TWI795456B - 積層體、防反射結構體及照相機模組搭載裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明的目的在於提供一種實現了薄膜化、並且防反射性能優異、能夠將反射色度保持為中性的積層體及防反射結構體。為了解決所述課題，本發明的積層體的特徵在於，遮光膜於其一部分中具有無遮光膜的非遮光部，且防反射結構體經由接著層而形成於所述非遮光部，且所述微細凹凸結構具有可見光線的波長以下的凹凸週期，下式所表示的所述遮光膜的反射光與所述防反射結構體的反射光的色差（ΔE）為1.5以下。

Description

積層體、防反射結構體及照相機模組搭載裝置
本發明是有關於一種實現了薄膜化、並且防反射性能優異、能夠將反射色度保持為中性的積層體、防反射結構體及照相機模組搭載裝置。
關於液晶顯示器等顯示裝置、或照相機等光學裝置，為了避免由來自外部的光的反射所致的視認性或畫質的惡化(顏色不均、重影等的發生)，大多對顯示板或透鏡等基材中的光的入射面實施形成防反射膜等的防反射處理。
此處，作為先前的防反射處理之一，已知有藉由在光的入射面上形成微細凹凸結構來降低反射率的技術。
例如，專利文獻1揭示出：於對入射至半導體基板的光進行光電轉換來構建圖像的固體攝像裝置中，於半導體基板的光入射面上形成微細凹凸結構並對所述微細凹凸結構進行規定厚度的防反射膜的成膜，藉此能夠抑制光入射面中的光的反射的發生。
[現有技術文獻]
[專利文獻]
專利文獻1：日本專利特開2015-054402號公報
此處，於考慮到將所述防反射膜處理技術應用於小型電子機器等領域中的情況下，要求薄型化(例如，15μm以下)。但是，專利文獻1的技術中，為了無問題地形成微細凹凸結構，需要將最表層及中間層的合計厚度設為25μm以上，就薄型化的觀點而言，有改良的餘地。
進而，於使用如專利文獻1般的多層膜防反射結構的情況下，存在如下問題：有時反射光發生著色，與周邊的部分相比，產生反射色的差異，失去色調的一體感。
因此，若考慮到應用於設置於感測器的前表面上的覆蓋膜(cover film)、或設置於照相機模組感測器的前表面上的覆蓋膜，則期望開發一種於施有防反射處理技術的表面與其周邊的表面，反射色不存在差異(以下，稱作「反射色度保持為中性」)的防反射處理技術。
本發明是鑒於所述狀況而成，目的在於提供一種實現了薄膜化、並且防反射性能優異、能夠將反射色度保持為中性的積層體及防反射結構體。另外，關於本發明的另一目的，目的在於提供一種使用所述積層體實現薄膜化、且能夠獲得顏色不均得以抑制的拍攝圖像的照相機模組搭載裝置。
本發明者等人為了解決所述課題而反覆進行了努力研究，結果發現：經由接著層而形成表面具有微細凹凸結構的防反射結構 體，並且將微細凹凸結構的凹凸週期設為可見光線的波長以下，藉此能夠實現薄膜化，並且實現高的防反射性能，進而，將遮光膜的反射光與防反射結構體的反射光的色差設定得小(具體而言為1.5以下)，藉此能夠於施有防反射處理技術的表面與其周邊的表面之間將反射色度保持為中性。
本發明是基於所述見解而完成者，其主旨如下所述。
(1)一種積層體，包括：顯示板；設置於所述顯示板上的遮光膜；以及表面具有微細凹凸結構的防反射結構體，所述積層體的特徵在於，所述遮光膜於其一部分中具有無遮光膜的非遮光部，且所述防反射結構體經由接著層而形成於所述非遮光部，且所述微細凹凸結構具有可見光線的波長以下的凹凸週期，下式所表示的所述遮光膜的反射光與所述防反射結構體的反射光的色差(△E)為1.5以下。
Figure 107138833-A0305-02-0005-1
(式中，a1及bi表示遮光膜的反射光於國際照明委員會(Commission Internationale de l'Eclairage，CIE)1976(L*a*b*)表色系中的a*值及b*值，a2及b2表示防反射結構體的反射光於 CIE1976(L*a*b*)表色系中的a*值及b*值。)
根據所述構成，實現了薄膜化，並且防反射性能優異，能夠將反射色度保持為中性。
(2)如所述(1)所述的積層體，其特徵在於，所述防反射結構體及所述接著層的合計厚度為30μm以下。
(3)如所述(1)或(2)所述的積層體，其特徵在於，所述接著劑層為包含紫外線硬化性接著劑的層。
(4)如所述(1)至(3)中任一項所述的積層體，其特徵在於，所述微細凹凸結構的平均凹凸高度為190nm以上。
(5)如所述(1)至(4)中任一項所述的積層體，其特徵在於，所述遮光膜的視感反射率(以下亦稱作「Y值」)與所述防反射結構體的視感反射率(Y值)之差(△Y)為0.5以下。
(6)一種防反射結構體，其為經由接著層而形成於顯示板上的在表面具有微細凹凸結構的防反射結構體，所述防反射結構體的特徵在於，所述微細凹凸結構具有可見光線的波長以下的凹凸週期，且所述防反射結構體及所述接著層的合計厚度為30μm以下，所述微細凹凸結構的平均凹凸高度為190nm以上。
