TWI789367B - 含有鋰的玻璃 - Google Patents
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Abstract
一種玻璃物件，其包括以氧化物計：60 mol%至74 mol% SiO2
、7 mol%至18 mol% Al2
O3
、3 mol%至16 mol% B2
O3
、0 mol%至6 mol% Na2
O、0 mol%至5 mol% P2
O5
、5 mol%至11 mol% Li2
O、小於或等於0.2 mol% SnO2
、及0.5 mol%至6.5 mol%二價陽離子氧化物。該玻璃物件具有大於或等於0.9的Al2
O3
:(R2
O + RO)之莫耳比率，其中R2
O為以mol%計的鹼金屬氧化物之總和且RO為以mol%計的二價陽離子氧化物之總和。
Description
本申請案根據專利法主張2016年11月07日申請的美國臨時申請案序列號第62/418367號、2017年1月30日申請的美國臨時申請案序列號第62/452004號、及2017年9月29日申請的美國臨時申請案序列號第62/565190號之優先權權益，每一申請案之內容為本案之基礎且以全文引用方式併入本文中。
本說明書大體上係關於低黏度玻璃及含有鋰的玻璃。更明確而言，本說明書係關於可用作蓋玻璃的低黏度玻璃及含有鋰的鋁矽酸鹽玻璃之製造。本說明書亦係關於含有熔合線之低黏度及含有鋰的鋁矽酸鹽玻璃。
諸如智慧型電話、平板電腦、可攜式媒體播放器、個人電腦、及攝影機之可攜式裝置之行動特徵使得此等裝置尤其易受意外掉落於諸如地面之硬表面上之影響。此等裝置典型地併入有蓋玻璃，該等蓋玻璃可在與硬表面碰撞時變損壞。在許多此等裝置中，蓋玻璃係用作顯示器蓋件且可併入有觸控功能，以使得裝置之使用在蓋玻璃遭損壞時受負面地影響。
當相關聯可攜式裝置掉落至硬表面上時，存在兩種主要的蓋玻璃斷裂模式。模式之一為撓曲斷裂，其係藉由當裝置經受來自與硬表面碰撞之動態負載時玻璃之彎曲所引起。另一模式為突然接觸斷裂，其係藉由將損壞引入玻璃表面而引起。玻璃與諸如瀝青、花岡岩、等等之粗糙硬表面之碰撞可導致玻璃表面中之尖銳壓痕。此等壓痕變成玻璃表面中之斷裂位點，裂紋可自該等斷裂位點生成並傳播。
玻璃可藉由離子交換技術製成對撓曲斷裂更具抵抗力，該離子交換技術涉及在玻璃表面中誘導壓縮應力。然而，離子交換玻璃將仍易受動態突然接觸之影響，此係由於藉由因突然接觸的玻璃中之局部壓痕所引起的高應力濃度。
玻璃製作者及手持式裝置製造商已做出持續努力來改良手持式裝置對突然接觸斷裂之抵抗力。解決方案範圍從蓋玻璃上之塗層至阻止蓋玻璃在裝置掉落於硬表面上時直接地觸碰硬表面之邊框。然而，歸因於美學及功能要求之約束，極難以完全地阻止蓋玻璃觸碰硬表面。
可攜式裝置儘可能薄亦為合乎需要的。因此，除強度之外，將要在可攜式裝置中用作蓋玻璃的玻璃製程儘可能薄的亦為合乎需要的。因此，除增加蓋玻璃之強度之外，玻璃具有允許其藉由能夠製成諸如薄玻璃片之薄玻璃物件之製程形成的機械特性亦為合乎需要的。
玻璃成形設備通常用於形成各種玻璃製品，諸如用於LCD顯示器、可攜式裝置、及類似者之玻璃片。此等玻璃片可藉由在成形楔形物上使熔融玻璃向下流動以形成連續玻璃帶而製造。正在發展的技術係使用具有越來越低的液相線黏度之玻璃組成物。因而，較高的成形溫度係用於阻止熔融玻璃在橫越成形楔形物時之脫玻作用。
因此，存在對用於形成玻璃帶之替代方法及設備之需要，該等替代方法及設備可提供較高的成形溫度來緩和具有較低液相線黏度之玻璃的脫玻作用。因此，亦對可諸如藉由離子交換而強化且具有允許其形成為薄玻璃物件之機械性質的玻璃存在需要。
根據一些實施例，玻璃物件包含以氧化物計：大於或等於60 mol%至小於或等於74 mol% SiO2
；大於或等於7 mol%至小於或等於18 mol% Al2
O3
；大於或等於3 mol%至小於或等於16 mol% B2
O3
；大於0 mol%至小於或等於6 mol% Na2
O；大於或等於0 mol%至小於或等於5 mol% P2
O5
；大於或等於5 mol%至小於或等於11 mol% Li2
O；小於或等於0.2 mol% SnO2
、及大於或等於0.5 mol%至小於或等於6.5 mol%二價陽離子氧化物。玻璃物件具有大於或等於0.9的Al2
O3
:(R2
O+RO)之莫耳比率，其中R2
O為以mol%計的鹼金屬氧化物總和且RO為以mol%計的二價陽離子氧化物總和。
根據一些實施例，玻璃物件包含以氧化物計：大於或等於60 mol%至小於或等於66 mol% SiO2
；大於或等於11.5 mol%至小於或等於18 mol% Al2
O3
；大於或等於3 mol%至小於或等於8 mol% B2
O3
；大於或等於2 mol%至小於或等於6 mol% Na2
O；大於或等於0 mol%至小於或等於5 mol% P2
O5
；大於或等於5 mol%至小於或等於11 mol% Li2
O；及大於或等於0.5 mol%至小於或等於6.5 mol%二價陽離子氧化物。玻璃物件具有大於或等於0.9的Al2
O3
:(R2
O+RO)之莫耳比率，其中R2
O為以mol%計的鹼金屬氧化物總和且RO為以mol%計的二價陽離子氧化物總和。
根據一些實施例，玻璃物件包含以氧化物計：大於或等於65 mol%至小於或等於74 mol% SiO2
；大於或等於7 mol%至小於或等於12 mol% Al2
O3
；大於或等於5 mol%至小於或等於16 mol% B2
O3
；大於或等於0 mol%至小於或等於4 mol% Na2
O；大於或等於0 mol%至小於或等於5 mol% P2
O5
；大於或等於5 mol%至小於或等於11 mol% Li2
O；及大於或等於0.5 mol%至小於或等於6.5 mol%二價陽離子氧化物。玻璃物件具有大於或等於0.9的Al2
O3
:(R2
O+RO)之莫耳比率，其中R2
O為以mol%計的鹼金屬氧化物總和且RO為以mol%計的二價陽離子氧化物總和。
根據一些實施例，玻璃物件包含Li2
O、SiO2
、Al2
O3
、及小於或等於300 kP之液相黏度，其中RI退火
-RI剛形成
大於或等於0.0003，其中RI退火
為在589 nm之波長下在玻璃之退火點下加熱1小時的玻璃之折射率，且RI剛形成
為在589 nm之波長下剛形成的玻璃之折射率。
根據一些實施例，消費者電子產品包含外殼，該外殼具有前表面、背表面、及側表面；至少部分地提供在該外殼內的電氣組件，該等電氣組件包括至少控制器、記憶體、及顯示器，該顯示器係提供在該外殼之該前表面處或相鄰於該前表面；以及蓋基板，該蓋基板安置在該顯示器之上。該外殼之一部分或該蓋基板中之至少一者包含上文所述的第一實施例、第二實施例、第三實施例或第四實施例中之任一者的玻璃物件。
在其他實施例中，玻璃物件包含SiO2
、Al2
O3
、B2
O3
、Li2
O、SnO2
及熔合線。玻璃物件亦可包含Na2
O或P2
O5
。在一些實施例中，玻璃物件包含以氧化物計：大於或等於60 mol%至小於或等於74 mol% SiO2
；大於或等於7 mol%至小於或等於18 mol% Al2
O3
；大於或等於3 mol%至小於或等於16 mol% B2
O3
；大於0 mol%至小於或等於6 mol% Na2
O；大於或等於0 mol%至小於或等於5 mol% P2
O5
；大於或等於5 mol%至小於或等於11 mol% Li2
O；及小於或等於0.2 mol% SnO2
。在一些實施例中，玻璃物件包含大於或等於0.9的Al2
O3
:(R2
O+RO)之莫耳比率，其中R2
O為以mol%計的鹼金屬氧化物總和且RO為以mol%計的二價陽離子氧化物總和。在一些實施例中，玻璃物件包含小於或等於300 kP、小於或等於100 kP、小於或等於50 kP、或小於或等於25 kP之液相黏度。在一些實施例中，玻璃物件係藉由離子交換製程強化，以使得壓縮應力層形成在玻璃物件之至少一個表面上。在一些實施例中，玻璃物件包含大於或等於0.15t之壓縮深度，其中t為玻璃物件之厚度。在一些實施例中，玻璃物件包含大於或等於0.15t至小於或等於0.25t之壓縮深度(depth of compression; DOC)，其中t為玻璃物件之厚度。在一些實施例中，玻璃物件包含大於或等於30 MPa至小於或等於150 MPa之中心張力。在一些實施例中，玻璃物件係藉由將鉀離子添加至玻璃物件之離子交換製程強化，且鉀層深度(depth of layer; DOL)大於或等於5 μm至小於或等於30 μm。在一些實施例中，玻璃物件包含壓縮應力層，該壓縮應力層在其表面具有大於或等於300 MPa至小於或等於950 MPa之壓縮應力。在一些實施例中，玻璃物件包含大於或等於5 N至小於或等於24 N之努普刮擦側向開裂閾值。在一些實施例中，玻璃物件包含大於或等於15 kgf之壓痕破裂閾值。
在另外的實施例中，玻璃物件包含SiO2
、Al2
O3
及小於或等於100 kP、小於或等於50 kP、或小於或等於25 kP之液相黏度。在一些實施例中，玻璃物件包含以莫耳氧化物計：大於或等於60 mol%至小於或等於74 mol% SiO2
；大於或等於7 mol%至小於或等於18 mol% Al2
O3
；大於或等於3 mol%至小於或等於16 mol% B2
O3
；大於0 mol%至小於或等於6 mol% Na2
O；大於或等於0 mol%至小於或等於5 mol% P2
O5
；大於或等於5 mol%至小於或等於11 mol% Li2
O；及小於或等於0.2 mol% SnO2
。在一些實施例中，玻璃物件係藉由離子交換製程強化，以使得壓縮應力層形成在玻璃物件之至少一個表面上。在一些實施例中，玻璃物件包含大於或等於0.15t之壓縮深度，其中t為玻璃物件之厚度。在一些實施例中，玻璃物件包含大於或等於0.15t至小於或等於0.25t之壓縮深度(depth of compression; DOC)，其中t為玻璃物件之厚度。在一些實施例中，玻璃物件包含大於或等於30 MPa至小於或等於150 MPa之中心張力。在一些實施例中，玻璃物件係藉由將鉀離子添加至玻璃物件之離子交換製程強化，且鉀層深度(depth of layer; DOL)大於或等於5 μm至小於或等於30 μm。在一些實施例中，玻璃物件包含壓縮應力層，該壓縮應力層在其表面具有大於或等於300 MPa至小於或等於950 MPa之壓縮應力。
在其他實施例中，玻璃物件包含至少Li2
O以及SiO2
、Al2
O3
、B2
O3
、及SnO2
中之一或多者，且進一步包含熔合線。在一些實施例中，玻璃物件包含Na2
O或P2
O5
。在一些實施例中，玻璃物件包含以氧化物計：大於或等於60 mol%至小於或等於74 mol% SiO2
；大於或等於7 mol%至小於或等於18 mol% Al2
O3
；大於或等於3 mol%至小於或等於16 mol% B2
O3
；大於0 mol%至小於或等於6 mol% Na2
O；大於或等於0 mol%至小於或等於5 mol% P2
O5
；大於或等於5 mol%至小於或等於11 mol% Li2
O；及小於或等於0.2 mol% SnO2
。在一些實施例中，玻璃物件包含大於或等於0.9的Al2
O3
:(R2
O+RO)之莫耳比率，其中R2
O為以mol%計的鹼金屬氧化物總和且RO為以mol%計的二價陽離子氧化物總和。在一些實施例中，玻璃物件包含小於或等於300 kP、小於或等於100 kP、小於或等於50 kP、或小於或等於25 kP之液相黏度。
在另外的實施例中，玻璃物件包含SiO2
、Al2
O3
、Li2
O，且進一步包含小於或等於100 kP之液相黏度及熔合線。在一些實施例中，玻璃物件包含小於或等於50 kP或小於或等於25 kP之液相黏度。在一些實施例中，玻璃物件包含以莫耳氧化物計：大於或等於60 mol%至小於或等於74 mol% SiO2
；大於或等於7 mol%至小於或等於18 mol% Al2
O3
；大於或等於3 mol%至小於或等於16 mol% B2
O3；大於0 mol%至小於或等於6 mol% Na2
O；大於或等於0 mol%至小於或等於5 mol% P2
O5
；大於或等於5 mol%至小於或等於11 mol% Li2
O；及小於或等於0.2 mol% SnO2
。在一些實施例中，玻璃物件係藉由離子交換製程強化，以使得壓縮應力層形成在玻璃物件之至少一個表面上。
另外的特徵及優點將在以下的詳細描述中闡述，且在部分程度上，熟習此項技術者將根據該描述而容易明白該等特徵及優點，或藉由實踐本文(包括隨後的實施方式、發明申請專利範圍以及隨附圖式)所述的實施例來認識該等特徵及優點。
應理解，前述的一般描述及以下詳細描述描述各種實施例，且意欲提供用於理解所請求標的之性質及特徵的概述及框架。納入隨附圖式來提供對各種實施例的進一步理解，且併入本說明書中並構成本說明書之一部分。圖式說明本文描述的各種實施例，且連同說明書一起用以解釋所請求標的之原理及操作。
現在參考用於製造此種低黏度玻璃及含有鋰的鋁矽酸鹽玻璃之製造系統及製程之細節。現將參考根據各種實施例的低黏度玻璃及含有鋰的鋁矽酸鹽玻璃之細節。亦將參考含有熔合線之低黏度及含有鋰的鋁矽酸鹽玻璃之細節。
玻璃製造系統
現將參考用於形成玻璃帶之方法及設備之實施例之細節，該等方法及設備之實例係例示在隨附圖式中。在任何可能的情況下，整個圖式中將使用相同元件符號來指代相同或相似部件。用於製造玻璃帶之設備之一個實施例係展示在第1圖中，且全文中大體上以元件符號10來指定。根據一個實施例，用於形成玻璃帶之設備包括成形楔形物，其安置在外殼中且包含一對在根部處會合的向下傾斜成形表面部分。複數個加熱匣盒可定位於外殼之埠中。每一加熱匣盒可包括熱導向表面，其以相對於加熱匣盒之底部表面的大於約90°之角度定向。熱導向表面可包括相鄰於熱導向表面定位的加熱元件。加熱匣盒可經定位以使得熱導向表面面向成形楔形物，且熱導向表面之上緣及加熱匣盒之頂部表面係定位在成形楔形物之根部或成形楔形物之流槽中至少一者的上方，以將來自加熱匣盒之熱導向表面的熱朝向成形楔形物之根部或成形楔形物之流槽導向。用於形成玻璃帶之方法及設備之各種實施例將在本文特定地參考隨附圖式來進一步詳細描述。
本文中可將範圍表述為自「約」一個特定值，及/或至「約」另一特定值。當表述此範圍時，另一實施例包括自該一個特定值及/或至該另一特定值。類似地，當藉由使用先行詞「約」將值表述為近似值時，應理解，特定值形成另一實施例。應進一步理解，範圍中每一者之端點相對於另一端點而言及獨立於另一端點而言均有意義。
如本文所使用的方向性用詞——例如，上、下、右、左、前、後、頂部、底部——僅係參考所繪製之圖式而言，且不意欲暗示絕對定向。
