TWI809198B - 液晶層積層體 - Google Patents

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祖父江彰二
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日商住友化學股份有限公司
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Abstract

本發明之課題係提供一種可抑制反捲的光學積層體、用於該光學積層體之製造的液晶層積層體、及此等之製造方法。

本發明之解決課題的手段係提供一種液晶層積層體之製造方法，係包含下列步驟：準備附基材層之第一液晶層之步驟，該附基材層之第一液晶層具有第一基材層、與於第一基材層上使聚合性液晶化合物聚合所形成的第一液晶層；準備附基材層之第二液晶層之步驟，該附基材層之第二液晶層具有第二基材層、與於第二基材層上使聚合性液晶化合物聚合所形成的第二液晶層；及積層步驟，係經介第一接著層，於附基材層之第一液晶層之第一液晶層側，積層附基材層之第二液晶層之第二液晶層側。第一接著層係由硬化性接著劑之硬化物所構成之接著劑硬化層，第一液晶層之捲曲量之絕對值為20mm以內，第二液晶層之捲曲量之絕對值為20mm以內。

Description

液晶層積層體
本發明係關於一種液晶層積層體，亦關於一種光學積層體、及此等之製造方法。
使用有機發光二極體(OLED)之有機EL顯示裝置，與液晶顯示裝置相比，不僅可實現輕量化及薄型化，亦可實現廣寬度的視角、快速的應答速度、高對比等的高畫質，因此使用於智慧型手機、電視、數位相機等各種領域。於有機EL顯示裝置，已知由於可抑制因外部光源反射所致之可見度的下降，故使用圓偏光板等以提升抗反射性能。
例如，於專利文獻1及2，作為使用於有機EL顯示裝置等之影像顯示面板之具抗反射機能的膜，揭示一種積層體，其係於直線偏光板(光學膜)，具有兩層之藉由液晶化合物所形成之相互經介接著層所積層的相位差層。
專利文獻1：日本特開2015-230386號公報
專利文獻2：日本特開2015-79256號公報
上述膜係貼合於光學顯示元件來使用，但若使如此之膜彎曲使得要與光學顯示元件貼合之側形成凹狀，亦即產生所謂之反捲時，於貼合膜與光學顯示元件之際，會有氣泡滲入，且亦會產生皺摺，由於此等問題而有容易產生可辨認為不均勻等之不良情形的傾向。如此之不良情形，會成為影像顯示面板之不良的原因，故期盼能抑制膜的反捲。
本發明之目的在於提供一種反捲受抑制的光學積層體、使用於該光學積層體之製造的液晶層積層體、及此等之製造方法。
[1]一種液晶層積層體之製造方法，該液晶層積層體係至少依序積層有第一液晶層、第一接著層、及第二液晶層，該製造方法係包含下列步驟：
準備附基材層之第一液晶層之步驟，該附基材層之第一液晶層具有第一基材層、與於前述第一基材層上使聚合性液晶化合物聚合所形成的前述第一液晶層；
準備附基材層之第二液晶層之步驟，該附基材層之第二液晶層具有第二基材層、與於前述第二基材層上使聚合性液晶化合物聚合所形成的前述第二液晶層；及
積層步驟，係經介前述第一接著層，於前述附基材層之第一液晶層之第一液晶層側，積層前述附第二基材層之第二液晶層之第二液晶層側，其中，
前述第一接著層係由硬化性接著劑之硬化物所構成之接著劑硬化層，
前述第一液晶層之捲曲量之絕對值為20mm以內，
前述第二液晶層之捲曲量之絕對值為20mm以內。
[2]如[1]所記載之液晶層積層體之製造方法，其中，當將前述第一接著層，於溫度30℃之儲存彈性模數(storage modulus)設為E[Pa]、將厚度設為t[m]時，前述第一接著層滿足下述式(1)之關係。
3000≦E×t≦15000 (1)
[3]如[1]或[2]所記載之液晶層積層體之製造方法，其係於前述積層步驟之後，更包含剝離前述第一基材層的步驟。
[4]一種液晶層積層體，其係至少依序積層有第一液晶層、第一接著層、及第二液晶層之液晶層積層體，其中，
前述第一液晶層及前述第二液晶層，係聚合性液晶化合物之硬化層，
前述第一接著層係由硬化性接著劑之硬化物所構成的接著劑硬化層，
前述第一液晶層之捲曲量之絕對值為20mm以內，
前述第二液晶層之捲曲量之絕對值為20mm以內。
[5]如[4]所記載之液晶層積層體，其中，當將前述第一接著層於溫度30℃之儲存彈性模數設為E[Pa]、將厚度設為t[m]時，前述第一接著層滿足下述式(1)之關係。
3000≦E×t≦15000 (1)
[6]如[4]或[5]所記載之液晶層積層體，其中，於前述第二液晶層之與前述第一接著層相反之側，更具有第二基材層。
[7]如[6]所記載之液晶層積層體，其中，於前述第一液晶層之與前述第一接著層相反之側，更具有第一基材層。
[8]一種光學積層體之製造方法，該光學積層體係至少依序積層有光學膜、第二接著層、第一液晶層、第一接著層、及第二液晶層，該製造方法係包含下列步驟：
於藉由從[3]所記載之液晶層積層體之製造方法所製造之液晶層積層體剝離前述第一基材層所露出之第一露出面側、藉由從[7]所記載之液晶層積層體剝離前述第一基材層所露出之第一露出面側、或[6]所記載之液晶層積層體之前述第一液晶層側，依序積層第二接著層及光學膜的步驟。
[9]如[8]所記載之光學積層體之製造方法，其係於依序積層第二接著層及光學膜的步驟後，更包含將前述第二基材層剝離之步驟。
[10]如[9]所記載之光學積層體之製造方法，其更包含下列步驟：
準備積層有黏著劑層與剝離層之附剝離層之黏著劑層的步驟；以及
於藉由剝離前述第二基材層而露出之第二露出面側，積層前述附剝離層之黏著劑層之前述黏著劑層側的步驟。
[11]如[10]所記載之光學積層體之製造方法，其係於積層前述附剝離層之黏著劑層之前述黏著劑層側的步驟之後，更含有將前述剝離層剝離的步驟。
[12]如[8]至[11]中任一項所記載之光學積層體之製造方法，其中，前述光學膜含有偏光板。
[13]一種光學積層體，其係至少依序積層有光學膜、第二接著層、第一液晶層、第一接著層、及第二液晶層之光學積層體，其中，
前述第一液晶層及前述第二液晶層，係聚合性液晶化合物之硬化層，
前述第一接著層係由硬化性接著劑之硬化物所構成的接著劑硬化層，
前述第一液晶層之捲曲量之絕對值為20mm以內，
前述第二液晶層之捲曲量之絕對值為20mm以內。
[14]如[13]所記載之光學積層體，其中，當將前述第一接著層於溫度30℃之儲存彈性模數設為E[Pa]、將厚度設為t[m]時，前述第一接著層滿足下述式(1)之關係。
3000≦E×t≦15000 (1)
[15]如[13]或[14]所記載之光學積層體，其中，於前述第二液晶層之與前述第一接著層相反之側，更具有第二基材層。
[16]如[13]或[14]所記載之光學積層體，其中，於前述第二液晶層之與前述第一接著層相反之側，更具有黏著劑層。
[17]如[16]所記載之光學積層體，其中，於前述黏著劑層之與前述第二液晶層相反之側，更具有剝離層。
[18]如[13]至[17]中任一項所記載之光學積層體，其中，前述光學膜含有偏光板。
藉由本發明，可製造反捲受抑制的光學積層體。
10‧‧‧附基材層之第一液晶層
11‧‧‧第一基材層
12‧‧‧第一液晶層
20‧‧‧附基材層之第二液晶層
21‧‧‧第二基材層
22‧‧‧第二液晶層
25‧‧‧附組成物層之第二液晶層
31‧‧‧第一接著層
31a‧‧‧接著劑組成物層
32‧‧‧第二接著層
33‧‧‧黏著劑層
40‧‧‧附兩面基材層之液晶層積層體(液晶層積層體)
41‧‧‧具單面積材層之液晶層積層體(液晶層積層體)
50‧‧‧附剝離層之第二接著層
51‧‧‧第一剝離層
53‧‧‧第二剝離層
58‧‧‧附剝離層之黏著劑層
60‧‧‧光學膜
61‧‧‧附第二接著層之光學膜
70‧‧‧基材層經剝離之光學積層體(光學積層體)
71‧‧‧附基材層之光學積層體(光學積層體)
72‧‧‧附剝離層之光學積層體(光學積層體)
73‧‧‧附黏著劑層之光學積層體(光學積層體)
第1圖(a)至(d)，係示意性顯示本發明之液晶層積層體之製造步驟之一例的概略剖面圖。
第2圖(a)及(b)，係示意性顯示第1圖所示之液晶層積層體之製造步驟之後續的概略剖面圖。
第3圖(a)至(c)，係示意性顯示本發明之光學積層體之製造步驟之一例的概略剖面圖。
第4圖(a)及(b)，係示意性顯示第3圖所示之光學積層體之製造步驟之後續的概略剖面圖。
第5圖，係示意性顯示第4圖所示之光學積層體之製造步驟之後續的概略剖面圖。
第6圖(a)及(b)，係示意性顯示第5圖所示之光學積層體之製造步驟之後續的概略剖面圖。
以下，參照圖式說明本發明之光學積層體、液晶層積層體及此等之製造方法的較佳實施形態。第1圖及第2圖，係示意性顯示本實施形態之液晶層積層體之製造方法之製造步驟之一例的概略剖面圖，第3圖至第6圖，係示意性顯示本實施形態之光學積層體之製造方法之製造步驟之一例的概略剖面圖。圖中W表示寬度方向。
(光學積層體)
如第4圖及第6圖所示，本實施形態之光學積層體係至少依序積層有光學膜60、第二接著層32、第一液晶層12、第一接著層31、及第二液晶層22者。此處，第一接著層係由硬化性接著劑之硬化物所構成之接著劑硬化層。又，第一液晶層12及第二液晶層22係聚合性液晶化合物之硬化層，第一液晶層12可於第一基材層11上使聚合性液晶化合物聚合而形成，第二液晶層22可於第二基 材層21上使聚合性液晶化合物聚合而形成。光學積層體中，第一液晶層之捲曲量的絕對值為20mm以內，第二液晶層之捲曲量的絕對值為20mm以內。
本說明書中，關於第一液晶層12及第二液晶層22之捲曲量，係於以使成為長邊之長度為150mm、短邊之長度為50mm之長方形、且長邊為與光學積層體之TD方向成45度角度的方式裁切出之第一液晶層或第二液晶層中，評估於其對角線中，延伸方向為與光學積層體之上述TD方向平行之方向上相對較近的對角線上所產生的捲曲，以後述之實施例所說明的步驟進行計算。
第一液晶層12及第二液晶層22之捲曲量，可藉由用以形成第一液晶層12及第二液晶層22之聚合性液晶化合物之種類、聚合性液晶化合物之聚合物(硬化度)、液晶層形成用組成物所含之添加劑的種類等加以調整。聚合液晶化合物之聚合度，可藉由液晶層形成用組成物所含之聚合起始劑、反應性添加劑、聚合禁止劑等之種類或添加量、使聚合性液晶化合物聚合而硬化時照射之活性能量線的照射強度或照射時間(照射量)等加以調整。第一液晶層12及第二液晶層22之捲曲量的絕對值，較佳為分別獨立地為15mm以下、更佳為12mm以下、又更佳為9mm以下，亦可為0mm，又，較佳為1mm以上、更佳為3mm以上。捲曲量之絕對值愈小，愈能抑制以第二液晶層22側為內側而彎曲成弓形之捲曲變形(以下，亦稱為「反捲」)，又，愈容易使光學積層體成為平面(平坦)的狀態。
如第6圖(b)所示，依序具有光學膜60、第二接著層32、第一液晶層12、第一接著層31、第二液晶層22、及黏著劑層33之層構造的附黏著劑層之光學積層體73(光學積層體)，係將黏著劑層33貼合於光學顯示元件使用。此時，於附黏著劑層之光學積層體73中，若產生反捲(以黏著劑層33側為內側 彎曲成弓形之變形)，則於貼合至光學顯示元件時，由於混入氣泡、產生皺摺等，而有容易產生不均勻等不良情況的傾向。然而，由於附黏著劑層之光學積層體73之第一液晶層12及第二液晶層22之捲曲量的絕對值為20mm以下，可抑制反捲的產生，而能抑制貼合於光學顯示元件時所產生之上述不良情況。
該理由可推測如以下。附黏著劑層之光學積層體73所具有之第一液晶層12及第二液晶層22(以下，亦將兩者通稱為「液晶層」)，可藉由下述方式形成：分別於第一基材層11及第二基材層21(以下，亦將兩者通稱為「基材層」)上，塗佈含有聚合性液晶化合物之液晶層形成用組成物並使其乾燥，藉由紫外線等活性能量線照射使聚合性液晶化合物聚合使其硬化而形成。據推測，於經由上述之塗佈、乾燥、聚合、硬化等之步驟所形成之液晶層，殘留有伴隨塗佈之液晶層形成用組成物之乾燥、或聚合性液晶化合物之聚合之硬化時所產生的收縮硬力。於液晶層存在於基材層上的狀態，上述之收縮應力藉由基材層而受到抑制，惟基材層一般於製造液晶層積層體或光學積層體之步驟中剝離。因此，認為剝離基材層時液晶層的收縮應力受到解放，液晶層受到該解放之收縮應力的影響，使附黏著劑層之光學積層體73變形而產生捲曲。
