TWM634526U - 氣泡粉碎細化裝置及水龍頭 - Google Patents

Abstract

本創作一種氣泡粉碎細化裝置及水龍頭，包括一旋渦粉碎件及一射流件，該旋渦粉碎件設置有一旋渦發生盤及位於該旋渦發生盤的外周的一過水孔，過水孔用於供流體通過，該旋渦發生盤用於形成渦流；該射流件安裝於該旋渦粉碎件的一端，該射流件設置有多個用於增加流速的射孔，所述多個射孔朝向該旋渦發生盤設置，該射流件及旋渦發生盤之間形成一旋渦發生空間。藉由本創作的氣泡粉碎細化裝置不易堵塞，能夠將粗大的氣泡擊碎並獲得細小氣泡，氣泡效果穩定，從而提高水工質的處理能力。

Description

氣泡粉碎細化裝置及水龍頭

本創作涉及氣泡生產裝置技術領域，尤其是涉及一種氣泡粉碎細化裝置及水龍頭。

在水產養殖、廢水處理、化學反應、醫療衛生、植物栽培以及工業清洗與除垢等領域，常常需要將氣體混入水媒體中以獲得含氣泡的水工質，目的是增加空氣與水的接觸面積，來增進各種處理功效，最顯而易見的是提高了清洗除垢的能力。相關技術中，為獲得含氣泡的水工質，氣泡產生裝置可將空氣壓入水中或利用水的流動吸入空氣，同時配合高目數的過濾網碎化氣泡，進而獲得微氣泡，但該種結構的氣泡產生裝置容易出現堵塞，且產生的氣泡難以達到微納米級別，影響水工質的處理功效。

本創作的目的在於至少解決現有技術中存在的技術問題之一。為此，本創作提供一種氣泡粉碎細化裝置，不易堵塞，能夠將粗大的氣泡擊碎並獲得細小氣泡，氣泡效果穩定，從而提高水工質的處理能力。 本創作還提供一種具備上述氣泡粉碎細化裝置的水龍頭。 根據本創作第一方面實施例的一種氣泡粉碎細化裝置，包括：一旋渦粉碎件，設置有一旋渦發生盤及位於所述旋渦發生盤的外周的至少一過水孔，所述過水孔用於供流體通過，所述旋渦發生盤用於形成渦流；一射流件，安裝於所述旋渦粉碎件的一端，所述射流件設置有多個用於增加流速的射孔，所述多個射孔朝向所述旋渦發生盤設置，所述射流件及所述旋渦發生盤之間形成一旋渦發生空間。 上述技術方案至少具有如下有益效果：透過設置該射流件及該旋渦發生盤組合形成旋渦發生空間，令含氣液體經該射流件的射孔加速射向該旋渦發生盤，高速的含氣液體受阻並在該旋渦發生空間產生渦流，含氣液體在渦流中碰撞、擾動及震盪激勵，使液體中粗大的氣泡被擊碎、細化，形成細小的氣泡，從而獲得具有微氣泡的液體並從過水孔流出，微氣泡的效果穩定，進而提高液體的處理能力，如去汙能力。同時，由於採用設有射孔的射流件，可減少孔的數量，且射孔的孔徑比過濾網的濾孔的孔徑大，不易出現堵塞情況，有效縮短後期維護時間，便於維護。 根據本創作的一些實施例，所述旋渦發生盤包括一底壁及圍繞所述底壁設置的一側壁，所述底壁朝向所述射流件的一側呈中間高、四周低設置，所述側壁位於所述底壁朝向所述射流件的一側。 根據本創作的一些實施例，所述旋渦發生盤還設置有一導流柱，所述導流柱設於所述底壁的中部並朝所述射流件凸出設置，所述導流柱用於引導流體沿所述底壁自中心向四周流動。 根據本創作的一些實施例，沿靠近所述底壁的方向，所述導流柱的外徑遞增。 根據本創作的一些實施例，沿所述旋渦發生盤的軸向方向，所述多個射孔的投影位於所述導流柱的投影的外周。 根據本創作的一些實施例，沿所述旋渦發生盤的軸向方向，所述旋渦發生盤的投影覆蓋多個所述射孔的投影。 根據本創作的一些實施例，所述射流件的底部呈錐形設置並設有一凹位，所述凹位朝向所述旋渦發生盤。 根據本創作的一些實施例，所述旋渦粉碎件設置有一安裝槽，所述射流件至少部分容納於所述安裝槽，所述安裝槽的槽壁及所述射流件中，其一設有一定位凹部，另一設有與所述定位凹部卡接配合的一定位凸部。 根據本創作的一些實施例，所述旋渦發生盤的周壁設有多個連接筋，該多個連接筋沿所述旋渦發生盤的周向間隔佈置，所述連接筋沿所述旋渦發生盤的徑向凸出設置並與所述旋渦粉碎件連接。 根據本創作第二方面實施例的水龍頭，包括上述第一方面實施例的氣泡粉碎細化裝置。 上述技術方案至少具有如下有益效果：水龍頭由於採用上述氣泡粉碎細化裝置，其中，氣泡粉碎細化裝置透過設置該射流件及該旋渦發生盤組合形成旋渦發生空間，含氣液體經射流件的射孔加速射向該旋渦發生盤，高速的含氣液體受阻並在該旋渦發生空間產生渦流，含氣液體在渦流中碰撞、擾動及震盪激勵，使液體中粗大的氣泡被擊碎、細化，形成細小的氣泡，從而獲得具有微氣泡的液體並從過水孔流出，微氣泡的效果穩定，進而提高液體的處理能力，如去汙能力。同時，由於採用設有射孔的射流件，可減少孔的數量，且射孔的孔徑比過濾網的濾孔的孔徑大，不易出現堵塞情況，有效縮短後期維護時間，便於水龍頭的維護。

