TWI839433B - 附相位差層之偏光板 - Google Patents
附相位差層之偏光板 Download PDFInfo
- Publication number
- TWI839433B TWI839433B TW108148150A TW108148150A TWI839433B TW I839433 B TWI839433 B TW I839433B TW 108148150 A TW108148150 A TW 108148150A TW 108148150 A TW108148150 A TW 108148150A TW I839433 B TWI839433 B TW I839433B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- layer
- phase difference
- polarizing plate
- difference layer
- protective layer
- Prior art date
Links
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 364
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims abstract description 132
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims abstract description 65
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims abstract description 65
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 42
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 42
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims abstract description 12
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 12
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 claims abstract description 9
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 102
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 102
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 82
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 60
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims description 46
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 46
- 239000011630 iodine Substances 0.000 claims description 39
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 claims description 39
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 36
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 33
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 19
- 125000000686 lactone group Chemical group 0.000 claims description 18
- 238000007711 solidification Methods 0.000 claims description 15
- 230000008023 solidification Effects 0.000 claims description 15
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 claims description 10
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical group O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims description 7
- KNCYXPMJDCCGSJ-UHFFFAOYSA-N piperidine-2,6-dione Chemical group O=C1CCCC(=O)N1 KNCYXPMJDCCGSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N glutaric anhydride Chemical group O=C1CCCC(=O)O1 VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000005439 maleimidyl group Chemical group C1(C=CC(N1*)=O)=O 0.000 claims description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 99
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 61
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 49
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 41
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 description 34
- 239000000047 product Substances 0.000 description 32
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 31
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 30
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 29
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 24
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 22
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 22
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 21
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- -1 iodine ions Chemical class 0.000 description 20
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 19
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 19
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 18
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 17
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 17
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 17
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 15
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 15
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 15
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 description 13
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 11
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 10
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 10
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000006870 function Effects 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- 239000004985 Discotic Liquid Crystal Substance Substances 0.000 description 8
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 8
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 8
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 8
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 8
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 7
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 7
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 7
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 6
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 6
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 6
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 5
- KLDXJTOLSGUMSJ-JGWLITMVSA-N Isosorbide Chemical compound O[C@@H]1CO[C@@H]2[C@@H](O)CO[C@@H]21 KLDXJTOLSGUMSJ-JGWLITMVSA-N 0.000 description 5
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 5
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 5
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 5
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 5
- 229960002479 isosorbide Drugs 0.000 description 5
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 5
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 4
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 4
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 4
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 4
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 238000011160 research Methods 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000106 Liquid crystal polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000004977 Liquid-crystal polymers (LCPs) Substances 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004988 Nematic liquid crystal Substances 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 3
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 3
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 3
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000007602 hot air drying Methods 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 3
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 3
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 3
- FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M sodium iodide Chemical compound [Na+].[I-] FVAUCKIRQBBSSJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000000870 ultraviolet spectroscopy Methods 0.000 description 3