如第6圖(b)所示之附黏著劑層之光學積層體73，在僅於顯示較高剛性之光學膜60之一面側經介接著層積層第一液晶層12及第二液晶層22的構成中，由於殘留於該等液晶層之收縮應力會產生作用而使附黏著劑層之光學積層體73以液晶層側向內側產生捲曲，故有容易產生反捲的傾向。
因此，在本實施形態之附黏著劑層之光學積層體73中，第一液晶層12及第二液晶層22係使用上述捲曲量之絕對值為20mm以下者。藉此，推測即使因為剝離第一基材層11或第二基材層21而解放第一液晶層12或第二液晶 層22的收縮應力，亦可抑制該等液晶層的變形。結果，亦可抑制附黏著劑層之光學積層體73產生反捲。
較佳為，當將第一接著層31於溫度30℃之儲存彈性模數設為E[Pa]、將厚度設為t[m]時，第一接著層31具有滿足下述式(1)之關係的剛性。
3000≦E×t≦15000 (1)
上述式(1)之E×t的值，較佳為3500[Pa．s]以上、更佳為4000[Pa．s]以上、又更佳為4300[Pa．s]以上，又，較佳為14000[Pa．s]以下、更佳為13000[Pa．s]以下。若E×t的值未達3000[Pa．s]，則有難以抑制光學積層體產生反捲的傾向，而若超過15000[Pa．s]，則光學積層體以光學膜60側為內側捲曲成弓形的變形(以下，亦稱為「正捲曲」)有進行得過多的傾向，由於光學積層體難以成為平面(平坦)的狀態，因而使光學積層體變得難以操作。
第一接著層31於30℃之儲存彈性模數E，可藉由用以形成第一接著層31之接著劑或黏著劑的種類來加以調整。第一接著層31於30℃之儲存彈性模數E，較佳為100MPa以上、更佳為1000MPa以上、可為1500MPa以上、亦可為2000MPa以上。又，第一接著層31於30℃之儲存彈性模數E，通常為10000MPa以下、更佳為8000MPa以下、又更佳為5000MPa以下。
第一接著層31之厚度t，可因應第一接著層31之於30℃之儲存彈性模數E加以調整，惟較佳為15μm以下、更佳為10μm以下、又更佳為8μm以下，又，通常為2.5μm以上、較佳為3μm以上、亦可為3.5μm以上。
本實施形態之光學積層體，可如第6圖(b)所示，為具有光學膜60、第二接著層32、第一液晶層12、第一接著層31、第二液晶層22、及黏著劑層33之層構造的附黏著劑層之光學積層體73，亦可如第6圖(a)所示，於附黏著劑 層之光學積層體73之黏著劑層33之與第二液晶層22相反之側，具有用以保護黏著劑層33之第二剝離層53的附黏著劑層之光學積層體72(光學積層體)。又，本實施形態之光學積層體，可如第4圖(a)所示，為依序具有光學膜60、第二接著層32、第一液晶層12、第一接著層31、第二液晶層22、及第二基材層21之附基材層之光學積層體70(光學積層體)，亦可如第4圖(b)所示，為從附基材層之光學積層體70剝離第二基材層21之經基材層剝離之光學積層體71(光學積層體)。此等之各光學積層體(以下，亦將此等通稱為「光學積層體」)，當為貼合於光學顯示元件使用的形態(例如，附黏著劑層之光學積層體73)時，可抑制反捲的產生，並能抑制貼合於光學顯示元件時所產生之上述的不良情形。
(液晶積層體)
本實施形態之液晶層積層體係可使用於用以製造光學積層體者，如第2圖所示，係至少依序積層有第一液晶層12、第一接著層31、及第二液晶層22者。第一液晶層12及第二液晶層22，如上述，係聚合性液晶化合物之硬化層，捲曲量之絕對值為20mm以下。又，第一接著層31，如上述，係由硬化性接著劑之硬化物所構成之接著劑硬化層，較佳為滿足上述式(1)的關係。關於第一液晶層12、第二液晶層22、及第一接著層31的說明，係如上述故於此省略其說明。
本實施形態之液晶層積層體，可如第2圖(a)所示，為具有第一基材層11、第一液晶層12、第一接著層31、第二液晶層22、及第二基材層21之層構造的附兩面基材層之液晶層積層體40(液晶層積層體)，亦可為從附兩面基材層之液晶層積層體40剝離第一基材層11的附單面基材層之液晶層積層體41(液晶層積層體)(第2圖(b))。附單面基材層之液晶層積層體41，如第2圖(b)所示，具有第一液晶層12、第一接著層31、第二液晶層22、及第二基材層21之 層構造。藉由使用此等之各液晶層積層體(以下，亦將此等通稱為「液晶層積層體」)製造光學積層體，可抑制反捲的產生，並能抑制貼合於光學顯示元件時所產生之上述的不良情形。
(液晶層積層體之製造方法及光學積層體之製造方法)
以下，根據第1圖至第6圖針對本實施形態之液晶層積層體之製造方法及光學積層體之製造方法進行說明。在光學積層體之製造方法中，可使用例如附單面基材層之液晶層積層體41製造光學積層體。以下，舉第6圖(b)所示之附黏著劑層之光學積層體73中，第二接著層32為以黏著劑所形成之黏著劑層者為例來進行說明。
(液晶層積層體之製造方法)
第2圖(b)所示之附單面基材層之液晶層積層體41之製造方法，包含有準備第1圖(a)所示之附基材層之第一液晶層10、與第1圖(b)所示之附基材層之第二液晶層20的步驟。附基材層之第一液晶層10係具有第一基材層11、與於第一基材層11上使聚合性液晶化合物聚合所形成的第一液晶層12者，第一基材層11係形成為可從第一液晶層12剝離。附基材層之第二液晶層20係具有第二基材層21、與於第二基材層21上使聚合性液晶化合物聚合所形成的第二液晶層22者，第二基材層21係形成為可從第二液晶層22剝離。
準備附基材層之第一液晶層10之步驟可包含下列步驟：於第一基材層11上，塗佈含有聚合性液晶化合物之液晶層形成用組成物並使其乾燥，藉由照射紫外線等活性能量線以使聚合性液晶化合物聚合而硬化以形成第一液晶層12的步驟。同樣地，準備附基材層之第二液晶層20之步驟可包含下列步驟：於第二基材層21上，塗佈含有聚合性液晶化合物之液晶層形成用組成物並 使其乾燥，藉由照射紫外線等活性能量線以使聚合性液晶化合物聚合而硬化以形成第二液晶層22的步驟。
接著，進行下列步驟：於附基材層之第二液晶層20之第二液晶層22側的表面，形成用以形成接著劑硬化層之第一接著層31之含接著劑組成物之接著劑組成物層31a的步驟。藉由此步驟，可得附組成物層之第二液晶層25(第1圖(c))。附組成物層之第二液晶層25，如第1圖(c)所示，係依序積層接著劑組成物層31a、第二液晶層22、及第二基材層21者。形成接著劑組成物層31a的步驟可含有下列步驟：於附基材層之第二液晶層20之第二液晶層22側的表面塗佈接著劑組成物之步驟。
於所得之附組成物層之第二液晶層25的接著劑組成物層31a側，積層附基材層之第一液晶層10之第一液晶層12側後(第1圖(d))，從接著劑組成物層31a形成第一接著層31，而製得附兩面基材層之液晶層積層體40(第2圖(a))。形成接著劑組成物層31a的方法可因應接著劑組成物的種類適當選擇，惟可列舉例如活性能量線照射、加熱處理、硬化劑之添加等。附兩面基材層之液晶層積層體40，如第2圖(a)所示，係依序積層有第一基材層11、第一液晶層12、第一接著層31、第二液晶層22、及第二基材層21者。
由如第2圖(a)所示之附兩面基材層之液晶層積層體40，剝離第一基材層11，而不剝離第二基材層21，藉此，得如第2圖(b)所示之依序基層有第一液晶層12、第一接著層31、第二液晶層22、及第二基材層21的附單片基材層之液晶層積層體41。第2圖(a)所示之附兩面基材層之液晶層積層體40、及第2圖(b)所示之附單片基材層之液晶層積層體41中之第一接著層31，係硬化性接著劑之硬化物的接著劑硬化層，較佳為，具有滿足上述式(1)之關係的剛性。又， 第一液晶層12及第二液晶層22，任一之捲曲量的絕對值為20mm以下。
(光學積層體之製造方法)
第6圖(b)所示之附黏著劑層之光學積層體73之製造方法，首先，係進行準備附剝離層之第二接著層50的步驟：於第一剝離層51上，形成以黏著劑形成之黏著劑層之第二接著層32(第3圖(a))。準備附剝離層之第二接著層50的步驟，亦可含有下列步驟：於第一剝離層51上，塗佈黏著劑組成、使其乾燥等以形成第二接著層32的步驟。又，視需要亦可設有下列步驟：將第二接著層32之與第一剝離層51相反側的面，以其他剝離層被覆的步驟。將所準備之附剝離層之第二接著層50的第二接著層32與光學膜60貼合(第3圖(b))，將第一剝離層51剝離，以得附第二接著層之光學膜61(第3圖(c))。附第二接著層之光學膜61，如第3圖(c)所示，係積層有光學膜60與第二接著層32者。
之後，將附第二接著層之光學膜61的第二接著層32、與藉由剝離第一基材層11而露出之附單片基材層之液晶層積層體41(第2圖(b))的第一液晶層12(第一露出面)貼合，而得附基材層之光學積層體70(光學積層體)(第4圖(a))。附單片基材層之液晶層積層體41，只要為具有第2圖(b)所示之構造者即可，亦可為由上述之液晶層積層體之製造方法所製造者。附基材層之光學積層體70，如第4圖(a)所示，係依序積層有光學膜60、第二接著層32、第一液晶層12、第一接著層31、第二液晶層22、及第二基材層21者。藉由從該附基材層之光學積層體70剝離第二基材層21，可得經基材層剝離之光學積層體71(第4圖(b))。
接著，進行準備積層有第二剝離層53與黏著劑層33之附剝離層之黏著劑層58的步驟(第5圖)。準備附剝離層之黏著劑層58的步驟亦可包含下列步驟：於第二剝離層53上，塗佈黏著劑組成物並使其乾燥等以形成黏著劑層 33的步驟。又，視需要亦可設有下列步驟：將黏著劑層33之與第二剝離層53相反側的面，以其他剝離層被覆的步驟。
將所準備之附剝離層之黏著劑層58之黏著劑層33側、與藉由剝離第二基材層21所露出之經基材層剝離之光學積層體71的第二液晶層22(第二露出面)側貼合，而得附剝離層之光學積層體72(第6圖(a))。附剝離層之光學積層體72，如第6圖(a)所示，係依序積層有光學膜60、第二接著層32、第一液晶層12、第一接著層31、第二液晶層22、黏著劑層33、及第二剝離層53者。藉由從該附剝離層之光學積層體72剝離第二剝離層53，可得第6圖(b)所示之附黏著劑層之光學積層體73。所得之附黏著劑層之光學積層體73，可貼合黏著劑層33與光學顯示元件作成影像顯示面板。
上述液晶層積層體(第2圖)之製造方法及光學積層體(第4圖及第6圖)之製造方法，係於第一基材層11上或第二基材層21上聚合聚合性液晶化合物使其硬化，以形成第一液晶層12或第二液晶層22。因此，認為於由第2圖(a)所示之附兩面基材層之液晶層積層體40剝離第一基材層11時，又，由第4圖(a)所示之附基材層之光學積層體70剝離第二基材層21時，伴隨聚合性液晶化合物之聚合而硬化時所產生之殘留於第一液晶層12或第二液晶層22之收縮應力，會受到解放。於本實施形態，由於第一液晶層12及第二液晶層22之捲曲量的絕對值為20mm以下，故即使剝離第一基材層11或第二基材層21使收縮應力受到解放，亦推測第一液晶層12及第二液晶層22之變形量為小。因此，即使第一液晶層12及第二液晶層22的收縮應力受到解放，經基材層剝離之光學積層體71(第4圖(b))亦不易變形。藉此，經基材層剝離之光學積層體71、或第6圖(a)及(b)所示之附剝離層之光學積層體72或附黏著劑層之光學積層體73，可 抑制反捲的產生。
又，由於第一接著層31為接著劑硬化層，並具有上述式(1)之關係的剛性，故於經基材層剝離之光學積層體71、附剝離層之光學積層體72、及附黏著劑層之光學積層體73，可抑制正捲曲化過多、而使該等光學積層體難以成為平面(平坦)的狀態。