除非另外明確地說明，否則絕不意欲將本文中所闡述的任何方法解釋為需要其步驟以特定順序進行，或需要任何設備特定之定向。因此，在方法請求項實際上未敘述其步驟所遵循之順序，或任何設備請求項實際上未敘述個別組件之順序或定向時，或在申請專利範圍或說明書中未另外明確說明步驟應限於一特定順序，或未敘述設備之組件之特定順序或定向的情況下，絕不意欲在任何方面推斷順序或定向。這適用於任何可能的用於解釋的非表達基礎，包括：相對於步驟、操作流程、組件順序、組件定向之佈置的邏輯事宜；自語法組織或標點符號得到的簡單意義；及在本說明書中描述的實施例的數量或類型。
如本文所使用，除非上下文另有清楚規定，否則單數形式「一(a/an)」及「該(the)」包括複數提及物。因此，例如，除非上下文另外明確指示，否則提及「一」組分包括具有兩種或兩種以上此等「組分」之態樣。
現參考第1圖，示意地描繪用於形成玻璃帶12之玻璃成形設備10之一個實施例。玻璃成形設備10大體上包括經配置以自儲倉18接收玻璃批料16的熔融容器15。玻璃批料16可藉由馬達22供電的分批遞送裝置20引入至熔融容器15。可提供可選控制器24來啟動馬達22，且熔融玻璃位準探針28可用於量測豎管30內的玻璃熔體位準且將所量測資訊傳達至控制器24。
玻璃成形設備10包括澄清容器38，諸如澄清管，其位於熔融容器15下游且經由第一連接管36耦接至熔融容器15。諸如攪拌室之混合容器42位於澄清容器38下游。諸如槽池之遞送容器46可位於混合容器42下游。如所描繪，第二連接管40將澄清容器38耦接至混合容器42，且第三連接管44將混合容器42耦接至遞送容器46。如進一步所例示，定位降流管48以自遞送容器46遞送玻璃熔體至成形容器60之進口50。
熔融容器15典型地自諸如耐火(例如陶瓷)磚之耐火材料製成。玻璃成形設備10可進一步包括典型地由鉑或含鉑金屬(諸如鉑-銠、鉑-銥及其組合)製成的組件，但該等組件亦可包含諸如鉬、鈀、錸、鉭、鈦、鎢、釕、鋨、鋯及其合金的耐火金屬及/或二氧化鋯。含鉑組件可包括以下一或多者：第一連接管36、澄清容器38、第二連接管40、豎管30、混合容器42、第三連接管44、遞送容器46、降流管48及進口50。成形容器60亦可由耐火材料(例如，耐火磚及/或耐火金屬)製成且係設計來將玻璃熔體形成為玻璃帶12。
第2圖為玻璃成形設備10的沿第1圖之線2-2的橫截面透視圖。如圖所示，成形容器60包括成形楔形物62，其包含向上(亦即，在第2圖中描繪的坐標軸之+x方向上)敞開流槽61、一對向下(亦即，在第2圖中描繪的坐標軸之-x方向上)傾斜成形表面部分66a、66b，該等向下傾斜成形表面部分在成形楔形物62之相對端部64a、64b之間延伸。向下傾斜成形表面部分66a、66b沿下游方向68會合以形成根部70。拉製平面72延伸穿過根部70。玻璃帶12可在下游方向68上沿拉製平面72自成形楔形物62拉製，此將在本文進一步描述。如所描繪的，拉製平面72在成形容器60的穿過根部70之大體上水平、縱向方向(第2圖中描繪的坐標軸之+/-y方向)上將根部70平分。然而，應理解，除穿過根部將成形容器60平分之外，拉製平面72可在相對於根部70之其他各種定向上延伸。雖然第1圖及第2圖大體上描繪玻璃成形設備及成形容器之一個實施例，但亦應理解本揭示內容之態樣可與各種其他成形容器配置一起使用。
參考第1圖及第2圖，在某些實施例中，成形容器60可包含與該對向下傾斜成形表面部分66a、66b相交的邊緣導向器80a、80b。邊緣導向器有助於藉由將熔融玻璃導向至緊鄰於成形容器60之根部70而達成所欲玻璃帶寬度及邊緣特性。在其他實施例中，邊緣導向器可與向下傾斜成形表面部分66a、66b兩者相交。另外或替代地，在某些實施例中，邊緣導向器可定位在成形楔形物62之相對端部64a、64b中每一者處。例如，如第1圖所示，邊緣導向器80a、80b可定位在成形楔形物62之相對端部64a、64b中每一者處，其中每一邊緣導向器80a、80b經配置以與向下傾斜成形表面部分66a、66b兩者相交。如進一步所例示，每一邊緣導向器80a、80b實質上彼此相同。然而，應理解，在替代實施例中，邊緣導向器可取決於玻璃成形設備之特定特性而具有不同配置及/或幾何形狀。另外，應理解可根據本揭示內容之態樣使用各種成形楔形物及邊緣導向器配置。例如，本揭示內容之態樣可與如以下各項中揭示的成形楔形物及邊緣導向器配置一起使用：美國專利第3,451,798號、美國專利第3,537,834號、美國專利第7,409,839號、2014年5月15日申請的美國專利申請案第14/278582號、及/或2009年2月26日申請的美國臨時專利申請案第61/155,669號，其中每一者係以引用方式併入本文。
仍參考第1圖，玻璃成形設備10可視需要包括用於自成形容器60之根部70拉製玻璃帶的至少一個邊緣滾筒總成(未展示)。應理解，可根據本揭示內容之態樣使用各種邊緣滾筒總成配置，此將在下文進一步詳細論述的。
外殼14包封成形容器60。外殼14可由鋼形成且含有耐火材料及/或絕緣材料以將成形容器60及流入成形容器60並圍繞成形容器60流動的熔融玻璃與周圍環境熱絕緣。雖然未展示，但外殼14可包括複數個冷卻管或刀片，其可利用水或其他傳熱介質(例如，空氣等等)來自成形容器60之部分提取能量。在外殼14中較高的高程處，例如，在成形容器60之堰口上方或緊鄰該等堰口或緊鄰成形容器60之成形表面的此種冷卻管或刀片可更快速地增加黏度，以進而改良玻璃剛度及對松垂翹曲之抵抗力。另外，在此等較高的高程處的一或多對此種冷卻管或刀片可致能對相同厚度之玻璃帶而言較低的根部黏度。
現參考第1圖-第2圖，在操作中，批料16、特定而言用於形成玻璃之批料係利用分批遞送裝置20自儲倉18饋送至熔融容器15中。批料16係於熔融容器15中熔融成熔融玻璃。熔融玻璃經由第一連接管36自熔融容器15傳遞至澄清容器38中。可導致玻璃缺陷之溶解氣體在澄清容器38中自熔融玻璃移除。熔融玻璃隨後經由第二連接管40自澄清容器38傳遞至混合容器42中。混合容器42諸如藉由攪拌將熔融玻璃均質化，且均質化熔融玻璃經由第三連接管44傳遞至遞送容器46。遞送容器46經由降流管48排出均質化熔融玻璃且將其排出至進口50中，繼而將均質化熔融玻璃傳遞至成形容器60之流槽61中。
當熔融玻璃17填充成形楔形物62之向上敞開流槽61時，其溢流出流槽61且流過傾斜成形表面部分66a、66b並在成形楔形物62之根部70處重新接合，進而成形玻璃帶12。如在第2圖中所描繪，玻璃帶12可在下游方向68上沿延伸穿過根部70之拉製平面72拉製。
對於如第1圖-第2圖中描繪的玻璃成形設備而言，已發現諸如利用有機發光二極體(organic light emitting diode; OLED)技術之高效能顯示器(high performance display; HPD)或蓋玻璃顯示器的正在發展的技術受益於難以形成的玻璃組成物，諸如具有較低液相線黏度及/或含有鋰的鋁矽酸鹽玻璃之玻璃組成物。此種玻璃組成物典型地利用較高成形溫度來製成以阻止在自成形容器60拉製的玻璃帶中缺陷之形成，諸如脫玻作用。本文描述的玻璃成形設備亦可利用緊鄰成形容器60之根部定位的加熱匣盒，以在相對高成形溫度下維持熔融玻璃，進而輔助片材成形製程並阻止玻璃帶中缺陷之形成。
再次特定地參考第1圖-第3圖，為維持自成形容器60之根部70拉製的玻璃帶12中的熔融玻璃之相對高溫，玻璃成形設備10進一步包括複數個加熱匣盒110、111，該等加熱匣盒係定位於外殼14及/或外殼密封板136 (第3圖)中成形的一系列埠112中。外殼密封板136形成外殼14之一部分(第1圖-第2圖)。如第3圖所示，第一系列埠112及第二系列埠(未展示)經配置以使得第一複數個加熱匣盒110及第二複數個加熱匣盒111位於根部70之相對側上，以使得拉製平面72在第一複數個加熱匣盒110與第二複數個加熱匣盒111之間延伸。將更詳細地描述第一複數個加熱匣盒110及第一系列埠112。然而，應理解，第一複數個加熱匣盒110及第二複數個加熱匣盒111與另一者實質上相同或具有類似構造。類似地，應理解，每一系列埠112與另一者實質上相同或具有類似構造。
如第1圖-第2圖中所描繪，第一系列埠112跨成形容器60之寬度(第1圖及第2圖中描繪的坐標軸之+/-y方向)排列，以使得第一系列埠112跨其上拉製玻璃帶12之拉製平面72之寬度(第1圖及第2圖中描繪的坐標軸之+/-y方向)。因此，應理解，當***相應埠中時，第一複數個加熱匣盒110亦跨成形容器60之寬度排列且跨玻璃帶12之拉製平面72之寬度延伸。在一些實施例中，第一系列埠112中之每一埠跨成形容器之寬度側向地(亦即，在第1圖及第2圖中描繪的坐標軸之+/-y方向)彼此間隔分開。在某些實施例中，第一系列埠112中之每一埠可側向地彼此間隔分開相等距離。
第一複數個加熱匣盒110可經配置以將熱導向至根部70上，進而將根部70維持在所欲溫度下，如高於熔融玻璃之脫玻溫度，且繼而減輕玻璃中缺陷之形成。如第2圖及第3圖中所描繪，第一系列埠112可位於外殼14中以使得第一複數個加熱匣盒110定位成在-z方向上相鄰於成形容器60之根部70且與該根部間隔。在第3圖中描繪的實施例中，第一複數個加熱匣盒110在-z方向上與根部70間隔，且進一步經定位以使得每一加熱匣盒110之一部分位於根部70上方(坐標軸之+x方向)且一部分位於根部70下方(在坐標軸之-x方向上)。替代地，在第1圖中描繪的實施例中，第一系列埠112可位於外殼14中以使得第一複數個加熱匣盒110完全地定位在根部70上方。在其他實施例(未展示)中，第一系列埠112可位於外殼14中以使得第一複數個加熱匣盒110定位在根部70下方。
第1圖-第3圖描繪第一複數個加熱匣盒110，其包括五個加熱匣盒110a、110b、110c、110d、110e。因此，第1圖-第3圖描繪定位於第一系列埠112中的此等五個加熱匣盒，該第一系列埠包括形成在外殼14中之五個埠112a、112b、112c、112d、112e。然而，應理解，此為示範性數量且第一複數個加熱匣盒110中之加熱匣盒數量及第一系列埠112中之相應埠數量可多於五個或小於五個。同樣地，加熱匣盒之寬度取決於所利用的加熱匣盒之數量以及成形容器之寬度。例如，第1圖例示跨成形容器之全寬度的五個加熱匣盒，而第1圖例示跨小於成形容器之全寬度的五個加熱匣盒。本文將更詳細地描述第一複數個加熱匣盒110之一。然而，應理解，第一複數個加熱匣盒110之每一加熱匣盒110a、110b、110c、110d、110e，以及第二複數個加熱匣盒111之每一加熱匣盒係實質上相同或具有類似構造。
現參考第3圖-第5圖，在實施例中，第一複數個加熱匣盒110中之每一者包括具有熱導向表面122之包殼120，其中至少一個加熱元件124定位在該熱導向表面之面上或相鄰於該面。包殼120可由適於在相關聯於玻璃成形設備10之高溫條件下使用的各種材料製造。例如，包殼120及加熱匣盒110a之其他部分可由耐火材料形成以符合相關聯於玻璃成形設備10之結構及/或熱參數，該耐火材料諸如高溫鎳基合金、鋼(例如，不銹鋼)、或其他合金或材料(或材料之組合)。例如，在一個實施例中，包殼120可由鎳基合金製成，該等鎳基合金諸如藉由Haynes International, Inc.生產的Haynes® 214®鎳基合金。
雖然第3圖-第5圖描繪加熱匣盒110a為包含包殼，但應理解涵蓋其他實施例且為可能的。例如，不同於包括單獨的包殼120，熱導向表面122可附著至一塊(或多塊)耐火材料而非具有由金屬/合金形成的單獨包殼。例如且無限制地，在實施例中，熱導向表面係附著至由藉由ANH refractories生產的NA-33耐火磚形成的主體。
在一個實施例中，加熱匣盒110a之熱導向表面122係由具有低發射率之陶瓷耐火背襯材料形成。適合的陶瓷耐火材料包括而不限於可購自Zircar ceramics之SALI板。加熱匣盒110a的不直接暴露於玻璃成形設備10之高溫的部分可由適用於較低溫度應用的材料製成。例如，當加熱匣盒110a包含包殼時，包殼120之背面125可由經選擇來符合相關聯於玻璃成形設備10之結構及/或熱參數的不銹鋼(諸如,例如420不銹鋼)製成。
在本文所述的實施例中，加熱匣盒110a之熱導向表面122係以相對於加熱匣盒110a之底部表面126的角度a來定向。在本文所述的實施例中，角度a係大於90°。例如，在某些實施例中，熱導向表面122之角度a可為相對於加熱匣盒110a之底部表面126約120°至約150°。在其他實施例中，熱導向表面122之角度a可為相對於加熱匣盒110a之底部表面126約130°至約140°。在特定實施例中，熱導向表面122之角度a可為相對於加熱匣盒110a之底部表面126約135°。
在一些實施例中，熱導向表面122之面向下定向促進將加熱匣盒110a定位在玻璃成形設備10之外殼14中以使得每一可更換加熱匣盒之熱導向表面122面向成形容器60之根部70。特定而言，熱導向表面122之面向下定向致能熱導向表面122僅以對周圍環境之最小熱損失將熱朝向成形容器60之根部70輻射並導向至該根部上，尤其至根部70上方之區域，諸如加熱匣盒上方之區域。
再次參看第1圖-第3圖，在一些實施例中，加熱匣盒110a係定位於玻璃成形設備10之外殼14中，以使得熱導向表面122之上緣123及每一加熱匣盒110a之頂部表面127係定位在根部70上方。此定位致能加熱匣盒110a之熱導向表面122以將熱朝向成形容器60之根部70導向且導向至該根部上，進而增加根部70之溫度以及在根部70之區域中流過成形容器60的熔融玻璃之溫度。例如，如第1圖中所描繪，加熱匣盒110a可完全地定位在根部70上游。在替代實施例中，如第3圖中所描繪，加熱匣盒110a可部分地定位在根部70上游。例如，加熱匣盒110a之頂部表面127可定位在根部70上游，而加熱匣盒110a之底部表面126定位在根部70下游。將加熱匣盒110a部分地定位在根部70上游可提供對根部70之足夠加熱以阻止熔融玻璃之脫玻作用，同時歸因於加熱匣盒之成角度熱導向面而減少對根部70上方的非目標區域之熱損失。另外，將加熱匣盒110a部分地定位在根部70上游可允許加熱匣盒、尤其是熱導向表面122定位成較接近於根部70，以使得較大熱量入射至根部70及流過根部70之熔融玻璃上。
更明確而言，熱導向表面122之角度及加熱匣盒110a在外殼14內之位置使得來自熱導向表面之視角因數(view factor)對位於加熱匣盒110a之頂部表面127下方的物體(諸如成形容器60之根部70)比位於加熱匣盒110a之頂部表面127上方的物體更大。如本文所使用的術語「視角因數」係指自熱導向表面122入射至指定表面上的熱輻射之相對比例。例如，因為來自熱導向表面122之視角因數對位於加熱匣盒110a之頂部表面127下方的物體(諸如成形容器60之根部70)比位於加熱匣盒110a之頂部表面127上方的物體更大，所以位於加熱匣盒110a之頂部表面127下方的物體將比位於加熱匣盒110a之頂部表面127上方的物體接收來自加熱匣盒110a之熱導向表面122的較大量之熱通量。