根據所述構成，實現了薄膜化，並且防反射性能優異，能夠將反射色度保持為中性。
(7)一種照相機模組搭載裝置，其特徵在於包括：如所述(1)至(5)中任一項所述的積層體；以及設置於與所述積層體中的防 反射結構體相對的位置的照相機模組。
根據所述構成，實現薄膜化，且能夠獲得顏色不均得以抑制的拍攝圖像。
根據本發明，能夠提供一種實現了薄膜化、並且防反射性能優異、能夠將反射色度保持為中性的積層體及防反射結構體。另外，根據本發明，能夠提供一種使用所述積層體實現薄膜化、且能夠獲得顏色不均得以抑制的拍攝圖像的照相機模組搭載裝置。
1:積層體
10:顯示板
20:遮光膜
21:非遮光部
30:防反射結構體
40:接著層
151:防反射結構體用樹脂組成物
160:壓接裝置
201a:第1保持膜
201b:第2保持膜
250:保持膜積層體
300:照相機模組搭載裝置
310:照相機模組
H:凹凸高度
P:凹凸週期
T:合計厚度
圖1是示意性地說明本發明的積層體的一實施形態的剖面圖。
圖2(a)是將本發明的積層體的防反射結構體及接著層的一實施形態放大並示意性地表示的剖面圖，圖2(b)是將本發明的積層體的防反射結構體及接著層的另一實施形態放大並示意性地表示的剖面圖。
圖3(a)~圖3(c)是表示用以製造本發明的一實施形態的積層體的防反射結構體的製造步驟的一例的概要圖。
圖4是示意性地說明本發明的照相機模組搭載裝置的一實施形態中的照相機模組及積層體的剖面圖。
圖5是表示實施例1-1及比較例1-1~比較例1-4的積層體的與波長對應的反射率(%)的圖表。
圖6是表示實施例2-1及比較例2-1~比較例2-4的積層體的與波長對應的反射率(%)的圖表。
圖7(a)是表示比較例1-4~比較例1-7的積層體的與波長對應的反射率(%)的圖表，圖7(b)是表示實施例1-1~實施例1-7的積層體的與波長對應的反射率(%)的圖表。
以下，針對本發明的實施形態的一例，視需要一面利用圖式一面進行具體說明。再者，關於圖1~圖3(c)中所揭示的各構件，為了便於說明，亦存在以與實際不同的比例尺或形狀示意性地表示的情況。
<積層體>
首先，對本發明的積層體的一實施形態進行說明。
如圖1所示，本發明的積層體為如下的積層體1，其包括：顯示板10；設置於該顯示板10上的遮光膜20；以及表面具有微細凹凸結構的防反射結構體30。
而且，於本發明的積層體1中，特徵在於，所述遮光膜20於其一部分中具有無遮光膜20的非遮光部21，所述防反射結構體30經由接著層40而形成於所述非遮光部21，所述微細凹凸結構具有可見光線的波長以下的凹凸週期P(參照圖2(a)及圖2(b))，下式所表示的所述遮光膜的反射光與所述防反射結構體的反射光的色差(△E)為1.5以下。
Figure 107138833-A0305-02-0009-2
(式中，a1及b1表示遮光膜的反射光於CIE1976(L*a*b*)表色系中的a*值及b*值，a2及b2表示防反射結構體的反射光於CIE1976(L*a*b*)表色系中的a*值及b*值。)
經由接著層40而形成表面具有微細凹凸結構的防反射結構體30，並且將微細凹凸結構的凹凸週期P設為可見光線的波長以下，藉此能夠實現薄膜化，並且實現高的防反射性能。進而，將遮光膜20的反射光與防反射結構體30的反射光的色差△E減小為1.5以下，藉此能夠於施有防反射處理技術的表面(圖1中為防反射結構體30的表面)與其周邊的表面(圖1中為遮光膜20的表面)之間將反射色度保持為中性。
(顯示板)
如圖1所示，本發明的積層體1包括顯示板10。
所述顯示板10是作為本發明的積層體1的基板或支撐板而起作用的構件。關於構成所述顯示板10的材料，並無特別限定，能夠根據積層體的使用目的來適當選擇。
例如，作為所述顯示板的材料，可列舉：玻璃、聚甲基丙烯酸甲酯(polymethyl methacrylate，PMMA)、將該些的表面以 任意的有機材料(聚醯亞胺等)塗佈而成者等。另外，所述顯示板較佳為透明。原因在於，由於作為液晶顯示器、觸控面板等來使用，因此使光透過。
再者，本說明書中所謂「透明」，是指屬於可見光帶域(大約360nm~830nm)的波長的光的透過率高，例如是指該光的透過率為70%以上。
進而，關於所述顯示板的形狀，除了為板狀以外，亦無特別限定，能夠根據積層體的使用目的來適當選擇。另外，關於積層所述遮光膜及所述防反射結構體的表面(圖1中為顯示板10的下表面)，為了容易將該些形成，例如能夠設為平坦面。
(遮光膜)
如圖1所示，本發明的積層體1於顯示板10上進而包括遮光膜20。
所述遮光膜20是用以提高遮光性，且即便於經薄膜化的所述顯示板10使光(尤其是波長800nm以上的光)透過的情況下，亦將到達固體攝像元件的光阻斷的構件。
關於構成所述遮光膜的材料，並無特別限定，能夠根據用途來適當使用公知的遮光膜。
作為構成所述遮光膜的材料，例如能夠使用黏合劑樹脂中含有遮光性粒子、填充材、其他添加劑等的遮光膜用組成物。
