TWI794727B - 托料治具循環機構 - Google Patents

Abstract

本發明公開一種托料治具循環機構，該托料治具循環機構包括托料治具、送料模組、回料模組和升降裝置。托料治具用於放置待清洗的物料，送料模組包括並行且間隔排布的兩條送料導軌、以及滑動安裝於兩條送料導軌上的送料件。兩條送料導軌的間隔大於托料治具在兩條送料導軌的排布方向上的寬度，送料件呈具有開口的半包圍結構並能夠定位以及帶動托料治具移動。回料模組設於送料模組的兩條送料導軌之間且位於送料件的下方，並能夠帶動托料治具移動。升降裝置設於回料模組的下方，升降裝置能夠帶動托料治具在送料模組和回料模組之間循環切換。本發明托料治具循環機構可有效提高等離子清洗機的清洗效率。

Description

托料治具循環機構

本發明涉及等離子清洗機技術領域，特別涉及一種托料治具循環機構。

在IC行業中，基板和引線框架在生產時通常會遺留有溢膠、氧化物等污染物，進而影響焊線效果。目前主要是通過等離子清洗機對基板和引線框架進行清洗，但是一些等離子清洗機的清洗效率較低，進而影響生產成本。

上述內容僅用於輔助理解發明的技術方案，並不代表承認上述內容是現有技術。

本發明的主要目的是提出一種托料治具循環機構，旨在解決一些等離子清洗機的清洗效率較低，進而影響生產成本的技術問題。

為實現上述目的，本發明提出的托料治具循環機構，包括托料治具、送料模組、回料模組和升降裝置。所述托料治具用於放置待清洗的物料，所述送料模組包括並行且間隔排布的兩條送料導軌、以及滑動安裝於所述兩條送料導軌上的送料件。所述兩條送料導軌的間隔大於所述托料治具在所述兩條送料導軌的排布方向上的寬度，所述送料件呈具有開口的半包圍結構並 能夠定位以及帶動所述托料治具移動。所述回料模組設於所述送料模組的所述兩條送料導軌之間且位於所述送料件的下方，並能夠帶動所述托料治具移動。升降裝置設於所述回料模組的下方，所述升降裝置能夠帶動所述托料治具在所述送料模組和所述回料模組之間循環切換。

在一實施例中，所述送料件具有與所述兩條送料導軌一一對應滑動連接的兩個滑動部，每個所述滑動部連接有朝向另一滑動部凸出的定位塊，所述定位塊用以支撐及定位所述托料治具。

在一實施例中，所述托料治具設有與所述定位塊適配的第一定位槽，所述定位塊可卡接於所述第一定位槽內；和/或，每個所述滑動部上的所述定位塊具有面向另一滑動部的限位面，多個所述限位面共同限位所述托料治具在所述兩條送料導軌的排布方向上的位移。

在一實施例中，所述定位塊與所述送料件轉動連接，且其轉動軸線平行於所述送料導軌的延伸方向，以使所述定位塊能夠向上翻轉。

在一實施例中，每個所述滑動部上的所述定位塊還具有朝向所述回料模組上的導向面，所述導向面在遠離所述回料模組的方向上，逐漸朝另一滑動部所在的一側傾斜。

在一實施例中，所述回料模組包括並行且間隔排布的兩條回料導軌，至少一條所述回料導軌上滑動安裝有回料件，所述回料件能夠定位以及帶動所述托料治具移動。

在一實施例中，托料治具還設有與所述回料件適配的第二定位槽，所述回料件可卡接於所述第二定位槽內。

在一實施例中，所述托料治具的底面和/或側面凸設有滾珠結構，所述滾珠結構可與所回料模組的所述回料導軌滾動接觸。

在一實施例中，所述送料模組和所述回料模組均具有換料端和清洗端，所述升降裝置設有兩個，且其中一個與所述換料端對應，另一個與所述清洗端對應。

在一實施例中，所述升降裝置具有用於與所述托料治具抵接的抵接部，所述抵接部和所述托料治具中的一者設有定位凸起，另一者設有與所述定位凸起適配的定位孔。

本發明托料治具循環機構在應用至等離子清洗機時，可使送料模組(或回料模組)的兩端分別對應在等離子清洗機的換料工位和清洗工位上，以及使送料模組(或回料模組)的一端位於反應腔體的下方。