在一些其他實施例(未展示)中，加熱匣盒110可定位在根部70下游(亦即，在-x方向上)。在此等實施例中，加熱匣盒之熱導向面可成角度以當熱沿成角度的熱導向面產生時將熱朝向根部70導向。
在本文所述的實施例中，應理解，加熱匣盒110a可用作用於加熱根部70之加熱器以及將加熱匣盒110a上方的區域與加熱匣盒110a下方的區域熱隔離及屏蔽的熱屏蔽，從而阻止來自根部70及流過根部70的熔融玻璃的熱損失至位於成形容器60之根部70上方的非目標區域。特定而言，如上文所述，加熱匣盒110a之熱導向表面122係以相對於加熱匣盒110a之底部表面126的大於90°之角度a來定向。因而，加熱匣盒110a之頂部表面127及熱導向表面122之上緣123係懸垂於加熱匣盒110a之下緣129及底部表面126之上。熱導向表面122之此配置產生如本文描述的加熱匣盒之視角因數。另外，熱導向表面122之懸垂配置使熱導向表面122跨熱導向表面122與成形容器60之間的間隙170延伸，從而減小成形容器60與加熱匣盒之間的間距並減慢來自根部下游的區域至玻璃成形設備10中位於成形容器60之根部70上游的區域之熱損失。因而，加熱匣盒110a亦將熱導向表面122上方的區域與熱導向表面122下方的區域熱屏蔽。
仍參考第4圖-第5圖，定位在熱導向表面122上或定位成相鄰於熱導向表面122之加熱元件124為電阻加熱元件。在某些實施例中，電阻加熱元件之材料可為二矽化鉬。在一些實施例中，加熱元件124可由自二矽化鉬形成的線材構造。例如且無限制地，在一個實施例中，加熱元件124可由定位在熱導向表面122上的呈蛇形之二矽化鉬線材構造。例如且無限制地，由二矽化鉬形成的加熱元件124可包括定位在熱導向表面122上之繞組元件。加熱元件124的延伸穿過加熱匣盒110a之端部可具有經選擇來最小化離開熱導向表面122之功率損耗的直徑。
已判定如本文描述的成形加熱匣盒可大大地改良加熱匣盒之加熱效率。此可歸因於相較於其他材料以及另外的耐火材料絕緣及成角度熱導向表面而言二矽化鉬加熱元件之功率載荷容量增加。另外，亦發現諸如本文描述的加熱匣盒的分段加熱匣盒及二矽化鉬加熱元件之組合允許在根部70處比其他習知加熱元件材料的成形溫度高。例如，此致能較高成形溫度之使用，繼而阻止熔融玻璃之脫玻作用且緩和自成形容器60之根部70拉製的玻璃帶中之缺陷。另外，在根部70處之成形溫度相等的情況下，二矽化鉬加熱元件有利地以比利用習知加熱元件材料情況下所使用更低的功率輸入而達成此種成形溫度。
雖然第4A圖描繪定位在加熱匣盒110a之熱導向表面122上的單一加熱元件124，但應理解涵蓋其他配置且為可能的。例如，在一些實施例中，加熱元件124可為分段加熱元件，其包括兩個或兩個以上單獨的加熱元件，可對其每一者分別供電及控制。此允許加熱匣盒110a之熱導向表面122由可受獨立控制的個別加熱區形成，進而提供熱導向表面122之溫度輪廓之更精細控制。
仍參考第4圖-第5圖，位於熱導向表面122之面後方的為一或多塊耐火材料128，其將熱導向表面122與加熱匣盒110a之剩餘部分絕緣。耐火材料128之此等塊可如第4圖及第5圖中描繪位於包殼120內，或替代地無需包殼而直接附接至熱導向表面122。在某些實施例中，耐火材料128經定向以最小化自熱導向表面122之熱傳遞。特定而言，在某些實施例中，耐火材料128以交替的垂直堆疊及水平堆疊來定向，因為咸信耐火材料128之交替垂直堆疊及水平堆疊可輔助減少塊之間的接縫處的熱。在某些實施例中，耐火材料128可以大致等於熱導向表面122之角度的角度定向。在其他實施例中，諸如在熱導向表面122由諸如SALI板或類似物之耐火材料形成的情況下，熱導向表面122之耐火材料可延伸至包殼中。在本文所述的實施例中，耐火材料128可為可商購耐火材料，包括而不限於SALI板、絕熱耐火磚(Insulating Fire Brick; IFB)、DuraBoard® 3000及/或DuraBoard® 2600。在某些實施例中，耐火塊可具有由SALI板形成的最接近於熱導向表面122之第一層及由IFB形成的位於第一層後方之第二層。
各種附接結構可用於將加熱匣盒110a相對於根部70來安裝。在一些實施例中，加熱匣盒110a可安裝在與外殼14及/或外殼密封板136接合的支架114上，如第3圖中所描繪。另外或替代地，加熱匣盒110a可擱置在T形壁支撐支架116上，該T形壁支撐支架係附接至外殼14及/或外殼密封板136，如第2圖中所描繪。在一些實施例中，加熱匣盒中之每一者可移除地安裝在玻璃成形設備10之外殼14之埠中。每一個別加熱匣盒可受獨立地控制以使得使用複數個加熱匣盒的情況下，可達到跨成形楔形物之根部的所欲溫度分佈。此外，每一加熱匣盒之單獨特徵最小化故障加熱元件及/或加熱匣盒之更換之影響。亦即，在操作期間單一加熱元件故障的情況下，加熱元件之故障導致總加熱之僅一小部分的損失。此外，因為分別控制加熱匣盒，所以可個別地調整相鄰加熱匣盒以補償自故障加熱元件的加熱損失。另外，加熱匣盒之模組化本質意味著個別匣盒之更換僅影響所提供總加熱之一小部分，進而減少生產損失。
在某些實施例中，設備可進一步包括控制器180，其經配置以控制相關聯於複數個加熱匣盒110、111之加熱。在某些實施例中，控制器180可被可操作地連接至複數個加熱匣盒110、111之每一加熱匣盒，如第1圖中所描繪。在某些實施例中，對複數個加熱匣盒110、111之個別一者的控制可為分段的。本文所使用的術語「分段」係指獨立地控制及調整每一個別加熱匣盒之溫度以便在製造期間提供對玻璃帶之溫度之受管理控制的能力。控制器可包括處理器及儲存電腦可讀及可執行指令之記憶體，該等電腦可讀及可執行指令當藉由處理器執行時，個別地調節每一加熱匣盒之功率，進而基於溫度反饋或其他製程參數而個別地增加或減小藉由每一加熱匣盒提供的熱。因此，控制器180可用於區別地調節提供至跨根部70之寬度及玻璃帶12之拉製平面72之寬度的複數個加熱匣盒110、111之每一加熱匣盒的功率。
在某些實施例中，控制器180可經配置以基於來自玻璃成形設備之熱反饋而個別地操作複數個加熱匣盒110、111之每一加熱匣盒。例如，在一個實施例中，控制器180經配置以獲得自熱感測器182之熱反饋，如第1圖中所描繪。藉由熱感測器獲得的反饋可由控制器180用來個別地調整複數個加熱匣盒110、111之每一加熱匣盒，以便在玻璃帶之製造進行時提供對設備之熱特性之受管理控制。熱特性可包括例如相關聯於以下各項之溫度及/或熱損失：玻璃成形設備之一部分，諸如複數個加熱匣盒110、111之每一加熱匣盒之熱導向表面122；邊緣導向器80a、80b之一部分；成形容器60之端部之一部分；熔融玻璃之部分；及/或玻璃成形設備10之其他特徵。
在一個實施例中，熱感測器182可偵測高於目標位準的溫度，且控制器180可減少複數個加熱匣盒110、111之至少一個加熱匣盒的功率以使得較少熱傳遞至目標區域，進而減少溫度直至獲得目標位準溫度。替代地，在某些實施例中，熱感測器182可偵測低於目標位準的溫度，其中控制器180可增加複數個加熱匣盒110、111之至少一個加熱匣盒的功率以使得較多熱傳遞至目標區域，進而增加溫度直至獲得目標位準溫度。
如上文所指出且在另外實施例中，一或多個加熱匣盒或類似裝置可提供成緊鄰於邊緣導向器80a、80b或其部分以及成形容器60之端部之部分。例如且參考第27圖及第28圖，成形容器60之第一端部可具備第一邊緣導向器80a。同樣地，成形容器60之相對第二末端(未展示)可包括第二邊緣導向器80b，其在一些實施例中可為第一邊緣導向器80a之鏡像。第一邊緣導向器80a將參考第27圖描述，應理解此種描述可類似地或同等地亦適於第二邊緣導向器80b。的確，在一些實施例中，第二邊緣導向器80b可與第一邊緣導向器80a相同。在一些實施例中，成形容器60之至少一部分或整體可容納在設計來幫助維持所欲氣氛條件的外殼14 (參見，例如，第1圖)內。例如，在一些實施例中，外殼14可設計來幫助維持氣氛之溫度處於所欲溫度範圍中。在一些實施例中，如第28圖中隱線示意地所示，外殼14可具有相對的下部門142a、142b，其界定處於根部70下方的開口202以供玻璃帶12穿過其拉製。開口202之寬度可足夠小以減少穿過該開口之熱損失且亦為足夠大的以阻止干擾正在穿過開口202拉製的玻璃帶12。
在一些實施例中，第一邊緣導向器80a及第二邊緣導向器80b各自與該對向下傾斜表面部分66a、66b之至少一者相交。的確，如圖所示，第一邊緣導向器80a之第一上部部分215a之第一向外面向接觸表面217a可與第一邊緣導向器80a之第一向下傾斜表面部分66a相交，且第二邊緣導向器80b之第二上部部分215b之第二向外接觸表面217b可與第二邊緣導向器80b之第二向下傾斜表面部分66b相交。本文描述的實施例可包括加熱平面，其包括面向緊鄰邊緣導向器之表面的熱覆蓋區。如第27圖及第28圖所示，可視需要提供一對加熱平面用於一或兩個邊緣導向器80a、80b。例如，第一邊緣導向器80a可具備第一加熱平面225a及第二加熱平面225b，應理解，第二邊緣導向器80b可在一些實施例中同樣地具備類似或相同第一及第二加熱平面。雖然每一邊緣導向器可具備單一加熱平面，但前提是如所示的第一及第二加熱平面可允許外接觸表面之加熱，該等外接觸表面彼此背離且接觸上游的熔融材料之會合流之相應部分，該上游係諸如該等流在其經拉製脫離邊緣導向器之內緣222時熔合在一起之邊緣所處的直接上游。
如圖所示，在一些實施例中，第二加熱平面225b可為第一加熱平面225a關於玻璃帶之拉製平面72之鏡像。例如，在一些實施例中，第二加熱平面225b可為第一加熱平面225a之相同鏡像，但在其他實施例中可提供不同配置。因而，將描述對第一加熱平面225a及相關聯於第一邊緣導向器80a之第一向外面向接觸表面221a的相關聯熱覆蓋區227a之說明，應理解，該等特徵及定向之此種說明可類似地或同樣地適於第二加熱平面225b及相關聯於第一邊緣導向器80a之第二向外面向接觸表面221b的相關聯熱覆蓋區227b。此外，在一些實施例中，相關聯於第二邊緣導向器80b的第一加熱平面(未展示)及/或第二加熱平面(未展示)可為相關聯於第一邊緣導向器80a的第一加熱平面225a及第二加熱平面225b之鏡像。
在一些實施例中，第一加熱平面225a之第一熱覆蓋區227a可至少面向第一邊緣導向器80a之下部部分219之第一向外面向接觸表面221a。在第一熱覆蓋區227a內的第一加熱平面225a之第一所得方向229a上的第一熱覆蓋區227a之凸起228a可與第一邊緣導向器80a之第一向外面向接觸表面221a相交，如藉由陰影接觸區域403a所示。
如在圖式中進一步所例示，第二加熱平面225b之第二熱覆蓋區227b可至少面向第一邊緣導向器211a之下部部分219之第二向外面向接觸表面221b。在第二熱覆蓋區227b內的第二加熱平面225b之第二所得方向229b上的第二熱覆蓋區227b之凸起228b可與第一邊緣導向器211a之第二向外面向接觸表面221b相交，如藉由陰影接觸區域403b所示。
相關聯於第一加熱平面225a之第一所得方向229a將參考第27圖描述，應理解，本揭示內容之其他所得方向可具有與第一所得方向229a類似或相同的特徵。將所得方向視為與熱覆蓋區內的加熱平面之表面成法向(亦即，垂直)的所有方向之有效方向。例如，第27圖之熱覆蓋區227a內的第一加熱平面225a係展示為平坦的平面表面。因此，所得方向為垂直於平坦的平面表面之方向。然而，在一些實施例中，熱覆蓋區內的加熱平面不必為平面。例如，熱覆蓋區內的加熱平面亦可包含凹表面，且在此種實施例中，將所得方向視為在熱覆蓋區內的加熱平面上的每一點處的所有法向方向向量(亦即，在相切線或相切平面處成法向)之總和。同樣地，各別熱覆蓋區內的加熱平面亦可包含凸表面。在此種實施例中，將所得方向視為在熱覆蓋區內的加熱平面上之每一點處的所有法向方向向量(亦即，在相切線或相切平面處成法向)之總和。
提供具有不同形狀的加熱平面225a、225b可幫助加熱平面更靠近地面向待加熱的邊緣導向器80a、80b之接觸表面。在一些實施例中，熱覆蓋區內的加熱平面之所有部分之間的距離可大致定位成離邊緣導向器之相應接觸表面相同距離，或處於一距離範圍內。因而，熱覆蓋區之所有部分可在所得方向上有效地面向接觸表面之相應部分以最小化該距離且進而最大化自加熱平面至邊緣導向器之接觸表面之間的輻射熱傳遞。示範性加熱平面可具備諸如加熱盤管的設計來提供輻射熱的加熱元件。加熱盤管可定位在加熱平面上，其中加熱盤管之外周邊界定熱覆蓋區。在所得方向上自加熱元件投射的輻射熱可與邊緣導向器之面向接觸表面相交。在其他實施例中，加熱平面可包含加熱板或其他加熱元件，其中加熱板或加熱元件之外周邊界定加熱平面之熱覆蓋區。例如，加熱板可在隱藏側上藉由火炬以傳導穿過板且自板的與邊緣導向器之接觸表面相交的面向表面輻射的熱來加熱。此種配置可避免將熔融材料暴露至加熱氣流，該暴露可中斷熔融材料在接觸表面上之流動。輻射熱至與如上文所述且在第27圖及第28圖中所例示的熔融材料接觸的表面之此種靶向可藉由減少將非必需熱施加至熔融材料之其他部分及/或待自成形容器之根部拉製的玻璃帶之邊緣而減少低黏度玻璃帶之寬度之非所欲衰減。
再次參考第2圖，典型地，在玻璃帶12之拉製平面72之兩個外端部上(在成形容器之寬度方向上，亦即，+/-y方向上)損失至周圍環境的熱比在拉製平面72中部損失至周圍環境的熱更多。因而，控制器180可對位於緊鄰玻璃帶12之拉製平面72之邊緣(第2圖中描繪的坐標軸之+/-y方向)的複數個加熱匣盒110、111之加熱匣盒比對位於拉製平面72中部的加熱匣盒提供更多的功率及熱以補償在此等區域中之熱損失以及貢獻於緊鄰拉製平面72之邊緣的較大玻璃厚度。
在某些實施例中，控制器可經配置以基於來自玻璃成形設備10之熱反饋而個別地操作複數個加熱匣盒110、111之每一加熱匣盒。例如，在一個實施例中，控制器經配置以自緊鄰於成形容器60之根部70定位的至少一個熱感測器(未展示)獲得熱反饋。藉由至少一個熱感測器獲得的反饋可由控制器使用來個別地調整複數個加熱匣盒110、111之每一加熱匣盒，以便在玻璃帶之製造進行時提供對設備之熱特性之受管理控制。熱特性可包括例如相關聯於以下各項之溫度及/或熱損失：玻璃成形設備10之一部分，諸如加熱匣盒110a之熱導向表面122；根部70；成形容器60之端部之一部分；熔融玻璃之部分；及/或玻璃成形設備10之其他特徵。
在一個實施例中，至少一個熱感測器可偵測高於目標位準的溫度，且控制器可個別地減少複數個加熱匣盒110、111之至少一個加熱匣盒的功率以使得較少熱傳遞至目標區域，進而減少溫度直至獲得目標位準溫度。替代地，在某些實施例中，至少一個熱感測器可偵測低於目標位準的溫度，其中控制器可個別地增加複數個加熱匣盒110、111之至少一個加熱匣盒的功率以使得較多熱傳遞至目標區域，進而增加溫度直至獲得目標位準溫度。