關於所述黏合劑樹脂，例如能夠列舉(甲基)丙烯酸系樹脂、胺基甲酸酯系樹脂、聚乙烯醇、聚乙烯丁醛(polyvinyl butyral)、聚乙烯甲醛(polyvinyl formal)、聚醯胺、聚酯等，且可列舉(甲基)丙烯酸系樹脂、或胺基甲酸酯系樹脂等。關於該些樹脂，作為酸基，亦能夠具有羧酸基、磺酸基、膦酸基、磷酸基、磺醯胺基等。
另外，關於所述遮光性粒子，例如可列舉：碳黑、鈦黑、鎢化合物、鋅華、鉛白、鋅鋇白(lithopone)、氧化鈦、氧化鉻、氧化鐵、沈降性硫酸鋇及重晶石(baryte)粉、鉛丹(minium)、氧化鐵紅(iron oxide red)、鉻黃(chrome yellow)、鋅黃(zinc yellow)(鋅黃1種(zinc potassium chromate)、鋅黃2種(zinc tetroxy chromate))、群青藍(ultramarine blue)、普魯士藍(Prussian blue)(亞鐵氰化鉀(potassium ferrocyanide))、鋯石灰(zircon gray)、鐠黃(praseodymium yellow)、鉻鈦黃(chrome titan yellow)、鉻綠(chrome green)、孔雀綠(peacock green)、維多利亞綠(Victoria green)、鐵藍(iron blue)(與普魯士藍無關)、釩鋯藍(vanadium zirconium blue)、鉻錫紅(chrome tin pink)、錳紅(manganese pink)、橙紅(salmon pink)等無機顏料。另外，作為黑色顏料，亦能夠使用包含選自由Co、Cr、Cu、Mn、Ru、Fe、Ni、Sn、Ti及Ag所組成的群組中的1種或2種以上的金屬元素的金屬氧化物、金屬氮化物或該些的混合物等。
進而，關於所述遮光性粒子，例如亦能夠包含花青(cyanine)色素、酞青(phthalocyanine)色素、萘酞青(naphthalocyanine)色素、亞胺鎓(immonium)色素、鋁(aluminum)色素、喹啉鎓 (quinolium)色素、吡喃鎓(pyrylium)色素、或Ni錯合物色素等金屬錯合物色素等遮光性染料。
再者，關於所述遮光膜組成物中的所述遮光性粒子的含量，並無特別限定，但相對於總固體成分，較佳為30質量%~70質量%，更佳為40質量%~60質量%，進而佳為45質量%~55質量%。
另外，所述遮光膜用組成物視需要能夠包含填充材或其他添加劑。關於填充材，若提高反射率，則無特別限定，例如能夠使用有機填料、無機填料、無機-有機複合填料。
作為所述有機填料，例如可列舉合成樹脂粒子、天然高分子粒子等，較佳為可列舉：丙烯酸樹脂、聚乙烯、聚丙烯、聚氧化乙烯(polyethylene oxide)、聚氧化丙烯、聚乙烯亞胺、聚苯乙烯、聚胺基甲酸酯、聚脲、聚酯、聚醯胺、聚醯亞胺、羧甲基纖維素、明膠、澱粉、幾丁質(chitin)、幾丁聚醣(chitosan)等樹脂粒子。
作為所述無機填料，可列舉金屬及金屬化合物，例如二氧化矽、雲母化合物、玻璃、氧化鋅、氧化鋁、氧化鋯、氧化錫、鈦酸鉀、酞酸鍶、硼酸鋁、氧化鎂、硼酸鎂、氫氧化鋁、氫氧化鎂、氫氧化鈣、氫氧化鈦、鹼性硫酸鎂、碳酸鈣、碳酸鎂、硫酸鈣、硫酸鎂、矽酸鈣、矽酸鎂、磷酸鈣、氮化矽、氮化鈦、氮化鋁、碳化矽、碳化鈦、硫化鋅及該些中的至少兩種以上的複合化物。
關於所述其他添加劑，例如可列舉：聚合性化合物、聚合起始劑、分散劑、增感劑、交聯劑效果促進劑、界面活性劑等公知的添加劑。
關於所述遮光膜20的平均厚度，並無特別限定，但就積層體1的薄膜化的觀點而言，較佳為30μm以下，更佳為10μm以下。進而，就維持高遮光效果的方面而言，較佳為將所述遮光膜20的厚度設為3μm以上。
再者，關於所述遮光膜20的平均厚度，為除後述非遮光部21的厚度以外，取形成有所述遮光膜20的部分的平均而算出的厚度。例如，能夠藉由對所述遮光膜20的任意5處的厚度進行測定並加以平均而獲得。
而且，於本發明的積層體1中，如圖1所示，所述遮光膜20於其一部分中具有未形成遮光膜20的非遮光部21。原因在於，藉由將後述防反射結構體30設置於該非遮光部21，能夠有助於積層體1的薄膜化，並且充分地發揮防反射作用。
再者，關於所述非遮光部21，為所述遮光膜20中未形成遮光膜的部分。關於所述非遮光部21，如圖1所示，可成為貫通孔，或者亦能夠對一部分填充透明的材料。
關於所述非遮光部21的大小，並無特別限定，能夠根據所述防反射結構體30的尺寸來適當變更。
但較佳為儘可能減小未形成所述防反射結構體30的部分。這是為了確實地阻擋到達固體攝像元件的光。具體而言，於自正面觀察所述遮光膜及所述非遮光部21的情況下，較佳為於所述非遮光部21的面積(即，所述遮光膜20的開口面積)的較佳為50%、更佳為100%的範圍內形成所述防反射結構體30。
再者，關於形成所述遮光膜20的方法，並無特別限定，能夠根據遮光膜20的厚度或製造設施等條件來適當使用公知的形成方法。
