TWI813752B

TWI813752B - 附黏著劑層之偏光板

Info

Publication number: TWI813752B
Application number: TW108131281A
Authority: TW
Inventors: 三田聰司
Original assignee: 日商日東電工股份有限公司
Priority date: 2018-11-01
Filing date: 2019-08-30
Publication date: 2023-09-01
Also published as: TW202018341A; JPWO2020090196A1; WO2020090196A1; JP2022121751A; CN112955791B; CN112955791A; KR20210084464A; JP7126796B2

Abstract

本發明提供一種薄型且具有非常優異的耐熱性的附黏著劑層之偏光板。本發明附黏著劑層之偏光板具有：偏光件、配置於該偏光件之一側的保護薄膜與配置於該偏光件之另一側的黏著劑層，且該黏著劑層包含鋰鹽；偏光件的鋰含量(Li_POL )為0.3重量%以上，且該黏著劑層的鋰含量(Li_PSA )為0.0035重量%以上。

Description

附黏著劑層之偏光板

本發明涉及一種附黏著劑層之偏光板。

發明背景在代表性之影像顯示裝置即液晶顯示裝置中，由於其影像形成方式，而於液晶單元的兩側配置有偏光件(實質上為包含偏光件之偏光板)。偏光件代表上可以碘等二色性物質將聚乙烯醇(PVA)系樹脂薄膜予以染色來製造。而近年來，影像顯示裝置的薄型化需求大增。所以，亦對偏光件要求進一步的薄型化。但偏光件愈薄，愈會有在高溫環境下光學特性易於降低之問題。

又，偏光件通常係透過黏著劑層來與其他構成構件(例如保護薄膜)貼合。為了賦予所期望之特性，形成黏著劑層的組成物(黏著劑組成物)可使用各種材料。惟，會有黏著劑組成物所含材料移動至偏光件進而造成其組成受損，而無法維持所期望之特性的問題。

先前技術文獻專利文獻專利文獻1：日本特開2012-247574號公報專利文獻2：日本特開2017-102476號公報專利文獻3：日本特開2015-094906號公報專利文獻4：日本特開2015-094907號公報

發明概要發明欲解決之課題本發明是為了解決上述課題而成者，其主要目的在於提供一種具有非常優異之耐熱性且黏著劑層之特性的歷時變化小之附黏著劑層之偏光板。

用以解決課題之手段本發明之附黏著劑層之偏光板具有：偏光件、配置於該偏光件之一側的保護薄膜與配置於該偏光件之另一側的黏著劑層，且該黏著劑層包含鋰鹽。該附黏著劑層之偏光板中，偏光件的鋰含量(Li_POL )為0.3重量%以上，且該黏著劑層的鋰含量(Li_PSA )為0.0035重量%以上。在一實施形態中，偏光件的鋰含量(Li_POL )與黏著劑層的鋰含量(Li_PSA )之比(Li_POL /Li_PSA )在100以下。在一實施形態中，上述偏光件之碘含量為10重量%~25重量%。在一實施形態中，上述偏光件包含選自於由檸檬酸及檸檬酸根離子所構成群組中之至少1種。在一實施形態中，上述偏光件之厚度為3μm以下。

發明效果本發明係提供一種雖為薄型但可實現非常優異的耐熱性的附黏著劑層之偏光板。本發明之附黏著劑層之偏光板包含：偏光件、配置於該偏光件之一側的保護薄膜與配置於該偏光件之另一側的黏著劑層，且該黏著劑層包含鋰鹽。藉由將該偏光板之偏光件的鋰含量(Li_POL )設為0.3重量%以上且將該黏著劑層的鋰含量(Li_PSA )設為0.0035重量%以上，可提供一種耐熱性優異之附黏著劑層之偏光板。並且，藉由偏光件與黏著劑層以特定含量含有鋰，可縮小黏著劑層所具特性(具體來說為導電性)的歷時變化。

用以實施發明之形態以下說明本發明之實施形態，惟本發明不受該等實施形態限定。

A.附黏著劑層之偏光板之概略圖1係本發明之一實施形態之附黏著劑層之偏光板的概略截面圖。圖式例之附黏著劑層之偏光板100具有：偏光件10、配置於偏光件10之一側的保護薄膜20與配置於偏光件之另一側之包含鋰鹽的黏著劑層30。黏著劑層30在代表上係成為影像顯示裝置側的最外層。在實際使用時，於黏著劑層30上分離件(未圖示)係以可剝離之狀態暫時黏著，保護黏著劑層直至實際使用前，並可形成成捲狀。

發明之附黏著劑層之偏光板係將黏著劑層與偏光件組合使用，該黏著劑層包含可作為導電劑發揮機能的鋰鹽，而該偏光件之鋰含量(Li_POL )為0.3重量%以上。吾等認為與偏光件所含其他陽離子(例如鉀離子)相比，黏著劑層所含鋰離子更可使碘錯合物穩定。因此，在黏著劑層所含鋰離子與偏光件中的碘錯合物結合而形成更穩定的碘錯合物的同時，亦會發生黏著劑層中的鋰離子與偏光件所含其他離子(例如鉀離子)的交換反應。藉由形成更穩定的碘錯合物，可抑制偏光件中的碘(尤其是I₃ ^- 、I₅ ^- 這類多碘離子)在高溫環境下減少。另一方面，若黏著劑層所含鋰有過多移動至偏光件，則黏著劑層本身的鋰含量(Li_POL )會降低，而可能使所期望之特性(例如表面電阻值)隨時間受損。此情事就結果而言亦可能造成偏光板的特性隨時間降低。

