TWM484587U - 可簡化被鍍物抓取之濺射腔結構 - Google Patents
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Description
本創作係有關於一種濺射腔結構,尤其是一種可簡化被鍍物抓取之濺射腔結構。
請參考圖一,習知技術中的濺射腔1’其外側有一腔門100’,用於置入或取出靶材;如欲同時在一被鍍物上濺鍍數種靶材,則必須有數個濺鍍槍4’,各濺鍍槍的前端安裝有靶材40’,該濺鍍槍將會令靶材的分子游離濺射到被鍍物3’上。該濺鍍槍的投射端係在該濺射腔內,而另一端則延伸到該濺射腔1’外,已使得操作人員可以進行所需要的操作。另外設有一轉盤2’,係為一盤體2’位在該濺射腔1’之內,該盤體可乘載一被鍍物3’,該轉盤2’尚包含驅動結構,該驅動結構包含:一轉動軸,該轉動軸的一端固定在該轉盤的中心部位,另一端延伸出該濺射腔之外,並連結一驅動器(圖中沒顯示,係位在該濺射腔外),該驅動器可以進行徑向轉動而使得該轉盤旋轉。其中該腔門100’的門體係大略垂直於該轉盤的盤面,以便於抓取轉盤上的被鍍物3’。
一抓取裝置400’,該抓取裝置用於由該腔門100’置入或取出該被鍍物3’。使用時,該抓取裝置靠近該腔門,並深入腔門內取出或置入該被鍍物。
一輸送裝置5’,該輸送裝置用於將該被鍍物3’從該濺射腔取出,其該輸送裝置包含:一前輸送腔50’,為一腔體,該腔體可密閉態抽真空。使用時,將該前輸送腔靠近該濺射腔的腔門,將該前輸送腔抽取呈真空狀態,將該濺射腔的腔門打開,由於該前輸送腔以抽真空,所以兩者連通時,並不會破壞濺射腔的真空態。然後該抓取裝置將以濺鍍完成的該被鍍物取出,並經該腔門饋送入該前輸送腔。以便於取出該被鍍物,隨後再將該濺射腔的腔門關閉。一隔離閥51’,該隔離閥位於該前輸送腔的後方,可以隔離該前輸送腔與該係輸送裝置的其餘部位,而保持該前輸送腔的真空態。一後輸送腔52’,該後輸送腔位於該隔離閥的後方,而與該前輸送腔形成一完全的腔體,兩者應用該隔離閥隔離。當該被鍍物已被取出並至於該前輸送腔內時,將該隔離閥打開,便可將該被鍍物移至該後輸送腔,再將該後輸送腔的腔門打開,以夾爪取出該被鍍物。
在上述的習知技術中,濺射腔的外側設有一腔門,該腔門100’的門體係大略垂直於該轉盤的盤面,以抓取轉盤上的被鍍物3’。所以必須配置該抓取裝置。惟該抓取裝置為機動結構,其後方必須有電控裝置,以控制該抓取機構的動作。不惟,成本高昂,結構複雜。而且整體的結構有部分必須伸出該前輸送腔,所以有可能破壞原濺射腔的真空,以至於整體的操作難度變高,時間也拉長。由於該抓取裝置在抓取被鍍物時,需耗費較多的時間,因此反覆打開該濺射腔,破壞其真空度,再建立真空,整體操作時間拉長,而且此一過程又會造成對被鍍物鍍膜的損害,而影響整個濺鍍品
質。因此若能提出一種能夠簡省成本及空間的濺射結構,必能帶來更高的經濟效益,且增進濺鍍的品質。
因此本案的創作人鑒於對於對習知技術的了解,所以希望能提出一嶄新的結構,因此構思具新穎性的本案以解決上述習知技術中的缺點。