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N Allylamine Chemical compound NCC=C VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UEXCJVNBTNXOEH-UHFFFAOYSA-N Ethynylbenzene Chemical group C#CC1=CC=CC=C1 UEXCJVNBTNXOEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101001121408 Homo sapiens L-amino-acid oxidase Proteins 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKNPRRRKHAEUMW-UHFFFAOYSA-N Iodine aqueous Chemical compound [K+].I[I-]I DKNPRRRKHAEUMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 102100026388 L-amino-acid oxidase Human genes 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical group COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 101100012902 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) FIG2 gene Proteins 0.000 description 2
- 101100233916 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) KAR5 gene Proteins 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003848 UV Light-Curing Methods 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 239000007767 bonding agent Substances 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 2
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 2
- ROORDVPLFPIABK-UHFFFAOYSA-N diphenyl carbonate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC(=O)OC1=CC=CC=C1 ROORDVPLFPIABK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N indium tin Chemical compound [In].[Sn] RHZWSUVWRRXEJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 2
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004694 iodide salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 2
- HSZCZNFXUDYRKD-UHFFFAOYSA-M lithium iodide Chemical compound [Li+].[I-] HSZCZNFXUDYRKD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- IOXXVNYDGIXMIP-UHFFFAOYSA-N n-methylprop-2-en-1-amine Chemical compound CNCC=C IOXXVNYDGIXMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000474 nursing effect Effects 0.000 description 2
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 2
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920005749 polyurethane resin Polymers 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine Chemical compound C1=NC=NC=N1 JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000000190 1,4-diols Chemical class 0.000 description 1
- BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 1-cyclohexylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1CCCCC1 BQTPKSBXMONSJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 1-phenylpyrrole-2,5-dione Chemical compound O=C1C=CC(=O)N1C1=CC=CC=C1 HIDBROSJWZYGSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDAJRGYVXNVVNP-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylethenyl)-4,5-dihydro-1,3-oxazole Chemical compound O1CCN=C1C=CC1=CC=CC=C1 NDAJRGYVXNVVNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXGYYDRIMBPOMN-UHFFFAOYSA-N 2-(hydroxymethoxy)ethoxymethanol Chemical compound OCOCCOCO BXGYYDRIMBPOMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAMTXHVZOHPPQR-UHFFFAOYSA-N 2-(hydroxymethyl)prop-2-enoic acid Chemical compound OCC(=C)C(O)=O AAMTXHVZOHPPQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 2-Oxazoline Chemical compound C1CN=CO1 IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001340 2-chloroethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)C([H])([H])* 0.000 description 1
- BQBSIHIZDSHADD-UHFFFAOYSA-N 2-ethenyl-4,5-dihydro-1,3-oxazole Chemical compound C=CC1=NCCO1 BQBSIHIZDSHADD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- TVONJMOVBKMLOM-UHFFFAOYSA-N 2-methylidenebutanenitrile Chemical compound CCC(=C)C#N TVONJMOVBKMLOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPIQIQPLUVLISR-UHFFFAOYSA-N 2-prop-1-en-2-yl-4,5-dihydro-1,3-oxazole Chemical compound CC(=C)C1=NCCO1 LPIQIQPLUVLISR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHKJNWKLSOOMTQ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-1-enyl-4,5-dihydro-1,3-oxazole Chemical compound CC=CC1=NCCO1 NHKJNWKLSOOMTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAWINMXGBBFQRZ-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxy-2,2-dimethylpropanoic acid;(3-hydroxy-2,2-dimethylpropyl) prop-2-enoate Chemical compound OCC(C)(C)C(O)=O.OCC(C)(C)COC(=O)C=C AAWINMXGBBFQRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl Chemical group [CH2]CCO QOXOZONBQWIKDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBSXSAXOLABXMF-UHFFFAOYSA-N 4-Vinylaniline Chemical compound NC1=CC=C(C=C)C=C1 LBSXSAXOLABXMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJMYQRVWBCSLEU-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-2-methylidenebutanoic acid Chemical compound OCCC(=C)C(O)=O NJMYQRVWBCSLEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GHAZCVNUKKZTLG-UHFFFAOYSA-N N-ethyl-succinimide Natural products CCN1C(=O)CCC1=O GHAZCVNUKKZTLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDFGOPSGAURCEO-UHFFFAOYSA-N N-ethylmaleimide Chemical compound CCN1C(=O)C=CC1=O HDFGOPSGAURCEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 229930182556 Polyacetal Natural products 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTTSNKDQDACYLV-UHFFFAOYSA-N Trihydroxybutane Chemical compound CCCC(O)(O)O GTTSNKDQDACYLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQYJRMFWJJONBO-UHFFFAOYSA-N Tris(2,3-dibromopropyl) phosphate Chemical compound BrCC(Br)COP(=O)(OCC(Br)CBr)OCC(Br)CBr PQYJRMFWJJONBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 229910000611 Zinc aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000032900 absorption of visible light Effects 0.000 description 1
- 239000011354 acetal resin Substances 0.000 description 1
- 239000003522 acrylic cement Substances 0.000 description 1
- 229920001893 acrylonitrile styrene Polymers 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXFVOUUOTHJFPX-UHFFFAOYSA-N alumane;zinc Chemical compound [AlH3].[Zn] HXFVOUUOTHJFPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- GVFOJDIFWSDNOY-UHFFFAOYSA-N antimony tin Chemical compound [Sn].[Sb] GVFOJDIFWSDNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000051 benzyloxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 238000000071 blow moulding Methods 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- XQKKWWCELHKGKB-UHFFFAOYSA-L calcium acetate monohydrate Chemical compound O.[Ca+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O XQKKWWCELHKGKB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940067460 calcium acetate monohydrate Drugs 0.000 description 1