本發明所用偏光件如後述施有利用包含鋰離子之處理液進行之處理。因此，吾等認為首先會發生處理液所含鋰離子與偏光件的其他離子(例如鉀離子)的交換反應。此交換反應會使偏光件本身含有鋰。因此，可抑制與黏著劑層所含鋰離子發生過度的交換反應，而可縮小黏著劑層特性(例如導電性)的歷時變化。

偏光件的鋰含量(Li_POL )為0.3重量%以上，宜為0.35重量%以上。藉由鋰含量(Li_POL )在上述範圍內，可抑制黏著劑層所含鋰離子與偏光件的其他離子(例如鉀離子)發生過度的交換反應，結果可具有優異耐熱性，且可縮小黏著劑層特性的歷時變化。偏光件的鋰含量(Li_POL )例如為10重量%以下。鋰含量(Li_POL )例如可利用ICP-MS測定。

又，黏著劑層的鋰含量(Li_PSA )為0.0035重量%以上，宜為0.0040重量%以上，且宜為0.0050重量%以上。藉由黏著劑層的鋰含量(Li_PSA )為上述範圍，黏著劑層可發揮所期望之導電性能。黏著劑層的鋰含量(Li_PSA )可利用ICP-MS測定。

本發明附黏著劑層之偏光板之偏光件的鋰含量(Li_POL )與黏著劑層的鋰含量(Li_PSA )之比(Li_POL /Li_PSA ，以下亦稱「鋰含量比」)宜為100以下，更宜為85以下。藉由偏光板之鋰含量比(Li_POL /Li_PSA )為上述範圍，即便為薄型，仍可實現非常優異之耐熱性，且可縮小黏著劑層之特性的歷時變化。又，鋰含量比例如為30以上，宜為60以上。

以下針對構成附黏著劑層之偏光板的偏光件、保護薄膜及黏著劑層進行具體說明。

B.偏光件 B-1.偏光件之構成及特性偏光件代表上係以聚乙烯醇(PVA)系樹脂薄膜構成。形成PVA系樹脂薄膜之PVA系樹脂可舉如聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物。聚乙烯醇可藉由將聚乙酸乙烯酯皂化而得。乙烯-乙烯醇共聚物可藉由將乙烯-乙酸乙烯酯共聚物皂化而得。PVA系樹脂之皂化度通常為85莫耳%以上且低於100莫耳%，宜為95.0莫耳%~99.95莫耳%，更宜為99.0莫耳%~99.93莫耳%。皂化度可依JIS K 6726-1994而求得。藉由使用所述皂化度的PVA系樹脂，可獲得耐久性優異的偏光件。皂化度太高時，會有膠化之虞。

PVA系樹脂的平均聚合度可按目的適當選擇。平均聚合度通常為1000~10000，宜為1200~4500，更宜為1500~4300。另，平均聚合度可按JIS K 6726-1994而求得。

在一實施形態中，PVA系樹脂薄膜亦可為形成於基材上之PVA系樹脂層。基材與PVA系樹脂層之積層體可藉由譬如下述方法等而製得：將包含上述PVA系樹脂之塗佈液塗佈於基材之方法、將PVA系樹脂薄膜積層至基材之方法等。

偏光件的鋰含量(Li_POL )為0.3重量%以上，宜為0.35重量%以上。偏光件於其製造過程中會包含鋰。例如，藉由將PVA系樹脂薄膜利用包含鋰之處理液進行處理，所製得之偏光件會包含鋰。藉由偏光件含鋰，可抑制黏著劑層所含的鋰過度移動至偏光件所造成之黏著劑層特性的歷時變化。偏光件的鋰含量(Li_POL )例如為10重量%以下。

偏光件的碘含量可適宜設定成可兼具充分的偏光性能與最佳的單體透射率。碘含量宜為10重量%~25重量%，且較佳為15重量%~25重量%。根據本發明之附黏著劑層之偏光板，即便為包含所述碘含量極高之偏光件的偏光板，藉由採用後述特定的黏著劑層，可實現以往難以實現之非常優異的耐熱性。本說明書中的「碘含量」意指偏光件(PVA系樹脂薄膜)中所含之所有碘的量。更具體而言，碘在偏光件中以碘離子(I^- )、碘分子(I₂ )、多碘離子(I₃ ^- 、I₅ ^- )等形態存在，而本說明書中的碘含量意指包含所有該等形態之碘的量。碘含量可利用譬如螢光X射線分析之檢量曲線法來算出。另，多碘離子在偏光件中係以形成有PVA-碘錯合物之狀態存在。藉由形成所述錯合物，可在可見光之波長範圍內展現吸收二色性。具體而言，PVA與三碘化物離子之錯合物(PVA・I₃ ^- )在470nm附近具有吸光峰；PVA與五碘化物離子之錯合物(PVA・I₅ ^- )在600nm附近具有吸光峰。結果，多碘離子可根據其形態在可見光之寬廣範圍內吸收光。另一方面，碘離子(I^- )在230nm附近具有吸光峰，其與可見光之吸收無實質關聯。因此，以與PVA之錯合物狀態存在的多碘離子主要係與偏光件之吸收性能有關。

偏光件的厚度在一實施形態中宜為5μm以下，在另一實施形態中宜為3μm以下，又在另一實施形態中宜為2μm以下。又，偏光件的厚度在一實施形態中宜為0.5μm以上，在另一實施形態中宜為0.6μm以上，且在另一實施形態中宜為0.8μm以上，又在另一實施形態中宜為1μm以上，並且在另一實施形態中宜為2μm以上。根據本發明之實施形態，即使為厚度薄之偏光件，仍可實現所期望的單體透射率及偏光度。