所以本創作的目的係為解決上述習知技術上的問題,本創作中提出一種可簡化被鍍物抓取之濺射腔結構,其優點為透過該升降軸將該被鍍物推出該濺射腔至該輸送裝置內,其輸送裝置也為抽真空的狀態,因此並不會破壞原先該濺射腔的真空狀態,以至於整體的操作難度降低,時間也減短。因此為一能夠簡省成本及空間的濺射結構。
為達到上述目的本創作中提出一種可簡化被鍍物抓取之濺射腔結構,包含:一濺射腔,為一腔體結構;該濺射腔有一腔門,係用於取出或置入一被鍍物於該濺射腔內;一受鍍轉盤,包含一盤體位在該濺射腔之內,該盤體上包含至少一穿孔,係用於安置濺射所需要的被鍍物;其中該腔門的門體平行於該受鍍轉盤,以利於從該受鍍轉盤上攫取該被鍍物並饋送出該濺射腔外;一濺鍍槍,其中靶材係安裝在該濺鍍槍前方的投射端,該濺鍍槍的投射端係在該濺射腔內,而另一端則延伸到該濺射腔外;一升降軸,該升降軸係安裝在該濺射腔的一側,相對於該受鍍轉盤,該升降軸與該濺鍍槍同一側;該升降軸的軸向位置指向該腔門;該升降軸可進行前後的軸向移動,以便將該被鍍物向前頂出該受鍍轉盤,並向該腔門移動;以及一
輸送裝置,該輸送裝置用於將該被鍍物從該濺射腔取出,但不破壞該濺射腔內的真空狀態。
由下文的說明可更進一步瞭解本創作的特徵及其優點,閱讀時並請參考附圖。
1‧‧‧濺射腔
2‧‧‧受鍍轉盤
3‧‧‧被鍍物
4‧‧‧濺鍍槍
5‧‧‧升降軸
6‧‧‧輸送裝置
20‧‧‧穿孔
21‧‧‧轉動軸
201‧‧‧靶材
100‧‧‧腔門
60‧‧‧前輸送腔
61‧‧‧隔離閥
62‧‧‧後輸送腔
圖一顯示習知技術的示意圖。
圖二顯示本創作的立體圖。
圖三顯示本創作的應用示意圖。
圖四顯示本創作的應用示意圖。
茲謹就本案的結構組成,及所能產生的功效與優點,配合圖式,舉本案之一較佳實施例詳細說明如下。
請參考圖二至圖四所示,顯示本創作之可簡化被鍍物抓取之濺射腔結構,包含下列元件:一濺射腔1,為一腔體結構,用於容納本創作之其他元件;該濺射腔為一高真空的腔體。主要是濺射程序必須在高度真空下進行。該濺射腔有一腔門100,係用於取出或置入一被鍍物3於該濺射腔內。
一受鍍轉盤2,包含一盤體位在該濺射腔之內,該盤體上包含至少兩穿孔20,係用於安置濺射所需要的被鍍物3;圖中顯示該受鍍轉盤具有四個穿
孔,所以可容納四種不同的被鍍物3;該受鍍轉盤尚包含驅動結構已驅動該轉盤旋轉,該驅動結構包含:一轉動軸21,該轉動軸的一端固定在該受鍍轉盤的中心部位,另一端延伸出該濺射腔之外,並連結一驅動器(圖中未示,也位在該濺射腔外),該驅動器可以使該轉動軸徑向轉動而使得該受鍍轉盤旋轉。
其中該腔門的門體大略平行於該受鍍轉盤2,以利於從該受鍍轉盤上攫取該被鍍物3並饋送出該濺射腔1外。
一濺鍍槍4,其中靶材係安裝在該濺鍍槍4前方的投射端,在安裝態時該受鍍轉盤係位在該被鍍物及濺鍍槍之間;該濺鍍槍將會產生高電壓、雷射、射頻電波等不同的熱源驅動靶材,以使得靶材的分子游離濺射到被鍍物上。該濺鍍槍的投射端係在該濺射腔內,而另一端則延伸到該濺射腔外,以使得操作人員可以進行所需要的操作。
其中該靶材201可為各種不同的金屬、玻璃等材料,而可應用高電壓、雷射、射頻電波等不同的熱源驅動後,而使該靶材的粒子脫離靶材而射出。
