TWI842962B

TWI842962B - 光學脈衝拉伸器、擴展光學脈衝拉伸器、雷射源、微影裝置及用於產生及導引雷射束之方法

Info

Publication number: TWI842962B
Application number: TW109135095A
Authority: TW
Inventors: 艾瑞克安德爾斯梅森; 中全趙; 葉紅
Original assignee: 美商希瑪有限責任公司
Priority date: 2019-10-16
Filing date: 2020-10-12
Publication date: 2024-05-21

Abstract

本發明提供一種擴展之光學脈衝拉伸器，其以組合方式組合共焦脈衝拉伸器以產生例如每光學線路組態4次反射、4次反射、12次反射及12次反射。不同鏡面間隔與延遲路徑長度之組合的包括可能產生極長脈衝拉伸、長光學延遲及最小效率損耗。此外，在該擴展之光學脈衝拉伸器中，至少一光束***器可相對於該等鏡面之曲率中心而定位以「平化」該等線路中之每一者以使得該光束能夠在相同平面(例如平行於地面)中傳播。此外，該等個別鏡面之該等曲率及大小可經設計以更接近於鏡面組中之一者定位該光束***器以允許該等光學脈衝拉伸器恰當地安裝於一雷射系統中之一經分配位置中。

Description

光學脈衝拉伸器、擴展光學脈衝拉伸器、雷射源、微影裝置及用於產生及導引雷射束之方法

本發明係關於可用於延長一雷射源(諸如高功率氣體放電雷射系統)之輸出之脈衝以在遞送基本上相同劑量的同時減小脈衝之峰值功率的光學脈衝拉伸器，例如用作例如微影裝置中之脈衝光源。

微影裝置為將所要圖案塗覆至基板上(通常塗覆至基板之目標部分上)之機器。微影裝置可用於(例如)積體電路(IC)之製造中。在彼情況下，圖案化器件(其替代地被稱作光罩或倍縮光罩)可用以產生待形成於IC之個別層上的電路圖案。此圖案可轉印至基板(例如，矽晶圓)上之目標部分(例如，包含晶粒之部分、一個晶粒或若干晶粒)上。通常經由成像至提供於基板上之輻射敏感材料(抗蝕劑)層上來進行圖案之轉印。大體而言，單一基板將含有經順次地圖案化之鄰近目標部分之網路。已知的微影裝置包括：所謂的步進器，其中藉由一次性將整個圖案曝光至目標部分上來輻照每一目標部分；及所謂的掃描器，其中藉由在給定方向(「掃描」方向)上通過輻射光束掃描圖案同時平行或反平行於此掃描方向來同步地掃描目標部分而輻照每一目標部分。亦有可能藉由將圖案壓印至基板上而將圖案自圖案化器件轉移至基板。

雷射源可與微影裝置一起使用以用於例如產生用於照明圖案化器件之照明輻射。雷射源可包括用於延長高功率氣體放電雷射系統之輸出之脈衝的光學脈衝拉伸器。然而，現有技術可不會在足夠光學效率情況下提供足夠脈衝拉伸，其亦不安裝在雷射源之可用容積中。

本發明中描述經設計以達成極長脈衝拉伸以及安裝於可用雷射器容積中之能力的堆疊共焦脈衝拉伸器之實施例。

本發明之一個態樣提供經組態以接收雷射束並產生輸出脈衝拉伸雷射束的光學脈衝拉伸器。光學脈衝拉伸器包括一第一級光學脈衝拉伸器，其包括兩個或更多個鏡面且經組態以接收雷射束之一部分並產生第一脈衝拉伸雷射束。光學脈衝拉伸器進一步包括一第二級光學脈衝拉伸器，其包括四個或更多個鏡面且經組態以接收第一脈衝拉伸雷射束之一部分及產生第二脈衝拉伸雷射束。光學脈衝拉伸器亦包括一第三級光學脈衝拉伸器，其包括四個或更多個鏡面且經組態以接收第二脈衝拉伸雷射束之一部分並產生輸出脈衝拉伸雷射束。

在一些實施例中，第一級光學脈衝拉伸器之兩個或更多個鏡面、第二級光學脈衝拉伸器之四個或更多個鏡面及第三級光學脈衝拉伸器之四個或更多個鏡面包括凹面鏡。

在一些實施例中，第一級光學脈衝拉伸器之兩個鏡面、第二級光學脈衝拉伸器之四個鏡面及第三級光學脈衝拉伸器之四個鏡面包括矩形凹面鏡。

在一些實施例中，第一級光學脈衝拉伸器經組態以藉由使用第一級光學脈衝拉伸器之兩個或更多個鏡面四次反射雷射束之部分而產生第一脈衝拉伸雷射束。此外，在一些實施例中，第二級光學脈衝拉伸器經組態以藉由使用第二級光學脈衝拉伸器之四個或更多個鏡面十二次反射第一脈衝拉伸雷射束之部分而產生第二脈衝拉伸雷射束。另外，在一些實施例中，第三級光學脈衝拉伸器經組態以藉由使用第三級光學脈衝拉伸器之四個或更多個鏡面十二次反射第二脈衝拉伸雷射束之部分產生輸出脈衝拉伸雷射束。

在一些實施例中，光學脈衝拉伸器進一步包括一第一光束***器，其對應於第一級光學脈衝拉伸器且經組態以接收雷射束並將雷射束之部分導引至第一級光學脈衝拉伸器之兩個或更多個鏡面。在一些實施例中，第一光束***器可更接近於第一光學脈衝拉伸器的兩個或更多個鏡面中之第一者而定位且第一光束***器可為D形光束***器。在一些實施例中，第一光束***器相對於兩個或更多個鏡面之曲率中心而定位以平化第一級光學脈衝拉伸器並使得雷射束之部分能在第一級光學脈衝拉伸器中在相同平面中傳播。

在一些實施例中，光學脈衝拉伸器進一步包括一第二光束***器，其對應於第二級光學脈衝拉伸器且經組態以接收第一脈衝拉伸雷射束並將該第一脈衝拉伸雷射束之部分導引至第二級光學脈衝拉伸器之四個或更多個鏡面。根據一些實施例，第二光束***器相對於第二級光學脈衝拉伸器的四個或更多個鏡面之曲率中心而定位以平化第二級光學脈衝拉伸器並使第一脈衝拉伸雷射束之部分能夠在第二級光學脈衝拉伸器中在相同平面中傳播。

在一些實施例中，光學脈衝拉伸器可進一步包括一第三光束***器，其對應於第三級光學脈衝拉伸器且經組態以接收第二脈衝拉伸雷射束並將該第二脈衝拉伸雷射束之部分導引至第三級光學脈衝拉伸器之四個或更多個鏡面。在一些實施例中，第三光束***器相對於第三級光學脈衝拉伸器的四個或更多個鏡面之曲率中心而定位以平化第三級光學脈衝拉伸器並使第二脈衝拉伸雷射束之部分能夠在第三級光學脈衝拉伸器中在相同平面中傳播。

在一些實施例中，第二光束***器更接近於第二光學脈衝拉伸器之四個或更多個鏡面的第一對而定位且第二光束***器可為D形光束***器。在一些實施例中，第三光束***器更接近於第三光學脈衝拉伸器之四個或更多個鏡面的第一對而定位且第三光束***器可為D形光束***器。

在一些實施例中，藉由第一級光學脈衝拉伸器接收的雷射束為藉由正交級光學脈衝拉伸器產生的脈衝拉伸雷射束，其中正交級光學脈衝拉伸器係在光學脈衝拉伸器外部及垂直或大致垂直於光學脈衝拉伸器而定位。在一些實施例中，正交級光學脈衝拉伸器經組態以四次反射雷射束之部分。

本發明之另一態樣提供一雷射源。該雷射源包括經組態以接收雷射束並產生輸出脈衝拉伸雷射束的光學脈衝拉伸器。光學脈衝拉伸器包括一第一級光學脈衝拉伸器，其包括兩個鏡面且經組態以接收雷射束之一部分並產生第一脈衝拉伸雷射束。光學脈衝拉伸器進一步包括一第二級光學脈衝拉伸器，其包括四個或更多個鏡面且經組態以接收第一脈衝拉伸雷射束之一部分及產生第二脈衝拉伸雷射束。光學脈衝拉伸器亦包括一第三級光學脈衝拉伸器，其包括四個或更多個鏡面且經組態以接收第二脈衝拉伸雷射束之一部分並產生輸出脈衝拉伸雷射束。

本發明之另一態樣提供一微影裝置，其包括：一照明系統，其經組態以調節一輻射光束；一支撐結構，其經組態以支撐一圖案化器件；一基板台，其經組態以固持一基板；一投影系統，其經組態以將藉由圖案化器件賦予至輻射光束的圖案投影至基板之一目標部分上。該照明系統包括一雷射源。該雷射源包括經組態以接收雷射束並產生輸出脈衝拉伸雷射束的光學脈衝拉伸器。該光學脈衝拉伸器包括一第一級光學脈衝拉伸器，其包括第一複數個共焦諧振器且經組態以接收雷射束之一部分並產生第一脈衝拉伸雷射束。該光學脈衝拉伸器進一步包括一第二級光學脈衝拉伸器，其包括第二複數個共焦諧振器且經組態以接收第一脈衝拉伸雷射束之一部分並產生第二脈衝拉伸雷射束。該光學脈衝拉伸器進一步包括一第三級光學脈衝拉伸器，其包括第三複數個共焦諧振器且經組態以接收第二脈衝拉伸雷射束之一部分並產生輸出脈衝拉伸雷射束。

在一些實施例中，第一級光學脈衝拉伸器具有一第一光學延遲。第二級光學脈衝拉伸器具有等於或大於第一光學延遲之第二光學延遲。該第三級光學脈衝拉伸器具有等於或大於該第二光學延遲之一第三光學延遲。

本發明之另一態樣提供經組態以接收雷射束並產生輸出脈衝拉伸雷射束的光學脈衝拉伸器。光學脈衝拉伸器包括堆疊於光學脈衝拉伸器中的兩個或更多個共焦光學脈衝拉伸器。該兩個或更多個共焦光學脈衝拉伸器中之第一者經組態以接收雷射束的一部分並藉由四次反射雷射束之部分而產生第一脈衝拉伸雷射束。該兩個或更多個共焦光學脈衝拉伸器中之一第二者經組態以接收該第一脈衝拉伸雷射束之一部分並藉由十二次反射該第一脈衝拉伸雷射束之該部分而產生一第二脈衝拉伸雷射束。