偏光件之單體透射率(Ts)宜為30.0%~43.0%，較宜為35.0%~41.0%。偏光件的偏光度以99.9%以上為佳，99.95%以上較佳，99.98%以上更佳。透過將單體透射率設定得較低並將偏光度設得較高，可提高對比，可使黑顯示顯示得更黑。因此，可實現優異畫質之影像顯示裝置。另，單體透射率係以附積分球之分光光度計測得之值。單體透射率係以JIS Z 8701之2度視野(C光源)測定並進行光視效能校正所得之Y值，例如可用附積分球之紫外線可見光分光光度計(日本分光股份有限公司製，製品名：V7100)進行測定。

以本發明之附黏著劑層之偏光板來說，即便如上述偏光件之碘含量極高，在高溫環境下的光學特性之變化仍可受顯著抑制。且，在高溫環境下的色相變化亦有受到抑制。所述優異效果如上述，可透過將包含可作為導電劑發揮機能之鋰鹽的黏著劑層與如上述之偏光件組合使用來實現。

偏光件宜可含檸檬酸及/或檸檬酸根離子。偏光件較宜可含檸檬酸根離子。此乃源自後述製造方法(B項)中利用處理液進行處理(B-2-2項)之故。偏光件藉由含有所述化合物(換言之，利用包含B-2-2項記載之處理的製造方法來製造偏光件)，可顯著抑制偏光件在高溫環境下之變色。吾人認為此是因為可藉由處理液在預定pH區域中的緩衝作用抑制PVA系樹脂中產生質子，結果可抑制在高溫環境下於PVA系樹脂中產生多個雙鍵(多烯化)，從而可抑制變色之故。此外，藉由抑制多烯化，可抑制裂痕及翹曲。關於這部分吾人認為如下：一旦因多烯化而在PVA系樹脂分子中形成雙鍵，雙鍵附近之單體單元間之距離會縮小。結果造成PVA系樹脂分子(鏈)部分收縮，該所述部分收縮可能引發翹曲或裂痕。所以藉由抑制多烯化可抑制所述雙鍵之形成，故而就結果論可抑制翹曲及裂痕。

B-2.偏光件之製造方法 B-2-1.製造方法之概略偏光件可利用包含將PVA系樹脂薄膜至少進行延伸及染色之製造方法而製得。代表上，該製造方法包含準備PVA系樹脂薄膜之步驟、延伸步驟、膨潤步驟、染色步驟、交聯步驟、洗淨步驟及乾燥步驟。供有PVA系樹脂薄膜的各步驟可以任意且適當的順序及時序進行。因此，各步驟可按上述順序進行，亦可以不同於上述之順序進行。亦可因應需求將1個步驟進行多次。此外，上述以外之步驟(譬如不溶解步驟)可以任意且適當的時機進行，亦可省略染色步驟以外之步驟。另，若PVA系樹脂薄膜為形成於基材上之PVA系樹脂層時，可將基材與PVA系樹脂層之積層體供於上述步驟。

如上述，本發明偏光板所具有之偏光件包含鋰。因此，偏光件的製造方法宜包含利用包含鋰之處理液進行之處理步驟。含鋰之處理液具體而言係使用使水或水以外的任意適當溶劑含有碘化鋰及/或氫氧化鋰而成的處理液。藉由經過利用包含鋰之處理液進行之處理步驟，偏光件會包含鋰。利用處理液進行之處理步驟可於上述染色後於任意適當之時間點進行。

以下說明各步驟，惟如上述，各步驟可以任意且適當的順序進行，不受記載順序所限制。

B-2-2.利用處理液進行之處理如上述，本發明所用偏光件的製造方法包含：於染色後將PVA系樹脂薄膜利用包含鋰之處理液進行處理。利用處理液進行之處理只要是在染色後，即可以任意且適當的時序進行。利用處理液進行之處理具體上可在交聯步驟前進行或可在交聯步驟後進行；可在洗淨步驟前進行或可在洗淨步驟後進行。延伸步驟在染色步驟後進行時，利用處理液進行之處理可在延伸步驟前進行或可在延伸步驟後進行。膨潤步驟在染色步驟後進行時，利用處理液進行之處理可在膨潤步驟前進行或可在膨潤步驟後進行。不溶解步驟在染色步驟後進行時，利用處理液進行之處理可在不溶解步驟前進行或可在不溶解步驟後進行。代表上，利用處理液進行之處理可在洗淨步驟後且乾燥步驟前進行，或可在2階段中進行乾燥步驟時之第1乾燥步驟與第2乾燥步驟之間進行。

處理液之pH宜為2.5~6.0，且宜為3.0~5.7，更宜為3.5~4.8。此外，處理液宜在該pH範圍(亦即pH為2.5~6.0之範圍)內具有緩衝作用。所述處理液譬如可為包含碳酸氫鈉、碳酸氫鉀、磷酸氫二鈉、碳酸鉀、碳酸鈉、檸檬酸之水溶液。比起含有譬如乙酸系化合物之處理液，包含該等化合物之處理液在高的pH區域內具有緩衝作用，結果可在高溫環境下具有更優異的變色防止效果。水溶液可單獨含有該等化合物，亦可含有2種以上。處理液宜為檸檬酸的水溶液。因此，本發明所用偏光件會含檸檬酸及/或檸檬酸根離子。水溶液之濃度可視所期望之pH及緩衝作用適當設定。例如檸檬酸水溶液的濃度可宜為0.10重量%~3.0重量%。且水溶液宜包含pH調整劑。pH調整劑例如可舉氫氧化鋰。藉由使用包含氫氧化鋰作為pH調整劑之處理液，所製得之偏光件會包含鋰。

