形成される。図 10は、柱状スぺー サを用いた従来のカラーフィルタ（CF)基板の製造方法を示す工程断面図である。ま ず、図 10 (a)に示すように、ガラス等の絶縁基板 111上に Cr金属あるいは樹脂ブラッ クで BM145を形成する。次に、図 10 (b)に示すように、顔料分散型感光性着色榭 脂等を用いて、赤 (R)、緑 (G)、青（B)の各色の CF樹脂層 140R、 140G、 140Bを 順次形成する。次に、図 10 (c)に示すように、 IT〇等の透明電極をスパッタリングして 共通電極 141を形成する。次に、図 10 (d)に示すように、例えばアクリル樹脂系ネガ 型感光性レジストを基板上に塗布し、フォトリソグラフィ法を用いて所定の位置に所定 の配置密度で所定の大きさの柱状スぺーサ 146を形成する。この CF基板 104と画 素毎に画素電極 116が形成された TFT基板 102とにそれぞれ配向膜 151、 150を 形成してラビングし、両基板 104、 102を互いに貼り合わせて空セルを形成する。次 に、空セル内に液晶 106を注入して、図 11に示すような液晶表示パネルが作製され る。図 11に示すように、基板 104、 102間のセルギャップは、主に柱状スぺーサ 146 及び CF樹脂層 140からなる構造物 148によって維持されてレ、る。
[0007] ここで、柱状スぺーサ 146の配置密度の設計においては、材料の圧縮変位ゃ塑性 変形量等の物性が重要である。柱状スぺーサ 146は、液晶の熱膨張及び熱収縮に 追従できる柔らかさと、加圧に対する耐性を備えるための硬さとの双方を持つように 設計される必要がある。このため柱状スぺーサ 146は、図 12に示すように通常数画 素に 1個程度の配置密度で配置される。
[0008] 詳細には、「単位面積あたりの柱状スぺーサの圧縮変位量」は均等に設計されてお り、これをセル工程の設計に応じて最適な値にする必要がある。つまり、セル組みの 後では、セルの硬さは「単位面積あたりの柱状スぺーサの圧縮変位量」に依存する。 柱状スぺーサ 146は、液晶の熱膨張及び熱収縮に追従できる柔らかさと、外部から の加圧に対する耐性を備えるための硬さとの双方を持つように圧縮される必要がある
[0009] 柱状スぺーサ 146が硬すぎる場合、低温下での熱収縮による液晶の体積減少に柱 状スぺーサ 146が追従できなレ、ため真空領域が発生してしまい、その領域に気泡が 生じてしまう。また、ディップ式の真空注入法を用いた液晶注入封止工程では、液晶 注入後にパネルを外側から所定圧力で加圧して余分な液晶を吐出させ、セル厚を調 整する。ところが、柱状スぺーサ 146が硬すぎると、所定圧力で加圧しても柱状スぺ ーサ 146が十分に収縮できない。このため、高温時に熱膨張により液晶の体積が増 加すると、柱状スぺーサ 146が液晶の体積増加に追従できない。これにより、重力に よって液晶がパネル下方に移動して下方のセル厚が厚くなる重力むらが発生してし まう。
[0010] 一方、柱状スぺーサ 146が柔らかすぎる場合、外部からの加圧に対する変位量が 大きくなるため、塑性変形量も大きくなり、セル厚むらが生じてしまう。
[0011] 近年では、液晶注入時間の短縮化を実現する手法として、基板貼合せと液晶注入 とが同時に行われる滴下注入（ODF ; One Drop Filling)法が用いられるようにな つている。滴下注入法では、液晶量によりセル厚が決定される。このため、液晶量に より決定されるセル厚に柱状スぺーサ 146の高さを合わせる必要がある。製造精度を 考慮すると、柱状スぺーサ 146をさらに柔らかく設計することが要求される。
[0012] 特許文献 1 :特開 2002— 333628号公報