例如，藉由旋塗法、噴塗法、狹縫塗佈、噴墨法、旋轉塗佈、流延塗佈、輥塗佈、網版印刷法等將所述遮光膜組成物塗佈於所述顯示板10上之後，實施光照射處理或加熱處理等硬化處理，藉此能夠形成所述遮光膜20。
(防反射結構體)
如圖1所示，本發明的積層體1於所述非遮光部21包括表面具有微細凹凸結構的防反射結構體30。
所述防反射結構體30能夠藉由在表面上所形成的表面的微細凹凸結構來提高積層體1的防反射性能。
此處，圖2(a)表示所述防反射結構體30及接著層40的一實施形態。
如圖2(a)所示，所述防反射結構體30的微細凹凸結構的凸部及凹部可週期性(例如鋸齒格子狀、矩形格子狀)地配置，另外，亦能夠隨機地配置。進而，關於凸部及凹部的形狀，亦無特別限制，可為炮彈型、錐體型、柱狀、針狀等。再者，所謂凹部的形狀，是指由凹部的內壁所形成的形狀。
所述防反射結構體30的微細凹凸結構具有可見光線的波長以下(例如830nm以下)的凹凸週期P(凹凸間距)。進而，關於所述凹凸週期P的上限，更佳為350nm以下、進而佳為280nm 以下，關於凹凸週期P的下限，更佳為100nm以上、進而佳為150nm以上。
將所述微細凹凸結構的凹凸週期P設為可見光波長以下，換言之，將所述微細凹凸結構設為所謂的蛾眼(Moth-Eye)結構，藉此能夠實現優異的防反射性能。
此處，所述凹凸結構的凹凸週期P為相鄰的凸部間及凹部間的距離的算術平均值。再者，所述凹凸週期P例如能夠藉由掃描式電子顯微鏡(Scanning Electron Microscope，SEM)、或剖面穿透式電子顯微鏡(Cross-sectional Transmission Electron Microscope，XTEM)等來觀察。
另外，作為導出相鄰的凸部間及凹部間的距離的算術平均值的方法，例如可列舉如下的方法：分別選取多個相鄰的凸部的組合、及/或相鄰的凹部的組合，測定構成各組合的凸部間的距離及凹部間的距離，並將測定值加以平均。
另外，所述微細凹凸結構的平均凹凸高度(凹部的深度)較佳為190nm以上。原因在於，能夠更確實地將反射色度保持為中性。另外，就積層體的薄膜化的觀點而言，所述微細凹凸結構的平均凹凸高度較佳為320nm以下。再者，關於所述微細凹凸結構的凹凸高度H，如圖2(a)所示，為自凹部的底部至凸部的頂點的距離，關於平均凹凸高度，能夠藉由測定若干(例如5處)凹凸高度H並算出平均而獲得。
另外，所述防反射結構體30的未形成微細凹凸結構的微細凹 凸結構下的支撐部分(以下，稱作防反射結構體30的「基底部」)的厚度並無特別限制，能夠設為500nm~9000nm左右。
此處，關於所述防反射結構體30的微細凹凸結構，如圖2(a)所示，需要至少於不與接著層40接觸的一側的表面具有，但作為另一實施形態，如圖2(b)所示，亦能夠於兩表面上設置微細凹凸結構。
另外，關於構成所述防反射結構體30的材料，並無特別限定。例如為活性能量射線硬化性樹脂組成物(光硬化性樹脂組成物、電子束硬化性樹脂組成物)、熱硬化性樹脂組成物等藉由硬化反應而硬化的樹脂組成物，例如可列舉含有聚合性化合物與聚合起始劑的樹脂組成物。
作為聚合性化合物，例如能夠使用(i)相對於1莫耳的多元醇而使2莫耳以上的比率的(甲基)丙烯酸或其衍生物反應所得的酯化物、(ii)由多元醇、多元羧酸或其酐、及(甲基)丙烯酸或其衍生物所得的酯化物等。
作為所述(i)，可列舉：1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、丙烯酸四氫糠酯、甘油三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇七(甲基)丙烯酸酯、丙烯醯基嗎啉(acryloyl morpholine)、 胺基甲酸酯丙烯酸酯等。
作為所述(ii)，可列舉：使三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷、甘油、季戊四醇等多元醇、與自丙二酸、丁二酸、己二酸、戊二酸、癸二酸、富馬酸、衣康酸、馬來酸酐等中所選擇的多元羧酸或其酐、及(甲基)丙烯酸或其衍生物反應所得的酯化物等。
該些聚合性化合物可單獨使用1種，亦可併用2種以上。
進而，於所述樹脂組成物為光硬化性的情況下，作為光聚合起始劑，例如可列舉：安息香、安息香甲醚、安息香***、安息香異丙醚、安息香異丁醚、苯偶醯(benzil)、二苯甲酮、對甲氧基二苯甲酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、α,α-二甲氧基-α-苯基苯乙酮、乙醛酸甲基苯基酯(methyl phenyl glyoxylate)、乙醛酸乙基苯基酯、4,4'-雙(二甲基胺基)二苯甲酮、1-羥基-環己基-苯基-酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮等羰基化合物；一硫化四甲基秋蘭姆(tetramethylthiuram monosulfide)、二硫化四甲基秋蘭姆等硫化合物；2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-膦氧化物、苯甲醯基二乙氧基膦氧化物；等，該些中，能夠使用1種以上。