雖然第1圖-第3圖示意地描繪玻璃成形設備10之一個實施例，其中加熱匣盒110a-110e係定位成緊鄰成形楔形物62之根部70，但應理解涵蓋其他實施例且為可能的。以舉例方式參考第4A圖-第4B圖、第5圖、第7圖、及第8圖，在一個實施例中，複數個加熱匣盒可定位成緊鄰成形容器60之流槽61。特定而言，成形容器60係定位於外殼(未展示)中且可包括用於接收熔融玻璃之流槽及在根部70處會合的一對向下傾斜成形表面部分66a、66b，如上文所描述。複數個加熱匣盒110a-110e可如上文所描述可移除地定位於在外殼中形成的埠中，以使得加熱匣盒中每一者之熱導向表面面向成形容器60，且熱導向表面122之上緣123及加熱匣盒之頂部表面127係定位在成形容器60之流槽61上方以將來自加熱匣盒之熱導向表面122的熱朝向成形容器60之流槽61導向，進而在成形容器60之流槽61之堰口63的頂部處加熱玻璃且阻止脫玻作用。
更明確而言，在此等實施例中，每一加熱匣盒可如本文相對於第4A圖-第4B圖及第5圖所示及所描述具有實質上相同結構。在此等實施例中，加熱匣盒110a之熱導向表面122相對於加熱匣盒110a之底部表面126的角度a亦可大於或等於90°。例如，在某些實施例中，熱導向表面122之角度a可為相對於加熱匣盒110a之底部表面126約120°至約150°。在其他實施例中，熱導向表面122之角度a可為相對於加熱匣盒110a之底部表面126約130°至約140°。在特定實施例中，熱導向表面122之角度a可為相對於加熱匣盒110a之底部表面126約135°。
在一些實施例中，加熱匣盒110a-110e可定位在相對於成形容器60之一高程處，以使得熱導向表面之下緣129及加熱匣盒之底部表面126定位在堰口63之頂部下方。在此等實施例中，加熱匣盒110a之熱導向表面122相對於加熱匣盒110a之底部表面126的角度a可大於或等於90°以使得來自加熱匣盒之熱朝向成形容器60之流槽61導向。在一些其他實施例中，加熱匣盒110a-110e可定位在相對於成形容器60之一高程處，以使得熱導向表面之下緣129及加熱匣盒之底部表面126定位於流槽61上方。在此等實施例中，加熱匣盒110a之熱導向表面122相對於加熱匣盒110a之底部表面126的角度a可大於90°以使得來自加熱匣盒之熱向下朝向成形容器60之流槽61導向。
在實施例中，加熱匣盒110a-110e可跨成形容器60之寬度配置，如第7圖所描繪。在一些實施例中，複數個加熱匣盒110a-110e之加熱匣盒中之每一者係定位在+/-X方向上的實質上相同高程處。然而，在一些實施例中，複數個加熱匣盒110a-110e可以臺階配置來佈置，如第9圖所描繪。當流槽61之堰口63或側壁具有如第9圖所描繪的成角度配置時，可使用加熱匣盒之此配置。
在其中複數個加熱匣盒110a-110e緊鄰成形容器60之流槽61定位的實施例中，複數個加熱匣盒110a-110e可定位於包封成形容器60之外殼之埠中且附接至外殼，如本文中上文相對於第2圖及第3圖所描述。另外，複數個加熱匣盒110a-110e可如上文相對於第2圖及第3圖所描述來操作及控制以調節緊鄰成形容器60之流槽61的熔融玻璃之溫度，以阻止流槽61中及流過成形主體61之熔融玻璃之脫玻作用。
作為實例，第6圖以圖形方式描繪對如本文描述的包含二矽化鉬加熱元件之加熱匣盒的個別功率改變的根部溫度回應之數學模型。該模型係基於五個可更換加熱匣盒(SL1、SL2、SL3、SL4、SL5)，其每一者具有以相對於加熱匣盒之底部表面126的約135°之角度a定向的熱導向表面122。加熱匣盒係模型化為完全地定位在根部70上游以使得將熱有效地導向至根部70上。加熱匣盒經配置以跨過成形容器之寬度。模型中之每一加熱匣盒係一次一個地藉由提供至二矽化鉬元件之1000W功率增量來調整。模型中自1000W增量功率改變的溫度回應係以吋為單位自成形容器之進口壩(亦即，緊鄰第1圖中描繪的成形容器60之端部64a)量測。
第6圖之資料指示對每一加熱匣盒之個別功率調整可提供對跨根部之寬度的局部區域之溫度的受管理控制。歸因於對加熱匣盒之遞增功率改變的根部之溫度回應在根部的最接近於所調整加熱匣盒之局部區域中最高。在離所調整加熱匣盒之距離增加時，根部之溫度回應如第6圖所示減小。例如，進口壩處歸因於最接近於進口壩(如第6圖中曲線SL1所描繪)之加熱匣盒的溫度回應在最接近於進口壩處最大且隨著離進口壩之距離增加而降級。另外，如第6圖所示，根部處的溫度變化可經由使用跨根部之寬度間隔的多個加熱匣盒而緩和。例如，如第6圖所示，加熱匣盒可經間隔以使得每一匣盒之有效加熱區域與另一者重疊，進而緩和跨根部之寬度的「冷卻點」。亦即，在第6圖中，溫度回應曲線SL1-SL5在根部之寬度方向上重疊，如藉由在x軸上描繪的離進口壩之距離所指示。此證明跨成形容器之根部之區域發生的任何厚度影響或溫度偏差可容易地藉由個別地調整/控制相應地位於彼區域中之加熱匣盒之功率而校正。因此，資料指示如本文揭示的複數個分段及可更換加熱匣盒可容易經調整以有效地減少跨根部拉製的玻璃之任何脫玻作用。
繼續參考第1圖-第3圖並參考第10圖，牽拉輥130可置於成形容器60之根部70下游，且可用於調整所形成的玻璃帶離開會合成形表面之速率並因此幫助判定成品片材之標稱厚度。適合的牽拉輥描述於例如美國專利第6,896,646號中，該專利之內容以全文引用方式併入本文。
牽拉輥可設計來在其外緣處、特定而言在帶材之正好邊緣處存在的增厚卷邊之剛好向內區域中接觸玻璃帶。藉由牽拉輥接觸的玻璃邊緣部分140可稍後在其與片材分離之後自基板丟棄。
在第10圖中所示的拉製設備中，在玻璃片(玻璃帶)沿設備之拉製部分向下行進時，片材經歷複雜的結構變化，不僅在實體尺寸方面而且在分子水平方面如此。自在例如成形楔形物之根部處的柔軟但稠液體形式至具有所欲厚度之剛性玻璃片的改變可藉由謹慎地選擇溫度場而達成，該溫度場精巧地平衡機械及化學要求以完成自液體或黏性狀態至固體或彈性狀態之轉變。
上文所述的熔合成形製程之一個優點在於玻璃片可無需接觸任何耐火成形表面之玻璃表面而成形。此提供光滑、無污染表面。熔合成形製程亦導致具有「熔合線」之玻璃片，其中溢流出成形容器60之每一側面的兩個玻璃帶在根部70相遇且熔合在一起。在兩個流動玻璃膜熔合在一起的情況下形成熔合線。熔合線之存在為識別熔合拉製玻璃物件之一個方式。熔合線可在光學顯微鏡下觀察玻璃時作為光學畸變看到。熔合拉製方法提供的優點在於：因為流過通道的兩個玻璃膜熔合在一起，所以所得玻璃物件之任一外表面均不與設備之任何部分接觸。因此，熔合拉製玻璃物件之表面性質不受此種接觸影響且此等示範性熔合成形技術可能能夠形成在高公差內的平坦薄片材。然而，其他片材形成技術亦可受益於本揭示內容，包括但不限於狹槽拉製及重複拉製成形技術。在狹槽拉製技術中，熔融玻璃流入在底部具有機器加工狹槽之流槽中。玻璃片材可經向下牽拉穿過狹槽。玻璃之品質可尤其取決於機器加工狹槽之準確度。重複拉製製程大體上涉及將玻璃組成物預成形塊，隨後將玻璃再加熱且拉製成較薄片材產品。
本文描述的系統及方法之一些實施例可藉由提供一或多組邊緣輥210而改良第10圖所示的拉製設備，該等邊緣輥可經配置以在玻璃帶可處於拉製製程之黏性區域時接觸玻璃帶之邊緣。當然，本文描述的實施例適用於諸如狹槽拉製製程、雙重熔合製程、浮製製程之其他玻璃成形製程，且參考所描繪拉製製程的一些實施例之描述不應限制隨附申請專利範圍之範疇。如第11圖所示，一或多組邊緣輥之至少一者可經定向以提供在熔合拉製製程中自水平面形成角度a或自與行進方向正交且與藉由玻璃片形成的平面平行的線形成角度a之旋轉軸。
如本文所使用，每一組邊緣輥210包含一對邊緣輥220，其經配置以沿前側及背側接觸玻璃之黏性帶材之第一外緣，或包含第一對邊緣輥。第一對邊緣輥220包含用於接觸玻璃帶之前側的邊緣輥及用於接觸玻璃帶之背側的邊緣輥。
每一組邊緣輥210亦可包含一對邊緣輥230，其經配置以沿前側及背側接觸玻璃之黏性帶材之第二或相對外緣，或包含第二對邊緣輥。第二對邊緣輥230包含用於接觸玻璃帶之前側的邊緣輥及用於接觸玻璃帶之背側的邊緣輥。
在一些實施例中，第一對邊緣輥220或第二對邊緣輥230中任一者可經定向以提供在熔合拉製製程中自水平面形成角度a或自與行進方向正交且與藉由玻璃片形成的平面平行的線形成角度a之旋轉軸。在其他實施例中，第一對邊緣輥220及第二對邊緣輥230兩者可經定向以提供在熔合拉製製程中自水平面形成角度a或自與行進方向正交且與藉由玻璃片形成的平面平行的線形成角度a之旋轉軸。在其他實施例中，第一對邊緣輥220或第二對邊緣輥230兩者皆不定向來提供形成此角度之旋轉軸。在其他實施例中，第一對邊緣輥220及第二對邊緣輥230兩者可經定向以使得藉由每一者形成的角度a為實質上相同的。
在一些實施例中，角度a可在約0度與約55度之間、在約0度與約45度之間、在約0度與約40度之間、在約0度與約35度之間、在約0度與約30度之間、在約0度與約25度之間、在約0度與約15度之間，及其之間的所有子範圍。替代地，在一些實施例中，角度a可在約3-7度與約55度之間、在約3-7度與約45度之間、在約3-7度與約40度之間、在約3-7度與約35度之間、在約3-7度與約30度之間、在約3-7度與約25度之間、在約5-7度與約15度之間，及其之間的所有子範圍。
第一對邊緣輥220及第二對邊緣輥230可在熔合拉製製程中在根部下方的第一位置240處垂直地對準或沿玻璃片之行進方向彼此對準。位置240可在示範性熔合拉製實施例中基於在第一對邊緣輥220之向內端部之中心與第二對邊緣輥230之向內端部之中心之間水平延伸的線，或可基於與行進方向正交且與藉由玻璃片形成的平面平行延伸的線。位置240可處於玻璃帶處於黏性狀態所在的區域內。
在一些實施例中，垂向位置240可位於接近根部70。如本文所使用，在熔合拉製實施例中，根部70係指其中單獨的玻璃流會合以成形帶原始表面玻璃121之片材或帶材的位置。因此，在包含在傾斜會合表面部分66a、66b之底部下方延伸的邊緣導向器凸起(諸如以全文引用方式併入本文中的美國專利第3,537,834號中描述的種類)的實施例中，根部70可視為邊緣導向器凸起之尖端，其中單獨的玻璃流在熔合線處會合。
在一些實施例中，例如，垂直或水平位置可在根部70下方的約3 cm與約30 cm之間。替代地，垂直或水平位置240可在根部70下方的約3 cm與約25 cm之間、在根部70下方的約3 cm與約20 cm之間、在根部70下方的約3 cm與約18 cm之間、在根部70下方的約3 cm與約16 cm之間、在根部70下方的約3 cm與約14 cm之間、在根部70下方的約3 cm與約12 cm之間、在根部70下方的約3 cm與約10 cm之間，及其之間的所有子範圍。
一組邊緣輥210接近於根部70之置放可尤其有利於阻止或最小化片材寬度變化，因為咸信根部70直接下方的帶材邊緣之側向收縮為引起片材寬度變化之主要因素。因此，藉由將一組邊緣輥210定位成接近於根部70，片材寬度變化可總體上得以最小化或阻止。因此，在一些實施例中，垂直或水平位置240可為根部70下方的小於25 cm、根部70下方的小於20 cm、根部70下方的小於18 cm、根部70下方的小於16 cm、根部70下方的小於14 cm、根部70下方的小於14 cm、根部70下方的小於12 cm、根部70下方的小於10 cm，及其之間的所有子範圍。
在一些實施例中，可提供多於一組邊緣輥210。例如，如第12圖所示，可提供第一組邊緣輥210a及第二組邊緣輥210b。雖然未例示，但涵蓋的是，在本文描述的系統及方法之實施例中可提供任何數量之另外組之邊緣輥。例如，實施例可包含三組邊緣輥、四組邊緣輥等等。
與第一組邊緣輥210a一樣，第二組邊緣輥210b包含一對邊緣輥250，其經配置以沿前側及背側接觸玻璃之黏性帶材之第一外緣，或包含第三對邊緣輥。第三對邊緣輥250包含用於接觸玻璃帶之前側的邊緣輥及用於接觸玻璃帶之背側的邊緣輥。
第二組邊緣輥210b亦包含一對邊緣輥260，其經配置以沿前側及背側接觸玻璃之黏性帶材之第二或相對外緣，或包含第四對邊緣輥。第四對邊緣輥260包含用於接觸玻璃帶之前側的邊緣輥及用於接觸玻璃帶之背側的邊緣輥。
第三對邊緣輥250及/或第四對邊緣輥260中任一者可經定向以提供在熔合拉製製程中自水平面形成角度β或自與行進方向正交且與藉由玻璃片形成的平面平行的線形成角度β之旋轉軸。在一些實施例中，第三對邊緣輥250及第四對邊緣輥260兩者可經定向以提供在熔合拉製製程中自水平面形成角度或自與行進方向正交且與藉由玻璃片形成的平面平行的線形成角度之旋轉軸。在其他實施例中，第三對邊緣輥250及第四對邊緣輥260中皆不以此方式定向。在其他實施例中，第三對邊緣輥250及第四對邊緣輥260兩者可經定向以使得藉由每一者形成的角度β為實質上相同的。
在一些實施例中，角度β可在約0度與約55度之間、在約0度與約45度之間、在約0度與約40度之間、在約0度與約35度之間、在約0度與約30度之間、在約0度與約25度之間、在約0度與約15度之間，及其之間的所有子範圍。在其他實施例中，角度β可在約3-7度與約55度之間、在約3-7度與約45度之間、在約3-7度與約40度之間、在約3-7度與約35度之間、在約3-7度與約30度之間、在約3-7度與約25度之間、在約3-7度與約15度之間，及其之間的所有子範圍。替代地，在其他實施例中，角度β可在約15度與約55度之間、在約15度與約45度之間、在約15度與約40度之間、在約15度與約35度之間、在約15度與約30度之間、在約15度與約25度之間，及其之間的所有子範圍。
在一些實施例中，第二組邊緣輥210b可定向的角度β不同於第一組邊緣輥210a可定向的角度a。例如，合乎需要的可為配置第二組邊緣輥210b以形成可大於角度a之角度β。在一些實施例中，例如，第一組邊緣輥210a可經定向以形成在約3度與約20度之間的角度，且第二組邊緣輥210b可經定向以形成在約15度與約40度之間的角度。替代地，第一組邊緣輥210a可經定向以形成在約3度與約12度之間的角度，且第二組邊緣輥210b可經定向以形成在約15度與約30度之間的角度。當然，此等實施例僅為示範性的且不應限制隨附申請專利範圍之範疇。
第三對邊緣輥250及第四對邊緣輥260可在熔合拉製製程中在第二位置270處垂直地對準或沿玻璃片之行進方向彼此對準。第二位置270之位置可在示範性熔合拉製實施例中基於在第三對邊緣輥250之向內端部之中心與第四對邊緣輥260之向內端部之中心之間水平延伸的線，或可基於與行進方向正交且與藉由玻璃片形成的平面平行延伸的線。第二位置270之位置可處於玻璃帶呈黏性狀態的區域內，但處於第一位置240下方。
在一些實施例中，第二位置270可在根部70下方的約12 cm與約50 cm之間、在根部70下方的約15 cm與約50 cm之間、在根部70下方的約15 cm與約45 cm之間、在根部70下方的約15 cm與約40 cm之間、在根部70下方的約15 cm與約30 cm之間、在根部70下方的約20 cm與約45 cm之間、在根部70下方的約20 cm與約40 cm之間、在根部70下方的約30 cm與約45 cm之間、在根部70下方的約30 cm與約50 cm之間，及其之間的所有子範圍。