特許文献 2：特開 2002— 148633号公報 発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0013] 図 13は、主に樹脂からなる構造物 148 (柱状スぺーサ（PS) 146及び CF樹脂層 14 0B)に加えられる荷重と変位量との関係を示すグラフである。図 14は、構造物 148の 変位と塑性変形量との関係を示すグラフである。図 13及び図 14に示すように、一般 にスぺーサ材料は、変位が大きくなると塑性変形量が大きくなり、この結果、外部から の加圧に対してさらに弱くなつてしまう。また、変位量が大きくなりすぎると（例えば荷 重 150mN、変位 1. 1 μ m程度）、弾性変形の限界を超え、破壊が発生する。これら の有機材料の特性は、材料によっても多少異なる。近年、これらの特性の改善が望 まれており、開発が継続されている。一般に、 CF樹脂層や樹脂 BM等に用いられる 顔料の含まれた有機材料は、破壊や塑性変形が発生しやすレ、。
[0014] このように、重力むらや低温下での気泡が発生せず、外部からの加圧に対する耐 性を備え、良好な表示品質の得られる液晶表示装置を作製するのは困難であるとい う問題が生じている。
[0015] 本発明の目的は、良好な表示品質の得られる液晶表示装置及びそれに用いられ る液晶表示装置用基板を提供することにある。
課題を解決するための手段
[0016] 上記目的は、一対の基板と、前記一対の基板間に封止された液晶と、一方の前記 基板上の表示領域に形成された色分解フィルタと、前記表示領域での前記一対の 基板間のセルギャップを維持する構造物とを有する液晶表示装置であって、前記構 造物は、当該構造物を構成する有機部材のうち 90%以上の体積を占める樹脂スぺ 一サ層を有することを特徴とする液晶表示装置によって達成される。
[0017] 上記本発明の液晶表示装置において、前記樹脂スぺーサ層は、顔料を含まないこ とを特徴とする。
[0018] 上記本発明の液晶表示装置において、前記構造物は、前記樹脂スぺーサ層以外 に有機部材を有してレ、なレ、ことを特徴とする。
[0019] 上記本発明の液晶表示装置において、前記構造物は、前記樹脂スぺーサ層及び 配向膜以外に有機部材を有していないことを特徴とする。 [0020] また上記目的は、対向配置される対向基板とともに液晶を挟持する透明基板と、前 記透明基板上に形成された色分解フィルタと、前記対向基板との間の表示領域での セルギャップを維持するために前記透明基板上に形成され、基板面に垂直に見て他 の有機膜との重なりが面積で 50%以下である樹脂スぺーサ層とを有することを特徴 とする液晶表示装置用基板によって達成される。
[0021] 上記本発明の液晶表示装置用基板において、前記樹脂スぺーサ層は、顔料を含 まないことを特徴とする。
[0022] 上記本発明の液晶表示装置用基板において、前記樹脂スぺーサ層は、他の有機 膜と重なつてレ、なレ、ことを特徴とする。
[0023] 上記本発明の液晶表示装置用基板において、前記樹脂スぺーサ層の下層に金属 で形成された遮光膜をさらに有することを特徴とする。
[0024] さらに上記目的は、対向配置された一対の基板と、前記一対の基板間に封止され た液晶とを備えた液晶表示装置であって、前記一対の基板の一方に、上記本発明 の液晶表示装置用基板が用いられていることを特徴とする液晶表示装置によって達 成される。
発明の効果
[0025] 本発明によれば、良好な表示品質の得られる液晶表示装置及びそれに用いられる 液晶表示装置用基板を実現できる。
発明を実施するための最良の形態
[0026] 本発明の一実施の形態による液晶表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装 置について図 1乃至図 9を用いて説明する。図 1は、本実施の形態による液晶表示装 置の概略構成を示している。図 1に示すように、液晶表示装置は、絶縁膜を介して互 いに交差して形成されたゲートバスライン及びドレインバスラインと、画素毎に形成さ れた TFT及び画素電極とを備えた TFT基板 2を有している。また、液晶表示装置は 、 CFや共通電極が形成されて TFT基板 2に対向配置された CF基板 4を有している 。両基板 2、 4間には液晶 6 (図 1では図示せず）が封止されている。