又，本實施形態中，用以製造液晶層積層體或光學積層體所使用之附基材層之第一液晶層10、附基材層之第二液晶層20、附剝離層之第二接著層50、附剝離層之黏著劑層58、光學膜60、附第二接著層之光學膜61等膜狀物，皆以長尺寸之膜狀物為佳，而較佳為使此等於連續地搬運之下進行各步驟。寬度方向W，通常為正交為膜狀物之長度方向(搬運方向，MD方向)的方向(TD方向)。
(變形例)
本實施形態之液晶層積層體、光學積層體、及此等之製造方法，亦可變更為如以下所示之變形例。又，上述之實施形態及下述所示之變形例，亦可任意地組合。
(變形例1)
於上述，係說明光學積層體所具有之第二接著層32為黏著劑層的情況，但並不限定於此。例如，第二接著層32，亦可為由硬化性接著劑之硬化物所構成之接著劑硬化層。於該情況下，並非於第一剝離層51上形成第二接著層，而於光學膜60上、及將附單面基材層之液晶層積層體41的第一基材層11剝離所露出之第一液晶層12(第一露出面)上之至少一者，形成含有接著劑組成物之接著劑組成物層即可。
(變形例2)
於上述，係舉下述情形為例進行說明：使用於附基材層之第二液晶層20之第二液晶層22側設置有接著劑組成物層31a的附組成物層之第二液晶層25(第1圖(c))，於該接著劑組成物層31a上積層附基材層之第一液晶層10之第一液晶層12，但只要可得使附基材層之第一液晶層10之第一液晶層12、與附基材層之第二液晶層20之第二液晶層22，經介第一接著層31所積層之附兩面基材層之液晶層積層體40(第2圖(a))者，並不限定於此。例如，亦可於附基材層之第一液晶層10之第一液晶層12側設置接著劑組成物層31a，於該接著劑組成物層31a上積層附基材層之第二液晶層20之第二液晶層22側後，使接著劑組成物層31a硬化而形成第一接著層31。又，亦可使附基材層之第一液晶層10之第一液晶層12側、及附基材層之第二液晶層20之第二液晶層22側之兩者形成接著劑組成物層31a。
(變形例3)
於上述，係舉下述情形為例進行說明：使用第3圖(a)所示之附剝離層之第二接著層50，於光學膜60設置第二接著層32而得附第二接著層之光學膜61(第3圖(c))，將該附第二接著層之光學膜61之第二接著層32、與附單面基材層之液晶層積層體41之第一液晶層12貼合，但只要可於藉由剝離第一基材層11而露出之附單面基材層之液晶層積層體41之露出面(第一液晶層12)，經介第二接著層32積層光學膜60即可，並不限定於此。例如，亦可使用第3圖(a)所示之附剝離層之第二接著層50，製得於附單面基材層之液晶層積層體41之露出面(第一液晶層12)上設有第二接著層32之附第二接著層之液晶層積層體，而於該第二接著層32上積層光學膜60。於該情況下，附第二接著層之液晶層積層體，只要 依序具有第二接著層32、第一液晶層12、第一接著層31、第二液晶層22、及第二基材層21即可，於第二接著層32之與第一液晶層12相反側的面上，亦可具有第一剝離層51。
以上，雖係針對本發明之實施形態及其變形例進行說明，但本發明並不限定於該等實施形態及其變形例，例如，亦可組合上述實施形態及其變形例之各步驟來實施。以下，詳細說明實施形態所使用之各構件。
(光學膜)
光學膜係包含由熱可塑性樹脂所構成之熱可塑性樹脂膜的膜，為具備光學機能的膜，例如，可為偏光片、於偏光片之至少一面形成有保護層之偏光板、於偏光板之至少一面積層有保護膜的附保護膜之偏光板、反射膜、半透過型反射膜、增亮膜、光學補償膜、附防眩功能膜等。光學膜可為一層構造、亦可為兩層以上之多層構造的光學膜。
光學積層體所產生的反捲，若光學積層體所含之光學膜的厚度或剛性愈小，則推測愈容易受到液晶層所致之收縮應力之解放的影響。又，基材層之厚度或剛性愈大，由於殘留於液晶層之收縮應力愈大，故推測愈容易受到剝離基材層時所解放之收縮應力的影響。因此，光學膜之厚度較佳為2μm以上500μm以下。光學膜之厚度可為10μm以上，又，可為350μm以下、亦可為200μm以下、亦可為150μm以下。
(偏光片)
偏光片可採用任意之適當的偏光片。於本說明書所謂「偏光片」，係指當入射無偏光之光時，具有使持有與吸收軸正交之振動面的直線偏光透過之性質的直線偏光片。例如，形成偏光片之樹脂膜，可為單層之樹脂膜、亦可為兩層以上 之積層膜。偏光片，亦可為使聚合性液晶化合物配向為二色性色素，而使聚合性液晶化合物聚合的硬化膜。
由單層之樹脂膜所構成之偏光片的具體例，可舉例如於聚乙烯醇(以下，以簡稱為「PVA」)系膜、部分縮醛化PVA系膜、乙烯．乙酸乙酯共聚物系部分縮醛化膜等之親水高分子膜，以碘或二色性染料等二色性物質施以染色處理、及延伸處理等者；PVA之脫水處理或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等之聚烯系配向膜等。由於光學特性優異，較佳為使用將PVA系膜以碘染色後單軸拉伸所得之偏光片。
由單層之樹脂膜所構成之偏光片的具體例，可舉例如於聚乙烯醇(以下，以簡稱為「PVA」)系膜、部分縮醛化PVA系膜、乙烯．乙酸乙酯共聚物系部分縮醛化膜等之親水高分子膜，以碘或二色性染料等二色性物質施以染色處理、及延伸處理等者；PVA之脫水處理或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等之聚烯系配向膜等。由於光學特性優異，較佳為使用將PVA系膜以碘染色後單軸拉伸所得之偏光片。
聚乙烯醇系樹脂之皂化度通常為85至100莫耳%左右，較佳為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂亦可被改質，例如，亦可使用以醛類所改質之聚乙烯甲醛或聚乙烯縮醛等。聚乙烯醇系樹脂之聚合度，通常為1000至10000左右、較佳為1500至5000左右。
聚乙烯醇系樹脂之皂化度通常為85至100莫耳%左右，較佳為98莫耳%以上。聚乙烯醇系樹脂亦可被改質，例如，亦可使用以醛類所改質之聚乙烯甲醛或聚乙烯縮醛等。聚乙烯醇系樹脂之聚合度，通常為1000至10000左右、較佳為1500至5000左右。
其他之偏光片之製造方法，可舉例如包含有下列步驟者：首先，準備基材膜，於基材膜上塗佈聚乙烯醇系樹脂等樹脂的溶液，除去溶劑並進行乾燥等於基材膜上形成樹脂層之步驟。又，於基材膜之形成有樹脂層的面，可事先形成底漆層。基材膜可使用PET等之樹脂膜。底漆層之材料，可舉例如偏光片所使用之使親水性樹脂交聯之樹脂等。
接著，視需要調整樹脂層之水份等的溶劑量，之後，使基材膜及樹脂層單軸拉伸，接著，將樹脂層以碘等二色性色素染色以使二色性色素吸附配向於樹脂層。接著，視需要將吸附配向有二色性色素之樹脂層以硼酸水溶液處理，再進行將硼酸水溶液洗掉的洗淨步驟。藉此，製造吸附配向有二色性色素之樹脂層、亦即偏光片之膜。各步驟可採用周知之方法。
基材膜及樹脂層之單軸拉伸，可於染色之前進行，可於染色中進行，可於染色後之硼酸處理中進行，亦可於該等複數之階段中分別進行單軸拉伸。基材膜及樹脂層，可朝MD方向(膜搬運方向)進行單軸拉伸，於該情況下，可於圓周速率不同的輥間朝單軸拉伸，亦可使用熱輥朝單軸拉伸。又，基材膜及樹脂層，可朝TD方向(垂直於膜搬運方向的方向)單軸拉伸，於該情況下，亦可使用所謂之拉幅機法(Tenter method)。又，基材膜及樹脂層的拉伸，可為於大氣中進行拉伸的乾式拉伸，亦可為以溶劑使樹脂層以膨潤之狀態進行拉伸的濕式拉伸。為了發揮偏光片的性能，拉伸倍率為4倍以上，較佳為5倍以上、特佳為5.5倍以上。拉伸倍率之上限並無特別限定，而由抑制破裂等觀點考量，較佳為8倍以下。
以上述方法所製作之偏光片，可藉由於積層後述之保護層後將基材膜剝離而製得。藉由該方法，偏光片可進一步薄膜化。
於聚合性液晶化合物使二色性色素配向，以使聚合性液晶化合物聚合之硬化膜的偏光片之製造方法，可舉例如下述方法，於基材膜上，塗佈含有聚合性液晶化合物及二色性色素的偏光片形成用組成物，使聚合性液晶化合物保持為液晶狀態之下聚合而使其硬化以形成偏光片的方法。因此，所得之偏光片，以積層於基材膜的狀態存在，亦可將附基材膜之偏光片用作為光學膜。或者，亦可將基材膜作成可對偏光片剝離之附基材膜之偏光片，經介第二接著層32積層於附單面基材層之液晶層積層體41後，或者，積層於附剝離層之第二接著層50後，將基材膜剝離，並將偏光片用作為光學膜。
二色性色素可使用具有分子的長軸方向之吸光度與短軸方向之吸光度不同之性質的色素，例如，以於300至700nm之範圍內具有吸收極大波長(λ max)的色素。如此之二色性色素，可舉例如吖啶色素、
Figure 108134037-A0202-12-0020-13
色素、花青色素、萘色素、偶氮色素、蒽醌色素等，其中，較佳為偶氮色素。偶氮色素，可舉例如單偶氮色素、雙偶氮色素、參偶氮色素、肆偶氮色素、二苯乙烯偶氮色素等，而更佳為雙偶氮色素、參偶氮色素。
偏光片形成用組成物可含有溶劑、光聚合起劑等之聚合起始劑、光增敏劑、聚合禁止劑等。有關偏光片形成用組成物所含有之聚合性液晶化合物、二色性色素、溶劑、聚合起始劑、光增敏劑、聚合禁止劑等，可使用周知者，例如，可使用日本特開2017-102479號公報、日本特開2017-83843號公報所例示者。又，聚合性化合物亦可使用與用以製得後述之第一液晶層及第二液晶層所使用之作為聚合性液晶化合物所例示之化合物相同者。有關使用偏光子形成用組成物以形成偏光片的方法，亦可採用上述公報所例示之方法。
偏光片之厚度較佳為2μm以上、更佳為3μm以上。又，上述之 偏光片的厚度為25μm以下、較佳為15μm以下、更佳為13μm以下、再更佳為7μm以下。又，上述之上限值及下限值，可任意組合。偏光片之厚度愈薄剛性愈小，愈容易受到第一液晶層或第二液晶層之收縮應力的影響，故當使用厚度小的偏光片作為光學膜使用時，較佳為，使用具有上述捲曲量之絕對值的第一液晶層及第二液晶層，且第一接著層為接著劑硬化層。
(偏光板)
可於偏光片之單面或雙面經介周知之黏著劑層或接著層積層保護層而作成偏光板。該偏光板係所謂之直線偏光板。可積層於偏光片之單面或兩面的保護層，例如可使用透明性、機械強度、熱穩定性、水份阻隔性、等向性、延伸性等優異之熱可塑性樹脂所形成的膜。如此之熱可塑性樹脂之具體例，可舉例如三乙酸纖維素等纖維素樹脂；聚對酞酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯樹脂；聚醚碸樹脂；聚碸樹脂；聚碳酸酯樹脂；耐綸或芳香族聚醯胺樹脂等聚醯胺樹脂；聚醯亞胺樹脂；聚乙烯、聚丙烯、乙烯．丙烯共聚物等聚烯烴樹脂；環系及具有降莰烯構造之環狀聚烯烴樹脂(亦稱為降莰烯系樹脂)；(甲基)丙烯酸樹脂；聚芳酯樹脂；聚苯乙烯樹脂；聚乙烯醇樹脂，以及此等之混合物。當於偏光片之兩面積層有保護膜時，兩個保護層之樹脂組成可為相同、亦可為不同。又，本說明書中，所謂「(甲基)丙烯酸」，係指丙烯酸或甲基丙烯酸之任一者皆可之意。(甲基)丙烯酸酯等之「(甲基)」亦為相同之意。
由熱可塑性樹脂所形成之膜，為了提升與PVA系樹脂及二色性物質所構成之偏光片的密著性，可施以表面處理(例如，電暈處理等)，亦可形成底漆層(亦稱為底塗層)等的薄層。
保護層於溫度40℃、濕度90%RH下之透濕度，較佳為1至 1500g/m2．24hr。保護層之透濕度若超過1500g/m2．24hr，則於高溫環境下，偏光板經時容易產生捲曲變化。保護層之透濕度愈低，愈容易得到可抑制偏光板之捲曲之經時變化的效果。保護層於溫度40℃、濕度90%RH下之透濕度，更佳為1000g/m2．24hr以下、又更佳為100g/m2．24hr以下、再更佳為10g/m2．24hr以下。透濕度可依據JIS Z 0208：1976進行測定。