本發明之另一態樣提供擴展之光學脈衝拉伸器。擴展之光學脈衝拉伸器包括一第一級光學脈衝拉伸器，其包括第一複數個共焦諧振器且經組態以接收一雷射束並產生第一脈衝拉伸雷射束。擴展之光學脈衝拉伸器進一步包括一堆疊共焦脈衝拉伸器。該堆疊共焦脈衝拉伸器包括一第二級光學脈衝拉伸器，其包括第二複數個共焦諧振器且經組態以接收第一脈衝拉伸雷射束之一部分並產生第二脈衝拉伸雷射束。該堆疊共焦脈衝拉伸器包括一第三級光學脈衝拉伸器，其包括第三複數個共焦諧振器且經組態以接收第二脈衝拉伸雷射束之一部分並產生第三脈衝拉伸雷射束。該堆疊共焦脈衝拉伸器包括一第四級光學脈衝拉伸器，其包括第四複數個共焦諧振器且經組態以接收第三脈衝拉伸雷射束之一部分並產生輸出脈衝拉伸雷射束。第一級光學脈衝拉伸器垂直或大致垂直於堆疊共焦脈衝拉伸器而定位

在一些實施例中，第一級光學脈衝拉伸器具有一第一光學延遲。第二級光學脈衝拉伸器具有等於或大於第一光學延遲之第二光學延遲。該第三級光學脈衝拉伸器具有等於或大於該第二光學延遲之一第三光學延遲。該第四級光學脈衝拉伸器具有等於或大於該第二光學延遲之一第四光學延遲。

本發明之另一態樣提供一種用於產生雷射束並經由光學脈衝拉伸器導引雷射束之方法。該光學脈衝拉伸器包括一第一級光學脈衝拉伸器，其包括第一複數個共焦諧振器且經組態以接收雷射束之一部分並產生第一脈衝拉伸雷射束。該光學脈衝拉伸器進一步包括一第二級光學脈衝拉伸器，其包括第二複數個共焦諧振器且經組態以接收第一脈衝拉伸雷射束之一部分並產生第二脈衝拉伸雷射束。該光學脈衝拉伸器亦包括一第三級光學脈衝拉伸器，其包括第三複數個共焦諧振器且經組態以接收第二脈衝拉伸雷射束之一部分並產生輸出脈衝拉伸雷射束。

下文中參考隨附圖式來詳細地描述另外特徵以及各種實施例之結構及操作。應注意，本發明不限於本文中所描述之特定實施例。本文中僅出於說明性目的呈現此類實施例。基於本文中所含之教示，額外實施例對於熟習相關技術者將為顯而易見的。

1:點

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100:微影裝置

100':微影裝置

300:微影製造單元

400:雷射源

401:擴展光學脈衝拉伸器

401a:第一光學脈衝拉伸器

401b:第二光學脈衝拉伸器

403a:第一雷射腔室

403b:第二雷射腔室

409:第一雷射束

411:第二雷射束

413:第三雷射束

420a:氣體源

420b:氣體源

501:鏡面

501a:鏡面

501b:鏡面

501c:鏡面

501d:鏡面

501e:鏡面

502:鏡面

502a:鏡面

502b:鏡面

502c:鏡面

502d:鏡面

502e:鏡面

503:光束***器

503a:光束***器

503b:光束***器

503c:光束***器

505:鏡面

505a:鏡面

505b:鏡面

507:一級光學脈衝拉伸器

509:鏡面

510:鏡面

511:光束***器

601:雷射束

603:雷射束

605:雷射束

607:雷射束

609:雷射束

611:雷射束

613:雷射束

701:可選補償器

802:可選光束***器

804:可選對準光學件

807:雷射束之一個部分

808a:鏡面

808b:鏡面

809:反射

811:雷射束

812:光學元件

814:系統孔徑

816:光束***器

AD:調整器

B:輻射光束

BD:光束遞送系統

BK:烘烤板

CH:冷卻板

CO:集光器

DE:顯影器

IF:位置感測器

IF1:位置感測器

IF2:位置感測器

IL:照明系統/照明器

IN:積光器

I/O1:輸入/輸出埠

I/O2:輸入/輸出埠

IPU:照明系統光瞳

IVR:真空內機器人

L:透鏡/透鏡群組

LACU:微影控制單元

LB:裝載匣

LC:微影製造單元

M1:光罩對準標記

M2:光罩對準標記

MA:圖案化器件

MP:光罩圖案

MT:支撐結構

P1:基板對準標記

P2:基板對準標記

PD:孔徑器件

PM:第一***

PPU:共軛光瞳

PS:投影系統

PW:第二***

RO:機器人

SC:旋塗器

SCS:監督控制系統

SO:輻射源

TCU:塗佈顯影系統控制單元

W:基板

WT:基板台

併入本文中且形成本說明書之一部分的隨附圖式說明本發明，且連同該描述進一步用以解釋本發明之實施例的原理且使熟習相關技術者能夠製造及使用本發明之實施例。

圖1為根據例示性實施例之反射微影裝置的示意性說明。

圖2為根據例示性實施例之透射微影裝置的示意性說明。

圖3為根據例示性實施例之微影製造單元的示意性說明。

圖4說明根據本發明之一些實施例之具有擴展光學脈衝拉伸器的雷射源之示意圖。

圖5A說明根據本發明之一些實施例的具有第一光學脈衝拉伸器及第二光學脈衝拉伸器之擴展光學脈衝拉伸器的正視圖之示意圖。

圖5B說明根據本發明之一些實施例的第二光學脈衝拉伸器之俯視圖的示意圖。

圖5C說明根據本發明之一些實施例的具有第一光學脈衝拉伸器及第二光學脈衝拉伸器之擴展光學脈衝拉伸器的側視圖之示意圖。

圖6A說明根據本發明之一些實施例的在第二光學脈衝拉伸器中之雷射光束之路徑的部分之示意圖。

圖6B說明根據本發明之一些實施例的在第二光學脈衝拉伸器及用於第二光學脈衝拉伸器中之鏡面的部分中的雷射光束之路徑之部分的示意圖。

圖7A說明根據本發明之一些實施例的第二光學脈衝拉伸器之第一級的示意性俯視圖。

圖7B說明根據本發明之一些實施例的第二光學脈衝拉伸器之第二或第三級的示意性俯視圖。

圖8說明根據本發明之一些實施例的在第一光學脈衝拉伸器中之雷射光束之路徑的部分之示意圖。

本發明之特徵將自結合圖式在下文闡述之詳細描述變得顯而易見，在圖式中，相同參考字元貫穿全文識別對應元件。在該等圖式中，除非另有指示，否則相同參考標號通常指示相同、功能上類似及/或結構上類似之元件。另外，通常，參考標號之最左側數字識別首次出現該參考標號之圖式。除非另有指示，否則貫穿本發明提供之圖式不應解釋為按比例繪製。

本說明書揭示併入本發明之特徵之一或多個實施例。所揭示之實施例僅例證本發明。本發明之範疇並不限於所揭示之實施例。本發明之寬度及範疇由隨附在此之申請專利範圍及其等效物界定。

所描述之實施例及本說明書中對「一個實施例」、「一實施例」、「一實例實施例」等之參考指示所描述之實施例可包括一特定特徵、結構或特性，但每一實施例可未必包括特定特徵、結構或特性。此外，此等短語未必指相同實施例。此外，當結合實施例來描述特定特徵、結構或特性時，應理解，無論是否明確地描述，結合其他實施例影響此特徵、結構或特性在熟習此項技術者之認識範圍內。

為易於描述，可在本文中使用諸如「在……之下」、「在……下方」、「下部」、「在……上方」、「在……上」、「上部」及其類似者的空間相對術語來描述如圖式中所說明之一個元件或特徵與另一元件或特徵之關係。除圖式中所描繪之定向以外，該空間相對術語意欲涵蓋裝置在使用或操作中之不同定向。裝置可以其他方式定向(旋轉90度或處於其他定向)，且本文中所使用的空間相對描述詞可同樣相應地進行解釋。

如本文中所使用之術語「約」指示可基於特定技術變化之給定數量之值。基於特定技術，術語「約」可指示例如在該值之10-30%內(例如，該值之±10%、±20%或±30%)變化之給定數量之值。

然而，在更詳細地描述此等實施例之前，有指導性的為呈現可供實施本發明之實施例的實例環境。

實例微影系統

圖1及圖2分別為微影裝置100及微影裝置100'之示意性說明，其中可實施本發明之實施例。微影裝置100及微影裝置100'各自包括以下各者：照明系統(照明器)IL，其經組態以調節輻射光束B(例如，深紫外線(DUV)輻射)；支撐結構(例如，光罩台)MT，其經組態以支撐圖案化器件(例如，光罩、倍縮光罩或動態圖案化器件)MA且連接至經組態以準確地定位該圖案化器件MA之第一***PM；及基板台(例如，晶圓台)WT，其經組態以固持基板(例如，抗蝕劑塗佈晶圓)W且連接至經組態以準確地定位該基板W之第二***PW。微影裝置100及100'亦具有投影系統PS，其經組態以將由圖案化器件MA賦予輻射光束 B之圖案投影至基板W之目標部分(例如包含一或多個晶粒)C上。在微影裝置100中，圖案化器件MA及投影系統PS為反射的。在微影裝置100'中，圖案化器件MA及投影系統PS為透射性的。

照明系統IL可包括用於導引、塑形或控制輻射光束B之各種類型之光學組件，諸如，折射、反射、反射折射、磁性、電磁、靜電或其他類型之光學組件，或其任何組合。

支撐結構MT以取決於圖案化器件MA相對於參考框架之定向、微影裝置100及100'中之至少一者之設計及其他條件(諸如，圖案化器件MA是否被固持於真空環境中)的方式來固持圖案化器件MA。支撐結構MT可使用機械、真空、靜電或其他夾持技術來固持圖案化器件MA。舉例而言，支撐結構MT可為框架或台，其可視需要而固定或可移動。藉由使用感測器，支撐結構MT可確保圖案化器件MA(例如)相對於投影系統PS處於所要位置。

