TWI828263B - 適用於雙重光刻技術的版圖拆分方法、版圖拆分裝置及電子設備 - Google Patents

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Abstract

本發明涉及一種適用於雙重光刻技術的版圖拆分方法、版圖拆分裝置及電子設備，本方法包括如下步驟：提供包括多個掩模圖形的初始版圖；基於第一拆分規則將多個掩模圖形拆分為有衝突圖形和無衝突圖形；基於第二拆分規則將有衝突圖形分為第一部分掩模圖形和第二部分掩模圖形；基於第三拆分規則將無衝突圖形分為第一尺寸掩模圖形和第二尺寸掩模圖形；分別將第一尺寸掩模圖形和第二尺寸掩模圖形中的其中一部分與第一部分掩模圖形合併以獲得第一版圖、另一部分與第二部分掩模圖形合併以獲得第二版圖。

Description

適用於雙重光刻技術的版圖拆分方法、版圖拆分裝置及電子設備
本發明涉及積體電路掩模設計領域，尤其涉及一種適用於雙重光刻技術的版圖拆分方法、版圖拆分裝置及電子設備。
積體電路設計發展到如今，器件的特徵尺寸越來越小，並趨近於曝光系統的理論極限，光刻後矽片表面的成像將產生嚴重的畸變，即產生光學鄰近效應(Optical Proximity Effect)。隨著光刻技術面臨更高要求和挑戰，人們提出了浸沒式光刻(Immersion Lithography)，離軸照明(Off Axis Illumination)，移相掩模(Phase Shift Mask)等各種解析度增強技術(Resolution Enhancement Technology)來改善成像品質，增強解析度。
當前主流的1.35NA的193nm浸沒式光刻機能夠提供36-40nm的半週期(half-pitch)解析度，可以滿足28nm邏輯技術節點的要求，如果小於該尺寸，就需要雙重曝光甚至多重曝光技術。雙重光刻技術主要的實現方式有兩種：一種是曝光-刻蝕-曝光-刻蝕(Lithography-Etch- Lithography-Etch)，LELE的基本原理就是把原來一層光刻圖形拆分到兩個或多個掩模上，利用多次曝光和刻蝕來實現原來一層設計的圖形。另一種是自對準雙重成像技術(self-aligned double patterning)，SADP的原理是一次光刻後，再在第一次光刻圖形周圍通過澱積側牆，通過刻蝕實現對空間圖形的倍頻。
在實際應用過程中，由於SADP技術對版圖的要求較多，所以LELE工藝使用更加廣泛。然而拆分版圖有不小的難度，不僅需要解決版圖中的衝突位置，還要保持拆分後的版圖密度相近，並且還有運行時間和記憶體的限制，而目前的版圖拆分方法都將存在這些缺陷。
有鑒於此，本發明系提出一種適用於雙重光刻技術的版圖拆分方法、版圖拆分裝置及電子設備。
本發明一方面之解決技術問題的方案是提供一種適用於雙重光刻技術的版圖拆分方法，用於將初始版圖拆分成第一版圖和第二版圖，包括如下步驟：提供初始版圖，所述初始版圖包括多個掩模圖形；將所述多個掩模圖形拆分為有衝突圖形和無衝突圖形；將所述有衝突圖形分為第一部分掩模圖形和第二部分掩模圖形，所述第一部分掩模圖形和所述第二部分掩模圖形中相互的掩模圖形之間無衝突；將所述無衝突圖形分為至少兩種尺寸級別的第一尺寸掩模圖形和第二尺寸掩模圖形，所述第一尺寸掩模圖形的最大尺寸大於所述第二尺寸掩模圖形的最大尺寸；以及分別將第一尺寸掩模圖形和第二尺寸掩模圖形中的其中一部分與第一部分掩模 圖形合併以獲得第一版圖、另一部分與第二部分掩模圖形合併以獲得第二版圖。
分別將第一尺寸掩模圖形和第二尺寸掩模圖形中的其中一部分與第一部分掩模圖形合併以獲得第一版圖、另一部分與第二部分掩模圖形合併以獲得第二版圖的步驟如下：基於預設的第四拆分規則將所述第一尺寸掩模圖形拆分成第三部分掩模圖形和第四部分掩模圖形，所述第四拆分規則包括：設定任意相鄰的兩個掩模圖形邊與邊之間的邊閾值、以及任意相鄰的兩個掩模圖形的角與角的角閾值，將小於邊閾值或者角閾值的兩個掩模圖形中的一個定義為第三部分掩模圖形、另一個定義為第四部分掩模圖形，而將大於邊閾值或者角閾值的掩模圖形部分歸為第三部分掩模圖形，另外部分歸為第四部分掩模圖形；將所述第一部分掩模圖形與所述第三部分掩模圖形合併以獲得初始第一版圖，將所述第二部分掩模圖形與第四部分掩模圖形合併以獲得初始第二版圖；將第二尺寸掩模圖形上任意相鄰的兩個小於邊閾值或者角閾值的掩模圖形的一個拆分到初始第一版圖，另一個拆分到初始第二版圖，而將大於邊閾值或者角閾值的掩模圖形部分歸為初始第一版圖，另外部分歸為初始第二版圖上。