利用處理液進行之處理代表上包含使處理液與PVA系樹脂薄膜接觸之處理。接觸方法可舉任意且適當的方法。具體例可舉將PVA系樹脂薄膜浸漬於處理液、或是對PVA系樹脂薄膜塗佈或噴霧處理液。且以塗佈或噴霧處理液為宜。因為可防止浸漬時偏光件在浸漬前後之吸收光譜變化的問題，從而可進一步良好地防止PVA多烯化的情況。對PVA系樹脂薄膜塗佈或噴霧處理液之方法(手段)可採用任意且適當的方法(手段)。塗佈機構可舉如逆向塗佈機、凹版塗佈機(直接、逆向或間接)、棒式逆向塗佈機、輥塗機、模塗機、棒塗機、桿塗機。噴霧機構可舉如任意且適當的噴霧裝置(譬如加壓噴嘴式、轉動圓盤式)。

B-2-3.延伸步驟在延伸步驟中，PVA系樹脂薄膜代表上係被單軸延伸或雙軸延伸3倍~7倍。延伸方向可為薄膜之長邊方向(MD方向)，可為薄膜之寬度方向(TD方向)，亦可為長邊方向與寬度方向兩者。延伸方法可為乾式延伸，亦可為濕式延伸，或可將該等予以組合。又，亦可在進行交聯步驟、膨潤步驟、染色步驟等時將PVA系樹脂薄膜予以延伸。另，延伸方向可對應所得之偏光件的吸收軸方向。

B-2-4.膨潤步驟膨潤步驟通常係在染色步驟前進行。膨潤步驟譬如可藉由將PVA系樹脂薄膜浸漬於膨潤浴中來進行。膨潤浴通常可用蒸餾水、純水等水。膨潤浴亦可含有水以外之任意適當的其他成分。其他成分可舉醇類等溶劑、界面活性劑等添加劑、碘化物等。碘化物可舉出例如：碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦等。宜使用碘化鉀。膨潤浴之溫度譬如為20℃~45℃。又，浸漬時間譬如為10秒~300秒。

B-2-5.染色步驟染色步驟係以二色性物質將PVA系樹脂薄膜進行染色之步驟。宜藉由使其吸附二色性物質來進行。該吸附方法可舉如：使PVA系樹脂薄膜浸漬於含二色性物質之染色液中的方法、將該染色液塗敷於PVA系樹脂薄膜上的方法、及將該染色液噴霧至PVA系樹脂薄膜的方法等。理想為使PVA系樹脂薄膜浸漬於染色液中的方法。因為可良好吸附二色性物質。

上述二色性物質可舉如碘、二色性染料。且以碘為宜。採用碘作為二色性物質時，染色液宜使用碘水溶液。碘水溶液之碘含量相對於水100重量份宜為0.04重量份~5.0重量份。為了提高碘對水的溶解度，宜於碘水溶液中摻混碘化物。碘化物宜使用碘化鉀。碘化物含量相對於水100重量份宜為0.3重量份~15重量份。

染色液於染色時之液溫可設定成任意且適當之值，舉例如20℃~50℃。使PVA系樹脂薄膜浸漬於染色液時，浸漬時間譬如為5秒~5分鐘。

B-2-6.交聯步驟在交聯步驟中，通常係使用硼化合物作為交聯劑。硼化合物可舉如硼酸、硼砂等。且以硼酸為宜。在交聯步驟中，硼化合物通常係以水溶液之形態作使用。

使用硼酸水溶液時，硼酸水溶液之硼酸濃度譬如為1重量%~15重量%，宜為1重量%~10重量%。更可使硼酸水溶液中含有碘化鉀等碘化物、硫酸鋅、氯化鋅等鋅化合物。

交聯步驟可以任意適當的方法進行。譬如可舉：將PVA系樹脂薄膜浸漬於含硼化合物之水溶液中的方法、將含硼化合物之水溶液塗佈至PVA系樹脂薄膜的方法、或是將含硼化合物之水溶液噴霧至PVA系樹脂薄膜的方法。以浸漬於含硼化合物之水溶液中為宜。

用於交聯之溶液的溫度譬如為25℃以上，宜為30℃~85℃，更宜為40℃~70℃。浸漬時間譬如為5秒~800秒，宜為8秒~500秒。

B-2-7.洗淨步驟洗淨步驟代表上係在交聯步驟後進行。洗淨步驟代表上係使PVA系樹脂薄膜浸漬於洗淨液中來進行。洗淨液之代表例可舉純水。亦可於純水中添加碘化鉀。

洗淨液溫度譬如為5℃~50℃。浸漬時間譬如為1秒~300秒。

B-2-8.乾燥步驟乾燥步驟可以任意適當的方法進行。乾燥方法可舉如自然乾燥、送風乾燥、減壓乾燥、加熱乾燥等。且宜使用加熱乾燥。進行加熱乾燥時，加熱溫度譬如為30℃~100℃。又，乾燥時間譬如為20秒~10分鐘。