於電子束硬化性的情況下，作為電子束聚合起始劑，例如可列舉：二苯甲酮、4,4-雙(二乙基胺基)二苯甲酮、2,4,6-三甲基二苯甲酮、鄰苯甲醯基苯甲酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、第三丁基蒽醌、2-乙基蒽醌、2,4-二乙基硫雜蒽酮、異丙基硫雜蒽酮、2,4-二氯硫雜蒽酮等硫雜蒽酮；二乙氧基苯乙酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、苄基二甲基縮酮、1-羥基環己基-苯基酮、2-甲基-2- 嗎啉代(4-硫代甲基苯基)丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉代苯基)-丁酮等苯乙酮；安息香甲醚、安息香***、安息香異丙醚、安息香異丁醚等安息香醚；2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2,4,4-三甲基戊基膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-苯基膦氧化物等醯基膦氧化物；苯甲醯基甲酸甲酯、1,7-雙吖啶基庚烷、9-苯基吖啶等，該些中，能夠使用1種以上。
於熱硬化性的情況下，作為熱聚合起始劑，例如可列舉：過氧化甲乙酮(methyl ethyl ketone peroxide)、過氧化苯甲醯(benzoyl peroxide)、過氧化二異丙苯(dicumyl peroxide)、第三丁基過氧化氫(tert-butyl hydroperoxide)、異丙苯過氧化氫(cumene hydroperoxide)、第三丁基過氧化辛酸酯、第三丁基過氧化苯甲酸酯、過氧化月桂醯(lauroyl peroxide)等有機過氧化物；偶氮雙異丁腈等偶氮系化合物；使所述有機過氧化物與N,N-二甲基苯胺、N,N-二甲基-對甲苯胺等胺組合而成的氧化還原聚合起始劑等。
該些光聚合起始劑、電子束聚合起始劑、熱聚合起始劑可單獨使用，亦可根據需要將該些加以組合來使用。
另外，聚合起始劑的量相對於聚合性化合物100質量份，較佳為0.01質量份~10質量份。若為此種範圍，則硬化充分地進行，並且硬化物的分子量變得合適而獲得充分的強度，另外，亦不會產生由於聚合起始劑的殘留物等而導致硬化物著色等問題。
進而，於所述樹脂組成物中視需要能夠包含非反應性的 聚合物或活性能量射線溶膠凝膠反應性成分，亦能夠包含增稠劑、調平劑、紫外線吸收劑、光穩定劑、熱穩定劑、溶劑、無機填料等各種添加劑。
關於用以製造所述防反射結構體30的方法，並無特別限定。例如，如圖3(a)~圖3(c)所示，藉由經過夾持壓接步驟、硬化步驟及剝離步驟，能夠獲得表面具有微細凹凸結構的防反射結構體30。
關於夾持壓接步驟，如圖3(a)所示，為利用表面具有微細凹凸結構的保持膜與具有平坦的表面的保持膜將防反射結構體用樹脂組成物夾持、壓接的步驟。具體而言，首先準備表面具有微細凹凸結構的保持膜(第1保持膜201a)與具有平坦的表面的保持膜(第2保持膜201b)。繼而，如圖3(a)所示，利用所述第1保持膜201a與第2保持膜201b以使兩者相向的方式夾持防反射結構體用樹脂組成物151。再者，表面具有微細凹凸結構的保持膜201a例如能夠藉由在包含透明且不易斷裂的材料(例如，聚對苯二甲酸乙二酯、三乙醯基纖維素等)的基底基材之上形成具有規定的凹凸圖案的微細凹凸層而製作。然後，如圖3(a)所示，藉由輥層壓機等壓接裝置160將夾持體於夾持方向上壓接。此處，於夾持壓接步驟中，藉由調節壓接時的壓力，能夠調整最終所得的防反射結構體30的厚度。
如圖3(b)所示，所述硬化步驟為藉由紫外(ultraviolet，UV)光等活性能量射線的照射使所夾持的防反射結構體用樹脂組 成物151硬化，從而形成兩表面具有微細凹凸結構的防反射結構體30的步驟。
具體而言，如圖3(b)所示，對所夾持的防反射結構體用樹脂組成物151照射活性能量射線，從而使防反射結構體用樹脂組成物151硬化。藉由使防反射結構體用樹脂組成物151硬化，從而獲得包含表面具有微細凹凸結構的防反射結構體30的保持膜積層體250。再者，硬化步驟亦可於與所述夾持壓接步驟相同的定時(timing)進行。
如圖3(c)所示，所述剝離步驟為自保持膜積層體250將第1保持膜201a、第2保持膜201b剝離並獲得防反射結構體30的步驟。
視需要對所獲得的防反射結構體30實施清洗等處理。
另外，關於製造所述防反射結構體30的方法，不限定於所述經過夾持壓接步驟、硬化步驟及剝離步驟的方法(圖3(a)~圖3(c))，例如，使所述防反射結構體用樹脂組成物硬化後，藉由濺鍍等來形成微細凹凸結構，藉此亦能夠製作防反射結構體30。
