WO2004093170A1

WO2004093170A1 - 現像処理方法及び現像処理装置

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Publication number: WO2004093170A1
Application number: PCT/JP2004/002884
Authority: WO
Inventors: Tetsuya Kitamura; Shuuichi Nishikido
Original assignee: Tokyo Electron Limited
Priority date: 2003-04-14
Filing date: 2004-03-05
Publication date: 2004-10-28

Abstract

被処理基板を回転させずに省スペースの下で、洗浄液及び乾燥用流体等の使用量を低減すると共に、洗浄液やミスト等の飛散物の低減を達成しながら、現像処理後の被処理基板の洗浄及び乾燥を均一に行えるようにする。ウエハ（Ｗ）の表面に現像液を供給して、ウエハ表面に現像液の液膜を形成した後、現像液の液膜が形成されたウエハ（Ｗ）と平板（２０）とで形成された隙間（３０）の一側端から他側端に向かって、リンスノズル（７０）を移動（スキャン）しつつ隙間（３０）内に純水を供給して洗浄し、その後、乾燥ノズル（８０）を移動（スキャン）しつつ隙間（３０）内に空気を噴射してウエハ（Ｗ）に付着する処理に供された現像液及び純水を除去する。

Description

現像処理方法及び現像処理装置技術分野

この発明は、例えば半導体ウェハや F P D (フラットパネルディスプレイ）用ガラス基板やフォトマスク基板（レチクル）等の基板に現像液を供.給して基板表面を現像処理する現像処理方法及ぴ現像処理装置に関するものである。背景技術

一般に、半導体デバイスの製造工程においては、半導体ウェハや F P D用ガラス基板等（以下にウェハ等という）の表面に例えばレジスト液を塗布し、ステツパー等の露光装置を用いて回路パターンを縮小してレジスト膜を露光し、露光後のウェハ表面に、回転式塗布処理装置を用いて現像液を塗布（供給）して現像処理を行うフすトリソグラフィー技術が用いられている。

上記現像処理工程においては、一般にウェハ等の表面のレジストに現像液を噴霧するスプレー方式やウェハ等の表面に現像液を盛るパドル方式等が知られている。また、別の方式として、現像すべき一対のウェハ等を所定の隙間をあけて互いに対向させ、毛管現象を利用して隙間内を現像液で満たして、ウェハ等の表面に現像液の液膜を形成し、現像処理後に洗浄する方法が知られている（例えば、特開平 6— 2 4 4 0 9 7号公報参照)。

上記特開平 6— 2 4 4 0 9 7号公報記載の現像処理方式によれば、スプレー方式やパドル方式に比べて、現像液の消費量を少なくすることができる上、現像液の液盛り時の液の移動（流動）を抑制して線幅等のパターン寸法の均一性を向上させることができる。また、現像処理後のウェハの洗浄を同一のウ^ハ支持機構で行うことができる。

ところで、現像処理後にウェハ等の洗浄、乾燥が必要になるが、ウェハ等を別々に洗浄、乾燥すると、洗浄液や乾燥用流体等の消費量の増加を招くばかりでなく、洗浄 ·乾燥に伴う洗浄液やミスト等の飛散物の捕集スペースの増加が生じるという問題があった。また、ウェハ等の洗浄及び乾燥の際、回転を行うと、回転力の影響で、ウェハ等の中心部と外周部とで、洗浄'乾燥の不均一が生じるという問題もあった。

また、スプレー方式では、現像液の消費量が多い上、現像液をウェハ等の表面に均一に噴霧（供給）することが難しいため、線幅等のパターン寸法が不均一になるという問題があった。

パドル方式では、スプレー現像のような問題は生じないが、現像液の液膜表面が開放された自由表面となっているため、液面に波立ちが生じ、それに伴って現像液のレジスト接触面（反応面）も移動してしまい、線幅等のパターン寸法が不均一になるという問題があった。また、パドル方式においても、現像液をウェハ等の表面に満遍なく均一に液盛りするのが難しいという問題もある。

これに対して、特開平 6— 2 4 4 0 9 7号公報に記載の現像方式においては、スプレー方式ゃパドル方式に比べて、現像液の消費量を少なくすることができる力この現像方式においても、ウェハ等の表面に供給される現像液が流動するため、線幅等のパターン寸法が不均一になるという問題があった。発明の開示

この発明は上記事情に鑑みてなされたもので、被処理基板を回転させずに省スペースの下で、洗浄液及び乾燥用流体等の使用量を低減すると共に、洗浄液ゃミスト等の飛散物の低減を達成しながら、現像処理後の被処理基板の洗浄及び乾燥を均一に行えるようにした現像処理方法及び現像処理装置を提供することを目的とするものである。

また、この発明は上記事情に鑑みてなされたもので、線幅等のパターン寸法の均一を図ると共に、現像液の消費量の低減を図れるようにした現像処理方法及び現像処理装置を提供することを目的とするものである。

上記目的を達成するために、現像処理方法は、 '被処理基板の表面に現像液を供給して、被処理基板表面に現像液の液膜を形成する現像工程と、上記 ¾像液の液膜が形成された上記被処理基板と平板とを互いに平行に対向させて隙間を形成し、この隙間の一側端から他側端に向かって洗浄ノズルを移動しつつ隙間内に洗浄液を供給する洗浄工程と、上記隙間の一側端から他側端に向かって乾燥ノズルを移動しつつ隙間内に乾燥用流体を噴射して上記被処理基板に付着する処理に供された現像液及び洗浄液を除去する乾燥工程と、を有する。

現像処理方法は、被処理基板の表面に現像液を供給して、被処理基板表面に現像液の液膜を形成する現像工程と、上記現像液の液膜が形成された上記被処理基板と平板とを互いに平行に対向させて隙間を形成し、この隙間の一側端から他側端に向かって洗浄ノズルを移動しつつ隙間内に洗浄液を供給する浄工程と、上記隙間の一側端から他側端に向かって吸引ノズルを移動しつつ処理に供された現像液及び洗浄液を吸引する吸引工程と、上記隙間の一側端から他側端に向かって乾燥ノズルを移動しつつ隙間内に乾燥用流体を噴射して上記被処理基板に付着する処理に供された現像液及び洗浄液を除去する乾燥工程と、を有する。

現像処理方法は、被処理基板の表面に現像液を供給して、被処理基板表面に現像液の液膜を形成する現像工程と、上記現像液の液膜が形成された上記被処理基板と平板とを互いに平行に対向させて隙間を形成し、この隙間の一側端から他側端に向かって洗浄ノズルを移動しつつ隙間内に洗浄液を供給する洗浄工程と、上記隙間の一側端から他側端に向かって吸引■乾燥ノズルを移動しつつ処理に供された現像液及び洗诤液を吸引すると共に、周囲の空気を吸引して上記被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を除去する吸引■乾燥工程と、を有する。

現像処理方法は、被処理基板と平板とを互いに平行に対向させて隙間を形成し、この隙間の一側端から他側端に向かって現像ノズルを移動しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像工程と、上記隙間の一側端から他側端に向かって洗浄ノズ^/を移動しつつ隙間内に洗浄液を供給する冼浄工程と、上記隙間の一側端から他側端に向かって乾燥ノズノレを移動しつつ隙間内に乾燥用流体を噴射して上記被処理基板に付着する処理に供された現像液及び洗浄液を除去する乾燥工程と、を有する。現像処理方法は、被処理基板と平板とを互いに平行に対向させて隙間を形成し、この隙間の一側端から他側端に向かって現像ノズルを移動しつつ現像 ί夜を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像工程と、上記隙間の一側端から他側端に向かって洗浄ノズルを移動しつつ隙間内に洗浄液を供給する洗浄工程と、上記隙間の一側端から他側端に向かって吸引ノズルを移動しつつ処理に供された現像液及び洗浄液を吸引する吸引工程と、上記隙間の一側端から他側端に向かって乾燥ノズノレを移動しつつ隙間内に乾燥用流体を噴射して上記被処理基板に付着する処理に供された現像液及び洗浄液を除去する乾燥工程と、を有する。

現像処理方法は、被処理基板と平板とを互いに平行に対向させて隙間を形成し、この隙間の一側端から他側端に向かって現像ノス、ノレを移動しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像工程と、上記隙間の一側端から他側端に向かって洗浄ノズルを移動しつつ隙間内に洗浄液を供給する洗浄工程と、上記隙間の一側端から他側端に向かって吸引■乾燥ノズルを移動しつつ処理に供された現像液及び洗浄液を吸引すると共に、周囲の空気を吸引して上記被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を除去する吸引 ·乾燥工程と、を有する。

現像処理方法は、被処理基板と平板とを互いに平行に対向させて隙間を形成し、この隙間の一側端から他側端に向かって現像ノズルを移動しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像工程と、上記隙間の一側端から他側端に向かって吸引ノズルを移動しつつ処理に供された現像液を吸引する第一の吸引工程と、上記隙間の一側端から他側端に向かって洗浄ノズルを移動しつつ隙間内に洗浄液を供給する洗浄工程と、上記隙間の一側端から他側端に向かって吸引ノズルを移動しつつ処理に供された洗浄液を吸引する第二の吸引工程と、上記隙間の一側端から他側端に向かつて乾燥ノズルを移動しつつ隙間内に乾燥用流体を噴射して上記被処理基板に付着する処理に供された洗浄液を除去する乾燥工程と、を有する。

現像処理方法は、被処理基板と平板とを互いに平行に対向させて隙間を形成し、この隙間の一側端から他側端に向かって現像ノズルを移動しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像工程と、上記隙間の一側端から他側端に向かって吸引ノズルを移動しつつ処理に供された現像液を吸引する第一の吸引工程と、上記隙間の一側端から他側端に向かって洗浄ノズルを移動しつつ隙間内に洗浄液を供給する洗浄工程と、上記隙間の一側端から他側端に向かって吸引 '乾燥ノズルを移動しつつ処理に供された洗浄液を吸引すると共に、周囲の空気を吸引して上記被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を除去する吸引 '乾燥工程と、を有する。

この発明の現像処理方法において、上記洗浄工程において、上記洗浄ノズルを往復移動するようにしてもよい。また、上記乾燥工程において、上記乾燥ノズルを往復移動するようにしてもよい。

また、上記洗浄工程において、カップにより上記隙間を外部から遮断すると共に、外部と遮断された処理空間内の処理に供された現像液及び洗浄液を外部に排出する方が好ましい。また、上記乾燥工程において、カップにより上記隙間を外部から遮断すると共に、外部と遮断された処理空間内の気液流体を外部に排出する方が好ましい。また、上記吸引 '乾燥工程においても、カップにより上記隙間を外部から遮断すると共に、外部と遮断された処理空間内の気液流体を外部に排出する方が好ましい。

また、上記洗浄ノズルと乾燥ノズルを共通のノズノレ体にて形成し、上記ノズル体に切換手段を介して洗浄液供給源と乾燥流体供給源とを接続し、洗浄工程において、上記切換手段により上記洗浄液供給源から洗浄液を上記ノズル体に供給して洗浄し、乾燥工程において、上記切換手段により上記乾燥流体供給源から乾燥流体を上記ノズル体に供給して乾燥することも可能である。

また現像処理装置は、現像処理方法を具現化するもので、被処理基板を載置するステージと、上記ステージと平行に対向してステージに載置される被処理基板との間に液膜形成用の隙間を形成する平板と、上記隙間の一側端から他側端に向力つて移動しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に！ ¾像液の液膜を形成する現像ノズルと、上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ洗浄液を供給する洗浄ノズルと、上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ乾燥流体を噴射して上記被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を除去する乾燥ノズルと、を具備する。

現像処理装置は、現像処理方法を具現化するもので、被処理基板を寧置するステージと、上記ステージと平行に対向してステージに載置される被処理基板との間に液膜形成用の隙間を形成する平板と、上記隙間の一側端から他側端に向かつて移動しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像ノズルと、上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ洗浄液を供給する洗浄ノズノレと、上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ上記被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を吸引する吸引ノズルと、上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ乾燥流体を噴射して上記被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を除去する乾燥ノズルと、を具備する。

現像処理装置は、現像処理方法を具現化するもので、被処理基板を载置するステージと、上記ステージと平行に対向してステージに載置される被処理基板との間に液膜形成用の隙間を形成する平板と、上記隙間の一側端から他側端に向かつて移動しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像ノズルと、上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ洗浄液を供給する洗浄ノズルと、上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ上記被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を吸引すると共に、周囲の空気を吸引して被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を除去する吸引 '乾燥ノズノレと、を具備する。

現像処理装置は、現像処理方法を具現化するもので、被処理基板を載置するステージど、上記ステージと平行に対向してステージに載置される被処理基板との間に液膜形成用の隙間を形成する平板と、上記隙間の一側端から他側端に向かつて移動しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像ノズルと、上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ処理に供された現像液を吸引する第一の吸引ノズルと、上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ洗浄液を供給する洗浄ノズノレと、上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ上記被処理基板に付着した洗浄液を吸引する第二の吸引ノズルと、上記隙間の一側端から他側端に向かつて移動しつつ乾燥流体を噴射して上記被処理基板に付着した洗浄液を除去する乾燥ノス 'ノレと、を具備する。

現像処理装置は、現像処理方法を具現化するもので、被処理基板を載置するステージと、上記ステージと平行に対向してステージに載置される被処理基板との間に液膜形成用の隙間を形成する平板と、上記隙間の一側端から他側端に向かつて移動しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像ノズルと、上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ処理に供された現像液を吸引する第一の吸引ノズルと、上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ洗浄液を供給する洗浄ノズルと、上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ上記被処理基板に付着した洗浄液を吸引すると共に、周囲の空気を吸引'して被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を除去する吸引■乾燥ノズノレと、を具備する。

この発明の現像処理装置において、上記ステージの外側及び下部を包囲すると共に、上記平板に接離する昇降可能なカップを更に具備し、上記カップの下部に排出口を設ける方が好ましい。

また、上記現像ノズルを、少なくとも軸方向に沿う複数の供給孔を有する管状のノズル体にて形成することができる。また、上記洗浄ノズルを、少なくとも被処理基板側及び平板側に開口する軸方向に沿う複数の供給孔を有する管状のノズル体にて形成することができる。また、上記吸引ノズルを、このノズルの移動方向側に開口する軸方向に沿う吸引孔を有する管状のノズル体にて形成するとができる。また、上記吸引 ·乾燥ノズルを、このノズルの移動方向側に開口する軸方向に沿う液吸引孔と、ノズルの移動方向と反対側（移動方向の後方側）に開口する軸方向に沿う空気吸引孔とを具備するノズル体にて形成することができる。また、上記乾燥ノズルを、上記洗浄ノズノレと同様に、少なくとも被処理基板及び平板側に開口する軸方向に沿う噴射孔を有する管状のノズル体にて形成することができる。この場合、上記洗浄ノズルと乾燥ノズルを共通の管状ノズル体にて形成し、上記管状ノズル体に切換手段を介して洗浄液供給源と乾燥流体供給とを接続し、上記切換手段の切換操作によって、上記洗浄液供給源から上記管状ノズノレ体への洗浄液の供給、又は、上記乾燥流体供給源から上記管状ノズルへの乾燥流体の供給を選択的に行えるように形成する方が好ましい。

また、上記現像ノズル、洗浄ノズル及び乾燥ノズノレを、ステージ及び平板の外側方に平行に配設されるガイドレールに摺動可能に装着すると共に、鉛直方向に昇降可能に形成し、上記現像ノズル、洗浄ノズル又は乾燥ノズルのいずれかを、移動手段によって移動又は昇降手段によって昇降するか、あるいは、上記現像ノ. ズル、洗浄ノズル、吸引ノズル及び乾燥ノズルを、ステージ及び平板の外側方に平行に配設されるガイドレールに摺動可能に装着すると共に、鉛直方向に昇降可能に形成し、上記現像ノズル、洗浄ノズル、吸引ノズル又は乾燥ノズルのいずれかを、移動手段によって移動又は昇降手段によって昇降する方が好ましい。また、現像ノズル、洗浄ノズル及び吸引 '乾燥ノズルを用いる場合において、現像ノズル、洗浄ノズル及び吸引 '乾燥ノズ^ ^を、ステージ及び平板の外側方に平行に配設されるガイドレールに摺動可能に装着すると共に、鉛直方向に昇降可能に形成し、上記現像ノズル、洗浄ノズ又は吸引 ·乾燥ノズルのいずれかを、移動手段によって移動又は昇降手段によって昇降する方が好ましい。

この発明によれば、被処理基板の表面に現像液を供給して、被処理基板表面に現像液の液膜を形成した後、現像液の液膜が形成された被処理基板と平板とで形成された隙間の一側端から他側端に向かって、まず、洗浄ノズルを移動（スキヤン）しつつ隙間内に洗浄液を供給して洗浄し、その後、乾燥ノズルを移動（スキヤン）しつつ隙間内に乾燥用流体を噴射して被処理基板を乾燥、すなわち被処理基板に付着する処理に供された現像液及び洗浄液を除去することができる。したがって、被処理基板を回転させずに、現像液の液膜を形成する隙間内に洗浄ノズルを移動（スキャン）させて洗浄を行うことができると共に、乾燥ノズルを移動 (スキャン）させて乾燥を行うことができる。