安裝時,該被鍍物3係安裝在該受鍍轉盤的一穿孔內,而且對齊該濺鍍槍4的靶材。該受鍍轉盤轉動可令該被鍍物也跟著對齊該該濺鍍槍4中的靶材。當該該濺鍍槍4上的靶材受驅動後,急速濺射向該被鍍物,而在該被鍍物上形成一層膜,即所謂的濺鍍膜。
一升降軸5,該升降軸5係安裝在該濺射腔的一側,相對於該受鍍轉盤2,該升降軸與該濺鍍槍同一側。該升降軸的軸向位置指向該腔門100。該
升降軸可進行前後的軸向移動,以便將該被鍍物向前頂出該受鍍轉盤,並向該腔門移動。使用時,可以轉動該受鍍轉盤,以使得該被鍍物對齊該升降軸,將該升降軸往上提升,即可頂到該被鍍物3,而將該被鍍物舉升,並離開該受鍍轉盤。
一輸送裝置6,與該濺射腔1連結,該輸送裝置6用於將該被鍍物從該濺射腔取出,但不破壞該濺射腔內的真空狀態,該輸送裝置6包含:
一前輸送腔60,為一腔體,該腔體可密閉態抽真空。使用時,將該前輸送腔靠近該濺射腔的腔門,將該前輸送腔抽取呈真空狀態,將該濺射腔的腔門打開,由於該前輸送腔以抽真空,所以兩者連通時,並不會破壞濺射腔的真空態。然後該升降軸將以濺鍍完成該被鍍物頂出受鍍轉盤,並經該腔門饋送入該前輸送腔。以便於取出該被鍍物,隨後再將該濺射腔的腔門關閉。
一隔離閥61,該隔離閥位於該前輸送腔的後方,可以隔離該前輸送腔與該係輸送裝置的其餘部位,而保持該前輸送腔的真空態。
一後輸送腔62,該後輸送腔位於該隔離閥的後方,而與該前輸送腔形成一完全的腔體,兩者應用該隔離閥隔離。當該被鍍物已被取出並至於該前輸送腔內時,將該隔離閥打開,便可將該被鍍物移至該後輸送腔,再將該後輸送腔的腔門打開,以夾爪取出該被鍍物。
本創作的操作方式說明如下:
係將被鍍物安裝到濺射腔的既定位置,然後對該濺射腔抽取空氣,達
到所需要的真空度,然後將該轉盤調整到所需要的位置點,即可進行濺鍍的動作。當被鍍物上的薄膜達到所需要的厚度及濃度時,則旋轉該轉盤使得下一個濺射靶材對齊該濺射腔的投射端,進行濺射的動作。其該濺射腔的外側設有一腔門,該腔門的門體係大略平行於該受鍍轉盤的盤面,以抓取轉盤上的被鍍物。所以必須配置該升降軸及輸送裝置,透過該升降軸將該被鍍物推出該濺射腔至該輸送裝置內,其輸送裝置也為抽真空的狀態,因此並不會破壞原先該濺射腔的真空狀態,以至於整體的操作難度降低,時間也減短。因此為一能夠簡省成本及空間的濺射結構。
綜上所述,本案人性化之體貼設計,相當符合實際需求。其具體改進現有缺失,相較於習知技術明顯具有突破性之進步優點,確實具有功效之增進,且非易於達成。本案未曾公開或揭露於國內與國外之文獻與市場上,已符合專利法規定。
上列詳細說明係針對本創作之一可行實施例之具體說明,惟該實施例並非用以限制本創作之專利範圍,凡未脫離本創作技藝精神所為之等效實施或變更,均應包含於本案之專利範圍中。
1‧‧‧濺射腔
2‧‧‧受鍍轉盤
3‧‧‧被鍍物
4‧‧‧濺鍍槍
5‧‧‧升降軸
6‧‧‧輸送裝置
20‧‧‧穿孔
21‧‧‧轉動軸
201‧‧‧靶材
100‧‧‧腔門
60‧‧‧前輸送腔
61‧‧‧隔離閥
62‧‧‧後輸送腔
Claims (5)