本創作之上述目的及其結構與功能上的特性，將依據所附圖式之較佳實施例予以說明。 在本創作的描述中，需要理解的是，涉及到方位描述，例如上、下、前、後、左、右等指示的方位或位置關係為基於附圖所示的方位或位置關係，僅是為了便於描述本創作和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作，因此不能理解為對本創作的限制。 在本創作的描述中，若干的含義是一個或者多個，多個的含義是兩個以上，大於、小於、超過等理解為不包括本數，以上、以下、以內等理解為包括本數。如果有描述到第一、第二只是用於區分技術特徵為目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性或者隱含指明所指示的技術特徵的數量或者隱含指明所指示的技術特徵的先後關係。 本創作的描述中，除非另有明確的限定，設置、安裝、連接等詞語應做廣義理解，所屬技術領域技術人員可以結合技術方案的具體內容合理確定上述詞語在本創作中的具體含義。 請參閱第1 圖至第3圖所示，本創作的第一方面實施例提供一種氣泡粉碎細化裝置，該氣泡粉碎細化裝置包括一旋渦粉碎件100 及一射流件200。 復參閱第1 、2、3圖，並輔以參閱第6圖，可以理解的是，該氣泡粉碎細化裝置還包括用於安裝該旋渦粉碎件100 及該射流件200 的一安裝殼300，具體地，該安裝殼300係設置為一回轉體結構，此時，該回轉體結構的旋轉中心線即為該安裝殼300 的中心線，該安裝殼300 的中心線方向即為該安裝殼300 的軸向方向。該安裝殼300 設置有一第一內腔310，該第一內腔310 沿該安裝殼300 的軸向方向貫通並分別形成一進水端320 及一出水端330，以便供一含氣液體通過，該含氣液體即為液體中壓入空氣或吸入空氣。當然，該安裝殼300 的結構不限於該回轉體結構，該安裝殼300 的外形可以根據該氣泡粉碎細化裝置應用到一水龍頭上的實際情況進行設置，例如該安裝殼300 的截面外形為正方形或其他多邊形或可包容該第一內腔310、進水端320、出水端330及定位環340的不規則形狀，此處不對該安裝殼300 的結構形式作具體限定。 復參閱第1 、2、3圖，可以理解的是，該旋渦粉碎件100 及該射流件200 均安裝於該第一內腔310，並且該射流件200 位於該旋渦粉碎件100 朝向該進水端320 的一側，沿該安裝殼300 的軸向方向的投影，該旋渦粉碎件100 及該射流件200 的外形均為圓形，該旋渦粉碎件100 及該射流件200 的中心線與該安裝殼300 的中心線重合，並且該旋渦粉碎件100及該射流件200 的周壁貼合於該第一內腔310 的內壁，該旋渦粉碎件100 及該射流件200 的軸向方向即為該安裝殼300 的軸向方向。 請參閱第2、3、4圖，可以理解的是，該旋渦粉碎件100 設置有一第二內腔110，該第二內腔110 沿該旋渦粉碎件100 的軸向方向貫通。該旋渦粉碎件100 還設置有一旋渦發生盤120，該旋渦發生盤120 呈盤狀結構，該旋渦發生盤120係 佈置於該第二內腔110 中。