在一些實施例中，第二位置270可為第一位置240下方的小於24 cm、第一位置下方的小於22 cm、第一位置下方的小於20 cm、第一位置下方的小於18 cm、第一位置下方的小於16 cm等等。
每一組邊緣輥210可獨立地經配置以在恆定旋轉速度模式或恆定轉矩模式中運行。例如，當片材寬度變化/不穩定性發生時，在恆定速度模式中運行的邊緣輥之轉矩可就振盪型式及週期而言以與片材寬度變化一致之方式變化。因此，恆定轉矩模式可用於維持藉由邊緣輥以可控制方式施加的張力，且在一些實施例中，合乎需要的可為具有以恆定轉矩模式運行之第一組邊緣輥210a且具有以恆定速度模式運行的第二組邊緣輥210b。
每一組邊緣輥210可獨立地經配置以包含實質上光滑接觸表面或滾花接觸表面。示範性邊緣輥上之滾花可用於夾持玻璃片且避免滑動(以及提供另外的冷卻)。然而，申請人注意到，當使用多於一組邊緣輥時，出現的問題是，在兩組邊緣輥具有滾花圖案時，夾持玻璃片可對第二組邊緣輥而言變得困難。因此，在一些實施例中，合乎需要的可為對第一組邊緣輥210a及第二組邊緣輥210b之一者提供滾花表面，而對第一組邊緣輥及第二組邊緣輥之另一者提供實質上光滑表面。
藉由選擇一或多組邊緣輥210之傾斜度及位置，可減少所拉製片狀玻璃之片材寬度衰減。減少所拉製片狀玻璃之片材寬度衰減可在以下情形中執行，其中玻璃帶之側向收縮量已得以緩和以使得所得片狀玻璃之寬度大於原本使用習知定向的邊緣輥或不使用邊緣輥之寬度。然而，如本文所使用，減少所拉製片狀玻璃之片材寬度衰減亦可在以下中情形中執行，其中(a)可一起阻止玻璃帶之側向收縮，以使得所得片狀玻璃之寬度實質上與在根部處的玻璃帶之寬度相同(亦即，存在零片材寬度衰減)，及(b)其中片材經拉伸時，以使得所得片狀玻璃之寬度大於在根部處的玻璃帶之寬度。
藉由選擇一或多組邊緣輥210之傾斜度及位置，可產生具有的寬度為在根部處的黏性玻璃帶之寬度之至少約90%的片狀玻璃。替代地，可產生具有的寬度為在根部處的黏性玻璃帶之寬度之至少約92%、為在根部處的黏性玻璃帶之寬度之至少約94%、為在根部處的黏性玻璃帶之寬度之至少約95%、為在根部處的黏性玻璃帶之寬度之至少約96%、為在根部處的黏性玻璃帶之寬度之至少約97%、為在根部處的黏性玻璃帶之寬度之至少約98%、為在根部處的黏性玻璃帶之寬度之至少約99%、或為與根部處的黏性玻璃帶相同寬度的片狀玻璃，因此有效地阻止片材寬度衰減。
在一些實施例中，藉由選擇一或多組邊緣輥210之傾斜度及位置，可產生具有的寬度大於在根部處的黏性玻璃帶之寬度的片狀玻璃。除有效地阻止片材寬度衰減之外，片材寬度可藉由對一或多組邊緣輥210之傾斜度及位置的控制來拉伸。例如，可產生具有的寬度為在根部處的黏性玻璃帶之寬度之至少約100%、為在根部處的黏性玻璃帶之寬度之至少約102%、至少約104%、或至少約105%的片狀玻璃。
另外，藉由選擇一或多組邊緣輥210之傾斜度及位置，可減少已知沿玻璃片之邊緣形成的卷邊之厚度。如先前描述的，具有片材穩定性之許多問題可由邊緣卷邊之增加厚度及增加厚度導致的任何更慢冷卻而造成。因此，減少邊緣卷邊之厚度可產生增加的帶材及玻璃片穩定性。
在一些實施例中，卷邊之厚度與片材中心之厚度之間的比率可用作關於已減少卷邊厚度之程度的指示。使用本文描述的本揭示內容之實施例，對一或多組邊緣輥210之傾斜度及位置的選擇可產生具有卷邊厚度與中心厚度之比率小於12:1之玻璃片。替代地，可產生具有卷邊厚度與中心厚度之比率小於10:1、小於8:1、小於6:1、小於5:1、小於4:1、小於3:1、小於2.5:1、小於2:1、小於1.5:1，及在其之間的所有子範圍的玻璃片。
片材寬度變化亦可經由選擇一或多組邊緣輥210之傾斜度及位置以及不同組邊緣輥之間的相對距離及不同組邊緣輥之相對速度來減少。例如，如先前所描述的，合乎需要的可常常為將至少一組邊緣輥210置放成接近於根部以阻止超出根部立即發生的任何衰減且可為片材寬度變化之關鍵驅動力。在另一實例中，第一組邊緣輥速度可按根部條件而非牽拉速度來縮放，以避免對根部附近的玻璃之過度張力，該過渡張力可尤其在形成超薄玻璃(例如，＜200微米、＜100微米等等)時導致在邊緣導向器上玻璃流之流動分離。第二組邊緣輥亦可用於將牽拉輥之任何影響與第一組邊緣輥去耦。
如本文所使用，片材寬度變化之減少可包括其中片材寬度變化得以有效消除的彼等實施例。在一些實施例中，片材寬度變化可例如藉由典型地安裝在拉製機底部處的記錄片材之剛好外緣之位置的攝影機來量測。片材寬度變化亦可藉由在拉製玻璃帶內的各種點處追蹤黏性玻璃之垂直速度來指示。此可例如藉由將各種點處之垂直速度繪圖以獲得跨黏性區域中之玻璃帶之寬度或寬度之一部分的垂直速度輪廓而達成。當然，展示垂直速度之此等圖表係類似於具有水平行進方向之實施例(浮製製程)中的水平速度。在垂直速度輪廓以大體上平行方式跨玻璃帶之寬度連續增加的情況下，片材寬度變化可得以減少或避免。
藉由選擇一或多組邊緣輥210之傾斜度及位置，可獲得拉製製程之黏性區域內的大體上平行垂直速度輪廓。此等輪廓指示在該方向上的實質上光滑及連續的玻璃速度增加。因此，藉由選擇一或多組邊緣輥210之傾斜度及垂向位置，片材寬度變化可得以減少或消除。
亦已發現，甚至在沒有邊緣輥之傾斜的情況下，在第一組邊緣輥210a下方短距離處添加第二組邊緣輥210b本身可在減少片材寬度衰減、片材寬度變化、及邊緣卷邊中為有益的。因此，在一些實施例中，第一組邊緣輥210a及第二組邊緣輥210b之任何者可經定向以使得旋轉軸在熔合拉製製程中為水平的或處於與行進方向正交且與藉由玻璃片形成的平面平行之線上。第二組邊緣輥210b可在最終片材寬度及/或厚度穩定以便產生有效交叉拉製張力之前定位。
現參考第13圖及第14圖，展示可根據本揭示內容之態樣使用的玻璃製造設備301之示範性實施例之示意性前視圖及側視圖。玻璃製造設備301係例示為下拉熔合設備，但其他成形設備可在其他實例中使用。在一個實例中，玻璃製造設備301可包括成形容器60以產生玻璃帶121，其包括在玻璃帶121之第一邊緣部分121a與第二邊緣部分121b之間延伸的寬度「W」。
如第13圖及第14圖中進一步所例示的，玻璃製造設備301可包括牽拉輥裝置315及分離裝置319。玻璃帶121之一部分經拉製脫離成形容器60之根部70以進入黏性區341中，其中玻璃帶121開始薄化至最終厚度。玻璃帶121之該部分隨後自黏性區341拉製至定型區343 (黏彈性區)中。在定型區343中，玻璃帶121之該部分自黏性狀態定型至具有所欲輪廓的彈性狀態。玻璃帶121之該部分隨後自定型區343拉製至彈性區345。一旦處於彈性區345中，玻璃帶121即可在限度內變形，而不永久地改變玻璃帶121之輪廓。
在玻璃帶121之該部分進入彈性區345之後，可提供分離裝置319以在一時段內自玻璃帶121連續地分離複數個玻璃片347a、347b。分離裝置319可包含所例示的行進砧機，但可在其他實例中提供其他分離裝置。
玻璃製造設備301進一步包括在第13圖及第14圖中示意地例示的牽拉輥裝置315。如下文更完全論述的，可提供牽拉輥裝置315以幫助自根部70拉製玻璃帶121，且可自彈性區345至定型區343隔離玻璃帶121上之力傳動。因而，本揭示內容之牽拉輥裝置可拉製玻璃帶至所欲厚度，同時亦減少玻璃片內之殘餘應力。如圖所示，牽拉輥裝置315可位於黏性區341、定型區343、及彈性區345內。的確，如圖式中所例示，第一牽拉輥設備(下文更完全地論述)係位於黏性區341內或可位於相鄰於黏性區341之定型區343之頂部處。第二牽拉輥設備(下文更完全地論述)係位於定型區343內，且第三牽拉輥設備(下文更完全地論述)係位於彈性區345內。
第13圖、第14圖、及第15圖例示根據本揭示內容之一個示範性實施例的牽拉輥裝置315之第一實例，但可在其他實例中提供其他牽拉輥裝置315構造。牽拉輥裝置315可包括第一牽拉輥設備349，其包括第一對上游拉製輥351，該第一對上游拉製輥經配置以沿橫向於玻璃帶121之寬度「W」延伸的拉製路徑353自成形容器60拉製玻璃帶121之第一邊緣部分121a。
如圖所示，第一對上游拉製輥351可包括第一牽拉輥構件355a及第二牽拉輥構件355b。第一牽拉輥構件355a及第二牽拉輥構件355b可各自具備各別耐火輥覆蓋物357a、357b，其經配置以在其之間接合玻璃帶121之第一邊緣部分121a。第一牽拉輥構件355a及第二牽拉輥構件355b之至少一者可具備各別馬達359a、359b。例如，如圖所示，第一牽拉輥構件355a及第二牽拉輥構件355b兩者具備各別馬達359a、359b。在其他實例中，第一牽拉輥構件355a及第二牽拉輥構件355b中僅一者具備馬達，其中另一牽拉輥構件可具備軸承以使得第一牽拉輥構件355a及第二牽拉輥構件355b中僅一者得以驅動。
在另一實例中，除第一對上游拉製輥351之外或替代第一對上游拉製輥351，第一牽拉輥設備349可包括第二對上游拉製輥361，其經配置以沿拉製路徑353自成形容器70拉製玻璃帶121之第二邊緣部分121b。如圖所示，第二對上游拉製輥361可包括第一牽拉輥構件363a及第二牽拉輥構件363b。第一牽拉輥構件363a及第二牽拉輥構件363b可各自具備各別耐火輥覆蓋物365a、365b，其經配置以在其之間接合玻璃帶121之第二邊緣部分121b。第一牽拉輥構件363a及第二牽拉輥構件363b之至少一者可具備各別馬達367a、367b。例如，如圖所示，第一牽拉輥構件363a及第二牽拉輥構件363b兩者具備各別馬達367a、367b。在其他實例中，第一牽拉輥構件367a及第二牽拉輥構件367b中僅一者具備馬達，其中另一牽拉輥構件可具備軸承以使得第一牽拉輥構件367a及第二牽拉輥構件367b中僅一者得以驅動。
如第13圖、第14圖、及第16圖所示，牽拉輥裝置315進一步包括第二牽拉輥設備369，其包括第一對中游拉製輥371，該第一對中游拉製輥沿拉製路徑353定位在第一對上游拉製輥351的下游，其中第一對中流拉製輥371經配置以沿拉製路徑353進一步拉製玻璃帶121之第一邊緣部分121a。如圖所示，第一對中游拉製輥371可包括第一牽拉輥構件373a及第二牽拉輥構件373b。第一牽拉輥構件373a及第二牽拉輥構件373b可各自具備各別耐火輥覆蓋物375a、375b，其經配置以在其之間接合玻璃帶121之第一邊緣部分121a。第一牽拉輥構件373a及第二牽拉輥構件373b之至少一者可具備各別馬達377a、377b。例如，如圖所示，第一牽拉輥構件373a及第二牽拉輥構件373b兩者具備各別馬達377a、377b。在其他實例中，第一牽拉輥構件373a及第二牽拉輥構件373b中僅一者具備馬達，其中另一牽拉輥構件可具備軸承以使得第一牽拉輥構件373a及第二牽拉輥構件373b中僅一者得以驅動。
在另一實例中，除第一對中游拉製輥371之外或替代第一對中游拉製輥371，第二牽拉輥設備369可包括第二對中游拉製輥379，該第二對中游拉製輥沿拉製路徑353定位在第二對上游拉製輥361的下游，其中第二對中游拉製輥379經配置以沿拉製路徑353進一步拉製玻璃帶121之第二邊緣部分121b。如圖所示，第二對中游拉製輥379可包括第一牽拉輥構件381a及第二牽拉輥構件381b。第一牽拉輥構件381a及第二牽拉輥構件381b可各自具備各別耐火輥覆蓋物383a、383b，其經配置以在其之間接合玻璃帶121之第二邊緣部分121b。第一牽拉輥構件381a及第二牽拉輥構件381b之至少一者可具備各別馬達385a、385b。例如，如圖所示，第一牽拉輥構件381a及第二牽拉輥構件381b兩者具備各別馬達385a、385b。在其他實例中，第一牽拉輥構件381a及第二牽拉輥構件381b中僅一者具備馬達，其中另一牽拉輥構件可具備軸承以使得第一牽拉輥構件381a及第二牽拉輥構件381b中僅一者得以驅動。
如第13圖、第14圖、及第17圖所示，牽拉輥裝置315進一步包括第三牽拉輥設備387，其包括第一對下游拉製輥389，該第一對下游拉製輥沿拉製路徑353定位在第一對中游拉製輥371的下游，其中第一對下游拉製輥389經配置以沿拉製路徑353進一步拉製玻璃帶121之第一邊緣部分121a。如所示，第一對下游拉製輥389可包括第一牽拉輥構件391a及第二牽拉輥構件391b。第一牽拉輥構件391a及第二牽拉輥構件391b可各自具備各別耐火輥覆蓋物393a、393b，其經配置以在其之間接合玻璃帶121之第一邊緣部分121a。第一牽拉輥構件391a及第二牽拉輥構件391b之至少一者可具備各別馬達395a、395b。例如，如圖所示，第一牽拉輥構件391a及第二牽拉輥構件391b兩者具備各別馬達395a、395b。在其他實例中，第一牽拉輥構件391a及第二牽拉輥構件391b中僅一者具備馬達，其中另一牽拉輥構件可具備軸承以使得第一牽拉輥構件391a及第二牽拉輥構件391b中僅一者得以驅動。
在另一實例中，除第一對下游拉製輥389之外或替代第一對下游拉製輥389，第三牽拉輥設備387可包括第二對下游拉製輥397，該第二對下游拉製輥沿拉製路徑353定位在第二對中游拉製輥379的下游，其中第二對下游拉製輥397經配置以沿拉製路徑353進一步拉製玻璃帶121之第二邊緣部分121b。如圖所示，第二對下游拉製輥397可包括第一牽拉輥構件399a及第二牽拉輥構件399b。第一牽拉輥構件399a及第二牽拉輥構件399b可各自具備各別耐火輥覆蓋物401a、401b，其經配置以在其之間接合玻璃帶121之第二邊緣部分121b。第一牽拉輥構件399a及第二牽拉輥構件399b之至少一者可具備各別馬達403a、403b。例如，如圖所示，第一牽拉輥構件399a及第二牽拉輥構件399b兩者具備各別馬達403a、403b。在其他實例中，第一牽拉輥構件399a及第二牽拉輥構件399b中僅一者具備馬達，其中另一牽拉輥構件可具備軸承以使得第一牽拉輥構件399a及第二牽拉輥構件399b中僅一者得以驅動。應瞭解，牽拉輥裝置315亦可包括可選對之邊緣輥402 (402a、402b)及404及/或可選對之閒置短輥406、408 (參見第13圖、第14圖、及第18圖)。
如第18圖及第19圖所示，牽拉輥裝置315可進一步包括中間牽拉輥設備405，其包括第一對中間拉製輥407，該第一對中間拉製輥沿拉製路徑353定位在第一對中游拉製輥371的下游及沿拉製路徑定位在第一對下游拉製輥389的上游。第一對中間拉製輥407經配置以沿拉製路徑353進一步拉製玻璃帶121之第一邊緣部分121a。如圖所示，第一對中間物拉製輥407可包括第一牽拉輥構件409a及第二牽拉輥構件409b。第一牽拉輥構件409a及第二牽拉輥構件409b可各自具備各別耐火輥覆蓋物411a、411b，其經配置以在其之間接合玻璃帶121之第一邊緣部分121a。第一牽拉輥構件409a及第二牽拉輥構件409b之至少一者可具備各別馬達413a、413b。例如，如圖所示，第一牽拉輥構件413a及第二牽拉輥構件413b兩者具備各別馬達413a、413b。在其他實例中，第一牽拉輥構件409a及第二牽拉輥構件409b中僅一者具備馬達，其中另一牽拉輥構件可具備軸承以使得第一牽拉輥構件409a及第二牽拉輥構件409b中僅一者得以驅動。