C.保護薄膜保護薄膜(以及，在有存在之情況下的另一保護薄膜)係使用任意適當之樹脂薄膜。樹脂薄膜之形成材料可舉如(甲基)丙烯酸系樹脂、二乙醯纖維素、三乙醯纖維素等纖維素系樹脂、降莰烯系樹脂等環烯烴系樹脂、聚丙烯等烯烴系樹脂、聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂等酯系樹脂、聚醯胺系樹脂、聚碳酸酯系樹脂及該等之共聚物樹脂等。另，「(甲基)丙烯酸系樹脂」意指丙烯酸系樹脂及/或甲基丙烯酸系樹脂。

在一實施形態中，上述(甲基)丙烯酸系樹脂係使用具有戊二醯亞胺結構之(甲基)丙烯酸系樹脂。具有戊二醯亞胺結構之(甲基)丙烯酸系樹脂(以下亦稱戊二醯亞胺樹脂)譬如係記載於下列文獻中：日本特開2006-309033號公報、日本特開2006-317560號公報、日本特開2006-328329號公報、日本特開2006-328334號公報、日本特開2006-337491號公報、日本特開2006-337492號公報、日本特開2006-337493號公報、日本特開2006-337569號公報、日本特開2007-009182號公報、日本特開2009-161744號公報及日本特開2010-284840號公報。本說明書中援引該等記載作為參考。

使用基材與PVA系樹脂層之積層體來製造偏光件時，可無須剝離基材而直接作為保護薄膜使用。又，亦可剝離基材後將偏光件與保護薄膜貼合。

亦可依目的使用任意適當之光學機能薄膜作為保護薄膜(以及，在有存在之情況下的另一保護薄膜)。光學機能薄膜可舉如相位差薄膜、反射型偏光件(增亮薄膜)。

D.黏著劑層本發明實施形態之附黏著劑層之偏光板在代表上係如同上述，於偏光件之一側配置有保護薄膜，且於偏光件之另一側配置有黏著劑層。亦即，在該實施形態中，在偏光件之該另一側係不配置保護薄膜，黏著劑層係直接配置於偏光件。

如上述，黏著劑層的鋰含量(Li_PSA )為0.0035重量%以上，宜為0.0040重量%以上，且宜為0.0050重量%以上。藉由黏著劑層的鋰含量(Li_PSA )為上述範圍，黏著劑層可發揮所期望之導電性能。

D-1.黏著劑組成物構成黏著劑層之黏著劑組成物包含基底聚合物與鋰鹽。

D-1-1.基底聚合物基底聚合物之代表例可舉(甲基)丙烯酸系聚合物((甲基)丙烯酸系樹脂)。(甲基)丙烯酸系聚合物代表上含有源自(甲基)丙烯酸烷基酯之單體單元作為主成分。(甲基)丙烯酸烷基酯係(甲基)丙烯酸酸的烷基酯。形成烷基酯的烷基可舉例如碳數1~18之直鏈狀或支鏈狀烷基。烷基之具體例可舉甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、戊基、己基、環己基、庚基、2-乙基己基、異辛基、壬基、癸基、異癸基、十二基、異肉豆蔻基、月桂基、十三基、十五基、十六基、十七基、十八基。該等可單獨使用，也可組合使用。(甲基)丙烯酸烷基酯所含烷基的平均碳數宜為3~9。

基底聚合物亦可依目的含有源自任意適當共聚成分之單體單元。共聚成分可舉例如含羥基之單體、含羧基之單體、含酸酐基之單體、含磺酸基之單體、含磷酸基之單體、(N-取代)醯胺系單體、(甲基)丙烯酸烷基胺基烷基系單體、(甲基)丙烯酸烷氧基烷基系單體、琥珀醯亞胺系單體、馬來醯亞胺系單體、伊康醯亞胺系單體、乙烯基系單體、氰基(甲基)丙烯酸酯系單體、含環氧基之(甲基)丙烯酸系單體、二醇系(甲基)丙烯酸酯單體、矽烷系單體、多官能性單體。藉由調整共聚成分之種類、數量、組合、共聚比(重量比)，可製得具有所期望之特性的基底聚合物(最終為黏著劑層)。相對於總單體成分100重量%，總單體成分中之共聚合成分的比率宜為0重量%~20重量%，0.1重量%~15重量%較佳，0.1重量%~10重量%更佳。

基底聚合物之重量平均分子量代表上為50萬~300萬，70萬~270萬較佳，80萬~250萬更佳。重量平均分子量過小時，會有耐熱性不充分的情形。重量平均分子量若過大，則有處理性變差之情形。且為了塗敷，黏度調整會需要大量稀釋溶劑而有成本增加之情形。另，重量平均分子量係指以GPC(凝膠滲透層析法；Gel Permeation Chromatography)測定且利用聚苯乙烯換算所算出之值。

D-1-2.鋰鹽上述黏著劑層包含鋰鹽(鋰-陰離子鹽)。如上述，鋰鹽可作為導電劑發揮機能。構成離子部之陰離子可舉例如Cl^- 、Br^- 、I^- 、AlCl₄ ^- 、Al₂ Cl₇ ^- 、BF₄ ^- 、PF₆ ^- 、ClO₄ ^- 、NO₃ ^- 、CH₃ COO^- 、CF₃ COO^- 、CH₃ SO₃ ^- 、CF₃ SO₃ ^- 、(CF₃ SO₂ )₃ C^- 、AsF₆ ^- 、SbF₆ ^- 、NbF₆ ^- 、TaF₆ ^- 、(CN)₂ N^- 、C₄ F₉ SO₃ ^- 、C₃ F₇ COO^- 、(CF₃ SO₂ )(CF₃ CO)N^- 、^- O₃ S(CF₂ )₃ SO₃ ^- 、及下述通式(1)~(4)所示陰離子： (1)：(C_n F_2n _＋1 SO₂ )₂ N^- (n為1~10的整數)、 (2)：CF₂ (C_m F_2m SO₂ )₂ N^- (m為1~10的整數)、 (3)：^- O₃ S(CF₂ )_l SO₃ ^- (l為1~10的整數)、 (4)：(C_p F_2p _＋1 SO₂ )N^- (C_q F_2q _＋1 SO₂ )、(p、q為1~10的整數)。以含氟陰離子較佳，且含氟醯亞胺陰離子更佳。