具體地，該旋渦發生盤120 的中心線與該旋渦粉碎件100 的中心線重合，該旋渦發生盤120 的周壁連接有多個連接筋124，例如該旋渦發生盤120 連接有三個連接筋124，三個連接筋124 係沿該旋渦發生盤120 的周向均布，連接筋124 沿旋渦發生盤120的徑向方向凸出設置並與第二內腔110 的內壁連接，從而使該旋渦發生盤120 固定於該旋渦粉碎件100 的第二內腔110 中。並該旋渦發生盤120 及該旋渦粉碎件100 可以是一體結構。該旋渦發生盤120 用於使流動的液體形成渦流。 復參閱第4圖，可以理解的是，該第二內腔110 的內壁、該旋渦發生盤120 的周壁與相鄰兩個連接筋124 之間形成一過水孔130，即共形成有三個過水孔130，所述三個過水孔130 位於該旋渦發生盤120 的外周，且每一過水孔130 用於供該含氣液體形成渦流後通過。 再參閱第2 、4、5圖，可以理解的是，該射流件200 安裝於該旋渦粉碎件100 朝向該進水端320 的一側，並且該射流件200 與該旋渦發生盤120 之間係間隔佈置，從而該射流件200 與該旋渦發生盤120 之間形成一旋渦發生空間140，以便該含氣液體形成渦流。該射流件200 設置有多個射孔210，該多個射孔210 均朝向該旋渦發生盤120 設置，一般而言，每一射孔210 的孔徑為0.2mm(公厘)至0.8mm(公厘)，並每一射孔210 的孔徑遠大於一過濾網的濾孔的孔徑，不易堵塞，且該射孔210 的孔徑在該範圍內，能夠避免因孔徑過小而導致水流量不足的弊端，以及避免因孔徑過大而導致液體中的氣泡過大的弊端。該射孔210 的橫截面可以是圓形、三角形、橢圓形等，此處不對射孔210 的形狀作具體限定。當該含氣液體通過射孔210 時，能夠增加含氣液體的流速，使含氣液體加速射向該旋渦發生盤120，並在該旋渦發生空間140 中產生渦流，最後經該過水孔130 輸出。 透過設置該射流件200 及該旋渦發生盤120 組合形成該旋渦發生空間140，令含氣液體經該射流件200 的多個射孔210 加速射向該旋渦發生盤120，高速的含氣液體受阻並在該旋渦發生空間140 產生渦流，含氣液體在渦流中碰撞、擾動及震盪激勵，使液體中粗大的氣泡被擊碎、細化，形成細小的氣泡，從而獲得具有微氣泡的液體並從多個過水孔130 流出，微氣泡的效果穩定，進而提高液體的處理能力，如去汙能力。同時，由於採用設有多個射孔210 的該射流件200，可減少孔的數量，且射孔210 的孔徑比過濾網的濾孔的孔徑大，不易出現堵塞情況，有效縮短後期維護時間，便於維護。 復參閱第2、4圖，可以理解的是，該旋渦發生盤120 包括一底壁121 及圍繞該底壁121 設置的一側壁122，該側壁122 位於該底壁121 朝向該射流件200 的一側，該底壁121朝向該射流件200 的一側呈中間高、四周低設置，即該底壁121 的中部朝向該射流件200 凸出設置，也就是說，該底壁121 朝向該射流件200 的端面（即該底壁121 的上端面）自中部向四周傾斜設置，從而含氣液體射向該底壁121 時，能夠沿該底壁121的上端面向該旋渦發生盤120 的四周流動，並流向該側壁122，在該側壁122 的阻擋作用下，含氣液體上沖並反向流動，從而在該旋渦發生空間140 中形成渦流，進而使含氣液體在渦流中碰撞、擾動和震盪激勵，液體中粗大的氣泡被擊碎、細化，形成細小的氣泡，氣泡的大小可達微納米級別，從而獲得具有微氣泡的液體。 