再者，作為光學膜使用之偏光板中，為了減低第一液晶層或第二液晶層之收縮應力的影響，較佳為提高積層於偏光片之保護層的剛性。此處，所謂剛性，係定義為：保護層所使用之膜於溫度23℃下之拉伸彈性模數(以下，亦稱為「23℃彈性模數」)乘以膜厚者。例如，使用以三乙酸纖維素為代表之纖維素系聚合物的保護層，23℃彈性模數以3000至5000MPa之範圍為佳，使用以聚甲基丙烯酸甲酯為代表之丙烯酸系聚合物的保護層，23℃彈性模數以2000至4000MPa之範圍為佳，使用具有降莰烯構造之環烯烴系聚合物的保護層，23℃彈性模數以2000至4000MPa之範圍為佳。於外側保護層，由上述透濕度與剛性的觀點考量，較佳為使用丙烯酸系聚合物或聚烯烴系聚合物，特佳為使用環烯烴系聚合物。23℃彈性模數，可依據JIS K 7113進行測定。
保護層，例如可為前述之將熱可塑性樹脂拉伸者，亦可為未拉伸者(以下，亦稱為「未拉伸樹脂」)。拉伸處理，可舉例如單軸拉伸或雙軸拉伸等。
拉伸處理之拉伸方向，可為未拉伸樹脂之長度方向、可為與長度方向正交的方向、亦可為與長度方向呈斜交的方向。當為單軸拉伸時，可將未拉伸樹脂朝該等方向之任一方向拉伸。雙軸拉伸，可為朝該等方向中之兩個拉伸方向同時拉伸的同時雙軸拉伸，亦可為朝既定方向拉伸後朝其他方向拉伸的逐次雙軸拉伸。
拉伸處理例如可藉下述方式進行，使用下游側之圓周速率增大之兩對以上的軋輥朝長度方向拉伸，或將未拉伸樹脂之兩端側以夾具夾持而朝與長度方向正交之方向拉伸等。此時，藉由調整拉伸後之熱可塑性樹脂之厚度，或調整拉伸倍率，可抑制所欲之相位差值及波長分散。
拉伸之熱可塑性樹脂，較佳為滿足下述式。
(1) 80nm≦Re(590)≦180nm
(2) 0.5<Rth(590)/Re(590)<0.8
(3) 0.85≦Re(450)/Re(550)<1.00
式中，Re(590)、Re(450)、Re(550)係分別表示測定波長590nm、450nm、550nm中之面內相位差值，Rth(590)係表示於測定波長590nm中之厚度方向相位差值。該等面內相位差值及厚度方向相位差值，係指於溫度23℃、相對濕度55%之環境下所測定的值。
當面內慢軸方向之折射率為nx、面內快軸方向(與面內慢軸方向正交之方向)之折射率為ny、厚度方向之折射率為nz、拉伸後之熱可塑性樹脂之厚度為d時，面內相位差值Re、厚度方向相位差值Rth係以下述式(S1)、式(S2)來定義。
(S1) Re=(nx-ny)×d
(S2) Rth=[{(nx+ny)/2}-nz]×d
上述之外側保護層較佳為滿足上述式(1)至(3)之經拉伸之熱可塑性樹脂。又，上述之外側保護層較佳為，貼合於對偏光片之吸收軸於斜交方向具有慢軸的偏光片，例如，以使外側保護層之慢軸之角度相對於偏光子之吸收軸呈45±10°或135±10°的方式，貼合外側保護層與偏光片。藉由使慢軸的角度為上述 範圍，於快軸方向之光的相位與慢軸方向之光的相位之間會產生差，若將本實施形態之光學積層體使用於光學顯示元件，則可使穿過光學積層體射出之光成為圓偏光。因此，將本實施形態之光學積層體使用於光學顯示元件的顯示裝置，即使透過偏光太陽眼鏡觀看顯示影像等時，該顯示裝置亦具有優異的可見度。
保護層之厚度較佳為3μm以上、更佳為5μm以上。又，保護層之厚度較佳為50μm以下、更佳為30μm以下。又，上述之上限值及下限值，可任意組合。偏光板之厚度愈薄剛性愈小，愈容易受到第一液晶層或第二液晶層之收縮應力的影響，故當將厚度小的偏光板作為光學膜使用時，較佳為，使用具有上述捲曲量之絕對值的第一液晶層及第二液晶層，且第一接著層為接著劑硬化層。
保護層之與偏光片相反側的表面，亦可具有表面處理層，例如，亦可具有硬塗層、抗反射層、抗沾黏層、防眩層、擴散層等。表面處理層，可為積層於保護層上之其他層，亦可為對保護層表面施以表面處理所形成者。
硬塗層之目的在於防止偏光板表面之損傷等，例如，可將丙烯酸系、聚矽氧系等紫外線硬化型樹脂所致之硬度及潤滑特性優異之硬化皮膜，付加於保護層之表面的方式等來形成。抗反射層之目的在於防止偏光板表面之外來光的反射，可藉由依據以往之抗反射膜等之形成來達成。又，抗沾黏層之目的在於防止與相鄰層的密合。
防眩層之目的在於防止於偏光板表面之外來光的反射而阻礙偏光板之透過光的視覺辨認，例如，可藉由噴砂方式或浮雕加工方式之粗面化方式或調配透明微粒子之方式等，對保護層表面賦予凹凸構造以形成。用以於保護層表面賦予微細凹凸構造所使用之透明微粒子，可舉例如平均粒徑為0.5至50μm 之氧化矽、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯、氧化錫、氧化銦、氧化鎘、氧化銻等可具導電性之無機系微粒子、交聯或未交聯之聚合物等之有機系微粒子等微粒子。透明微粒子的含量，相對於成為形成微細凹凸構造之層的樹脂100質量份，一般為2至50質量份、較佳為5至25質量份。防眩層，亦可為兼作用以擴散偏光板之透過光以擴大視角等之擴散層(視角擴大機能等)者。
當表面處理層為積層於偏光板之保護層上之其他層時，表面處理層之厚度以0.5μm以上為佳、更佳為1μm以上。又，較佳為10μm以下、更佳為8μm以下。若厚度未達0.5μm，則有難以有效防止偏光板表面之損傷的傾向。又，厚度若超過10μm，則由於硬化收縮變大等，會變得難以抑制偏光板之反捲。
當偏光板之厚度為2μm以上300μm以下時，上述實施形態之光學積層體及其製造方法為較佳。偏光板之厚度可為10μm以上，又，可為150μm以下、可為120μm以下、亦可為80μm以下。
(附保護膜之偏光板)
偏光板通常藉由於其單面積層保護膜，可作成聚保護膜之偏光板。保護膜，含有保護膜用樹脂膜、與積層於其上的保護膜用黏著劑層。保護膜之厚度例如可為30至200μm、較佳為40至150μm、更佳為50至120μm。
構成保護膜用樹脂膜的樹脂可舉例如聚乙烯系樹脂、聚丙烯系樹脂等之聚烯烴系樹脂；環狀聚烯烴系樹脂；聚對酞酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；(甲基)丙烯酸系樹脂等。其中，較佳為聚對酞酸乙二酯等聚酯系樹脂。保護膜用樹脂膜，可為一層構造、亦可具有兩層以上之多層構造。
構成保護膜用黏著劑層之黏著劑，可使用與構成後述之黏著劑層之黏著劑相同者。又，保護膜可藉由於保護膜用樹脂膜面上，塗佈黏著劑組成物並進行乾燥等，而形成黏著劑層。視需要，為了提升保護膜用樹脂膜之黏著劑塗佈面的密著性，可施以表面處理(例如，電暈處理)，亦可形成底漆層(亦稱為底塗層)等薄層。又，視需要，亦可具有用以被覆保護保護膜用黏著劑層之與保護膜用樹脂膜側相反側之表面的剝離層。該剝離層可於與偏光板貼合之際之適當的時機剝離。
於偏光板貼合保護膜之附保護膜之偏光板的製作步驟，藉由賦予張力差或圓周速率差，亦可於附保護膜之偏光板的長度方向賦予正捲曲。因此，於上述實施形態之光學積層體及光學積層體之製造方法中，當使用附保護膜之偏光板作為光學膜時，藉由於附保護膜之偏光板之製作步驟對附保護膜之偏光板賦予正捲曲，可期待能更容易地抑制光學積層體的反捲。
在上述實施形態中之光學膜60為附保護膜之偏光板之情況下，當附保護膜之偏光板的厚度為32μm以上500μm以下時，上述實施形態之光學積層體及其製造方法為較佳。附保護膜之偏光板的厚度亦可為40μm以上，又，可為350μm以下、可為200μm以下、亦可為150μm以下。
(黏著劑層)
黏著劑層係指以黏著劑所構成的層。本說明書中，所謂「黏著劑」，係指將其本身貼付於光學膜或液晶層等被黏著體以展現接著性者，所謂稱為感壓型接著劑者。又，後述之活性能量線硬化型黏著劑，藉由照射能量線，可調整交聯度或接著力。如上述，第二接著層亦可為黏著劑層。
黏著劑可無特別限制地使用以往習知之光學性上透明性優異的 黏著劑，例如，可使用具有丙烯酸系、胺基甲酸乙脂系、聚矽氧系、聚乙烯醚系等基質聚合物的黏著劑。又，亦可為活性能量線硬化型黏著劑、熱硬化形黏著劑等。此等之中，較佳為將透明性、黏著力、再剝離性(以下，亦稱為再製性)、耐候性、耐熱性等優異之丙烯酸系樹脂作為基質聚合物之黏著劑。黏著劑層較佳為由含有(甲基)丙烯酸系樹脂(1)、交聯劑(2)、矽烷化合物(3)之黏著劑組成物的反應生成物所構成者，亦可含有其他成分(4)。
((甲基)丙烯酸系樹脂(1))
黏著劑組成物所含之(甲基)丙烯酸系樹脂(1)，較佳為以衍生自下述式(I)所表示之(甲基)丙烯酸烷基酯之構造單位(以下，亦稱為「構造單位(I)」)為主成份(例如，含有此等之50%以上)的聚合物(以下，亦稱為「(甲基)丙烯酸酯聚合物」)。本說明書中所謂「衍生自」，係指由於(甲基)丙烯酸烷基酯等化合物的聚合，而使化學構造產生變化之意。
Figure 108134037-A0202-12-0027-1
[式中，R10表示氫原子或甲基，R20表示碳數1至20之烷基，前述烷基可為具有直鏈狀、支鏈狀或環狀之任一構造者，前述烷基之氫原子，亦可以碳數1至10之烷氧基取代。]
式(I)所表示之(甲基)丙烯酸酯，可舉例如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙 烯酸異己酯、(甲基)丙烯酸正庚酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正及異壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸正十二酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異莰酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯等。含有烷氧基之丙烯酸烷基酯之具體例，可舉例如(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基甲酯等。其中，較佳為含有(甲基)丙烯酸正丁酯或(甲基)丙烯酸2-乙基己酯，特佳為含有(甲基)丙烯酸正丁酯。
(甲基)丙烯酸酯聚合物，亦可含有衍生自構造單位(I)以外之其他單體的構造單位。衍生自其他單體之構造單位，可為一種、亦可為兩種以上。可含有(甲基)丙烯酸酯聚合物之其他單體，可舉例如具有極性官能基之單體、具有芳香族基之單體、丙烯醯胺系單體。
具有極性官能基之單體，可舉例如具有極性官能基之(甲基)丙烯酸酯。極性官能基，可與例如羥基、羧基、取代胺基、未取代胺基等。極性官能基，亦可舉例如環氧基等雜環基等。
(甲基)丙烯酸酯聚合物中之衍生自具有極性官能基之單體的構造單位的含量，相對於(甲基)丙烯酸酯聚合物之總構造單位100質量份，較佳為20質量份以下、更佳為0.1質量份以上20質量份以下、又更佳為0.1質量份以上10質量份以下、特佳為0.5質量份以上10質量份以下。
具有芳香族基之單體，可舉例如於分子內具有一個(甲基)丙烯醯基與一個以上之芳香環(例如，苯環、萘環等)，並具有苯基、苯氧基乙基、或苄基之(甲基)丙烯酸酯。
(甲基)丙烯酸酯聚合物中之衍生自具有芳香族基之單體之構造單 位的含量，相對於(甲基)丙烯酸酯聚合物之總構造單位100質量份，較佳為50質量份以下、更佳為4質量份以上50質量份以下、又更佳為4質量份以上25質量份以下。
丙烯醯胺系單體，可舉例如N-(甲氧基甲基)丙烯醯胺、N-(乙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丙氧基甲基)丙烯醯胺、N-(丁氧基甲基)丙烯醯胺、N-(2-甲基丙氧基甲基)丙烯醯胺等。藉由含有此等構造單位，可抑制後述之抗靜電劑等之添加劑的滲出。
再者，衍生自構造單位(I)以外之其他單體的構造單位，可包含衍生自苯乙烯系單體之構造單位、衍生自乙烯系單體之構造單位、衍生自分子內具有複數之(甲基)丙烯醯基之單體的構造單位等。
(甲基)丙烯酸系樹脂(1)之重量平均分子量(以下，亦僅稱為「Mw」)，較佳為50萬至250萬。重量平均分子量若為50萬以上，則可提升於高溫、高濕環境下之黏著劑層的耐久性。重量平均分子量若為250萬以下，則可使含有黏著劑組成物之塗佈液於塗佈時之操作性為良好。以重量平均分子量(Mw)與數量平均分子量(以下，亦僅稱為「Mn」)之比所表示之分子量分布(Mw/Mn)，通常為2至10。本說明書中所謂「重量平均分子量」及「數量平均分子量」，係以凝膠滲透層析(GPC)法所測定之聚苯乙烯換算值。