於一實施例中，基於預設的第一拆分規則將所述多個掩模圖形拆分為有衝突圖形和無衝突圖形，預設的第一拆分規則如下：設定任意相鄰的兩個掩模圖形邊與邊之間的邊閾值、以及任意相鄰的兩個掩模圖形的角與角的角閾值，將小於邊閾值或者角閾值的掩模圖形分為有衝突圖形，剩餘的分為無衝突圖形。
於一實施例中，邊閾值的範圍是：80-150nm，角閾值的範 圍是：80-150nm。
於一實施例中，邊閾值是：110nm，角閾值是：110nm。
於一實施例中，基於預設的第二拆分規則將有衝突圖形分為第一部分掩模圖形和第二部分掩模圖形，預設的第二拆分規則如下：設定任意相鄰的兩個掩模圖形邊與邊之間的邊閾值、以及任意相鄰的兩個掩模圖形的角與角的角閾值，將小於邊閾值或者角閾值的兩個掩模圖形一個定義為第一部分掩模圖形、另一個定義為第二部分掩模圖形。
於一實施例中，所述掩模圖形規則排列，當同一行或者同一列上的掩模圖形相互之間小於邊閾值或者角閾值，同一行或者同一列的所有掩模圖形歸為第一部分掩模或者第二部分掩模。
於一實施例中，基於預設的第三拆分規則將無衝突圖形分為至少兩種尺寸級別的第一尺寸掩模圖形和第二尺寸掩模圖形，預設的第三拆分規則如下：設定面積尺寸閾值或者長度尺寸閾值，將超過面積尺寸閾值或者超過長度尺寸閾值的無衝突圖形上的掩模圖形歸類為第一尺寸掩模圖形，其餘的歸類為第二尺寸掩模圖形。
於一實施例中，基於預設的第三拆分規則將無衝突圖形分為至少兩種尺寸級別的第一尺寸掩模圖形和第二尺寸掩模圖形，預設的第三拆分規則如下：設定掩模圖形對角線長度閾值，將超過對角線長度閾值的無衝突圖形上的掩模圖形歸類為第一尺寸掩模圖形，其餘的歸類為第二尺寸掩模圖形。
於一實施例中，用第一顏色和第二顏色分別對第一版圖和第二版圖著色。
於一實施例中，用第一顏色和第二顏色分別對第一版圖和第二版圖著色的方式如下：在合併獲得第一版圖和第二版圖之前首先對第一部分掩模圖形用第一顏色著色、對所述第二部分掩模圖形用第二顏色著色；然後對第三部分掩模圖形和第四部分掩模圖形分別用第一顏色和第二顏色著色；最後對拆分到初始第一版圖和初始第二版圖上的第二尺寸掩模圖形著色。
於一實施例中，將有衝突圖形中的每個掩模圖形用一個圓形作為節點，將有衝突的節點之間用直線連接形成拓撲關係圖，基於所述拓撲關係圖對所述第一部分掩模圖形和所述第二部分掩模圖形著色。
本發明另外一方面之解決技術問題之另一方案是提供一種版圖拆分裝置，用於將初始版圖拆分成第一版圖和第二版圖，包括版圖設計模組：用於提供初始版圖，所述初始版圖包括多個掩模圖形；第一拆分模組：將所述多個掩模圖形拆分為有衝突圖形和無衝突圖形；第二拆分模組：將所述有衝突圖形分為第一部分掩模圖形和第二部分掩模圖形，所述第一部分掩模圖形和所述第二部分掩模圖形中相互的掩模圖形之間無衝突；第三拆分模組：將所述無衝突圖形分為至少兩種尺寸級別的第一尺寸掩模圖形和第二尺寸掩模圖形，所述第一尺寸掩模圖形的最大尺寸大於所述第二尺寸掩模圖形的最大尺寸；第四拆分模組：分別拆分第一尺寸掩模圖形和第二尺寸掩模圖形成兩個部分，其中一部分與第一部分掩模圖形合併以獲得第一版圖、另一部分與第二部分掩模圖形合併以獲得第二版圖。
於一實施例中，還包括著色模組，所述著色模組和所述第四拆分模組連接，所述著色模組用於基於第一顏色和第二顏色分別對第一版 圖和第二版圖著色。
本發明另外一方面之解決技術問題之另一方案是提供一種電子設備，其包括一個或多個處理器和存儲裝置，存儲裝置，用於存儲一個或多個程式，當所述一個或多個程式被所述一個或多個處理器執行，使得所述一個或多個處理器實現如上所述的適用於雙重光刻技術的版圖拆分方法。
與現有技術相比，本發明實施例之適用於雙重光刻技術的版圖拆分方法通過基於預設的第一拆分規則將所述多個掩模圖形拆分為有衝突圖形和無衝突圖形，再進一步基於兩種不同的拆分規則對有衝突圖形和無衝突圖形並行拆分，基於預設的第二拆分規則將已經拆分出來的有衝突圖形進行進一步拆分，以解決衝突的問題，而不是逐一遍曆初始版圖上所有的掩模圖形逐一解決衝突的問題，能很好的提高拆分速度以及拆分的準確性，然後將對無衝突圖形拆分獲得的第一尺寸掩模圖形和第二尺寸掩模圖形中的其中一部分與對有衝突圖形拆分獲得的第一部分掩模圖形合併以獲得第一版圖、另一部分與第二部分掩模圖形合併以獲得第二版圖，能很好的提高拆分速度，基於第三拆分規則將無衝突圖形拆分為兩種大小尺寸的掩模圖形，能進一步基於尺寸範圍並行的對無衝突圖形進一步拆分以和有衝突的拆分結果進行合併，以最快的速度獲得第一版圖和第二版圖，很好的提高效率。
本發明實施例所述第四拆分規則仍然是基於設定任意相鄰的兩個掩模圖形邊與邊之間的邊閾值、以及任意相鄰的兩個掩模圖形的角與角的角閾值作為拆分方法，使得拆分規則簡單化，降低系統運算的複雜 程度，提高拆分的效率。