復參閱第2、4圖，可以理解的是，該旋渦發生盤120 還設置有一導流柱123，該導流柱123 設置於該底壁121 的中部並該朝射流件200 凸出設置，該導流柱123 的周壁與該底壁121 的上端面透過弧面過渡連接，並透過設置該導流柱123，一方面，令含氣液體能夠射向導流柱123 的周壁，從而引導含氣液體沿該導流柱123 的周壁向下流動至該底壁121 的上端面，並沿該底壁121 的上端面自中心向四周流動，以便形成渦流；另一方面，在形成渦流過程中，含氣液體在該側壁122 的阻擋作用下上沖並反向流動時，含氣液體流向導流柱123 的周壁，並再次向該底壁121 的四周流動，從而使渦流沿規定的方向滾動，避免形成無序渦流而產生巨大的阻力，進而減小含氣液體進入該旋渦發生空間140 的阻力，穩定渦流的形態，避免在該安裝殼300的進水端320 產生較大的背壓阻力而影響用於形成含氣液體的空氣的進氣量，進而獲得品質穩定的含微氣泡液體。 復參閱第4圖，可以理解的是，該導流柱123 可以設置為錐形柱結構，沿靠近該底壁121 的方向，該導流柱123 的外徑遞增，即該導流柱123 的外徑自上而下遞增，也就是說，該導流柱123 的上端為小端，其下端為大端；所述錐形柱結構的母線可以是直線或開口朝向該導流柱123 的外側的弧線。從而該導流柱123 能夠使渦流沿規定的方向滾動，穩定渦流的形態，以使液體中粗大的氣泡被擊碎、細化，形成細小的氣泡，獲得品質穩定的含微氣泡液體。 復參閱第2圖，可以理解的是，沿該旋渦發生盤120 的軸向方向，該多個射孔210 的投影均位於該導流柱123 的投影的外周，即沿該旋渦發生盤120 的軸向方向，多個射孔210 與該導流柱123 錯位佈置，從而可避免因含氣液體射向該導流柱123 的上端面而無法形成渦流的弊端，以及避免因含氣液體射向該導流柱123 的上端面而擾亂渦流方向的弊端，使形成穩定的渦流。 參閱第2圖，可以理解的是，沿該旋渦發生盤120 的軸向方向，該旋渦發生盤120的投影覆蓋該多個射孔210 的投影，即經該多個射孔210 射出的含氣液體均能射向該旋渦發生盤120，以便全部含氣液體均能形成渦流，使液體中粗大的氣泡被擊碎、細化，形成細小的氣泡，獲得具有微氣泡的液體，增強粉碎、細化氣泡的效果。 參閱第2、5圖，可以理解的是，該射流件200 的底部設置為薄壁狀結構，並且該射流件200 的底部呈錐形設置，一方面可增加該射流件200 的結構強度，使含氣液體能夠沿該射流件200 流動至該多個射孔210，且在該多個射孔210 處，可一定程度上切割氣泡，實現粉碎氣泡；另一方面，錐形設置的底部朝向該旋渦發生盤120 的一側設有一凹位220，以與該旋渦發生盤120 形成該旋渦發生空間140 並增大該旋渦發生空間140，以便形成渦流。 