在清洗時，可先將待清洗的物料放置在托料治具上，再通過送料模組將托料治具送至清洗工位處，接著通過升降裝置將托料治具頂升至反應腔體內進行清洗。在清洗結束後可通過升降裝置的下降而將托料治具帶至回料模組上，回料模組再將托料治具帶動至換料工位進行物料的更換，並且在物料更換結束後，升降裝置可將托料治具帶回至送料模組上的送料件上，以進行下一批物料的清洗。

可以理解的是，因為送料件呈具有開口的半包圍結構，因而當升降裝置將送料件上的托料治具頂升並進行清洗時，送料件可以通過其開口避開升降裝置的阻礙而運動回換料工位，進而使得清洗機在進行清洗工序的同時，可以通過在送料件上定位另一個托料治具而同步進行換料工序，大大的提高了等離子清洗機的清洗效率，進而有利於降低生產成本。

另外，升降裝置還可以將回料模組上的托料治具帶回送料模組上，使得等離子清洗機可通過兩個托料治具實現換料和清洗的循環，提高清洗效率。

為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對於本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖示出的結構獲得其他的附圖。

10:等離子清洗機

20:托料治具循環機構

21:托料治具

211:第一定位槽

212:第二定位槽

213:滾珠結構

214:定位孔

22:送料模組

221:送料導軌

222:送料件

2221:滑動部

2222:定位塊

2223:限位面

2224:導向面

23:回料模組

231:回料導軌

232:回料件

24:升降裝置

241:定位凸起

30:推料機構

40:料盒安裝機構

50:導料機構

60:腔體模組

70:料盒

圖1為本發明托料治具循環機構所應用的等離子清洗機一實施例的結構示意圖；圖2為本發明托料治具循環機構的治具循環示意圖；圖3為本發明托料治具循環機構一實施例的結構示意圖；圖4為本發明托料治具循環機構的送料件一實施例的結構示意圖；圖5為本發明托料治具循環機構的托料治具一實施例的結構示意圖；圖6為本發明托料治具循環機構又一實施例的治具循環示意圖。

本發明目的的實現、功能特點及優點將結合實施例，參照附圖做進一步說明。

需要說明，若本發明實施例中有涉及方向性指示(諸如上、下、左、右、前、後……)，則該方向性指示僅用於解釋在某一特定姿態(如附圖所示)下各部件之間的相對位置關係、運動情況等，如果該特定姿態發生改變時，則該方向性指示也相應地隨之改變。

另外，若本發明實施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，則該“第一”、“第二”等的描述僅用於描述目的，而不能理解為指示或暗示其相對重要性或者隱含指明所指示的技術特徵的數量。由此，限定有“第 一”、“第二”的特徵可以明示或者隱含地包括至少一個該特徵。另外，全文中出現的“和/或”的含義為，包括三個並列的方案，以“A和/或B”為例，包括A方案，或B方案，或A和B同時滿足的方案。另外，各個實施例之間的技術方案可以相互結合，但是必須是以本領域普通技術人員能夠實現為基礎，當技術方案的結合出現相互矛盾或無法實現時應當認為這種技術方案的結合不存在，也不在本發明要求的保護範圍之內。

如圖1所示，現有的一些等離子清洗機10主要包括有料盒安裝機構40、推料機構30、導料機構50、物料運送機構(比如托料治具循環機構20，下同)以及腔體模組60。在等離子清洗機10對基板、引線框架等物料進行清洗之前，會通過料盒70將多個物料存放好，料盒70呈盒狀結構並具有前後貫通的開口，料盒70內具有上下排布的多層物料放置層，其中每一層都能夠放置一片待清洗或已經清洗結束的物料。料盒70前後貫通的開口使得物料可以被推出或推回，進而實現物料在料盒70內的上下料。