(接著層)
於本發明的積層體1中，如圖1所示，進而包括用以將所述防反射結構體30接合於所述非遮光部21的接著層40。
此處，所謂所述接著層40，為了將所述防反射結構體30接合於所述非遮光部21而包含接著劑，但需要使用不會使所述 防反射結構體30的防反射性能下降的材料。
關於具體的材料，並無特別限定，能夠適當使用藉由硬化反應而硬化的樹脂組成物。其中，所述接著層40較佳為包含紫外線硬化性接著劑。原因在於，能夠實現高的接合性。關於所述紫外線硬化性樹脂，例如可列舉紫外線硬化性丙烯酸系樹脂、紫外線硬化性環氧系樹脂等。
再者，關於所述接著層40的形成方法，並無特別限定。例如，於所述接著層40為包含紫外線硬化性接著劑的層的情況下，於所述非遮光部21中，於使所述紫外線硬化性接著劑與所述防反射結構體30壓接的狀態下照射紫外線，藉此能夠形成接著層40。
另外，就積層體1的薄膜化的觀點而言，較佳為使所述接著層40於能夠維持高接著性的範圍內變薄。
具體而言，如圖2(a)及圖2(b)所示，所述防反射結構體30及所述接著層40的合計厚度T較佳為30μm以下，更佳為10μm以下。
(遮光膜的反射光與防反射結構體的反射光的色差：△E)
而且，於本發明的積層體1中，特徵在於，下式所表示的所述遮光膜20的反射光與所述防反射結構體30的反射光的色差(△E)為1.5以下。
[數3]
Figure 107138833-A0305-02-0022-3
將所述遮光膜20的反射光與所述防反射結構體30的反射光的色差△E設定為1.5以下，藉此能夠於防反射結構體30的表面與其周邊的表面(圖1中為遮光膜20的表面)之間將反射色度保持為中性，當將本發明的積層體用於照相機模組搭載裝置中時，能夠獲得顏色不均得以抑制的拍攝圖像。
此處，所述式中的a1及b1表示遮光膜20的反射光於CIE1976(L*a*b*)表色系中的a*值及b*值。另外，a2及b2表示防反射結構體30的反射光於CIE1976(L*a*b*)表色系中的a*值及b*值。所謂CIE1976(L*a*b*)表色系，為CIE於1976年規定的均勻色空間之一，將使用明度指數：L、及色度指數：a*、b*的三維正交座標的色空間稱作L*a*b*色空間，所述CIE1976(L*a*b*)表色系為使用所述色空間的表色系。
另外，關於所述△E，需要設為1.5以下，但就使防反射結構體30的表面與其周邊的表面的反射色度進一步中性的觀點而言，較佳為1.0以下，更佳為0.7以下。
再者，關於所述遮光膜20的反射光於CIE1976(L*a*b*)表色系中的a*值及b*值、以及所述防反射結構體30的反射光於CIE1976(L*a*b*)表色系中的a*值及b*值，能夠藉由使用市售 的測定裝置而獲得。
另外，關於所述CIE1976(L*a*b*)表色系中的a*值及b*值、或色差△E的調整，能夠藉由變更所述遮光膜20的材料、形狀、厚度、以及所述防反射結構體30的材料、或凹凸結構的凹凸週期P、凹凸結構的凹凸高度H等來進行。
進而，於本發明的積層體1中，所述遮光膜20的視感反射率(Y值)與所述防反射結構體30的視感反射率(Y值)之差(△Y)較佳為0.5以下。原因在於，由於能夠將色度圖上的明度設為大致相同的條件，因此能夠將防反射結構體30的表面與其周邊的表面的反射色度進一步維持為中性。
此處，所謂所述視感反射率(Y值)，為將眼腈所感受到的亮度因視感度而發生變化這一情況考慮在內的反射率，且為將正反射光的顏色於CIE1931 XYZ色空間中表示時的(X，Y，Z)、或者於CIE xyY色空間中表示時的(x，y，Y)，並能夠藉由市售的分光光度計(例如，日本分光股份有限公司製造的V650等)來測定。
再者，關於所述遮光膜及所述防反射結構體30各自的視感反射率及反射率差，例如能夠藉由變更微細凹凸結構的疏密、或凹凸高度來調整。
<照相機模組搭載裝置>
本發明的照相機模組搭載裝置300的特徵在於，如圖4所示，包括：本發明的積層體1；以及設置於與該積層體中的防反射結構體30相對的位置的照相機模組310。
根據本發明的照相機模組搭載裝置，藉由照相機模組的攝像元件，能夠經由本發明的積層體來拍攝靜態圖像或動態圖像，因此，光的反射得以抑制，且能夠於所獲得的拍攝圖像中抑制顏色不均等的發生。
[實施例]
繼而，基於實施例對本發明進行具體說明。但本發明不受下述實施例的任何限定。
(實施例1-1)
製作如圖1所示的積層體1的模型，所述積層體1如圖1所示，包括：顯示板10；設置於該顯示板10上的遮光膜20；以及表面具有微細凹凸結構的防反射結構體30。而且，關於遮光膜20及防反射結構體30，分別算出反射光的色度(照射角：5°)。