應將術語「圖案化器件」MA廣泛地解釋為參考任何器件，該器件可用以在其橫截面中賦予具有圖案之輻射光束B，以便在基板W之目標部分C中產生圖案。賦予至輻射光束B之圖案可對應於器件中之特定功能層，在目標部分C中產生該功能層以形成積體電路。

圖案化器件MA可為透射的(如在圖2之微影裝置100'中)或反射的(如在圖1之微影裝置100中)。圖案化器件MA之實例包括倍縮光罩、光罩、可程式化鏡面陣列及可程式化LCD面板。光罩在微影中已為人所熟知，且包括諸如二元、交替相移或衰減相移之光罩類型，以及各種混合光罩類型。可程式化鏡面陣列之一實例使用小鏡面之矩陣配置，該等小鏡面中之每一者可個別地傾斜，以便使入射輻射光束在不同方向上反射。傾斜鏡面在由小鏡面矩陣反射之輻射光束B中賦予圖案。

術語「投影系統」PS可涵蓋如適於所使用之曝光輻射或適於諸如基板W上之浸潤液體之使用或真空之使用之其他因素的任何類型之投影系統，包括折射、反射、反射折射、磁性、電磁及靜電光學系統，或其任何組合。

微影裝置100及/或微影裝置100'可為具有兩個(雙載物台)或更多個基板台WT(及/或兩個或更多個光罩台)之類型。在此等「多載物台」機器中，可並行地使用額外基板台WT，或可對一或多個台進行預備步驟，同時將一或多個其他基板台WT用於曝光。在一些情形下，額外台可不為基板台WT。

微影裝置亦可屬於如下類型：其中基板之至少一部分可由具有相對高折射率之液體(例如，水)覆蓋，以便填充投影系統與基板之間的空間。亦可將浸潤液體施加至微影裝置中之其他空間，例如，光罩與投影系統之間的空間。浸潤技術在此項技術中熟知用於增大投影系統之數值孔徑。本文中所使用之術語「浸潤」並不意謂諸如基板之結構必須浸沒於液體中，而是僅意謂液體在曝光期間位於投影系統與基板之間。

參看圖1及圖2，照明器IL自輻射源SO接收輻射光束。舉例而言，在源SO為準分子雷射時，源SO及微影裝置100、100'可為單獨的物理實體。在此情況下，不認為源SO形成微影裝置100或100'之部分，且輻射光束B係憑藉包括(例如)合適導引鏡及/或光束擴展器之光束遞送系統BD(在圖2中)而自源SO傳遞至照明器IL。在其他情況下，例如，在源SO為水銀燈時，源SO可為微影裝置100、100'之整體部分。源SO及照明器IL連同光束遞送系統BD(在需要時)可稱作輻射系統。

照明器IL可包括用於調整輻射光束之角強度分佈的調整器AD(在圖2中)。大體而言，可調整照明器之光瞳平面中之強度分佈之至少外部及/或內部徑向範圍(通常分別稱作「σ外部」及「σ內部」)。另外，照明器IL可包含各種其他組件(在圖2中)，諸如積光器IN及集光器CO。照明器IL可用以調節輻射光束B以在其橫截面中具有所要之均勻性及強度分佈。

參看圖1，輻射光束B入射於被固持於支撐結構(例如，光罩台)MT上之圖案化器件(例如，光罩)MA上，且係由該圖案化器件MA圖案化。在微影裝置100中，自圖案化裝置(例如，光罩)MA反射輻射光束B。在自圖案化器件(例如，光罩)MA反射之後，輻射光束B通過投影系統PS，該投影系統PS將該輻射光束B聚焦至基板W之目標部分C上。憑藉第二***PW及位置感測器IF2(例如，干涉量測器件、線性編碼器或電容式感測器)，可準確地移動基板台WT(例如，以便使不同目標部分C定位於輻射光束B之路徑中)。類似地，第一***PM及另一位置感測器IF1可用以相對於輻射光束B之路徑來準確地定位圖案化器件(例如，光罩)MA。可使用光罩對準標記M1、M2及基板對準標記P1、P2來對準圖案化器件(例如，光罩)MA與基板W。

參看圖2，輻射光束B入射於被固持於支撐結構(例如，光罩台MT)上之圖案化器件(例如，光罩MA)上，且係由該圖案化器件圖案化。橫越光罩MA之後，輻射光束B通過投影系統PS，該投影系統PS將光束聚焦至基板W之目標部分C上。投影系統具有共軛光瞳PPU至照明系統光瞳IPU。輻射之部分自照明系統光瞳IPU處之強度分佈發散且橫越光罩圖案而不受光罩圖案處的繞射影響，且產生照明系統光瞳IPU處之強度分佈之影像。

投影系統PS將光罩圖案MP之影像MP'投影至塗佈於基板W上之光致抗蝕劑層，其中影像MP'藉由自強度分佈之輻射來由產生自標記圖案MP的繞射光束形成。舉例而言，光罩圖案MP可包括線及空間之陣列。在陣列處且不同於零階繞射之輻射之繞射產生轉向繞射光束，其在垂直於線之方向上具有方向改變。非繞射光束(亦即，所謂的零階繞射光束)橫越圖案而不具有傳播方向之任何改變。零階繞射光束橫越投影系統PS之在投影系統PS之共軛光瞳PPU上游的上部透鏡或上部透鏡群組，以到達共軛光瞳PPU。在共軛光瞳PPU之平面中且與零階繞射光束相關聯的強度分佈之部分為照明系統IL之照明系統光瞳IPU中之強度分佈之影像。孔徑器件PD例如在包括投影系統PS之共軛光瞳PPU之平面處或實質上在該平面處安置。

投影系統PS經配置以藉助於透鏡或透鏡群組L不僅捕獲零階繞射光束，而且亦捕獲一階或一階及較高階繞射光束(未展示)。在一些實施例中，可使用用於使在垂直於線之方向上延伸之線圖案成像的偶極照明以利用偶極照明之解析度增強效應。舉例而言，一階繞射光束在晶圓W之位階處干涉對應的零階繞射光束，而以最高可能解析度及程序窗(亦即，與可容許曝光劑量偏差結合之可用聚焦深度)產生線圖案MP之影像。

憑藉第二***PW及位置感測器IF(例如，干涉量測器件、線性編碼器或電容性感測器)，可準確地移動基板台WT(例如，以便使不同目標部分C定位於輻射光束B之路徑中)。類似地，第一*** PM及另一位置感測器(圖2中未展示)可用以相對於輻射光束B之路徑來準確地定位光罩MA(例如在自光罩庫之機械擷取之後或在掃描期間)。

大體而言，可憑藉形成第一***PM之部分的長衝程模組(粗略定位)及短衝程模組(精細定位)來實現光罩台MT之移動。類似地，可使用形成第二***PW之部分之長衝程模組及短衝程模組來實現基板台WT的移動。在步進器(相對於掃描器)之情況下，光罩台MT可僅連接至短衝程致動器，或可固定。可使用光罩對準標記M1、M2及基板對準標記P1、P2來對準光罩MA與基板W。儘管基板對準標記(如所說明)佔據專用目標部分，但該等標記可位於目標部分之間的空間中(此等標記被稱為切割道對準標記)。類似地，在多於一個晶粒提供於光罩MA上之情形中，光罩對準標記可位於該等晶粒之間。

光罩台MT及圖案化器件MA可處於真空腔室V中，其中真空內機器人IVR可用於將諸如光罩之圖案化器件移入及移出真空腔室。可替代地，當光罩台MT及圖案化器件MA在真空腔室之外部時，與真空內機器人IVR類似，真空外機器人可用於各種輸送操作。需要校準真空內機器人及真空外機器人兩者以用於任何有效負載(例如光罩)至轉移台之固定運動安裝台之平滑轉移。

微影裝置100及100'可用於以下模式中之至少一者中：

1.在步進模式中，在將賦予至輻射光束B之整個圖案一次性地投影至目標部分C上(亦即，單次靜態曝光)時，支撐結構(例如光罩台)MT及基板台WT基本上保持靜止。接著，使基板台WT在X方向及/或Y方向上移位，使得可曝光不同目標部分C。

2.在掃描模式中，在將被賦予至輻射光束B之圖案投影至目標部分C上(亦即，單次動態曝光)時，同步地掃描支撐結構(例如，光罩台)MT及基板台WT。可藉由投影系統PS之放大率(縮小率)及影像反轉特性判定基板台WT相對於支撐結構(例如，遮罩台)MT之速度及方向。

3.在另一模式中，在將被賦予至輻射光束B之圖案投影至目標部分C上時，使支撐結構(例如，光罩台)MT保持實質上靜止，從而固持可程式化圖案化器件，且移動或掃描基板台WT。可使用脈衝式輻射源SO，且在基板台WT之每一移動之後或在一掃描期間之順次輻射脈衝之間根據需要而更新可程式化圖案化器件。此操作模式可易於應用於利用可程式化圖案化器件(諸如，可程式化鏡面陣列)之無光罩微影。

亦可使用對所描述之使用模式之組合及/或變化或完全不同之使用模式。

例示性微影製造單元

圖3展示微影製造單元300，有時亦稱作微影製造單元或叢集。微影裝置100或100'可形成微影製造單元300之部分。微影製造單元300亦可包括用以在基板上執行曝光前程序及曝光後程序之一或多個裝置。習知地，此等裝置包括用以沈積抗蝕劑層之旋塗器SC、用以顯影經曝光抗蝕劑之顯影器DE、冷卻板CH及烘烤板BK。基板處置器或機器人RO自輸入/輸出埠I/O1、I/O2拾取基板，在不同程序裝置之間移動基板，且將基板遞送至微影裝置100或100'之裝載匣LB。此等器件(常常統稱為塗佈顯影系統)係在塗佈顯影系統控制單元TCU之控制下，該塗佈顯影系統自身由監督控制系統SCS控制，該監督控制系統SCS亦經由微影控制單元LACU來控制微影裝置。因此，不同裝置可經操作以最大化產出量及處理效率。

堆疊共焦脈衝拉伸器之例示性系列

根據一些實施例，一或多個擴展光學脈衝拉伸器包括經提供用於雷射源的堆疊光學脈衝拉伸器之系列。根據一些實施例，雷射源可用作微影裝置100或100'之源SO的部分，或除了該源SO之外，可使用雷射源。另外或可替代地，雷射源可用於產生DUV輻射以待在微影裝置100或100'或其他DUV微影裝置中使用。