料盒安裝機構40則用於安裝及定位料盒70，並且可帶動料盒70做升降運動，以使每一層物料放置層內的物料都可以被推出或推回。

推料機構30主要用於將料盒70內的基板或引線框架推到物料運送機構上(比如托料治具21)，進而完成上料工序。以及，推料機構30還用於將托料治具21上清洗好的基板或引線框架推回料盒70內，進而完成下料工序。當然，推料機構30可以設置有多個，比如設置有兩個推料機構30，其中一個設於料盒安裝機構40的後方並且負責將料盒70內的物料推出，另一個則可以設於料盒安裝機構40的前方並且負責將托料治具21上清洗好的物料推回料盒70內。

而導料機構50設於料盒安裝機構40和物料運送機構之間，主要用於將物料在料盒70和物料運送機構(如托料治具21)之間進行傳送，既能夠 避免推料機構30推料不完全而影響上下料的情況，還能夠減少粉塵污染的產生。具體的，在推料機構30將料盒70內的物料推出之後，導料機構50將物料傳送至物料運送機構上；在推料機構30將物料運送機構上的物料推出之後，導料機構50將物料反向運送回料盒70內，保證上下料的順利進行。

物料運送機構主要用於將料盒安裝機構40處的物料運送至腔體模組60處進行清洗，以及將腔體模組60處清洗完成的物料運回料盒安裝機構40處進行存放。物料運送機構在運送物料時，可以通過托料治具21先將物料放置並定位好，再通過驅動件、運送軌道等將托料治具21運送至腔體模組60處或料盒安裝機構40處。

腔體模組60包括用於清洗物料的反應腔體，物料被運送至腔體模組60後，可將物料置入反應腔體內，反應腔體內的電場會通過電離氣體(如氬氣)而產生等離子體，進而借助等離子體具有活性組分的性能而對物料進行清洗。

然而在現有的一些等離子清洗機10的清洗效率較低，進而影響生產成本，因此本發明提出一種托料治具循環機構20，以通過提高物料的運送效率來提高等離子清洗機10的清洗效率，進而解決上述的技術問題。

在本發明實施例中，如圖2至圖6所示，該托料治具循環機構20包括托料治具21、送料模組22、回料模組23和升降裝置24。所述托料治具21用於放置待清洗的物料，托料治具21可以通過夾持、緊壓、吸附等等方式對所放置的物料進行定位，具體的可以根據實際需要自行設定。在本實施例中，推料治具上可以設置多個用於夾持物料的夾料槽，夾料槽可以同料盒70一樣具有前後貫通的開口，以便於物料的推進和退出。夾料槽的寬度可調，進而方便物料的推進和推出，並且還能夠更好的夾緊物料、以及適應不同寬度的物料。

所述送料模組22包括並行且間隔排布的兩條送料導軌221、以及滑動安裝於所述兩條送料導軌221上的送料件222。本發明托料治具循環機構20在應用至等離子清洗機10時，可使送料模組22(或回料模組23)的兩端分別對應在等離子清洗機10的料盒安裝機構40和腔體模組60處，也即對應在換料工位和清洗工位上，以及使送料模組22(或回料模組23)的一端位於腔體模組60的反應腔體的下方。

所述兩條送料導軌221的間隔大於所述托料治具21在所述兩條送料導軌221的排布方向上的寬度，具體的，以托料治具21呈長方形結構為例，托料治具21被運送時，兩條送料導軌221與托料治具21的兩條寬邊相平行，兩條送料導軌221之間的間距大於托料治具21的長邊。托料治具21通過定位在送料件222上而能夠在兩條送料軌道上滑動。

所述送料件222呈具有開口的半包圍結構並能夠定位以及帶動所述托料治具21移動。具體的，送料件222大致呈C型開口結構，送料件222具有兩個滑動部2221和連接於兩個滑動部2221之間的連接部，連接部能夠保持兩個滑動部2221的相對位置，避免兩個滑動部2221相對偏移而影響托料治具21的定位。