[0027] TFT基板 2には、複数のゲートバスラインを駆動するドライバ ICが実装されたゲート バスライン駆動回路 80と、複数のドレインバスラインを駆動するドライバ ICが実装され たドレインバスライン駆動回路 82とが接続されている。これらの駆動回路 80、 82は、 制御回路 84から出力された所定の信号に基づいて、走査信号やデータ信号を所定 のゲートバスラインあるいはドレインバスラインに出力するようになっている。 TFT基板 2の TFT素子形成面と反対側の面には偏光板 87が配置され、 CF基板 4の共通電極 形成面と反対側の面には、偏光板 86が偏光板 87に対しクロスニコルに配置されて レ、る。偏光板 87の TFT基板 2と反対側の面にはバックライトユニット 88が配置されて いる。
[0028] 図 2は、本実施の形態による液晶表示装置の表示領域のうち 3画素分の断面構成 を示している。図 2に示すように、 CF基板 4は、ガラス基板 11上に形成され、画素領 域の周囲を遮光する BM45を有している。 BM45は、例えば Cr等の金属膜により形 成されている。 BM45上の画素領域には、 R、 G、 Bのいずれ力 1色の CF樹脂層 40 ( 40R、 40G、 40B)が色分解フィルタとして形成されている。 CF樹脂層 40上の基板 全面には、共通電極 41が形成されている。共通電極 41上には、所定の大きさ及び 高さの樹脂スぺーサ層 46が所定の配置密度で形成されている。樹脂スぺーサ層 46 は顔料を含まない樹脂により形成され、 BM45上であって CF樹脂層 40が除去され た領域に配置されている。なお、樹脂スぺーサ層 46は TFT基板 2側に形成してもよ レ、。共通電極 41及び樹脂スぺーサ層 46全面には、配向膜 51が形成されている。
[0029] CF基板 4に対向配置された TFT基板 2は、ガラス基板 10上の画素領域毎に形成 された画素電極 16を有している。画素電極 16上の基板全面には、配向膜 50が形成 されている。 CF基板 4と TFT基板 2との間には、液晶 6が封止されている。 CF基板 4 と TFT基板 2との間のセルギャップは、構造物 48により維持されている。
[0030] 構造物 48は、 BM (Cr膜) 45、共通電極 41、樹脂スぺーサ層 46、配向膜 50、 51、 及び不図示のシリコン窒化膜等により構成されている。このうち、有機部材は樹脂ス ぺーサ層 46及び配向膜 50、 51である。本実施の形態では、従来の構成と比較する と構造物 48が CF樹脂層や樹脂 BMを含まない点に特徴があり、構造物 48を構成す る有機部材のうち 90%以上の体積を樹脂スぺーサ層 46が占めている。これにより、 構造物 48におレ、て破壊や塑性変形が発生し易い材料 (顔料が含まれる樹脂等）の 比率を小さくすることが可能となる。 [0031] 図 3は、構造物に加えられる荷重と変位量との関係を示すグラフである。グラフの横 軸は変位量（ z m)を表し、縦軸は荷重 (mN)を表している。線 aは本実施の形態によ る構造物 48の荷重に対する変位量の変化を示し、線 b及び線 cは従来の構造物 148 の荷重に対する変位量の変化を示している。ここで、従来の構造物 148は主に樹脂 スぺーサ層及び CF樹脂層により構成されており、構造物 148を構成する有機部材 のうち樹脂スぺーサ層の占める体積比率は 90%未満である。図 4は、構造物の変位 と塑性変形量との関係を示すグラフである。線 dは本実施の形態による構造物 48の 変位量に対する塑性変形量を示し、線 eは従来の構造物 148の変位量に対する塑 性変形量を示している。図 3及び図 4に示すように、本実施の形態による構造物 48は 、従来の構造物 148に比較して塑性変形量が小さぐ荷重に対する変位量も小さくな つている。このように本実施の形態では、構造物 48を構成する有機部材のうち樹脂ス ぺーサ層 46の占める体積比率を 90%以上にすることによって、耐加圧性等のスぺ ーサ特性が改善される。