この発明によれば、被処理基板の表面に現像液を供給して、被処理基板表面に現像液の液膜を形成した後、現像液の液膜が形成された被処理基板と平板とで形成された隙間の一側端から他側端に向かって、まず、洗浄ノズルを移動しつつ隙間内に洗浄液を供給して洗浄し、次いで、吸引ノズルを移動（スキャン）しつつ処理に供された現像液及び洗浄液を吸引し、の後、乾燥ノズルを移動（スキヤン）しつつ隙間内に乾燥用流体を噴射して被処理基板を乾燥、すなわち被処理基板に付着する処理に供された現像液及び洗浄液を除去することができる。 'したがつて、被処理基板を回転させずに、現像液の液膜を形成する隙間内に洗浄ノズルを移動（スキャン）させて洗浄を行った後、吸引ノズルを移動（スキャン）させて現像液及ぴ洗浄液を吸引し、その後、乾燥ノズルを移動（スキャン）させて乾燥を行うことができる。

この発明によれば、被処理基板の表面に現像液を供給して、被処理基板表面に現像液の液膜を形成した後、現像液の液膜が形成された被処理基板と平板とで形成された隙間の一側端から他側端に向かって、まず、洗浄ノズルを移動しつつ隙間内に洗浄液を供給して洗浄し、次いで、吸引 .乾燥ノズルを移動（スキャン）しつつ処理に供された現像液及ぴ洗净液を吸引すると共に、周囲の空気を吸引して被処理基板に付着する処理に供された現像液及び洗浄液を除去す.ることができる。したがって、被処理基板を回転させずに、現像液の液膜を形成する隙間內に洗浄ノズルを移動（スキャン）させて洗浄を行った後、吸引 ·乾燥ノズノレを移動 (スキャン）させて現像液及び洗浄液を吸引すると同時に、乾燥を行うことがで含る。

この発明によれば、被処理基板と平板とで形成された隙間の一側端から他側端に向かって、まず、現像ノズルを移動（スキャン）しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成し、次に、洗浄ノズルを移動（スキャン）しつつ隙間内に洗浄を供給して洗浄し、その後、乾燥ノズ、ノレを移動（スキャン）しつつ隙間内.に乾燥用流体を噴射して被'. 処理基板を乾燥、すなわち被処理基板に付着する処理こ供された現像液及び洗浄液を除去することができる。したがって、被処理基板を回転させずに、現像液の液膜形成用隙間内に、現像ノズルを移動（スキャン）しつつ現像液の液膜を形成し、次いで、洗浄ノズルを移動（スキャン）させて洗浄を行った後、乾燥ノズノレを移動（スキャン）させて乾燥を行うことができる。

この発明によれば、被処理基板と平板とで形成された隙間の一側端から他側端に向かって、まず、現像ノズルを移動（スキャン）しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成し、次いで、洗浄ノズルを移動（スキャン）しつつ隙間内に洗浄液を供給して洗浄し、次に、吸引ノズルを移動（スキャン）しつつ現像液及び洗浄液を吸引し、その後、乾燥ノズルを移動（スキャン）しつつ隙間内に乾燥用流体を噴射して被処理基板を乾燥、すなわち被処理基板に付着する処理に供された現像液及び洗浄液を除去することができる。したがって、被処理基板を回転させずに、現像液の液膜形成用隙間内に、現像ノズルを移動（スキャン）しつつ現像液の液膜を形成し、次いで、洗浄ノズルを移動（スキャン）させて洗浄を行い、次に、吸引ノズルを移動 (スキャン）させて現像液及び洗浄液を吸引し、その後、乾燥ノズノレを移動（スキャン）させて乾燥を行うことができる。

この発明によれば、被処理基板と平板とで形成された隙間の一側端から他側端に向かって、まず、現像ノズルを移動（スキャン）しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の.液膜を形成し、次いで、洗浄ノズルを移動（スキャン）しつつ隙間内に洗浄液を供給して洗浄し、次に、吸引 '乾燥ノズルを移動（スキャン）しつつ処理に供された現像液及び洗浄液を吸引すると共に、周囲の空気を吸引して被処理基板に付着する処理に供された現像液及び洗浄液を除去することができる。したがって.、被処理基板を回転させずに、現像液の液膜形成用隙間内に、現像ノズルを移動（ス^ャン）しつつ現像液の液膜を形成し、次いで、洗浄ノズルを移動（スキャン）させて洗浄を行い、その後、吸引 '乾燥ノズルを移動（スキャン） .させて現像液及び洗浄液を吸引すると同時に、乾燥を行うことができる。

この発明によれば、被処理基板と平板とで形成された隙間の一側端から他側端に向かって、まず、現像ノズルを移動（スキャン）しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成した後、（第一の）吸引ノズルを移動（スキャン）しつつ現像液を吸引し、次に、洗浄ノズルを移動（スキャン）しつつ隙間内に洗浄液を供給して洗浄し、次いで、 (第二の）吸引ノズルを移動（スキャン）しつつ洗浄液 {具体的には現像液と洗浄液の混合液 } を吸引し、その後、乾燥ノズルを移動（スキャン）しつつ隙間内に乾燥用流体を噴射して被処理基板を乾燥、すなわち被処理基板に付着する処理に供された洗浄液を除去することができる。したがって、被処理基板を回転させずに、現像液の.液膜形成用隙間内に、現像ノズルを移動（スキャン)' しつつ現像液の液膜を形成した後、（第一の）吸引ノズルを移動（スキャン）させて現像液を吸引し、次いで、洗浄ノズルを移動（スキャン）させて洗浄を行った後、.（第二の）吸引ノズルを移動（スキャン）させて洗浄液を吸引し、その後、乾燥ノズルを移動（スキャン）させて乾燥を行うことができる。この発明によれば、被処理基板と平板とで形成された隙間の一側端から他側端に向かって、まず、現像ノズルを移動（スキャン）しつつ現像液を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成した後、（第一の）吸引ノズルを移動（スキャン）しつつ現像液を吸引し、次に、洗浄ノズルを移動（スキャン）しつつ隙間内に洗浄液を供給して洗浄し、吸引 .乾燥ノズノレを移動（スキヤン）しつつ処理に供された現像液及び洗浄液を吸引すると共に、周囲の空気を吸引して被処理基板に付着する処理に供された現像液及び洗浄液を除去することができる。したがって、被処理基板を回転させずに、現像液の液膜形成用隙間内に、現像ノズルを移動（スキャン）しつつ現像液の液膜を形成した後、（第一の）吸引ノズルを移動（スキャン）させて現像液を吸引し、次いで、洗浄ノズルを移動（スキャン）させて洗浄を行った後、吸引 ·乾燥ノズルを移動（スキャン）させて現像液 {具体的には、現像液と洗浄液の混合液 } を吸引すると同時に、乾燥を行うことができる。

この発明によれば、洗浄工程において、洗浄ノズルを往復移動しつつ洗浄液を供給することにより、更に洗浄効率の向上を図ることができる。

この発明によれば、乾燥工程において、乾燥ノズルを往復移動しつつ乾燥用流体を噴射することにより、更に乾燥効率の向上を図る.ことができる。

この発明によれば、洗浄工程、乾燥工程又は吸引 '乾燥工程において、カップにより液膜形成用の隙間を外部から遮断すると共に、外部と遮断された処理空間内の処理に供された現像液及び洗浄液を外部に排出することにより、洗浄処理又は乾燥処理中に飛散された洗浄液やミスト等の飛散物が被処理基板に付着するのを防止することができる。

この発明によれば、洗浄ノズルと乾燥ノズルを共通のノズル体にて形成し、このノズル体に切痪手段を介して洗浄液供給源と乾燥流体供給源とを接続し、洗浄工程において、切換手段により洗浄液供給源から洗浄液をノズル体に供給して洗浄し、乾燥工程において、切換手段により乾燥流体供給源から乾燥流体をノズル体に供給して乾燥することにより、洗浄ノズルと乾燥ノズルを共通化して、更に構成部材の削減及び装置の小型化を図ることができる。

この発明によれば、現像ノズルが、少なくとも軸方向に沿う複数の供給孔を有する管状のノズル体にて形成されているので、被処理基板の表面に現像液を均一に供給することができる。

この発明によれば、洗浄ノズルが、少なくとも被処理基板側及び平板側に開口する軸方向に沿う複数の供給孔を有する管状のノズル体にて形成されているので、被処理基板の表面に洗浄液を均一に供給することができる。

この発明によれば、吸引ノズルが、このノズルの移動方向側に開口する軸方向に沿う吸引孔を有する管状のノズル体にて形成されているので、処瑪に供された現像液及び又は現像液と洗浄液の混合液を効率良く吸引することができる。

この発明によれば、吸引 '乾燥ノズルが、このノズルの移動方向側に開口する軸方向に沿う液吸引孔と、ノズルの移動方向と反対側（移動後方側）に開口する軸方向に沿う空気吸引孔とを具備するので、処理に供された現像液及び又は現像液と洗浄液の混合液を効率良く吸引すると同時に、周囲の空気を吸引して乾燥することができる。

この発明によれば、乾燥ノズルが、少なくとも被処理基板及び平板側に開口する軸方向に沿う噴射孔を有する管状のノズル体にて形成されているので、被処理基板の表面に乾爆用流体を均一に噴射（供給）することができる。

この発明によれば、現像ノズル、洗浄ノズル及び乾燥ノズルを、ステージ及び平板の外側方に平行に配設されるガイドレールに摺動可能に装着すると共こ、鉛直方向に昇降可能に形成し、現像ノズル、洗浄ノズル又は乾燥ノズルのいずれかを、移動手段によって移動又は昇降手段によって昇降することにより、現像ノズル、洗浄ノズル及び乾燥ノズルの移動（スキャン）を円滑かつ確実に行うことができる。

この発明によれば、現像ノズル、洗浄ノズル、吸引ノズル及び乾燥ノズルを、ステージ及び平板の外側方に平行に配設されるガイドレールに摺動可能に装着すると共に、鉛直方向に昇降可能に形成し、現像ノズル、洗浄ノズル、吸引ノズル又は乾燥ノズルのいずれかを、移動手段によつて移動又は昇降手段によつて昇降することにより、現像ノズル、洗浄ノズル、吸引ノズル及び乾燥ノズルの移動（スキャン）を円滑かつ確実に行うことができる。

この発明によれば、現像ノズル、洗浄ノズル及ぴ吸引 '乾燥ノズルを、ステージ及ぴ平板の外側方に平行に配設されるガイドレールに摺動可能に装着すると共に、鉛直方向に昇降可能に形成し、上記現像ノズル、洗浄ノズル又は吸引■乾燥ノズルのいずれかを、移動手段によつて移動又は昇降手段によつて昇降する現像ノズル、洗浄ノズル及ぴ吸引 '乾燥ノズルの移動（スキャン）を円滑かつ確実に行うことができる。

上記目的を達成するために、この発明の現像処理方法は、被処理基板と液膜形成用平板とを互いに平行に所定の隙間をあけて対向させる工程と、少なくとも軸方向に沿う複数の小孔を有する管状の現像液供給ノズルを、上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ小孔から隙間内に現像液を供給することにより、上記隙間内に現像液を充満させて上記被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する工程とを備える。

この発明の現像処理方法において、上記現像液供給ノズルは、少なくとも軸方向に沿う複数の小孔を有する管状のものであれば、その形態は任意でよく、例えば、管状部材の軸方向に沿う一列又は複数列に複数の小孔を適宜間隔をおいて穿設したものでもよい。この場合、現像液供給ノ、ルへの現像液の供給を管状部材 .の一端側であっても差し支えないが、両端側から供給する方が好ましい。このように管状部材の両端側から現像液を供給する場合は、小孔が等間隔に穿設されるときは端部側から中心側に向かって小孔の開口面積を漸次増大させるようにする方が好ましい。また、小孔の開口面積を同一にした場合は端部側から中心側に向かって間隔を漸次小さくする方がよい。また、現像液供給ノズルを全周に多数の小孔を有する多孔質の管状部材にて形成することも可能である。

また、この発明の現像処理方法において、上記現像液供給ノズルの複数個を間隔をおいて隙間内に移動させつつ各現像液供給ノズルの小孔から現像液を供給するようにしてもよい。

また、上記現像液供給ノズルにおける移動方向の後方側に突設された翼片により、供給された現像液の乱流を抑制するようにしてもよい。翼片の形状は任意でよいが、先端に向かって狭小テーパ状の形状にする方が好ましい。なお、翼片を突設した現像液供給ノズルを 2個用いることも可能である。この場合、上記翼片を突設する現像液供給ノズルを移動方向と交差する方向に間隔をおいて 2個並設して、隙間内を移動させつつ各現像液供給ノズルの小孔から現像液を供給する方がよい。

また、上記現像液供給ノズルを移動しつつノズルの周方向に回転させるようにしてもよい。この場合、ノズルの回転方向は任意であっても差し支えないが、好ましくは被処理基板側に向かって回転させる方がよい。

また、上記液膜形成用平板に被処理基板を用いてもよい。

また、この発明の現像処理装置は、現像処理方法を具現化するも.ので、被処理基板を載置する載置台と、上記載置台の上方に対向して配設され、載置台に載置された被処理基板との間に所定の隙間を形成する液膜形成用平板と、少なくとも軸方向に沿う複数の小孔を有する管状の現像液供給ノズルと、上記現像液供給ノズルを、上記隙間の一側端から他側端に向かって移動するノズル移動手段と、を具備する。

この発明の現像処理装置において、上記現像液供給ノズノレは、上述したように、少なくとも軸方向に沿う複数の小孔を有する管状のものであれば、その形態は任意でよく、例えば、管状部材の軸方向に沿う一列又は複数列に複数の小孔を適宜間隔をおいて穿設したものでもよい。この場合、現像液供給ノズルへの現像液の供給を管状部材の一端側であっても差し支えないが、両端側から供給する方が好ましい。このように管状部材の両端側から現像液を供給する場合は、小孔が等間隔に穿設されるときは端部側から中心側に向かって小孔の開口面積を漸次増大させるようにする方が好ましい。また、小孔の開口面積を同一にした場合は端部側カら中心側に向かって間隔を漸次小さくする方がよい。また、現像液供給ノズルを全周に多数の小孔を有する多孔質の管状部材にて形成することも可能である。また、この発明の現像処理装置において、上記現像液供給ノズルを、互いに間隔をおいて隙間內を移動する複数個のノズノレにて形成してもよい。

また、現像液供給ノズルに、該ノズノレの移動方向の後方側に突出する翼片を設けてもよい。この場合、翼片の形状は任意でよいが、好ましくは先端に向かって狭小テーパ状の形状とする方がよい。なお、翼片を突設した現像液供合ノズルを 2個用いることも可能である。この場合、上記翼片を突設する現像液供給ノズルを移動方向と交差する方向に間隔をおいて 2個並設して、隙間内を移動させつつ各現像液供給ノズルの小孔から現像液を供給する方がよい。

また、上記現像液供給ノズルを、移動及び同方向に回転可能に形成してもよい。この場合、ノズルの回転方向は任意であっても差し支えないが、好ましくは被処理基板側に向かって回転させる方がよい。

また、上記液膜形成用平板に代えて被処理基板を用いてもよい。

この発明によれば、被処理基板と液膜形成用平板とを互いに平行に所定の隙間をあけて対向させることにより、被処理基板の表面に供給される現像液の液膜の形成領域を確保することができる。そして、少なくとも軸方向に沿う複数の小孔を有する管状の現像液供給ノズルを、隙間（液膜形成領域）.の一側端から他側端に向かって移動しつつ小孔から隙間内に現像液を供給することにより、現像中の現像液の動きを現像開始から終了まで、極めて静的に保って隙間内に現像液を充満させた状態で被処理基板の表面に現像液の液膜を形成して現像処理することができる。したがって、面内を均一にして線幅等のパターン寸法を均一にすることができる。また、レジストの疎水度に影響を受けずに均一に現像液の液膜を形成することができるので、これからも線幅等のパターン寸法の均一性の向上が図れる。更に、現像液は所定の間隔に設定された薄い隙間（液膜形成領域）の分の液. 量で済むため、現像液の少量化を図ることができる。

この発明によれば、現像液供給ノズルの複数個を間隔をおいて隙間内に移動させつつ各現像液供給ノズルの小孔から現像液を供給することにより、各ノズルの小孔からできる限りゆっくり現像液を供給（吐出）しながら複数のノズルを移動することができるので、現像中の現像液の動きを更に静的に保って線幅等のパターンの均一性の向上を図ることができる。また、複数のノズルを同時に移動させるので、現像処理速度の迅速化を図ることができる。.