本發明實施例設定的第一拆分規則和第二拆分規則均是基於兩個掩模圖形邊與邊之間的邊閾值、以及任意相鄰的兩個掩模圖形的角與角的角閾值設定，這樣在拆分過程中規則相對簡單，計算複雜程度低，降低計算器的記憶體損耗，也進一步提高拆分速度。
本發明實施例通過設定邊閾值的範圍是：80-150nm，角閾值的範圍是：80-150nm，在該閾值範圍內拆分出來的掩模圖形能滿足大部分客戶對成像解析度的要求，提高適用性。
本發明實施例基於所述掩模圖形規則排列，當同一行或者同一列上的掩模圖形相互之間小於邊閾值或者角閾值，同一行或者同一列的所有掩模圖形歸為第一部分掩模或者第二部分掩模，這樣能避免拆分之後過多的考慮放置掩模圖形位置的考慮，能很好的避免出錯，同時提高效率。
本發明實施例通過利用兩種不同的顏色分別對第一版圖和第二版圖著色，方便將對應的掩模圖形載入到掩範本上、避免出現失誤。
本發明實施例通過建立關於所述有衝突圖形的拓撲關係圖，建立的拓撲關係能很好的標定有衝突圖形上每個掩模圖形的位置資訊，以在對第一部分掩模圖形和第二部分掩模圖形進行著色時，可以基於拓撲關係圖參照進行著色，避免著色錯誤，當出現漏著色或者錯誤著色時，可以利用拓撲關係圖進行核對和校正。
本發明實施例提供的適用於雙重光刻技術的版圖拆分裝置和電子設備具有和適用於雙重光刻技術的版圖拆分方法同樣的有益效果。
10:掩模圖形
100:版圖拆分裝置
30:版圖設計模組
40:第一拆分模組
50:第二拆分模組
60:第三拆分模組
70:第四拆分模組
90:著色模組
200:電子設備
201:處理器
202:存儲裝置
800:電腦系統
801:中央處理單元(CPU)
802:只讀記憶體(ROM)
803:隨機訪問記憶體(RAM)
804:匯流排
805:輸入/輸出(I/O)介面
806:輸入部分
807:輸出部分
808:存儲部分
809:通信部分
810:驅動器
811:可拆卸介質
S1:步驟
S2:步驟
S3:步驟
S4:步驟
S5:步驟
S51:步驟
S52:步驟
S53:步驟
T11:步驟
T12:步驟
T13:步驟
為讓本發明之上述以及其他特徵、優點與實施例能更明顯易懂，所附圖式之說明如下：第1圖是本發明第一實施例提供的適用於雙重光刻技術的版圖拆分方法的流程示意圖。
第2圖是本發明中步驟S1提供的初始版圖的部分區域結構示意圖。
第3圖是本發明中判定兩個掩模圖形的邊與邊之間是否存在衝突的示意圖。
第4圖是本發明中判定兩個掩模圖形的角與角之間是否存在衝突的示意圖。
第5圖是對初始版圖執行完步驟S2之後拆分為有衝突圖形和無衝突圖形的示意圖。
第6圖是圖5中圈中的矩形框的放大示意圖。
第7圖是對初始版圖執行完步驟S2之後分為有衝突圖形和無衝突圖形的另一示意圖。
第8圖是圖7中圈中的矩形框的放大示意圖。
第9圖是圖7中圈中的另一矩形框的放大示意圖。
第10圖是拆分為第一部分掩模圖形和第二部分掩模圖形的示意圖。
第11圖是執行完步驟S4之後的版圖示意圖。
第12圖是計算非常規圖形面積時的面積區域示意圖。
第13圖是計算另一種非常規圖形面積時的面積區域示意圖。
第14圖是步驟S5的細節流程圖。
第15圖是對第一版圖和第二版圖著色的細節流程圖。
第16圖是針對有衝突圖形建立的拓撲關係圖。
第17圖是拆分獲得的第一版圖和第二版圖的示意圖。
第18圖是本發明第二實施例版圖拆分裝置的模組示意圖。
第19圖是本發明第二實施例另一版圖拆分裝置的模組示意圖。
第20圖是本發明第三實施例電子設備的模組示意圖。
第21圖是適於用來實現本發明實施例的伺服器的電腦系統的結構示意圖。
為了使本發明的目的，技術方案及優點更加清楚明白，以下結合附圖及實施例，對本發明進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本發明，並不用於限定本發明。
請參閱圖1，本發明第一實施例提供一種適用於雙重光刻技術的版圖拆分方法，用於將初始版圖拆分成第一版圖和第二版圖，包括如下步驟：S1、提供初始版圖，所述初始版圖包括多個掩模圖形；S2、基於預設的第一拆分規則將所述多個掩模圖形拆分為有衝突圖形和無衝突圖形；S3、基於預設的第二拆分規則將所述有衝突圖形分為第一部分掩模圖形和第二部分掩模圖形，所述第一部分掩模圖形和所述第二部分掩模圖形中相互的掩模圖形之間無衝突； S4、基於預設的第三拆分規則將所述無衝突圖形分為至少兩種尺寸級別的第一尺寸掩模圖形和第二尺寸掩模圖形，所述第一尺寸掩模圖形的最大尺寸大於所述第二尺寸掩模圖形的最大尺寸；及S5、分別將第一尺寸掩模圖形和第二尺寸掩模圖形中的其中一部分與第一部分掩模圖形合併以獲得第一版圖、另一部分與第二部分掩模圖形合併以獲得第二版圖。