(甲基)丙烯酸系樹脂(1)，當溶解於乙酸乙酯作成濃度20質量%之溶液時，25℃下之黏度較佳為20Pa．s以下、更佳為0.1至15Pa．s。(甲基)丙烯酸系樹脂(1)於25℃下之黏度若為上述範圍，則有助於再製性。上述黏度，可藉布氏黏度計(Brookfieid viscometer)進行測定。
由兼顧黏著性、及耐久性的觀點考量，(甲基)丙烯酸系樹脂(1)之 玻璃轉移溫度，較佳為-10℃至-60℃。又，玻璃轉移溫度可藉示差掃描熱析儀(DSC)進行測定。
(甲基)丙烯酸系樹脂(1)亦可含有兩種以上之(甲基)丙烯酸酯聚合物。如此之(甲基)丙烯酸酯聚合物，可舉例如以衍生自前述(甲基)丙烯酸酯之構造單位(I)作為主成分者，重量平均分子量為5萬至30萬之範圍之較低分子量的(甲基)丙烯酸酯聚合物。
(交聯劑(2))
形成黏著劑層之黏著劑組成物較佳為含有交聯劑(2)。交聯劑(2)，可舉例如慣用之交聯劑(例如，異氰酸酯化合物、環氧化合物、氮丙啶化合物、金屬螫合物、過氧化物等)，特別是由黏著劑組成物之適用期或交聯速度等之觀點考量，較佳為異氰酸酯系化合物。
異氰酸酯系化合物較佳為於分子內至少具有兩個異氰酸基(-NCO)之化合物，可舉例如脂肪族異氰酸酯系化合物(例如六亞甲基二異氰酸酯等)、脂環族異氰酸酯系化合物(例如異佛酮二異氰酸酯等)、加氫二甲苯二異氰酸酯、加氫二苯基甲烷二異氰酸酯、芳香族異氰酸酯系化合物(例如甲伸苯基二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、萘二異氰酸酯三苯基甲烷三異氰酸酯等)等。又，交聯劑(2)亦可為與上述異氰酸酯化合物之多元醇化合物所致之加成體(加成物)[例如，由甘油、三羥甲基丙烷等所致之加成體]、三聚異氰酸酯化物、雙脲型化合物、聚醚醇、聚酯多元醇、丙烯酸多元醇、聚丁二烯多元醇、聚異戊烯多元醇等進行加成反應之聚胺基甲酸乙脂預聚合物型之異氰酸酯化合物等之衍生物。交聯劑(2)可單獨、或組合兩種以上使用。此等之中，由耐久性的觀點考量，較佳為甲伸苯基二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、六亞甲基二 異氰酸酯及此等之多元醇化合物或此等之三聚異氰酸酯化合物。
交聯劑(2)之比例，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(1)100質量份，例如為0.01至10質量份、較佳為0.1至3質量份、更佳為0.1至1質量份。若為上述之上限值以下，則有利於耐久性的提升，若為上述之下限值以上，則可抑制氣體的產生，有利於再製性的提升。
(矽烷化合物(3))
黏著劑組成物含有矽烷化合物(3)。藉由含有矽烷化合物(3)，可提高黏著劑層、與所積層之層的密著性。亦可使用兩種以上之矽烷化合物(3)。
矽烷化合物(3)可舉例如乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基參(2-甲氧基乙氧基)矽烷、3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基乙氧基二甲基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基甲基二甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-巰基丙基三甲氧基矽烷等。
又，矽烷化合物(3)亦可包含衍生自上述矽烷化合物(3)之寡聚物。
黏著劑組成物中之矽烷化合物(3)的含量，相對於(甲基)丙烯酸系樹脂(1)100質量份，通常為0.01至10質量份、較佳為0.03至5質量份、更佳為0.05至2質量份、又更佳為0.1至1質量份。矽烷化合物(3)的含量若為0.01質量份以上，則容易提升黏著劑層、與光學膜或液晶層等之被黏著體的密著性。含量若為10質量份以下，則可抑制由黏著劑層之矽烷化合物(3)的滲出。
(其他成分(4))
形成黏著劑層之黏著劑組成物可含有單獨或兩種以上之下述之添加劑作為其他成分(4)，例如，使用離子性化合物等之抗靜電劑、溶劑、交聯觸媒、黏性賦予樹脂(增黏劑)、可塑劑、耐候安定劑、軟化劑、染料、顏料、無機填料、丙烯酸樹脂以外之樹脂等添加劑。
(活性能量線硬化形黏著劑)
於黏著劑組成物，調配多官能性丙烯酸酯等紫外線硬化性化合物，於形成黏著劑層後照射紫外線使其硬化，以作成更硬之黏著劑層亦為有用者，且可使用活性能量線硬化型黏著劑。「活性能量線硬化型黏著劑」，具有受到紫外線或電子束等能量線之照射而硬化的性質。由於即使活性能量線硬化型黏著劑於能量線照射前亦具有黏著性，故為具有可密著於光學膜或液晶層等之被黏著體，並可調整藉由能量線之照射而硬化之密著力之性質的黏著劑。
活性能量線硬化型黏著劑一般係含有丙烯酸系黏著劑、與活性能量線聚合性化合物作為主成分。通常更調配有交聯劑、或視需要可調配光聚合起始劑或光增敏劑等。
黏著劑層之儲存彈性模數於23℃下較佳為0.10至10.0MPa、更佳為0.15至5.0MPa。23℃下之儲存彈性模數若為0.1MPa以上，則可抑制產生溫度變化時之剝離等不良情形，故較佳。又，若為10.0MPa以下則不易產生因黏著力之降低所致之耐久性下降，故較佳。又，黏著劑層之儲存彈性模數，可藉由實施力所記載之方法進行測定。
黏著劑層之厚度較佳為3μm以上、更佳為5μm以上。又，黏著劑層之厚度較佳為40μm以下、更佳為30μm以下。又，上述之上限值及下限值，可任意組合。
(接著劑硬化層)
接著劑硬化層係指藉由使接著劑組成物中之硬化性成分硬化而形成的層。用以形成接著劑硬化層之接著性組成物，係感壓性接著劑(黏著劑)以外的接著劑，可舉例如水系接著劑、活性能量線硬化性接著劑。水系接著劑可舉例如將聚乙烯醇系樹脂溶解、或分散於水的接著劑。活性能量線硬化性接著劑可舉例如含有藉由紫外線、可見光、電子束、X射線等活性能量線之照射而硬化的硬化性化合物之無溶劑型的活性能量線硬化性接著劑。藉由使用無溶劑型的活性能量線硬化性接著劑，可提升層間的密著性。相對於此，若於活性能量線硬化性接著劑含有溶劑(特別是有機溶劑)，則即使接著劑中所含之硬化性成分相同，亦無法得到充分的密著性，當將光學積層體裁切成既定的尺寸時，於其端部容易產生剝離等之不良情形。又，由於需追加使溶劑乾燥的步驟，因熱而施加了追加的收縮應力，而有使光學積層體容易產生反捲之虞。
當使用含有藉由活性能量線之照射而硬化之硬化性化合物之無溶劑型的活性能量線硬化性接著劑時，對顯示硬化後之活性能量線硬化性接著劑之硬度的指標之儲存彈性模數乘以厚度的剛性，大部分皆高於硬化後之水系接著劑的剛性。為了提高第一液晶層與第二液晶層之間所設置之接著劑硬化層的剛性，較佳為使用無溶劑型的活性能量線硬化性接著劑。
由於顯示良好的接著性，活性能量線硬化性接著劑較佳為含有陽離子聚合物之硬化性化合物、自由基聚合性之硬化性化合物之任一者或兩者。活性能量線硬化性接著劑，可進一步含有使上述硬化性化合物之硬化反應開始的陽離子聚合起始劑、或自由基聚合起始劑。
陽離子聚合性之硬化性化合物，可舉例如環氧系化合物(於分子內 具有1個或2個以上之環氧基的化合物)、或氧環丁烷系化合物(於分子內具有1個或2個以上之氧環丁烷的化合物)、或此等之組合。
自由基聚合性之硬化性化合物，可舉例如(甲基)丙烯酸系化合物(於分子內具有1個或2個以上之(甲基)丙烯醯氧基之化合物)、自由基聚合性之具有雙鍵之其他乙烯系化合物、或此等之組合。
活性能量線硬化性接著劑，可視需要含有增敏劑。藉由使用增敏劑，可提升反應性、進一步提升接著層之機械強度及接著強度。增敏劑，可適當使用周知者。當調配增敏劑時，其調配量，相對於活性能量線硬化性接著劑之總量100質量份，較佳為0.1至20質量份的範圍。
活性能量線硬化性接著劑，視需要，可含有離子陷阱劑、抗氧化劑、鏈轉移劑、增黏劑、熱可塑性樹脂、充填劑、流動調整劑、可塑劑、消泡劑、抗靜電劑、整平劑、溶劑等之添加劑。
亦可藉由將接著劑組成物塗佈於附基材層之第一液晶層或附基材層之第二液晶層的接合面，以形成接著劑組成物層。塗佈方法，可採用使用模口塗佈器、逗號式塗佈器、逆輥塗佈器、凹版印刷塗佈器、棒式塗佈器、線棒式塗佈器、刮刀塗佈器、氣刀式塗佈器等之一般的塗佈技術。
關於使用水系接著劑時之乾燥方法，並無特別限定，例如，可採用熱風乾燥機或紅外線乾燥機的乾燥方法。
當使用活性能量線硬化性接著劑時，照射紫外線、可見光、電子束、X射線等活性能量線，可使接著劑組成物層硬化而形成接著劑硬化層。活性能量線，較佳為紫外線，於該情況下之光源，可使用低壓水銀燈、中壓水銀燈、高壓水銀燈、超高壓水銀燈、化學燈、黑光燈、微波激發水銀燈、金屬鹵素燈等。
在藉由紫外線照射使接著劑組成物層硬化之情況下，紫外線之光照射強度，係依接著劑組成物之組成所決定者，並無特別限定，而以10至1000mW/cm2為佳、更佳為100至600mW/cm2。對樹脂組成物之光照射強度若未達10mW/cm2，則反應時間變得過長，而若超過1000mW/cm2，則由於從光源輻射的熱及接著劑組成物之聚合時的發熱，所得之接著劑硬化層會有產生黃變的可能性。又，亦有藉由從光源輻射的熱而產生更大收縮應力的可能性。照射強度，係對聚合起始劑、較佳為光陽離子聚合起始劑之活性化有效之波長區域中的強度，更佳為於波長400nm以下之波長區域中的強度，再更佳為於波長280至320nm之波長區域中的強度。較佳為設定為，以如此之光照射強度照射一次或複數次，使其累積光量為10mJ/cm2、較佳為100至1000mJ/cm2、更佳為200至600mJ/cm2。對接著劑組成物之累積光量若未達10mJ/cm2，則衍生自聚合起始劑之活性物種的產生不足，使接著劑組成物層的硬化會不充分。累積光量若超過1000mJ/cm2，則照射時間變得非常長，而不利於提升生產性。又，有藉由從光源輻射的熱而產生更大收縮應力的可能性。藉由第一基材層、第二基材層、第一液晶層、第二液晶層等之種類、或接著劑組成物中之成分的組合等，光照射時之波長(UVA(320至390nm)或UVB(280至320nm))不同，依據光照射時之波長所需要之累積光量亦產生變化。
活性能量線硬化性接著劑之黏度，只要選定為能以任意之塗佈方法進行塗佈即可，而於溫度25℃下之黏度，以於10至1000mPa．sec的範圍為佳、更佳為20至500mPa．sec之範圍。黏度若過小，則有難以形成所欲之厚度之接著劑硬化層的傾向。另一方面，黏度若過大，則於塗佈時有活性能量線硬化性接著劑有變得難以流動、不易得到無偏差之均質塗膜的傾向。此處所謂之黏度，係使 用E型黏度計，將其接著劑調溫至25℃後，以10rps所測定的值。
(附剝離層之黏著劑層)
附剝離層之黏著劑層(包含使用黏著劑層作為第二接著層之附剝離層之第二接著層)，例如，可於剝離層之脫模處理面上，塗佈黏著劑組成物並使其乾燥等以形成黏著劑層而製得。附剝離層之黏著劑層，視需要，亦可具有用以被覆保護黏著劑層之與剝離層側相反側之表面的其他剝離層。剝離層及其他剝離層，可於適當的時機剝離。
(剝離層)
第一剝離層及第二剝離層(以下，亦將此等統稱為「剝離層」)，可從黏著劑層剝離，並具有支持形成於剝離層上之黏著劑層，以保護黏著劑層的功能。剝離層，可使用周知之剝離膜或剝離紙，惟亦可為例如，於以後述作為基材層所例示之樹脂材料所形成的膜，施以聚矽氧塗佈等之脫模處理者。關於其他剝離層，亦可使用與剝離層相同的材料。