此處，顯示板10設為玻璃基板，遮光膜20是藉由將含有碳黑且包含乙酸丁酯、乙酸乙酯、硝基纖維素、二異丁基酮、異丙醇、異丁醇等的噴霧塗料塗佈於玻璃基板表面而形成。另外，防反射結構體30是由東亞合成股份有限公司製造的「UVX-6366」(包含1,6-己二醇二丙烯酸酯、丙烯酸四氫糠酯及2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-膦氧化物的紫外線硬化性樹脂)而形成，微細凹凸結構的凹凸週期設為150nm~250nm，凹凸高度設為220nm，無微細凹凸結構的基底部的厚度設為1000nm，並設為折射率n=1.520。進而，關於接著層40，使用紫外線硬化性樹脂，並將厚度設為3000nm。防反射結構體30與接著層40的合計厚度為4220nm(約4.2 μm)。
表1中示出防反射結構體的結構、防反射結構體與接著層的合計厚度(μm)、防反射結構體的反射光於CIE1976(L*a*b*)表色系中的a*值及b*值(a2及b2)、遮光膜的反射光與防反射結構體的反射光的色差△E的算出結果。
(比較例1-1)
比較例1-1中，作為防反射技術，代替具有微細凹凸結構的防反射結構體30而形成將NbOX與SiO2交替積層合計4層而成的防反射膜(乾式(Dry)-AR直接形成)，除此以外，藉由與實施例1-1同樣的條件製作積層體。
表1中示出防反射結構體的結構、防反射膜與接著層的合計厚度(μm)、防反射膜的反射光於CIE1976(L*a*b*)表色系中的a*值及b*值、遮光膜的反射光與防反射膜的反射光的色差△E的算出結果。
(比較例1-2)
比較例1-2中，作為防反射技術，形成將折射率n=1.340的材料塗佈而成的防反射膜(濕式(Wet)-AR直接塗佈)，除此以外，藉由與實施例1-1同樣的條件製作積層體。
表1中示出防反射結構體的結構、防反射膜與接著層的合計厚度(μm)、防反射膜的反射光於CIE1976(L*a*b*)表色系中的a*值及b*值、遮光膜的反射光與防反射膜的反射光的色差△E的算出結果。
(比較例1-3)
比較例1-3中，作為防反射技術，形成將高折射率材料(折射率n=1.700)與低折射率材料(折射率n=1.250)貼合而成的防反射膜(濕式(Wet)-AR膜貼合)，除此以外，藉由與實施例1-1同樣的條件製作積層體。
表1中示出防反射結構體的結構、防反射膜與接著層的合計厚度(μm)、防反射膜的反射光於CIE1976(L*a*b*)表色系中的a*值及b*值、遮光膜的反射光與防反射膜的反射光的色差△E的算出結果。
(實施例1-2~實施例1-7、比較例1-4~比較例1-7)
於實施例1-2~實施例1-7及比較例1-4~比較例1-7中，關於防反射結構體30的微細凹凸結構，除改變凹凸高度(關於具體的凹凸高度的值，參照表2)以外，藉由與實施例1-1同樣的條件製作積層體。
表3中示出防反射結構體的凹凸高度(nm)、防反射結構體的反射光於CIE1976(L*a*b*)表色系中的a*值及b*值、遮光膜的反射光與防反射膜(乾式(Dry)-AR直接形成)的反射光的色差△E的算出結果。
(實施例2)
實際製作了如圖1所示的積層體1，所述積層體1如圖1所示，包括：顯示板10；設置於該顯示板10上的遮光膜20；以及表面具有微細凹凸結構的防反射結構體30。而且，關於遮光膜20 及防反射結構體30，分別測定反射光的色度(照射角：5°)。
此處，顯示板10設為玻璃基板，遮光膜20是藉由將含有碳黑且包含乙酸丁酯、乙酸乙酯、硝基纖維素、二異丁基酮、異丙醇、異丁醇等的噴霧塗料塗佈於玻璃基板表面而形成。另外，防反射結構體30是由東亞合成股份有限公司製造的「UVX-6366」(包含1,6-己二醇二丙烯酸酯、丙烯酸四氫糠酯及2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-膦氧化物的紫外線硬化性樹脂)而形成，微細凹凸結構的凹凸週期設為150nm~250nm，凹凸高度設為220nm，無微細凹凸結構的基底部的厚度設為1000nm。進而，關於接著層40，使用紫外線硬化性樹脂，並將厚度設為3780nm。防反射結構體30與接著層40的合計厚度為5000nm(5μm)。
表2中示出防反射結構體的結構、防反射結構體與接著層的合計厚度(μm)、防反射結構體的反射光於CIE1976(L*a*b*)表色系中的a*值及b*值、遮光膜的反射光與防反射結構體的反射光的色差△E的算出結果。
(評價)
對各實施例及各比較例中所獲得的積層體的各樣品進行以下的評價。將評價結果示於表1。
(1)防反射性能
(a)關於實施例1-1及比較例1-1~比較例1-3的樣品，使用計算軟體「TFCalc」算出分光波長及反射率(5°)。將波長與反射率的關係示於圖5。再者，作為參考，亦將遮光膜部分的波長與 反射率的關係示於圖5。
根據圖5的結果可知，於420nm~620nm的波長區域中，實施例1-1的積層體的防反射性能最優異。
(b)關於實施例2的樣品，使用日本分光股份有限公司製造的紫外可見近紅外分光光度計「V-650」來測定分光波長及反射率(5°)。將波長與反射率的關係示於圖6。再者，作為參考，亦將比較例1-1~比較例1-3的樣品及遮光膜部分的波長與反射率的關係示於圖6。