請參閱圖2，在步驟S1中，可以通過圖形繪製軟體繪製初始版圖，初始版圖上包括一個或者多個掩模圖形10。圖形繪製軟體可以包括klayout軟體。繪製完成的初始版圖通常以gds檔格式進行存儲。圖2中的版圖只是從初始版圖中截取的其中一個部分。
在步驟S2中，基於預設的第一拆分規則將所述多個掩模圖形拆分為有衝突圖形和無衝突圖形。解決衝突是版圖拆分過程中首要考慮的一個任務，在步驟S2中通過對掩模圖形先分為有衝突和無衝突兩大類型，方便進一步針對有衝突的掩模圖形做進一步的去衝突處理，而不是逐個遍曆掩模圖形，逐個判斷是否存在衝突，對存在衝突的掩模圖形逐個去衝突的方式，能很好的提高拆分速度。
請參閱圖3和圖4，在一些具體的實施例中，預設的第一拆分規則如下：設定任意相鄰的兩個掩模圖形10邊與邊之間的邊閾值、以及任意相鄰的兩個掩模圖形10的角與角的角閾值，將小於邊閾值或者角閾值的掩模圖形10分為有衝突圖形，剩餘的分為無衝突圖形。如圖3中所示，任意相鄰的兩個掩模圖形10的兩條邊之間的距離過近，會影響成像解析度，認為存在衝突。如圖4中所示，任意相鄰的兩個掩模圖形10之間的兩個臨近角 之間的距離過近，也會影響成像解析度，認為存在衝突，因此可以通過拆分的方式解決衝突的問題。
需要說明的是，還存在其他方式評判是否存在衝突的方式，比如最小允許週期等。
可選地，邊閾值以及角閾值的具體數值的設定主要是根據曝光成像過程中所需要達到的成像解析度決定的。作為一個舉例，邊閾值的具體範圍是：80-150nm，角閾值的具體範圍是：80-150nm。可選地，邊閾值的數值還可以是：90nm、110nm、130nm或者140nm。角閾值的數值還可以是：90nm、110nm、130nm或者140nm。
請參閱圖5和圖7，基於設定的邊閾值為110nm、角閾值為110nm將初始版圖上的掩模圖形10進行分類為有衝突圖形和無衝突圖形的示意圖。在圖5和圖7中，淺灰色標識的區域為無衝突圖形，例如框選的區域M的部分，而與該區域M相同顏色的部分也對應為無衝突圖形。除了淺灰色標識的部分其他的區域則對應為有衝突圖形，對應為黑色標識的部分，例如框選的區域N的部分。而與該區域N相同顏色的部分也對應為有衝突圖形。其中圖5和圖7是關於初始版圖上的兩個不同的區域部分。
為了更好的展示圖5和圖7中有衝突圖形和無衝突圖形中掩模圖形的具體形狀以及排布規律，進一步對圖5選擇一處有衝突圖形區域N1對其進行放大，如圖6中所示，可以明顯看出在圖6所示的掩模圖形中，臨近的兩個掩模圖形10之間的角距離為0.089μm(89nm)，小於角閾值110nm，即為有衝突圖形。從圖7中選擇一處無衝突区域M1以及有衝突圖形區域N2進行放大，如附圖8以及圖9中所示，可以明顯看出圖8中相鄰的掩模圖形10 之間的間距為0.114μm(114nm)大於邊閾值110nm，即為無衝突圖形。在圖9中所示的掩模圖形10中，相鄰的掩模圖形10之間的間距為0.07μm(70nm)小於邊閾值110nm，即為有衝突圖形。
在上述步驟S3中，預設的第二拆分規則為：設定任意相鄰的兩個掩模圖形邊與邊之間的邊閾值、以及任意相鄰的兩個掩模圖形的角與角的角閾值，將小於邊閾值或者角閾值的兩個掩模圖形一個定義為第一部分掩模圖形、另一個定義為第二部分掩模圖形。
在一些具體的實施例中，如果同一行或者同一列上的掩模圖形相互之間小於邊閾值或者角閾值，同一行或者同一列的可以都歸為第一部分掩模或者第二部分掩模。當然，還可以是依次排序順序，將相鄰的兩個掩模圖形中的一個歸為第一部分掩模圖形，另外一個歸為第二部分掩模圖形。
在本步驟S3中，設定的邊閾值和角閾值的數值可以和上述步驟S2中的相同或者不相同都可以。
請參閱圖10，通常掩模圖形10是規則性排列的，如果相鄰的兩行或者兩列之間的掩模圖形10存在衝突，那麼將這兩行中的一行或者一列拆分作為第一部分掩模圖形，另一行或者另一列作為第二部分掩模圖形即可。可選地，奇數行上的掩模圖形10作為第一部分掩模圖形，偶數行上的掩模圖形10作為第二部分掩模圖形。這樣不但可以解決衝突問題，還能很好的保證拆分之後的第一部分掩模圖形中掩模圖形的分佈密度和第二部分掩模圖形的分佈密度相近，保證兩者的曝光性能。如果這樣拆分無法解決衝突問題，可以在後續拆分獲得第一版圖或者第二版圖之後，進行臨近 效應校正(OPC)階段進一步調整即可。比如圖10中，奇數行的掩模圖形歸為第一部分掩模圖形，偶數行的掩模圖形歸為第二部分掩模圖形。