剝離層，可從黏著劑層剝離，剝離層與黏著劑層之間之剝離力的大小，必須考量剝離剝離層的順序來決定。上述剝離力，係準備於剝離層上具有黏著劑層之測定用試驗片(長度200mm、寬度25mm之大小)，貼合於適當大小的玻璃，使用島津製作所製高壓蒸煮釜(AGS-50NX)，以形成剝離起始點的方式將局部被剝離之剝離層與玻璃分別夾持，以300mm/分的速度朝180°的方向將剝離層剝離時所測定之剝離強度可視為剝離力。剝離層與黏著劑層之間的剝離力，較佳為0.01至0.20N/25mm、更佳為0.02至0.10N/25mm、又更佳為0.02至0.06N/25mm。若低於0.01N/25mm，則於搬運途中剝離層與黏著劑層之間會有產生浮起之虞。又，若超過0.20N/25mm，則剝離層與黏著劑層之密著性高，會使 剝離層難以由黏著劑層剝離，故若將剝離層剝離則黏著劑層會破裂，使剝離之剝離層會成附著有一部分之黏著劑層的狀態，而使不欲使其剝離之層之間有產生剝離(例如，在黏著劑層之與剝離層相反之側接合之層、與黏著劑層之間的剝離)之虞。
(液晶層)
第一液晶層及第二液晶層(以下，亦將兩者統稱為「液晶層」)，係藉由使聚合性液晶化合物聚合所形成的硬化層，亦可為相位差層。液晶層之光學特性，可藉由聚合性液晶化合物之配向狀態來調整。
於本說明書，將聚合性液晶化合物之光軸相對於基材層平面配向成水平者，定義為水平配向，將聚合性液晶化合物之光軸相對於基材層平面配向成垂直者，定義為垂直配向。所謂光軸，係指藉由聚合性液晶化合物之配向所形成之折射率橢圓體中，以與光軸正交之方向切出之截面為成圓形的方向、亦即兩方向之折射率為相等的方向。
聚合性液晶化合物，可舉例如棒狀之聚合性液晶化合物、或圓盤狀之聚合性液晶化合物。當棒狀之聚合性液晶化合物，相對於基材層為水平配向或垂直配向時，該聚合性液晶化合物之光軸，係與該聚合性液晶化合物之長軸方向一致。當圓盤狀之聚合性液晶化合物為經配向時，該聚合性液晶化合物之光軸，係存在於該聚合性液晶化合物之與圓盤面正交的方向。
為了使藉由聚合聚合性液晶化合物所形成之液經層展現面內相位差，可使聚合性液晶化合物配向於適當的方向。在聚合性液晶化合物為棒狀之情況下，藉由使該聚合性液晶化合物之光軸配向於相對於基材層平面的水平而展現面內相位差，此時，光軸方向與慢軸方向一致。在聚合性液晶化合物為圓盤 狀之情況下，藉由使該聚合性液晶化合物之光軸配向於相對於基材層平面的水平而展現面內相位差，此時，光軸與慢軸正交。聚合性液晶化合物的配向狀態，可藉由配向膜與聚合性液晶化合物的組合來調整。
聚合性液晶化合物係具有聚合性基、且具有液晶性的化合物。所謂聚合性基，係指關於聚合反應的基，較佳為光聚合性基。此處，所謂光聚合性基，係指藉由從後述之光聚合起始劑所產生之活性自由基、或酸等，而可參與聚合反應的基。聚合性基可舉例如乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、異丙烯基、4-乙烯苯基、丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、環氧乙烷基、氧雜環丁烷基等。其中，較佳為丙烯醯氧基、甲基丙烯醯氧基、乙烯氧基、環氧乙烷基及氧雜環丁烷基，更佳為丙烯醯氧基。聚合性液晶化合物所具有之液晶性，可為熱致性液晶、亦可為熔致性液晶，若將熱致性液晶按順序分類，則可為向列型液晶、亦可為層列型液晶。
棒狀之聚合性液晶化合物、或圓盤狀之聚合性液晶化合物，可使用周知者，可使用日本特開2015-163937號、日本特開2016-42185號公報、國際公開第2016/158940號、日本特開2016-224128號公報所例示者。
液晶層可為一層構造、亦可為兩層以上之多層構造。當具有兩層以上之多層構造時，於準備後述之附基材層之液晶層時，於基材層上形成兩層以上之多層構造的液晶層即可。當液晶層為一層構造時，液晶層之厚度較佳為0.3μm以上、亦可為1μm以上，通常為10μm以下、亦可為5μm以下、更佳為3μm以下。當液晶層為兩層以上之多層構造時，液晶層之厚度較佳為0.5μm以上、亦可為1μm以上，通常為10μm以下、亦可為5μm以下、更佳為3μm以下。由有助於偏光板整體的薄型化、有效抑制產生反捲的觀點考量，液晶層之 厚度較佳為5μm以下、更佳為3μm以下。
(附基材層之液晶層)
附基材層之第一液晶層及附基材層之第二液晶層(以下，亦將兩者統稱為「附基材層之液晶層」)，可藉由下述方式製得，於基材層上，塗佈含有聚合性液晶化合物之液晶層形成用組成物並使其乾燥，形成液晶層，該液晶層係藉由使聚合性液晶化合物聚合所形成的硬化層。液晶層形成用組成物，當於基材層上形成有後述之配向層時，只要塗佈於配向層上即可，當液晶層為兩層以上之多層構造時，可藉由依序塗佈液晶層形成用組成物等形成多層構造。
液晶層形成用組成物，除聚合性液晶化合物之外，通常含有溶劑。液晶層形成用組成物，亦可進一步含有聚合起始劑、反應性添加劑、聚合禁止劑等。關於溶劑、聚合起始劑、反應性添加劑、聚合禁止劑等，可使用於日本特開2015-163937號、日本特開2016-42185號公報、國際公開第2016/158940號、日本特開2016-224128號公報所例示者。
液晶層形成用組成物之塗佈，可藉由旋塗法、擠壓法、凹版塗佈法、模口塗佈法、狹縫塗佈法、棒塗法、灑布法等之塗佈法、柔版印刷等印刷法等周知之方法進行。於進行液晶層形成用組成物之塗佈後，較佳為，以不會使塗佈層中所含之聚合性液晶化合物聚合的條件除去溶劑。乾燥方法，可舉例如自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥、減壓乾燥法等。
塗佈層之乾燥後所進行之聚合性液晶化合物的聚合，可藉由使具有聚合性官能基之化合物聚合的周知方法進行。聚合方法，可舉例如熱聚合或光聚合等，由聚合之容易度的觀點考量，以光聚合為佳。藉由光聚合使聚合性液晶化合物聚合時，較佳為，使用含有光聚合起始劑者作為液晶層形成用組成物，塗 佈該液晶層形成用組成物並使其乾燥，使乾燥後之乾燥被膜中所含之聚合性液晶化合物液晶配向，於維持於該液晶配向狀態下進行光聚合。
光聚合可藉由對乾燥被膜中之經液晶配向的聚合性液晶化合物照射活性能量線來進行。所照射之活性能量線，可視聚合性液晶化合物所具有之聚合性基的種類及其量、光聚合起始劑之種類等加以適當選擇，可舉例如選自由可見光、紫外線、雷射光、X射線、α射線、β射線及γ射線所構成群中之一種以上之活性能量線。其中，由容易控制聚合反應之進行、可使用於該領域中廣泛使用者作為光聚合裝置的觀點考量，較佳為紫外線，較佳為，以能藉由紫外線而光聚合的方式，選擇聚合性液晶化合物或光聚合起始劑的種類。於光聚合時，可藉由適當的冷卻手段冷卻乾燥被膜的同時，藉由照射活性能量線控制聚合溫度。
(基材層)
第一基材層及第二基材層(以下，亦將兩者統稱為「基材層)，具有作為支持該等基材層上所形成之後述之第一配向層及第二配向層、以及第一液晶層及第二液晶層之支持層的功能。基材層較佳為以樹脂材料所形成的薄膜。
樹脂材料例如可使用透明性、機械強度、熱穩定性、拉伸性等優異的樹脂材料。具體而言，可舉例如聚乙烯、聚丙烯等聚烯烴系樹脂；降莰烯系聚合物等環狀聚烯烴系樹脂；聚對酞酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯樹脂；(甲基)丙烯酸、聚(甲基)丙烯酸甲酯等(甲基)丙烯酸系樹脂；三乙酸纖維素、二乙酸纖維素、醋酸丙酸纖維素等纖維素酯系樹脂；聚乙烯醇、聚乙酸乙烯酯等乙烯醇系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；聚苯乙烯系樹脂；聚芳酯系樹脂；聚碸系樹脂；聚醚碸系樹脂；聚醯胺系樹脂；聚醯亞胺系樹脂；聚醚醛系樹脂；聚苯硫醚系樹脂；聚伸苯醚系樹脂、及此等之混合物、共聚物等。該等樹脂之中，較佳為使用環狀 聚烯烴系樹脂、纖維素酯系樹脂及(甲基)丙烯酸系樹脂之任一者或此等的混合物。
基材層可為一種樹脂或混合兩種以上之單層、亦可具有兩層以上之多層構造。當具有多層構造時，構成各層之樹脂可為相同或相異，亦可為如硬塗層之塗佈、硬化物層。
以樹脂材料所形成之構成膜的樹脂材料，亦可添加任意的添加劑。添加劑，可舉例如紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、可塑劑、脫模劑、抗著色劑、難燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、及著色劑等。
第一基材層及第二基材層之厚度並無特別限定，由一般之強度及操作性等之作業性的觀點考量，較佳為1至300μm、更佳為10至200μm、又更佳為30至120μm。
當附基材層之第一液晶層具有後述之第一配向層時、或附基材層之第二液晶層具有後述之第二配向層時，為了提升第一液晶層與第一配向層之密著性、及第二液晶層與第二配向層之密著性，可至少於第一基材層之形成有第一配向層側之表面、及至少於第二基材層之形成有第二配向層側之表面，進行電暈處理、電漿處理、火焰處理等，以形成底漆層。
基材層係可從液晶層或後述之配向層(第一配向層或第二配向層)剝離，基材層與液晶層或與配向層之間之剝離力的大小，必須考量剝離基材層的順序來決定。剝離力除了使用於基材層上具有液晶層的測定用試驗片、或於基材層上具有配向層及液晶層的測定用試驗片以外，亦可與測定剝離層與黏著劑層之間之剝離力之方法同樣地進行測定。基材層與液晶層或配向層之間的剝離力，較佳為0.01至0.50N/25mm、更佳為0.03至0.20N/25mm、再更佳為0.05至 0.18N/25mm。剝離力若低於上述之下限值，則於搬運途中基材層與液晶層或配向層之間會有產生浮起之虞。又，剝離力若超過上述之上限值，則由於密著性過高，會無法將液晶層、或液晶層及配向層轉印至其他的液晶層或光學膜等，於製造光學積層體之步驟中，於搬運各構件途中剝離界面會有改變等之虞。
第一基材層與第一液晶層或與後述之第一配向層之間的剝離力(以下，亦稱為「第一剝離力」)、與第二基材層與第二液晶層或與後述之第二配向層之間的剝離力(以下，亦稱為「第二剝離力」)的差，較佳為0.01N/25mm以上、更佳為0.03N/25mm以上。先由附基材層之液晶層積層體剝離第一基材層時，較佳為第二剝離力較第一剝離力為大。
(配向層)
附基材層之第一液晶層，亦可於第一基材層與第一液晶層之間含有第一配向層。又，附基材層之第二液晶層，亦可於第二基材層與第二液晶層之間含有第二配向層。
第一配向層及第二配向層具有使形成於該等配向層上之第一液晶層及第二液晶層所含之液晶化合物，朝所欲方向液晶配向的配向控制力。第一配向層及第二配向層可舉例如以配向性聚合物所形成之配向性聚合物層、以光配向聚合物所形成之光配向聚合物層、於層表面具有凹凸圖型或複數之槽(溝)之槽配向層，第一配向層與第二配向層，可為相同種類的層、亦可為不同種類的層。第一配向層及第二配向層之厚度，通常為10至4000nm、較佳為50至3000nm。
可將配向性聚合物溶解於溶劑之組成物塗佈於基材層(第一基材層或第二基材層)並除去溶劑，視需要進行摩擦處理而形成配向性聚合物層。於該情況下，於以配向性聚合物所形成之配向性聚合物層，可藉由配向性聚合物之 表面狀態或摩擦條件而任意地進行調整配向控制力。
可將含有具有光反應性基之聚合物或單體與溶劑的組成物，塗佈於基材層(第一基材層或第二基材層)，藉由照射紫外線等光而形成光配向性聚合物層。特別是，欲於水平方向展現配向控制力時等，可藉由照射偏光而形成。於該情況下，於光配向性聚合物層，可藉由對光配向性聚合物之偏光照射條件而任意地進行調整配向控制力。
槽配向層可藉由例如下述方法形成：於感光性聚醯亞胺膜表面，經介具有圖型形狀之狹縫之曝光用光罩進行曝光、顯影等以形成凹凸圖型的方法；於表面具有溝之板狀主板，形成活性能量線硬化性樹脂之未硬化的層，將該層轉印至基材層(第一基材層或第二基材層)使其硬化的方法；於基材層(第一基材層或第二基材層)形成活性能量線硬化性樹脂之未硬化的層，於該層，擠壓具有凹凸之輥狀主板等以形成凹凸並使其硬化的方法等。