復參閱第2、4 、5圖，可以理解的是，該旋渦粉碎件100 靠近該進水端320的一端設置有一安裝槽150，該射流件200 的下部能夠容納於該安裝槽150。且該安裝槽150 的槽壁設置有環形的一定位凹部151，該射流件200 的周壁設置有環形的一定位凸部230，當該射流件200 容納於該安裝槽150 時，該射流件200的定位凸部230 容納於該定位凹部151 以卡接配合，從而將該射流件200 固定安裝於該旋渦粉碎件100，即該射流件200鑲嵌於該旋渦粉碎件100，以便於組裝，進而使該旋渦粉碎件100 及該射流件200 形成一個整體，方便將整體安裝至該安裝殼300 或將整體從該安裝殼300 上拆卸以進行清洗維護。當然，該定位凹部151 和該定位凸部230 在安裝槽150 的槽壁和射流件200上的位置可以互換，此處不再贅述。 參閱第1 、2、3圖，輔以參閱第6圖，可以理解的是，該氣泡粉碎細化裝置還包括一整流件400，該整流件400 透過螺紋連接方式安裝於該安裝殼300 的出水端330。具體地，該安裝殼300的第一內腔310 的內壁凸出設置有一定位環340，該旋渦粉碎件100 及該射流件200 的整體中，該射流件200 的上端面抵接於該定位環340，該整流件400 則抵接於該旋渦粉碎件100 的下端面，從而使該旋渦粉碎件100 和該射流件200 的整體固定於安裝殼300，進而使氣泡粉碎細化裝置形成一個整體，便於安裝至該水龍頭。 復參閱第1 、2、3圖，可以理解的是，該整流件400 可以是常見的多孔網式結構，成本低。具體地，該整流件400 設置有多個用於出水的通孔410，該整流件400 與該旋渦發生盤120 之間形成一過渡空間420。該旋渦發生空間140 中的渦流經過該多個過水孔130進入該過渡空間420，渦流在該過渡空間420 中擴張、減速增壓後再次粉碎，進一步增強粉碎、細化氣泡的效果，再經該多個通孔410 輸出，以整理出水流向，從而獲得滿足需求的含微納米級別氣泡的液體，適合於安裝至該水龍頭的末端。 本創作的第二方面實施例提供一種水龍頭，安裝有上述第一方面實施例的氣泡粉碎細化裝置。該水龍頭由於採用上述氣泡粉碎細化裝置，其中，該氣泡粉碎細化裝置透過設置該射流件200 及該旋渦發生盤120 組合形成該旋渦發生空間140，令含氣液體經該射流件200 的射孔210 加速射向該旋渦發生盤120，高速的含氣液體受阻並在該旋渦發生空間140 產生渦流，且含氣液體在渦流中碰撞、擾動和震盪激勵，使液體中粗大的氣泡被擊碎、細化，形成細小的氣泡，從而獲得具有微氣泡的液體並從過水孔130 流出，微氣泡的效果穩定，進而提高液體的處理能力，如去汙能力。同時，由於採用設有射孔210 的射流件200，可減少孔的數量，且射孔210的孔徑比過濾網的濾孔的孔徑大，不易出現堵塞情況，有效縮短後期維護時間，便於該水龍頭的維護。 上面結合附圖對本創作實施例作了詳細說明，但是本創作不限於上述實施例，在所屬技術領域普通技術人員所具備的知識範圍內，還可以在不脫離本創作宗旨的前提下作出各種變化。