在另一實例中，除第一對中間拉製輥407之外或替代第一對中間拉製輥407，中間牽拉輥設備405可包括第二對中間拉製輥415，該第二對中間拉製輥沿拉製路徑353定位在第二對中游拉製輥379的下游且沿拉製路徑353定位在第二對下游拉製輥397的上游。第二對中游拉製輥415經配置以沿拉製路徑353進一步拉製玻璃帶121之第二邊緣部分121b。如圖所示，第二對中間拉製輥415可包括第一牽拉輥構件417a及第二牽拉輥構件417b。第一牽拉輥構件417a及第二牽拉輥構件417b可各自具備各別耐火輥覆蓋物419a、419b，其經配置以在其之間接合玻璃帶121之第二邊緣部分121b。第一牽拉輥構件417a及第二牽拉輥構件417b之至少一者可具備各別馬達421a、421b。例如，如圖所示，第一牽拉輥構件417a及第二牽拉輥構件417b兩者具備各別馬達421a、421b。在其他實例中，第一牽拉輥構件417a及第二牽拉輥構件417b中僅一者具備馬達，其中另一牽拉輥構件可具備軸承以使得第一牽拉輥構件417a及第二牽拉輥構件417b中僅一者得以驅動。
雖然描述及例示中間牽拉輥設備405為定位在第二牽拉輥設備369與第三牽拉輥設備387之間的第四高程處，但本揭示內容不限於此等示範性實施例。中間牽拉輥設備405可定位在牽拉輥裝置315之各種高程處。另外，中間牽拉輥設備405可經模組化以使得多個牽拉輥設備405可包括在牽拉輥裝置315中且沿拉製路徑353定位在各種高程處。
雖然每一對拉製輥已描述為包括第一及第二牽拉輥構件，但第一及第二牽拉輥構件亦可稱為該對拉製輥之一拉製輥。
玻璃製造設備301之牽拉輥裝置315可進一步包括控制裝置423 (例如，可程式化邏輯控制器)，其經配置以獨立地操作第一牽拉輥設備349、第二牽拉輥設備369、及第三牽拉輥設備387，以使得第一對上游拉製輥351之至少一者以實質上恆定轉矩旋轉，第一對中游拉製輥371之至少一者以實質上恆定轉矩旋轉，且第一對下游拉製輥389之至少一者以實質上恆定角速度旋轉。控制裝置423可經由電纜、無線網路、有線網路、其組合、及類似者來與牽拉輥設備349、369、387、405通信425。出於本揭示內容之目的，第一牽拉輥設備349、第二牽拉輥設備369、及第三牽拉輥設備387之獨立操作意指第一牽拉輥設備、第二牽拉輥設備、及第三牽拉輥設備之一者可在不受第一牽拉輥設備、第二牽拉輥設備、及第三牽拉輥設備之另一者之操作的影響下操作。因而，例如，利用控制裝置423獨立地操作第一牽拉輥設備349提供控制裝置來操作第一牽拉輥設備349而不考慮第二牽拉輥設備369或第三牽拉輥設備387之操作參數的改變。此外，例如，利用控制裝置423獨立地操作第二牽拉輥設備369提供控制裝置來操作第二牽拉輥設備369而不考慮第一牽拉輥設備349或第三牽拉輥設備387之操作參數的改變。另外，例如，利用控制裝置423獨立地操作第三牽拉輥設備387提供控制裝置來操作第三牽拉輥設備387而不考慮第一牽拉輥設備349或第二牽拉輥設備369之操作參數的改變。
如先前所提及，第一對上游拉製輥351可包括相關聯於第一牽拉輥構件355a或第二牽拉輥構件355b之一者的單一馬達。在此種實例中，控制裝置423可操作單一馬達以使得相關聯的第一牽拉輥構件355a或第二牽拉輥構件355b以實質上恆定轉矩旋轉。如上文進一步所述，第一牽拉輥構件355a及第二牽拉輥構件355b中之每一者可具備相應馬達359a、359b。在此種實例中，控制裝置423可操作馬達359a、359b以使得第一對上游拉製輥351中之至少一者(諸如兩個)以實質上恆定轉矩旋轉。以實質上恆定轉矩旋轉第一對上游拉製輥351之兩個牽拉輥構件359a、359b可合乎需要地將相同的力施加在玻璃帶121之第一邊緣部分121a之兩側。
如先前所提及的，第一牽拉輥設備349亦可包括可選第二對上游拉製輥361。在此種實例中，第二對上游拉製輥361可包括相關聯於第一牽拉輥構件363a或第二牽拉輥構件363b之一者的單一馬達。在此種實例中，控制裝置423可操作單一馬達以使得相關聯的第一牽拉輥構件363a或第二牽拉輥構件363b以實質上恆定轉矩旋轉。如上文進一步所述，第一牽拉輥構件363a及第二牽拉輥構件363b中之每一者可具備相應馬達367a、367b。在此種實例中，控制裝置423可操作馬達367a、367b以使得第二對上游拉製輥361中之至少一者(諸如兩個)以實質上恆定轉矩旋轉。以實質上恆定轉矩旋轉第二對上游拉製輥361之兩個牽拉輥構件363a、363b可合乎需要地將力同樣地施加在玻璃帶121之第二邊緣部分121b之兩側。
雖然並非必需，但在一些實例中，控制裝置423可以實質上恆定第一轉矩操作相關聯於第一對上游拉製輥351之馬達之一或兩者，且可同時操作相關聯於第二對上游拉製輥361之馬達之一或兩者以利用實質上等於第一轉矩的實質上恆定第二轉矩旋轉。提供實質上相等的第一轉矩及第二轉矩可為所欲的，例如，以將實質上相同的力施加至玻璃帶121及第一邊緣部分121a及第二邊緣部分121b。
如先前所提及，第二牽拉輥設備369亦可包括可選第二對中游拉製輥379。在此種實例中，第二對中游拉製輥379可包括相關聯於第一牽拉輥構件381a或第二牽拉輥構件381b之一者的單一馬達。在此種實例中，控制裝置423可操作單一馬達以使得相關聯的第一牽拉輥構件381a或第二牽拉輥構件381b以實質上恆定轉矩旋轉。如上文進一步所述，第一牽拉輥構件381a及第二牽拉輥構件381b中之每一者可具備相應馬達385a、385b。在此種實例中，控制裝置423可操作馬達385a、385b以使得第二對中游拉製輥379中之至少一者(諸如兩個)以實質上恆定轉矩旋轉。以實質上恆定轉矩旋轉第二對中游拉製輥379之兩個牽拉輥構件381a、381b可合乎需要地將力同樣地施加在玻璃帶121之第二邊緣部分121b之兩側。
雖然並非必需，但在一些實例中，控制裝置423可以實質上恆定第一轉矩操作相關聯於第一對中游拉製輥371之馬達之一或兩者，且可同時操作相關聯於第二對中游拉製輥379之馬達之一或兩者以利用實質上等於第一轉矩的實質上恆定第二轉矩旋轉。提供實質上相等的第一轉矩及第二轉矩可為所欲的，例如，以將實質上相同的力施加至玻璃帶121及第一邊緣部分121a及第二邊緣部分121b。
如先前所提及，第一對下游拉製輥389可包括相關聯於第一牽拉輥構件391a或第二牽拉輥構件391b之一者的單一馬達。在此種實例中，控制裝置423可操作單一馬達以使得相關聯的第一牽拉輥構件391a或第二牽拉輥構件391b以實質上恆定角速度旋轉。如上文進一步所述，第一牽拉輥構件391a及第二牽拉輥構件391b中之每一者可具備相應馬達395a、395b。在此種實例中，控制裝置423可操作馬達395a、395b以使得第一對下游拉製輥389中之至少一者(諸如兩個)以實質上恆定角速度旋轉。以實質上恆定角速度旋轉第一對下游拉製輥389之兩個牽拉輥構件391a、391b可合乎需要地在玻璃帶121之第一邊緣部分121a之兩側同樣地拉製玻璃帶。
如先前所提及，第三牽拉輥設備387亦可包括可選第二對下游拉製輥397。在此種實例中，第二對下游拉製輥397可包括相關聯於第一牽拉輥構件399a或第二牽拉輥構件399b之一者的單一馬達。在此種實例中，控制裝置423可操作單一馬達以使得相關聯的第一牽拉輥構件399a或第二牽拉輥構件399b以實質上恆定角速度旋轉。如上文進一步所述，第一牽拉輥構件399a及第二牽拉輥構件399b中之每一者可具備相應馬達403a、403b。在此種實例中，控制裝置423可操作第二對下游拉製輥397中之至少一者(諸如兩個)以實質上恆定角速度旋轉。以實質上恆定角速度旋轉第二對下游拉製輥397之兩個牽拉輥構件399a、399b可合乎需要地在玻璃帶121之第二邊緣部分121b之兩側同樣地拉製玻璃帶。
雖然並非必需，但在一些實例中，控制裝置423可以實質上恆定第一角速度操作相關聯於第一對下游拉製輥389之馬達之一或兩者，且可同時操作相關聯於第二對下游拉製輥397之馬達之一或兩者以利用實質上等於第一角速度的實質上恆定第二角速度旋轉。提供實質上相等的第一角速度及第二角速度可所欲的，例如，以在第一邊緣部分121a及第二邊緣部分121b處同樣地拉製玻璃帶。
如所提及的，控制裝置423可經配置以獨立地操作第一牽拉輥設備349以使得第一對上游拉製輥351及第二對上游拉製輥361之至少一者以實質上恆定轉矩旋轉；然而，實施例不受此限制。亦即，控制裝置423可在示範性實施例中經配置以獨立地操作第一牽拉輥設備349以使得第一對上游拉製輥351及第二對上游拉製輥361之至少一者不以恆定轉矩但以實質上恆定角速度旋轉。另外，控制裝置423可經配置以獨立地操作第二牽拉輥設備369以使得第一對中游拉製輥371及第二對中游拉製輥379之至少一者不以恆定轉矩但以實質上恆定角速度旋轉。
控制裝置423可進一步經配置以獨立地操作中間牽拉輥設備405以使得第一對中間拉製輥407及第二對中間拉製輥415之至少一者以實質上恆定轉矩旋轉。替代地，控制裝置423可經配置以獨立地操作中間牽拉輥設備405以使得第一對中間拉製輥407及第二對中間拉製輥415之至少一者不以恆定轉矩但以實質上恆定角速度旋轉。
表1提供根據本揭示內容之示範性實施例的五種不同的獨立控制方案。例如，如表1所示，控制方案「A」包括控制裝置423，其經配置以獨立地操作第一牽拉輥設備349以使得第一對上游拉製輥351及第二對上游拉製輥361之至少一者以實質上恆定轉矩旋轉，獨立地操作第二牽拉輥設備369以使得第一對中游拉製輥371及第二對中游拉製輥379之至少一者以實質上恆定轉矩旋轉，獨立地操作第三牽拉輥設備387以使得第一對下游拉製輥389及第二對下游拉製輥397之至少一者以實質上恆定角速度旋轉，且包括控制裝置423，其經配置以獨立地操作中間牽拉輥設備405(若提供)以使得第一對中間拉製輥407及第二對中間拉製輥415之至少一者以實質上恆定轉矩旋轉，或以使得第一對中間拉製輥407及第二對中間拉製輥415之至少一者不以恆定轉矩但以實質上恆定角速度旋轉。
作為表1中所示的另一實例，控制方案「E」包括控制裝置423，其經配置以獨立地操作第一牽拉輥設備349以使得第一對上游拉製輥351及第二對上游拉製輥361之至少一者以實質上恆定轉矩旋轉，獨立地操作第二牽拉輥設備369以使得第一對中游拉製輥371及第二對中游拉製輥379之至少一者以實質上恆定轉矩旋轉，獨立地操作第三牽拉輥設備387以使得第一對下游拉製輥389及第二對下游拉製輥397之至少一者以實質上恆定轉矩旋轉，且包括控制裝置423，其經配置以獨立地操作中間牽拉輥設備405(若提供)以使得第一對中間拉製輥407及第二對中間拉製輥415之至少一者以實質上恆定轉矩旋轉。 表1 
在一些實例中，本申請案全文所論述的該對拉製輥可具有與Anderson等人的於2009年4月30日公開的美國專利申請公開案第2009/0107182號中所闡述類似的構造及定向，該案係以全文引用方式併入本文。例如，該對拉製輥中任何者可為相對於玻璃帶的垂直向下傾斜或水平位準輥。此外，如第15圖及第16圖所示，該對輥中之任何者(水平位準或向下傾斜)可經定位具有預定水平角θ，該等輥之各別面將相對於玻璃帶121之各別主表面427、429以該預定水平角θ定位。水平角θ可為合乎需要的以提供適當位準之交叉拉製張力431及/或適應可在正常輥磨損期間發生的縮錐效應。
第13圖及第18圖例示其中該對拉製輥之第一牽拉輥構件355a、363a、373a、381a、391a、399a、409a、417a中每一者可包含相對於玻璃帶121的垂直向下傾斜輥的實例。該對拉製輥之第二牽拉輥構件355b、363b、373b、381b、391b、399b、409b、417b可同樣地包含相對於玻璃帶121的垂直向下傾斜輥。任何對之拉製輥之向下傾斜角可為不同的或與任何其他對之拉製輥相同，此取決於製程考量。第一對上游拉製輥351及/或第二對上游拉製輥361之向下傾斜可提供在兩對拉製輥351、361之間的所欲位準之交叉拉製張力431。第一對中游拉製輥371及/或第二對中游拉製輥379之向下傾斜可提供在兩對拉製輥371、379之間的所欲位準之交叉拉製張力433。第一對下游拉製輥389及/或第二對下游拉製輥397之向下傾斜可提供在兩對拉製輥389、397之間的所欲位準之交叉拉製張力435。同樣地，第一對中間拉製輥407及/或第二對中間拉製輥415之向下傾斜可提供在兩對拉製輥407、415之間的所欲位準之交叉拉製張力437。
在一些實例中，控制裝置423可經配置以啟動自動***(未展示)，或手動機構可用於調整垂直向下傾斜輥之向下傾斜位置使得控制(或調諧)跨玻璃帶121之平均交叉拉製張力431、433、435、437。
在其他實例中，該對拉製輥351、361、371、379、389、397、407、415之一或多者可為相對於玻璃帶的水平位準輥，其中拉製輥之旋轉軸實質上垂直於玻璃帶121之拉製路徑延伸。若交叉張力跨玻璃帶之寬度沿該對輥不為必需的，則將牽拉輥裝置之該對輥之一或兩者提供為水平位準輥可為所欲的。
現將相對於第13圖-第19圖中例示的牽拉輥裝置315描述製造玻璃帶121之方法。
參考第13圖、第14圖、及第15圖，方法可包括以下步驟：提供包括第一對上游拉製輥351之第一牽拉輥設備349。在另一實例中，第一牽拉輥設備349可視需要具備第二對上游拉製輥361。
參考第13圖、第14圖、及第16圖，方法進一步包括以下步驟：提供第二牽拉輥設備369，其包括沿拉製路徑353定位在第一對上游拉製輥351下游的第一對中游拉製輥371。在另一實例中，第二牽拉輥設備369可視需要具備沿拉製路徑353定位在第二對上游拉製輥361下游的第二對中游拉製輥379。
方法進一步包括以下步驟：提供第三牽拉輥設備387，其包括沿拉製路徑353定位在第一對中游拉製輥371下游的第一對下游拉製輥389。在另一實例中，第三牽拉輥設備387可視需要具備沿拉製路徑353定位在第二對中游拉製輥379下游的第二對下游拉製輥397。
視需要，方法進一步包括以下步驟：提供中間牽拉輥設備405，其包括沿拉製路徑353定位在第一對中游拉製輥371下游且沿拉製路徑353定位在第一對下游拉製輥389上游的第一對中間拉製輥407。在另一實例中，中間牽拉輥設備405可視需要具備沿拉製路徑353定位在第二對中游拉製輥379下游且沿拉製路徑353定位在第二對下游拉製輥397上游的第二對中間拉製輥415。