この発明によれば、現像液供給ノルにお.ける移動方向の後方側に突設された翼片により、供給された現像液の乱流を抑制することにより、現像中の現像液の動きを更に静的に保つことができるので、更に線幅等のパターンの均一性の向上を図ることができる。

この発明によれば、翼片を突設する現像液供給ノズルを移動方向と交差する方向に間隔をおいて 2個並設して、隙間内を移動させつつ各現像液供給ノズルの小孔から現像液を供給することにより、両ノズル間に設けられた間隔から空気を逃がして、被処理基板側及び液膜形成用平板側の両側における現像液の動きを均等にバランスすることができるので、更に線幅等のパターンの均一性の向上を図ることができる。

この発明によれば、現像液供給ノズルを移動しつつノズルの周方向に回転させることにより、現像液供給ノズルが通過する影響、すなわちノズルが通過した直後の現像液の空洞部による影響を抑制することができるので、更に線幅等のバターンの均一性の向上を図ることができる。

この発明によれば、液膜形成用平板に被処理基板を用いることにより、一工程で 2枚の被処理基板の現像処理を同時に行うことができるので、更に処理効率の向上を図ることができる。図面の簡単な説明

図 1は、この発明に係る現像処理装置の第一実施形態を示す概略平面図である。図 2は、第一実施形態の現像処理装置の概略側面図である。

図 ·3 Αは、この発明におけるステージの一例を示す概略平面図である。

図 3 Βは、この発明におけるステージの一例を示す概略側面図である。

図 4は、この発明における現像工程を示す拡大断面図である。

図 5は、この発明における現像ノズルの一例を示す概略断面図である。

図 6は、この発明における洗浄工程を示す拡大断面図である。

図 7は、この発明における洗浄ノズルの一例を示す概略断面図である。

図 8は、この発明における乾燥工程を示す拡大断面図である。

図 9は、この発明における乾燥ノズルの一例を示す概略側面図である。

図 1 0は、第一実施形態の現像処理工程を示すフローチヤ一トである。

図 1 1は、この発明に係る現像処理装置の第二実施形態を示す概略平面図である。

図 1 2は、第二実施形態の現像処理装置の概略側面図である。

図 1 3は、この発明における吸引工程を示す拡大断面図である。

図 1 4は、この発明における吸引ノズルの一例を示す概略側面図である。図 1 5は、第二実施形態の現像処理工程を示すフローチャートである。

図 1 6は、この発明に係る現像処理装置の第三実施形態を示す概略平面図である。 . 図 1 7は、第三実施形態の現像処理装置の概略側面図である。

図 1 8は、第三実施形態の現像処理工程を示すフローチャートである。

図 1 9は、この発明に係る現像処理装置の第四実施形態を示す概略平面図である。

図 2 0は、第四実施形態の現像処理装置の概略断面図である。

図 2 1は、この発明における洗浄■乾燥ノズルを示す概略側面図である。

図 2 2 Aおよび図 2 2 Bは、第四実施形態におけるウェハの搬入工程を示す概略断面図である。

図 2 3 Aおよび図 2 3 Bは、第四実施形態における現像工程を示す概略断面図である。

図 2 4は、第四実施形態における洗浄工程を示す概略断面図である。

図 2 5は、第四実施形態における乾燥工程を示す概略断面図である。

図 2 6は、.第四実施形態における排気停止状態を示す概略断面図である。

図 2 7は、第四実施形態におけるノズルのホームポジションへの戻り状態を示す概略断面図である。

図 2 8 Aおよび図 2 8 Bは、第四実施形態におけるウェハの搬出工程を示す概略断面図である。

図 2 9は、第四実施形態の現像処理工程を示すフローチャートである。

図 3 0は、この発明における吸引■乾燥ノズルによる吸引■乾燥ェ禾呈を示す拡大断面図である。

図 3 1 Aは、上記吸引 .乾燥ノズルの概略斜視図である。

図 3 1 Bは、上記吸引■乾燥ノズルを備えた現像処理装置の一例を示す概略平面図である。

図 3 2 Aから図 3 2 Cは、その他の実施形態に従った現像処理方法を示すフロ一チャートである。

図 3 3は、この発明に係る現像処理装置の一例を示す概略平面図である。図 3 4は、上記現像処理装置の概略側面図である。

図 3 5 Aは、この発明における載置台の別の形態を示す概略平面図である。図 3 5 Bは、この発明における載置台の別の形態を示す概略側面図である。図 3 6は、この発明の現像処理方法の第五実施形態の現像処理を示す要部拡大断面図である。

図 3 7は、第五実施形態の現像ノズルを示す概略断面図である。

図 3 8 Aおよぴ図 3 8 Bは、第五実施形態の現像処理を示す概略斜視図である。図 3 9は、第五実施形態の現像ノズルの別の形態の現像処理を示す要部拡大断面図である。

図 4 0 Aは、第五実施形態の現像ノズルの別の形態の現像処理を示す要部拡大断面図である。

図 4 0 Bは、第五実施形態の現像ノズルの別の形態の現像処理を行う現像ノズルの斜視図である。

図 4 1は、この発明の現像処理方法の第六実施形態の現像処理を示す要部拡大断面図である。

図 4.2 Aは、この発明の現像処理方法の第七実施形態の現像処理を示す要部拡大断面図である。

図 4 2 Bは、この発明の現像処理方法の第七実施形態の現像処理を行う現像ノズルの斜視図である。

図 4 3は、この発明の現像処理方法の第八実施形態の現像処理を示す要部拡大断面図である。

図 4 4は、この発明の現像処理方法の第九実施形態の現像処理を示す要部拡大断面図である。

図 4 5は、この発明の現像処理方法の第十実施形態の現像処理を示す要部拡大断面図である。

図 4 6 Aから図 4 6 Dは、この発明の現像処理方法の第十一実施形態の一例と、洗浄及び乾燥処理を示す説明図である。 .

図 4 7 Aは、この発明における載置台及び液膜形成用平板の別の形態を示す概略平面図である。図 4 7 Bは、この発明における載置台及び液膜形成用平板の別の形態を示す概略側面図である。発明を実施するための最良の形態

発明の実施の形態，

以下に、この発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。この実施形態では、この発明に係る現像処理装置を半導体ウェハ（以下にウェハという）の現像処理に適用した場合について説明する。

◎第一実施形態

図 1は、この発明に係る現像処理装置の第一実施形態を示す概略平面図、図 2 は、第一実施形態の現像処理装置の概略側面図である。図 1から図 3 Bを参照して、上記現像処理装置は、被処理基板であるウェハ Wを載置し、図 3 Bに示すバキューム装置 Vによってウェハ Wを吸着保持する載置台であるステージ 1 0と、このステージ 1 0の上方に配設される液膜形成用の平板 2 0とを具備している。この場合、ステージ 1 0は回転機構を持たない固定式に形成されている。なお、ステージ 1 0には、吸引孔 1 0 aと、後述する支持ピン 1 1を貫挿す.る貫通孔 1 O bが設けられている。また、ステージ 1 0に載置されたウェハ Wと、平板 2 0 とは互いに平行に所定の隙間 3 0をあけて対向して配設されており、この隙間 3 0によって現像液の液膜形成領域が形成される。なお、隙間 3 0 (液膜形成領域）の寸法は現像液の種類や形成される液膜の膜厚等によって異なるが、例えば約 2 〜 5 mm程度に設定される。

また、ステージ 1 0には、図示しないウェハ搬送アームとの間でウェハ Wの受け渡しを行う 3本の支持ピン 1 1が昇降可能に設けられている。これら支持ピン 1 1は、ステージ 1 0に設けられた貫通孔（1 0 b )を摺動可能に貫揷しており、ステージ 1 0の下方に突出する下端部同士が支持部材 1 2に立設され、支持部材 1 2に連結する昇降手段例えば昇降シリンダ 1 3によって各支持ピン 1 1がステー 1 0の載置面に出没し得るように形成されている。また、液膜形成用の平板 2 0は、例えばポールねじにて構成される昇降機構 2 1.に連結されており、この昇降機構 2 1の駆動によってステージ 1 0に対して進退移動可能に形成されて、隙間 3 0の間隔が調整される。

また、現像処理装置は、少なくとも軸方向に沿う複数の小孔 4 1を有する管状の現像液供給用の現像ノズル 4 0を具備している。この現像ノズル 4 0は、ステージ 1 0を挟んで両側に配設された一対のガイドレール 5 0に移動自在に架設されると共に、移動■昇降機構 6 0 (移動■昇降手段）に連結されて、鉛直方向に昇降移動可能に形成されると共に、上記隙間 3 0 (液膜形成領域）の一側端から他側端に向かって移動（スキャン)すべく水平方向に移動可能に形成されている。この場合、現像ノズル 4 0は、図 4及び図 5に示すように、例えば外径約 1〜 4 mm_s 内径約 0 . 5〜3 . 5 mmの例えばステンレスやエポキシ榭脂製の管状部材にて形成されるノズル体 4 2の軸方向に沿って等間隔に穿設される複数の小孔 4 1を具備しており、ノズル体 4 2の中空部 4 2 aの両端部に供給管路 4 3を介して現像液供給源である現像液貯留タンク 4 4が接続されている。この供給管路 4 3の一部は、現像ノズル 4 0の移動範囲を許容できる長さのチューブにて形 '成されている。また、供給管路 4 3には現像液の流量調整可能な開閉手段例えばエアオペレーションバルブ 4 5と圧送手段例えばポンプ 4 6が介設されている。なお、小孔 4 1は、ノズノレ体 4 2の端部側から中心側に向かって小孔 4 1の開口面積が漸次増大されている。このように小孔 4 1の開口面積を、ノズル体 4 2の端部側から中心側に向かって漸次増大させることにより、両端側からノズノレ体 4 2の中空部 4 2 a内に供給される現像液を各小孔 4 1から均等に吐出（供給）することができる。なお、小孔 4 1の開口径や間隔は、ウェハ Wのサイズや現像液の種類等によって適宜設定される。

ここでは、複数の小孔 4 1を等間隔に設けて、小孔 4 1の開口面積を、ノズノレ体 4 2の端部側から中心側に向かって漸次増大させる場合について説明したが、各小孔 4 1の開口面積を同一にして、ノズル体 4 2の端部側から中心側に向かつて間隔を漸次小さくするようにしてもよい。また、小孔 4 1をノズル体 4 2の複数列、例えばノズル体 4 2の下端側と上端側の 2列に同様に設けてもよく、あるいは、任意の複数列に同様に設けてもよい。また、全周に多数の小孔を有する多孔質の管状部材にて現像ノズル 4 0を形成してもよい。

また、上記ガイドレール 5 0には、現像ノズル 4 0の他に、それぞれ現像ノズル 4 0と同様に管状に形成される、洗浄ノズル 7 0 (以下にリンスノズル 7 0という）と、乾燥ノズル 8 0が、昇降及ぴ摺動可能に装着されている。

この場合、リンスノズル 7 0は、図 6及び図 7に示すように、現像ノズル 4 0 と同様の長さ、内径及び外径を有する管状部材にて形成されるノズル体 7 1を具備し、ノズル体 7 1における少なくともウェハ W側及び平板 2 0側に開口する軸方向に沿う複数の供給孔 7 2が設けられている。ノズル体 7 1の中空部 7 1 aの両端部に供給管路 7 3を介して洗浄液であるリンス液例えば純水の供給源 7 4が接続されている。この供給管路 7 3の一部は、リンスノズル 7 0の移動範囲を許容できる長さのチューブにて形成されている。また、供給管路 7 3には開閉弁 7 5が介設されている。なお、供給孔 7 2は、現像ノズル 4 0と同様に、ノズル体 7 1の端部側から中心側に向かって供給孔 7 2の開口面積が漸次増大されている。このように供給孔 7 2の開口面積を、ノズル体 7 1の端部側から中心側に向かつて漸次増大させることにより、両端側からノズル体 7 1の中空部 7 1 a内に供給される純水を各供給孔 7 2から均等に吐出（供給）することができる。

一方、乾燥ノズル 8 0は、図 8及び図 9に示すように、現像ノズル 4 0及びリ

• ンスノズル 7 0と同様の長さ、内径及び外径を有する管状部材にて形成されるノズル体 8 1を具備し、リンスノズル 7 0と同様に、ノズル体 8 1における少なくともウェハ W側及び平板 2 0側に開口する軸方向に沿う複数の供給孔 8 2が設けられている。ノズル体 8 1の中空部 8 1 aの両端部に供給管路 8 3を介して乾燥用流体例えば空気の供給源 8 4が接続されている。この供給管路 8 3の一部は、乾燥ノズル 8 0の移動範囲を許容できる長さのチューブにて形成されている。また、供給管路 8 3には開閉弁 8 5が介設されている。なお、噴射孔 8 2は、現像ノズル 4 0及びリンスノズル 7 0と同様に、ノズル体 8 1の端部側から中心側に向かって噴射孔 8 2の開口面積が漸次増大される方が望ましい。その理由は、両端側からノズル体 8 1の中空部 8 1 a内に供給される空気を各噴射孔 8 2から均等に噴射（供給）することができるからである。

上記リンスノズル 7 0及び乾燥ノズル 8◦も、現像ノズル 4 0と同様に、上記移動 ·昇降機構 6 0に連結されて、鉛直方向に昇降移動可能に形成されると共に、上記隙間 3 0の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）すべく水平方向に移動可能に形成されている。なお、上記ノズノレ 4 0， 7 0， 8 0の待機位置（ホームポジション）には、ノズル洗浄バス 1 0 0が配設されている。

次に、第一実施形態の現像処理方法について、図 1，図 2，図 6及び図 8と図 1 0のフローチャートを参照して説明する。

まず、図示しないウェハ搬送アームがウェハ Wを保持して現像処理装置内に進入すると、支持ピン 1 1が上昇してウェハ Wを受け取る。ウェハ Wを受け渡したウェハ搬送アームは現像処理装置内から後退する。ウェハ Wを受け取った支持ピン 1 1が下降してウ^ハ Wがステージ 1 0に载置されると、バキューム装置 Vの駆動によってウェハ Wが吸着保持される。その後、昇降機構 2 1によって液膜形成用の平板 2 0を鉛直方向に移動（昇降）して、ステージ 1 0に载置されるゥェハ Wの表面に形成（液盛り）される現像液の液膜の膜厚に対応した間隔となるように調節して隙間 3 0 (液膜形成領域）を設定する。

ウェハ Wがステージ 1 0上に載置されて固定された状態で、図 4に示すように、現像ノズル 4 0を、隙間 3 0 (液膜形成領域）の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）しつつ小孔 4 1から隙間 3 0 (液膜形成領域）内に現像液 Dを吐出（供給）すると、現像液 Dが隙間 3 0 (液膜形成領域）内に充満されてウェハ： Wの表面に現像液 Dの液膜が形成される（現像工程)。 .この際、現像ノズル 4 0の移動速度を、例えば 5 0〜1 5 O mm/ s e cとし、現像液の吐出量（供給量）を、例えば 5〜 5 O m 1 / s e cとする。

これにより、現像中の現像液 Dの動きを現像開始から終了まで、極めて静的に保って隙間 3 0 (液膜形成領域）内に現像液 Dを充満させた状態でウェハ Wの表面に現像液 Dの液膜を形成することができる。したがって、レジスト Rの疎水度に影響を受けずに現像液 Dの液膜を均一に形成することができる。また、狭い隙間 3 0 (液膜形成領域）の分の現像液で済むため、現像液の消費量を低減することができる。

図 6に示すように、現像ノズル 4 0が隙間 3 0内を移動（スキャン）してから所定時間をおいて、リンスノズノレ 7 0が隙間 3 0の一側端から他側端 (こ向かって移動（スキャン）しつつ供給孔 7 2からウェハ W側及び平板 2 0側に向かって純水 D I Wを吐出（供給）して、現像液とレジストの溶解反応を停止すると共に、ウェハ W及び平板 2 0に付着する処理済みの現像液 Dを純水に置換して洗浄する (洗浄工程)。この洗浄工程において、リンスノズル 7 0を往復移動しつつ供給孔 7 2から純水を吐出（供給）してもよい。このように、リンスノズル 7 0を往復移動しつつ洗浄処理を行うことにより、純水 D I Wの使用量を少なくでき、更に洗浄効率の向上が図れる。また、ここでは、図示しないが、後述するように、洗浄工程において、ステージ 1 0の外側及び下部側を包囲するカップ（図示せず）を上昇させて天板 2 0に当接させて隙間 3 0を'外部と遮断した状態、で、カップの下部の排出口から排気しながらリンスノズル 7 0を移動（スキャン). させて、洗浄を行うようにする方が好ましい。また、現像液の置換に応じて隙間 3 0の距離を変えてもよい。

次に、リンスノズル 7 0が隙間 3 0内を移動（スキャン）した後、図 8に示すように、乾燥ノズル 8 0が隙間 3 0の一側端から他側端に向かって移動（スキヤン）しつつ噴射孔 8 2からウェハ W側及び平板 2 0側に向かって乾燥用の空気 A を噴射（供給）して、ウェハ W及び平板 2 0に付着する処理済みの現像液 D及び純水 D I Wを吹き飛ばして乾燥する（乾燥工程)。このように空間が規制された隙間 3 0に空気 Aを流すので、効率的な乾燥ができる。この乾燥工程において、乾燥ノズル 8 0を往復移動しつつ噴射孔 8 2から空気 A r噴射 (供給）してもよい。このように、乾燥ノズル 8 0を往復移動しつつ乾燥処理を行うことにより、.更に乾燥効率の向上が図れる。また、後述するように、乾燥工程において、ステージ 1 0の外側及び下部側を包囲するカップ（図示せず）を上昇させて天板 2 0に当接させて隙間 3 0を外部と遮断した状態で、カップの下部の排出口から排気しながら乾燥ノズル 8 0を移動（スキャン）させて、乾燥を行うようにする方が、ミストの飛散防止が図れる点で好ましい。また、現像液の置換に応じて隙間 3 0の距離を変えてもよい。

以上のようにして、ウェハ Wの現像、洗浄（リンス）及ぴ乾燥を行った後、現像ノズル 4 0、リンスノズル 7 0及び乾燥ノズル 8 0はホームポジションに戻つて、次の処理まで待機する。その後、ステージ 1 0の吸着状態を解除レ、支持ピン 1 1を上昇させて、隙間 3 0內に進入するウェハ搬送アーム（図示せず）にゥェハ Wを受け渡してウェハ Wを搬出する。以下、上記と同様の操作を繰り返してウェハ wの現像、洗浄（リンス）及び乾燥を行う。