托料治具21定位在送料件222上的方式有多種，可以在送料件222上設置定位凹槽，再直接將托料治具21放置在送料件222上，也可以通過夾持、卡接、托架等方式定位托料治具21，具體的可以根據實際需要進行設定。當然，送料模組22還可以包括電機、氣缸等驅動件，以用於驅動送料件222在送料導軌221上滑動，進而帶動托料治具21滑動。

可以理解的是，因為送料件222呈具有開口的半包圍結構，當升降裝置24自送料件222的下方穿過送料件222並將送料件222上物料頂升時，送料件222可以通過其開口避開升降裝置24而沿送料導軌221往回運動，並且不 受升降裝置24的影響。並且送料件222往回運動後便不會再限制托料治具21在豎向方向上的運動，進而升降裝置24可以將頂升後的托料治具21帶至回料模組23上。

所述回料模組23設於所述送料模組22的所述兩條送料導軌221之間且位於所述送料件222的下方，並能夠帶動所述托料治具21移動。回料模組23可以是傳送帶、滾筒等傳送機構，也可以由回料導軌231與回料件232組成。回料模組23可以只設置一條回料導軌231，也可以設置多條，具體的可以根據實際需要進行設定。

升降裝置24設於所述回料模組23的下方，所述升降裝置24能夠帶動所述托料治具21在所述送料模組22和所述回料模組23之間循環切換。具體的，在清洗時，可先將待清洗的物料放置在托料治具21上，再通過送料模組22將托料治具21送至清洗工位處，接著通過升降裝置24將托料治具21頂升至反應腔體內進行清洗。在清洗結束後可通過升降裝置24的下降而將托料治具21帶至回料模組23上，回料模組23再將托料治具21帶動至換料工位進行物料的更換，並且在物料更換結束後，升降裝置24可將托料治具21帶回至送料模組22上的送料件222上，以進行下一批物料的清洗。

其中，升降裝置24將托料治具21從回料模組23上帶回送料模組22上的送料件222的方式有多種。例如，可以先使送料件222和托料治具21在上下方向上錯位，在升降裝置24將托料治具21頂升至送料模組22的上方之後再將托料治具21定位在送料件222上。也可以在送料件222上設置可以移動、翻轉、折疊的結構，以避免送料件222阻礙托料治具21回到送料模組22上。

在更換物料時，可以直接在回料模組23上更換，也可以在將托料治具21回到送料件222上之後在更換，或者其他的更換方式。例如，在一實施例中，物料主要是在送料模組22的上方進行更換，此時可以先通過升降裝置 24將托料治具21頂升至托料模組的上方並進行物料的更換。在更換結束後，升降裝置24帶動托料治具21下降，同時送料件222在下方截住並定位托料治具21，使得托料治具21不跟隨升降裝置24繼續往下運動，以繼續對物料進行循環清洗。

可以理解的是，因為送料件222呈具有開口的半包圍結構，因而當升降裝置24將送料件222上的托料治具21頂升並進行清洗時，送料件222可以通過其開口避開升降裝置24的阻礙而運動回換料工位，進而使得清洗機在進行清洗工序的同時，可以通過在送料件222上定位另一個托料治具21而同步進行換料工序，大大的提高了等離子清洗機10的清洗效率，進而有利於降低生產成本。另外，升降裝置24還可以將回料模組23上的托料治具21帶回送料模組22上，使得等離子清洗機10可通過兩個托料治具21實現換料和清洗的循環，提高清洗效率。

在一實施例中，結合圖3至圖5，所述送料件222具有與所述兩條送料導軌221一一對應滑動連接的兩個滑動部2221，每個所述滑動部2221連接有朝向另一滑動部2221凸出的定位塊2222，所述定位塊2222用以支撐及定位所述托料治具21。每個滑動部2221大致呈板狀結構，兩個滑動部2221之間還連接有連接部，以保證兩個滑動部2221之間的相對位置保持穩定。自滑動部2221上凸出的定位塊2222可以與滑動部2221固定連接，也可以活動連接，僅需能夠支撐托料治具21即可。