[0032] CF基板 4上に樹脂スぺーサ層 46を形成する場合、基板面に垂直にみたときの榭 脂スぺーサ層 46と他の有機膜 (特に CF樹脂層）との重なりを面積で 50%以下 (好ま しくは 0%)にすることにより、上記と同様の効果が得られる。
以下、本実施の形態による液晶表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装置 について、実施例を用いてより具体的に説明する。
[0033] (実施例 1)
樹脂スぺーサ層 46が CF基板 4側に形成される例について説明する。図 5は作製さ れた CF基板 4の構成を示す図であり、図 6 (a)〜（d)は図 5の A_ A線で切断した部 分の工程断面図である。まず、図 6 (a)に示す透明なガラス基板 11上に低反射 Cr膜 (膜厚 0. 2 x m)を成膜する。次に、フォトレジストを塗布して露光、現像し、レジストマ スクを形成する。レジストマスクを用いて Cr膜をエッチングし、その後レジストマスクを 剥離して、図 6 (a)に示すような BM45を形成する。
[0034] 次に、図 6 (b)に示すように、感光性顔料分散タイプの Rレジスト（膜厚 1. 8 x m)を 塗布してパターニングし、 R画素部に CF樹脂層 40Rを形成する。次に、感光性顔料 分散タイプの Gレジスト（膜厚 1. 8 μ ΐη)を塗布してパターニングし、 G画素部に CF榭 脂層 40Gを形成する。次に、感光性顔料分散タイプの Bレジスト（膜厚 1. 8 x m)を塗 布してパターニングし、 B画素部に CF樹脂層 40Bを形成する。このとき本実施例で は、 B画素内の一部に樹脂スぺーサ層 46を形成するため、スぺーサ形成予定部 55 には CF (本例では B)レジストが残らなレ、ようにする。
[0035] 次に、図 6 (c)に示すように、透明電極として ITO膜 (膜厚 150nm)を成膜し、共通 電極 41を形成する。
[0036] 次に、図 6 (d)に示すように、共通電極 41上にアクリル樹脂系ネガ型感光性レジスト を塗布する。このレジストには顔料が含まれていない。このとき、 CF樹脂層 40上での レジストの膜厚は 4. Ο μ ΐηであり、 CF樹脂層 40の存在しないスぺーサ形成予定部 5 5でのレジストの膜厚は 5. 6 /i mである。続いてレジストをパターユングし、スぺーサ 形成予定部 55に樹脂スぺーサ層 46を形成する。以上の工程を経て、図 5に示すよう な CF基板 4が作製される。
[0037] CF基板 4側の構造物 48 'は、低反射 Cr膜 (無機物）、 ITO膜 (無機物）、及び樹脂 スぺーサ層 46 (有機物）により構成される。樹脂スぺーサ層 46は、基板面に垂直に 見て他の有機膜 (特に CF樹脂層 40)とは重なってレ、なレ、。
[0038] 構造物 48 'は、図 3の線 a及び図 4の線 dに示したような特性を有しており、 CF樹脂 層上に樹脂スぺーサ層を形成した従来の構造物と比較して同一変位量での塑性変 形量が小さぐまた従来の構造物で破壊が生じた変位においても破壊が発生しなか つた。
[0039] ここで、上記では樹脂スぺーサ層 46は他の有機膜と全く重なっていなレ、が、図 7に 示すように、樹脂スぺーサ層 46の配置スペースや CF樹脂層 40のパターン精度を考 慮し、樹脂スぺーサ層 46の一部が CF樹脂層 40に重なるようにしてもよい。樹脂スぺ ーサ層 46と CF樹脂層 40との重なり面積が樹脂スぺーサ層 46の面積の 50%以下で あれば上記と同様の効果が期待できる。
[0040] (実施例 2)
実施例 1による CF基板 4の表面に配向膜 51を形成し、所定の工程を経て作製され た TFT基板 2の表面に配向膜 50を形成した。その後、ラビング、シール形成、貼合 せ、切断、液晶注入、封止、偏光板貼付け等の工程を経て、図 2に示したような TN モードの液晶表示装置を作製した。