當附基材層之第一液晶層含有第一配向層時，於剝離第一基材層時，可與第一基材層同時剝離第一配向層，亦可於第一液晶層上殘留第一配向層。當附基材層之第二液晶層含有第二配向層時，於剝離第二基材層時，可與第二基材層同時剝離第二配向層，亦可於第二液晶層上殘留第二配向層。又，第一配向層是要與第一基材層同時剝離、或是殘留於第一液晶層，可藉由調整各層間之密著力之關係來進行設定，例如，可藉由對第一基材層形之上述電暈處理、電漿處理、火焰處理、底漆層處理等表面處理、或用以形成第一液晶層所使用之液晶層形成用組成物之成分來調整。同樣地，藉由對第二配向層所進行的表面處理，第二配向層可與第一基材層同時剝離、亦可殘留於第二液晶層。
當於第一液晶層上殘留有第一配向層時，可將第一黏著層設置於 第一配向層上。又，當於第二液晶層上殘留有第二配向層時，可將第二黏著層設置於第二配向層上。
(圓偏光板)
本實施形態之光學積層體可作為圓偏光板使用。當將第6圖(b)所示之附黏著劑層之光學積層體73作為圓偏光板使用時，可將光學膜60作為偏光片、偏光板、或附保護膜之偏光板，將第一液晶層12作為1/2波長相位差層，將第二液晶層22作為1/4波長相位差層。或者，與上述同樣地，將光學膜60作為偏光片、偏光板、或附保護膜之偏光板後，將第一液晶層12作為逆波長分散性之1/4波長相位差層，將第二液晶層22作為正C板，藉此亦可得圓偏光板。
[實施例]
以下，揭示實施例及比較例並以更具體地說明本發明，但本發明並不限定於此等之例。實施例、比較例中之「%」、及「份」，除特別說明之外，為質量%及質量份。
[附兩面間隔膜之黏著劑層的準備]
以如下之方法製造黏著劑。於具備了攪拌機、溫度計、回流冷卻器、滴下裝置及氮導入管的反應容器，饋入丙烯酸正丁酯97.0份、丙烯酸1.0份、丙烯酸2-羥基乙酯0.5份、乙酸乙酯200份、及2,2’-偶氮雙異丁腈0.08份，將上述反應容器內之氣體置換為氮氣。於氮環境氣氛下一邊進行攪拌，一邊使反應溶液升溫至60℃，反應6小時後，冷卻至室溫。測定所得溶液之一部分之重量平均分子量的結果，確認製得180萬之(甲基)丙烯酸酯聚合物。
將上述所得之(甲基)丙烯酸酯聚合物100份(固形份換算值；以下相同)，與異氰酸酯系交聯劑之三羥甲基丙烷改質甲苯二異氰酸酯(東索股份有限 公司製，商品名「CoronateL」)0.30份、與矽烷耦合劑之3-環氧丙氧基丙基三甲氧矽烷(信越工業股份有限公司製，商品名「KBM403」)0.30份混合，充分攪拌，並以乙酸乙酯稀釋，藉此製得黏著劑組成物之塗佈溶液。
於成為剝離層之第一間隔膜(Lintec股份有限公司製：SP-PLR382190)之脫模處理面(剝離面)，以灑布器塗佈上述黏著劑組成物之塗佈溶液後，以100℃乾燥1分鐘以形成黏著層，於與貼合有黏著劑層之間隔膜面的相反面，貼合另一片之第二間隔膜(Lintec股份有限公司製：SP-PLR381031)，而得附兩面間隔膜之黏著劑層。
[接著劑組成物之準備]
混合下述所示之陽離子硬化性成分a1至a3及陽離子聚合起始劑後，再混合下述所示之陽離子聚合起始劑及增敏劑後，進行脫泡，以調製成光硬化形之接著劑組成物。又，下述之調配量係根據固形份量。
．陽離子硬化性成分a1(70份)：
3’,4’-環氧基環己基甲基3’,4’-環氧基環己烷羧酸酯(商品名：CEL2021P，股份有限公司Daicel製)
．陽離子硬化性成分a2(20份)：
新戊二醇二環氧丙醚(商品名：EX-211，Nagase ChemteX股份有限公司製)
．陽離子硬化性成分a3(10份)：
2-乙基己基環氧丙醚(商品名：EX-121，Nagase ChemteX股份有限公司製)
．陽離子聚合起始劑(2.25份(固形份量))：
商品名：CPI-100(San-Apro股份有限公司製)之50%碳酸伸丙酯溶液
．增敏劑(2份)：
1,4-二乙氧基萘
[附基材層之第一液晶層及附基材層之第二液晶層的準備]
(光配向層形成用組成物(1)之調製)
混合下述之成分，將所得之混合物於溫度80℃下攪拌1小時，藉此製得光配向層形成用組成物(1)。
．光配向性材料(5份)：
Figure 108134037-A0202-12-0046-2
．溶劑(95份)：環戊酮
(配向層形成用組成物(2)之調製)
於市售之配向性聚合物之SuneverSE-610(日產化學工業股份有限公司製)，加入2-丁氧基乙醇而得配向層形成用組成物(2)。所得之配向層形成用組成物(2)，相對於該組成物總量之固形份的含有比例為1%，相對於該組成物總量之溶劑的含有比例為99%。SuneverSE-610之固形份量，係由商品規格書所記載之濃度換算者。
(液晶層形成用組成物(A-1)之調製)
混合下述之成分，將所得之混合物於溫度80℃下攪拌1小時，藉此製得液晶層形成用組成物(A-1)。聚合性液晶化合物A1及聚合性液晶化合物A2，係以日本特開2010-31223號公報所記載之方法合成。
．聚合性液晶化合物A1(80份)：
Figure 108134037-A0202-12-0047-3
．聚合性液晶化合物A2(20份)：
Figure 108134037-A0202-12-0047-4
．聚合起始劑(6份)：
2-二甲基胺基-2-苄基-1-(4-
Figure 108134037-A0202-12-0047-14
啉基苯基)丁烷-4-酮(Irgacure369：汽巴特殊化藥公司製)
．溶劑(400份)：環戊酮
(液晶層形成用組成物(B-1)之調製)
混合下述之成分，將所得之混合物於溫度80℃下攪拌1小時，藉此製得液晶層形成用組成物(B-1)。
．聚合性液晶化合物LC242(BASF公司製)(19.2%)：
Figure 108134037-A0202-12-0047-5
．聚合起始劑(0.5%)：
Irgacure(註冊商標)907(BASF日本公司製)
．反應添加劑(1.1%)：
Laromer(註冊商標)LR-9000(BASF日本公司製)
．溶劑(79.1%)：丙二醇1-一甲基醚2-乙酸酯
(附基材層之第一液晶層(i)之製造)
將厚度100μm之聚對酞酸乙二酯(PET)膜(第一基材層)，使用電暈處理裝置(AGF-B10，春日電機股份有限公司製)，以輸出0.3kW、處理速度3m/分的條件進行處理一次。於施以電暈處理的表面，以棒塗佈器塗佈光配向層形成用組成物(1)，以80℃乾燥1分鐘，使用偏光UV照射裝置(SPOT CURE SP-7；Ushio電機股份有限公司製)，以100mJ/cm2之累積光量實施偏光UV曝光，而得光配向層。以雷射顯微鏡(LEXT，Olympus股份有限公司製)測定所得之光配向層之厚度的結果為100nm。
接著，使用棒塗佈器塗佈液晶層形成用組成物(A-1)於光配向層上，以120℃乾燥1分鐘後，使用高壓水銀燈(UnicureVB-15201BY-A，Ushio電機股份有限公司製)，照測紫外線(氮環境氣氛下，波長：365nm，波長365nm之照射強度：10mW/cm2，累積光量：1000mJ/cm2)，藉此形成作為相位差層之第一液晶層，而得附基材層之第一液晶層(i)(第1圖(a))。第一液晶層之厚度為2μm。
(附基材層之第一液晶層(ii)之製造)
除了使用高壓水銀燈之紫外線照射之照射強度為50mW/cm2之外，與附基材層之第一液晶層(i)之製造，以同樣的順序製得附基材層之第一液晶層(ii)(第1圖(a))。第一液晶層之厚度為2μm。
(附基材層之第一液晶層(iii)之製造)
除了使用高壓水銀燈之紫外線照射之照射強度為400mW/cm2之外，與附基材層之第一液晶層(i)之製造，以同樣的順序製得附基材層之第一液晶層(iii)(第1圖(a))。第一液晶層之厚度為2μm。
(附基材層之第二液晶層之製造)
將厚度38μm之聚對酞酸乙二酯(PET)膜(第二基材層)，使用電暈處理裝置(AGF-B10，春日電機股份有限公司製)，以輸出0.3kW、處理速度3m/分的條件進行處理一次。於施以電暈處理的表面，以棒塗佈器塗佈配向層形成用組成物(2)，以90℃乾燥1分鐘，而得配向層。以雷射顯微鏡(LEXT，Olympus股份有限公司製)測定所得之配向層之厚度的結果為34nm。
接著，使用棒塗佈器塗佈液晶層形成用組成物(B-1)於配向層上，以90℃乾燥1分鐘後，使用高壓水銀燈(UnicureVB-15201BY-A，Ushio電機股份有限公司製)，照測紫外線(氮環境氣氛下，波長：365nm，波長365nm之累積光量：1000mJ/cm2)，藉此形成作為相位差層之第二液晶層，而得附基材層之第二液晶層(第1圖(b))。第二液晶層之厚度為1μm。
[附間隔膜之光學膜的準備]
於與MD方向長度380mm×TD方向長度180mm之附保護膜之環狀聚烯烴膜(厚度23μm，ZF-14，日本Zeon股份有限公司製)(以下，亦稱為「附保護膜之COP」)之保護膜側的相反側之環狀聚烯烴膜面，進行電暈處理(800W，10m/min，棒寬度700mm，1Pass)。將附保護膜之COP的電暈處理面、與由上述所準備之附兩面間隔膜之黏著劑層剝離第一間隔膜而露出之露出面，使用自動貼合裝置HALTEC(三共股份有限公司)貼合，而製得附間隔膜之光學膜。
[光學積層體之TD捲曲之測定]
將各實施例及各比較例所得之附基材層之光學積層體，放置於溫度23℃、相對濕度55%的環境下24小時後，由裁切成長邊長度150mm、短邊長度50mm之長方形之裁切片，剝離保護膜、與厚度38μm之聚對酞酸乙二酯(第二基材層)作成試驗片。裁切片，係以使其長邊與附基材層之光學積層體的TD方向(附基材層之第二液晶層及附基材層之第一液晶層的TD方向)呈45度之角度的方式裁切。
使該試驗片充分地除去靜電之後，以試驗片之凹面朝上放置於基準面(水平平台)上，在試驗片之對角線中，分別針對其延長方向與上述TD方向之平行方向相對上較近之對角線上的兩個角，測定由基準面起之高度。測定值，若以剝離保護膜所露出之環狀聚烯烴膜(以下，亦稱為「COP膜」)側為上側的方式將試驗片放置於基準面，則當試驗片之上述兩個角有浮起時，將該捲曲視為正捲，由基準面起之角的高度以正的數值表示。另一方面，若以使COP膜側為下側的方式將試驗片放置於基準面，則當試驗片之上述兩個角有浮起時，將該捲曲視為反捲，由基準面起之角的高度以負的數值表示。針對上述兩個角所測定之數值的平均值，視為光學積層體的TD捲曲值。
又，由於針對由具隔離膜之光學膜剝離保護膜及間隔膜的附黏著劑層之光學膜，係與上述以同樣步驟測定時之TD捲曲值為0，因此光學積層體之TD捲曲值，可推測為與具有第一液晶層/第一接著層/第二液晶層之層構造的積層體之TD捲曲值相同。
[第一液晶層及第二液晶層之TD捲曲的測定]
(測定用輔助膜之TD捲曲的測定)
將上述附間隔膜之光學膜作為附間隔膜之測定用輔助膜使用。將附間隔膜之測定用輔助膜，放置於溫度23℃、相對濕度55%的環境下24小時後，由裁切成長邊長度150mm、短邊長度50mm之長方形之裁切片，剝離保護膜與第二間隔膜，作成測定用輔助膜之試驗片。該裁切片係以與後述之第一液晶層及第二液晶層之TD捲曲之測定時之裁切片的裁切方向相同的方式裁切。
使該測定用輔助膜之試驗片充分地除去靜電之後，以與上述同樣的步驟，在該試驗片之對角線中，測定由其延長方向與TD方向(與後述之第一液晶層及第二液晶層之TD捲曲之測定時之TD方向相同)之平行方向相對上較近之對角線上的兩個角的基準面起之高度，將其平均值作為測定用輔助膜之TD捲曲值。測定用輔助膜之TD捲曲值為0.0mm。
(第一液晶層及第二液晶層之TD捲曲之測定)
將上述附間隔膜之光學膜作為附間隔膜之測定用輔助膜使用。將由該附間隔膜之測定用輔助膜剝離第二間隔膜所露出之黏著劑層、與上述所得之附基材層之第一液晶層的第一液晶層，使用自動貼合裝置HALTEC貼合，而製得具測定用輔助膜之第一液晶層。將該具測定用輔助膜之第一液晶層，放置於溫度23℃、相對濕度55%的環境下24小時後，由裁切成長邊長度150mm、短邊長度50mm之長方形之裁切片，剝離保護膜與聚對酞酸乙二酯膜(第一基材層)，而得作為試驗片的積層體(a)(層構造，為環狀聚烯烴膜/黏著劑層/第一液晶層)。該裁切片係以使其長邊與附基材層之第一液晶層的TD方向呈45度之角度的方式裁切。