- 238000003490 calendering Methods 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- VTJUKNSKBAOEHE-UHFFFAOYSA-N calixarene Chemical compound COC(=O)COC1=C(CC=2C(=C(CC=3C(=C(C4)C=C(C=3)C(C)(C)C)OCC(=O)OC)C=C(C=2)C(C)(C)C)OCC(=O)OC)C=C(C(C)(C)C)C=C1CC1=C(OCC(=O)OC)C4=CC(C(C)(C)C)=C1 VTJUKNSKBAOEHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000012461 cellulose resin Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 150000003983 crown ethers Chemical class 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001934 cyclohexanes Chemical class 0.000 description 1
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAWOHFOSAIXURX-UHFFFAOYSA-N cyclopentylcyclopentane Chemical group C1CCCC1C1CCCC1 MAWOHFOSAIXURX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- SYGAXBISYRORDR-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-(hydroxymethyl)prop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(=C)CO SYGAXBISYRORDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- NJWNEWQMQCGRDO-UHFFFAOYSA-N indium zinc Chemical compound [Zn].[In] NJWNEWQMQCGRDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 230000002535 lyotropic effect Effects 0.000 description 1
- 150000002678 macrocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFUCOAQWQVDBEU-UHFFFAOYSA-N methyl 2-(hydroxymethyl)prop-2-enoate Chemical compound COC(=O)C(=C)CO RFUCOAQWQVDBEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHRMHEKXRUSPAE-UHFFFAOYSA-N methyl 4-hydroxy-2-methylidenebutanoate Chemical compound COC(=O)C(=C)CCO NHRMHEKXRUSPAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- IQFXJRXOTKFGPN-UHFFFAOYSA-N n-ethenyl-n-ethylethanamine Chemical compound CCN(CC)C=C IQFXJRXOTKFGPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- SEEYREPSKCQBBF-UHFFFAOYSA-N n-methylmaleimide Chemical compound CN1C(=O)C=CC1=O SEEYREPSKCQBBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N perisophthalic acid Natural products OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- GROIHDHFSBIQKH-UHFFFAOYSA-N phenyl 3-[9-[[9-(3-oxo-3-phenoxypropyl)fluoren-9-yl]methyl]fluoren-9-yl]propanoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC(=O)CCC1(C2=CC=CC=C2C2=CC=CC=C21)CC1(C2=CC=CC=C2C2=CC=CC=C21)CCC(=O)OC1=CC=CC=C1 GROIHDHFSBIQKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical class N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 239000012779 reinforcing material Substances 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000009518 sodium iodide Nutrition 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 125000005580 triphenylene group Chemical group 0.000 description 1
- XHGIFBQQEGRTPB-UHFFFAOYSA-N tris(prop-2-enyl) phosphate Chemical compound C=CCOP(=O)(OCC=C)OCC=C XHGIFBQQEGRTPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
- G02B5/3083—Birefringent or phase retarding elements
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/30—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
- B32B7/023—Optical properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F20/00—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/14—Protective coatings, e.g. hard coatings
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
- G02B5/3016—Polarising elements involving passive liquid crystal elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
- G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
- G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133528—Polarisers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/13363—Birefringent elements, e.g. for optical compensation
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/50—OLEDs integrated with light modulating elements, e.g. with electrochromic elements, photochromic elements or liquid crystal elements
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
本發明提供一種即便非常薄其耐久性仍佳之附相位差層之偏光板。本發明附相位差層之偏光板具有偏光板與相位差層,該偏光板包含偏光件與配置於偏光件之一側的保護層,而該相位差層配置於偏光板之與保護層相反之側。保護層係以熱塑性丙烯酸系樹脂之有機溶劑溶液之塗佈膜的固化物所構成,且該保護層之玻璃轉移溫度為95℃以上。在一實施形態中,保護層之厚度為10μm以下。
Description
本發明涉及附相位差層之偏光板。
發明背景
在影像顯示裝置(例如液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置)中,由於其影像形成方式,多數情況下係於顯示單元之至少一側配置有偏光板。並且,在實際應用上相位差板大多會與偏光板併用,而廣泛使用偏光板與相位差板一體化而成的附相位差層之偏光板(例如專利文獻1)。近年來隨著影像顯示裝置之薄型化及撓性化發展,對於附相位差層之偏光板之薄型化亦有強烈需求。然而,愈將附相位差層之偏光板薄化,在加熱加濕環境下光學特性降低之耐久性問題便愈顯著。
先前技術文獻
專利文獻
專利文獻1:日本專利第3325560號公報
發明欲解決之課題
本發明是為了解決上述以往課題而成者,其主要目的在於提供一種即便非常薄其耐久性仍佳之附相位差層之偏光板。
用以解決課題之手段
本發明附相位差層之偏光板具有偏光板與相位差層,該偏光板包含偏光件與配置於該偏光件之一側的保護層,而該相位差層配置於該偏光板之與該保護層相反之側。該保護層係以熱塑性丙烯酸系樹脂之有機溶劑溶液之塗佈膜的固化物所構成,且該保護層之玻璃轉移溫度為95℃以上。
在一實施形態中,上述相位差層為單一層,且該相位差層的Re(550)為100nm~190nm,該相位差層之慢軸與上述偏光件之吸收軸形成之角度為40°~50°。此時,上述相位差層可為樹脂薄膜,亦可為液晶化合物之定向固化層。
在另一實施形態中,上述相位差層具有第1層與第2層的積層結構;該第1層的Re(550)為200nm~300nm,且其慢軸與上述偏光件之吸收軸形成之角度為10°~20°;該第2層的Re(550)為100nm~190nm,且其慢軸與該偏光件之吸收軸形成之角度為70°~80°。此時,上述第1層及第2層分別可為樹脂薄膜,亦可為液晶化合物之定向固化層。
在一實施形態中,上述保護層之厚度為10μm以下。
在一實施形態中,上述保護層之碘吸附量為4.0重量%以下。
在一實施形態中,上述熱塑性丙烯酸系樹脂具有選自於由內酯環單元、戊二酸酐單元、戊二醯亞胺單元、馬來酸酐單元及馬來醯亞胺單元所構成群組中之至少1種。
在一實施形態中,上述附相位差層之偏光板配置於影像顯示裝置之視辨側,且上述保護層配置於視辨側。
發明效果
根據本發明,藉由於附相位差層之偏光板中將保護層以熱塑性丙烯酸系樹脂之有機溶劑溶液之塗佈膜的固化物構成,並設其玻璃轉移溫度為預定值以上,可獲得即便非常薄其耐久性仍佳之附相位差層之偏光板。
(用語及符號之定義)
本說明書中之用語及符號之定義如下。
(1)折射率(nx、ny、nz)
「nx」為面內折射率成最大的方向(亦即慢軸方向)之折射率,「ny」為在面內與慢軸正交之方向(亦即快軸方向)之折射率,而「nz」為厚度方向之折射率。
(2)面內相位差(Re)
「Re(λ)」係於23℃下以波長λnm之光測定之面內相位差。例如,「Re(550)」係於23℃下以波長550nm之光測定之面內相位差。Re(λ)可於令層(薄膜)之厚度為d(nm)時,藉由式:Re(λ)=(nx-ny)×d求得。
(3)厚度方向之相位差(Rth)
「Rth(λ)」係於23℃下以波長λnm之光測定之厚度方向的相位差。例如,「Rth(550)」係於23℃下以波長550nm之光測定之厚度方向的相位差。Rth(λ)可於令層(薄膜)厚度為d(nm)時,藉由式:Rth(λ)=(nx-nz)×d求得。
(4)Nz係數
Nz係數可以Nz=Rth/Re求得。
(5)角度
本說明書中提及角度時,該角度包含相對於基準方向之順時針及逆時針兩者。因此,例如「45°」係指±45°。
A.附相位差層之偏光板之概略
圖1係本發明一實施形態之附相位差層之偏光板的概略截面圖。圖式例之附相位差層之偏光板100具有:偏光件10、配置於偏光件10之一側的保護層20與配置於偏光件10之另一側的相位差層40。偏光件10與保護層20可構成偏光板。因此,附相位差層之偏光板具有偏光板與相位差層,該偏光板包含偏光件與配置於該偏光件之一側的保護層,而該相位差層配置於該偏光板之與該保護層相反之側。偏光板亦可因應需求在偏光件10之與保護層20相反之側更包含有另一保護層(未圖示)。換言之,附相位差層之偏光板100亦可於偏光件10與相位差層40之間更包含有另一保護層(未圖示)。附相位差層之偏光板中,偏光件10之厚度宜為8μm以下。
圖1所示實施形態中,相位差層40為單一層。此時,相位差層40的Re(550)例如為100nm~190nm,相位差層40之慢軸與偏光件10之吸收軸形成之角度例如為40°~50°。此時,較佳為於相位差層40之外側(與偏光件10相反之側)設置另一相位差層(未圖示)。另一相位差層代表上折射率特性係顯示nz>nx=ny之關係。或是如圖2所示,另一實施形態之附相位差層之偏光板101中,相位差層40具有第1層41與第2層42的積層結構。此時,第1層41的Re(550)例如為200nm~300nm,且第1層41之慢軸與偏光件10之吸收軸形成之角度例如為10°~20°;第2層42的Re(550)例如為100nm~190nm,且第2層42之慢軸與偏光件10之吸收軸形成之角度為例如70°~80°。不論為何種實施形態,相位差層40可為樹脂薄膜,亦可為液晶化合物之定向固化層。相位差層40具有積層結構時,代表上第1層41及第2層42分別為樹脂薄膜或液晶化合物之定向固化層。
本發明實施形態中,保護層20係以熱塑性丙烯酸系樹脂之有機溶劑溶液之塗佈膜的固化物所構成。只要為所述構成,便可使保護層非常薄(例如製成為10μm以下)。並且,可將保護層直接(即不透過接著劑層或黏著劑層)形成於偏光件上。根據本發明實施形態,如上述,偏光件及保護層非常薄且可省略接著劑層或黏著劑層,故可使附相位差層之偏光板之總厚度極薄。相位差層以樹脂薄膜構成時,附相位差層之偏光板的總厚度例如為80μm以下,宜為70μm以下,更宜為60μm以下。附相位差層之偏光板之總厚度的下限例如可為30μm。相位差層以液晶化合物之定向固化層構成時,附相位差層之偏光板之總厚度例如為25μm以下,宜為22μm以下,更宜為20μm以下。附相位差層之偏光板之總厚度的下限例如可為10μm。