[0041] 作製された液晶表示装置の TFT基板 2側には配向膜 50以外の有機膜は形成され ていないため、結果として構造物 48は、樹脂スぺーサ層 46と配向膜 50、 51以外に 有機材料を含まない構造を有する。配向膜 50、 51は膜厚 0. l x m程度と極めて薄く 、構造物 48の特性にはほとんど影響を与えなレ、。このため、構造物 48は図 3の線 a 及び図 4の線 dに示したような特性を有していた。構造物 48の変位に対する塑性変 形量が小さぐまた破壊が生じ難いため、耐加圧性が改善された液晶表示装置が得 られた。なお、本実施例では CF基板 4側に樹脂スぺーサ層 46を形成したが、 TFT 基板 2側に樹脂スぺーサ層 46を形成してもよい。
[0042] (実施例 3)
MVAモードの液晶表示装置に本実施の形態を適用した例について説明する。図 8は、本実施例による液晶表示装置の断面構成を示している。図 8に示すように、 CF 基板 4上には、液晶 6の配向を規制する配向規制用構造物として線状の突起 54が形 成されている。 TFT基板 2上には、配向規制用構造物としてスリット（ITO膜の抜き） 5 2が形成されている。液晶 6は、例えば負の誘電率異方性を有している。構造物 48は 、樹脂スぺーサ層 46と配向膜 50、 51以外に有機材料を含まない構造を有している。
[0043] 次に、液晶注入プロセスに ODF法を用いて本実施例による液晶表示装置を作製 する方法を説明する。図 9は、 ODF法を用いた液晶表示パネルの製造工程を示す 図である。図 9 (a)、（c)、 （e)は各工程での CF基板 4の状態を示す斜視図であり、図 9 (b) , (d)、（f)は各工程での樹脂スぺーサ層 46近傍の状態を示す概略断面図で ある。まず、突起 54が形成された CF基板 4、及びスリット 52が形成された TFT基板 2 のそれぞれの表面に配向膜を形成する。次に、図 9 (a)、（b)に示すように、例えば C F基板 4の外周部の全周に、光硬化型のシール材 60を切れ目なく塗布する。次に、 図 9 (c)、（d)に示すように、 CF基板 4上に所定量の液晶 6を滴下する。なお図 9 (d) では、滴下された状態の液晶 6ではなぐ後述する工程で充填された状態の液晶 6を 示している。次に、図 9 (e)、 （f)に示すように、 CF基板 4と TFT基板 2とを真空中で貼 り合わせ、大気圧に戻すことにより液晶 6を両基板 4、 2間に充填する。このとき、セル ギャップは液晶 6の滴下量により制御され、樹脂スぺーサ層 46は TFT基板 2に接触 して所定の変位量だけ圧縮される。シール材 60を硬化させた後、パネル切断、偏光 板貼付け等の工程を経て液晶表示パネルが完成する。その後、モジュール工程等を 経て液晶表示装置が完成する。ここで、本実施例では負の誘電率異方性を有する液 晶 6が用いられた例を説明したが、液晶の種類は特に限定されない。
[0044] 以上説明したように、本実施の形態では、色分解フィルタを用いた液晶表示装置の セルギャップを維持する構造物 48が、構造物 48を構成する有機部材のうち 90%以 上の体積を占める樹脂スぺーサ層 46を有している。構造物 48は、樹脂スぺーサ層 4 6以外に有機材料を含まなレ、か、あるいは樹脂スぺーサ層 46及び配向膜 50、 51以 外に有機材料を含まないのが好ましい。これにより、構造物 48の変位に対する塑性 変形量が小さくなり、また構造物 48が破壊され難くなる。したがって、十分な柔軟性 を保持しつつ外部からの加圧に対して高い耐性を備え、セル厚むら等の発生し難い 高信頼性を有する液晶表示装置を高歩留りで作製できる。
[0045] 本発明は、上記実施の形態に限らず種々の変形が可能である。
例えば、上記実施の形態では透過型の液晶表示装置を例に挙げた力 本発明は これに限らず、反射型や半透過型等の他の液晶表示装置にも適用できる。
[0046] また、上記実施の形態では、対向配置された一対の基板の対向面にそれぞれ電極 が形成された液晶表示装置を例に挙げたが、本発明はこれに限らず、一対の基板の 一方のみに電極が形成された IPSモード等の液晶表示装置にも適用できる。