- 一種可簡化被鍍物抓取之濺射腔結構,包含:一濺射腔,為一腔體結構;該濺射腔為一高真空的腔體;主要是濺射程序必須在高度真空下進行;該濺射腔有一腔門,係用於取出或置入一被鍍物於該濺射腔內;一受鍍轉盤,包含一盤體位在該濺射腔之內,該盤體上包含至少一穿孔,係用於安置濺射所需要的被鍍物;其中該腔門的門體平行於該受鍍轉盤,以利於從該受鍍轉盤上攫取該被鍍物並饋送出該濺射腔外;一濺鍍槍,其中靶材係安裝在該濺鍍槍前方的投射端,在安裝態時該受鍍轉盤係位在該被鍍物及濺鍍槍之間;該濺鍍槍將會產生不同的熱源或輻射源驅動靶材,以使得靶材的分子游離濺射到被鍍物上;該濺鍍槍的投射端係在該濺射腔內,而另一端則延伸到該濺射腔外;安裝時,該被鍍物係安裝在該受鍍轉盤的一穿孔內,而且對齊該濺鍍槍的靶材;該受鍍轉盤轉動可令該被鍍物也跟著對齊該該濺鍍槍中的靶材;一升降軸,該升降軸係安裝在該濺射腔的一側,相對於該受鍍轉盤,該升降軸與該濺鍍槍同一側;該升降軸的軸向位置指向該腔門;該升降軸可進行前後的軸向移動,以便將該被鍍物向前頂出該受鍍轉盤,並向該腔門移動;使用時,可以轉動該受鍍轉盤,以使得該被鍍物對齊該升降軸,將該升降軸往上提升,即可頂到該被鍍物,而將該被鍍物舉升,並離開該 受鍍轉盤;以及一輸送裝置,該輸送裝置與該濺射腔連結,該輸送裝置用於將該被鍍物從該濺射腔取出,但不破壞該濺射腔內的真空狀態。
- 如申請專利範圍第1項所述之可簡化被鍍物抓取之濺射腔結構,其中該輸送裝置包含:一前輸送腔,為一腔體,該腔體可密閉態抽真空,使用時,將該前輸送腔靠近該濺射腔的腔門,將該前輸送腔抽取呈真空狀態,將該濺射腔的腔門打開,由於該前輸送腔以抽真空,所以兩者連通時,並不會破壞濺射腔的真空態;然後該升降軸將以濺鍍完成該被鍍物頂出受鍍轉盤,並經該腔門饋送入該前輸送腔;以便於取出該被鍍物,隨後再將該濺射腔的腔門關閉;一隔離閥,該隔離閥位於該前輸送腔的後方,可以隔離該前輸送腔與該係輸送裝置的其餘部位,而保持該前輸送腔的真空態;以及一後輸送腔,該後輸送腔位於該隔離閥的後方,而與該前輸送腔形成一完全的腔體,兩者應用該隔離閥隔離;當該被鍍物已被取出並至於該前輸送腔內時,將該隔離閥打開,便可將該被鍍物移至該後輸送腔,再將該後輸送腔的腔門打開,以夾爪取出該被鍍物。
- 如申請專利範圍第1項所述之可簡化被鍍物抓取之濺射腔結構,其中該受鍍轉盤具有四個穿孔,所以可容納四種被鍍物。
- 如申請專利範圍第1項所述之可簡化被鍍物抓取之濺射腔結構,其中 該受鍍轉盤尚包含驅動結構以驅動該轉盤旋轉,該驅動結構包含:一轉動軸,該轉動軸的一端固定在該受鍍轉盤的中心部位,另一端延伸出該濺射腔之外,並連結一驅動器(也位在該濺射腔外),該驅動器可以使該轉動軸徑向轉動而使得該受鍍轉盤旋轉。
- 如申請專利範圍第1項所述之可簡化被鍍物抓取之濺射腔結構,其中該靶材為金屬或玻璃材料任一,而可應用高電壓、雷射、射頻電波等不同的熱源驅動後,而使該靶材的粒子脫離靶材而射出。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN110819947A (zh) * | 2018-08-10 | 2020-02-21 | 无锡变格新材料科技有限公司 | 一种溅镀机及其溅镀工艺 |
-
2013
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