並且,本發明實施形態中,保護層20之玻璃轉移溫度(Tg)為95℃以上,宜為100℃以上,且宜為105℃以上,更宜為110℃以上,尤宜為115℃以上。只要保護層之Tg在所述範圍內,藉由與由將保護層以熱塑性丙烯酸系樹脂之有機溶劑溶液之塗佈膜的固化物構成所帶來的效果之加乘效果,可實現即便非常薄其耐久性仍佳之偏光板(結果而言為附相位差層之偏光板)。具體而言,可實現即便在加熱加濕環境下光學特性之降低仍受抑制之偏光板(結果而言為附相位差層之偏光板)。另一方面,保護層之Tg宜為300℃以下,且宜為250℃以下,更宜為200℃以下,尤宜為160℃以下。保護層之Tg只要在所述範圍內,成形性即佳。
如上述,根據本發明實施形態,可實現即便在加熱加濕環境下光學特性之降低仍受抑制之偏光板(結果而言為附相位差層之偏光板)。這種偏光板(結果而言為附相位差層之偏光板)放置在85℃及85%RH之環境下48小時後之單體透射率Ts的變化量ΔTs及偏光度P的變化量ΔP分別都很小。單體透射率Ts係使用例如紫外線可見光分光光度計(日本分光公司製,製品名「V7100」)來測定。偏光度P係從使用紫外線可見光分光光度計測定之單體透射率(Ts)、平行透射率(Tp)及正交透射率(Tc),利用下式來算出。
偏光度(P)(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}1/2
×100
此外,上述Ts、Tp及Tc係以JIS Z 8701之2度視野(C光源)進行測定並進行視感度校正所得之Y值。又,Ts及P實質上為偏光件之特性。ΔTs及ΔP分別可由下述式求得。
ΔTs(%)=Ts48
-Ts0
ΔP(%)=P48
-P0
於此,Ts0
為放置前(初始)之單體透射率,Ts48
為放置後之單體透射率,P0
為放置前(初始)之偏光度,P48
為放置後之偏光度。ΔTs宜為3.0%以下,且宜為2.7%以下,更宜為2.4%以下。ΔP宜為-0.05%~0%,且宜為-0.03%~0%,更宜為-0.01%~0%。
本發明附相位差層之偏光板亦可更包含有上述以外之相位差層。所述相位差層之光學特性(例如折射率特性、面內相位差、Nz係數、光彈性係數)、厚度、配置位置等可按目的適當設定。
本發明附相位差層之偏光板亦可更包含有導電層或附導電層之各向同性基材(皆未圖示)。導電層或附導電層之各向同性基材代表上係設於相位差層40之外側(與偏光件10相反之側)。在可設置導電層或附導電層之各向同性基材時,附相位差層之偏光板可應用於在顯示單元(例如液晶單元、有機EL單元)與偏光板間組入觸控感測器而成的所謂內觸控面板型輸入顯示裝置。
附相位差層之偏光板可為長條狀,亦可為薄片狀。當附相位差層之偏光板為長條狀時,宜捲繞成捲狀而製成附相位差層之偏光板捲材。
代表上,附相位差層之偏光板可具有黏著劑層作為一側(代表上為相位差層40側)之最外層,而可貼合至顯示單元。可視需求以可剝離之方式將表面保護薄膜及/或載體薄膜暫時黏附於附相位差層之偏光板上,以補強及/或支持附相位差層之偏光板。附相位差層之偏光板包含黏著劑層時,黏著劑層表面上以可剝離之狀態暫時黏著有分離件,以至實際使用前之期間保護黏著劑層,並且附相位差層之偏光板可行捲狀化。
本發明附相位差層之偏光板如上述非常薄,故可適宜用於撓性的影像顯示裝置。較佳為影像顯示裝置具有彎曲的形狀(實質上為彎曲的顯示畫面),及/或可撓曲或彎折。影像顯示裝置的具體例可舉液晶顯示裝置、電致發光(EL)顯示裝置(例如有機EL顯示裝置、無機EL顯示裝置)。而本發明附相位差層之偏光板可應用於一般影像顯示裝置不受上述說明一事即不言而喻。
以下針對附相位差層之偏光板的構成要素進行詳細說明。
B.偏光板
B-1.偏光件
偏光件可採用任意適當的偏光件。偏光件在代表上可使用兩層以上之積層體來製作。關於偏光件之製造方法係以偏光板之製造方法而後於D項說明。
偏光件的厚度宜為1μm~8μm,1μm~7μm較佳,2μm~5μm更佳。
偏光件的硼酸含量宜為10重量%以上,較佳為13重量%~25重量%。只要偏光件之硼酸含量在所述範圍內,便可藉由其與後述碘含量之加乘效果來良好維持貼合時調整捲曲的容易性且良好抑制加熱時之捲曲,同時改善加熱時之外觀耐久性。硼酸含量例如可由中和法使用下述式以每單位重量之偏光件所含硼酸量之形式來算出。
[數學式1]
偏光件的碘含量宜為2重量%以上,較佳為2重量%~10重量%。只要偏光件之碘含量在所述範圍內,便可藉由其與上述硼酸含量之加乘效果來良好維持貼合時調整捲曲的容易性且良好抑制加熱時之捲曲,同時改善加熱時之外觀耐久性。本說明書中的「碘含量」意指偏光件(PVA系樹脂薄膜)中所含之所有碘的量。更具體而言,碘在偏光件中以碘離子(I-
)、碘分子(I2
)、多碘離子(I3 -
、I5 -
)等形態存在,而本說明書中的碘含量意指包含所有該等形態之碘的量。碘含量可利用譬如螢光X射線分析之檢量曲線法來算出。另,多碘離子在偏光件中係以形成有PVA-碘錯合物之狀態存在。藉由形成所述錯合物,可在可見光之波長範圍內展現吸收二色性。具體而言,PVA與三碘化物離子之錯合物(PVA・I3 -
)在470nm附近具有吸光峰;PVA與五碘化物離子之錯合物(PVA・I5 -
)在600nm附近具有吸光峰。結果,多碘離子可根據其形態在可見光之寬廣範圍內吸收光。另一方面,碘離子(I-
)在230nm附近具有吸光峰,其與可見光之吸收無實質關聯。因此,以與PVA之錯合物狀態存在的多碘離子主要係與偏光件之吸收性能有關。
偏光件宜在波長380nm~780nm中之任一波長下顯示吸收二色性。偏光件之單體透射率Ts宜為40%~48%,較宜為41%~46%。偏光件的偏光度P以97.0%以上為佳,99.0%以上較佳,99.9%以上更佳。
B-2.保護層
保護層如上述係以熱塑性丙烯酸系樹脂(以下僅稱丙烯酸系樹脂)之有機溶劑溶液之塗佈膜的固化物所構成。以下,針對保護層之構成成分進行具體說明,接著說明保護層之特性。
B-2-1.丙烯酸系樹脂
丙烯酸系樹脂(如同後述,包含2種以上丙烯酸系樹脂之混合物及丙烯酸系樹脂與其他樹脂之混合物)的Tg係如上述A項中有關保護層之說明中所述。
丙烯酸系樹脂只要具有如上述之Tg,則可採用任意適當之丙烯酸系樹脂。丙烯酸系樹脂在代表上含有(甲基)丙烯酸烷基酯為主成分作為單體單元(重複單元)。本說明書中,「(甲基)丙烯酸」意指丙烯酸及/或甲基丙烯酸。構成丙烯酸系樹脂之主骨架的(甲基)丙烯酸烷基酯,可例示如直鏈狀或支鏈狀之烷基碳數1~18者。該等可單獨使用或可組合來使用。此外,亦可藉由共聚於丙烯酸系樹脂導入任意適當的共聚單體。源自(甲基)丙烯酸烷基酯之重複單元代表上由下述通式(1)所示:
[化學式1]
通式(1)中,R4
表示氫原子或甲基,R5
表示氫原子或可被取代之碳數1~6脂肪族或脂環式烴基。取代基可舉如鹵素、羥基。(甲基)丙烯酸烷基酯之具體例可舉:(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸二環戊氧基乙酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙烯酸氯甲酯、(甲基)丙烯酸2-氯乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸2,3,4,5,6-五羥己酯、(甲基)丙烯酸2,3,4,5-四羥戊酯、2-(羥甲基)丙烯酸甲酯、2-(羥甲基)丙烯酸乙酯、2-(羥乙基)丙烯酸甲酯。通式(1)中,R5
宜為氫原子或甲基。因此,特別理想之(甲基)丙烯酸烷基酯為丙烯酸甲酯或甲基丙烯酸甲酯。
丙烯酸系樹脂可僅含有單一的(甲基)丙烯酸烷基酯單元,亦可含有多個上述通式(1)中之R4
及R5
互異的(甲基)丙烯酸烷基酯單元。
丙烯酸系樹脂中之(甲基)丙烯酸烷基酯單元的含有比率宜為50莫耳%~98莫耳%,較宜為55莫耳%~98莫耳%,更宜為60莫耳%~98莫耳%,尤宜為65莫耳%~98莫耳%,最宜為70莫耳%~97莫耳%。含有比率若少於50莫耳%,恐無法充分發揮源自(甲基)丙烯酸烷基酯單元可展現之效果(例如,高耐熱性、高透明性)。上述含有比率若大於98莫耳%,有樹脂變脆而容易破裂,而無法充分發揮高機械強度,使生產性變差之疑慮。
丙烯酸系樹脂宜具有包含環結構之重複單元。包含環結構之重複單元可舉內酯環單元、戊二酸酐單元、戊二醯亞胺單元、馬來酸酐單元、馬來醯亞胺(N-取代馬來醯亞胺)單元。包含環結構之重複單元可僅1種含於丙烯酸系樹脂之重複單元中,亦可2種以上含於其中。
內酯環單元宜為下述通式(2)所示:
[化學式2]
通式(2)中,R1
、R2
及R3
分別獨立表示氫原子或碳數1~20之有機殘基。此外,有機殘基亦可含有氧原子。丙烯酸系樹脂中可僅含有單一的內酯環單元,亦可含有多個上述通式(2)中之R1
、R2
及R3
互異的內酯環單元。具有內酯環單元之丙烯酸系樹脂已載於譬如日本專利特開2008-181078號公報中,而本說明書即援用該公報之記載作為參考。
戊二醯亞胺單元宜為下述通式(3)所示:
[化學式3]
通式(3)中,R11
及R12
分別獨立表示氫或碳數1~8烷基,R13
表示碳數1~18烷基、碳數3~12環烷基或碳數6~10芳基。通式(3)中,理想是R11
及R12
分別獨立為氫或甲基,R13
為氫、甲基、丁基或環己基。更理想是R11
為甲基,R12
為氫,R13
為甲基。丙烯酸系樹脂中可僅含有單一的戊二醯亞胺單元,亦可含有多個上述通式(3)中之R11
、R12
及R13
互異的戊二醯亞胺單元。具有戊二醯亞胺單元之丙烯酸系樹脂例如已記載於日本特開2006-309033號公報、日本特開2006-317560號公報、日本特開2006-328334號公報、日本特開2006-337491號公報、日本特開2006-337492號公報、日本特開2006-337493號公報、日本特開2006-337569號公報中,而本說明書即援用該公報之記載作為參考。另,戊二酸酐單元除了上述通式(3)中被R13
取代之氮原子變為氧原子之外,皆適用上述有關戊二醯亞胺單元之說明。
馬來酸酐單元及馬來醯亞胺(N-取代馬來醯亞胺)單元可由名稱特定出結構,因此省略具體說明。
丙烯酸系樹脂中包含環結構之重複單元的含有比率宜為1莫耳%~50莫耳%,較宜為10莫耳%~40莫耳%,更宜為20莫耳%~30莫耳%。含有比率過少時,會有Tg低於110℃之情形,而有所得保護層之耐熱性、耐溶劑性及表面硬度不充分之情形。含有比率過多時,有成形性及透明性不充分之情形。
丙烯酸系樹脂亦可含有(甲基)丙烯酸烷基酯單元及包含環結構之重複單元以外之重複單元。所述重複單元可舉源自可與構成上述單元之單體共聚之乙烯基系單體的重複單元(其他乙烯基系單體單元)。其他乙烯基系單體可舉如:丙烯酸、甲基丙烯酸、巴豆酸、2-(羥甲基)丙烯酸、2-(羥乙基)丙烯酸、丙烯腈、甲基丙烯腈、乙基丙烯腈(Ethacrylonitrile)、烯丙基環氧丙基醚、馬來酸酐、伊康酸酐、N-甲基馬來醯亞胺、N-乙基馬來醯亞胺、N-環己基馬來醯亞胺、丙烯酸胺乙酯、丙烯酸丙基胺乙酯、甲基丙烯酸二甲基胺乙酯、甲基丙烯酸乙基胺丙酯、甲基丙烯酸環己基胺乙酯、N-乙烯基二乙基胺、N-乙醯基乙烯基胺、烯丙基胺、甲基烯丙基胺、N-甲基烯丙基胺、2-異丙烯基-唑啉、2-乙烯基-唑啉、2-丙烯醯基-唑啉、N-苯基馬來醯亞胺、甲基丙烯酸苯基胺乙酯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、對環氧丙基苯乙烯、對胺基苯乙烯、2-苯乙烯基-唑啉等。該等可單獨使用亦可併用。其他乙烯基系單體單元之種類、數量、組合、含有比率等可按目的適當設定。
丙烯酸系樹脂之重量平均分子量宜為1000~2000000,且宜為5000~1000000,更宜為10000~500000,尤宜為50000~500000,最宜為60000~150000。重量平均分子量可使用凝膠滲透層析法(GPC系統,Tosoh(東曹)公司製),以聚苯乙烯換算求得。此外,溶劑可使用四氫呋喃。
丙烯酸系樹脂可將上述單體單元適當組合來使用,並藉由任意適當之聚合方法來聚合。亦可將2種以上具有不同單體單元之丙烯酸系樹脂混合。
本發明實施形態中,可併用丙烯酸系樹脂與其他樹脂。亦即可將構成丙烯酸系樹脂之單體成分與構成其他樹脂之單體成分共聚,並將該共聚物供於後述保護層之成形;亦可將丙烯酸系樹脂與其他樹脂之混合物供於保護層之成形。其他樹脂可舉例如苯乙烯系樹脂、聚乙烯、聚丙烯、聚醯胺、聚伸苯硫醚、聚醚醚酮、聚酯、聚碸、聚伸苯醚、聚縮醛、聚醯亞胺、聚醚醯亞胺等熱塑性樹脂。併用之樹脂的種類及摻混量可按目的及所得薄膜所期望之特性等來適當設定。例如苯乙烯系樹脂(宜為丙烯腈-苯乙烯共聚物)可作為相位差控制劑來併用。
併用丙烯酸系樹脂與其他樹脂時,丙烯酸系樹脂與其他樹脂之混合物中丙烯酸系樹脂之含量宜為50重量%~100重量%,且宜為60重量%~100重量%,更宜為70重量%~100重量%,尤宜為80重量%~100重量%。含量小於50重量%時,恐有無法充分展現丙烯酸系樹脂原本具有之高耐熱性、高透明性之虞。
B-2-2.保護層之構成及特性
保護層如上述係以丙烯酸系樹脂之有機溶劑溶液之塗佈膜的固化物所構成。只要為所述塗佈膜的固化物,便可使其厚度較擠製成形薄膜薄上甚多。保護層之厚度如上述為10μm以下,宜為7μm以下,5μm以下較佳,3μm以下更佳。保護層之厚度的下限例如可為1μm。又,雖理論上尚不明確,但這種塗佈膜的固化物由於在薄膜成形時之收縮較熱硬化性樹脂或活性能量射線硬化性樹脂(例如紫外線硬化性樹脂)之硬化物更小,以及不含殘存單體等,因此具有可抑制薄膜本身劣化且可抑制殘存單體等對偏光板(偏光件)造成不良影響的優點。並且,由於其吸濕性及透濕性較水溶液或水分散體這類水系塗佈膜的固化物更小,因此具有加濕耐久性優異之優點。結果,可實現即便在加熱加濕環境下仍可維持光學特性且耐久性佳之偏光板(結果而言為附相位差層之偏光板)。
保護層之Tg如在上述A項所說明。
保護層之碘吸附量宜為4.0重量%以下,且宜為3.0重量%以下,更宜為2.0重量%以下,尤宜為1.0重量%以下,特別宜為0.5重量%以下。碘吸附量越小越佳,而其下限例如可為0.1重量%。只要碘吸附量為所述範圍,便可獲得具有更優異耐久性之偏光板(結果而言為附相位差層之偏光板)。碘吸附含量可以後述實施例記載之方法測定。
保護層宜實質上在光學上具有各向同性。本說明書中,「實質上在光學上具有各向同性」意指面內相位差Re(550)為0nm~10nm,厚度方向之相位差Rth(550)為-20nm~+10nm。面內相位差Re(550)較宜為0nm~5nm,更宜為0nm~3nm,尤宜為0nm~2nm。厚度方向之相位差Rth(550)較宜為-5nm~5nm,更宜為-3nm~3nm,尤宜為-2nm~2nm。只要保護層之Re(550)及Rth(550)在所述範圍內,在將包含該保護層之附相位差層之偏光板應用於影像顯示裝置時,便可防止對顯示特性帶來不良影響。
保護層在厚度3µm之在380nm下之透光率愈高愈佳。具體而言,透光率宜為85%以上,較宜為88%以上,更宜為90%以上。只要透光率在所述範圍內,便可確保所期望之透明性。透光率譬如可以根據ASTM-D-1003之方法來測定。
保護層之霧度越低越佳。具體而言宜為5%以下,且宜為3%以下,更宜為1.5%以下,尤宜為1%以下。只要霧度為5%以下,便可賦予薄膜良好的透明感。並且,即便於影像顯示裝置之視辨側使用附相位差層之偏光板之情況下,仍可良好視辨顯示內容。