含氟醯亞胺陰離子可舉例如具有全氟烷基之醯亞胺陰離子。具體例可舉如上述(CF₃ SO₂ )(CF₃ CO)N^- 、以及通式(1)、(2)及(4)所示陰離子： (1)：(C_n F_2n+1 SO₂ )₂ N^- (n為1~10之整數)、 (2)：CF₂ (C_m F_2m SO₂ )₂ N^- (m為1~10之整數)、 (4)：(C_p F_2p+1 SO₂ )N^- (C_q F_2q+1 SO₂ )、(p、q為1~10之整數)。且宜為(CF₃ SO₂ )₂ N^- 、(C₂ F₅ SO₂ )₂ N^- 等通式(1)所示(全氟烷基磺醯基)醯亞胺，更以(CF₃ SO₂ )₂ N^- 所示雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺為宜。因此，本發明之實施形態中可用之較佳鋰鹽為鋰雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺。

相對於基底聚合物100重量份，黏著劑組成物(結果來說為黏著劑層)中之鋰鹽的含量宜為0.01重量份~5重量份，0.5重量份~3重量份較佳，0.7重量份~1.5重量份更佳。只要鋰鹽之含量在所述範圍內，即可顯著改善薄型且碘含量高的偏光件(結果為含有所述偏光件之偏光板)的耐熱性。

D-1-3.有機陽離子鹽黏著劑組成物亦可因應需求更包含有機陽離子鹽。藉由將鋰鹽與有機陽離子鹽組合使用，可更降低表面電阻值但不使鋰鹽溢出。

有機陽離子鹽具體上為有機陽離子-陰離子鹽。構成有機陽離子鹽之陽離子部的陽離子代表上可舉如以有機基取代而形成了鎓離子之有機鎓。有機鎓中之鎓可舉例如含氮鎓、含硫鎓、含磷鎓。且以含氮鎓、含硫鎓較佳。含氮鎓可舉如銨陽離子、哌啶鎓陽離子、吡咯啶鎓陽離子、吡啶鎓陽離子、具有二氫吡咯骨架之陽離子、具有吡咯骨架之陽離子、咪唑鎓陽離子、四氫嘧啶鎓陽離子、二氫嘧啶鎓陽離子、吡唑鎓陽離子、吡唑啉鎓陽離子。以銨陽離子、哌啶鎓陽離子、吡咯啶鎓陽離子較佳，且吡咯啶鎓陽離子更佳。含硫鎓可舉例如鋶陽離子。含磷鎓可舉例如鏻陽離子。有機鎓中之有機基可舉例如烷基、烷氧基、烯基。較佳之有機鎓之具體例可舉如四烷基銨陽離子、烷基哌啶鎓陽離子、烷基吡咯啶鎓陽離子。且乙基甲基吡咯啶鎓陽離子更佳。構成有機陽離子鹽之陰離子部的陰離子係如同有關構成鋰鹽之陰離子部的陰離子之說明。因此，可在本發明之實施形態中使用之較佳的有機陽離子鹽為吡咯啶鎓鹽，且更宜為乙基甲基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺。

對於基底聚合物100重量份，黏著劑組成物(結果來說為黏著劑層)中之有機陽離子鹽的含量宜為0.1重量份~10重量份，0.3重量份~3重量份較佳，0.5重量份~1.5重量份更佳。有機陽離子鹽的含量若為所述範圍，上述有機陽離子鹽與鋰鹽之組合效果即顯著。

D-1-4.矽烷耦合劑黏著劑組成物可更含有矽烷耦合劑。藉由使用矽烷耦合劑可提高耐久性。矽烷耦合劑可使用具有任意且適當之官能基者。官能基具體而言可舉例如乙烯基、環氧基、胺基、巰基、(甲基)丙烯醯氧基、乙醯乙醯基、異氰酸酯基、苯乙烯基、多硫化物基等。具體而言可舉例如乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基三丙氧基矽烷、乙烯基三異丙氧基矽烷、乙烯基三丁氧基矽烷等含乙烯基之矽烷耦合劑；γ-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷等含環氧基之矽烷耦合劑；γ-胺丙基三甲氧基矽烷、N-β-(胺乙基)-γ-胺丙基甲基二甲氧基矽烷、N-(2-胺乙基)3-胺丙基甲基二甲氧基矽烷、γ-三乙氧基矽基-N-(1,3-二甲基亞丁基)丙胺、N-苯基-γ-胺丙基三甲氧基矽烷等含胺基之矽烷耦合劑；γ-巰丙基甲基二甲氧基矽烷等含巰基之矽烷耦合劑；對苯乙烯三甲氧基矽烷等含苯乙烯基之矽烷耦合劑；γ-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、γ-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷等含(甲基)丙烯醯基之矽烷耦合劑；3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷等含異氰酸酯基之矽烷耦合劑；雙(三乙氧基矽基丙基)四硫化物等含多硫化物基之矽烷耦合劑等。