第一実施形態の処理方法によれば、ウェハ Wを回転させずに、隙間 3 0内の一側端から他側端に向かって現像ノズノレ 4 0を移動（スキャン）しつつ小孔 4 1から現像液を吐出（供給）して現像液 Dの液膜を形成し、次いで、隙間 3 0内に同様にリンスノズル 7 0を移動（スキャン）しつつ供給孔 7 2から純水を吐出（供給）して現像の停止及び洗浄を行った後、隙間 3 0内に同様に乾燥ノズノレ 8 0を移動（スキャン）しつつ噴射孔 8 2からウェハ W及び平板 2 0側に向かって乾燥流体である空気を噴射（供給）して乾燥を行うことができる。したがって、必要最小限の薄い隙間 3 0の分の現像液、純水及び空気の供給で済むため、現像液の消費量の低減が図れると共に、純水及び空気の消費量の低減が図れ、かつ、現像液の液膜を均一に形成することができると共に、線幅等のパターン寸法の均一性の向上を図ることができ、洗浄効率及ぴ乾燥効率の向上を図ることができる。

◎第二実施形態

図 1 1は、この発明に係る現像処理装置の第二実施形態を示す概略平面図、図 1 2は、第二実施形態の現像処理装置の概略側面図である。

第二実施形態は、第一実施形態の現像処理に現像液及び ¾浄液の吸引工程を更 . に付加して、更に乾燥効率の向上を図れるようにした捧合である。すなわち、現像処理装置は、第一実施形態と同様に、現像ノズル 4 0、リンスノズル 7 0及び乾燥ノズル 8 0を具備する他に、吸引ノス 'ノレ 9 0を具備している。

吸引ノズル 9 0は、図 1 3及び図 1 4に示すように、現像ノズル 4 0、リンスノズル 7 0及ぴ乾燥ノズル 8 0.と同様の長さ、内径及ぴ外径を有する管状部材にて形成されるノズル体 9 1を具備し、ノズル体 9 1における移動（スキャン）方向側に開口する軸方向に沿うスリット状の吸引孔 9 2が設けられている。ノズノレ体 9 1の中空部 9 1 aの両端部に吸引管路 9 3を介して吸引手段例えば真空ボンプ装置 9 4が接続されている。この吸引管路 9 3の一部は、吸引ノズノレ 9 0の移動範囲を許容できる長さのチューブにて形成されている。また、吸引管路 9 3には開閉弁 9 5が介設されている。

上記吸引ノズル 9 0も、現像ノズル 4 0、リンスノズル 7 0及ぴ乾燥ノズル 8 0と同様に、上記移動 '昇降機構 6 0に連結されて、鉛直方向に昇降移動可能に形成されると共に、上記隙間 3 0の一側端から他側端に向かって移動

すべく水平方向に移動可能に形成されている。

なお、第二実施形態において、その他の部分は第一実施形態と同じであるので、同一部分には同一符号を付して説明は省略する。

次に、第二実施形態の現像処理方法について、図 4，図 6，図 8及び図 1 3と図 1 5のフローチャートを参照して説明する。

第一実施形態と同様に、ウェハ Wをステージ 1 0に載置し、ウェハ Wと液膜形成用平板 2 0とで隙間 3 0 (液膜形成領域）を設定する。この状態で、図 4に示すように、現像ノズル 4 0を、隙間 3 0の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）しつつ小孔 4 1から隙間 3 0内に現像液 Dを吐出してウェハ Wの表面に現像液 Dの液膜を形成する（現像工程)。次いで、リンスノズル 7 0を隙間 3 0の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）しつつ供給孔 7 2から純水 D I W を吐出（供給）して、現像液とレジストの溶解反応を停止すると共に、ウェハ W 友び平板 2 0に付着する処理済みの現像液 Dを純水に置換して洗浄する（洗浄ェ程)。

次に、リンスノズル 7 0が隙間 3 0 ^1を移動（スキャン）してから所定時間が経過した後、図 1 3に示すように、吸引ノズル 9 0が隙間 3 0の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）しつつ真空ポンプ装置 9 4の駆動により吸引ノズル 9 0のノズル体 9 1の中空部 9 1 a内が例えば 7 0 0 ~ 4 0 0 T o r rの負圧状態となり、吸引孔 9 2から処理に供された現像液 D及び純水 D I Wが吸引される（吸引工程)。この吸引工程においても、ステージ 1 0の外側及び下部側を包囲するカップ（図示せず）を上昇させて天板 2 0に当接させて隙間 3 0を外部と遮断した状態で、力ップの下部の排出口から排気しながら吸引ノズル 9 0.を移動（スキャン）させて、現像液 D及び純水 D I Wの吸引を行うようにする方が好ましい。吸引ノズル 9 0が移動（スキャン）して現像液 D及び純水 D I Wの吸引が行われた後、図 8に示すように、乾燥ノズル 8 0が隙間 3 0の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）しつつ噴射孔 8 2からウェハ W側及び平板 2 0側に向かつて乾燥用の空気 Aを噴射（供給）して、ウェハ W及び平板 2 0に付着する処理済みの現像液 D及び純水 D I Wを吹き飛ばして乾燥する（乾燥工程)。この乾燥ェ程において、乾燥ノズノレ 8 0を往復移動しつつ噴射孔 8 2から空気 Aを噴射（供給）してもよい。このように、乾燥ノズル 8 0を往復移動しつつ乾燥処理を行うことにより、更に乾燥効率の向上が図れる。また、乾燥工程においても、後述するように、ステージ 1 0の外側及び下部側を包囲するカップ（図示せず）を上昇させて天板 2 0に当接させて隙間 3 0を外部と遮断した状態で、カップの下部の排出口から排気しながら乾燥ノズル 8 0を移動（スキャン）させて、乾燥を行うようにする方が、ミストの飛散防止が図れる点で好ましい。

以上のようにして、ウェハ Wの現像、洗诤（リンス）、吸引及び乾燥を行った後、現像ノズル 4 0、リンスノズル 7 0、吸引ノズル 9 0及び乾燥ノズル 8 0はホームポジションに戻って、次の処理まで待機する。その後、ステージ 1 0の吸着状態を解除し、支持ピン 1 1を上昇させて、隙間 3 0内に進入するウェハ搬送ァーム（図示せず）にウェハ Wを受け渡してウェハ Wを搬出する。以下、上記と同様の操作を繰り返してウェハ Wの現像、洗浄（リンス）、吸引及び乾燥を行う。第二実施形態の処理方法によれば、ウェハ Wを回転させずに、隙間 3 0内の一側端から他側端に向かって現像ノズル 4 0を移動（スキャン）しつつ小孔 4 1から現像液を吐出（供給）して現像液 Dの液膜を形成し、次いで、隙間 3 0内に同様にリンスノズル 7 0を移動（スキャン）しつつ供給 ¾ 7 2から純水を吐出（供給）して現像の停止及び洗浄を行い、次いで、隙間 3 0内に同様に吸引ノズノレ 9 0を移動（スキャン）しつつ吸引孔 9 2から処理済みの現像液及ぴ純水を吸引した後、隙間 3 0内に同様に乾燥ノズル 8 0を移動（スキャン）しつつ噴射孔 8 2 からウェハ W及び平板 2 0側に向かって乾燥流体である空気を噴射（供給）して乾燥を行うことができる。したがって、第一実施形態の処理方法に比べて更に乾燥効率の向上を図ることができる。

◎第三実施形態

図 1 6は、この発明に係る現像処理装置の第三実施形態を示す概略平面図、図 1 7は、第三実施形態の現像処理装置の概略側面図である。

第三実施形態は、第一実施形態の現像処理現像液の吸引工程（第一の吸引ェ程）と洗浄液の吸引工程（第二の吸引工程）を更に付加して、更に乾燥効率の向上を図れるようにした場合である。すなわち、現像処理装置は、第一実施形態と同様に、現像ノズル 4 0、リンスノズル 7 0及び乾燥ノズル 8 0を具備する他に、第一の吸引ノズル 9 6と第二の吸引ノズル 9 7を具備している。

第一及び第二の吸引ノズル 9 6， 9 7は、吸引ノズル 9 0と同様の構造を有している。すなわち、図 1 3及び図 1 4に示すように、現像ノズル 4 0、リンスノズル 7 0及び乾燥ノズル 8 0と同様の長さ、内径及ぴ外径を有する管状部材にて形成されるノズル体 9 1を具備し、ノズル体 9 1における移動（スキャン）方向側に開口する軸方向に沿うスリット状の吸引孔 9 2が設けられている。ノズル体 9 1の中空部 9 1 aの両端部に吸引管路 9 3を介して吸引手段例えば真空ポンプ装置 9 4が接続されている。この吸引管路 9 3の一部は、第一及び第二の吸引ノズル 9 6 , 9 7の移動範囲を許容できる長さのチューブにて形成されている。また、吸引管路 9 3には開閉弁 9 5が介設されている。

上記第一及び第二の吸引ノズノレ 9 6， 9 7も、現像ノズル 4 0、リンスノズル 7 0、乾燥ノズル 8 0及び吸引ノズル 9 0と同様に、上記移動■昇降機構 6 0に連結されて、鉛直方向に昇降移動可能に形成されると共に、上記隙間 3 0の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）すべく水平方向に移動可能に形成されている。

なお、第三実施形態において、その他の部分は第一、第二実施形態と同じであるので、同一部分には同一符号を付して説明は省略する。

次に、第三実施形態の現像処理方法について、図 4 , 図 6，図 8及び図 1 3と図 1 8のフローチャートを参照して説明する。

第一実施形態と同様に、ウェハ Wをステージ 1 0に載置し、ウェハ Wと液膜形成用平板 2 0とで隙間 3 0 (液膜形成領域）を設定する。この状態で、図 4に示すように、現像ノズル 4 0を、隙間 3 0の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）しつつ小孔 4 1から隙間 3 0内に現像液 Dを吐出してウェハ Wの表面に現像液 Dの液膜を形成する（現像工程)。 '

現像ノズル 4 0が隙間 3 0内を移動（スキャン）してから所定時間をおいて、第一の吸引ノズル 9 6が隙間 3 0内を移動（スキャン）しつつ真空ポンプ装置 9 4の駆動により第一の吸引ノズル 9 6のノズル体 9 1の中空部 9 1 a内が負圧状態となり、吸引孔 9 2から現像液 Dを吸引する（第一の吸引工程)。第一の吸引ノズル 9 6が隙間 3 0内を移動（スキャン）してから所定時間をおいて、図 6に示すように、リンスノズル 7 0が隙間 3 0の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）しつつ供給孔 7 2からウェハ W側及び平板 2 0側に向かつて純水 D I Wを吐出（供給）して、ウェハ W及ぴ平板 2 0に付着する処理済みの現像液 Dを純水に置換して洗浄する（洗浄工程)。この洗浄工程において、純水 D I Wの ¾用量の低減と洗浄効率の向上を図るためにリンスノズル 7◦を往復移動しつつ供給孔 7 2から純水を吐出（供給）してもよい。また、ここでは、図示しないが、後述するように、洗浄工程において、ステージ 1 0の外側及び下部側を包囲するカップ（図示せず）を上昇させて天板 2 0に当接させて隙間 3 0を外部と遮断した状態で、カップの下部の排出口から排気しながらリンスノズノレ 7 0 を移動（スキャン）させて、洗浄を行うようにする方が好ましい。

次に、リンスノズル 7 0が隙間 3 0内を移動（スキャン）した後、第二の吸引ノズル 9 7が隙間 3 0の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）しつつ真空ポンプ装置 9 4の駆動により吸引ノズル 9 0のノズル体 9 1の中空部 9 1 a内が負圧状態となり、吸引孔 9 2から処理に供された純水 D I W {具体的には、現像液 Dと純水 D I Wの混合液が吸引される（第二の吸引工程)。この第二の吸引工程においても、ステージ 1 0の外側及び下部側を包囲するカップ（図示せず）を上昇させて天板 2 0に当接させて隙間 3 0を外部と遮断した状態で、カップの下部の排出口から排気しながら吸引ノズル 9 0を移動（スキャン）させて、現像液 D及び純水 D I Wの吸引を行うようにする方が好ましい。

第二の吸引ノズル 9 7が移動（スキャン）して純水 D I Wの吸引が行われた後、図 8に示すように、乾燥ノズル 8 0が隙間 3 0の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）しつつ噴射孔 8 2からウェハ W側及び平板 2 0側に向かって乾燥用の空気 Aを噴射（供給）して、ウェハ W及び平板 2 0に付着する処理済みの現 ί象液 D及び純水 D I Wを吹き飛ばして乾燥する（乾燥工程)。この乾燥工程において、乾燥ノズル 8 0を往復移動しつつ噴射孔 8 2から空気 Αを噴射（供給）してもよい。このように、乾燥ノズル 8 0を往復移動しつつ乾燥処理を行うことにより、更に乾燥効率の向上が図れる。また、乾燥工程においても、後述するように、ステージ 1 0の外側及び下部側を包囲するカップ（図示せず）を上昇させて天板 2 0に当接させて隙間 3 0を外部と遮断した状態で、カップの下部の排出口から排気しながら乾燥ノズル 8 0を移動（スキャン）させて、乾燥を行うようにする方が、ミストの飛散防止が図れる点で好ましい。

以上のようにして、ウェハ Wの現像、現像液の吸引、洗浄（リンス）、洗浄液の吸引及び乾燥を行った後、現像ノズル 4 0、リンスノズル 7 0.、第一及び第二の吸引ノズ^ / 9 6， 9 7及ぴ乾燥ノズル 8 0はホームポジションに戻って、次の処理まで待機する。その後、ステージ 1 0の吸着状態を解除し、支持ピン 1 1を上昇させて、隙間 3 0内に進入するウェハ搬送アーム（図示せず）にウェハ Wを受け渡してウェハ Wを搬出する。以下、上記と同様の操作を操り返してウェハ Wの現像、洗浄（リンス）、吸引及び乾燥を行う。

第三実施形態の処理方法によれば、ウェハ Wを回転させずに、隙間 3 0内の一側端から他側端に向かって現像ノズル 4 0を移動（スキャン）しつつ小孔 4 1から現像液を吐出（供給）して現像液 Dの液膜を形成し、次いで、隙間 3 0内に第一の吸引ノズル 9 6を移動（スキャン）しつつ現像液を吸引した後、隙間 3 0内に同様にリンスノズル 7 0を移動（スキャン）しつつ供給孔 7 2から純水を吐出 (供給）して洗浄を行い、次いで、隙間 3 0内に第二の吸引ノズル 9 7を移動 (スキャン）しつつ洗浄液を吸引した後、隙間 3 0内に同镌に乾燥ノズル 8 0を移動 (スキャン）しつつ噴射孔 8 2からウェハ W及び平板 2 0側に向かって乾燥流体である空気を噴射（供給）して乾燥を行うことができる。したがって、第一、第二実施形態の処理方法に比べて更に乾燥効率の向上を図ることができると共に、乾燥効率の向上を図ることができる。

◎第四実施形態

図 1 9は、この発明に係る現像処理装置の第四実施形態を示す概略平面図、図 2 0は、第四実施形態の現像処理装置の概略側面図である。

.第四実施形態の現像処理装置は、第一ないし第三実施形態と同様に、ウェハ W を載置し、バキューム装置 V (図 3 B ) によってウェハ Wを吸着保持するステージ 1 0と、このステージ 1 0の上方に配設されて、ウェハ Wとの間に隙間 3 0 (液膜形成領域）を形成するステージ 1 0より大面積の平板 2 0とを具備し、更にステージ 1 0の外側及び下部を包囲すると共に、平板 2 0に接離する昇降可能なシャッタ部であるカップ 2 0 0を具備している。この場合、カップ 2 0 0は、カツプ昇降手段 3 0 0によって鉛直方向に昇降され、上昇状態において平板 2 0の下面に当接して、隙間 3 0を外部から遮断するシャツタのように構成されている。また、カップ 2 0 0の下部にか排出口 2 0 1が設けられており、この排出口 2 0 1に、図示しない気液分離装置を介して排気装置（図示せず）が接続されている。また、第四実施形態の現像処理装置は、少なくとも軸方向に沿う複数の小孔 4 1を有する管状の現像液供給用の現像ノズル 4 0と、洗浄と乾燥を兼用する洗浄 '乾燥ノズル 4 0 0とを具備している。なお、吸引ノズル 9 0を更に具備してあよい。

現像ノズル 4 0は、第一実施形態で説明した構造と同じであるので、ここでは説明は省略する。現像ノズル 4 0は、ステージ 1 0及びカップ 2 0 0を挟んで両側に配設された一対のガイドレール 5 0 aに移動自在に架設されると共に、移動■昇降機構 6 O Aに連結されて、鉛直方向に昇降移動可能に形成されると共に、上記隙間 3 0 (液膜形成領域）の一側端から他側端に向かって移動 (スキャン）すべく水平方向に移動可能に形成されている。

洗浄■乾燥ノズル 4 Q 0は、図 2 1に示すように、現像ノズル 4 0と同様の長 'さ、内径及び外径を有する管状部材にて形成されるノズル体 4 0 1を具備し、ノズル体 4 0 1における少なくともウェハ W側及び平板 2 0側に開口する軸方向に沿う複数の小孔 4 0 2が設けられている。なお、小孔 4 0 2は、現像ノズル 4 0 と同様に、ノズル体 4 0 1の端部側から中心側に向かって小孔 4 0 2の開口面積が漸次増大されている。このように小孔 4 0 2の開口面積を、ノズノレ体 4 0 1の端部側から中心側に向かって漸次増大させることにより、両端側からノズル体 4 0 1の中空部 4 0 1 a内に供給される純水又は空気を各小孔 4 0 2から均等に吐出（供給）することができる。 '