保護層在厚度3µm之YI宜為1.27以下,1.25以下較佳,1.23以下更佳,1.20以下尤佳。當YI大於1.3時,會有光學上透明性不充分之情形。另,YI例如可從使用高速積分球式分光透射率測定機(商品名DOT-3C:村上色彩技術研究所製)測定而得之色彩三刺激值(X、Y、Z)來利用下式求出。
YI=[(1.28X-1.06Z)/Y]×100
保護層在厚度3μm之b值(依亨特(Hunter)表色系為準的色相尺度)宜小於1.5,且1.0以下更佳。在b值為1.5以上時,有時會出現非期望之色調。另,b值例如可依以下方式求得:將構成保護層之薄膜的試樣裁切成3cm之四方形,使用高速積分球式分光透射率測定機(商品名DOT-3C:村上色彩技術研究所製)測定色相,並依亨特表色系評估該色相。
保護層(塗佈膜的固化物)可按目的含有任意適當之添加劑。添加劑之具體例可舉紫外線吸收劑;調平劑;受阻酚系、磷系、硫系等抗氧化劑;耐光穩定劑、耐候穩定劑、熱穩定劑等穩定劑;玻璃纖維、碳纖維等補強材;近紅外線吸收劑;參(二溴化丙基)磷酸酯、三烯丙基磷酸酯、氧化銻等阻燃劑;陰離子系、陽離子系、非離子系界面活性劑等抗靜電劑;無機顏料、有機顏料、染料等著色劑;有機填料或無機填料;樹脂改質劑;有機填充劑或無機填充劑;塑化劑;滑劑;抗靜電劑;阻燃劑等。添加劑可於丙烯酸系樹脂聚合時添加,亦可於薄膜形成時添加於溶液中。添加劑之種類、數量、組合、添加量等可按目的適當設定。
保護層之偏光件側亦可形成有易接著層。易接著層例如包含水系聚胺甲酸酯與唑啉系交聯劑。藉由形成所述易接著層,可提升保護層與偏光件之密著性。且,保護層上亦可形成有硬塗層。硬塗層可於當將保護層用作視辨側偏光板之視辨側保護層時形成。當形成易接著層及硬塗層兩者時,代表上該等可分別形成於保護層之不同側。
B-3.偏光板之製造方法
B-3-1.偏光件之製造方法
上述B-1項記載之偏光件之製造方法包含下列步驟:於長條狀熱塑性樹脂基材之單側形成含有鹵化物與聚乙烯醇系樹脂(PVA系樹脂)之聚乙烯醇系樹脂層(PVA系樹脂層),而製成積層體;及,對積層體依序施行空中輔助延伸處理、染色處理、水中延伸處理與乾燥收縮處理,該乾燥收縮處理係一邊將上述積層體沿長邊方向輸送一邊進行加熱,藉此使其於寬度方向收縮2%以上。PVA系樹脂層中之鹵化物含量相對於PVA系樹脂100重量份宜為5重量份~20重量份。乾燥收縮處理宜使用加熱輥進行處理,且加熱輥溫度宜為60℃~120℃。根據所述製造方法可獲得在如上述之偏光件。尤其是藉由下述方式可獲得具有優異光學特性(代表上為單體透射率及偏光度)並且光學特性參差經抑制的偏光件:製作包含含有鹵化物之PVA系樹脂層的積層體後,將上述積層體之延伸進行包含空中輔助延伸及水中延伸的多階段延伸,再將延伸後之積層體以加熱輥進行加熱。具體而言,藉由在乾燥收縮處理步驟中使用加熱輥,可一邊輸送積層體一邊使積層體整體全部均勻收縮。藉此不僅可提升所得偏光件的光學特性,還能穩定生產光學特性優異的偏光件,並可抑制偏光件之光學特性(尤其是單體透射率)的參差。以下就鹵化物及乾燥收縮處理加以說明。該等之外之製造方法的詳細內容例如記載於日本專利特開2012-73580號公報。本說明書中係援用該公報整體之記載作為參考。
B-3-1-1.鹵化物
包含鹵化物與PVA系樹脂之PVA系樹脂層可藉由將包含鹵化物與PVA系樹脂之塗佈液塗佈於熱塑性樹脂基材上並將塗佈膜乾燥來形成。塗佈液代表上係使上述鹵化物及上述PVA系樹脂溶解於溶劑而成之溶液。作為溶劑,可舉例如水、二甲亞碸、二甲基甲醯胺、二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮、各種甘醇類、三羥甲丙烷等多元醇類、伸乙二胺、二伸乙三胺等胺類。該等可單獨使用或可將二種以上組合來使用。該等中又以水為佳。溶液之PVA系樹脂濃度相對於溶劑100重量份宜為3重量份~20重量份。只要為所述樹脂濃度,便可形成密著於熱塑性樹脂基材且均勻的塗佈膜。
鹵化物可採用任意適當之鹵化物。可舉例如碘化物及氯化鈉。碘化物可舉例如碘化鉀、碘化鈉及碘化鋰。該等之中又以碘化鉀為佳。
塗佈液中之鹵化物量相對於PVA系樹脂100重量份宜為5重量份~20重量份,更佳為10重量份~15重量份。若鹵化物量過多,則會有鹵化物溢出而使最後所得偏光件變白濁之情形。
一般而言,PVA系樹脂層經延伸,會使PVA樹脂層中之聚乙烯醇分子之定向性變高,但若將延伸後之PVA系樹脂層浸漬於含水之液體中,則會有聚乙烯醇分子之定向紊亂而定向性降低之情形。尤其是在對熱塑性樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體進行硼酸水中延伸時,為了使熱塑性樹脂基材之延伸穩定而在相對較高溫度下在硼酸水中將上述積層體進行延伸時,上述定向度降低之傾向很明顯。舉例而言,PVA薄膜單體在硼酸水中之延伸一般而言係在60℃下進行,相對於此,A-PET(熱塑性樹脂基材)與PVA系樹脂層之積層體之延伸係在70℃前後之溫度即較高溫度下進行,此時,延伸初始之PVA的定向性會在因水中延伸而上升之前的階段便降低。對此,藉由製作含有鹵化物之PVA系樹脂層與熱塑性樹脂基材之積層體,並將積層體於在硼酸水中進行延伸前在空氣中進行高溫延伸(輔助延伸),可促進輔助延伸後之積層體之PVA系樹脂層中的PVA系樹脂之結晶化。結果,在將PVA系樹脂層浸漬於液體中時,相較於PVA系樹脂層不含鹵化物之情況,更能抑制聚乙烯醇分子之定向紊亂及定向性之降低。藉此,可提升經由染色處理及水中延伸處理等將積層體浸漬於液體中來進行的處理步驟而得之偏光件的光學特性。
B-3-1-2.乾燥收縮處理
乾燥收縮處理可透過將區域整體加熱所進行之區域加熱來進行,亦可透過將輸送輥加熱(所謂使用加熱輥)來進行(加熱輥乾燥方式)。較佳為使用這兩者。藉由使用加熱輥使其乾燥,可有效率地抑制積層體之加熱捲曲,而製造出外觀優異的偏光件。具體而言,藉由在使積層體沿著加熱輥之狀態下進行乾燥,可有效率地促進上述熱塑性樹脂基材之結晶化而增加結晶化度,即使是在相對較低的乾燥溫度下,仍能良好增加熱塑性樹脂基材之結晶化度。結果熱塑性樹脂基材之剛性增加而成為得以承受PVA系樹脂層因乾燥而收縮的狀態,從而捲曲受到抑制。又,藉由使用加熱輥,可在將積層體維持平坦狀態的同時進行乾燥,因此不只能抑制捲曲的產生,亦能抑制起皺的產生。此時,積層體可透過乾燥收縮處理使其於寬度方向收縮,來提升光學特性。其係因可有效提升PVA及PVA/碘錯合物之定向性之故。積層體進行乾燥收縮處理所得寬度方向之收縮率宜為2%~10%,更宜為2%~8%,尤宜為4%~6%。藉由使用加熱輥,可在輸送積層體的同時使其連續於寬度方向收縮,而可實現高生產率。
圖3係顯示乾燥收縮處理之一例的概略圖。在乾燥收縮處理中,係利用已加熱至預定溫度的輸送輥R1~R6與導輥G1~G4來一邊輸送積層體200一邊使其乾燥。在圖式例中,係將輸送輥R1~R6配置成可交替連續加熱PVA樹脂層之面與熱塑性樹脂基材之面,但例如亦可將輸送輥R1~R6配置成僅連續加熱積層體200的其中一面(例如熱塑性樹脂基材面)。
藉由調整輸送輥之加熱溫度(加熱輥之溫度)、加熱輥之數量及與加熱輥的接觸時間等,可控制乾燥條件。加熱輥之溫度宜為60℃~120℃,更宜為65℃~100℃,尤宜為70℃~80℃。可在可良好地增加熱塑性樹脂之結晶化度而良好地抑制捲曲的同時,製造出耐久性極優異的光學積層體。另,加熱輥之溫度可以接觸式溫度計來測定。在圖式例中設置有6個輸送輥,惟輸送輥只要為多數個即無特別限制。輸送輥通常為2個~40個,較佳為設置4個~30個。積層體與加熱輥之接觸時間(總接觸時間)以1秒~300秒為宜,以1~20秒為佳,以1~10秒更佳。
加熱輥可設置於加熱爐(例如烘箱)內,亦可設置於一般的製造產線(室溫環境下)。宜設置於具備送風機構的加熱爐內。藉由併用以加熱輥進行之乾燥與熱風乾燥,可抑制在加熱輥間急遽的溫度變化,而可易控制寬度方向之收縮。熱風乾燥之溫度宜為30℃~100℃。且,熱風乾燥時間宜為1秒~300秒。熱風之風速宜為10m/s~30m/s左右。另,該風速係在加熱爐內之風速,可以迷你扇葉型數位風速計來測定。
宜在水中延伸處理之後且在乾燥收縮處理之前,施行洗淨處理。上述洗淨處理代表上可藉由使PVA系樹脂層浸漬於碘化鉀水溶液中來進行。
依上述方式可獲得熱塑性樹脂基材/偏光件之積層體。
B-3-2.偏光板之製造方法
於上述B-3-1項所得積層體表面塗佈丙烯酸系樹脂之有機溶劑溶液而形成塗佈膜,並使該塗佈膜固化而形成保護層。
丙烯酸系樹脂係如上述B-2-1項中之說明。
有機溶劑可使用可將丙烯酸系樹脂溶解或均勻分散之任意適當之有機溶劑。有機溶劑之具體例可舉乙酸乙酯、甲苯、甲基乙基酮(MEK)、甲基異丁基酮(MIBK)、環戊酮、環己酮。
溶液之丙烯酸系樹脂濃度相對於溶劑100重量份宜為3重量份~20重量份。只要為所述樹脂濃度,便可形成密著於偏光件之均勻的塗佈膜。
溶液可塗佈於任意適當之基材上,亦可塗佈於偏光件上。當將溶液塗佈於基材時,形成於基材上之塗佈膜的固化物係轉印至偏光件上。當將溶液塗佈於偏光件時,藉由使塗佈膜乾燥(固化),而於偏光件上直接形成保護層。較佳為溶液塗佈於偏光件上,而於偏光件上直接形成保護層。只要為所述構成,便可省略轉印所需之接著劑層或黏著劑層,故可使附相位差層之偏光板更薄。溶液之塗佈方法可採用任意適當的方法。具體例可舉出輥塗法、旋塗法、線棒塗佈法、浸塗法、模塗法、簾塗法、噴塗法、刮刀式塗佈法(逗號塗佈法等)。
藉由使溶液之塗佈膜乾燥(固化),可形成保護層。乾燥溫度宜為100℃以下,更宜為50℃~70℃。乾燥溫度只要為所述範圍,便可防止對偏光件造成不良影響。乾燥時間可按乾燥溫度變化。乾燥時間例如可為1分鐘~10分鐘。
依以上方式而形成保護層,結果可獲得熱塑性樹脂基材/偏光件/保護層之積層體。藉由從該積層體剝離熱塑性樹脂基材,可獲得如圖1及圖2所示之具有偏光件10與保護層20之偏光板。藉由於所述偏光板之偏光件表面形成相位差層40,可獲得附相位差層之偏光板。或者,亦可於熱塑性樹脂基材/偏光件之積層體的偏光件表面貼合構成相位差層之樹脂薄膜,接著剝離熱塑性樹脂基材,並於該剝離面形成保護層。此時,可以高製造效率獲得附相位差層之偏光板。此外,關於相位差層之形成可採用業界周知之方法,故而省略詳細說明,於後述C項簡單說明。
C.相位差層
C-1.以單一層構成之相位差層
相位差層以單一層構成時,該相位差層如上述其Re(550)例如為100nm~190nm,相位差層40之慢軸與偏光件10之吸收軸形成之角度例如為40°~50°。相位差層代表上係為了賦予偏光板抗反射特性而設置,在一實施形態中可作為λ/4板發揮功能。相位差層如上述可為樹脂薄膜,亦可為液晶化合物之定向固化層。
相位差層較佳為折射率特性展現nx>ny≧nz之關係。相位差層之面內相位差Re(550)如上述例如為100nm~190nm,且宜為110nm~170nm,較宜為130nm~160nm。此外,在此「ny=nz」不只是ny與nz完全相同之情況,還包含實質上相同之情況。因此,在不損及本發明效果之範圍下會有成為ny>nz之情形。
相位差層的Nz係數宜為0.9~3,且宜為0.9~2.5,更宜為0.9~1.5,0.9~1.3尤佳。藉由滿足所述關係,在將所得之附相位差層之偏光板使用於影像顯示裝置時,可達成非常優異之反射色相。
相位差層40的慢軸與偏光件10的吸收軸形成之角度θ如上述例如為40°~50°,宜為42°~48°,更宜為約45°。只要角度θ在所述範圍內,藉由以相位差層作為λ/4板,可獲得具有非常優異圓偏光特性(結果為非常優異的抗反射特性)的附相位差層之偏光板。
相位差層可展現相位差值隨測定光之波長變大的逆分散波長特性,亦可展現相位差值隨測定光之波長變小的正常波長分散特性,又可展現相位差值幾乎不隨測定光之波長變化的平坦的波長分散特性。在一實施形態中,相位差層展現逆分散波長特性。此時,相位差層之Re(450)/Re(550)宜為0.8以上且小於1,更宜為0.8以上且0.95以下。若為所述構成,便可實現非常優異的抗反射特性。
相位差層包含光彈性係數的絕對值宜為2×10-11
m2
/N以下、且宜為2.0×10-13
m2
/N~1.5×10-11
m2
/N、更宜為1.0×10-12
m2
/N~1.2×10-11
m2
/N之樹脂。光彈性係數的絕對值只要在所述範圍內,則加熱時產生收縮應力時不易產生相位差變化。結果,可良好地防止所得影像顯示裝置的熱不均。
C-1-1.樹脂薄膜
相位差層為樹脂薄膜時,該樹脂薄膜代表上為延伸薄膜。此時,相位差層的厚度宜為60μm以下,更宜為30μm~55μm。相位差層的厚度只要為所述範圍,即可良好地抑制加熱時之捲曲,同時可良好地調整貼合時的捲曲。
相位差層可以可滿足上述特性之任意適當之樹脂薄膜構成。所述樹脂之代表例可舉聚碳酸酯系樹脂、聚酯碳酸酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚乙烯縮醛系樹脂、聚芳酯系樹脂、環狀烯烴系樹脂、纖維素系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚醯亞胺系樹脂、聚醚系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、丙烯酸系樹脂。該等樹脂可單獨使用,亦可組合(例如摻合、共聚)來使用。相位差層以顯示逆分散波長特性之樹脂薄膜構成時,可適宜使用聚碳酸酯系樹脂或聚酯碳酸酯系樹脂(以下有時僅稱作聚碳酸酯系樹脂)。
只要可獲得本發明之效果,上述聚碳酸酯系樹脂可使用任意適當之聚碳酸酯系樹脂。例如,聚碳酸酯系樹脂包含源自茀系二羥基化合物之結構單元、源自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元及源自選自於由脂環式二醇、脂環式二甲醇、二、三或聚乙二醇、以及伸烷基二醇或螺甘油所構成群組中之至少1種的二羥基化合物之結構單元。較佳為聚碳酸酯系樹脂包含源自茀系二羥基化合物之結構單元、源自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元及源自脂環式二甲醇之結構單元以及/或源自二、三或聚乙二醇之結構單元,;更佳為包含源自茀系二羥基化合物之結構單元、源自異山梨醇系二羥基化合物之結構單元及源自二、三或聚乙二醇之結構單元。聚碳酸酯系樹脂亦可因應需要包含有源自其他二羥基化合物之結構單元。此外,本發明可適宜使用之聚碳酸酯系樹脂的詳細內容例如記載於日本特開2014-10291號公報、日本特開2014-26266號公報、日本特開2015-212816號公報、日本特表2015-212817號公報、日本特表2015-212818號公報中,而本說明書即援用該記載作為參考。
前述聚碳酸酯系樹脂的玻璃轉移溫度宜為110℃以上且150℃以下,且宜為120℃以上且140℃以下。玻璃轉移溫度若過低,耐熱性會有變差之傾向,而可能在薄膜成形後造成尺寸變化,或有降低所得有機EL面板之影像品質的情況。玻璃轉移溫度若過高,則有薄膜成形時之成形穩定性變差之情況,或有損及薄膜之透明性之情況。此外,玻璃轉移溫度可依循JIS K 7121(1987)求得。
前述聚碳酸酯系樹脂的分子量可以比濃黏度表示。比濃黏度係用二氯甲烷作為溶劑,將聚碳酸酯濃度精密調製成0.6g/dL後,在溫度20.0℃±0.1℃下用烏氏黏度管進行測定。比濃黏度的下限通常宜為0.30dL/g,且以0.35dL/g以上更佳。比濃黏度的上限通常宜為1.20dL/g,且宜為1.00dL/g,0.80dL/g更佳。比濃黏度若小於前述下限值,則有產生成形品之機械強度變小之問題的情形。另一方面,比濃黏度若大於前述上限值,則進行成形時之流動性會降低,而有產生生產性或成形性降低之問題的情形。