請參閱圖11，在步驟S4中，預設的第三拆分規則如下：設定面積尺寸閾值或者長度尺寸閾值，將超過面積尺寸閾值或者超過長度尺寸閾值的無衝突圖形上的掩模圖形歸類為第一尺寸掩模圖形，其餘的歸類為第二尺寸掩模圖形。如附圖11中所示，區域O對應的掩模圖形為第一尺寸掩模圖形，區域P中的掩模圖形相對較小，對應為第二尺寸掩模圖形。其中P1區域對應為區域P的矩形框選區域的放大圖，其中O1對應為區域O的放大圖。
請參閱圖12和圖13，需要進一步說明的是當掩模圖形為非常規形狀，比如不是常規的長方形、正方形時，為了方便計算，其邊長的長度尺寸的計算方式可以如下：將該掩模圖形對應的X軸方向上的起始座標和終點座標，Y軸方向上的起始座標和終點座標，將該四個座標對應的頂點連接圍合形成的矩形框的邊長的長度則對應為該掩模圖形的最大邊長長度。這樣可以不用遍曆每一條邊的邊長，能很好的提高速度。
還需要說明的是，除了設定面積尺寸閾值或者長度尺寸面積閾值之外，還可以設定對角線長度閾值或者其他的評判指標閾值。
需要說明的是，步驟S3和步驟S4可以同時進行，或者先執行步驟S3再執行步驟S4、又或者先執行步驟S4再執行步驟S3均是可以的，兩種沒有先後的順序限定。優選為兩者同時進行，這樣能很好的加快運算速度。
在步驟S5中，當基於步驟S4中已經將無衝突圖形分為兩個 不同尺寸的類別掩模圖形的基礎上，可以對第一尺寸掩模圖形和第二尺寸掩模圖形並行處理，同時對第一尺寸掩模圖形和第二尺寸掩模圖形進行拆分操作，而不是逐一對無衝突圖形進行拆分，能很好的提高拆分速度。
請參閱圖14，分別將第一尺寸掩模圖形和第二尺寸掩模圖形中的其中一部分與第一部分掩模圖形合併以獲得第一版圖、另一部分與第二部分掩模圖形合併以獲得第二版圖的步驟如下：S51、基於預設的第四拆分規則將所述第一尺寸掩模圖形拆分成第三部分掩模圖形和第四部分掩模圖形，所述第四拆分規則包括：設定任意相鄰的兩個掩模圖形邊與邊之間的邊閾值、以及任意相鄰的兩個掩模圖形的角與角的角閾值，將小於邊閾值或者角閾值的兩個掩模圖形中的一個定義為第三部分掩模圖形、另一個定義為第四部分掩模圖形，而將大於邊閾值或者角閾值的掩模圖形部分歸為第三部分掩模圖形，另外部分歸為第四部分掩模圖形；S52、將所述第一部分掩模圖形與所述第三部分掩模圖形合併以獲得初始第一版圖，將所述第二部分掩模圖形與第四部分掩模圖形合併以獲得初始第二版圖；S53、將第二尺寸掩模圖形上任意相鄰的兩個小於邊閾值或者角閾值的掩模圖形的一個拆分到初始第一版圖，另一個拆分到初始第二版圖，而將大於邊閾值或者角閾值的掩模圖形部分歸為初始第一版圖，另外部分歸為初始第二版圖上。
在步驟S51中，將大於邊閾值或者角閾值的掩模圖形部分歸為第三部分掩模圖形，另外部分歸為第四部分掩模圖形的過程中，可以是 以間隔的順序將其中一個拆分為第三部分掩模圖形，另一個拆分為第四部分掩模圖形。還可以是其他的方式，保證拆分之後圖形之間相互無衝突即可。
在步驟S53中將大於邊閾值或者角閾值的掩模圖形部分歸為初始第一版圖，另外部分歸為初始第二版圖上可以是以間隔的順序將其中一個拆分為第三部分掩模圖形，另一個拆分為第四部分掩模圖形。還可以是其他的方式，保證拆分之後圖形之間相互無衝突即可。
為了在更加順利將拆分的第一版圖和第二版圖上的圖形順利載入到掩範本上以製備獲得的兩塊掩模，進一步需要對屬於第一版圖的掩模圖形和第二版圖的掩模圖形著色。即，分別用第一顏色和第二顏色分別對第一版圖和第二版圖著色。
請參閱圖15，用第一顏色和第二顏色分別對第一版圖和第二版圖著色的方式包括如下步驟：T11、在合併獲得第一版圖和第二版圖之前首先對第一部分掩模圖形用第一顏色著色、對所述第二部分掩模圖形用第二顏色著色；T12、然後對第三部分掩模圖形和第四部分掩模圖形分別用第一顏色和第二顏色著色；T13、最後對拆分到初始第一版圖和初始第二版圖上的第二尺寸掩模圖形著色。
可以在執行步驟S3之後執行步驟T11。在執行步驟S51之後執行步驟T12。在執行步驟S53之後執行步驟T13。
在具體的實施例中，可以通過如下方式對第一部分掩模圖形 用第一顏色著色、對所述第二部分掩模圖形用第二顏色著色：將有衝突圖形中的每個掩模圖形用一個圓形作為節點，將有衝突的節點之間用直線連接形成拓撲關係圖，基於所述拓撲關係圖對所述第一部分掩模圖形和所述第二部分掩模圖形著色。
請結合圖16，為針對圖10的掩模圖形建立的拓撲關係圖。建立的拓撲關係能很好的標定有衝突圖形上每個掩模圖形的位置資訊，以在對第一部分掩模圖形和第二部分掩模圖形進行著色時，可以基於拓撲關係圖參照進行著色，避免著色錯誤，當出現漏著色或者錯誤著色時，可以利用拓撲關係圖進行核對和校正。