而定位塊2222定位托料治具21的方式有多種，例如，可以是所述托料治具21設有與所述定位塊2222適配的第一定位槽211，所述定位塊2222可卡接於所述第一定位槽211內。當然，也可以是定位塊2222上設有凹槽，而托料治具21上對應設有凸起，進而可以通過凸起與凹槽的卡接將托料治具21進行定位。

在另外的一些實施例中，如圖4所示，每個所述滑動部2221上的所述定位塊2222具有面向另一滑動部2221的限位面2223，多個所述限位面2223共同限位所述托料治具21在所述兩條送料導軌221的排布方向上的位移。具體的，當托料治具21定位到送料件222上時，每個定位塊2222上的限位面2223可以與托料治具21的側面相抵接，以避免托料治具21在兩條送條導軌的排布方向上發生偏移。

在一實施例中，如圖4所示，所述定位塊2222與所述送料件222轉動連接，且其轉動軸線平行於所述送料導軌221的延伸方向，以使所述定位塊2222能夠向上翻轉。進而使得托料治具21能夠從送料件222的下方直接穿過送料件222而被頂升至送料件222的上方，而不需要送料件222移動避讓，簡化了托料治具21的切換過程。當然，需要注意的是，應確保托料治具21抵接在定位塊2222上時定位塊2222不會向下翻轉，為達到這個目的，可以通過在定位塊2222的轉軸、或定位塊2222與送料件222之間的接觸面等設置限位元結構，確保托料治具21定位在定位塊2222上時不會往下掉落，同時又能夠從送料件222的下方推動定位塊2222翻轉而運動至送料件222的上方。

在一實施例中，結合圖3及圖4，為使得托料治具21向上穿過送料件222時可以更加順暢，每個所述滑動部2221上的所述定位塊2222還具有朝向所述回料模組23上的導向面2224，所述導向面2224在遠離所述回料模組23的方向上，逐漸朝另一滑動部2221所在的一側傾斜。托料治具21可以通過抵接導向面2224而很好的推動定位塊2222翻轉，進而更加快速的運動至送料件222的上方。

在一實施例中，如圖6所示，所述回料模組23包括並行且間隔排布的兩條回料導軌231，至少一條所述回料導軌231上滑動安裝有回料件232，所述回料件232能夠定位以及帶動所述托料治具21移動。如此使得托料治具21 可以直接落到兩條回料導軌231上，並在回料件232的帶動下沿著回料導軌231運動。而不需要再設置用於托住托料治具21的輔助裝置，使得托料治具循環機構20的結構更為簡單緊湊、所佔用的安裝空間更小。

在一實施例中，結合圖5及圖6，托料治具21還設有與所述回料件232適配的第二定位槽212，所述回料件232可卡接於所述第二定位槽212內。在本實施例中，第二定位槽212為設置於托料治具21邊緣的貫通槽，如此不僅便於回料件232的卡接，還便於托料治具21的加工。當然，第二定位槽212也可以為開口朝下的非貫通槽，第二定位槽212的數量也可設置有多個，在此均不作具體的限定，僅需能夠與回料件232卡接適配即可。

在一實施例中，如圖5所示，所述托料治具21的底面和/或側面凸設有滾珠結構213，所述滾珠結構213可與所回料模組23的所述回料導軌231滾動接觸。如此可減少托料治具21與回料導軌231之間的摩擦，使得托料治具21可以滑動得更加順暢和快速，提高等離子清洗機10的清洗效率。

在一實施例中，如圖2或圖3所示，所述送料模組22和所述回料模組23均具有換料端和清洗端，所述升降裝置24設有兩個，且其中一個與所述換料端對應，另一個與所述清洗端對應。可以理解的是，通過兩個升降裝置24分別負責托料治具21的頂升換料和頂升清洗，進而不需要控制升降裝置24沿送料導軌221(或回料導軌231)的延伸方向來回運動，不僅有利於提高等離子清洗機10的清洗效率，還不需要為升降裝置24預留來回運動的空間，使得等離子清洗機10的結構可以更加的緊湊。