聚碳酸酯系樹脂薄膜亦可使用市售薄膜。市售品之具體例可舉帝人公司製之商品名「PURE-ACE WR-S」、「PURE-ACE WR-W」、「PURE-ACE WR-M」、日東電工公司製之商品名「NRF」。
相位差層40例如可藉由將由上述聚碳酸酯系樹脂形成之薄膜延伸而得。由聚碳酸酯系樹脂形成薄膜之方法可採用任意適當之成形加工法。具體例可舉:壓縮成形法、轉注成形法、射出成形法、擠製成形法、吹氣成形法、粉末成形法、FRP成形法、澆鑄塗敷法(例如流延法)、砑光成形法、熱壓法等。而宜為擠製成形法或澆鑄塗敷法。其係因可提高所得薄膜的平滑性,從而可獲得良好的光學均勻性。成形條件可應使用之樹脂組成或種類、相位差薄膜所期望的特性等來適當設定。此外,如上述,聚碳酸酯系樹脂在市面上販售有很多薄膜製品,故可將該市售薄膜直接供於延伸處理。
樹脂薄膜(未延伸薄膜)的厚度可因應相位差層所期望的厚度、所期望的光學特性、後述延伸條件等設定成任意適當之值。宜為50μm~300μm。
上述延伸可採用任意適當之延伸方法、延伸條件(例如延伸溫度、延伸倍率、延伸方向)。具體而言,可單獨使用自由端延伸、固定端延伸、自由端收縮、固定端收縮等各種延伸方法,亦可同時或逐次使用。關於延伸方向,亦可沿長度方向、寬度方向、厚度方向、斜向等各種方向或維度進行。延伸的溫度相對於樹脂薄膜的玻璃轉移溫度(Tg)宜為Tg-30℃~Tg+60℃,且宜為Tg-10℃~Tg+50℃。
藉由適當選擇上述延伸方法、延伸條件,可獲得具有上述所期望之光學特性(例如折射率特性、面內相位差、Nz係數)的相位差薄膜。
在一實施形態中,相位差薄膜可藉由將樹脂薄膜進行單軸延伸或固定端單軸延伸來製作。固定端單軸延伸之具體例,可舉使樹脂薄膜一邊順著長邊方向移動,一邊往寬度方向(橫向)進行延伸之方法。延伸倍率宜為1.1倍~3.5倍。
在另一實施形態中,相位差薄膜可藉由將長條狀的樹脂薄膜沿著相對於長邊方向呈上述角度θ之方向連續進行斜向延伸來製作。藉由採用斜向延伸,可獲得相對於薄膜之長邊方向具有角度θ之定向角(於角度θ之方向上具有慢軸)的長條狀延伸薄膜,例如在與偏光件積層時,可進行捲對捲,從而可簡化製造步驟。此外,角度θ可為附相位差層之偏光板中偏光件的吸收軸與相位差層的慢軸形成之角度。角度θ如上述,宜為40°~50°,且宜為42°~48°,更宜為約45°。
斜向延伸所用延伸機可舉拉幅式延伸機,其係例如對橫向及/或縱向附加左右相異之速度的輸送力或是拉伸力或拉抽力者。拉幅式延伸機有橫式單軸延伸機、同時雙軸延伸機等,只要可將長條狀樹脂薄膜連續地進行斜向延伸,便可使用任意適當的延伸機。
藉由將上述延伸機中之左右速度分別適當控制,可獲得具有上述所期望之面內相位差且於上述所期望之方向上具有慢軸之相位差層(實質上為長條狀相位差薄膜)。
上述薄膜的延伸溫度會因應對相位差層期望之面內相位差值及厚度、所使用之樹脂的種類、所使用之薄膜的厚度、延伸倍率等變化。具體而言,延伸溫度宜為Tg-30℃~Tg+30℃,更宜為Tg-15℃~Tg+15℃,最宜為Tg-10℃~Tg+10℃。藉由以所述溫度延伸,可獲得具有適於本發明之特性的相位差層。此外,Tg係薄膜之構成材料的玻璃轉移溫度。
C-1-2.液晶化合物的定向固化層
相位差層為液晶化合物的定向固化層時,藉由使用液晶化合物,可使所得相位差層的nx與ny之差比非液晶材料大上甚多,因此可將用以獲得期望之面內相位差所需相位差層之厚度縮小甚多。結果可實現附相位差層之偏光板之進一步薄型化。本說明書中所謂「定向固化層」係指液晶混合物在層內於預定方向定向,而該定向狀態已受固定之層。另外,「定向固化層」此一概念包含如後述使液晶單體硬化而得的定向硬化層。在本實施形態中,代表上係於棒狀液晶化合物沿相位差層之慢軸方向排列之狀態下定向(沿面定向)。
液晶化合物可舉例如液晶相為向列相之液晶化合物(向列型液晶)。所述液晶化合物例如可使用液晶聚合物或液晶單體。液晶化合物之液晶性的表現機構可為溶致亦可為熱致。液晶聚合物及液晶單體分別可單獨使用,也可組合使用。
液晶化合物為液晶單體時,該液晶單體宜為聚合性單體及交聯性單體。其係因藉由使液晶單體進行聚合或交聯(亦即硬化)可固定液晶單體的定向狀態之故。在將液晶單體定向之後,例如只要使液晶單體彼此聚合或交聯,即可藉此固定上述定向狀態。在此係藉由聚合來形成聚合物,藉由交聯來形成3維網狀結構,惟該等為非液晶性。因此,所形成之相位差層譬如不會於液晶性化合物發生特有的因溫度變化而轉變為液晶相、玻璃相、結晶相之情形。結果層會成為不受溫度變化影響而穩定性極優異的相位差層。
液晶單體展現液晶性之溫度範圍會因其種類而異。具體來說,該溫度範圍宜為40℃~120℃,更宜為50℃~100℃,最宜為60℃~90℃。
上述液晶單體可採用任意適當之液晶單體。例如可使用日本特表2002-533742(WO00/37585)、EP358208(US5211877)、EP66137(US4388453)、WO93/22397、EP0261712、DE19504224、DE4408171及GB2280445等所記載之聚合性液晶原化合物等。所述聚合性液晶原化合物之具體例可舉例如BASF公司之商品名LC242、Merck公司之商品名E7、Wacker-Chem公司之商品名LC-Sillicon-CC3767。液晶單體宜為例如向列性液晶單體。
液晶化合物之定向固化層可藉由以下方式來形成:於預定基材之表面施行定向處理,並於該表面塗敷含液晶化合物的塗敷液而使該液晶化合物於對應於上述定向處理之方向定向,再固定該定向狀態。在一實施形態中,基材為任意適當之樹脂薄膜,而形成於該基材上的定向固化層可轉印至偏光件10之表面。在另一實施形態中,基材可為另一保護層。此時會省略轉印步驟,而可在形成定向固化層(相位差層)後接續以捲料對捲料(roll to roll)方式進行積層,因此可更提升生產性。
上述定向處理可採用任意適當之定向處理。具體可舉機械性定向處理、物理性定向處理、化學性定向處理。機械性定向處理的具體例可舉磨擦處理、延伸處理。物理性定向處理的具體例可舉磁場定向處理、電場定向處理。化學性定向處理的具體例可舉斜向蒸鍍法、光定向處理。各種定向處理的處理條件可按目的採用任意適當之條件。
液晶化合物的定向可因應液晶化合物的種類於可展現液晶相之溫度下進行處理來進行。藉由進行所述溫度處理,液晶化合物會變為液晶狀態,而該液晶化合物會因應基材表面之定向處理方向而定向。
在一實施形態中,定向狀態之固定係藉由冷卻已依上述方式定向之液晶化合物來進行。在液晶化合物為聚合性單體或交聯性單體時,定向狀態之固定係藉由對已依上述方式定向之液晶化合物施行聚合處理或交聯處理來進行。
液晶化合物之具體例及定向固化層的形成方法的詳細內容記載於日本特開2006-163343號公報。本說明書中係援用該公報之記載作為參考。
定向固化層之另一例可舉盤狀液晶化合物在垂直定向、混合定向及傾斜定向之任一狀態下定向之形態。盤狀液晶化合物在代表上係定向成盤狀液晶化合物之圓盤面相對於相位差層之薄膜面在實質上呈垂直。所謂盤狀液晶化合物在實質上呈垂直意指薄膜面與盤狀液晶化合物之圓盤面形成之角度的平均值宜為70°~90°,且80°~90°更佳,85°~90°又更佳。所謂盤狀液晶化合物一般而言係指一種具有圓盤狀分子結構的液晶化合物,該圓盤狀分子結構是將如苯、1,3,5-三、杯芳烴等之環狀母核配置於分子中心,且直鏈的烷基、烷氧基、取代苄醯氧基等作為其側鏈呈放射狀取代者。盤狀液晶之代表例可舉:C.Destrade等人之研究報告,Mol.Cryst.Liq.Cryst.第71期第111頁(1981年)所記載之苯衍生物、聯伸三苯衍生物、參茚并苯衍生物、酞青素衍生物;B.Kohne等人之研究報告,Angew.Chem.第96期第70頁(1984年)所記載之環己烷衍生物;以及J.M.Lehn等人之研究報告,J.Chem.Soc.Chem.Commun.第1794頁(1985年)、J.Zhang等人之研究報告,J.Am.Chem.Soc.第116期第2655頁(1994年)所記載之氮雜冠醚系或苯乙炔系的大環。盤狀液晶化合物的更多具體例可舉例如日本專利特開2006-133652號公報、日本專利特開2007-108732號公報、日本專利特開2010-244038號公報所記載之化合物。本說明書中係援用上述文獻及公報之記載作為參考。
相位差層為液晶化合物之定向固化層時,其厚度宜為0.5μm~7μm,且1μm~5μm更佳。藉由使用液晶化合物,可以較樹脂薄膜薄上甚多的厚度實現與樹脂薄膜同等的面內相位差。
C-1-3.另一相位差層
如上述,相位差層40以單一層構成時,較佳為設置另一相位差層。另一相位差層如同上述,可為折射率特性展現nz>nx=ny之關係的所謂正C板(Positive C-plate)。藉由使用正C板作為另一相位差層,可良好地防止斜向之反射,而可使抗反射功能廣視角化。此時,另一相位差層的厚度方向的相位差Rth(550)宜為-50nm~-300nm,且宜為-70nm~-250nm,更宜為-90nm~-200nm,尤宜為-100nm~-180nm。在此,「nx=ny」不僅包含nx與ny精確相等之情況,還包含nx與ny實質相等之情況。即,另一相位差層的面內相位差Re(550)可小於10nm。
具有nz>nx=ny之折射率特性的另一相位差層可以任意適當之材料形成。另一相位差層宜由包含固定為垂面定向之液晶材料的薄膜構成。可使垂面定向的液晶材料(液晶化合物)可為液晶單體亦可為液晶聚合物。該液晶化合物及該相位差層之形成方法的具體例可舉如日本特開2002-333642號公報中段落[0020]~[0028]記載之液晶化合物及相位差層之形成方法。此時,另一相位差層的厚度宜為0.5μm~10μm,且宜為0.5μm~8μm,更宜為0.5μm~5μm。
C-2.2層結構之相位差層
相位差層40為相位差層具有第1層41與第2層42之積層結構時,第1層41及第2層42中之任一者可作為λ/4板發揮功能,另一者可作為λ/2板發揮功能。譬如,第1層41作為λ/2板發揮功能、第2層42作為λ/4板發揮功能時,第1層之面內相位差Re(550)如上述例如為200nm~300nm,且宜為230nm~290nm,較宜為250nm~280nm。第2層之面內相位差Re(550)如上述例如為100nm~190nm,且宜為110nm~170nm,較宜為130nm~160nm。第1層的慢軸與偏光件的吸收軸形成之角度如上述例如為10°~20°,宜為12°~18°,更宜為約15°。第2層的慢軸與偏光件的吸收軸形成之角度如上述例如為70°~80°,宜為72°~78°,更宜為約75°。只要為所述構成,即可獲得接近理想之逆波長分散特性的特性,結果可實現非常優異之抗反射特性。
第1層41及第2層42可為其中一者為樹脂薄膜而另一者為液晶化合物的定向固化層,亦可兩者為樹脂薄膜,亦可兩者為液晶化合物之定向固化層。較佳為第1層41及第2層42兩者為樹脂薄膜或液晶化合物之定向固化層。
第1層41及第2層42的厚度可為了獲得λ/4板或λ/2板的期望面內相位差而進行調整。譬如,第1層41作為λ/2板發揮功能、第2層42作為λ/4板發揮功能,且第1層41及第2層42為樹脂薄膜時,第1層41的厚度例如為40μm~75μm,第2層42的厚度例如為30μm~55μm。第1層41及第2層42為液晶化合物之定向固化層時,第1層41的厚度例如為2.0μm~3.0μm,第2層42的厚度例如為1.0μm~2.0μm。
關於構成第1層及第2層之樹脂薄膜、液晶化合物、第1層及第2層之形成方法、光學特性等,有關單一層如同上述說明。
D.導電層或附導電層之各向同性基材
導電層可利用任意適當之成膜方法(例如真空蒸鍍法、濺鍍法、CVD法、離子鍍法、噴霧法等),將金屬氧化物膜成膜於任意適當之基材上來形成。金屬氧化物可舉例如氧化銦、氧化錫、氧化鋅、銦錫複合氧化物、錫銻複合氧化物、鋅鋁複合氧化物、銦鋅複合氧化物。其中宜為銦錫複合氧化物(ITO)。
導電層包含金屬氧化物時,該導電層的厚度宜為50nm以下,更宜為35nm以下。導電層厚度的下限宜為10nm。
導電層可製成為由上述基材轉印至相位差層而以導電層單獨作為附相位差層之偏光板的構成層,亦可以導電層與基材之積層體(附導電層之基材)的形式積層於相位差層。較理想的是上述基材在光學上為各向同性,因此導電層可作為附導電層之各向同性基材用於附相位差層之偏光板。
在光學上為各向同性的基材(各向同性基材)可採用任意適當之各向同性基材。構成各向同性基材之材料可舉例如以降莰烯系樹脂或烯烴系樹脂等不具有共軛系之樹脂為主骨架的材料、於丙烯酸系樹脂之主鏈中具有內酯環或戊二醯亞胺環等環狀結構的材料等。若使用所述材料,則可將形成各向同性基材時伴隨分子鏈定向而展現之相位差抑制得較小。各向同性基材的厚度宜為50μm以下,更宜為35μm以下。各向同性基材厚度的下限例如20μm。
上述導電層及/或上述附導電層之各向同性基材的導電層可因應需要進行圖案化。藉由圖案化可形成導通部與絕緣部。結果可形成電極。電極可作為用以感測對觸控面板之接觸的觸控感測電極發揮功能。圖案化方法可採用任意適當之方法。圖案化方法的具體例可舉濕式蝕刻法、網版印刷法。
實施例
以下,以實施例來具體說明本發明,惟本發明不受該等實施例限定。各特性之測定方法如以下所述。此外,只要無特別註記,實施例中之「份」及「%」即為重量基準。
(1)玻璃轉移溫度Tg
將構成實施例及比較例所用保護層之材料溶解於預定溶劑所得溶液利用灑佈器塗佈於基材(PET薄膜),並以60℃乾燥而形成塗膜(厚度40μm)。將所得塗膜從基材剝離,裁切成短籤狀做成測定試料。將該測定試料供於DMA測定,測定Tg。測定裝置及測定條件如下。
(測定裝置)
SII NanoTechnology Inc.製,「DMS6100」
(測定條件)
・測定溫度範圍:-80℃~150℃
・升溫速度:2℃/分鐘
・測定試料寬度:10mm
・夾具間距離:20mm
・測定頻率:1Hz
・應變振幅:10μm
・測定氣體環境:N2
(250mL/分鐘)
(2)碘吸附量
將構成實施例及比較例所用保護層之材料溶解於預定溶劑所得溶液利用灑佈器塗佈於基材(PET薄膜),並以60℃乾燥而形成塗膜(厚度40μm)。將所得塗膜從基材剝離,裁切成1cm×1cm(1cm2
)做成測定試料。將該測定試料供於燃燒IC法,將試料中之碘量進行定量分析。具體上如下。將測定試料採取採取到頂空小瓶(20mL容量)並秤量。接著,將裝有碘溶液(碘濃度1重量%、碘化鉀濃度7重量%)1mL的小瓶(2mL容量)放入該頂空小瓶並蓋緊。之後,將該頂空小瓶以乾燥機在65℃下加熱6小時後,將加熱後之試料採取到陶瓷舟皿並使用自動燃燒裝置使其燃燒,再將所產生之氣體採集至吸收液後,進行定量分析,求出已吸附之碘的重量%。此外,所使用之裝置如下。
・自動試料燃燒裝置:三菱化學ANALYTECH公司製,「AQF-2100H」
・IC(陰離子):Thermo Fisher Scientific公司製,「ICS-3000」
(3)褪色
從實施例及比較例所得附相位差層之偏光板裁切出試驗片(50mm×50mm),該試驗片形成分別與垂直於偏光件之吸收軸方向之方向及吸收軸方向相對向之兩邊。以使保護層為外側之方式以黏著劑將試驗片貼合於無鹼玻璃板而製成試驗試樣,將該試驗試樣放置於85℃及85%RH之烘箱內48小時進行加熱加濕,再於配置成與標準偏光板成正交偏光之狀態時以肉眼調查加濕後附相位差層之偏光板之褪色狀態,並依以下基準進行評估。