ノズル体 4 0 1の中空部 4 0 1 aの両端部には主供給管路 4 0 3が接続されており、主供給管路 4 0 3は、切換手段である 3ポート 3位置切換弁 5 0 0 (以下に切換弁 5 0 0という）の二次側（下流側）の第 1ポート 5 0 0 aに揆続されている。また、切換弁 5 0 0の一次側（上流側）の第 2ポート 5 0 0 bには洗浄液供給管路 4 0 4を介して洗浄液であるリンス液例えば純水の供給源 7 4が接続されており、切換弁 5 0 0の一次側（上流側）の第 3ポート 5 0 0 cには乾燥流体供給管路 4 0 5を介して乾燥用流体である空気の供給源 8 4が接続されている。このように構成することにより、切換弁 5 0 0の切換操作によって洗浄 ·乾燥ノズル 4 0 0のノズル体 4 0 1に洗浄（リンス）用の純水又は乾燥用の空気が選択的に供給することができる。なお、主供給管路 4 0 3の一部は、洗浄■乾燥ノズル 4 0 0の移動範囲を許容できる長さのチューブにて形成されている。

上記洗浄 '乾燥ノズル 4 0 0は、カップ 2 0'0内に位置し、ステージ 1 0を挟んで両側に配設された一対のガイドレール 5 0 bに移動自在に架設されると共に、移動手段と昇降手段を兼用する移動 ·昇降機構 6 0 Bに連結されて、鉛直方向に昇降移動可能に形成されると共に、上記隙間 3 0 (液膜形成領域）の一側端から他側端に向かって移動（スキャン)すべく水平方向に移動可能に形成されている。なお、吸引ノズル 9 0は、ステージ 1 0及び力ップ 2 0 0を挟んで両側に配設された一対のガイドレール 5 0 cに移動自在に架設されると共に、移動■昇降機構 6 0 Cに連結されて、鉛直方向に昇降移動可能に形成されると共に、上記隙間 3 0 (液膜形成領域）の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）すべく水平方向に移動可能.に形成されている。

なお、第四実施形態において、その他の部分は第一実 ^形態と同じであるので、同一部分には同一符号を付して説明は省略する。

次に、第四実施形態の現像処理方法の一例ついて、図 1 9〜図 2 8 Bと図 2 9のフローチャートを参照して説明する。

まず、図示しないウェハ搬送アームがウェハ Wを保持して現像処理装置内に進入すると、支持ピン 1 1が上昇してウェハ Wを受け取る（図 2 2 A参照)。ウェハ Wを受け渡したウェハ搬送アームは現像処理装置内から後退する。ウェハ Wを受け取った支持ピン 1 1が下降してウェハ Wがステージ 1 0に載置されると、バキユーム装置 V (図 3 B ) の駆動によってウェハ Wが吸着保持される。その後、昇降機構（図示せず）によって液膜形成用平板 2 0を鉛直方向に移動（昇降）して、ステージ 1 0に载置されるウェハ Wの表面に形成（液盛り）される現像液の液膜の膜厚に対応した間隔となるように調節して隙間 3 0 (液膜形成領域）を設定する（図 2 2 B参照）（ウェハ搬入工程)。ウェハ Wがステージ 1 0上に載置されて固定された状態で、図 2 3 A、図 2 3 Bに示すように、現像ノズ 0を上昇させた後、隙間 3 0 (液膜形成領域）の —側端から他側端に向かって移動（スキャン）しつつ小孔 4 1から隙間 3 0 (液膜形成領域）内に現像液 Dを吐出（供給）すると、現像液 Dが隙間 3 0 (液膜形成領域）内に充満されてウェハ Wの表面に現像液 Dの液膜が形成される {現像ェ程 }。これにより、現像中の現像液 Dの動きを現像開始から終了まで、極めて静的に保って隙間 3 0 (液膜形成領域）内に現像液 Dを充満させた状態でウェハ Wの' 表面に現像液 Dの液膜を形成することができるので、レジスト Rの疎水度に影響を受けずに現像液 Dの液膜を均一に形成することができる。また、薄い隙間 3 0 (液膜形成領域）の分の現像液で済むため、現像液の消費量を低減することがでさる。

現像ノズル 4 0が隙間 3 0内を移動（スキャン）して隙間 3 0内に現像液 Dを充満させて液膜を形成した後、カップ昇降手段 3 0 0の駆動によりカップ 2 0 0 が平板 2 0の下面に当接されて隙間 3◦を外部と遮断して、処理空間 6 0 0を形成する。この状態で、切換弁 5 0 0の切換操作によって純水供給源 7 4側に切り換えて、図 2 4に示すように、洗浄' .乾燥ノズル 4 0 0が隙間 3 0の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）しつつ小孔 4 0 2からウェハ W側及ぴ平板 2 0側に向かって純水 D I Wを吐出（供給）して、現像を停止すると共に、ウェハ W及び平板 2 0に付着する処理済みの現像液 Dを純水に置換して洗浄する {洗浄工程 }。この際、排気装置（図示せず）の駆動によって処理空間 6 0◦内を排気する。この洗浄工程において、洗浄 '乾燥ノズル 4 0 0を往復移動しつつ小孔 4 0 2から純水を吐出（供給）してもよい。このように、洗浄'乾燥ノズル 4 0 0を往復移動しつつ洗浄処理を行うことにより、純水 D I Wの使用量の低減が図れ、更に洗浄効率の向上が図れる。 ■

次に、洗浄'乾燥ノズル 4 0 0が隙間 3 0内を移動（スキャン）して洗浄を行つた後、切換弁 5 0 0の切換操作によって空気供給源 8 4側に切り換えて、図 2 5に示すように、洗浄 ·乾燥ノズル 4 0 0が隙間 3 0の一側端から他側端に向かつて移動（スキャン）しつつ小孔 4 0 2からウェハ W側及び平板 2 0側に向かつて空気 Αを噴射（供給）して、ウェハ W及び平板 2 0に付着する処理済みの現像液及び純水を吹き飛ばして乾燥する {乾燥工程 }。この乾燥工程においても、排気装置（図示せず）の駆動によって処理空間 6 0 0内が排気される。また、乾燥ェ程において、洗浄■乾燥ノズル 4 0 0を往復移動しつつ小孔 4 0 2から空気を噴射（供給）してもよい。このように、洗浄'乾燥ノズル 4 0 0を往復移動しつつ乾燥処理を行うことにより、更に乾燥効率の向上が図れる。

乾燥処理を行った後、排気装置（図示せず）の駆動が停止し、排気が停止される（図 2 6参照）。これと同時に、カップ昇降手段 3 0 0が駆動しカップ 2 0 0 が下降する。

次に、現像ノズル 4 0及び洗浄'乾燥ノズル 4 0 0がホームポジションに戻り、次の処理まで待機する（図 2 7参照)。

その後、図 2 8 A、図 2 8 Bに示すように、ステージ 1 0の吸着状態を解除し、支持ピン 1 1を上昇させて、隙間 3 0内に進入するウェハ搬送アーム（図示せず）にウェハ Wを受け渡してウェハ Wを搬出する {ウェハ搬出工程 }。

以下、上記と同様の操作を繰り返してウェハ Wの現像、洗浄（リンス）及び乾燥を行う。

第四実施形態の処理方法によれば、ウェハ Wを回転させずに、隙間 3 0内の一側端から他側端に向かって現像ノズル 4 0を移動（スキャン）しつつ小孔 4 1から現像液を吐出（供給）して現像液 Dの液膜を形成した後、カップ 2 0 0を上昇させて隙間 3 0を外部から遮断し、排出口 2 0 1から排気した状態で、隙間 3 0 内に同様に洗浄 '乾燥ノズル 4 0 0を移動（スキャン）しつつ小孔 4 0 2から純水を吐出（供給）して洗浄を行い、次いで、隙間 3 0内に同様に洗浄，乾燥ノズル 4 0 0を移動（スキャン）しつつ小孔 4 0 2からウェハ W及ぴ平板 2 0側に向かって乾燥流体である空気を噴射（供給) して乾燥を行うことができる。したがつて、第一〜第三実施形態の処理方法と同様に、必要最小限の狭い隙間 3 0の分の現像液、純水及び空気の供給で済むため、現像液、純水及ぴ空気の'消費量を低減することができる。また、現像液の液膜を均一に形成することができると共に、線幅等のパターン寸法の均一性の向上を図ることができる上、現像処理後の被処理基板の洗浄及び乾燥を均一に行うことができる。また、洗浄処理又は乾燥処理中に飛散された洗浄液やミスト等の飛散物が被処理基板に付着するのを防止することができる。更には、洗浄と乾燥を共通の洗浄'乾燥ノズル 4 0 0によって行うことができるので、構成部材の削減が図れると共に、更に装置の小型化が図れる。

なお、上記説明では、現像工程の後に洗浄工程と乾燥工程を行う場合について説明したが、吸引ノズル 9 0を用いて、洗浄工程の後、隙間 3 0内に同様に吸引ノズノレ 9 0を移動（スキャン）しつつ吸引孔から処理に供された現像液及び純水を吸引し、その後に乾燥工程を行うようにしてよい。また、別の.処理方法として、現像工程の後、隙間 3 0内に同様に吸引ノズル 9 0を移動（スキャン）しつつ吸引孔から処理に供された現像液を吸引し、その後、洗浄工程を行った後、再ぴ隙間 3 0内に同様に吸引ノズル 9 0を移動（スキャン）しつつ吸引孔から洗浄液を吸引し、その後に乾燥工程を行うようにしてもよい。このように、吸引工程を加えることによって更に洗浄効率及び乾燥効率の向上を図ることができる。 ◎その他の実施形態

( 1 ) 上記実施形態では、ステージ 1 0と平板 2 0とで形成された液膜形成用の隙間 3 0内に、現像ノズル 4 0を移動（スキャン）しつつ現像液を吐出（供給）して液膜を形成する場合について説明したが、別の方法でウェハ W表面に現像液の液膜を形成した後、上述した洗浄工程、乾燥工程あるいは洗浄工程、吸引工程、乾燥工程を行うようにしてもよい。具体的には以下の工程を採用することができる。

図 3 2 Aから図 3 2 Cはその他の実施形態に従った現像処理方法を示すフローチャートである。図 ·3 2 Aを参照して、現像処理方法は、被処理基板としてのゥェハ Wの表面に現像液 Dを供給して、ウェハ W表面に現像液 Dの液膜を形成する現像工程（ステップ S 2 0 0 1 ) と、現像液 Dの液膜が形成されたウェハ Wと平板 2 0とを互いに平行に対向させて隙間 3 0を形成し、この隙間 3 0の一側端から ί 側端に向かって洗浄ノズル 7 0を移動しつつ隙間 3 0内に洗浄液としての純水 D I Wを供給する洗浄工程（ステップ S 2 0 0 2 ) と、隙間 3 0の一側端から他側端に向かって乾燥ノズル 8 0を移動しつつ隙間 3 0内に乾燥用流体としの空気 Αを噴射してウェハ Wに付着する処理に供された現像液 Dおよび純水 D I W を除去する乾燥工程（ステップ S 2 0 0 3 ) とを有していてもよい。図 32 Bを参照して、現像処理方法は、ウェハ Wの表面に現像液 Dを供給して、ウェハ W表面に現像液の液膜を形成する現像工程（ステップ S 2011) と、現像液 Dの?夜膜が形成されたウェハ Wと平板 20とを互いに平行に対向させて隙間 30を形成し、この隙間 30の一側端から他側端に向かって洗浄ノズル 70を移動しつつ隙間 30内に純水 D IWを供給する洗浄工程（ステップ S 2012)と、隙間 30の一側端から他側端に向かって吸引ノズル 90を移動しつつ処理に供された現像液 Dおよび純水 D IWを吸引する吸引工程（ステップ S 2013) と、隙間 30の一側端から他側端に向かって乾燥ノズル 80を移動しつつ隙間 30内に空気 Aを噴射してウェハ Wに付着する処理に供された現像液 Dおよび純水 D I Wを除去する乾燥工程（ステップ S 2014) とを有していてもよい。

また、図 32 Cを参照して、現像処理方法は、ウェハ Wの表面に現像液 Dを供給して、ウェハ W表面に現像液 Dの液膜を形成する現像工程（ステップ S 202 1) と、現像液 Dの液膜が形成されたウェハ Wと平板 20とを互いに平行に対向させて隙間（30) を形成し、この隙間 30の一側端から他側端に向かって洗浄ノズル 70を移動しつつ隙間 30内に純水 D I Wを供給する洗浄工程（ステップ S 2022) と、隙間 30の一側端から他側端向かって吸引 '乾燥ノズル 70 0を移動しつつ処理に供された現像液 Dおよび純水 D I Wを吸引するとともに、周囲の空気を吸引してウェハ Wに付着した現像液 Dおよび純水 D I Wを除去する吸引 '乾燥工程（ステップ S 2023) とを有していてもよい。

(2) 上記実施形態では、乾燥用流体に空気を使用する場合について説明した

1 乾燥用流体は必ずしも空気である必要はなく、空気以外の乾燥気体例えば窒素（N2) ガスあるいは揮発性液体例えば I PA (イソプロピルアルコール）等 , を用いてもよい。

(3) 上記実施形態では、乾燥工程において、乾燥ノズル 80 (洗浄'乾燥ノズル 400) 力ら乾燥用流体を噴射して乾燥を行う場合について説明したが、後述するように、吸引ノズルに乾燥機能を持たせた吸引■乾燥ノズル 700を用いて吸引工程と乾燥工程とを同時に行うことも可能である。

すなわち、現像工程と洗浄工程を行った後、隙間 30の一側端から他側端に向かって吸引■乾燥ノズル 700を移動しつつ処理に供された現像液 D及び純水 D I wを吸引すると共に、周囲の空気を吸引して乾燥を行うことができる。

この場合、吸引 '乾燥ノズル 7 0 0は、図 3 0及び図 3 1 Aに示すように、断面略楕円形状の棒状部材にて形成されると共に、互いに平行な軸方向に延びる第 1及び第 2の中空部 7 0 1， 7 0 3を具備している。また、第 1の中空部 7 0 1 に、軸方向に沿うスリット状の液吸引孔 7 0 2が連通され、第 2の中空部 7 0 3 には、軸方向に沿うスリツト状の空気吸引孔 7 0 4が連通されている。この場合、液吸引孔 7 0 2は、吸引■乾燥ノズル 7 0 0の移動（スキャン）方向側の中心部に設けられている。また、空気吸引孔 7 0 4は、吸引 '乾燥ノズル 7 0 0の移動方向と反対側すなわち移動後方側に設けられると共に、下方のウェハ W側に開口するように形成されている。

また、図 3 1 Aに示すように、吸引■乾燥ノズノレ 7 0 0の第 1の中空部 7 0 1 の両端部に、開閉弁 9 5 Aを介設した吸引管路 9 3 Aを介して吸引手段である真空ポンプ装置 9 4 Aが接続されている。また、第 2の中空部 7 0 3の両端部には、開閉弁 9 5 Bを介設した吸引管路 ·9 3 Βを介して吸引手段である真空ポンプ装置 9 4 Βが接続されている。この場合、吸引管路 9 3 Α, 9 3 Βの一部は、吸引 · 乾燥ノズル 7 0 0の移動範囲を許容できる長さのチューブにて形成されている。上記のように形成される吸引■乾燥ノズル 7 0 0は現像ノズル 4 0及びリンスノズル 7 0と同様の長さに形成されている。そして、液吸引孔 7 0 2が移動方向側に位置する状態で、図 3 1 Βに示すように、現像ノズル 4 0及びリンスノズル 7 0と同様に、上記移動■昇降機構 6 0に連結されて、鉛直方向に昇降移動可能に形成されると共に、上記隙間 3 0の一側端から他側端に向かって移動（スキヤン）すべく水平方向に移動可能に形成されている。

次に、吸引 '乾燥ノズル 7 0 0を用いた現像処理方法の一例について図 3 0及ぴ図 3 1 Βを参照して説明する。

上記第一実施形態と同様の手順で、現像工程と洗浄工程を行った後、図 3 0.に示すように、吸引■乾燥ノズル 7 0 0を隙間 3 0の一側端から他側端に向かって移動（スキャン）して、処理に供した現像液 D及び純水 D I Wを吸引すると共に、周囲の空気を吸引してウエノ、 Wに付着した現像液 D及び純水 D I Wを除去して乾燥する {吸引 '乾燥工程 }。この際、吸引■乾燥ノズル 7 0 0の移動速度を例えば 5 mm/ s e cとし、吸引圧（負圧）を例えば 5 0 0 T o r rに設¾して、移動 (スキャン）すると、移動速度が遅いので、液吸引孔 7 0 2で現像液 D及び純水 D I Wを吸引した後も、その周囲の空気を空気吸引孔 7 0 4によって吸引することができ、ウェハ表面の乾燥が実現できる。

このように吸引 '乾燥ノズル 7 0 0を移動（スキャン）させて処理に供した現像液及び洗浄液を吸引すると共に、周囲の空気を吸引してウェハ Wに付着する現像液及び洗浄液を除去する吸引 ·乾燥工程を用いることにより、吸引と乾燥が同時にできるので、処理効率の向上が図れると共に、装置の小型化が図れる。上記説明では、第一実施形態における乾燥ノズル 8 0、第二実施形態における吸引ノズル 9 0と乾燥ノズル 8 0に代えて吸引■乾燥ノズル 7 0 0を用いた場合について説明したが、第三実施形態における第二の吸引ノズル 9 7と乾燥ノズル 8 0に代えて吸引■乾燥ノズル 7 0 0を用いてもよレ、。第三実施形態に吸引■乾燥ノズル 7 0 0を用いて行う場合は、現像工程—第一の吸引工程→洗浄工程→吸引 -乾燥工程の順で処理を行うことができる。