根據一些實施例，雷射源可為氣體放電雷射光源，例如KrF或ArF或分子氟氣體放電雷射。在一些實例中，包括本發明之堆疊光學脈衝拉伸器之系列的擴展光學脈衝拉伸器可具有一長光學延遲，但限於具有待安裝在現有雷射器框架上或含於光束遞送單元內並安裝於例如在製造設施潔淨室子層室中的實際物理長度。根據一些實施例，本發明之擴展光學脈衝拉伸器以組合方式組合共焦脈衝拉伸器以產生每光學線路組態4次反射、4次反射、12次反射及12次反射。根據一些實施例，不同鏡面間隔及延遲路徑長度(例如4次反射及12次反射延遲長度)之組合的包括可能產生極長脈衝拉伸、長光學延遲及最小效率損耗。本發明之實施例可進一步最小化為對準系統所必需的調整之數目且可允許大量未對準。根據一些實施例，本發明之擴展之光學脈衝拉伸器可在不同光學線路中使用鏡面之不同組合產生4次反射、4次反射、12次反射及12次反射，但可在其他實施例中利用其他數目次反射。另外或可替代地，在本發明之擴展之光學脈衝拉伸器中，一或多個光束***器相對於鏡面之曲率中心而定位以「平化」線路中之每一者以使光束能夠在相同平面(例如平行於地面)中傳播。另外或可替代地，個別鏡面之曲率及大小可經設計以更接近於鏡面組中之一者而定位一或多個光束***器以允許上部光束***器在準分子雷射空腔之後置放以允許脈衝拉伸器恰當地安裝於雷射系統中之經分配位置中。

根據一些實施例，本發明之擴展之光學脈衝拉伸器可實施於氮氣吹掃環境中。替代地，本發明之擴展之光學脈衝拉伸器可實施於真空環境內。

圖4說明根據本發明之一些實施例之具有擴展光學脈衝拉伸器401的雷射源400之示意圖。在一些實施例中，雷射源400可用作微影裝置100或100'之源SO的部分，或除了該源SO之外，還可使用雷射源400。另外或可替代地，雷射源400可提供在圖2之源SO中使用的雷射。另外或可替代地，雷射源400可用於產生DUV輻射以待在微影裝置100或100'或其他DUV微影裝置中使用。

如圖4中所說明，雷射源400可包括雙腔室雷射源。舉例而言，雷射源400可包括第一雷射腔室403a及第二雷射腔室403b。在一個例示性實施例中，第一雷射腔室403a可包括一主控振盪器或為該主控振盪器之部分。舉例而言，雷射源400可包括主控振盪器，其中微波激射器源含有第一雷射腔室403a。在此實例中，第二雷射腔室403b可包括一功率放大器或為該功率放大器之部分。舉例而言，雷射源可包括功率放大器，其中功率放大器含有第二雷射腔室403b。儘管一些實施例係關於雙腔室雷射源而論述，但本發明之實施例不限於此等實例。本發明之實施例可應用於具有一個腔室之雷射源或應用於具有多個雷射腔室之雷射源。

根據一些實施例，第一腔室403a產生第一雷射束409，該第一雷射束傳遞至第二雷射腔室403b，其中第一雷射束409經放大以產生第二雷射束411。第二雷射束411經輸入至擴展之光學脈衝拉伸器401，其中第二雷射束411之複本經延遲及經重組以減小光斑。第三雷射束413自擴展之光學脈衝拉伸器輸出至微影裝置(例如微影裝置100及/或110')。

根據一些實施例，每一雷射腔室403a及403b含有氣體之混合物。舉例而言，在準分子雷射源中，第一雷射腔室403a及第二雷射腔室403b可含有鹵素(例如氟氣)，以及其他氣體(諸如氬氣、氖氣及在總計為總壓力的不同分壓中之可能其他氣體)。雷射腔室403a及403b可包括在產生及放大雷射光束時使用的其他氣體。另外或可替代地，雷射腔室403a及403b可包括氣體之相同或不同混合物。

在一些實施例中，雷射源400可包括氣體源(例如，氣體瓶子)420a及420b(或可耦接)至該等氣體源。舉例而言，氣體源420a可耦接至第一雷射腔室403a以提供用於產生第一雷射束409之氣體混合物。另外，氣體源420b可耦接至第二雷射腔室403b以提供用於產生第二雷射束411之氣體混合物。在一些實例中，氣體源420a及420b可經由閥(圖中未示)分別耦接至雷射腔室403a及403b。控制系統(圖中未示)可用以控制用於發送來自氣體源420a及420b之氣體至雷射腔室403a及403b的閥。

在一些實施例中，氣體源420a可含有氣體(包括但不限於氟氣、氬氣及氖氣)之混合物。根據一些實施例，氣體源420b可含有氬氣、氖氣及/或其他氣體(但非氟氣)之混合物。然而，其他氣體混合物可用於氣體源420a及420b。

根據一些實施例，及如上文所論述，擴展之光學脈衝拉伸器401經組態以接收第二雷射束411並延遲及再組合第二雷射束411之複本以減小光斑。在一些實例中，光斑對比度可使用藉由相干光之干涉產生的亮點及黑點之強度圖案來界定。光斑圖案中的亮區及暗區之強度對比度可為相干性之量測。在一些實例中，時間相干性及空間相干性可促成整個相干性。光斑對比度可定義為藉由平均強度劃分的強度變化之標準差。在一些實例中，光斑對比度可基於雷射參數而估計。

根據一些實施例，擴展之光學脈衝拉伸器401可包括兩個部分--第一光學脈衝拉伸器401a及第二光學脈衝拉伸器401b。舉例而言，第一光學脈衝拉伸器401a接收第二雷射束411且延遲及重組合第二雷射束411之複本以產生第一輸出雷射束。第一輸出雷射束經輸入至第二光學脈衝拉伸器401b。第二光學脈衝拉伸器401b接收第一輸出雷射束且延遲及重組合第一輸出雷射束之複本以產生第二輸出雷射束。第二輸出雷射束經輸入至第一光學脈衝拉伸器401a，其中第二輸出雷射束係作為第三雷射束413而重新導引。

根據一些實施例，第二光學脈衝拉伸器401b包括堆疊光學脈衝拉伸器之系列。換言之，數個光學脈衝拉伸器堆疊於第二光學脈衝拉伸器401b中。光學脈衝拉伸器之多個級中的每一者(例如級光學脈衝拉伸器)包括複數個共焦諧振器。舉例而言，光學脈衝拉伸器401b可包括包括第一複數個共焦諧振器之第一級光學脈衝拉伸器。光學脈衝拉伸器401b進一步包括包括第二複數個共焦諧振器之第二級光學脈衝拉伸器。光學脈衝拉伸器401b進一步包括包括第三複數個共焦諧振器之第三級光學脈衝拉伸器。根據一些實例，第一複數個共焦諧振器包括兩個矩形凹面鏡，第二複數個共焦諧振器包含四個矩形凹面鏡，且第三複數個共焦諧振器包含四個矩形凹面鏡。然而，本發明之實施例可包括在光學脈衝拉伸器401b中的光學脈衝拉伸器之其他數目個級且每一級光學脈衝拉伸器可包括其他數目個共焦諧振器。此外，本發明之實施例可包括作為共焦諧振器的其他類型之鏡面。另外，在圖4中正交配置的第一光學脈衝拉伸器401a及第二光學脈衝拉伸器401b之相對定向僅作為實例而提供且其他相對組態及定向可在其他實施例中使用。

圖5A說明根據本發明之一些實施例的具有第一光學脈衝拉伸器401a及第二光學脈衝拉伸器401b之擴展光學脈衝拉伸器401的正視圖之示意圖。

根據一些實施例，且如下文更詳細地論述，第一光學脈衝拉伸器401a可包括具有包括四個鏡面(第一對鏡面509及第二對鏡面510)之一光學設計的一級光學脈衝拉伸器507，該四個鏡面在其之間產生雷射束之四次反射。儘管此實例經論述具有四個鏡面，但一級光學脈衝拉伸器507可包括其他數目個鏡面。此等鏡面可經定位以產生雷射束之四次反射。在一些實施例中，第一光學脈衝拉伸器401a之一級光學脈衝拉伸器507的兩對鏡面509及510可彼此分隔約1m至3m之物理距離。舉例而言，該物理距離可為約1.5m至2.5m。此等距離僅作為實例提供且其他距離可用於其他實施例。.在一些實例中，第一光學脈衝拉伸器401a之一級光學脈衝拉伸器507可能夠具有例如約30ns至50ns之光學延遲的光學脈衝拉伸。舉例而言，約35ns至45ns之光學延遲。舉例而言，約40ns至44ns之光學延遲。應注意，兩個鏡面之間的實例物理距離及所提供的實例光學延遲不限制本發明之實施例。第一光學脈衝拉伸器401a可經設計使得達成各種其他物理距離及/或各種光學延遲。

根據一些實施例，第一光學脈衝拉伸器401a之一級光學脈衝拉伸器507的兩對鏡面509及510中之鏡面中的每一者可包括圓形凹面鏡。

根據一些實施例，第一光學脈衝拉伸器401a可包括額外光學元件。在一個實例中，第一光學脈衝拉伸器401a之一級光學脈衝拉伸器507可包括用於***雷射束411並產生雷射束411之複本的光束***器511。第一光學脈衝拉伸器401a之光束***器511可具有例如約50%至70%之反射率。在一些實例中，光束***器511可具有約55%至65%之反射率。但本發明之實施例不限於此等實例且可使用反射率之各種其他值。在一些實例中，光束***器511之反射率可取決於在第一光學脈衝拉伸器401a中使用的鏡面之反射率及/或基於該反射率來計算。