無問題:未觀察到褪色
部分褪色:於端部觀察到褪色
整體褪色:偏光板整體明顯褪色
(4)單體透射率及偏光度
從實施例及比較例所得附相位差層之偏光板裁切出試驗片(50mm×50mm),該試驗片形成分別與垂直於偏光件之吸收軸方向之方向及吸收軸方向相對向之兩邊。以使保護層為外側之方式以黏著劑將試驗片貼合於無鹼玻璃板而製成試驗試樣,對該試驗試樣使用紫外線可見光分光光度計(日本分光公司製,製品名「V7100」)測定單體透射率(Ts)、平行透射率(Tp)及正交透射率(Tc),並利用下式求出偏光度(P)。此時,使測定光從保護層側入射。
偏光度(P)(%)={(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}1/2
×100
此外,上述Ts、Tp及Tc係以JIS Z 8701之2度視野(C光源)進行測定並進行視感度校正所得之Y值。又,Ts及P實質上為偏光件之特性。
然後,將附相位差層之偏光板放置於85℃及85%RH之烘箱內48小時進行加熱加濕後(加熱試驗),從加熱試驗前之單體透射率Ts0
及加熱試驗後之單體透射率Ts48
用下述式求出單體透射率變化量ΔTs。
ΔTs(%)=Ts48
-Ts0
同樣地,從加熱試驗前之偏光度P0
及加熱試驗後之偏光度P48
用下述式求出偏光度變化量ΔP。
ΔP(%)=P48
-P0
另,加熱試驗係依與上述評估褪色時相同之方式製作試驗試樣而進行。
(5)正面反射率
從實施例及比較例所得附相位差層之偏光板裁切出試驗片(50mm×50mm),該試驗片形成分別與垂直於偏光件之吸收軸方向之方向及吸收軸方向相對向之兩邊。以保護層成為外側之方式以黏著劑將試驗片貼合於無鹼玻璃板,而製成試驗試樣。將該試驗試樣供於在85℃、85%RH下進行48小時之加濕試驗。於反射板(TORAY薄膜公司製,商品名「DMS-X42」;反射率86%)上將上述加濕試驗後之試驗試樣配置成玻璃與反射板相對向(即,使保護層成為外側)。接著,用分光測色計(Konica Minolta製CM-2600d)以SCI方式測定正面反射率。
>實施例1>
1.製作偏光件/樹脂基材之積層體
樹脂基材是使用長條狀且吸水率0.75%、Tg約75℃之非晶質間苯二甲酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(厚度:100μm)。並對樹脂基材之單面施行了電暈處理。
在以9:1混合聚乙烯醇(聚合度4200,皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改質PVA(日本合成化學工業公司製,商品名「GOHSEFIMER Z410」)而成之PVA系樹脂100重量份中,添加碘化鉀13重量份,而調製出PVA水溶液(塗佈液)。
於樹脂基材之電暈處理面塗佈上述PVA水溶液並在60℃下乾燥,藉此形成厚度13μm之PVA系樹脂層,而製作出積層體。
將所獲得之積層體於130℃之烘箱內在不同周速之輥間沿縱方向(長邊方向)進行自由端單軸延伸2.4倍(空中輔助延伸處理)。
接著,使積層體浸漬於液溫40℃的不溶解浴(相對於水100重量份摻混4重量份之硼酸而得的硼酸水溶液)中30秒(不溶解處理)。
接著,一邊將液溫30℃的染色浴(相對於水100重量份,以1:7之重量比摻混碘與碘化鉀而獲得之碘水溶液)之濃度調整成以使最後所得之偏光件的單體透射率(Ts)成為41.5%±0.1%一邊浸漬於其中60秒(染色處理)。
接著,使其浸漬於液溫40℃的交聯浴(相對於水100重量份摻混3重量份的碘化鉀並摻混5重量份的硼酸而獲得之硼酸水溶液)中30秒(交聯處理)。
然後,一邊使積層體浸漬於液溫70℃的硼酸水溶液(硼酸濃度4.0重量%)中,一邊在周速相異的輥間沿縱方向(長邊方向)進行單軸延伸以使總延伸倍率達5.5倍(水中延伸處理)。
之後,使積層體浸漬於液溫20℃的洗淨浴(相對於水100重量份,摻混4重量份的碘化鉀而得之水溶液)中(洗淨處理)。
之後,一邊在保持於90℃之烘箱中乾燥,一邊使其接觸表面溫度保持於75℃之SUS製加熱輥約2秒(乾燥收縮處理)。積層體進行乾燥收縮處理所得寬度方向之收縮率為5.2%。
依上述方式,於樹脂基材上形成了厚度5μm之偏光件,而製作出偏光件/樹脂基材之積層體。偏光件之單體透射率(初始單體透射率)Ts0
為41.5,偏光度(初始偏光度)P0
為99.996%。
2.製作構成相位差層之相位差薄膜
2-1.聚酯碳酸酯系樹脂之聚合
使用由2台具備攪拌葉片及控制成100℃之回流冷卻器的直立式反應器所構成之批次聚合裝置進行聚合。饋入雙[9-(2-苯氧基羰基乙基)茀-9-基]甲烷29.60質量份(0.046mol)、異山梨醇(ISB)29.21質量份(0.200mol)、螺甘油(SPG)42.28質量份(0.139mol)、碳酸二苯酯(DPC)63.77質量份(0.298mol)及作為觸媒的乙酸鈣一水合物1.19×10-2質量份(6.78×10-5mol)。將反應器內進行減壓氮取代後,以加熱介質加溫,並於內部溫度達到100℃之時間點開始攪拌。於升溫開始40分鐘後使內部溫度達到220℃,控制保持該溫度並同時開始減壓,使在達到220℃起90分鐘後成13.3kPa。將隨聚合反應副生成之苯酚蒸氣導入100℃之回流冷卻器,使苯酚蒸氣中所含之些許量單體成分返回反應器,並將未凝結之苯酚蒸氣導入45℃的凝結器中回收。將氮導入第1反應器暫時使其回復到大氣壓力後,將第1反應器內之經寡聚化的反應液移至第2反應器。接著,開始進行第2反應器內的升溫及減壓,並在50分鐘後使內溫成為240℃、壓力成為0.2kPa。其後,進行聚合直到達到預定之攪拌動力。在達到預定動力之時間點將氮導入反應器中使壓力回復,並將所生成之聚酯碳酸酯系樹脂擠製至水中,裁切束狀物而得到丸粒。
2-2.製作相位差薄膜
將所得之聚酯碳酸酯系樹脂(丸粒)在80℃下真空乾燥5小時後,使用具備單軸擠製機(東芝機械公司製,缸筒設定溫度:250℃)、T型模(寬200mm,設定溫度:250℃)、冷卻輥(設定溫度:120~130℃)及捲取機之薄膜製膜裝置,製作出厚度135μm之長條狀樹脂薄膜。將所得長條狀樹脂薄膜以延伸溫度133℃、延伸倍率2.8倍沿寬度方向延伸,而獲得厚度48μm之相位差薄膜。所得相位差薄膜之Re(550)為141nm,Re(450)/Re(550)為0.82,且Nz係數為1.12。
3.製作附相位差層之偏光板
透過丙烯酸系黏著劑(厚度5μm)於在上述1.所得積層體的偏光件表面貼合在上述3.所得相位差薄膜。此時,係以使偏光件之吸收軸與相位差薄膜之慢軸形成45°之角度的方式貼合。剝離樹脂基材,而獲得具有相位差層/偏光件之構成的附相位差層之偏光板。
將具有內酯環單元之聚甲基丙烯酸甲酯的丙烯酸系樹脂(內酯環單元30莫耳%)20份溶解於甲基乙基酮80份中,而獲得丙烯酸系樹脂溶液(20%)。使用線棒將該丙烯酸系樹脂溶液塗佈於上述所得偏光板的偏光件表面,並在60℃下使塗佈膜乾燥5分鐘,而形成以塗佈膜的固化物的形式構成之保護層。保護層之厚度為3μm,Tg為119℃,碘吸附量為0.25重量%。依上述方式而獲得具有保護層(塗佈膜的固化物)/偏光件/相位差層之構成的附相位差層之偏光板。將所得之附相位差層之偏光板供於上述(3)~(5)的評估。並且,以肉眼觀察保護層形成後有無收縮。將結果列於表1。
>實施例2>
除了使用具有馬來酸酐單元之聚甲基丙烯酸甲酯的丙烯酸系樹脂(馬來酸酐單元7莫耳%)來取代具有內酯環單元之聚甲基丙烯酸甲酯的丙烯酸系樹脂外,依與實施例1相同方式而形成保護層。保護層之厚度為3μm,Tg為115℃。除了使用該保護層外,以與實施例1同樣方式製作出附相位差層之偏光板。將所得附相位差層之偏光板供於進行與實施例1相同評估。將結果列於表1。
>實施例3>
除了使用100%聚甲基丙烯酸甲酯的丙烯酸系樹脂(楠本化成公司製,製品名「B-728」)來取代具有內酯環單元之聚甲基丙烯酸甲酯的丙烯酸系樹脂外,依與實施例1相同方式而形成保護層。保護層之厚度為3μm,Tg為116℃,碘吸附量為0.34重量%。除了使用該保護層外,以與實施例1同樣方式製作出附相位差層之偏光板。將所得附相位差層之偏光板供於進行與實施例1相同評估。將結果列於表1。
>實施例4>
除了使用具有戊二醯亞胺環單元之聚甲基丙烯酸甲酯的丙烯酸系樹脂(戊二醯亞胺環單元4莫耳%)來取代具有內酯環單元之聚甲基丙烯酸甲酯的丙烯酸系樹脂外,依與實施例1相同方式而形成保護層。保護層之厚度為3μm,Tg為103℃,碘吸附量為2.3重量%。除了使用該保護層外,以與實施例1同樣方式製作出附相位差層之偏光板。將所得之附相位差層之偏光板供於進行與實施例1相同評估。將結果列於表1。
>實施例5>
除了使用具有內酯環單元之不同的聚甲基丙烯酸甲酯的丙烯酸系樹脂(內酯環單元20莫耳%)外,依與實施例1相同方式而形成保護層。保護層之厚度為3μm,Tg為104℃,碘吸附量為2.8重量%。除了使用該保護層外,以與實施例1同樣方式製作出附相位差層之偏光板。將所得之附相位差層之偏光板供於進行與實施例1相同評估。將結果列於表1。
>實施例6>
除了使用甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸丁酯(莫耳比80/20)之共聚物的丙烯酸系樹脂來取代具有內酯環單元之聚甲基丙烯酸甲酯的丙烯酸系樹脂外,依與實施例1相同方式而形成保護層。保護層之厚度為3μm,Tg為95℃,碘吸附量為3.8重量%。除了使用該保護層外,以與實施例1同樣方式製作出附相位差層之偏光板。將所得之附相位差層之偏光板供於進行與實施例1相同評估。將結果列於表1。
>實施例7>
1.製作偏光件/樹脂基材之積層體
依與實施例1相同方式而製出偏光件/樹脂基材之積層體。
2.製作構成相位差層之第1定向固化層及第2定向固化層
將顯示向列型液晶相的聚合性液晶(BASF公司製:商品名「Paliocolor LC242」,以下述式表示)10g與對該聚合性液晶化合物的光聚合引發劑(BASF公司製:商品名「IRGACURE 907」)3g溶解至甲苯40g中,而調製出液晶組成物(塗敷液)。
[化學式4]
使用擦拭布擦拭聚對苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜(厚度38μm)表面,施行定向處理。定向處理之方向係設為貼合至偏光板時由視辨側觀看時相對於偏光件之吸收軸方向呈15°方向。利用棒塗機將上述液晶塗敷液塗敷至該定向處理表面,並於90℃下進行2分鐘加熱乾燥,藉此使液晶化合物定向。使用金屬鹵素燈以1mJ/cm2
的光照射依上述方式形成的液晶層,使該液晶層硬化,藉此於PET薄膜上形成液晶定向固化層A。液晶定向固化層A的厚度為2.5μm,面內相位差Re(550)為270nm。並且,液晶定向固化層A展現出nx>ny=nz之折射率特性。
變更塗敷厚度,並將定向處理方向設為由視辨側觀看時相對於偏光件之吸收軸方向呈75°方向,除此之外依與上述相同方式於PET薄膜上形成液晶定向固化層B。液晶定向固化層B的厚度為1.5μm,面內相位差Re(550)為140nm。並且,液晶定向固化層B展現出nx>ny=nz之折折射率特性。
3.製作附相位差層之偏光板
於上述1.所得偏光件/樹脂基材之積層體的偏光件表面將上述2.所得液晶定向固化層A及液晶定向固化層B依序轉印。此時,係以偏光件之吸收軸與定向固化層A之慢軸形成之角度成為15°且偏光件之吸收軸與定向固化層B之慢軸形成之角度成為75°的方式進行轉印(貼合)。另外,各自之轉印(貼合)係透過紫外線硬化型接著劑(厚度1.0μm)來進行。接著,為了補強將附黏著劑之基材貼合於定向固化層B表面。接著,剝離樹脂基材,而獲得具有偏光件/接著層/相位差層(第1定向固化層/接著層/第2定向固化層)/附黏著劑之基材之構成的附相位差層之偏光板。
然後,依與實施例3相同方式而於附相位差層之偏光板的偏光件表面形成保護層。最後,剝離附黏著劑之基材,而獲得具有保護層(塗佈膜的固化物)/偏光件/相位差層之構成的附相位差層之偏光板。將所得之附相位差層之偏光板供於進行與實施例1相同評估。將結果列於表1。
>比較例1>
除了使用甲基丙烯酸甲酯/丙烯酸乙酯(莫耳比55/45)之共聚物的丙烯酸系樹脂(楠本化成公司製,製品名「B-722」)來取代具有內酯環單元之聚甲基丙烯酸甲酯的丙烯酸系樹脂外,依與實施例1相同方式而形成保護層。保護層之厚度為3μm,Tg為39℃,碘吸附量為1.7重量%。除了使用該保護層外,以與實施例1同樣方式製作出附相位差層之偏光板。將所得附相位差層之偏光板供於褪色評估後結果為不良(「整體褪色」),因此未進行單體透射率及偏光度之評估。將結果列於表1。
>比較例2>
除了使用甲基丙烯酸甲酯/甲基丙烯酸丁酯(莫耳比35/65)之共聚物的丙烯酸系樹脂(楠本化成公司製,製品名「B-734」)來取代具有內酯環單元之聚甲基丙烯酸甲酯的丙烯酸系樹脂外,依與實施例1相同方式而形成保護層。保護層之厚度為3μm,Tg為71℃,碘吸附量為12重量%。除了使用該保護層外,以與實施例1同樣方式製作出附相位差層之偏光板。將所得附相位差層之偏光板供於褪色評估後結果為不良(「整體褪色」),因此未進行單體透射率及偏光度之評估。將結果列於表1。
>比較例3>
除了使用紫外線硬化型丙烯酸系樹脂(共榮社化學製,製品名「LIGHT ACRYLATE HPP-A」,羥基三甲基乙酸新戊二醇丙烯酸酯加成物)外,依與實施例1相同方式而形成保護層(硬化物)。具體而言係將該丙烯酸系樹脂97重量%及光聚合起始劑(IRGACURE 907,BASF公司製)3重量%摻混而成的組成物塗佈於偏光件上,並在氮氣環境下使用高壓水銀燈以累積光量300mJ/cm2
照射紫外線,而形成硬化層(保護層)。保護層之厚度為3μm,Tg為83℃,碘吸附量為6.6重量%。除了使用該保護層外,以與實施例1同樣方式製作出附相位差層之偏光板。將所得附相位差層之偏光板供於進行與實施例1相同評估。將結果列於表1。
>比較例4>
除了使用紫外線硬化型丙烯酸系樹脂(東亞合成公司製,製品名「ARONIX M-402」),二新戊四醇五及六丙烯酸酯(五丙烯酸酯為30%~40%))外,依與實施例1相同方式而形成保護層(硬化物)。保護層之形成方法與比較例3相同。保護層之厚度為3μm。除了使用該保護層外,以與實施例1同樣方式製作出附相位差層之偏光板。將所得附相位差層之偏光板供於進行與實施例1相同評估。將結果列於表1。
>比較例5>
除了使用紫外線硬化型環氧系樹脂(DAICEL公司製,製品名「CELLOXIDE 2021P」)外,依與實施例1相同方式而形成保護層(硬化物)。具體而言係將該環氧系樹脂95重量%及光聚合起始劑(CPI-100P,San-Apro公司製)5重量%摻混而成的組成物塗佈於偏光件上,並在空氣環境下使用高壓水銀燈以累積光量500mJ/cm2
照射紫外線,而形成硬化層(保護層)。保護層之厚度為3μm,Tg為95℃,碘吸附量為9重量%。除了使用該保護層外,以與實施例1同樣方式製作出附相位差層之偏光板。將所得附相位差層之偏光板供於進行與實施例1相同評估。將結果列於表1。
>比較例6>
除了使用水系聚酯系樹脂(日本合成化學公司製,製品名「POLYESTER WR905」)外,依與實施例1相同方式而形成保護層(塗佈膜的固化物)。保護層之厚度為3μm,碘吸附量為12重量%。除了使用該保護層外,以與實施例1同樣方式製作出附相位差層之偏光板。將所得附相位差層之偏光板供於褪色評估後結果為不良(「整體褪色」),因此未進行單體透射率及偏光度之評估。將結果列於表1。