方法進一步包括以下步驟：形成具有在第一邊緣部分105a與第二邊緣部分121b之間延伸的寬度「W」之玻璃帶121。第一牽拉輥設備349可獨立地例如利用控制裝置423操作而無需來自第二牽拉輥設備369之輸入或來自第三牽拉輥設備387之輸入，或當提供任何中間牽拉輥設備405時，無需來自中間牽拉輥設備405之輸入。例如，第一牽拉輥設備349可獨立地操作以使得第一對上游拉製輥351之至少一個拉製輥(牽拉輥構件355a、355b)以實質上恆定轉矩旋轉以沿拉製路徑353拉製玻璃帶121之第一邊緣部分121a。在一個實例中，第一牽拉輥設備349可經操作以使得第一對上游拉製輥351之兩個拉製輥(牽拉輥構件355a、355b)以實質上恆定轉矩旋轉。
若提供，則第二對上游拉製輥361亦可獨立地操作以使得第二對上游拉製輥361之至少一個拉製輥(牽拉輥構件363a、363b)以實質上恆定轉矩旋轉以沿拉製路徑353拉製玻璃帶121之第二邊緣部分121b。在一個實例中，第一牽拉輥設備349可經操作以使得第二對上游拉製輥361之兩個拉製輥(牽拉輥構件363a、363b)以實質上恆定轉矩旋轉。因而，沿拉製路徑353之所欲張力439可在玻璃帶121中維持在根部70與第一牽拉輥設備349之間。
方法進一步獨立地操作第二牽拉輥設備369以使得第一對中游拉製輥371之至少一個拉製輥(牽拉輥構件373a、373b)以實質上恆定轉矩旋轉以沿拉製路徑353進一步拉製玻璃帶121之第一邊緣部分121a。在一個實例中，方法可包括以下步驟：操作第二牽拉輥設備369以使得第一對中游拉製輥371之兩個拉製輥(牽拉輥構件373a、373b)以實質上恆定轉矩旋轉。
若提供，則第二對中游拉製輥379亦可獨立地操作以使得第二對中游拉製輥379之至少一個拉製輥(牽拉輥構件381a、381b)以實質上恆定轉矩旋轉以沿拉製路徑353拉製玻璃帶121之第二邊緣部分121b。在一個實例中，第二牽拉輥設備369可經操作以使得第二對中游拉製輥379之兩個拉製輥(牽拉輥構件381a、381b)以實質上恆定轉矩旋轉。因而，沿拉製路徑353之所欲張力441可在玻璃帶121中維持在第一牽拉輥設備349與第二牽拉輥設備369之間。
方法進一步獨立地操作第三牽拉輥設備387以使得第一對下游拉製輥389之至少一個拉製輥(牽拉輥構件391a、391b)以實質上恆定角速度旋轉以沿拉製路徑353進一步拉製玻璃帶121之第一邊緣部分121a。在一個實例中，方法可包括以下步驟：操作第三牽拉輥設備387以使得第一對下游拉製輥389之兩個拉製輥(牽拉輥構件391a、391b)以實質上恆定角速度旋轉。
若提供，則第二對下游拉製輥397亦可獨立地操作以使得第二對下游拉製輥397之至少一個拉製輥(牽拉輥構件399a、399b)以實質上恆定角速度旋轉以沿拉製路徑353進一步拉製玻璃帶121之第二邊緣部分121b。在一個實例中，方法可包括以下步驟：操作第三牽拉輥設備387以使得第二對下游拉製輥397之兩個拉製輥(牽拉輥構件399a、399b)以實質上恆定角速度旋轉。因而，沿拉製路徑353之所欲張力443可在玻璃帶121中維持在第二牽拉輥設備369與第三牽拉輥設備387之間。
當提供時，方法進一步獨立地操作中間牽拉輥設備405以使得第一對中間拉製輥407之至少一個拉製輥(牽拉輥構件409a、409b)以實質上恆定轉矩旋轉沿拉製路徑353進一步拉製玻璃帶121之第一邊緣部分121a（第18圖及第19圖)。在一個實例中，方法可包括以下步驟：操作中間牽拉輥設備405以使得第一對中間拉製輥407之兩個拉製輥(牽拉輥構件409a、409b)以實質上恆定轉矩旋轉。
若提供，則第二對中間拉製輥415亦可獨立地操作以使得第二對中間拉製輥415之至少一個拉製輥(牽拉輥構件417a、417b)以實質上恆定轉矩旋轉以沿拉製路徑353進一步拉製玻璃帶121之第二邊緣部分121b。在一個實例中，方法可包括以下步驟：操作中間牽拉輥設備405以使得第二對中間拉製輥415之兩個拉製輥(牽拉輥構件417a、417b)以實質上恆定轉矩旋轉。因而，沿拉製路徑353之所欲張力445可在玻璃帶121中維持在第二牽拉輥設備169與中間牽拉輥設備405之間，且沿拉製路徑353之所欲張力447可在玻璃帶121中維持在中間牽拉輥設備405與第三牽拉輥設備387之間。
雖然示範性實施例描述以恆定轉矩模式操作的第一牽拉輥設備349，以恆定轉矩模式操作的第二牽拉輥設備369，以恆定角速度模式操作的第三牽拉輥設備387，及以恆定轉矩模式操作的中間牽拉輥設備405，但本揭示內容不受此限制。亦即，牽拉輥設備中之每一者可以恆定轉矩模式或恆定角速度模式操作。例如，牽拉輥設備可以表1之控制方案操作。例如，在表1之控制方案「C」中，第一牽拉輥設備349可以恆定轉矩模式操作，第二牽拉輥設備369可以恆定角速度模式操作，第三牽拉輥設備387以恆定角速度模式操作，且若提供，則中間牽拉輥設備405以恆定角速度模式操作。
方法可進一步包括以下步驟：在一時段內在沿拉製路徑353的處於第一對下游拉製輥389下游的位置處自玻璃帶121連續地分離複數個玻璃片347a、347b。例如，如第13圖及第14圖所示，分離裝置319可週期性地啟動以在自成形容器60拉製玻璃帶121時連續地分離複數個玻璃片347a、347b。
第20圖展示在兩個不同高程處的恆定力，例如，曲線449展示在第13圖中的黏性區341中於第一牽拉輥設備349處的恆定力，且曲線451展示第13圖中的定型(黏彈性)區343中於第二牽拉輥設備369處的恆定力。控制裝置423可藉由使用者配置來在恆定力下隨時間推移獨立地操作第一牽拉輥設備349及第二牽拉輥設備369。因此，玻璃帶121自根部70至最下方輥即第三牽拉輥設備387經歷恆定垂直力。
如第13圖所示，最下方輥即第三牽拉輥設備387作為主輥操作，且在恆定速度下操作以控制玻璃帶121之速度。
第21圖展示藉由第一對下游拉製輥389及第二對下游拉製輥397施加至玻璃帶121的力之示例性圖表。Y軸為力(磅)且X軸為時間(小時:分鐘)。一個曲線453表示藉由第一對下游拉製輥389在第一邊緣部分121a處施加於玻璃帶121的力，而其他曲線455表示藉由第二對下游拉製輥397在第二邊緣部分121b施加於玻璃帶121的力。力線圖展示相關聯於玻璃帶121重量之逐漸變化的鋸齒形圖案，其係歸因於玻璃帶121重量由於玻璃片347a自玻璃帶121之折斷的生長及突然變化。因為第三牽拉輥設備387位於如黏度方程式(方程式1)描述的黏彈性區343之下游的如第13圖所示的彈性區345中，所以第一對下游拉製輥389及第二對下游拉製輥397隔離擾動傳播至黏彈性(定型)區343中。
[方程式1] 其中黏度(η)具有單位Pa.s，且剪力模數(G)具有單位Pa。因此，η/G具有單位時間。
如第20圖及第21圖所示，歷經一時間段，第一對上游拉製輥351及第二對上游拉製輥361與第一對中游拉製輥371及第二對中游拉製輥379沿拉製路徑353將實質上恆定力施加至玻璃帶121之第一邊緣部分121a及第二邊緣部分121b，且第一對下游拉製輥389及第二對下游拉製輥397沿拉製路徑353將變化力施加至玻璃帶121之第一邊緣部分121a及第二邊緣部分121b。
第22圖展示作為最下方(或主)牽拉輥設備的第三牽拉輥設備387之第一對下游拉製輥389及第二對下游拉製輥397的隨時間變化(小時:分鐘)之速度，且展示恆定速度(每一刻點標記為0.2 in/min (50.8 mm/min))控制玻璃帶121厚度且維持優異屬性。此速度容易地經由控制裝置423調整以獲得所欲產品規格，諸如厚度。
如第13圖所示，玻璃帶121係於沿拉製路徑353的拉製方向457上拉製。返回至第20圖、第21圖、及第22圖，歷經該時間段，第一對上游拉製輥351及第二對上游拉製輥361各自在與拉製方向457相反的方向上施加實質上恆定力(例如，8磅)至玻璃帶121之各別第一邊緣部分121a及第二邊緣部分121b。歷經該時間段，第一對中游拉製輥371及第二對中游拉製輥379亦各自在與拉製方向457相反的方向上將實質上恆定力(例如，6磅)施加至玻璃帶121之各別第一邊緣部分121a及第二邊緣部分121b。如進一步所例示的，第一對下游拉製輥389及第二對下游拉製輥397各自在拉製方向457之方向上(例如，自約5磅)至與拉製方向457相反的方向上(例如，至約18磅)將變化力施加至玻璃帶121之各別第一邊緣部分121a及第二邊緣部分121b。因而，第一邊緣部分121a在第一對上游拉製輥351、第一對中游拉製輥371、及第一對下游拉製輥389之間歷經該時間段恆定地維持張力。同樣地，第二邊緣部分121b在第二對上游拉製輥361、第二對中游拉製輥379、及第二對下游拉製輥397之間歷經該時間段恆定地維持張力。在其他實例中，兩個邊緣121a、121b上之所有力可取決於設備設置而在相對於拉製方向457之正方向或負方向上起作用。
如第21圖中進一步所示，第一對下游拉製輥389及第二對下游拉製輥397各自施加歸因於相關聯於拉製輥389、397的恆定角速度之變化力。曲線453、455之圖樣459、461表示在玻璃帶121長度增加時的變化力，而圖樣463、465表示在玻璃片347a自玻璃帶121分離期間發生的力之突然改變。在同一時間段期間，第一對上游拉製輥351及第二對上游拉製輥361之恆定轉矩可維持對玻璃帶121之實質上恆定力，且第一對中游拉製輥371及第二對中游拉製輥379之恆定轉矩亦可維持對玻璃帶121之實質上恆定力。因而，力擾動可被阻止沿玻璃帶向上傳輸至定型區343中，在該定型區中，應力集中及相應表面缺陷可能不合需要地凍結在玻璃帶121中。
因而，本揭示內容之方法可在一時間段內獨立地操作第一牽拉輥設備349以使得第一對上游拉製輥351沿拉製路徑353向玻璃帶121之第一邊緣部分121a施加實質上恆定力。方法可進一步包括以下步驟：在該時間段內獨立地操作第二牽拉輥設備369以使得第一對下游拉製輥371之至少一者沿拉製路徑353向玻璃帶121之第一邊緣部分121a施加實質上恆定力。方法可進一步包括以下步驟：在該時間段內獨立地操作第三牽拉輥設備387以使得第一對下游拉製輥389之至少一者以實質上恆定角速度旋轉，且第一對下游拉製輥389沿拉製路徑353向玻璃帶121之第一邊緣部分121a施加變化力。方法可進一步包括以下步驟：在該時段內在沿拉製路徑353的處於第一對下游拉製輥389下游的位置處自玻璃帶121連續地分離複數個玻璃片347a。
如上文所論述，第一牽拉輥設備349可具備第二對上游拉製輥361。在此種實例中，方法可進一步包括以下步驟：操作第一牽拉輥設備349以使得第二對上游拉製輥361沿拉製路徑353向玻璃帶121之第二邊緣部分121b施加實質上恆定力。如先前所提及，第二牽拉輥設備369可包括沿拉製路徑353定位在第二對上游拉製輥361下游的第二對中游拉製輥379。方法可進一步包括以下步驟：操作第二牽拉輥設備369以使得第二對中游拉製輥379沿拉製路徑353向玻璃帶121之第二邊緣部分121b施加實質上恆定力。更進一步，如先前所提及，第三牽拉輥設備387可包括沿拉製路徑353定位在第二對中游拉製輥379下游的第二對下游拉製輥397。在此種實例中，方法可進一步包括以下步驟：操作第三牽拉輥設備387以使得第二對下游拉製輥397之至少一者以實質上恆定角速度旋轉，且第二對下游拉製輥397沿拉製路徑353向玻璃帶121之第二邊緣部分121b施加變化力。
方法可進一步包括以下步驟：在該時間段內獨立地操作中間牽拉輥設備405(當提供時)以使得第一對中間拉製輥407之至少一者沿拉製路徑353向玻璃帶121之第一邊緣部分121a施加實質上恆定力。如上文所論述，中間牽拉輥設備405可具備第二對中間拉製輥415。在此種實例中，方法可進一步包括以下步驟：操作中間牽拉輥設備405以使得第二對中間拉製輥415沿拉製路徑353向玻璃帶121之第二邊緣部分121b施加實質上恆定力。
牽拉輥裝置315可用於改良玻璃帶中交叉拉製張力及/或下拉片材張力之一致性，從而減少殘餘應力且改良所製造玻璃帶上之玻璃平坦度。更具體而言，牽拉輥裝置315可用於控制及改良玻璃帶通過定型區之區域中的交叉拉製張力及/或下拉片材張力之一致性，在該定型區中，產品應力及平坦度固定於玻璃帶中。
在比較示範性實施例中，牽拉輥裝置可僅具有上牽拉輥設備及下牽拉輥設備。在此比較性牽拉輥設備中，用以分別在上牽拉輥設備及下牽拉輥設備處達成必要恆定轉矩或恆定速度之捏縮力將必須過大以用於大重量玻璃帶，以使得一對拉製輥之間的捏縮力將使玻璃帶開裂。大重量玻璃帶可在製造具有大寬度及大長度以及小厚度之大玻璃片時存在。
此外，如藉由本申請案之示範性實施例所闡述及如藉由曲線449、451所示以實質上恆定轉矩模式操作該對上游拉製輥、該對中游拉製輥、及該對中間拉製輥(當提供時)提供超過以實質上恆定角速度操作該對上游拉製輥及該對中游拉製輥的其他優點。首先，該對上游及中游拉製輥、及該對中間拉製輥(當提供時)之恆定角速度可在輥中之不同直徑處提供不同的張力。對比而言，以實質上恆定轉矩操作該對上游及中游拉製輥、及該對中間拉製輥(當提供時)允許隨時間推移達成一致的垂直張力。的確，以實質上恆定轉矩操作幾乎補償輥之磨損。當輥在恆定轉矩下磨損時，力變化隨輥直徑輕微變化，但效應為極小的。速度控制具有對輥直徑高得多的敏感性。其次，該對上游及中游拉製輥、及該對中間拉製輥(當提供時)之恆定角速度可證明歸因於輥之直徑不確定性而難以與片材速度關聯。對比而言，以實質上恆定轉矩操作該對上游及中游拉製輥、及該對中間拉製輥(當提供時)消除對關聯來獲得滾筒之適當角速度之需要。再次，以實質上恆定轉矩操作該對上游及中游拉製輥、及該對中間拉製輥(當提供時)可避免翹曲或開裂之風險，該翹曲或開裂可在設法調整該對上游或中游拉製輥、或該對中間拉製輥(當提供時)之速度以補償輥磨損時發生。第四，以實質上恆定轉矩操作該對上游及中游拉製輥、及該對中間拉製輥(當提供時)可避免在恆定角速度太慢的情況下輥跳躍之風險。第五，操作該對上游及中游拉製輥、及該對中間拉製輥(當提供時)可避免過量的拉力可變性，此可歸因於在恆定角速度模式中之輥跳動（run-out）而發生。
因此，本揭示內容之示範性實施例致能歸因於使用驅動輥之多個高程的玻璃帶上之牽引增加。因此，可製造具有較平坦表面之較大、較重片材及較薄片材。本揭示內容之示範性實施例致能模組化設計之應用，該等模組化設計容易地延伸至四個或更多高程中。本揭示內容之示範性實施例致能驅動輥在所欲高程處的置放，以提供維持穿過黏彈性區之平坦玻璃帶所需的垂直及交叉拉製力。因此，可達成較長及較寬黏彈性區。本揭示內容之示範性實施例致能最下方輥置放於黏彈性區下方以維持自根部穿過黏彈性區之恆定垂直力以及將黏彈性區與下游擾動隔離，例如與諸如帶材生長之影響及帶材折斷成片材之擾動。
本說明書中描述的諸如控制裝置之功能單元中之一些已標記為模組，以便強調其實施獨立性。例如，模組可實行為硬體電路，其包含習慣VLSI電路或閘極陣列 ，諸如邏輯晶片、電晶體、或其他離散組件的現成半導體。模組亦可在諸如現場可程式化閘陣列、可程式化陣列邏緝、可程式化邏輯裝置或類似物之可程式化硬體裝置中實施。模組亦可利用閥、活塞、齒輪、連接構件、及彈簧、或類似物來實施。