另外，第一光學脈衝拉伸器401a可包括光束轉向、光束中繼及/或對準特徵。

根據一些實施例，及如在下文更詳細地論述，第二光學脈衝拉伸器401b可包括共焦光學脈衝拉伸器之兩個或更多個(例如，三個)級。在一些實例中，共焦光學脈衝拉伸器之此等三級可在第二光學脈衝拉伸器401b中大致彼此平行地定位。在一些實施例中，第二光學脈衝拉伸器401b可垂直或大致垂直於第一光學脈衝401a而定位。換言之，在一些實施例中，第一光學脈衝拉伸器401a(例如可垂直地定位的正交光學脈衝拉伸器)垂直或大致垂直於第二光學脈衝拉伸器401b之共焦光學脈衝拉伸器的兩個或更多個(例如，三個)級而定位。根據一些實施例，第二光學脈衝拉伸器401b經設計，使得其提供額外光學延遲，達成極長脈衝拉伸，穩定的係可不需要額外調整用於對準，且可安裝在現有雷射器框架上或含於光束遞送單元內並安裝在可用雷射器容積中(例如，安裝在製造設施潔淨室子層室中)。舉例而言，第二光學脈衝拉伸器401b可安裝在例如第一雷射器腔室403a上方之密閉空間中。

根據一些實施例擴展之光學脈衝拉伸器401組合兩個或更多個共焦光學脈衝拉伸器。舉例而言，擴展之光學脈衝拉伸器401以每光學線路組態4次反射、4次反射、12次反射及12次反射之組合方式來組合共焦脈衝拉伸器。根據一些實施例，不同鏡面間隔及延遲路徑長度(例如4次反射及12次反射延遲長度)之組合的包括可能產生極長脈衝拉伸及最小效率損耗。

根據一些實施例，第二光學脈衝拉伸器401b可包括共焦光學脈衝拉伸器之三個級。然而，本發明之實施例不限於此等實例，且第二光學脈衝拉伸器401b可包括共焦光學脈衝拉伸器之其他數目個級。在一些實例中，第二光學脈衝拉伸器401b之第一級經論述為具有兩個鏡面。然而，本發明之實施例不限於此等實例且第二光學脈衝拉伸器401b之第一級可包括其他數目(例如，兩個或更多個)及/或組態之鏡面。在一些實例中，在第二光學脈衝拉伸器401b之第一級中使用的複數個鏡面經組態以在其之間產生雷射束之四次反射。

在一些實例中，第二光學脈衝拉伸器401b之第二級經論述為具有四個鏡面。然而，本發明之實施例不限於此等實例且第二光學脈衝拉伸器401b之第二級可包括其他數目(例如，四個或更多個)及/或組態之鏡面。在一些實例中，在第二光學脈衝拉伸器401b之第二級中使用的複數個鏡面經組態以在其之間產生雷射束之十二次反射。

在一些實例中，第二光學脈衝拉伸器401b之第三級經論述為具有四個鏡面。然而，本發明之實施例不限於此等實例，且第二光學脈衝拉伸器401b之第三級可包括其他數目(例如，四個或更多個)及/或組態之鏡面。在一些實例中，在第二光學脈衝拉伸器401b之第三級中使用的複數個鏡面經組態以在其之間產生雷射束之十二次反射。

根據一些實施例，第一光學脈衝拉伸器401a及第二光學脈衝拉伸器401b之級經設計以使得光學延遲自第一光學脈衝拉伸器401a增大至第二光學脈衝拉伸器401b。此外，第二光學脈衝拉伸器401b之每一級之光學延遲自第一級增大至第三級。舉例而言，第一光學脈衝拉伸器401a(例如正交光學脈衝拉伸器)可具有光學延遲。第二光學脈衝拉伸器401b之第一級可具有等於或大於第一光學脈衝拉伸器401a之光學延遲的第一光學延遲。第二光學脈衝拉伸器401b之第二級可具有等於或大於第一光學延遲之第二光學延遲。第二光學脈衝拉伸器401b之第三級可具有等於或大於第二光學延遲之第三光學延遲。根據一些實施例，光學延遲可基於光束在光學脈衝拉伸器內行進的距離而判定。

根據一些實施例，第二光學脈衝拉伸器401b之第一級可具有包括在其之間產生雷射束之四次反射的兩個鏡面(例如在圖5A中的鏡面501及502之兩個下部鏡面)的一光學設計。儘管此實例經論述為具有兩個鏡面，但第二光學脈衝拉伸器401b之第一級可包括其他數目個鏡面(例如，兩個或更多個鏡面)。此等鏡面可經定位以在其之間產生雷射束之四次反射。在一些實施例中，第二光學脈衝拉伸器401b之第一級的兩個鏡面可彼此分隔約2m至4m之物理距離。舉例而言，該物理距離可為約2.5m至3.5m。此等距離僅作為實例提供且其他距離可用於其他實施例。在一些實例中，第二光學脈衝拉伸器401b之第一級可能夠具有例如約60ns至80ns之光學延遲的光學脈衝拉伸。舉例而言，約65ns至75ns之光學延遲。舉例而言，約70ns至75ns之光學延遲。應注意，兩個鏡面之間的實例物理距離及所提供的實例光學延遲不限制本發明之實施例。第二光學脈衝拉伸器401b之第一級可經設計使得達成各種其他物理距離及/或各種光學延遲。

根據一些實施例，第二光學脈衝拉伸器401b之第一級的鏡面(例如鏡面501及502之兩個下部鏡面)可包括矩形凹面鏡。舉例而言，可使用兩個較大矩形凹面鏡但在其他實施例中使用其他形狀。根據一些實施例，鏡面之反射表面可為球形凹面，使得第二光學脈衝拉伸器401b之第一級之兩個鏡面(例如鏡面501及502之兩個下部鏡面的表面)之間的距離等於(或約等於)兩個鏡面中之每一者的曲率半徑。舉例而言，鏡面可基於遠心設計而設計及定位。根據一些實施例，凹面鏡可經設計成具有正交尖端傾斜調整以及Z軸(例如光束之傳播方向)調整。

根據一些實施例，第二光學脈衝拉伸器401b之第一級可包括額外光學元件。在一個實例中，第二光學脈衝拉伸器401b之第一級可包括用於***雷射束並產生雷射束之複本的光束***器(圖5A之光束***器503的下部光束***器)。第二光學脈衝拉伸器401b之第一級的光束***器可具有例如約45%至65%之反射率。在一些實例中，光束***器可具有約50%至60%之反射率。但本發明之實施例不限於此等實例且可使用反射率之各種其他值。在一些實例中，光束***器之反射率可取決於在第二光學脈衝拉伸器401b之第一級中使用的鏡面之反射率及/或基於該反射率來計算。

根據一些實施例，第二光學脈衝拉伸器401b之第二級可具有包括在其之間產生雷射束之十二次反射的四個鏡面(例如在圖5A中之鏡面501及502的四個中間鏡面)的光學設計。儘管此實例經論述具有四個鏡面，但第二光學脈衝拉伸器401b之第二級可包括其他數目個鏡面(例如，四個或更多個鏡面)。此等鏡面可經定位以在其之間產生雷射束之十二次反射。在一些實施例中，第二光學脈衝拉伸器401b之第二級的兩對鏡面可彼此分隔約2m至4m之物理距離。舉例而言，該物理距離可為約2.5m至3.5m。此等距離僅作為實例提供且其他距離可用於其他實施例。在一些實例中，第二光學脈衝拉伸器401b之第二級可能夠具有例如約170ns至210ns之光學延遲的光學脈衝拉伸。舉例而言，約180ns至190ns之光學延遲。舉例而言，約185ns至195ns之光學延遲。應注意，兩對鏡面之間的實例物理距離及所提供的實例光學延遲不限制本發明之實施例。第二光學脈衝拉伸器401b之第二級可經設計使得達成各種其他物理距離及/或各種光學延遲。

根據一些實施例，第二光學脈衝拉伸器401b之第二級的鏡面(例如鏡面501及502之四個中間鏡面)可包括矩形凹面鏡。舉例而言，可使用四個較大矩形凹面鏡但在其他實施例中使用其他形狀。根據一些實施例，鏡面之反射表面可為球形凹面，使得第二光學脈衝拉伸器401b之第二級的兩對鏡面(例如鏡面501及502之兩對中間鏡面的表面)之間的距離等於(或約等於)四個鏡面中之每一者的曲率半徑。舉例而言，鏡面可基於遠心設計而設計及定位。根據一些實施例，凹面鏡可設計成具有正交尖端傾斜調整。

根據一些實施例，第二光學脈衝拉伸器401b之第二級可包括額外光學元件。在一個實例中，第二光學脈衝拉伸器401b之第二級可包括用於***雷射束並產生雷射束之複本的光束***器(圖5A之光束***器503之中間光束***器)。第二光學脈衝拉伸器401b之第二級的光束***器可具有例如約45%至65%之反射率。在一些實例中，光束***器可具有約50%至60%之反射率。但本發明之實施例不限於此等實例且可使用反射率之各種其他值。在一些實例中，光束***器之反射率可取決於在第二光學脈衝拉伸器401b之第二級中使用的鏡面之反射率及/或基於該反射率來計算。

根據一些實施例，第二光學脈衝拉伸器401b之第三級可與第二光學脈衝拉伸器401b之第二級類似或相同。舉例而言，第二光學脈衝拉伸器401b之第三級可具有包括在其之間產生雷射束之十二次反射的四個鏡面(例如在圖5A中之鏡面501及502的四個頂部鏡面)的一光學設計。儘管此實例經論述具有四個鏡面，但第二光學脈衝拉伸器401b之第三級可包括其他數目個鏡面(例如，四個或更多個鏡面)。此等鏡面可經定位以在其之間產生雷射束之十二次反射。在一些實施例中，第二光學脈衝拉伸器401b之第三級的兩對鏡面可彼此分隔約2m至4m之物理距離。舉例而言，該物理距離可為約2.5m至3.5m。此等距離僅作為實例提供且其他距離可用於其他實施例。根據一些實例，第二光學脈衝拉伸器401b之不同級中之鏡面之間的距離可係類似或相同的。

在一些實例中，第二光學脈衝拉伸器401b之第二級可能夠具有例如約150ns至190ns之光學延遲的光學脈衝拉伸。舉例而言，約160ns至180ns之光學延遲。舉例而言，約165ns至175ns之光學延遲。應注意，兩對鏡面之間的實例物理距離及所提供的實例光學延遲不限制本發明之實施例。第二光學脈衝拉伸器401b之第三級可經設計成使得達成各種其他物理距離及/或各種光學延遲。