D-1-5.其他黏著劑組成物(結果來說為黏著劑層)亦可更含有任意且適當之添加劑。添加劑的具體例可舉交聯劑、矽烷耦合劑、重工提升劑、抗氧化劑、抗靜電劑、交聯延遲劑、乳化劑、著色劑、顏料等粉體、染料、界面活性劑、塑化劑、增黏劑、表面潤滑劑、調平劑、軟化劑、抗老化劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、無機填充劑、有機填充劑、金屬粉、粒狀、箔狀物等。添加劑之數量、種類、添加量及組合等可依目的適當設定。

形成黏著劑層的方法可採用任意適當之方法。形成方法之代表例可舉以下方法：將上述黏著劑組成物塗佈於經剝離處理之分離件等，並將聚合溶劑等乾燥去除而形成黏著劑層後，將其轉印至偏光件上之方法；或者，將上述黏著劑組成物塗佈於偏光件，並將聚合溶劑等乾燥去除而於偏光件上形成黏著劑層之方法。另，於塗佈黏著劑時可因應需求另外添加聚合溶劑以外之一種以上溶劑。

關於黏著劑組成物的詳細內容，例如記載於日本特開2014-48497號公報。本說明書中係援用該公報之記載作為參考。

D-2.黏著劑層之構成及特性黏著劑層的厚度宜為10μm~200μm，更宜為10μm~100μm。只要黏著劑層之厚度在所述範圍內，鋰鹽所帶來之耐熱性提升效果即顯著。

黏著劑層的表面電阻值(初始)宜為1.0×10¹¹ Ω・□以下，且8.0×10¹⁰ Ω・□以下為佳，5.0×10¹⁰ Ω・□以下更佳。黏著劑層的表面電阻值可為例如5.0×10⁹ Ω・□以上。只要黏著劑層之表面電阻值在所述範圍內，即有易抑制靜電不均之優點。實施例

以下，以實施例來具體說明本發明，惟本發明不受該等實施例限定。各特性之測定方法如以下所述。此外，只要無特別註記，實施例中之「份」及「%」即為重量基準。

(1)碘含量針對實施例及比較例中所獲得之附黏著劑層之偏光板的偏光件，使用螢光X射線分析裝置(Rigaku公司製，商品名「ZSX-PRIMUS II」，測定徑：ψ20mm)測定了螢光X射線強度(kcps)。另一方面，該偏光件之厚度(μm)則使用分光膜厚計(大塚電子公司製，商品名「MCPD-3000」)進行測定。從所得螢光X射線強度與厚度，以下述式求出碘含量(重量%)。 (碘含量)＝20.5×(螢光X射線強度)/(偏光件厚度) 另，算出碘含量時之係數會依測定裝置而有所不同，而該係數可使用適當之檢量曲線求得。 (2)鋰含量從實施例及比較例中所製得之附黏著劑層之偏光板將分離件剝離，並採取20mg作為試樣，以鐵氟龍(註冊商標)容器秤量。接著，加入酸並蓋緊，再使用整批微波照射系統(CEM公司製，製品名：MARS5)照射微波，在最高220℃下進行加壓酸解。酸解後，加入超純水並定容為25mL後，適當進行稀釋，再使用ELAN DRC II(PerkinElmer公司製)，透過ICP-MS進行Li定量分析。此外，測定條件如下述。霧化器：鐵氟龍(註冊商標)製同軸霧化器 m/z：Li(7) DRC模式：OFF 另外準備已從附黏著劑層之偏光板上將黏著劑組成物去除後之物，並依與上述相同方式進行測定，而測得偏光件中的鋰含量。從附黏著劑層之偏光板的鋰含量減去偏光件中之鋰含量，藉此算出黏著劑層的鋰含量(下述式)。 (黏著劑層的鋰含量)＝(附黏著劑層之偏光板的鋰含量)-(偏光件的鋰含量) (3)表面電阻值將實施例及比較例中所製得之附黏著劑層之偏光板放置於23℃、55%RH之環境下30天以上。之後，將分離薄膜剝離，並使用電阻率計(三菱化學Analytech公司製，製品名：Hiresta-UP MCP-HT450)測定黏著劑表面的表面電阻值(Ω・□)。 (4)加熱可靠性從各實施例及比較例中所製得之附黏著劑層之偏光板剝離分離件後，貼合於厚度1.3mm之無鹼玻璃上。之後，投入105℃之烘箱中60小時後，評估加熱可靠性。目視比較投入前與投入後的偏光板，確認有無因發生多烯化而造成偏光板紅變。

[實施例1] (調製黏著劑組成物之基底聚合物) 將含有丙烯酸丁酯99份及丙烯酸4-羥丁酯1份之單體混合物饋入具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器的4口燒瓶中。並相對於上述單體混合物(固體成分)100份，將作為聚合引發劑的2,2´-偶氮雙異丁腈0.1份與乙酸乙酯一起饋入，一邊慢慢攪拌一邊導入氮氣進行氮取代後，將燒瓶內的液溫維持在60℃左右，進行7小時聚合反應。然後，於所製得之反應液中添加乙酸乙酯將固體成分濃度調整成30%。依上述方式，調製出重量平均分子量140萬之丙烯酸系聚合物(A-1)(基底聚合物)之溶液。