100:旋渦粉碎件 110:第二內腔 120:旋渦發生盤 121:底壁 122:側壁 123:導流柱 124:連接筋 130:過水孔 140:旋渦發生空間 150:安裝槽 151:定位凹部 200:射流件 210:射孔 220:凹位 230:定位凸部 300:安裝殼 310:第一內腔 320:進水端 330:出水端 340:定位環 400:整流件 410:通孔 420:過渡空間

第1圖為本創作實施例中氣泡粉碎細化裝置的結構示意圖； 第2圖 為本創作實施例中氣泡粉碎細化裝置的剖視圖； 第3圖 為本創作實施例中氣泡粉碎細化裝置的分解示意圖； 第4圖為本創作實施例中旋渦粉碎件的結構示意圖； 第5圖為本創作實施例中射流件的結構示意圖； 第6圖為本創作實施例中安裝殼的結構示意圖。

100:旋渦粉碎件

110:第二內腔

120:旋渦發生盤

121:底壁

122:側壁

123:導流柱

140:旋渦發生空間

200:射流件

210:射孔

220:凹位

230:定位凸部

300:安裝殼

310:第一內腔

320:進水端

400:整流件

410:通孔

420:過渡空間

Claims (10)

1. 一種氣泡粉碎細化裝置，包括： 一旋渦粉碎件，設置有一旋渦發生盤及位於所述旋渦發生盤的外周的至少一過水孔，所述過水孔用於供流體通過，所述旋渦發生盤用於形成渦流；及 一射流件，安裝於所述旋渦粉碎件的一端，所述射流件設置有多個用於增加流速的射孔，所述多個射孔朝向所述旋渦發生盤設置，所述射流件及所述旋渦發生盤之間形成一旋渦發生空間。
2. 如申請專利範圍第1項所述氣泡粉碎細化裝置，其中所述旋渦發生盤包括一底壁及圍繞所述底壁設置的一側壁，所述底壁朝向所述射流件的一側呈中間高、四周低設置，所述側壁位於所述底壁朝向所述射流件的一側。
3. 如申請專利範圍第2項所述氣泡粉碎細化裝置，其中所述旋渦發生盤還設置有一導流柱，所述導流柱設於所述底壁的中部並朝所述射流件凸出設置，所述導流柱用於引導流體沿所述底壁自中心向四周流動。
4. 如申請專利範圍第3項所述氣泡粉碎細化裝置，其中所述導流柱沿靠近所述底壁的方向，所述導流柱的外徑遞增。
5. 如申請專利範圍第4項所述氣泡粉碎細化裝置，其中沿所述旋渦發生盤的軸向方向，所述多個射孔的投影位於所述導流柱的投影的外周。
6. 如申請專利範圍第1或5項所述氣泡粉碎細化裝置，其中沿所述旋渦發生盤的軸向方向，所述旋渦發生盤的投影覆蓋所述多個射孔的投影。
7. 如申請專利範圍第1項所述氣泡粉碎細化裝置，其中所述射流件的底部呈錐形設置並設有一凹位，所述凹位朝向所述旋渦發生盤。
8. 如申請專利範圍第1項所述氣泡粉碎細化裝置，其中所述旋渦粉碎件設置有一安裝槽，所述射流件至少部分容納於所述安裝槽，所述安裝槽的槽壁及所述射流件中其一設有一定位凹部，另一設有與所述定位凹部卡接配合的一定位凸部。
9. 如申請專利範圍第1項所述氣泡粉碎細化裝置，其中所述旋渦發生盤的周壁設有多個連接筋，所述多個連接筋沿所述旋渦發生盤的周向間隔佈置，所述多個連接筋沿所述旋渦發生盤的徑向凸出設置並與所述旋渦粉碎件連接。
10. 一種水龍頭，包含如申請專利範圍第1至9項中任一項所述之氣泡粉碎細化裝置。

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