( 4 ) 上記実施形態では、被処理基板がウェハ Wである場合について説明したが:、ウェハ以外の例ば F P D用ガラス ¾板やマスク基板（レチクル）等においても同様に、非回転プロセスで現像処理できることは論である。

以上に説明したように、この発明によれば、上記のように構成されているので、以下のような効果が得られる。

1 ) この発明によれば、被処理基板を回転させずに、現像液の液膜を形成する隙間内に洗浄ノズルを移動（スキャン）させて洗浄を行うことができると共に、乾燥ノズルを移動（スキャン）させて乾燥を行うことができるので、必要最小限の省スペースの下で、洗净液及び乾燥用流体の使用量を低減すると共に、洗浄液やミスト等の飛散物の低減を達成しながら、現像処理後の被処理基板の洗浄及び乾燥を均一に行うことができる。

2 ) この発明によれば、被処理基板を回転させずに、現像液の液膜を形成する隙間内に洗浄ノス'ノレを移動（スキャン）させて洗浄を行った後、吸引ノズルを移動（スキャン）させて現像液及び洗浄液を吸引し、その後、乾燥ノズルを移動（スキャン'）させて乾燥を行うことができるので、上記 1 ) に加えて更に乾燥効率の向上を図ることができる。 '

3 ) この発明によれば、被処理基板を回転させずに、現像液の液膜を形成する隙間内に洗浄ノズルを移動（スキャン）させて洗浄を行った後、吸引 .乾燥ノズルを移動（スキャン）させて現像液及ぴ洗浄液を吸引すると同時に、周囲の空気を吸引して乾燥を行うことができるので、上記 1 ) に加えて更に処理効率の向上を図ることができる。

4 ) この発明によれば、被処理基板を回転させずに、現像液の液跨形成用隙間内に、現像ノズルを移動（スキャン）しつつ現像液の液膜を形成し、次いで、洗浄ノズルを移動（スキャン）させて洗浄を行い、その後、乾燥ノズルを動（スキャン）させて乾燥を行うことができるので、上記 1 ) に加えて、更に現像液の消費量を低減することができ、また、現像液の液膜を^一に形成することができると共に、線幅等のパターン寸法の均一性の向上を図ることができる。

5 ) この発明によれば、被処理基板を回転させずに、現像液の液膜形成用隙間内に、現像ノズルを移動（スキャン）しつつ現像液の液膜を形成し、次いで、洗浄ノズルを移動（スキャン）させて洗浄を行った後、吸引ノズルを移動（スキヤン）させて現像液及び洗浄液を吸引し、. その後、乾燥ノズルを移動（スキャン）させて乾燥を行うことができるので、上記 2 ) に加えて、更に現像液の消費量を低減することができ、また、現像液の液膜を均一に形成することができると共に、線幅等のパターン寸法の均一性の向上を図ることができる。

6 ) この発明によれば、被処理基板を回転させずに、現像液の液膜形成用隙間内に、現像ノズノレを移動（スキャン）しつつ現像液の液膜を形成し、次いで、洗浄ノズルを移動（スキャン）させて洗浄を行った後、吸引■乾燥ノズルを移動（スキャン）させて現像液及び洗浄液を吸引すると同時に、周囲の空気を吸引して乾燥を行うことができるので、上記 2 ) に加えて更に処理効率の向上を図ることができると共に、装置の小型化が図れる。

7 ) この発明によれば、被処理基板を回転させずに、現像液の液膜形成用隙間内に、現像ノズルを移動（スキャン）しつつ現像液の液膜を形成した後、（第一の）吸引ノズルを移動（スキャン）させて現像液を吸引し、次いで、洗浄ノズルを移動（スキャン）させて洗浄を行った後、（第二の）吸引ノズルを移動（スキャン）させて洗浄液 {具体的には、現像液と洗浄液の混合液 }

を吸引し、その後、乾燥ノズルを移動（スキャン）させて乾燥を行うことができるので、上記 1),. 2), 4)， 5) に加えて、更に洗浄効率の向上及び乾燥効率の向上を図ることができる。

8) この発明によれば、被処理基板を回転させずに、現像液の液膜形成用隙間内に、現像ノズルを移動（スキャン）しつつ現像液の液膜を形成した後、（第一の）吸引ノズノレを移動（スキャン）させて現像液を吸引し、次いで、洗浄ノズルを移動（スキャン）させて洗浄を行った後、吸引 '乾燥ノズルを移動（スキャン）させて洗浄液 {具体的には、現像液と洗浄液の混合液）を吸引すると同時に、周囲の空気を吸引して乾燥を行うことができるので、上記 6) に加えて更に処理効率の向上を図ることができると共に、装置の小型化が図れる。

9) この発明によれば、洗浄工程において、洗浄ノズルを往復移動しつつ洗浄液を供給するので、上記 1) 〜8) に加えて、更に洗浄効率の向上を図ることができる。

10) この発明によれば、乾燥工程において、乾燥ノズルを往復移動しつつ乾燥用流体を噴射するので、上記 1) 〜9) に加えて、更に乾燥効率の向上を図るととができる。

1 1) この発明によれば、洗浄工程又は乾燥工程において、カップによ.り液膜形成用の隙間を外部から遮断すると共に、外部と遮断された処理空間内の処理に供された現像液及び洗浄液を外部に排出することができるので、上記 1)〜10) に加えて、更に洗浄処理又は乾燥処理中に飛散された洗浄液やミスト等の飛散物が被処理基板に付着するのを防止す.ることができる。

12) この発明によれば、洗浄ノズルと乾燥ノズルを共通のノズル体にて形成し、このノズル体に切換手段を介して洗浄液供給源と乾燥体供給源とを接続し、洗浄工程において、切換手段により洗浄液供給源から洗浄液をノズル体に供給して洗浄し、乾燥工程において、切換手段により乾燥流体供給源から乾燥流体をノズノレ体に供給して乾燥することができるので、上記 1) 〜1 1) に加えて、更に洗浄ノズルと乾燥ノズルを共通化して、更に構成部材の削減及び装置の小型化を図ることができる。 1 3 ) この発明によれば、現像ノズルが、少なくとも軸方向に沿う複数の供給孔を有する管状のノズル体にて形成されているので、上記 1 )〜1 2 )に加えて、更に被処理基板の表面に現像液を均一に供給することができ、面内の線幅等のパターン寸法の均一性の向上を図ることができる。

1 4 ) この発明によれば、洗浄ノズルが、少なくとも被処理基板側及び平板側に開口する軸方向に沿う複数の供給孔を有する管状のノズル体にて形成されているので、上記 1 ~ 1 3 ) に加えて、更に被処理基板の表面に洗浄液を均一に供給することができ、洗浄効率の向上を図ることができる。

1 5 ) この発明によれば、吸引ノズルが、このノズルの移動方向側に開口する軸方向に沿う吸引孔を有する管状のノズル体にて形成されているので、更に処理に供された現像液及び又は現像液と洗浄液の混合液を効率良く吸引することができ、洗浄及び乾燥効率の向上を図ることができる。

1 6 ) この発明によれば、吸引 ·乾燥ノズルが、ノズルの移動方向側に開口する軸方向に沿う液吸引孔と、ノズルの移動方向と反対側に開口する軸方向に沿う空気吸引孔とを具備するので、処理に供された現像液及び又は現像液と洗浄液の混合液を効率よ.く吸引すると同時に、周囲の空気を吸引して乾燥することができる。

1 7 ) この発明によれば、乾燥ノズルが、少なくとも被処理'基板及ぴ平板側に開口する軸方向に沿う噴射孔を有する管状のノズル体にて形成されているので、更に被処理基板の表面に乾燥用流体を均一に噴射（供給）することができ、乾燥効率の向上を図ることができる。

1 8 ) この発明によれば、現像ノズル、洗浄ノズル及ぴ乾燥ノズルを、ステージ及び平板の外側方に平行に配設されるガイドレールに摺動可能に装着すると共に、鉛直方向に昇降可能に形成し、現像ノズル、洗浄ノズル又は乾燥ノズルのいずれかを、移動手段によって移動又は昇降手段によって昇降することができるので、更に現像ノズル、洗浄ノズル及び乾燥ノズルの移動（スキャン）を円滑かつ確実に行うことができ、処理効率の向上を図ることができる。

1 9 ) この発明によれば、現像ノズル、洗浄ノズル、吸引ノズル及び乾燥ノズルを、ステージ及び平板の外側方に平行に配設されるガイドレールに摺動可能に装着すると共に、鉛直方向に昇降可能に形成し、現像ノズル、洗浄ノズル、吸引ノズノレ又は乾燥ノズルのいずれかを、移動手段によつて移動又は昇降手段によつて昇降することができるので、更に現像ノズル、洗浄ノズル、吸引ノズル及び乾燥ノズルの移動（スキャン）を円滑かつ確実に行うことができ、処理効率の向上を図ることができる。

2 0 ) この発明によれば、現像ノズル、洗浄ノズル及び吸引■乾燥ノズルを、ステージ及び平板の外側方に平行に配設されるガイドレールに摺勒可能に装着すると共に、鉛直方向に昇降可能に形成し、現像ノズル、洗浄ノズル又は吸引 .乾燥ノズルのいずれかを、移動手段によって移動又は昇降手段によって昇降することができるので、更に現像ノズル、洗浄ノズル及ぴ吸引 ·乾燥ノズルの移動（スキャン）を円滑かつ確実に行うことができ、処理効率の向上を図ることができる。以下に、この発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。この実施形態では、この発明に係る現像処理装置を半導体ウェハ（以下にウェハという）の現像処理に適用した場合について説明する。

◎第五実施形態

図 3 3は、この発明に係る現像処理装置の一例を示す概略平面図、図 3 4は、現像処理装置の概略側面図、図 3 5 Aおよび図 3 5 Bは、この発明における載置台の別の形態を示す概略平面図及び概略側面図、図 3 6は、この発明の現像処理方法の第五実施形態の現像処理を示す要部拡大断面図、図 3 7は、第五実施形態における現像液供給ノズルの一例を示す要部断面図である。

上記現像処理装置は、被処理基板であるウェハ Wを載置し、図 3 5 Aおよび図 3 5 Bに示すバキューム装置 Vによってウェハ Wを吸着保持する載置台 1 0 1 0 と、この載置台 1 0 1 0の上方に配設される液膜形成用平板 1 0 2 0とを具備している。載置台 1 0 1 0は、水平がとれれば任意の大きさでよい。例えば、ゥェハ Wと略同じ大きさであってもよく、接触面積を小さくするためにウェハ Wよりも小さくしてもよい。あるいは、図 3 5 A、図 3 5 Bに示すように、放射状の三方向に載置部 1 0 1 0 bが延在する形状であってもよい。なお、図 3 5 Aおよび図 3 5 Bにおいて、符号; L 0 1 0 aは吸引穴である。この場合、載置台 1 0 1 0 に載置されたウェハ Wと、液膜形成用平板 1 0 2 0とは互いに平行に所定の隙間 1 0 3 0をあけて対向して配設されており、この隙間 1 0 3 0によって現像液の液膜形成領域が形成される。なお、隙間: L 0 3 0 (液膜形成領域）の寸法は現像液の種類や形成される液膜の膜厚等によって異なるが、約 2〜 5 mm程度に設定される。この間隔は、後述する現像ノズル 1 0 4 0が通過できる寸法であればよい。

また、載置台 1 0 1 0には、図示しないウェハ搬送アームとの間でウェハ Wの受け渡しを行う 3本の支持ピン 1 0 1 1が昇降可能に設けられている。これら支持ピン 1 0 1 1は、図 3 3及び図 3 4に示すように、載置台 1 0 1 0に設けられた貫通孔（図示せず）を摺動可能に貫挿するか、又は、図 3 5 Aおよび図 3 5 B に示すように、載置台 1 0 1 0の横に設けられている。また、支持ピン 1 0 1 1 は、載置台 1 0 1 0の下方に突出する下端部同士が支持部材 1 0 1 2に立設され、支持部材 1 0 1 2に連結する昇降手段例えば昇降シリンダ 1 0 1 3によって各支持ピン 1 0 1 1が載置台 1 0 1 0の载置面に出没し得るように形成されている。また、液膜形成用平板 1 0 2 0は、例えばボールねじにて構成される昇降機構 1 0 2 1に連結されており、この昇降機構 1 0 2 1の駆動によって载置台 1 0 1 0 に対して進退移動可能に形成されて、 .隙間 1 0 3 0の間隔が調整される。この場合、昇降機構 1 0 2 1と液膜形成用平板 1 0 2 0とを回転可能に連結してもよい。また、現像処理装置は、少なくとも軸方向に沿う複数の小孔 1 0 4 1を有する管状の現像液供給ノズル 1 0 4 0 (以下に現像ノズル 1 0 4 0という）を具備している。この現像ノズノレ 1 0 4 0は、載置台 1 0 1 0を挟んで両側に配設された —対のガイドレール 1 0 5 0に移動自在に架設されると共に、ノズル移動手段である移動■昇降機構 1 0 6 0 (移動 '昇降手段）に連結されて、鉛直方向に昇降移動可能に形成されると共に、上記隙間 1 0 3 0 (液膜形成領域) の一側端から他側端に向かって移動すべく水平方向に移動可能に形成されている。

この場合、現像ノズル 1 0 4 0は、図 3 6に示すように、例えば外径約 1 ~ 4 mm、内径約 0 . 5 ~ 3 . 5 mmの例えばステンレスやエポキシ樹脂製の管状部材 1 0 4 2の軸方向に沿って等間隔に穿設される複数の小孔 1 0 4 1を具備しており、管状部材 1 0 4 2の中空部 1 0 4 2 aの両端部に供給管路 1 0 4 3を介して現像液供給源である現像液貯留タンク 1 0 4 4が接続されている。この供給管路 1 0 4 3の一部は、現像ノズル 1 0 4 0の移動範囲を許容できる長さのチューブにて形成されている。また、供給管路 1 0 4 3には現像液の流量調整可能な開閉手段例えばエアオペレーションバルブ 1 0 4 5と圧送手段例えばポンプ 1 0 4 6が介設されている。なお、小孔 1 0 4 1は、管状部材 1 0 4 2の端部側から中心側に向かって小孔 1 0 4 1の開口面積が漸次増大されている。このように小孔 1 0 4 1の開口面積を、管状部材 1 0 4 2の端部側から中心側に向かって漸次增大させることにより、両端側から管状部材 1 0 4 2の中空部 1 0 4 2 a内に供給される現像液を各小孔 1 0 4 1から均等に吐出（供給）することができる。なお、小孔 1 0 4 1の開口径や間隔は、ウェハ Wのサイズゃ現像液の種類等によって適宜設定される。

ここでは、複数の小孔 1 0 4 1を等間隔に設けて、小孔 1 0 4 1の開口面積を、管状部材 1 0 4 2の端部側から中心側に向かって漸次増大させる場合について説明したが、各小孔 1 0 4 1の開口面積を同一にして、管状部材 1 0 4 2の端部側から中心側に向かって間隔を漸次小さくするようにしてもよい。また、小孔 1 0 4 1を管状部材 1 0 4 2の複数列、例えば図 3 9に示すように、管状部材 1 0 4 2の下端側と上端側の 2列に同様に設けてもよく、あるいは、.任意の複数列に同' 様に設けてもよい。また、図 4 0 Bに示すように、全周に多数の小孔 1 0 4 1を有する多孔質の管状部材 1 0 4 2 Aにて現像ノズル 1 0 4 O Aを形成してもよい。このように、現像ノズル 1 0 4 O Aを全周に多数の小孔 1 0 4 1を有する多孔質の管状部材 1 0 4 2 Aにて形成することにより、現像ノズル 1 0 4 0の全周から現像液を均一に吐出（供給）することができる。なお、これらの場合、ポンプ 1 0 4 6によって現像液の圧力を調整するようにしてもよい。