根據一些實施例，第二光學脈衝拉伸器401b之第三級的鏡面(例如鏡面501及502之四個頂部鏡面)可包括矩形凹面鏡。舉例而言，可使用四個較大矩形凹面鏡但在其他實施例中使用其他形狀。根據一些實施例，鏡面之反射表面可為球形凹面，使得第二光學脈衝拉伸器401b之第三級的兩對鏡面(例如鏡面501及502之兩對頂部鏡面的表面)之間的距離等於(或約等於)四個鏡面中之每一者的曲率半徑。舉例而言，鏡面可基於遠心設計而設計及定位。根據一些實施例，凹面鏡可設計成具有正交尖端傾斜調整。

根據一些實施例，第二光學脈衝拉伸器401b之第三級可包括額外光學元件。在一個實例中，第二光學脈衝拉伸器401b之第三級可包括用於***雷射束並產生雷射束之複本的光束***器(圖5A之光束***器503的頂部光束***器)。第二光學脈衝拉伸器401b之第三級的光束***器可具有例如約45%至65%之反射率。在一些實例中，光束***器可具有約50%至60%之反射率。但本發明之實施例不限於此等實例且可使用反射率之各種其他值。在一些實例中，光束***器之反射率可取決於在第二光學脈衝拉伸器401b之第三級中使用的鏡面之反射率及/或基於該反射率來計算。

第二光學脈衝拉伸器401b可包括額外光學元件。舉例而言，第二光學脈衝拉伸器401b可包括鏡面505a及505b。鏡面505a及505b可以用於往回導引光學拉伸雷射束朝向第一光學脈衝拉伸器401a，其中光學拉伸雷射束可作為第三雷射束413由雷射源400輸出。應注意，根據一些實施例，重新導引朝向第一光學脈衝拉伸器401a的光學拉伸雷射束不穿過第一光學脈衝拉伸器401a之級507，但其被重新導引為輸出雷射源400的第三雷射束413。

根據一些實施例，鏡面505a及505b可包括以約45度安裝的s偏振鏡面(以提供約45度之入射角)。然而，鏡面505a及505b之其他實例及/或定向可用於本發明之實施例情況。

圖5B說明根據本發明之一些實施例的第二光學脈衝拉伸器401b之俯視圖的示意圖。圖5C說明根據本發明之一些實施例的具有第一光學脈衝拉伸器401a及第二光學脈衝拉伸器401b之擴展光學脈衝拉伸器401的側視圖之示意圖。

在圖5B之第二光學脈衝拉伸器401b的俯視圖中，說明第二光學脈衝拉伸器401b之例如第三級的四個鏡面。此等四個鏡面可包括兩對鏡面--鏡面501d及501e以及鏡面502d及502e。圖5B之俯視圖亦說明光束***器503。下文關於圖7B進一步論述第二光學脈衝拉伸器401b的第二級及第三級之四個鏡面之間的雷射束之反射及傳播。

在圖5C的第一光學脈衝拉伸器401a及第二光學脈衝拉伸器401b之側視圖中，說明在第二光學脈衝拉伸器401b之一側的五個鏡面。在此實例中，說明第二光學脈衝拉伸器401b之第一級的鏡面502a。鏡面(例如鏡面501a)在第二光學脈衝拉伸器401b之第一級之另一側，其未在此視圖中說明。在此實例中，說明第二光學脈衝拉伸器401b之第二級之一對鏡面502b及502c。另一對鏡面(例如一對鏡面501b及501c)係在第二光學脈衝拉伸器401b之第二級之另一側，其未在此視圖中說明。此外，在此實例中，說明第二光學脈衝拉伸器401b之第三級的一對鏡面502d及502e。另一對鏡面(例如一對鏡面501d及501e)係在第二光學脈衝拉伸器401b之第三級的另一側，其未在此視圖中說明。

圖6A說明根據本發明之一些實施例的第二光學脈衝拉伸器401b中之雷射光束之路徑之部分的示意圖。

如圖6A中所說明，雷射束601(其係使用第一光學脈衝拉伸器401a之級而光學拉伸)進入第二光學脈衝拉伸器401b。使用第一光束***器503a，雷射束601***成雷射束603及雷射束605。雷射束605進入第二光學脈衝拉伸器401b之第二級。雷射束603進入第二光學脈衝拉伸器401b之第一級，其包括兩個鏡面。在自第二光學脈衝拉伸器401b之第一級的兩個鏡面之四次反射(如例如圖7A中所說明)之後，雷射束使用光束***器503a進入第二光學脈衝拉伸器401b之第二級。

雷射束605(及/或來自第二光學脈衝拉伸器401b之第一級的雷射束)***成雷射束607及雷射束609。雷射束609進入第二光學脈衝拉伸器401b之第三級。雷射束607進入第二光學脈衝拉伸器401b之第二級，其包括四個鏡面。在自第二光學脈衝拉伸器401b之第二級之四個鏡面的十二次反射(如例如圖7B中所說明)之後，雷射束使用光束***器503b進入第二光學脈衝拉伸器401b之第三級。

雷射束609(及/或來自第二光學脈衝拉伸器401b之第二級的雷射束)***成雷射束611及雷射束613。雷射束613係使用鏡面505a及505b反射回至第一光學脈衝拉伸器401a。雷射束611進入第二光學脈衝拉伸器401b之第三級，其包括四個鏡面。在自第二光學脈衝拉伸器401b之第三級之四個鏡面的十二次反射(如例如圖7B中所說明)之後，雷射束使用光束***器503c以及鏡面505a及505b反射回至第一光學脈衝拉伸器401a。

圖6B說明根據本發明之一些實施例的在第二光學脈衝拉伸器401b及用於第二光學脈衝拉伸器401b中之鏡面的部分中的雷射光束之路徑之部分的示意圖。

在圖6B中，說明在第二光學脈衝拉伸器401b之一側的五個鏡面。在此實例中，說明第二光學脈衝拉伸器401b之第一級的鏡面502a。鏡面(例如鏡面501a)在第二光學脈衝拉伸器401b之第一級之另一側，其未在此視圖中說明。在此實例中，說明第二光學脈衝拉伸器401b之第二級之一對鏡面502b及502c。另一對鏡面(例如一對鏡面501b及501c)係在第二光學脈衝拉伸器401b之第二級之另一側，其未在此視圖中說明。此外，在此實例中，說明第二光學脈衝拉伸器401b之第三級的一對鏡面502d及502e。另一對鏡面(例如一對鏡面501d及501e)係在第二光學脈衝拉伸器401b之第三級的另一側，其未在此視圖中說明。

圖7A說明根據本發明之一些實施例的第二光學脈衝拉伸器401b之第一級的示意性俯視圖。如圖7A中所說明，第二光學脈衝拉伸器401b之第一級可包括兩個鏡面501a及502a、光束***器503a以及可選補償器701。

根據一些實施例，第二光學脈衝拉伸器401b之第一級的鏡面501a及502a可包括矩形凹面鏡。舉例而言，可使用兩個較大矩形凹面鏡但在其他實施例中使用其他形狀。根據一些實施例，鏡面501a及502a之反射表面可為球形凹面，使得鏡面501a與502a之間的距離等於(或約等於)鏡面501a及502a中之每一者的曲率半徑。舉例而言，鏡面501a及502a可基於遠心設計而設計及定位。根據一些實施例，凹面鏡可設計成具有正交尖端傾斜調整。根據一些實施例，及相較於例如圓形鏡面，鏡面 501a及502a可對於鏡面未對準相對不敏感，可具有可簡化其安裝設計之更少元件數，及/或可更易於與減少之部分及自由度對準。

根據一些實施例，鏡面501a及502a之個別曲率及大小可經設計以更接近於鏡面組中之一者(例如更接近於鏡面501a)定位光束***器503a以允許上部光束***器(例如第二光學脈衝拉伸器401b之上部級中的光束***器)置放在準分子雷射空腔之後以允許脈衝拉伸器恰當地安裝在雷射系統中之分配位置中。舉例而言，光束***器503a可為「D」形狀光束***器。然而，本發明之實施例不限於此等實例且亦可使用各種其他類型之光束***器及/或各種其他組態之光束***器及鏡面。

根據一些實施例，光束***器503a相對於鏡面501a及/或502a之曲率中心而定位以「平化」線路中之每一者以使雷射束能夠在相同平面(例如平行於地面)中傳播。

根據一些實施例，可選補償器701可包括經組態以補償因光束***器503a之有限厚度離開的雷射束並減小鏡面調整之自由度(DOF)(例如，相較於小鏡面設計中之8 DOF，較大鏡面設計中之4 DOF)的補償器板。

根據一些實施例，鏡面501a與502a之間的距離可在製造期間經調整且鏡面之尖端/傾斜調整可在現場進行。

圖7B說明根據本發明之一些實施例的第二光學脈衝拉伸器401b之第二或第三級的示意性俯視圖。如圖7B中所說明，第二光學脈衝拉伸器401b之第二或第三級可包括四個鏡面501b、501c、502b及502c以及光束***器503b。

關於第二光學脈衝拉伸器401b之第二級論述圖7B。然而，第二光學脈衝拉伸器401b之第三級可係相同或類似的。根據一些實施例，第二光學脈衝拉伸器401b之第二級的鏡面501b、501c、502b及502c可包括矩形凹面鏡。舉例而言，可使用兩個較大矩形凹面鏡但在其他實施例中使用其他形狀。

根據一些實施例，鏡面501b、501c、502b及502c之反射表面可為球形凹面，使得鏡面501b與502b(或鏡面501c與502c)之間的距離等於(或約等於)鏡面501b、501c、502b及502c中之每一者的曲率半徑。舉例而言，鏡面501b、501c、502b及502c可基於遠心設計而設計及定位。根據一些實施例，凹面鏡可設計成具有正交尖端傾斜調整。根據一些實施例，及相較於例如圓形鏡面，鏡面501b、501c、502b及502c可對於鏡面未對準相對不敏感，可具有可簡化其安裝設計的更少元件數，及/或可更易於與減少之部分及自由度對準。

根據一些實施例，鏡面501b、501c、502b及502c之個別曲率及大小可經設計以更接近於鏡面組中之一者(例如更接近於鏡面501b及501c)定位光束***器503b以允許上部光束***器(例如第二光學脈衝拉伸器401b之上部級中的光束***器)置放在準分子雷射空腔之後以允許脈衝拉伸器恰當地安裝在分配雷射器容積中。舉例而言，光束***器503b可為「D」形狀光束***器。然而，本發明之實施例不限於此等實例且亦可使用各種其他類型之光束***器及/或各種其他組態之光束***器及鏡面。