>比較例7>
除了使用水系聚胺甲酸酯系樹脂(第一工業製藥公司製,製品名「SUPERFLEX SF210」)外,依與實施例1相同方式而形成保護層(塗佈膜的固化物)。保護層之厚度為3μm,Tg為107℃,碘吸附量為19重量%。除了使用該保護層外,以與實施例1同樣方式製作出附相位差層之偏光板。將所得附相位差層之偏光板供於褪色評估後結果為不良(「整體褪色」),因此未進行單體透射率及偏光度之評估。將結果列於表1。
>比較例8>
除了使用水系聚胺甲酸酯系樹脂(Unitika公司製,製品名「ARROW BASE SE1200」)外,依與實施例1相同方式而形成保護層(塗佈膜的固化物)。保護層之厚度為3μm,碘吸附量為15重量%。除了使用該保護層外,以與實施例1同樣方式製作出附相位差層之偏光板。將所得附相位差層之偏光板供於褪色評估後結果為不良(「整體褪色」),因此未進行單體透射率及偏光度之評估。將結果列於表1。
[表1]
>評估>
由表1可知,本發明實施例之附相位差層之偏光板係一種雖然非常薄但在加熱加濕環境下仍可抑制光學特性降低,且耐久性優異,同時在保護層形成後不會發生收縮,而可耐實際應用的附相位差層之偏光板。並且,本發明實施例之附相位差層之偏光板其加濕試驗後之正面反射率非常小,顯示良好的抗反射特性。其教示了例如在應用於有機EL顯示裝置這般具有金屬層之影像顯示裝置時,具有可防止因該金屬層造成之外光倒映之效果。
產業上之可利用性
本發明附相位差層之偏光板可適合使用於影像顯示裝置。影像顯示裝置可舉例如攜帶型資訊終端機(PDA)、智慧型手機、行動電話、時鐘、數位相機、可攜式遊戲機等攜帶型機器;電腦螢幕、筆記型電腦、複印機等OA機器;視訊攝影機、電視、微波爐等家庭用電氣機器;後方監視器、汽車導航系統用監測器、汽車音響等車載用機器;數位標牌、商業店鋪用資訊導覽用螢幕等展示機器;監視用螢幕等警備機器;看護用監測器、醫療用監測器等看護醫療機器等。
10:偏光件
20:保護層
40:相位差層
41:第1層
42:第2層
100,101:附相位差層之偏光板
200:積層體
G1~G4:導輥
R1~R6:輸送輥
圖1係本發明一實施形態之附相位差層之偏光板的概略截面圖。
圖2為本發明之另一實施形態之附相位差層之偏光板之概略截面圖。
圖3係顯示本發明一實施形態之附相位差層之偏光板所用偏光板之製造方法中,利用加熱輥之乾燥收縮處理之一例的概略圖。
10:偏光件
20:保護層
40:相位差層
100:附相位差層之偏光板
Claims (10)
- 一種附相位差層之偏光板,具有偏光板與相位差層,該偏光板包含含有碘及聚乙烯醇系樹脂之偏光件與配置於該偏光件之一側的保護層,而該相位差層配置於該偏光板之與該保護層相反之側;該保護層之玻璃轉移溫度為95℃以上;該保護層之厚度為5μm以下;該保護層係直接形成於該偏光件上,且係以熱塑性丙烯酸系樹脂之有機溶劑溶液直接塗佈於該偏光件表面而形成之塗佈膜的固化物來構成。
- 如請求項1之附相位差層之偏光板,其中前述相位差層為單一層,該相位差層的Re(550)為100nm~190nm,且該相位差層之慢軸與前述偏光件之吸收軸形成之角度為40°~50°。
- 如請求項2之附相位差層之偏光板,其中前述相位差層係樹脂薄膜。
- 如請求項2之附相位差層之偏光板,其中前述相位差層係液晶化合物的定向固化層。
- 如請求項1之附相位差層之偏光板,其中前述相位差層具有第1層與第2層的積層結構;該第1層的Re(550)為200nm~300nm,且其慢軸與前述偏光件之吸收軸形成之角度為10°~20°;該第2層的Re(550)為100nm~190nm,且其慢軸與該偏光件之吸收軸形成之角度為70°~80°。
- 如請求項5之附相位差層之偏光板,其中前述第1層及第2層分別為樹脂薄膜。
- 如請求項5之附相位差層之偏光板,其中前述第1層及第2層分別為液晶化合物的定向固化層。
- 如請求項1至7中任一項之附相位差層之偏光板,其中前述保護層的碘吸附量為4.0重量%以下。
- 如請求項1至7中任一項之附相位差層之偏光板,其中前述熱塑性丙烯酸系樹脂具有選自於由內酯環單元、戊二酸酐單元、戊二醯亞胺單元、馬來酸酐單元及馬來醯亞胺單元所構成群組中之至少1種。
- 如請求項1至7中任一項之附相位差層之偏光板,其配置於影像顯示裝置之視辨側,且前述保護層配置於視辨側。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018-244815 | 2018-12-27 | ||
JP2018244815 | 2018-12-27 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW202033370A TW202033370A (zh) | 2020-09-16 |
TWI839433B true TWI839433B (zh) | 2024-04-21 |
Family
ID=71128816
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW108148150A TWI839433B (zh) | 2018-12-27 | 2019-12-27 | 附相位差層之偏光板 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7527972B2 (zh) |
KR (1) | KR20210107016A (zh) |
CN (1) | CN113227854A (zh) |
TW (1) | TWI839433B (zh) |
WO (1) | WO2020138368A1 (zh) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW200535208A (en) * | 2004-03-09 | 2005-11-01 | Kuraray Co | Optical element |
JP2009052021A (ja) * | 2007-06-14 | 2009-03-12 | Nippon Shokubai Co Ltd | 熱可塑性樹脂組成物とそれを用いた樹脂成形品および偏光子保護フィルムならびに樹脂成形品の製造方法 |
TW201518790A (zh) * | 2013-08-09 | 2015-05-16 | Sumitomo Chemical Co | 光學薄膜 |
WO2017057255A1 (ja) * | 2015-09-30 | 2017-04-06 | 富士フイルム株式会社 | 偏光板保護フィルム、その製造方法、偏光板及び画像表示装置 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6565974B1 (en) | 1998-10-30 | 2003-05-20 | Teijin Limited | Retardation film and optical device employing it |
TW499573B (en) | 2000-10-24 | 2002-08-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | Polarizing plate formed from polymer film and polarizing film |
JP3838508B2 (ja) * | 2002-02-19 | 2006-10-25 | 日東電工株式会社 | 積層位相差板の製造方法 |
JP4260538B2 (ja) * | 2002-05-15 | 2009-04-30 | 日東電工株式会社 | 積層位相差板、それを用いた積層偏光板、ならびに画像表示装置 |
JP2004042653A (ja) * | 2002-07-12 | 2004-02-12 | Nitto Denko Corp | ハードコートフィルム |
TWM294654U (en) | 2006-01-24 | 2006-07-21 | Optimax Tech Corp | Polarizer structure |
JP2010095567A (ja) * | 2008-10-14 | 2010-04-30 | Kaneka Corp | 樹脂組成物、フィルムおよび偏光板 |
KR101650235B1 (ko) * | 2013-09-30 | 2016-08-22 | 주식회사 엘지화학 | 편광판 |
JP6407660B2 (ja) * | 2013-10-31 | 2018-10-17 | 住友化学株式会社 | (メタ)アクリル系樹脂組成物及びそれを用いた(メタ)アクリル系樹脂フィルム |
JP2015230386A (ja) | 2014-06-05 | 2015-12-21 | 大日本印刷株式会社 | 反射防止フィルム及び画像表示装置 |
JP5913648B1 (ja) * | 2015-01-23 | 2016-04-27 | 日東電工株式会社 | 位相差層付偏光板および画像表示装置 |
JP6508961B2 (ja) | 2015-02-12 | 2019-05-08 | 株式会社日本触媒 | 熱可塑性樹脂組成物とそれを用いた光学フィルム |
JP2016157081A (ja) * | 2015-02-26 | 2016-09-01 | 日東電工株式会社 | 位相差層付偏光板および画像表示装置 |
TWI691577B (zh) * | 2015-03-27 | 2020-04-21 | 日商琳得科股份有限公司 | 附有黏著劑層之光學薄膜 |
KR20180121977A (ko) | 2016-03-29 | 2018-11-09 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 플렉서블 편광막, 그 제조 방법 및 화상 표시 장치 |
-
2019
- 2019-12-26 CN CN201980086368.5A patent/CN113227854A/zh active Pending
- 2019-12-26 JP JP2020562460A patent/JP7527972B2/ja active Active
- 2019-12-26 KR KR1020217019739A patent/KR20210107016A/ko not_active Application Discontinuation
- 2019-12-26 WO PCT/JP2019/051304 patent/WO2020138368A1/ja active Application Filing
- 2019-12-27 TW TW108148150A patent/TWI839433B/zh active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW200535208A (en) * | 2004-03-09 | 2005-11-01 | Kuraray Co | Optical element |
JP2009052021A (ja) * | 2007-06-14 | 2009-03-12 | Nippon Shokubai Co Ltd | 熱可塑性樹脂組成物とそれを用いた樹脂成形品および偏光子保護フィルムならびに樹脂成形品の製造方法 |
TW201518790A (zh) * | 2013-08-09 | 2015-05-16 | Sumitomo Chemical Co | 光學薄膜 |
WO2017057255A1 (ja) * | 2015-09-30 | 2017-04-06 | 富士フイルム株式会社 | 偏光板保護フィルム、その製造方法、偏光板及び画像表示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN113227854A (zh) | 2021-08-06 |
TW202033370A (zh) | 2020-09-16 |
WO2020138368A1 (ja) | 2020-07-02 |
JP7527972B2 (ja) | 2024-08-05 |
KR20210107016A (ko) | 2021-08-31 |
JPWO2020138368A1 (ja) | 2021-10-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI613470B (zh) | 附相位差層之偏光板及圖像顯示裝置 | |
KR101105423B1 (ko) | 광학 필름 및 이를 포함하는 정보전자 장치 | |
US7301594B2 (en) | Optical compensator for a liquid crystal display | |
US20170023716A1 (en) | Polarizing plate with a retardation layer and image display apparatus | |
TWI449971B (zh) | 橢圓偏光板,其製造方法及使用其之液晶顯示裝置 | |
TWI737807B (zh) | 光學積層體及圖像顯示裝置 | |
WO2021220729A1 (ja) | 偏光板および光学機能層付偏光板 | |
TWI816867B (zh) | 附相位差層之偏光板及使用了該附相位差層之偏光板的影像顯示裝置 | |
KR20080060178A (ko) | 광학 적층체 및 그것을 이용한 액정 패널 | |
WO2017038415A1 (ja) | 光学補償層付偏光板およびそれを用いた有機elパネル | |
JP2017161606A (ja) | 光学補償層付偏光板およびそれを用いた有機elパネル | |
TWI832889B (zh) | 附相位差層之偏光板及使用了該附相位差層之偏光板的影像顯示裝置 | |
TWI839433B (zh) | 附相位差層之偏光板 | |
TWI842922B (zh) | 附相位差層之偏光板及使用其之影像顯示裝置 | |
JP7114664B2 (ja) | 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置 | |
TWI835966B (zh) | 偏光板及偏光板捲材 | |
TWI827658B (zh) | 附相位差層之偏光板及使用該附相位差層之偏光板的影像顯示裝置 | |
CN116848443A (zh) | 圆偏振片及使用了其的图像显示装置 | |
JP2021177230A (ja) | 偏光板および位相差層付偏光板 | |
TW202016579A (zh) | 附相位差層之偏光板及使用其之影像顯示裝置 | |
WO2021220741A1 (ja) | 偏光板および位相差層付偏光板 | |
JP7114665B2 (ja) | 位相差層付偏光板およびそれを用いた画像表示装置 | |
JP7527970B2 (ja) | 偏光板および偏光板ロール | |
KR20230002504A (ko) | 편광판 및 광학 기능층 부착 편광판 | |
TW202136822A (zh) | 附相位差層之偏光板及使用其之影像顯示裝置 |