請參閱圖17，區域A為針對圖5和圖7組合成的初始版圖進行拆分之後並進行上色的第一版圖和第二版圖。為了更清楚的展示，其中區域B、區域C、區域D和區域E對應為區域A中框選矩形區域的放大圖，區域B、區域C也是基於步驟S4拆分成的第二尺寸掩模圖形。從區域B、區域C中可以明顯看出第二尺寸掩模圖形以間隔的方式進行兩種不同顏色的著色，其中同一種顏色(比如淺色)著色的對應為第一版圖，另一種較深顏色著色的對應為第二版圖。
其中區域D是基於步驟S2拆分成的無衝突圖形，其中在區域D又進一步基於步驟S4拆分成第一尺寸掩模圖形和第二尺寸掩模圖形，其中細長條形的掩模圖形對應為第一尺寸掩模圖形，小矩形的掩模圖形對應為第二尺寸掩模圖形。其中在區域D中第一尺寸掩模圖形又基於步驟S51分成第三部分掩模圖形和第四部分掩模圖形，其中在區域D中，淺顏色的掩模圖形對應為第三部分掩模圖形，深顏色的掩模圖形對應為第四部分掩模圖 形。在區域D中又將第二尺寸掩模圖形以步驟S53的方式以淺顏色和深顏色進行著色，其中淺顏色作為第一版圖，深顏色部分作為第二版圖。從區域E中可以明顯看出針對圖7中的有衝突圖形按照步驟S3進行拆分之後以深顏色和淺顏色兩種不同顏色的著色，其中同一種顏色(比如淺色)著色的對應為第一版圖，另一種較深顏色著色的對應為第二版圖。
圖17中區域B-區域E是針對初始版圖執行完步驟S1-步驟S5之後的獲得第一版圖和第二版圖的部分解釋說明，其中淺顏色上色的都是第一版圖，而深顏色著色的都是第二版圖。
請參閱圖18，本發明第二實施例提供一種版圖拆分裝置100，用於對待優化掩模進行優化，其包括版圖設計模組30、第一拆分模組40、第二拆分模組50、第三拆分模組60、第四拆分模組70。
版圖設計模組30：用於提供初始版圖，所述初始版圖包括多個掩模圖形；第一拆分模組40：基於預設的第一拆分規則將所述多個掩模圖形拆分為有衝突圖形和無衝突圖形；第二拆分模組50：基於預設的第二拆分規則將所述有衝突圖形分為第一部分掩模圖形和第二部分掩模圖形，所述第一部分掩模圖形和所述第二部分掩模圖形中相互的掩模圖形之間無衝突；第三拆分模組60：基於預設的第三拆分規則將所述無衝突圖形分為至少兩種尺寸級別的第一尺寸掩模圖形和第二尺寸掩模圖形，所述第一尺寸掩模圖形的最大尺寸大於所述第二尺寸掩模圖形的最大尺寸；第四拆分模組70：分別拆分第一尺寸掩模圖形和第二尺寸掩 模圖形成兩個部分，其中一部分與第一部分掩模圖形合併以獲得第一版圖、另一部分與第二部分掩模圖形合併以獲得第二版圖。
請參閱圖19，版圖拆分裝置100還包括著色模組90，所述著色模組90和所述第四拆分模組70連接，第四拆分模組70將獲得的第一版圖和第二版圖提供給著色模組90，所述著色模組90用於基於第一顏色和第二顏色分別對第一版圖和第二版圖著色。
請參閱圖20，本發明第三實施例提供電子設備200，其包括一個或多個處理器201和存儲裝置202，存儲裝置202，用於存儲一個或多個程式，當所述一個或多個程式被所述一個或多個處理器201執行，使得所述一個或多個處理器201實現如第一實施例所提供的掩模優化方法。
下面參考圖21，其示出了適於用來實現本發明實施例的終端設備/伺服器的電腦系統800的結構示意圖。圖21示出的終端設備/伺服器僅僅是一個示例，不應對本申請實施例的功能和使用範圍帶來任何限制。
如圖21所示，電腦系統800包括中央處理單元(CPU)801，其可以根據存儲在只讀記憶體(ROM)802中的程式或者從存儲部分808加載到隨機訪問記憶體(RAM)803中的程式而執行各種適當的動作和處理。在RAM 803中，還存儲有系統800操作所需的各種程式和數據。CPU 801、ROM 802以及RAM 803通過匯流排804彼此相連。輸入/輸出(I/O)介面805也連接至匯流排804。
以下部件連接至I/O介面805：包括鍵盤、滑鼠等的輸入部分806；包括諸如陰極射線管(CRT)、液晶顯示器(LCD)等以及揚聲器等的輸出 部分807；包括硬碟等的存儲部分808；以及包括諸如LAN卡、數據機等的網路介面卡的通信部分809。通信部分809經由諸如因特網的網路執行通信處理。驅動器810也根據需要連接至I/O介面805。可拆卸介質811，諸如磁片、光碟、磁光碟、半導體記憶體等等，根據需要安裝在驅動器810上，以便於從其上讀出的電腦程式根據需要被安裝入存儲部分808。