根據圖6的結果可知，於420nm~660nm的波長區域中，與實施例1-1的情況同樣，關於實施例2的實際所製作的積層體的防反射性能，亦示出優異的結果。
(2)反射色度的中和性
(a)關於實施例1-1及比較例1-1~比較例1-3的樣品，使用計算軟體「TFCalc」算出防反射結構體於CIE1976(L*a*b*)表色系中的a*值及b*值、遮光膜的反射光與防反射結構體的反射光的色差△E。將算出結果示於表1。
根據表1的結果可知，實施例1-1的△E最小，反射色度被保持為中性。
(a)關於實施例2的樣品，使用日本分光股份有限公司製造的紫外可見近紅外分光光度計「V-650」取得分光光譜，並由此算出防反射結構體於CIE1976(L*a*b*)表色系中的a*值及b*值、遮光膜的反射光與防反射結構體的反射光的色差△E。將測定結果 示於表2。
根據表2的結果可知，實施例2的△E與實施例1-1同樣，△E被抑制得小，反射色度被保持為中性。
(3)凹凸結構的凹凸高度與△E的關係
關於實施例1-2~實施例1-7及比較例1-4~比較例1-7的樣品，使用計算軟體「TFCalc」算出分光波長及反射率(5°)，將波長與反射率的關係示於圖7(a)及圖7(b)。進而，亦算出防反射結構體於CIE1976(L*a*b*)表色系中的a*值及b*值、遮光膜的反射光與防反射結構體的反射光的色差△E，並將算出結果示於表3。再者，關於根據算出的結果而獲得的色差△E，將為本發明的範圍內即1.5以下的情形設為「○」，若超過1.5，則設為「×」，並進行判定。將判定結果示於表3。
根據圖7(a)、圖7(b)及表3的結果，若凹凸結構的凹凸高度為190nm以上，則能夠將△E控制於本發明的範圍內(判定結果為○)，實現優異的防反射性能，並能夠將反射色度保持為中性。
Figure 107138833-A0305-02-0029-4
Figure 107138833-A0305-02-0030-6
Figure 107138833-A0305-02-0030-7
[表3]
Figure 107138833-A0305-02-0031-8
[產業上之可利用性]
根據本發明，能夠提供一種實現了薄膜化、並且防反射性能優異、能夠將反射色度保持為中性的積層體及防反射結構體。另外，根據本發明，能夠提供一種使用本發明的積層體實現薄膜化、且能夠獲得顏色不均得以抑制的拍攝圖像的照相機模組搭載裝置。
1‧‧‧積層體
10‧‧‧顯示板
20‧‧‧遮光膜
21‧‧‧非遮光部
30‧‧‧防反射結構體
40‧‧‧接著層
300‧‧‧照相機模組搭載裝置
310‧‧‧照相機模組

Claims (7)

  1. 一種積層體，包括：顯示板；設置於所述顯示板上的遮光膜；以及表面具有微細凹凸結構的防反射結構體，所述積層體的特徵在於，所述遮光膜於其一部分中具有無遮光膜的非遮光部，且所述防反射結構體經由接著層而形成於所述非遮光部，且所述微細凹凸結構具有可見光線的波長以下的凹凸週期，下式所表示的所述遮光膜的反射光與所述防反射結構體的反射光的色差(△E)為1.5以下，所述遮光膜的視感反射率與所述防反射結構體的視感反射率之差(△Y)為0.5以下；
    Figure 107138833-A0305-02-0034-9
     式中，a1及b1表示遮光膜的反射光於國際照明委員會1976(L*a*b*)表色系中的a*值及b*值，a2及b2表示防反射結構體的反射光於國際照明委員會1976(L*a*b*)表色系中的a*值及b*值。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的積層體，其中，所述防反射結構體及所述接著層的合計厚度為30μm以下。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的積層體，其中，所述接著 劑層為包含紫外線硬化性接著劑的層。
  4. 如申請專利範圍第2項所述的積層體，其中，所述接著劑層為包含紫外線硬化性接著劑的層。
  5. 如申請專利範圍第1項至第4項中任一項所述的積層體，其中，所述微細凹凸結構的平均凹凸高度為190nm以上。
  6. 一種防反射結構體，其為經由接著層而形成於顯示板上的在表面具有微細凹凸結構的防反射結構體，所述防反射結構體的特徵在於，所述微細凹凸結構具有可見光線的波長以下的凹凸週期，且所述防反射結構體及所述接著層的合計厚度為30μm以下，所述微細凹凸結構的平均凹凸高度為190nm以上，所述防反射結構體的視感反射率與形成於所述防反射結構體的周圍的遮光膜的視感反射率之差(△Y)為0.5以下。
  7. 一種照相機模組搭載裝置，其特徵在於包括：如申請專利範圍第1項至第5項中任一項所述的積層體；以及設置於與所述積層體中的防反射結構體相對的位置的照相機模組。
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