根據一些實施例，光束***器503b相對於鏡面501b、501c、502b及/或502c之曲率中心而定位以「平化」線路中之每一者以使雷射束能夠在相同平面(例如平行於地面)中傳播。

根據一些實施例，可使用可選補償器(圖中未示-類似於圖7A之補償器701)。可選補償器可包括經組態以補償因光束***器503b之有限厚度離開的雷射束並減小鏡面調整之自由度(DOF)(例如，相較於小鏡面設計中之8 DOF，較大鏡面設計中之4 DOF)的補償器板。

根據一些實施例，鏡面501b、501c、502b及502c之間的距離可在製造期間經調整且鏡面之尖端/傾斜調整可在現場執行。

根據一些實施例，第二光學脈衝拉伸器401b之第二級(及/或第三級)內的雷射束之傳播路徑可類似於如美國專利第7,415,065號中所論述之雷射束的傳播路徑，該專利以全文引用的方式併入本文中。

在此實例中，雷射束係使用例如光束***器503b而進入第二光學脈衝拉伸器401b之第二級。根據一些實施例，進入之雷射束可為第二光學脈衝拉伸器401b之第一級的雷射束輸出。雷射束入射於鏡面501b上之第一點1處。自鏡面501b上之點1，反射光束入射於鏡面502c上之點2。自鏡面502c上之點2，反射光束入射於鏡面501b上之點3。自鏡面501b上之點3，反射光束入射於鏡面502b上之點4。自鏡面502b上之點4，反射光束入射於鏡面501c上之點5。自鏡面501c上之點5，反射光束入射於鏡面502b上之點6。

自鏡面502b上之點5，反射光束入射於鏡面501b上之點7。自鏡面501b上之點7，反射光束入射於鏡面502c上之點8。自鏡面502c上之點8，反射光束入射於鏡面501b上之點9。自鏡面501b上之點9，反射光束入射於鏡面502b上之點10。自鏡面502b上之點10，反射光束入射於鏡面501c上之點11。自鏡面501c上之點11，反射光束入射於鏡面502b上之點12。自鏡面502b上之點12，反射光束入射於光束分裂器503b。

使用光束***器503b，自鏡面502b上之點12的反射光束可朝向第二光學脈衝拉伸器401b之第三級反射。類似十二次反射及光束傳播可發生在第二光學脈衝拉伸器401b之第三級中。

根據一些實施例，第二光學脈衝拉伸器401b之第一、第二及第三階段(及/或第一光學脈衝拉伸器401a之光學脈衝拉伸器級)可經設計以使得其設計可避免操作期間的初始未對準及/或振動問題。

根據一些實施例，且如上文所論述，第二光學脈衝拉伸器401b之雷射束輸出朝向第一光學脈衝拉伸器401a反射回以待被反射及待自雷射源400發送出。根據一些實例，由於第二光學脈衝拉伸器401b與輸出雷射源400之間的距離，第一光學脈衝拉伸器401a可包括光束中繼器。第一光學脈衝拉伸器401a之光束中繼器經組態以接收第二光學脈衝拉伸器401b之輸出並輸出圖4的雷射束413。在一些實例中，光束中繼器可包括在伸縮式組態中組態之兩個以上鏡頭。另外或可替代地，光束中繼器可包括一或多個孔徑。

圖8說明根據本發明之一些實施例的在第一光學脈衝拉伸器401a中之雷射光束之路徑的部分之示意圖。根據一些實施例，圖4的第二雷射束411輸入至第一光學脈衝拉伸器401a。第二波束雷射器411可穿過可選光束***器802及可選對準光學件804(例如，對準稜鏡)。出於對準光學元件及/或波束之目的，當裝配第一光學脈衝拉伸器401a時，對準光學件804可例如用於對準。對準光學件804可在第二光學脈衝拉伸器401b及雷射源400之操作期間移除。

第二雷射束411另外可入射於第一光學脈衝拉伸器401a之光學脈衝拉伸器級507的光束***器上。第二雷射束411之一個部分807可進入第一光學脈衝拉伸器401之光學脈衝拉伸器級507以待光學拉伸。可使用鏡面808a朝向第二光學脈衝拉伸器401b反射809第一光學脈衝拉伸器401a之光學脈衝拉伸器級507之輸出。第二光學脈衝拉伸器401b之輸出(例如雷射束811)經發送回至第一光學脈衝拉伸器401a。

光學元件812可為上文所論述的可選光束中繼器之一可選光學元件。第二光學脈衝拉伸器401b之輸出(例如雷射束811)係使用鏡面808b反射。經反射雷射束可行進通過一或多個可選系統孔徑814及/或光束***器816。第三雷射束413(圖4的)為雷射源400之輸出。

儘管在本文中可特定地參考微影裝置在IC製造中之使用，但應理解，本文中所描述之微影裝置可具有其他應用，諸如製造整合式光學系統、用於磁疇記憶體之導引及偵測圖案、平板顯示器、LCD、薄膜磁頭等。熟習此項技術者應瞭解，在此等替代應用之內容背景中，可認為本文中對術語「晶圓」或「晶粒」之任何使用分別與更一般之術語「基板」或「目標部分」同義。可在曝光之前或之後在例如顯影系統單元(通常將抗蝕劑層施加至基板且顯影經曝光之抗蝕劑之工具)、度量衡單元及/或檢測單元中處理本文中所提及之基板。在適用情況下，可將本文中之揭示內容應用於此等及其他基板處理工具。此外，可將基板處理多於一次，(例如)以便產生多層IC，使得本文所使用之術語基板亦可指已經含有多個經處理層之基板。

應理解，本文中之措詞或術語係出於描述而非限制之目的，以使得本說明書之術語或措詞應由在所屬領域具通常知識者鑒於本文中之教示予以解釋。

如本文中所使用之術語「基板」描述材料層經添加至之材料。在一些實施例中，基板自身可經圖案化，且添加於基板之頂部上之材料亦可經圖案化，或可保持不圖案化。

以上及以下實例說明而非限制本發明之實施例。對熟習相關技術者將顯而易見的通常在該領域中遇到之多種條件及參數的其他適合之修改及調適在本發明之精神及範疇內。

儘管可在本文中特定地參考根據實施例之裝置及/或系統在IC之製造中的使用，但應明確理解，此類裝置及/或系統具有多種其他可能的應用。舉例而言，其可用於製造整合式光學系統、用於磁疇記憶體之導引及檢測圖案、LCD面板、薄膜磁頭等中。熟習此項技術者將瞭解，在此類替代應用之內容背景中，本文中之術語「倍縮光罩」、「晶圓」或「晶粒」之任何使用應被認為分別由更一般術語「光罩」、「基板」及「目標部分」替代。

雖然上文已描述本發明之特定實施例，但應瞭解，可以與所描述之方式不同的其他方式來實踐實施例。該描述不意欲限制實施例。

應瞭解，實施方式章節而非發明內容及中文發明摘要章節意欲用以解釋申請專利範圍。發明內容及中文發明摘要章節可闡述如由本發明者所設想之一或多個但並非所有例示性實施例，且因此並不意欲以任何方式限制本發明實施例及所附申請專利範圍。

上文已憑藉功能建置區塊描述一些實施例，該等功能建置區塊說明指定功能及其關係之實施。為便於描述，本文中已任意地限定此等功能建置區塊的邊界。只要適當地執行指定功能及該等功能之關係，便可限定替代邊界。

對特定實施例之前述描述將因此充分地揭示實施例之一般性質：在不偏離本發明之一般概念的情況下，其他人可藉由應用熟習此項技術者所瞭解之知識針對各種應用而容易地修改及/或調適此等特定實施例，而無需進行不當實驗。因此，基於本文中所呈現之教示及導引，此等調適及修改意欲在所揭示之實施例之等效者的涵義及範圍內。

在以下編號條項中闡述本發明之其他態樣。

1.一種光學脈衝拉伸器，其經組態以接收一雷射束並產生一輸出脈衝拉伸雷射束，該光學脈衝拉伸器包含：一第一級光學脈衝拉伸器，其包含兩個或更多個鏡面且經組態以接收該雷射束之一部分並產生一第一脈衝拉伸雷射束；一第二級光學脈衝拉伸器，其包含四個或更多個鏡面且經組態以接收該第一脈衝拉伸雷射束之一部分並產生一第二脈衝拉伸雷射束；及一第三級光學脈衝拉伸器，其包含四個或更多個鏡面且經組態以接收該第二脈衝拉伸雷射束之一部分並產生該輸出脈衝拉伸雷射束。

2.如條項1之光學脈衝拉伸器，其中該第一級光學脈衝拉伸器之兩個或更多個鏡面、該第二級光學脈衝拉伸器之該四個或更多個鏡面及該第三級光學脈衝拉伸器之該四個或更多個鏡面包含凹面鏡。

3.如條項1之光學脈衝拉伸器，其中該第一級光學脈衝拉伸器經組態以藉由使用該第一級光學脈衝拉伸器之該兩個或更多個鏡面四次反射該雷射束之該部分而產生該第一脈衝拉伸雷射束。

4.如條項3之光學脈衝拉伸器，其中該第二級光學脈衝拉伸器經組態以藉由十二次反射該第一脈衝拉伸雷射束之該部分而產生該第二脈衝拉伸雷射束且該第三級光學脈衝拉伸器經組態以藉由十二次反射該第二脈衝拉伸雷射束之該部分而產生該輸出脈衝拉伸雷射束。

5.如條項1之光學脈衝拉伸器，其中該第二級光學脈衝拉伸器經組態以藉由使用該第二級光學脈衝拉伸器之該四個或更多個鏡面十二次反射該第一脈衝拉伸雷射束之該部分而產生該第二脈衝拉伸雷射束。

6.如條項1之光學脈衝拉伸器，其中該第三級光學脈衝拉伸器經組態以藉由使用該第三級光學脈衝拉伸器之該四個或更多個鏡面十二次反射該第二脈衝拉伸雷射束之該部分而產生該輸出脈衝拉伸雷射束。

7.如條項1之光學脈衝拉伸器，其進一步包含：一第一光束***器，其對應於該第一級光學脈衝拉伸器且經組態以接收該雷射束並將該雷射束之該部分導引至該第一級光學脈衝拉伸器之該兩個或更多個鏡面。