(調製黏著劑組成物) 相對於上述丙烯酸系聚合物(A-1)溶液之固體成分100份，摻混作為導電劑之鋰雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺(Mitsubishi Materials Electronic Chemicals Co., Ltd製)1.0份及乙基甲基吡咯啶鎓雙(三氟甲磺醯基)醯亞胺(東京化成工業製)0.7份、作為交聯劑之三羥甲丙烷二異氰酸伸茬酯(三井化學公司製：TAKENATE D110N)0.095份及過氧化二苯甲醯0.3份、作為矽烷耦合劑之有機矽烷(綜研化學公司製：A100)0.2份及含硫醇基之矽烷耦合劑(信越化學工業公司製：X41-1810)0.2份、重工提升劑(KANEKA CORPORATION製，Silyl SAT10)0.03份、以及抗氧化劑(BASF公司製，Irganox1010)0.3份，而調製出黏著劑組成物(溶液)。

(製作偏光板) 熱塑性樹脂基材係使用吸水率0.75%、Tg75℃之非晶質異酞酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯(IPA共聚PET)薄膜(厚度：100μm)。於基材單面施以電暈處理，並於該電暈處理面上於25℃下塗佈以9：1之比含有聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改質PVA(聚合度1200，乙醯乙醯基改質度4.6%，皂化度99.0莫耳%以上，日本合成化學工業公司製，商品名「GOHSEFIMER Z200」)之水溶液後進行乾燥，形成厚度11μm之PVA系樹脂層，而製出積層體。用拉幅延伸機將所得之積層體在140℃下往與積層體之長邊方向正交之方向進行4.5倍空中延伸(延伸處理)。接著，使積層體浸漬於液溫25℃之染色浴(碘濃度1.4重量%及碘化鉀濃度9.8重量%之水溶液)中12秒鐘，進行染色(染色處理)。接下來使積層體浸漬於液溫25℃之洗淨浴(純水)中6秒鐘(第1洗淨處理)。再來使之浸漬於液溫60℃之交聯浴(硼濃度1重量%及碘化鉀濃度1重量%之水溶液)中16秒鐘(交聯處理)。接著使積層體浸漬於液溫25℃之洗淨浴(碘化鉀濃度1重量%之水溶液)中3秒鐘(第2洗淨處理)。然後以60℃之烘箱使積層體乾燥21秒鐘(乾燥處理)。接著，使用棒塗機將處理液(在水50重量份中添加檸檬酸0.15重量份及氫氧化鋰0.04重量份，並在攪拌10分鐘後測定pH，接著加入乙醇50重量份而調製出之物，pH＝4.2)塗佈至積層體的PVA系樹脂層，並塗佈成在濕潤狀態下之膜厚為8μm。最後，以60℃之烘箱使積層體乾燥60秒鐘而獲得具有厚度1.2μm之PVA系樹脂層(偏光件)的積層體(偏光板)。所得偏光板之偏光件的碘含量為20.9重量%，單體透射率為40.3%。

(製作附黏著劑層之偏光板) 將上述黏著劑組成物以噴注式塗佈機均勻塗敷於經聚矽氧系剝離劑處理過之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜(分離件)之表面，並以155℃之空氣循環式恆溫烘箱乾燥2分鐘，而於分離件表面形成了厚度20μm的黏著劑層。然後，將該黏著劑層轉印至上述偏光板的偏光件表面上而製得附黏著劑層之偏光板。

將所製得之附黏著劑層之偏光板供於上述(3)～(4)的評估。將結果列於表1。

[實施例2] 將處理液塗佈成於濕潤狀態下膜厚成為5μm，除此之外以與實施例1同樣的方式製得附黏著劑層之偏光板。將所獲得之附黏著劑層之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。將結果列於表1。

(比較例1) 除了未塗佈處理液外，以與實施例1同樣方式製得附黏著劑層之偏光板。將所獲得之附黏著劑層之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。將結果列於表1。

(比較例2) 處理液採用使用氫氧化鈉取代氫氧化鋰並調整過pH之處理液，且將處理液塗佈成在濕潤狀態下之膜厚為7μm，除此之外依與實施例1相同方式而製得附黏著劑層之偏光板。將所獲得之附黏著劑層之偏光板供於進行與實施例1相同之評估。將結果列於表1。

[表1]

由表1清楚可知，本發明實施例之附黏著劑層之偏光板係黏著劑層的表面電阻值上升經抑制且加濕可靠性亦優異之物。

產業上之可利用性本發明附黏著劑層之偏光板可廣泛應用於液晶電視、液晶顯示器、行動電話、數位相機、視訊攝影機、手持式遊戲機、汽車導航、影印機、印表機、傳真機、時鐘、微波爐等之液晶面板上。

10:偏光件 20:保護薄膜 30:黏著劑層 100:附黏著劑層之偏光

圖1係用以說明本發明之一實施形態之附黏著劑層之偏光板的概略截面圖。

10:偏光件

20:保護薄膜

30:黏著劑層

100:附黏著劑層之偏光板

Claims

一種附黏著劑層之偏光板，具有：偏光件、配置於該偏光件之一側的保護薄膜與配置於該偏光件之另一側的黏著劑層，且該黏著劑層包含鋰鹽；該偏光件的鋰含量(Li_POL)為0.3重量%以上，且該黏著劑層的鋰含量(Li_PSA)為0.0035重量%以上；前述偏光件的鋰含量(Li_POL)與前述黏著劑層的鋰含量(Li_PSA)之比(Li_POL/Li_PSA)為30以上且100以下；並且，前述偏光件的碘含量為15重量%~25重量%。
如請求項1之附黏著劑層之偏光板，其中前述偏光件包含選自於由檸檬酸及檸檬酸根離子所構成群組中之至少1種。
如請求項1之附黏著劑層之偏光板，其中前述偏光件之厚度為3μm以下。