なお、上記ガイドレール.1 0 5 0には、現像ノズノレ 1 0 4 0の他に、それぞれ現像ノズル 1 0 4 0と同様に管状に形成される、第 1のリンスノズル 1 0 7 1と、現像液吸引ノズル 1 0 7 3と、第 2のリンスノズル 1 0 7 2及び乾燥ノズル 1 0 7 4力昇降及び摺動可能に装着されている。この場合、第 1及び第 2のリンスノズノレ 1 0 7 1 , 1 0 7 2は、現像ノズル 1 0 4 0と同様に、管状部材の軸方向に沿う複数のノズノレ孔（図示せず）が設けられている。また、現像液吸引ノズノレ 1 0 7 3及び乾燥ノズノレ 1 0 7 4は、それぞれ管状部材の軸方向に沿うスリット状の吸引孔ゃ乾燥気体例えば空気の噴射孔（図示せず）が設けられている。これら第 1のリンスノズル 1 0 7 1、現像液吸引ノズル 1 0 7 3、第 2のリンスノズル 1 0 7 2及び乾燥ノズル 1 0 7 4も、上記移動 ·昇降機構 1 0 6 0に連結されて、鉛直方向に昇降移動可能に形成されると共に、上記隙間 1 0 3 0の一側端から他側端に向かって移動すべく水平方向に移動可能に形成されている。なお、上記ノズル 1ひ 4 0， 1 0 7 1〜： L 0 7 4の待機位置（ホームポジション）には、ノズル洗浄バス 1 0 7 5が配設されている。なお、上記リンスノズ■ /レ 1 0 7 1 , 1 0 7 2、現像液吸引ノズノレ 1◦ 7 3、乾燥ノズル 1◦ 7 4は、それぞれ径は異なってもよく、また、それぞれの使用時の隙間 1 0 3 0も異なっていてもよい。次に、この発明の現像処理方法について、図 3 6、図 3 8 A及び図 3 8 Bを参照して説明する。まず、図示しないウェハ搬送アームがウェハ Wを保持して現像装置内に進入すると、支持ピン 1 0 1 1が上昇してウェハ Wを受け取る。ウェハ Wを受け渡したウェハ搬送アームは現像装置内から後退する。ウェハ Wを受け取つた支持ピン 1 0 1 1が下降してウェハ Wが載置台 1 0 1 0に載置されると、ノキューム装置 Vの駆動によってウェハ Wが吸着保持される。その後、昇降機構 1 0 2 1によって液膜形成用平板 1 0 2 0を鉛直方向に移動（昇降）して、載置台 1 0 1 0に載置されるウェハ Wの表面に形成（液盛り）される現像液の膜厚に対応した間隔ととなるように調節して隙間 1 0 3 0 (液膜形成領域）を設定する。この状態で、図 3 6及び図 3 8 A、図 3 8 Bに示すように、現像ノズノレ 1 0 4 0 を、隙間 1 0 3 0 (液膜形成領域）の一側端から他側端に向かって移動しつつ小孔 1 0 4 1から隙間 1 0 3 0 (液膜形成領域）内に現像液 Dを吐出（供給）すると、現像液 Dが隙間 1 0 3 0 (液膜形成領域）内に充満されてウェハ Wの表面に現像液 Dの液膜が形成される。この際、現像ノズル 1 0 4 0の移動速度を、例えば 5 0〜1 5 O mm/ s e cとし、現像液の吐出量（供給量）を、例えば 5〜 5 O m 1 Z s e cとする。

これにより、現像中の現像液 Dの動きを現像開始から終了まで、極めて静的に保って隙間 1 0 3 0 (液膜形成領域）內に現像液 Dを充満させた状態でウェハ W の表面に現像液 Dの液膜を形成することができる。これにより、レジスト Rの疎水度に影響を受けずに現像液 Dの液膜を均一に形成することができる。また、薄い隙間 1 0 3 0 (液膜形成領域）の分の現像液で済むため、現像液の消費量を低減することができる。

なお、上記説明では、現像ノズル 1 0 4 0の移動による現像処理の部分について説明したが、上記現像ノズル 1 0 4 0を隙間 1 0 3 0 (液膜形成領域）の一端側から他端側に向かって移動した後、所定の時間をおいて第 1のリンスノズル 1 0 7 1を同様に移動しつつ図示しないリンス液供給源からリンス液例えば純水を吐出（供給）して現像液とレジストの溶解反応を停止させ、次いで、現像液吸引ノズル 1 0 7 3を同様に移動させつつ図示しない吸引手段の吸引作用によって現像液と反応して生成された溶解生成物を吸引する。その後、第 2のリンスノズル 1 0 7 2を同様に移動しつつ図示しないリンス液供給源からリンス液例えば純水を吐出（供給）してリンス処理を行う。そして、最後に、乾燥ノズル 1 0 7 4を同様に移動しつつ図示しない乾燥気体例えば清浄化された空気の供給源から乾燥気体を吹き付けてウェハ Wに付着するリンス液を吹き飛ばして乾燥する。なお、第 2のリンスノズル 1 0 7 2及ぴ乾燥ノズル 1 0 7 4をそれぞれ往復移動して、リンス処理及び乾燥処理を行うようにしてもよい。

以上のようにして現像処理、リンス処理及び乾燥処理を行った後、現像ノズル 1 0 4 0、第 1のリンスノズル 1 0 7 1、現像液吸引ノズル 1 0 7 3、第 2のリンスノズル 1 0 7 2及ぴ乾燥ノズル 1 0 7 4はホームポジションに戻る。その後、載置台 1 0 1 0の吸着状態を解除し、支持ピン 1 0 1 1を上昇させて、現像装置内に進入するウェハ搬送アーム（図示せず）にウェハ Wを受け渡してウェハ Wを搬出する。以下、上記と同様の操作を繰り返してウェハ Wの現像処理を行う。 ◎第六実施形態

図 4 1は、この発明の現像処理方法の第六実施形態の現像処理状態を示す要部拡大断面図である。

第六実施形態は、上記現像ノズル 1 0 4 0を複数例えば 2個を、現像ノズノレ 1 0 4 0の移動方向に間隔 Lをおいて隙間 1 0 3 0 (液膜形成領域）内に移動させつつ各現像ノズノレ 1 0 4 0の小孔1 0 4 1から現像液 Dを供給させるようにした場合である。

このように、複数例えば 2個の現像ノズノレ 1◦ 4 0を移動方向に間隔 Lをおいて隙間 1 0 3 0 (液膜形成領域）内に移動させつつ各現像ノズル 1 0 4 0の小孔 1 0 4 1から現像液 Dを供給させることにより、第五実施形態のように 1個現像ノズノレ 1 0 4 0の小孔 1 0 4 1から現像液を吐出（供給）する場合に比べて各現像ノズル 1 0 4 0の小孔 1 0 4 1からできる限りゆっくり現像液を吐出（供給）しながら 2個の現像ノズル 1 0 4 0を移動することができる。したがって、現像中の現像液 Dの動きを更に静的に保って線幅等のパターンの均一性の向上を図ることができる。また、複数の現像ノズル 1 0 4 0を同時に移動させるので、現像処理速度の迅速化を図ることができる。 '

なお、第六実施形態において、現像ノズル 1 0 4 0を多孔質の現像ノズル 1 0 4 O Aに代えてもよい。また、第六実施形態において、その他の部分は第五実施形態と同じであるので、同一部分には同一符号を付して説明は省略する。

©第七実施形態

図 4 2 Aおよぴ図 4 2 Bは、この発明の現像処理方法の第七実施形態の現像処理を示す要部拡大断面図及び第七実施形態における現像ノズル 1 0 4 0 Bを示す斜視図である。

第七実施形態は、現像ノズル 1 0 4 0 Bにおける移動方向の後方側に翼片 1 0 8 0を突設して、現像ノズル 1 0 4 0 Bの小孔 1 0 4 1から吐出（供給）された現像液 Dの乱流を抑制することにより、現像中の現像液の動きを更に静的に保つようにした場合である。この場合、翼片 1 0 8 0は、現像ノズル 1 0 4 0 Bの管状部材 1 0 4 2 Bと一体に形成されており、先端（移動方向の後方側）に向かつて狭小のテーパ面 1 0 8 1が形成されている。

上記のように形成される現像ノ、ノレ 1 0 4 0 Bを、第五実施形態と同様に、隙間 1 0 3 0 (液膜形成領域）の一端側から他端側に向かって移動して現像処理を行うと、先端（移動方向の後方側）に向かって狭小のテーパ面 1 0 8 1を有する翼片 1 0 8 0によって、現像液 Dの乱流を整流化して抑制することができ、現像中の現像液 Dの動きを更に静的に保つことができるので、更に線幅等のパターンの均一性の向上を図ることができる。

なお、第七実施形態において、その他の部分は第五実施形態と同じであるので、同一部分には同一符号を付して説明は省略する。 ◎第八実施形態

第八実施形態は、それぞれ翼片 1 0 8ひ Aを突設する現像ノズル 1 0 4 0 Cを移動方向と交差する方向に間隔 L 1をおいて 2個並設して、隙間 1 0 3 0 (液膜形成領域）の一端側から他端側に向かって移動させつつ各現像ノズル 1 0 4 0 C の小孔 1 0 4 1から現像液を吐出（供給）して隙間 1 0 3 0 (液膜形成領域）内に現像液を充満させてウェハ W表面に液膜を形成する場合である。第八実施形態おいて、各現像ノズル 1 0 4 0 Cの翼片 1 0 8 0 Aは、管状部材 1 0 4 2 Cと一体に形成され、管状部材 1 0 4 2 Cの下端又は上端から移動方向後方側に延在する水平面 1 0 8 2と、管状部材 1 0 4 2 Cの上端又は下端と水平面 1 0 8 2の先端とを連結する傾斜面 1 0 8 3とを有する断面略三角形状に形成されている。このように、翼片 1 0 8 O Aを突設する現像ノズノレ 1 0 4 0 Cを移動方向と交差する方向に間隔 L 1をおいて 2個並設して、隙間 1 0 3 0 (液膜形成領域）の一端側から他端側に向かって移動させつつ各現像ノズル 1 0 4 0 Cの小孔 1 0 4 1から現像液を吐出（供給'）することにより、.両現像ノズル 1 0 4 0 C間に設けられた間隔 L 1から空気 Aを逃がして、ウェハ W側及び液膜形成用平板 1 0 2 0 側の両側における現像液 Dの動きを均等にバランスすることができる。したがつて、更に線幅等のパターンの均一性の向上を図ることができる。

なお、第八実施形態において、その他の部分は第五実施形態と同じであるので、同一部分には同一符号を付して説明は省略する。

©第九実施形態

第九実施形態は、現像ノズル 1 0 4 0 Dを移動しつつ現像ノズル 1 Ό 4 0 Dの周方向に回転させるようにした場合である。この場合、與像ノズル 1 0 4 0 Dは、軸方向に沿う複数列例えば 3列以上に複数の小孔 1 0 4 1を設ける方が好ましい。また、現像ノズノレ 1 0 4 0 Dの回転方向をウェハ W側に向かって行う方が好ましい。その理由は、現像ノズル 1 0 4 0 Dの回転に伴って小孔 1 0 4 1から吐出（供給）される現像液をウェハ Wに積極的に供給することができるからである。このように、現像ノズル 1 0 4 0を移動しつつ現像ノズル 1 0 4 0 Dの周方向に回転 (ウェハ W側に回転）させることにより、現像ノズル 1 0 4 0 Dの小孔 1 0 4 1 から吐出（供給）される現像液がウェハ W表面に置かれるようにして液膜が形成される。また、現像ノズノレ 1 0 4 0 Dが通過する影響、すなわち現像ノズノレ 1 0 4 0 Dが通過した直後の現像液 Dの空洞部による影響を抑制することができるので、更に線幅等のパターンの均一性の向上を図ることができる。 .

なお、第九実施形態において、現像ノズル 1 0 4 0 Dに代えて多孔質の現像ノズル Aを用いてもよい。また、第九実施形態において、その他の部分は第五実施形態と同じであるので、同一部分には同一符号を付して説明は省略する。

◎第十実施形態

図 4 5は、この発明の現像処理方法の第十実施形態を示す要部拡大断面図である。

第十実施形態は、一工程で 2枚のウェハ Wを同時に現像処理できるようにした場合である。すなわち、上記液膜形成用平板 1 0 2 0に代えてウェハ Wを用いて、 2枚のウェハ W 互いに平行に対向させて隙間 1 0 3 0 (液膜成領域）を形成し、この隙間 1 0 3 0 (液膜形成領域）の一端側から他端側に向かって現像ノズル例えば第八実施形態の現像ノズル 1 0 4 0 Cを移動しつつ現像液を小孔.1 0 4 1から吐出（供給）して、隙間 1 0 3 0 (液膜形成領域）内に現像液 Dを充満させて、両ウェハ Wの表面に液膜を形成するようにした場合である。

したがって、第十実施形態によれば、一工程で 2枚のウェハ Wの現像処理を同時に行うことができるので、更に処理効率の向上を図ることができる。この場合、翼片 1 0 8 O Aを突設する現像ノズノレ 1 0 4 0 Cを移動方向と交差する方向に間隔 L 1をおいて 2個並設して、隙間 1 0 3 0 (液膜形成領域）の一端側かち他端側に向かって移動させつつ各現像ノズル 1 0 4 0 Cの小孔 1 0 4 1から現像液を吐出（供給）することにより、両現像ノズル 1 0 4 0 C間に設けられた間隔 L 1 から空気 Aを逃がして、ウェハ W側及ぴ液膜形成用平板 1 0 2 0側の両側における現像液 Dの動きを均等にバランスすることができるので、更に線幅等のパターンの均一性の向上を図ることができる。なお、上記説明では、翼片 1080 Aを突設する現像ノズノレ 1040 Cを移動方向と交差する方向に間隔 L 1をおいて 2個並設される場合について説明したが、その他の現像ノズル 1040， 1040A, 1040 Bを用いてもよい。また、第十実施形態において、その他の部分は第五実施形態と同じであるので、同一部分には同一符号を付して説明は省略する。

◎その他の実施形態

(1) 上記実施形態では、載置台 1010が固定式で回転しない場合について説明したが、図 35 Aおよび図 35 Bに二点鎖線で示すように、載置台 1010 をモータ Mの回転軸に連結して、載置台 1010を水平方向に回転可能に形成し、現像ノズノレ 1040， 1040 A, 1040 B, 1040 C, 1040Dの移動と同時に載置台 1010及びウェハ Wを水平方向に回転させるようにしてもよい。このように回転を利用する場合には、好ましくは、現像ノズレ 1040， 104 0A〜1040Dを隙間 1030の一側端から他側端に向かって移動して現像液を吐出（供給）するときは、載置台 1010及びウェハ Wを回転させずに、それ以降の処理である洗浄処理、乾燥処理時には载置台 1010及びウェハ Wを回転させる方が好ましい。例えば図 46 Aに示すように、載置台 1010及びウェハ Wを回転させずに現像塗布工程を行った後に、液膜形成用平板 1020を移動させて、洗浄ノズル（リンスノズル） 1072Aが入る高さまで上昇させる .（図 4 6 A)。次に、液膜形成用平板 1020を下降してリンスノズノレ 1072 Aが移動する隙間 1030を確保した後、リンスノズル 1072 Aを隙間 1030の一側端から中心まで移動しつつリンス液例えは純水を吐出（供給）すると同時に、載置 1010及びウェハ Wを回転する（図 46 B、図 46 C参照)。その後、リンスノズル 1072 Aからの純水の吐出（供給）を停止し、リンスノズル 1072 Aがホームポジションに戻った後、又は、戻ると同時に、載置台 1010及びゥェハ Wを高速回転して、ウェハ Wに付着する純水を振り切り、乾燥する（図 46 D)。

(2) 上記実施形態では、被処理基板がウェハ Wである場合について説明した力ウェハ以外の例えば FPD用ガラス基板やマスク基板（レチクル）等においても同様に現像処理できることは勿論である。なお、 FPD用ガラス基板やマスク基板等のような角形の被処理板例えばマスク基板（レチクル） R Eの現像処理を行う場合は、図 4 7 A、図 4 7 Bに示すように、円形の液膜形成用平板 1 0 2 0に代えて矩形状（方形状）の液膜形成用平板 1 0 2 O Aを用い、また、矩形状 (方形状）の載置台 1 0 1 O Aを用いて処理を行う必要がある。また、液膜形成用平板 1 0 2 O A, 載置台 1 0 1 O Aを用いることにより、被処理基板の形状に関係なく現像処理を行うことができる。

1 0 1 ) この発明によれば、互いに平行に対向配置される被処理基板と液膜形成用平板とで形成された隙間（液膜形成領域）の一側端から俾側端に向かって、軸方向に沿う複数の小孔を有する現像液供給ノズルを移動しつつ小孔から隙間内に現像液を供給することにより、現像中の現像液の動きを現像開始から終了まで、極めて静的に保って隙間内に現像液を充満させた状態で被処理基板の表面に現像液の液膜を形成して現像処理することができる。したがって、レジストの疎水度' に影響を受けずに、面内を均一にして線幅等のパターン寸法の均一性の向上が図れる。また、現像液の使用量は、所定の間隔に設定された薄い隙間.（液膜成領域）の分の液量で済むため、現像液の少量化を図ることができる。

1 0 2 ) この発明によれば、現像液供給ノスレの複数個を間隔をおいて獰間内に移動させつつ各現像液供給ノズルの小孔から現像液を供給することにより、各ノズルの小孔からできる限りゆっくり現像液を供給（吐出）しながら複数のノズルを移動することができるので、上記 1 0 1 ) に加えて更に現像中の現像液の動きを更に静的に保って線幅等のパターンの均一性の向上を図ることができる。また、複数のノズルを同時に移動させるので、現像処理速度の迅速化を図ることができる。

1 0 3 ) この発明によれば、現像液供給ノズルにおける移動方向の後方側に突設された翼片により、供給された現像液の乱流を抑制することにより、現像中の現像液の動きを更に静的に保つことができるので、上記 1 0 1 ) に加えて更に線幅等のパターンの均一性の向上を図ることができる。

1 0 4 ) この発明によれば、翼片を突設する現像液供給ノズルを移動方向と交差する方向に間隔をおいて 2個並設して、隙間内を移動させつつ各現像液供給ノズルの小孔から現像液を供給することにより、両ノズル間に設けられた間隔から空気を逃がして、被処理基板側及び液膜形成用平板側の両側における現像液の動きを均等にバランスすることができるので、上記 1 0 1 )、 1 0 3 ) に加えて更に線幅等のパターンの均一性の向上を図ることができる。