在一實施例中，如圖6所示，所述升降裝置24具有用於與所述托料治具21抵接的抵接部，所述抵接部和所述托料治具21中的一者設有定位凸起241，另一者設有與所述定位凸起241適配的定位孔214。具體的，可以是升降裝置24的抵接部上設置有定位凸起241，托料治具21的底面設置有定位孔 214。在升降裝置24將托料治具21頂升時，抵接部上的定位凸起241伸入定位孔214內。直至抵接部與托料治具21相抵接。以保證托料治具21在頂升和下降的過程中都不會發生偏移或掉落的情況。

以上所述僅為本發明的優選實施例，並非因此限制本發明的專利範圍，凡是在本發明的發明構思下，利用本發明說明書及附圖內容所作的等效結構變換，或直接/間接運用在其他相關的技術領域均包括在本發明的專利保護範圍內。

20:托料治具循環機構

21:托料治具

222:送料件

22:送料模組

23:回料模組

24:升降裝置

Claims (9)

1. 一種托料治具循環機構，其特徵在於，包括：托料治具，用於放置待清洗的物料；送料模組，包括並行且間隔排布的兩條送料導軌、以及滑動安裝於所述兩條送料導軌上的送料件；所述兩條送料導軌的間隔大於所述托料治具在所述兩條送料導軌的排布方向上的寬度，所述送料件呈具有開口的半包圍結構並能夠定位以及帶動所述托料治具移動；回料模組，設於所述送料模組的所述兩條送料導軌之間且位於所述送料件的下方，並能夠帶動所述托料治具移動；以及，升降裝置，設於所述回料模組的下方，所述升降裝置能夠帶動所述托料治具在所述送料模組和所述回料模組之間循環切換；所述送料件具有與所述兩條送料導軌一一對應滑動連接的兩個滑動部，每個所述滑動部連接有朝向另一滑動部凸出的定位塊，所述定位塊用以支撐及定位所述托料治具；每個所述滑動部呈板狀結構，兩個所述滑動部之間還連接有一連接部，以保證兩個所述滑動部之間的相對位置保持穩定。
2. 如請求項1所述的托料治具循環機構，所述托料治具設有與所述定位塊適配的第一定位槽，所述定位塊可卡接於所述第一定位槽內；和/或，每個所述滑動部上的所述定位塊具有面向另一滑動部的限位面，多個所述限位面共同限位所述托料治具在所述兩條送料導軌的排布方向上的位移。
3. 如請求項1所述的托料治具循環機構，所述定位塊與所述送料件轉動連接，以使所述定位塊能夠向上翻轉。
4. 如請求項3所述的托料治具循環機構，每個所述滑動部上的所述定位塊還具有朝向所述回料模組上的導向面，所述導向面在遠離所述回料模組的方向上，逐漸朝另一滑動部所在的一側傾斜。
5. 如請求項1所述的托料治具循環機構，所述回料模組包括並行且間隔排布的兩條回料導軌，至少一條所述回料導軌上滑動安裝有回料件，所述回料件能夠定位以及帶動所述托料治具移動。
6. 如請求項5所述的托料治具循環機構，托料治具還設有與所述回料件適配的第二定位槽，所述回料件可卡接於所述第二定位槽內。
7. 如請求項5所述的托料治具循環機構，所述托料治具的底面和/或側面凸設有滾珠結構，所述滾珠結構可與所回料模組的所述回料導軌滾動接觸。
8. 如請求項1至7任一項所述的托料治具循環機構，所述送料模組和所述回料模組均具有換料端和清洗端，所述升降裝置設有兩個，且其中一個與所述換料端對應，另一個與所述清洗端對應。
9. 如請求項1至7任一項所述的托料治具循環機構，所述升降裝置具有用於與所述托料治具抵接的抵接部，所述抵接部和所述托料治具中的一者設有定位凸起，另一者設有與所述定位凸起適配的定位孔。

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