8.如條項7之光學脈衝拉伸器，其中該第一光束***器更接近於該第一光學脈衝拉伸器之該兩個或更多個鏡面中之一第一者而定位且其中該第一光束***器為一D形光束***器。

9.如條項7之光學脈衝拉伸器，其中該第一光束***器相對於該兩個或更多個鏡面之一曲率中心而定位以平化該第一級光學脈衝拉伸器並使得該雷射束之該部分能在該第一級光學脈衝拉伸器中在一相同平面中傳播。

10.如條項7之光學脈衝拉伸器，其進一步包含：一第二光束***器，其對應於該第二級光學脈衝拉伸器且經組態以接收該第一脈衝拉伸雷射束並將該第一脈衝拉伸雷射束之該部分導引至該第二級光學脈衝拉伸器之該四個或更多個鏡面。

11.如條項10之光學脈衝拉伸器，其中該第二光束***器相對於該第二級光學脈衝拉伸器的該四個或更多個鏡面之一曲率中心而定位以平化該第二級光學脈衝拉伸器並使該第一脈衝拉伸雷射束之該部分能夠在該第二級光學脈衝拉伸器中在一相同平面中傳播。

12.如條項10之光學脈衝拉伸器，其進一步包含：一第三光束***器，其對應於該第三級光學脈衝拉伸器且經組態以接收該第二脈衝拉伸雷射束並將該第二脈衝拉伸雷射束之該部分導引至該第三級光學脈衝拉伸器之該四個或更多個鏡面。

13.如條項12之光學脈衝拉伸器，其中該第三光束***器相對於該第三級光學脈衝拉伸器的該四個或更多個鏡面之一曲率中心而定位以平化該第三級光學脈衝拉伸器並使該第二脈衝拉伸雷射束之該部分能夠在該第三級光學脈衝拉伸器中在一相同平面中傳播。

14.如條項12之光學脈衝拉伸器，其中：該第二光束***器更接近於該第二光學脈衝拉伸器之該四個或更多個鏡面的一第一對而定位，該第二光束***器為一D形光束***器，該第三光束***器更接近於該第三光學脈衝拉伸器之該四個或更多個鏡面的一第一對而定位，且該第三光束***器為一D形光束***器。

15.如條項1之光學脈衝拉伸器，其中：藉由該第一級光學脈衝拉伸器接收之該雷射束包含藉由一正交級光學脈衝拉伸器產生的一脈衝拉伸雷射束，且該正交級光學脈衝拉伸器在該光學脈衝拉伸器外部及大致垂直於該光學脈衝拉伸器而定位。

16.如條項15之光學脈衝拉伸器，其中該正交級光學脈衝拉伸器經組態以四次反射該雷射束之該部分。

17.一種雷射源，其包含：一光學脈衝拉伸器，其經組態以接收一雷射束並產生一輸出脈衝拉伸雷射束，該光學脈衝拉伸器包含：一第一級光學脈衝拉伸器，其包含兩個或更多個鏡面且經組態以接收該雷射束之一部分並產生一第一脈衝拉伸雷射束；一第二級光學脈衝拉伸器，其包含四個或更多個鏡面且經組態以接收該第一脈衝拉伸雷射束之一部分並產生一第二脈衝拉伸雷射束；及一第三級光學脈衝拉伸器，其包含四個或更多個鏡面且經組態以接收該第二脈衝拉伸雷射束之一部分並產生該輸出脈衝拉伸雷射束。

18.一種微影裝置，其包含：一照明系統，其經組態以調節一輻射光束；一支撐結構，其經組態以支撐一圖案化器件；一基板台，其經組態以固持一基板；及一投影系統，其經組態以將由該圖案化器件賦予該輻射光束之一圖案投影至該基板之一目標部分上，其中該照明系統包含一雷射源，該雷射源包含經組態以接收一雷射束並產生一輸出脈衝拉伸雷射束的一光學脈衝拉伸器，該光學脈衝拉伸器包含：一第一級光學脈衝拉伸器，其包含第一複數個共焦諧振器且經組態以接收該雷射束之一部分並產生一第一脈衝拉伸雷射束；一第二級光學脈衝拉伸器，其包含第二複數個共焦諧振器且經組態以接收該第一脈衝拉伸雷射束之一部分並產生一第二脈衝拉伸雷射束；及一第三級光學脈衝拉伸器，其包含第三複數個共焦諧振器且經組態以接收該第二脈衝拉伸雷射束之一部分並產生該輸出脈衝拉伸雷射束。

19.如條項18之微影裝置，其中：該第一複數個共焦諧振器包含兩個或更多個凹面鏡，該第二複數個共焦諧振器包含四個或更多個凹面鏡，且該第三複數個共焦諧振器包含四個或更多個凹面鏡。

20.如條項18之微影裝置，其中：該第一級光學脈衝拉伸器具有一第一光學延遲，該第二級光學脈衝拉伸器具有等於或大於該第一光學延遲之一第二光學延遲，且該第三級光學脈衝拉伸器具有等於或大於該第二光學延遲之一第三光學延遲。

21.如條項18之微影裝置，其中：該第一級光學脈衝拉伸器經組態以藉由四次反射該雷射束之該部分而產生該第一脈衝拉伸雷射束，該第二級光學脈衝拉伸器經組態以藉由十二次反射該第一脈衝拉伸雷射束之該部分而產生該第二脈衝拉伸雷射束，且該第三級光學脈衝拉伸器經組態以藉由十二次反射該第二脈衝拉伸雷射束之該部分而產生該輸出脈衝拉伸雷射束。

22.如條項18之微影裝置，其中該雷射源進一步包含：一正交級光學脈衝拉伸器，其經組態以將該雷射束導引至該光學脈衝拉伸器，該正交級光學脈衝拉伸器在該光學脈衝拉伸器外部及大致垂直於該光學脈衝拉伸器而定位。

23.如條項22之微影裝置，其中該正交級光學脈衝拉伸器包含四個圓形凹面鏡。

24.如條項22之微影裝置，其進一步包含：一光束中繼器，其經組態以自該雷射源接收該輸出脈衝拉伸雷射束並輸出該輸出脈衝拉伸雷射束。

25.一種光學脈衝拉伸器，其經組態以接收一雷射束並產生一輸出脈衝拉伸雷射束，該光學脈衝拉伸器包含：兩個或更多個共焦光學脈衝拉伸器，其堆疊於該光學脈衝拉伸器中，其中該兩個或更多個共焦光學脈衝拉伸器中之一第一者經組態以接收該雷射束之一部分並藉由四次反射該雷射束之該部分而產生一第一脈衝拉伸雷射束，且該兩個或更多個共焦光學脈衝拉伸器中之一第二者經組態以接收該第一脈衝拉伸雷射束之一部分並藉由十二次反射該第一脈衝拉伸雷射束之該部分而產生一第二脈衝拉伸雷射束。

26.如條項25之光學脈衝拉伸器，其中該兩個或更多個共焦光學脈衝拉伸器中之該第一者具有一第一光學延遲，且該兩個或更多個共焦光學脈衝拉伸器中之該第二者具有等於或大於該第一光學延遲之一第二光學延遲。

27.一種擴展光學脈衝拉伸器，其包含：一第一級光學脈衝拉伸器，其包含第一複數個共焦諧振器且經組態以接收一雷射束並產生一第一脈衝拉伸雷射束；一堆疊共焦脈衝拉伸器，其包含：一第二級光學脈衝拉伸器，其包含第二複數個共焦諧振器且經組態以接收該第一脈衝拉伸雷射束之一部分並產生一第二脈衝拉伸雷射束；一第三級光學脈衝拉伸器，其包含第三複數個共焦諧振器且經組態以接收該第二脈衝拉伸雷射束之一部分並產生一第三脈衝拉伸雷射束；一第四級光學脈衝拉伸器，其包含第四複數個共焦諧振器且經組態以接收該第三脈衝拉伸雷射束之一部分並產生該輸出脈衝拉伸雷射束，其中該第一級光學脈衝拉伸器大致垂直於該堆疊共焦脈衝拉伸器而定位。

28.如條項27之擴展光學脈衝拉伸器，其中：該第一級光學脈衝拉伸器具有一第一光學延遲，該第二級光學脈衝拉伸器具有等於或大於該第一光學延遲之一第二光學延遲，該第三級光學脈衝拉伸器具有等於或大於該第二光學延遲之一第三光學延遲，且該第四級光學脈衝拉伸器具有等於或大於該第二光學延遲之一第四光學延遲。

29.如條項27之擴展光學脈衝拉伸器，其中：該第一級光學脈衝拉伸器經組態以接收該雷射束之一部分並藉由四次反射該雷射束之該部分而產生一第一脈衝拉伸雷射束，該第二級光學脈衝拉伸器經組態以接收該雷射束之一部分並藉由四次反射該雷射束之該部分而產生一第二脈衝拉伸雷射束，該第三級光學脈衝拉伸器經組態以接收該雷射束之一部分並藉由十二次反射該雷射束之該部分而產生一第三脈衝拉伸雷射束，且該第四級光學脈衝拉伸器經組態以接收該雷射束之一部分並藉由十二次反射該雷射束之該部分而產生一第四脈衝拉伸雷射束。

30.一種方法，其包含：產生一雷射束；及導引該雷射束穿過一光學脈衝拉伸器，該光學脈衝拉伸器包含：一第一級光學脈衝拉伸器，其包含第一複數個共焦諧振器且經組態以接收該雷射束之一部分並產生一第一脈衝拉伸雷射束；一第二級光學脈衝拉伸器，其包含第二複數個共焦諧振器且經組態以接收該第一脈衝拉伸雷射束之一部分並產生一第二脈衝拉伸雷射束；及一第三級光學脈衝拉伸器，其包含第三複數個共焦諧振器且經組態以接收該第二脈衝拉伸雷射束之一部分並產生該輸出脈衝拉伸雷射束。

31.如條項30之方法，其中該光學脈衝拉伸器進一步包含經組態以將該雷射束導引至該第一級光學脈衝拉伸器之一正交級光學脈衝拉伸器，該正交級光學脈衝拉伸器大致垂直於該第一級、第二級及第三級光學脈衝拉伸器而定位。

本發明之廣度及範疇不應由上述例示性實施例中之任一者限制，而應僅根據以下申請專利範圍及其等效者進行界定。