根據本公開的實施例，上文參考流程圖描述的過程可以被實現為電腦軟體程式。例如，本公開的實施例包括一種電腦程式產品，其包括承載在電腦可讀介質上的電腦程式，該電腦程式包含用於執行流程圖所示的方法的程式代碼。在這樣的實施例中，該電腦程式可以通過通信部分809從網路上被下載和安裝，和/或從可拆卸介質811被安裝。在該電腦程式被中央處理單元(CPU)801執行時，執行本發明的方法中限定的上述功能。需要說明的是，本發明所述的電腦可讀介質可以是電腦可讀信號介質或者電腦可讀存儲介質或者是上述兩者的任意組合。電腦可讀存儲介質例如可以是-但不限於-電、磁、光、電磁、紅外線、或半導體的系統、裝置或器件，或者任意以上的組合。電腦可讀存儲介質的更具體的例子可以包括但不限於：具有一個或多個導線的電連接、可攜式電腦磁片、硬碟、隨機訪問記憶體(RAM)、只讀記憶體(ROM)、可擦式可編程只讀記憶體(EPROM或閃存)、光纖、可攜式緊湊磁片只讀記憶體(CD-ROM)、光記憶體件、磁記憶體件、或者上述的任意合適的組合。
可以以一種或多種程式設計語言或其組合來編寫用於執行本申請的操作的電腦程式代碼，所述程式設計語言包括面向對象的程式設計語言-諸如Java、Smalltalk、C++，還包括常規的過程式程式設計語言- 諸如“C”語言或類似的程式設計語言。程式代碼可以完全地在用戶電腦上執行、部分地在用戶電腦上執行、作為一個獨立的軟體包執行、部分在用戶電腦上部分在遠程電腦上執行、或者完全在遠程電腦或伺服器上執行。在涉及遠程電腦的情形中，遠程電腦可以通過任意種類的網路──包括局域網(LAN)或廣域網(WAN)-連接到用戶電腦，或者，可以連接到外部電腦(例如利用因特網服務提供商來通過因特網連接)。
附圖中的流程圖和框圖，圖示了按照本發明各種實施例的系統、方法和電腦程式產品的可能實現的體系架構、功能和操作。在這點上，流程圖或框圖中的每個方框可以代表一個模組、程式段、或代碼的一部分，該模組、程式段、或代碼的一部分包含一個或多個用於實現規定的邏輯功能的可執行指令。也應當注意，在有些作為替換的實現中，方框中所標注的功能也可以以不同於附圖中所標注的順序發生。例如，兩個接連地表示的方框實際上可以基本並行地執行，它們有時也可以按相反的順序執行，這依所涉及的功能而定。也要注意的是，框圖和/或流程圖中的每個方框、以及框圖和/或流程圖中的方框的組合，可以用執行規定的功能或操作的專用的基於硬體的系統來實現，或者可以用專用硬體與電腦指令的組合來實現。
描述於本發明實施例中所涉及到的單元可以通過軟體的方式實現，也可以通過硬體的方式來實現。作為另一方面，本發明還提供了一種電腦可讀介質，該電腦可讀介質可以是上述實施例中描述的裝置中所包含的；也可以是單獨存在，而未裝配入該裝置中。
以上所述僅為本發明的較佳實施例而已，並不用以限制本發 明，凡在本發明的原則之內所作的任何修改，等同替換和改進等均應包含本發明的保護範圍之內。
S1:步驟
S2:步驟
S3:步驟
S4:步驟
S5:步驟

Claims (15)

  1. 一種適用於雙重光刻技術的版圖拆分方法，用於將初始版圖拆分成第一版圖和第二版圖，其特徵在於，包括如下步驟：提供初始版圖，所述初始版圖包括多個掩模圖形；將所述多個掩模圖形拆分為有衝突圖形和無衝突圖形；將所述有衝突圖形分為第一部分掩模圖形和第二部分掩模圖形，所述第一部分掩模圖形和所述第二部分掩模圖形中相互的掩模圖形之間無衝突；將所述無衝突圖形分為至少兩種尺寸級別的第一尺寸掩模圖形和第二尺寸掩模圖形，所述第一尺寸掩模圖形的最大尺寸大於所述第二尺寸掩模圖形的最大尺寸；以及分別將所述第一尺寸掩模圖形和所述第二尺寸掩模圖形中的其中一部分與所述第一部分掩模圖形合併以獲得第一版圖、另一部分與所述第二部分掩模圖形合併以獲得第二版圖。
  2. 如請求項1的適用於雙重光刻技術的版圖拆分方法，其中，分別將所述第一尺寸掩模圖形和所述第二尺寸掩模圖形中的其中一部分與所述第一部分掩模圖形合併以獲得所述第一版圖、另一部分與所述第二部分掩模圖形合併以獲得所述第二版圖的步驟如下：基於預設的第四拆分規則將所述第一尺寸掩模圖形拆分成第三部分掩模圖形和第四部分掩模圖形，所述第四拆分規則包括：設定任意相鄰的兩個掩模圖形邊與邊之間的邊閾值、以及任意相鄰的兩個掩模圖形的角與角的角閾值，將小於邊閾值或者角閾值的兩個掩模圖形中的一 個定義為所述第三部分掩模圖形、另一個定義為所述第四部分掩模圖形，而將大於邊閾值或者角閾值的掩模圖形部分歸為所述第三部分掩模圖形，另外部分歸為所述第四部分掩模圖形；將所述第一部分掩模圖形與所述第三部分掩模圖形合併以獲得所述第一版圖，將所述第二部分掩模圖形與所述第四部分掩模圖形合併以獲得所述第二版圖；將所述第二尺寸掩模圖形上任意相鄰的兩個小於邊閾值或者角閾值的掩模圖形的一個拆分到所述第一版圖，另一個拆分到所述第二版圖，而將大於邊閾值或者角閾值的掩模圖形部分歸為所述第一版圖，另外部分歸為所述第二版圖上。