[0047] さらに、上記実施の形態ではアクティブマトリクス型の液晶表示装置を例に挙げた 力 本発明はこれに限らず、単純マトリクス型の液晶表示装置にも適用できる。
図面の簡単な説明
[0048] [図 1]本発明の一実施の形態による液晶表示装置の概略構成を示す図である。
[図 2]本発明の一実施の形態による液晶表示装置の 3画素分の構成を示す断面図で ある。
[図 3]構造物に加えられる荷重と変位量との関係を示すグラフである。
[図 4]構造物の変位と塑性変形量との関係を示すグラフである。
[図 5]本発明の一実施の形態の実施例 1による液晶表示装置用基板の構成を示す 図である。 [図 6]本発明の一実施の形態の実施例 1による液晶表示装置用基板の製造方法を 示す工程断面図である。
[図 7]本発明の一実施の形態の実施例 1による液晶表示装置用基板の構成の変形 例を示す図である。
[図 8]本発明の一実施の形態の実施例 3による液晶表示装置の構成を示す断面図で ある。
[図 9]本発明の一実施の形態の実施例 3による液晶表示装置の製造方法を示す図で ある。
園 10]従来の CF基板の製造方法を示す工程断面図である。
園 11]従来の液晶表示パネルの構成を示す断面図である。
園 12]従来の CF基板の構成を示す図である。
園 13]構造物に加えられる荷重と変位量との関係を示すグラフである。
園 14]構造物の変位と塑性変形量との関係を示すグラフである。
符号の説明
2 TFT基板
4 CF基板
10、 11 ガラス基板
16 画素電極
40R、40G、40B CF樹脂層
41 共通電極
45 BM
46 樹脂スぺーサ層
48 構造物
50、 51 配向膜
52 スリット
54 突起
55 スぺーサ形成予定部
60 シール材 80 ゲートバスライン駆動回路
82 ドレインバスライン駆動回路
84 制御回路
86、 87 偏光板
88 ノ ックライトユニット

Claims

請求の範囲
[1] 一対の基板と、
前記一対の基板間に封止された液晶と、
一方の前記基板上の表示領域に形成された色分解フィルタと、
前記表示領域での前記一対の基板間のセルギャップを維持する構造物とを有する 液晶表示装置であって、
前記構造物は、当該構造物を構成する有機部材のうち 90 %以上の体積を占める 樹脂スぺーサ層を有すること
を特徴とする液晶表示装置。
[2] 請求項 1記載の液晶表示装置において、
前記樹脂スぺーサ層は、顔料を含まないこと
を特徴とする液晶表示装置。
[3] 請求項 1又は 2に記載の液晶表示装置において、
前記構造物は、前記樹脂スぺーサ層以外に有機部材を有していないこと を特徴とする液晶表示装置。
[4] 請求項 1又は 2に記載の液晶表示装置において、
前記構造物は、前記樹脂スぺーサ層及び配向膜以外に有機部材を有していない こと
を特徴とする液晶表示装置。
[5] 対向配置される対向基板とともに液晶を挟持する透明基板と、
前記透明基板上に形成された色分解フィルタと、
前記対向基板との間の表示領域でのセルギャップを維持するために前記透明基板 上に形成され、基板面に垂直に見て他の有機膜との重なりが面積で 50%以下であ る樹脂スぺーサ層と
を有することを特徴とする液晶表示装置用基板。
[6] 請求項 5記載の液晶表示装置用基板において、
前記樹脂スぺーサ層は、顔料を含まないこと
を特徴とする液晶表示装置用基板。
[7] 請求項 5又は 6に記載の液晶表示装置用基板において、
前記樹脂スぺーサ層は、他の有機膜と重なっていないこと
を特徴とする液晶表示装置用基板。
[8] 請求項 5乃至 7のいずれ力 1項に記載の液晶表示装置用基板において、
前記樹脂スぺーサ層の下層に金属で形成された遮光膜をさらに有すること を特徴とする液晶表示装置用基板。
[9] 対向配置された一対の基板と、前記一対の基板間に封止された液晶とを備えた液 晶表示装置であって、
前記一対の基板の一方に、請求項 5乃至 8のいずれか 1項に記載の液晶表示装置 用基板が用いられていること
を特徴とする液晶表示装置。
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