1 0 5 ) この発明によれば、現像液供給ノズルを移動しつつノズルの周方向に回転させることにより、現像液供給ノズルが通過する影響、すなちノズルが通過した直後の現像液の空洞部による影響を抑制することができるので、上記 1 0 1 ) に加えて更に線幅等のパターンの均一性の向上を図ることができる。

1 0 6 )この発明によれば、液膜形成用平板に被処理基板を用いることにより、 —工程で 2枚の被処理基板の現像処理を同時に行うことができるので、更に処理効率の向上を図ることができる。産業上の利用可能性

この発明は、例えば半導体ウェハや F P D (フラットパネルデイスプレイ) 用ガラス基板やフォトマスク基板（レチクル）等の基板に現像液を供給して基板表面を現像処理する分野で利用される。

Claims

請求の範囲

1 . 被処理基板（W) の表面に現像液（D) を供給して、被処理基板表面に現像液の液膜を形成する現像工程と、

上記現像液の液膜が形成された上記被処理基板と平板（2 0 ) とを互いに平行に対向ざせて隙間（3 0 ) を形成し、この隙間の一側端から他側端に向かって洗浄ノズル（7 0 ) を移動しつつ隙間内に洗浄液 (D I W) を供給する.洗浄工程と、上記隙間の一側端から他側端に向かって乾燥ノズル（8 0 ) を移動しつつ隙間内に乾燥用流体（A) を噴射して上記被処理基板に付着する処理に供された現像液及び洗浄液を除去する乾燥工程と、

を有する現像処理方法。

2 . 請求項 1に記載の現像処理方法において、

上記洗浄工程において、上記洗浄ノズルを往復移動する、現像処理方法。

3 . 請求項 1に記載の現像処理方法において、

上記乾燥工程において、上記乾燥ノズルを往復移動する、現像処理方法。

4. 請求項 1に記載の現像処理方法において、

上記洗浄工程において、カップ（2 0 0 ) により上記隙間を外部から遮断すると共に、外部と遮断された処理空間内の処理に供された現像液及び洗浄液を外部に排出する、現像処理方法。

5 . 請求項 1に記載の現像処理方法において、

上記乾燥工程において、カップにより上記隙間を外部から遮断すると共に、外部と遮断された処理空間内の気液流体を外部に排出する、現像処理方法。

6 . 請求項 1に記載の現像処理方法において、

上記洗浄ノズルと乾燥ノズルを共通のノズル体（4 0 1 ) にて形成し、上記ノズル体に切換手段（ 5 0 0 ) を介して洗浄液供給源（ 7 4 ) と乾燥流体供給源 ( 8 4 ) とを接続し、洗浄工程において、上記切換手段により上記洗浄液供給源から洗浄液を上記ノズル体に供給して洗浄し、乾燥工程において、上記切換手段により上記乾燥流体供給源から乾燥流体を上記ノズル体に供給して乾燥する、現像処理方法。

7. 被処理基板（W) の表面に現像液（D) を供給して、被処理基板表面に現像液の液膜を形成する現像工程と、

上記現像液の膜が形成された上記被処理基板と平板 ( 2 0 ) とを互いに平行に対向させて隙間（3 0 ) を形成し、この隙間の一側端から他側端に向かって洗浄ノズル（7 0 )を移動しつつ隙間内に洗浄液 (D I W)を供給する洗浄工程と、上記隙間の一側端から他側端に向かって吸引ノズル（9 0 ) を移動しつつ処理に供された現像液及び洗浄液を吸引する吸引工程と、

上記隙間の一側端から他側端に向かって乾燥ノズル（8 0 ) を移動しつつ隙間内に乾燥用流体（A) を噴射して上記被処理基板に付着する処理に供された現像. 液及び洗浄液を除去する乾燥工程と、

を有する現像処理方法。

8 . 被処理基板（W) の表面に現像液（D) を供給して、被処理基板表面に現像液の液膜を形成する現像工程と、

上記現像液の液膜が形成された上記被処理基板と平板 ( 2 0 ) とを互いに平行に対向させて隙間（3 0 ) を形成し、この隙間の一側端から他側端に向かって洗浄ノズル（7 0 )を移動し όつ隙間内に洗浄液 (D I W) を供給する ¾浄工程と、上記隙間の一側端から他側端に向かって吸引 ·乾燥ノズル ( 7 0 0 ) を移動しつつ処理に供された現像液及び洗浄液を吸引すると共に、周囲の空気を吸引して上記被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を除去する吸引■乾燥工程と、を有する現像処理方法。

9 . 請求項 8に記載の現像処理方法において、

上記吸引■乾燥工程において、力ップにより上記隙間を外部から遮断すると共に、外部と遮断された処理空間内の気液流体を外部に排出する、現像処理方法。

1 0 . 被処理基板（W) と平板（2 0 ) とを互いに平行に対向させて隙間（3 0 ) を形成し、この隙間の一側端から他側端に向かって現像ノズル（4 0 )' を移動しつつ現像液（D) を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像工程と、

上記隙間の一側端から他側端に向かって洗浄ノズル ( 7 0 ) を移動しつつ隙間内に洗浄液 (D I W) を供給する洗浄工程と、上記隙間の一側端から他側端に向かって乾燥ノズル（8 0 ) を移動しつつ隙間内に乾燥用流体（A) を噴射して上記被処理基板に付着する処理に供された現像液及び洗浄液を除去する乾燥工程と、

を有する現像処理方法。

1 1 . 被処理基板（W) と平板（2 0 ) とを互いに平行に対向させて隙間（3 0 ) を形成し、この隙間の一側端から他側端に向かって現像ノズル（4 0 ) を移動しつつ現像液 (D) を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像工程と、

上記隙間の一側端から他側端に向かって洗浄ノズル（7 0 ) を移動しつつ隙間内に洗浄液 (D I W) を供給する洗浄工程と、

上記隙間の一側端から他側端に向かって吸引ノズル（9 0 ) を移動しつつ処理に供された現像液及び洗浄液を吸引する吸引工程と、

上記隙間の一側端から他側端に向かって乾燥ノズル（8 0 ) を移動しつつ隙間内に乾燥用流体（A) を噴射して上記被処理基板に付着する処理に供された現像液及び洗浄液を除去する乾燥工程と、

を有する現像処理方法。

1 2 . 被処理基板（W) と平板（2 0 ) とを互いに平行に対向させて隙間（3 0 ) を形成し、この隙間の一側端から他側端に向かって現像ノズル（4 0 ) を移動しつつ現像液（D) を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像工程と、

上記隙間の一側端から他側端に向かって吸引 ·乾燥ノズル ( 7 0 0 ) を移動しつつ処理に供された現像液及び洗浄液を吸引すると共に、周囲の空気を吸引して上記被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を除去する吸引■乾燥工程と、を有する現像処理方法。

1 3 . 被処理基板（W) と平板（2 0 ) とを互いに平行に対向させて隙間（3 0 ) を形成し、この隙間の一側端から他側端に向かって現像ノズル（4 0 ) を移動しつつ現像液 (D) を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像工程と、

上記隙間の一側端から他側端に向かって吸引ノズノレ（90) を移動しつつ処理に供された現像液を吸引する第一の吸引工程と、

上記隙間の一側端から他側端に向かって洗浄ノズノレ（70) を移動しつつ隙間内に洗浄液 (D I W) を供給する洗浄工程と、

上記隙間の一側端から他側端に向かって吸引ノズノレ (90) を移動.しつつ処理に供された洗浄液を吸引する第二の吸引工程と、

上記隙間の一側端から他側端に向かって乾燥ノズル（80) を移動しつつ隙間内に乾燥用流体（A) を噴射して上記被処理基板に付着する処理に供された洗浄液を除去する乾燥工程と、

を有する現像処理方法。

14. 被処理基板（W) と平板（20) とを互いに平行に対向させて隙間（30) を形成し、この隙間の一側端から他側端に向かって現像ノズノレ（40) を移動しつつ現像液（D) を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像工程と、

上記隙間の一側端から他側端に向かって吸引ノズル (90) を移動しつつ処理に供された現像液を吸引する第一の吸引工程と、

上記隙間の一側端から他側端に向かって洗浄ノズル（70) を移動しつつ隙間内に洗浄液 (D IW) を供給する洗浄工程と、

上記隙間の一側端から他側端に向かって吸引■乾燥ノズル (700) を移動しつつ処理に供された洗浄液を吸引すると共に、周囲の空気を吸引して上記被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を除去する吸引 ·乾燥工程と、

を有する現像処理方法。

15. 被処理基板（W) を載置するステージと、 '

上記ステージと平行に対向してステージに載置される被処理基板との間に液膜形成用の隙間（30) を形成する平板 (20) と、

上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ現像液（D) を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像ノズル（40) と、上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ洗浄液 (D I W) を供給する洗浄ノズル（70) と、

上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ乾燥流体（A) を噴射して上記被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を除去する乾燥ノズル（80) と、を具備する現像処理装置。

16. 請求項 15に記載の現像処理装置において、

上記ステージの外側及び下部を包囲すると共に、上記平板に接離する昇降可能なカップ（200) を更に具備し、

上記カップの下部に排出口を設けてなる、

17. 請求項 15に記載の現像処理装置において、

上記現像ノズルは、少なくとも軸方向に沿う複数の供給孔を有する管状のノズル体（42) を具備する、現像処理装置。

18. 請求項 15に記載の現像処理装置において、

上記洗浄ノズルは、少なくとも被処理基板側及び平板側に開口する軸方向に沿う複数の供給孔を有する管状のノズル体（71) を具備する、現像処理装置。

19. 請求項 15に記載の現像処理装置において、

上記乾燥ノズルは、少なくとも被処理基板及び平板側に開口する軸方向に沿う噴射孔を有する管状のノズル体（81) を具備する、現像処理装置。

20. 請求項 15に記載の現像処理装置において、

上記現像ノズル、洗浄ノズル及び乾燥ノズルを、ステージ及び平板の外側方に平行に配設されるガイドレール（50 a, 50 b)に摺動可能に装着すると共に、鉛直方向に昇降可能に形成し、上記現像ノズル、洗浄ノズル又は乾燥ノズノレのいずれかを、移動手段（60B) によって移動又は昇降手段 (6 OB) によって昇降する、現像処理装置。

21. 請求項 15に記載の現像処理装置において、

上記洗浄ノズルと乾燥ノズルを共通の管状ノズル体（401) にて形成し、上記管状ノズル体に切換手段（500) を介して洗浄液供給源 (74) と乾燥流体供給源 (84) とを接続し、上記切換手段の切換操作によって、上記洗浄液供給源から上記管状ノズル体への洗浄液の供給、又は、上記乾燥流体供給源から上記管状ノズルへの乾燥流体の供給を選択的に行えるように形成してなる、現像処理

22. 被処理基板（W) を載置するステージと、

上記ステージと平行に対向してステージに載置される被処理基板との間に液膜形成用の隙間（30) を形成する平板（20) .と、

上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ現像液 (D) .を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像ノズル（40) と、

上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ洗浄液 (D IW) を供給する洗浄ノズル (70) と、

上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ上記被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を吸引する吸引ノズル（90) と、

上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ乾燥流体を噴射して上記被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を除去する乾燥ノズル（80) と、を具備する現像処理装置。 .

23. 請求項 22に記載の現像処理装置において、

上記吸引ノズルは、このノズルの移動方向側に開口する軸方向に沿う吸引孔を有する管状のノズル体（91) を具備する、現像処理装置。

24. 請求項 22に記載の現像処理装置において、

上記現像ノズル、洗浄ノズル、吸引ノズル及び乾燥ノズルを、ステージ及び平板の外側方に平行に配設されるガイドレール（50 a, 50 b) に摺動可能に装着すると共に、鉛直方向に畀降可能に形成し、上記現像ノズル、洗浄ノズル、吸引ノズル又は乾燥ノズルのいずれかを、移動手段（60B) によって移動又は昇降手段（60B) によって昇降する、現像処理装置。

25. 被処理基板 (W) を載置するステージと、

上記ステージと平行に対向してステージに載置される被処理基板との間に液膜形成用の隙間（30) を形成する平板（20) と、

上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ現像液（D) を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像ノズノレ（4 0 ) と、

上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ洗浄液 (D I W) を供給する洗净ノズル（7 0 ) と、

上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ上記被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を吸引すると共に、周囲の空気を吸引じて被処理基板に付着した現像液及ぴ洗浄液を除去する吸引■乾燥ノズル（ 7 0 0 ) と、

を具備する現像処理装置。

2 6 . 請求項 2 5に記載の現像処理装置において、

上記吸引■乾燥ノズルは、このノズノレの移動方向側に開口する軸方向に沿う液吸引孔（7 0 2 ) と、ノズルの移動方向と反対側に開口する軸方向に沿う空気吸引孔（7 0 4 ) とを具備する、現像処理装置。

2 7 . 請求項 2 5に記載の現像処理装置において、

上記現像ノズル、洗浄ノズル及び吸引 '乾燥ノズルを、ステージ及ぴ平板の外側方に平行に配設されるガイドレール（5 0 a， 5 0 b ) に摺動可能に装着すると共に、鈴直方向に昇降可能に形成し、上記現像ノズル、洗浄ノズル又は吸引 - 乾燥ノズのいずれかを、移動手段（6 0 Β ) によって移動又は昇降手段（6 0

Β ) によって昇降する、現像処理装置。

2 8 . 被処理基板（W) を載置するステージと、

上記ステージと平行に対向してステージに載置される被処理基板との間に液膜形成用の隙間（3 0 ) を形成する平板（2 0 ) と、

上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ現像液（D) を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像ノズル ( 4 0 ) と、

上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ処理に供された像液を吸引する第一の吸引ノズル（9 6 ) と、

上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ洗浄液 (D I W) を供給する洗浄ノズル（7 0 ) と、

上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ上記被処理基板に付着した洗浄液を吸引する第二の吸引ノズル（9 7 ) と、上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ乾燥流体を噴射して上記被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を除去する乾燥ノズル（8 0 ) と、を具備する現像処理装置。

2 9 . 被処理基板 (W) を載置するステージと、

上記ステージと平行に対向してステージに載置される被処理基板との間に,液膜形成用の隙間（3 0 ) を形成する平板（2 0 ) と、

上記隙間の一側端から他側端に向かって移動,しつつ現像液（D) を供給することにより、隙間内に現像液を充満させて被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する現像ノズル（4 0 ) と、

上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ処理に供された現像液を吸引する第一の吸引ノズル.（9 6 ) と、

上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ洗浄液 (D I W) を供給する洗浄ノス'ノレ（7 0 ) と、

上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ上記被処理基板に付着した洗浄液を吸引すると共に、.周囲の空気を吸引して被処理基板に付着した現像液及び洗浄液を除去する吸引■乾燥ノズル（7 0 0 ) と、

を具備する現像処理装置。

3 0 . 被処理基板（W) と液膜形成用平板 ( 1 0 2 0 ) 'とを互いに平行に所定の隙間（1 0 3 0 ) をあけて対向させる工程と、

少なくとも軸方向に沿う複数の小孔（1 0 4 1 ) を有する管状の現像液供給ノズル（1 0 4 0 ) を、上記隙間の一側端から他側端に向かって移動しつつ小孔から隙間内に現像液（D) を供給することにより、上記隙間内に現像液を充満させて上記被処理基板の表面に現像液の液膜を形成する工程とを備えた、現像処理方法。.

3 1 . 請求項 3 0記載の現像処理方法において、

上記現像液供給ノズルの複数個を間隔をおいて隙間内に移動させつつ各現像液供給ノズルの小孔から現像液を供給する、現像処理方法。

3 2 . 請求項 3 0記載の現像処理方法において、

上記現像液供給ノズルにおける移動方向の後方側に突設された翼片（1 0 8 0 ) により、供給された現像液の乱流を抑制する、現像処理方法。

33. 請求項 32記載の現像処理方法において、

上記翼片を突設する現像液供給ノズルを移動方向と交差する方向に間隔をおいて 2個並設して、隙間内を移動させつつ各現像液供給ノズノレの小孔から現像液を供給する、現 ί象処理方法。

34. 請求項 30記載の現像処理方法において、

上記現像液供給ノズルを移動しつつノズルの周方向に回転させる、現像処 a方法。

35. 請求項 30に記載の現像処理方法において、

上記液膜形成用平板が被処理基板である、現像処理方法。

36. 被処理基板（W) を载置する载置台（1010) と、

上記載置台の上方に対向して配設され、載置台に载置された被処理基板との間に所定の隙間（1030) を形成する液膜形成用平板（1020) と、

少なくとも軸方向に沿う複数の小孔を有する管状の現像液供給ノズル（104 0) と、

上記現像液供給ノズルを、上記隙間の一側端から他側端に向かつて移動するノズル移動手段（1060) と、を具備する現像処 a装置。'

37. 請求項 36記載の現像処理装置において、

上記現像液供給ノズルは、互いに間隔をおいて隙間を移動する複数個のノズルである、現像処理装置。

38. 請求項 36記載の現像処理装置【こおいて、

上記現像液供給ノズルは、該ノズルの移動方向の後方側に翼片（1080) を突設してなる、現像処理装置。

39. 請求項 38記載の現像処理装置において、

上記翼片を突設する現像液供給ノズルを、該ノズルの移動方向と交差する方向に間隔をおいて 2個並設してなる、現像処理装置。

40. 請求項 36記載の現像処理装置において、

上記現像液供給ノズルを、移動及び同方向に回転可能に形成してなる、現像処

41. 請求項 36に記載の現像処理装置において、

上記液膜形成用平板が被処理基板である、現像処理装置。