  3. 如請求項1的適用於雙重光刻技術的版圖拆分方法，其中，將所述多個掩模圖形拆分為所述有衝突圖形和所述無衝突圖形的步驟是基於預設的第一拆分規則，所述預設的第一拆分規則如下：設定任意相鄰的兩個掩模圖形邊與邊之間的邊閾值、以及任意相鄰的兩個掩模圖形的角與角的角閾值，將小於邊閾值或者角閾值的掩模圖形分為所述有衝突圖形，剩餘的分為所述無衝突圖形。
  4. 如請求項3的適用於雙重光刻技術的版圖拆分方法，其中，所述邊閾值的範圍是：80-150nm，所述角閾值的範圍是：80-150nm。
  5. 如請求項4的適用於雙重光刻技術的版圖拆分方法，其中，所述邊閾值是：110nm，所述角閾值是：110nm。
  6. 如請求項1的適用於雙重光刻技術的版圖拆分方法，其中，將所述有衝突圖形分為所述第一部分掩模圖形和所述第二部分掩模圖形的 步驟是基於預設的第二拆分規則，所述預設的第二拆分規則如下：設定任意相鄰的兩個掩模圖形邊與邊之間的邊閾值、以及任意相鄰的兩個掩模圖形的角與角的角閾值，將小於邊閾值或者角閾值的兩個掩模圖形一個定義為所述第一部分掩模圖形、另一個定義為所述第二部分掩模圖形。
  7. 如請求項6的適用於雙重光刻技術的版圖拆分方法，其中，所述掩模圖形規則排列，當同一行或者同一列上的掩模圖形相互之間小於邊閾值或者角閾值，同一行或者同一列的所有掩模圖形歸為所述第一部分掩模圖形或者所述第二部分掩模圖形。
  8. 如請求項1的適用於雙重光刻技術的版圖拆分方法，其中，將所述無衝突圖形分為至少兩種尺寸級別的所述第一尺寸掩模圖形和所述第二尺寸掩模圖形的步驟是基於預設的第三拆分規則，所述預設的第三拆分規則如下：設定面積尺寸閾值或者長度尺寸閾值，將超過面積尺寸閾值或者超過長度尺寸閾值的無衝突圖形上的掩模圖形歸類為所述第一尺寸掩模圖形，其餘的歸類為所述第二尺寸掩模圖形。
  9. 如請求項1的適用於雙重光刻技術的版圖拆分方法，其中，將所述無衝突圖形分為至少兩種尺寸級別的所述第一尺寸掩模圖形和所述第二尺寸掩模圖形的步驟是基於預設的第三拆分規則，所述預設的第三拆分規則如下：設定掩模圖形對角線長度閾值，將超過對角線長度閾值的無衝突圖形上的掩模圖形歸類為所述第一尺寸掩模圖形，其餘的歸類為所述第二 尺寸掩模圖形。
  10. 如請求項2的適用於雙重光刻技術的版圖拆分方法，其中，用第一顏色和第二顏色分別對所述第一版圖和所述第二版圖著色。
  11. 如請求項10的適用於雙重光刻技術的版圖拆分方法，其中，用所述第一顏色和所述第二顏色分別對所述第一版圖和所述第二版圖著色的方式如下：在合併獲得所述第一版圖和所述第二版圖之前首先對所述第一部分掩模圖形用所述第一顏色著色、對所述第二部分掩模圖形用所述第二顏色著色；然後對所述第三部分掩模圖形和所述第四部分掩模圖形分別用所述第一顏色和所述第二顏色著色；最後對拆分到所述第一版圖和所述第二版圖上的所述第二尺寸掩模圖形著色。
  12. 如請求項11的適用於雙重光刻技術的版圖拆分方法，還包括：將所述有衝突圖形中的每個所述掩模圖形用一個圓形作為節點，將有衝突的所述節點之間用直線連接形成拓撲關係圖，基於所述拓撲關係圖對所述第一部分掩模圖形和所述第二部分掩模圖形著色。
  13. 一種版圖拆分裝置，其特徵在於，用於將初始版圖拆分成第一版圖和第二版圖，包括：版圖設計模組：用於提供初始版圖，所述初始版圖包括多個掩模圖形；第一拆分模組：將所述多個掩模圖形拆分為有衝突圖形和無衝突圖形； 第二拆分模組：將所述有衝突圖形分為第一部分掩模圖形和第二部分掩模圖形，所述第一部分掩模圖形和所述第二部分掩模圖形中相互的掩模圖形之間無衝突；第三拆分模組：將所述無衝突圖形分為至少兩種尺寸級別的第一尺寸掩模圖形和第二尺寸掩模圖形，所述第一尺寸掩模圖形的最大尺寸大於所述第二尺寸掩模圖形的最大尺寸；第四拆分模組：分別拆分所述第一尺寸掩模圖形和所述第二尺寸掩模圖形成兩個部分，其中一部分與所述第一部分掩模圖形合併以獲得第一版圖、另一部分與所述第二部分掩模圖形合併以獲得第二版圖。
  14. 如請求項13的版圖拆分裝置，還包括著色模組，所述著色模組和所述第四拆分模組連接，所述著色模組用於基於第一顏色和第二顏色分別對所述第一版圖和所述第二版圖著色。
  15. 一種電子設備，其特徵在於，其包括一個或多個處理器和存儲裝置，所述存儲裝置，用於存儲一個或多個程式，當所述一個或多個程式被所述一個或多個處理器執行，使得所述一個或多個處理器實現如請求項1的適用於雙重光刻技術的版圖拆分方法。
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