使所得之積層體(a)充分地除去靜電之後，以與上述同樣的步驟，在該積層體(a)之對角線中，測定由與上述TD方向之平行方向相對上較近之對 角線上的兩個角的基準面起之高度，將其平均值作為積層體(a)之TD捲曲值。計算出積層體(a)之TD捲曲值、與上述所得之測定用輔助膜之TD捲曲值的差，作為第一液晶層的捲曲值。將各附基材層之第一液晶層的第一液晶層之捲曲值示於表1。表1中之「筒狀」，係指由於積層體(a)捲曲成筒狀的狀態，故評估為第一液晶層之捲曲值超過20mm。
又，除了使用附基材層之第二液晶層取代附基材層之第一液晶層以外，與上述同樣地製得積層體(b)(層構造，為COP膜/黏著劑層/第二液晶層)。除了使用積層體(b)取代上述之積層體(a)以外，與上述同樣地計算出第二液晶層之捲曲值。將附基材層之第二液晶層的第二液晶層之捲曲值示於表1。
[儲存彈性模數E的測定]
使用活性能量線硬化性接著劑作為第一接著層時之溫度30℃中的儲存彈性模數E[Pa]，係以如下步驟算出。於厚度50μm之環狀聚烯烴樹脂膜之單面，使用塗佈機[棒塗佈器，第一理化(股)製]，塗佈活性能量線硬化性接著劑，於該塗佈面再積層厚度50μm之環狀聚烯烴樹脂膜。接著，藉由FUSION UV SYSTEMS公司製之「D燈」，以使累積光量為1500mJ/cm2(UVB)的方式照射紫外線，使接著劑組成物層硬化。將其裁切為5mm×30mm的大小，將其一之環狀烯烴系樹脂膜剝除，而得附樹脂膜之接著劑硬化層。將該附樹脂膜之接著劑硬化層以使其長邊為拉伸方向的方式，使用IT計測控制(股)製之動態黏彈性測定裝置「DVA-220」以夾具之間隔2cm握持，將拉伸與收縮之頻率設定為10Hz、將升溫速度設定為10℃/分，進行升溫，求得溫度30℃中之儲存彈性模數E。
[厚度t之測定]
第一接著層(用以接著第一液晶層與第二液晶層之接著層)的厚度t，係使用接觸式膜厚計(DigimicroheadMH-15M，股份有限公司Nikon製)以如下方式進行。首先，使用上述接觸式膜厚計，分別測定附基材層之第一液晶層及附基材層之第二液晶層的各膜厚。接著，針對將測定膜厚後之附基材層之第一液晶層與附基材層之第二液晶層貼合所得的附兩面基材層之液晶層積層體，於與測定附基材層之第一液晶層及附基材層之第二液晶層之膜厚之位置相同的位置測定膜厚。由所測定之附兩面基材層之液晶層積層體之膜厚、與附基材層之第一液晶層及附基材層之第二液晶層之合計膜厚的差，計算出第一接著層的厚度t。
[實施例1]
對上述所準備之附基材層之第二液晶層(MD方向長度380mm×TD長度方向180mm)之第二液晶層側之表面，施以電暈處理(800W，10m/min，棒寬度700mm，1Pass)。將上述所準備之接著劑組成物，使用塗佈機(第一理化(股)製之棒塗佈機)，形成接著劑組成物層，而製得附組成物層之第二液晶層(第1圖(c))。接著，於上述所準備之附基材層之第一液晶層(i)(MD方向長度380mm×TD長度方向180mm)之第一液晶層側之表面，以同樣之條件施以電暈處理，將該電暈處理面、與附組成物層之第二液晶層的接著劑組成物層，使用貼付裝置(FUJIPLA(股)製之“LPA3301”)貼合後(第1圖(d))，由附基材層之第二液晶層的第二液晶層側，藉由附帶式輸送機之紫外線照射裝置(燈係使用FUSION UV SYSTEMS公司製之“H燈”)，以使UVA區域之照射強度為390mW/cm2、累積光量為420mJ/cm2的方式，UVB區域之照射強度為400mW/cm2、累積光量為400mJ/cm2的方式，照射紫外線以使接著劑組成物硬化，而得附兩面基材層之液晶層積層體(參照第2圖(a))。測定上述接著劑組成物層硬化後之接著劑硬化層之第一接著層之儲存彈 性模數E及厚度t的結果，於溫度30℃下之儲存彈性模數E為3000MPa，厚度t為2.2μm。
由附兩面基材層之液晶層積層體剝離厚度100μm之聚對酞酸乙二酯膜(第一基材層)，而得附單面基材層之液晶層積層體(第2圖(b))。將藉由該剝離所露出之附單面基材層之液晶層積層體的露出面(光配向層)、與由上述所準備之具隔離膜之光學膜剝離第二間隔膜所露出之黏著劑層，使用自動貼合裝置HALTEC(三共股份有限公司)貼合，而製得附基材層之光學積層體(第4圖(a))。使用該附基材層之光學積層體，以上述之步驟進行TD捲曲的測定，計算出光學積層體之TD捲曲值。將其結果示於表1。
[實施例2]
除了以使第一接著層之厚度t為4.3μm的方式於附基材層之第二液晶層的第二液晶層上塗佈接著劑組成物以外，以與實施例1同樣的步驟，製得附基材層之液晶層積層體及附基材層之光學積層體。第一接著層之儲存彈性模數E為3000MPa。又，使用所得之附基材層之光學積層體，以上述步驟進行TD捲曲的測定，計算出光學積層體之TD捲曲值。將其結果示於表1。
[實施例3]
除了以使第一接著層之厚度t為1.5μm的方式於附基材層之第二液晶層的第二液晶層上塗佈接著劑組成物以外，以與實施例1同樣的步驟，製得附基材層之液晶層積層體及附基材層之光學積層體。第一接著層之儲存彈性模數E為3000MPa。又，使用所得之附基材層之光學積層體，以上述步驟進行TD捲曲的測定，計算出光學積層體之TD捲曲值。將其結果示於表1。
[實施例4]
除了使用上述所準備之附基材層之第一液晶層(ii)取代附基材層之第一液晶層(i)以外，以與實施例3同樣的步驟，製得附基材層之液晶層積層體及附基材層之光學積層體。第一接著層之儲存彈性模數E為3000MPa。又，使用所得之附基材層之光學積層體，以上述步驟進行TD捲曲的測定，計算出光學積層體之TD捲曲值。將其結果示於表1。
[實施例5]
除了以使第一接著層之厚度t為6.4μm的方式於附基材層之第二液晶層的第二液晶層上塗佈接著劑組成物以外，以與實施例4同樣的步驟，製得附基材層之液晶層積層體及附基材層之光學積層體。第一接著層之儲存彈性模數E為3000MPa。又，使用所得之附基材層之光學積層體，以上述步驟進行TD捲曲的測定，計算出光學積層體之TD捲曲值。將其結果示於表1。
[比較例1]
除了使用上述所準備之附基材層之第一液晶層(iii)取代附基材層之第一液晶層(i)以外，以與實施例3同樣的步驟，製得附基材層之液晶層積層體及附基材層之光學積層體。第一接著層之儲存彈性模數E為3000MPa。又，使用所得之附基材層之光學積層體，以上述步驟進行TD捲曲的測定，計算出光學積層體之TD捲曲值。將其結果示於表1。
[表1]
Figure 108134037-A0202-12-0056-6
如表1所示，可知實施例1至5所得之光學積層體，反捲受到抑制，實施例1至4所得之光學積層體，為更接***面(平坦)的狀態。另一方面，比較例1，可知光學積層體的反捲增大。

Claims (18)

  1. 一種液晶層積層體之製造方法，該液晶層積層體係至少依序積層有第一液晶層、第一接著層、及第二液晶層，該製造方法係包含下列步驟：準備附基材層之第一液晶層之步驟，該附基材層之第一液晶層具有第一基材層、與於前述第一基材層上使聚合性液晶化合物聚合所形成的前述第一液晶層；準備附基材層之第二液晶層之步驟，該附基材層之第二液晶層具有第二基材層、與於前述第二基材層上使聚合性液晶化合物聚合所形成的前述第二液晶層；及積層步驟，係經介前述第一接著層，於前述附基材層之第一液晶層之前述第一液晶層側，積層前述附基材層之第二液晶層之前述第二液晶層側，其中，前述第一接著層係由硬化性接著劑之硬化物所構成之接著劑硬化層，前述第一液晶層之捲曲量之絕對值為20mm以內，前述第二液晶層之捲曲量之絕對值為20mm以內。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之液晶層積層體之製造方法，其中，當將前述第一接著層於溫度30℃之儲存彈性模數設為E[Pa]、將厚度設為t[m]時，前述第一接著層滿足下述式(1)之關係，3000≦E×t≦15000 (1)。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述之液晶層積層體之製造方法，其係於前述積層步驟之後，更包含剝離前述第一基材層的步驟。
  4. 一種液晶層積層體，其係至少依序積層有第一液晶層、第一接著層、及第二液晶層，其中， 前述第一液晶層及前述第二液晶層係聚合性液晶化合物之硬化層，前述第一接著層係由硬化性接著劑之硬化物所構成的接著劑硬化層，前述第一液晶層之捲曲量之絕對值為20mm以內，前述第二液晶層之捲曲量之絕對值為20mm以內。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之液晶層積層體，其中，當將前述第一接著層於溫度30℃之儲存彈性模數設為E[Pa]、將厚度設為t[m]時，前述第一接著層滿足下述式(1)之關係，3000≦E×t≦15000 (1)。
  6. 如申請專利範圍第4或5項所述之液晶層積層體，其中，於前述第二液晶層之與前述第一接著層相反之側，更具有第二基材層。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之液晶層積層體，其中，於前述第一液晶層之與前述第一接著層相反之側，更具有第一基材層。
  8. 一種光學積層體之製造方法，該光學積層體係至少依序積層有光學膜、第二接著層、第一液晶層、第一接著層、及第二液晶層，該製造方法係包含下列步驟：於藉由從申請專利範圍第3項所述之液晶層積層體之製造方法所製造之液晶層積層體剝離前述第一基材層所露出之第一露出面側、藉由從申請專利範圍第7項所述之液晶層積層體剝離前述第一基材層所露出之第一露出面側、或申請專利範圍第6項所述之液晶層積層體之前述第一液晶層側，依序積層第二接著層及光學膜的步驟。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之光學積層體之製造方法，其係於依序積層前述第二接著層及光學膜的步驟後，更包含將前述第二基材層剝離之步驟。
  10. 如申請專利範圍第9項所述之光學積層體之製造方法，其更包含下列步驟：準備積層有黏著劑層與剝離層之附剝離層之黏著劑層的步驟；以及於藉由剝離前述第二基材層所露出之第二露出面側，積層前述附剝離層之黏著劑層之前述黏著劑層側的步驟。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之光學積層體之製造方法，其係於積層前述附剝離層之黏著劑層之前述黏著劑層側的步驟之後，更包含將前述剝離層剝離的步驟。
  12. 如申請專利範圍第8至11項中任一項所述之光學積層體之製造方法，其中，前述光學膜含有偏光板。
  13. 一種光學積層體，其係至少依序積層有光學膜、第二接著層、第一液晶層、第一接著層、及第二液晶層，其中，前述第一液晶層及前述第二液晶層係聚合性液晶化合物之硬化層，前述第一接著層係由硬化性接著劑之硬化物所構成的接著劑硬化層，前述第一液晶層之捲曲量之絕對值為20mm以內，前述第二液晶層之捲曲量之絕對值為20mm以內。
  14. 如申請專利範圍第13項所述之光學積層體，其中，當將前述第一接著層於溫度30℃之儲存彈性模數設為E[Pa]、將厚度設為t[m]時，前述第一接著層滿足下述式(1)之關係， 3000≦E×t≦15000 (1)。
  15. 如申請專利範圍第13或14項所述之光學積層體，其中，於前述第二液晶層之與前述第一接著層相反之側，更具有第二基材層。
  16. 如申請專利範圍第13或14項所述之光學積層體，其中，於前述第二液晶層之與前述第一接著層相反之側，更具有黏著劑層。
  17. 如申請專利範圍第16項所述之光學積層體，其中，於前述黏著劑層之與前述第二液晶層相反之側，更具有剝離層。
  18. 如申請專利範圍第13或14項所述之光學積層體，其中，前述光學膜含有偏光板。
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