模組亦可在用於藉由各種類型之處理器執行的軟體中實施。可執行代碼之經識別模組可例如包含電腦指令之一或多個實體或邏輯塊，其可例如組織為物件、程序、或功能。然而，經識別模組之可執行者無需實體上一起定位，但可包含儲存在不同位置中的差別指令，當在邏輯上一起結合時，該等位置包含該模組且達成針對該模組之所述目的。
可執行代碼之模組可為單一指令，或許多指令，且可甚至在不同程式間及跨若干記憶體裝置而分佈在若干不同的代碼段上。類似地，操作資料可在本文中識別及例示在模組內，且可以任何適合的形式體現且組織在任何適合類型之資料結構內。操作資料可作為單一資料集收集，或可分佈在不同位置上，包括分佈在不同儲存裝置上。
玻璃組成物
鹼金屬鋁矽酸鹽玻璃具有良好的離子可交換性，且化學強化製程已用於在鹼金屬鋁矽酸鹽玻璃中達成高強度及高韌度性質。鹼金屬鋁矽酸鹽玻璃為具有高玻璃可成形性及品質之高度離子可交換玻璃。將Al2
O3
置換至矽酸鹽玻璃網狀結構中增加一價陽離子在離子交換期間之相互擴散性。藉由在熔融鹽浴(例如，KNO3
或NaNO3
)中化學強化，可達成具有高強度、高韌度、及高抗壓痕開裂性之玻璃。
因此，具有良好物理性質、化學穩定性、及離子可交換性之鹼金屬鋁矽酸鹽玻璃在用作蓋玻璃及/或消費者電子裝置之部分方面引起關注。詳言之，本文提供具有較低退火溫度及軟化溫度、較低熱膨脹係數(coefficient of thermal expansion; CTE)值、及快速離子可交換性之含有鋰的鋁矽酸鹽玻璃。經由不同的離子交換製程，可達成較大中心張力(central tension; CT)、壓縮深度(depth of compression; DOC)、及高壓縮應力(compressive stress; CS)。然而，在鹼金屬鋁矽酸鹽玻璃中添加鋰可減少玻璃之熔點或軟化點。因此，本文提供各種玻璃組分之平衡，從而允許玻璃實現將鋰添加至玻璃組成物之益處，但不會負面地影響玻璃組成物。
在本文描述的玻璃組成物之實施例中，除非另有規定，否則構成組分(例如，SiO2
、Al2
O3
、Li2
O、及類似者)之濃度係基於氧化物以莫耳百分比(mol%)給出。根據實施例的含有Li的鋁矽酸鹽玻璃組成物之組分在下文個別地論述。應理解，一種組分之各種敘述範圍中之任何範圍可個別地與任何其他組分的各種敘述範圍中之任何範圍組合。
在示範性含有Li的鋁矽酸鹽玻璃組成物中，SiO2
為最大成分，且因而SiO2
係由玻璃組成物形成之玻璃網狀結構主要成分。純SiO2
具有相對低的CTE且不含鹼金屬。然而，純SiO2
具有高熔點。因此，若玻璃組成物中之SiO2
之濃度過高，則玻璃組成物之可成形性可減小，因為SiO2
之較高濃度增加熔融玻璃之難度，繼而不利地影響玻璃之可成形性。在實施例中，玻璃組成物大體上包含以下量之SiO2
：大於或等於60%至小於或等於74 mol%及前述值之間的所有範圍及子範圍。在一些實施例中，玻璃組成物包含以下量之SiO2
：大於或等於62 mol%、大於或等於64 mol%、大於或等於66 mol%、大於或等於68 mol%、大於或等於70 mol%、或大於或等於72 mol%。在一些實施例中，玻璃組成物包含以下量之SiO2
：小於或等於72 mol%、小於或等於70 mol%、小於或等於68 mol%、小於或等於66 mol%、小於或等於64 mol%、或小於或等於62 mol%。在其他實施例中，玻璃組成物包含以下量之SiO2
：大於或等於60 mol%至小於或等於66 mol%、或大於或等於65 mol%至小於或等於74 mol%、或大於或等於66 mol%至小於或等於70 mol%、及前述值之間的所有範圍及子範圍。
實施例之玻璃組成物可進一步包含Al2
O3
。Al2
O3
可類似於SiO2
充當玻璃網狀結構形成體。Al2
O3
可增加玻璃組成物之黏度，此歸因於其在由適當設計的玻璃組成物形成之玻璃熔體中之四面體配位，從而當Al2
O3
之量過高時減小玻璃組成物之可成形性。然而，當Al2
O3
之濃度相對玻璃組成物中SiO2
之濃度及鹼金屬氧化物之濃度平衡時，Al2
O3
可減少玻璃熔體之液相溫度，進而增強液相黏度並改良玻璃組成物與諸如熔合成形製程之某些成形製程的相容性。在實施例中，玻璃組成物大體上包含以下濃度之Al2
O3
：大於或等於7 mol%至小於或等於18 mol%及前述值之間的所有範圍及子範圍。在一些實施例中，玻璃組成物包含以下量之Al2
O3
：大於或等於8 mol%、大於或等於9 mol%、大於或等於10 mol%、大於或等於11 mol%、大於或等於12 mol%、大於或等於13 mol%、大於或等於14 mol%、大於或等於15 mol%、大於或等於16 mol%、或大於或等於17 mol%。在一些實施例中，玻璃組成物包含以下量之Al2
O3
：小於或等於18 mol%、小於或等於17 mol%、小於或等於16 mol%、小於或等於15 mol%、小於或等於14 mol%、小於或等於13 mol%、小於或等於12 mol%、小於或等於11 mol%、小於或等於10 mol%、小於或等於9 mol%、或小於或等於8 mol%。在其他實施例中，玻璃組成物包含以下量之Al2
O3
：大於或等於8 mol%至小於或等於17 mol%，諸如大於或等於9 mol%至小於或等於16 mol%、大於或等於10 mol%至小於或等於15 mol%、或大於或等於11 mol%至小於或等於14 mol%及前述值之間的所有範圍及子範圍。在其他實施例中，玻璃組成物包含以下量之Al2
O3
：大於或等於11.5 mol%至小於或等於18 mol%、或大於或等於7 mol%至小於或等於12 mol%、及前述值之間的所有範圍及子範圍。
如同SiO2
及Al2
O3
，P2
O5
可作為網狀結構形成體添加至玻璃組成物，進而減少玻璃組成物之可熔融性及可成形性。因此，P2
O5
可以不過度地減小此等性質之量添加。在其他實施例中，玻璃組成物可包含以下量之P2
O5
：大於或等於0 mol%至小於或等於5 mol%及前述值之間的所有範圍及子範圍。在一些實施例中，玻璃組成物可包含以下量之P2
O5
：大於或等於0.5 mol%、大於或等於1 mol%、大於或等於1.5 mol%、大於或等於2 mol%、大於或等於2.5 mol%、大於或等於3 mol%、大於或等於3.5 mol%、大於或等於4 mol%、或大於或等於4.5 mol%。在其他實施例中，玻璃組成物可包含以下量之P2
O5
：小於或等於5 mol%、小於或等於4.5 mol%、小於或等於4 mol%、小於或等於3.5 mol%、小於或等於3 mol%、小於或等於2.5 mol%、小於或等於2 mol%、小於或等於1.5 mol%、小於或等於1 mol%、小於或等於0.5 mol%。在其他實施例中，玻璃組成物可包含以下量之P2
O5
：大於或等於0.5 mol%至小於或等於4.5 mol%、大於或等於1 mol%至小於或等於4 mol%、大於或等於1.5 mol%至小於或等於3.5 mol%、或大於或等於2 mol%至小於或等於3 mol%、及前述值之間的所有範圍及子範圍。
類似SiO2
、Al2
O3
、及P2
O5
，B2
O3
可作為網狀結構形成體添加至玻璃組成物，進而減少玻璃組成物之可熔融性及可成形性。因此，B2
O3
可以不過度地減小此等性質之量添加。在一些實施例中，玻璃組成物可包含以下量之B2
O3
：大於或等於3 mol% B2
O3
至小於或等於16 mol% B2
O3
及前述值之間的所有範圍及子範圍。在一些實施例中，玻璃組成物可包含以下量之B2
O3
：大於或等於3.5 mol%、大於或等於4 mol%、大於或等於4.5 mol%、大於或等於5 mol%、大於或等於5.5 mol%、大於或等於6 mol%、大於或等於6.5 mol%、大於或等於7 mol%、大於或等於7.5 mol%、大於或等於8 mol%、大於或等於8.5 mol%、大於或等於9 mol%、大於或等於9.5 mol%、大於或等於10 mol%、大於或等於10.5 mol%、大於或等於11 mol%、大於或等於11.5 mol%、大於或等於12 mol%、大於或等於12.5 mol%、大於或等於13 mol%、大於或等於13.5 mol%、大於或等於14 mol%、大於或等於14.5 mol%、大於或等於15 mol%、或大於或等於15.5 mol%。在其他實施例中，玻璃組成物可包含以下量之B2
O3
：小於或等於15.5 mol%、小於或等於15 mol%、小於或等於14.5 mol%、小於或等於14 mol%、小於或等於13.5 mol%、小於或等於13 mol%、小於或等於12.5 mol%、小於或等於12 mol%、小於或等於11.5 mol%、小於或等於11 mol%、小於或等於10.5 mol%、小於或等於10 mol%、小於或等於9.5 mol%、小於或等於9 mol%、小於或等於8.5 mol%、小於或等於8 mol%、小於或等於7.5 mol%、小於或等於7 mol%、小於或等於6.5 mol%、小於或等於6 mol%、小於或等於5.5 mol%、小於或等於5 mol%、小於或等於4.5 mol%、小於或等於4 mol%、或小於或等於3.5 mol%。在其他實施例中，玻璃組成物包含以下量之B2
O3
：大於或等於3.5 mol%至小於或等於15.5 mol%、大於或等於4 mol%至小於或等於15 mol%、大於或等於4.5 mol%至小於或等於14.5 mol%、大於或等於5 mol%至小於或等於14 mol%、大於或等於5.5 mol%至小於或等於13.5 mol%、大於或等於6 mol%至小於或等於13 mol%、大於或等於6.5 mol%至小於或等於12.5 mol%、大於或等於7 mol%至小於或等於12 mol%、大於或等於7.5 mol%至小於或等於11.5 mol%、大於或等於8 mol%至小於或等於11 mol%、大於或等於8.5 mol%至小於或等於10.5 mol%、大於或等於9 mol%至小於或等於10 mol%、大於或等於3 mol%至小於或等於8 mol%、大於或等於5 mol%至小於或等於16 mol%、及前述值之間的所有範圍及子範圍。
Li2
O在玻璃組成物中之效應在上文已論述且在下文進一步詳細論述。部分地，在玻璃中添加鋰允許對離子交換製程之較好控制且進一步減少玻璃之軟化點。在實施例中，玻璃組成物大體上包含以下量之Li2
O：大於或等於5 mol%至小於或等於11 mol%及前述值之間的所有範圍及子範圍。在一些實施例中，玻璃組成物包含以下量之Li2
O：大於或等於5.5 mol%、大於或等於6 mol%、大於或等於6.5 mol%、大於或等於7 mol%、大於或等於7.5 mol%、大於或等於8 mol%、大於或等於8.5 mol%、大於或等於9 mol%、大於或等於9.5 mol%、大於或等於10 mol%、或大於或等於10.5 mol%。在一些實施例中，玻璃組成物包含以下量之Li2
O：小於或等於10.5 mol%、小於或等於10 mol%、小於或等於9.5 mol%、小於或等於9 mol%、小於或等於8.5 mol%、小於或等於8 mol%、小於或等於7.5 mol%、小於或等於7 mol%、小於或等於6.5 mol%、小於或等於6 mol%、或小於或等於5.5 mol%。在其他實施例中，玻璃組成物包含以下量之Li2
O：大於或等於5.5 mol%至小於或等於10.5 mol%，諸如大於或等於6 mol%至小於或等於10 mol%、大於或等於6.5 mol%至小於或等於9.5 mol%、大於或等於7 mol%至小於或等於9 mol%、或大於或等於7.5 mol%至小於或等於8.5 mol%、及前述值之間的所有範圍及子範圍。
根據實施例，玻璃組成物亦可包含例如除Li2
O外的鹼金屬氧化物，諸如Na2
O及K2
O。Na2
O輔助玻璃組成物之離子可交換性，且亦增加玻璃組成物之熔點並改良玻璃組成物之可成形性。然而，若過多Na2
O添加至玻璃組成物，則熱膨脹係數(coefficient of thermal expansion; CTE)可過低，且熔點可過高。在實施例中，玻璃組成物大體上包含以下量之Na2
O：大於0 mol%至小於或等於6 mol%或大於或等於0 mol%至小於或等於6 mol%及前述值之間的所有範圍及子範圍。在一些實施例中，玻璃組成物包含以下量之Na2
O：大於或等於0.5 mol%、大於或等於1 mol%、大於或等於1.5 mol%、大於或等於2 mol%、大於或等於2.5 mol%、大於或等於3 mol%、大於或等於3.5 mol%、大於或等於4 mol%、大於或等於4.5 mol%、大於或等於5 mol%、大於或等於5.5 mol%。在一些實施例中，玻璃組成物包含以下量之Na2
O：小於或等於5.5 mol%、小於或等於5 mol%、小於或等於4.5 mol%、小於或等於4 mol%、小於或等於3.5 mol%、小於或等於3 mol%、小於或等於2.5 mol%、小於或等於2 mol%、小於或等於1.5 mol%、小於或等於1 mol%、或小於或等於0.5 mol%。在其他實施例中，玻璃組成物包含以下量之Na2
O：大於或等於0.5 mol%至小於或等於5.5 mol%，諸如大於或等於1 mol%至小於或等於5 mol%、大於或等於1.5 mol%至小於或等於4.5 mol%、大於或等於2 mol%至小於或等於4 mol%、或大於或等於2.5 mol%至小於或等於3.5 mol%、大於或等於2 mol%至小於或等於6 mol%、大於或等於0 mol%至小於或等於4 mol%、及前述值之間的所有範圍及子範圍。
如同Na2
O，K2
O亦促進離子交換且增加壓縮應力層之DOC。然而，在實施例中CTE可過低，且熔點可過高，玻璃組成物實質上不含鉀。如本文所使用，術語「實質上不含」意指該組分並非係作為批料之組分添加，即使該組分可作為污染物以極小量存在於最終玻璃中亦如此，該等極小量諸如小於0.1 mol%。在其他實施例中，K2
O可以小於1 mol%之量存在於玻璃組成物。
MgO降低玻璃之黏度，從而增強可成形性、應變點及楊氏模數，且可改良離子交換能力。然而，當過多MgO添加至玻璃組成物時，玻璃組成物之密度及CTE增加。在實施例中，玻璃組成物大體上包含以下濃度之MgO：大於或等於0 mol%至小於或等於6.5 mol%及前述值之間的所有範圍及子範圍。在一些實施例中，玻璃組成物包含以下量之MgO：大於或等於0.5 mol%、大於或等於1 mol%、大於或等於1.5 mol%、大於或等於2 mol%、大於或等於2.5 mol%、大於或等於3 mol%、大於或等於3.5 mol%、大於或等於4 mol%、大於或等於4.5 mol%、大於或等於5 mol%、大於或等於5.5 mol%、或大於或等於6 mol%。在一些實施例中，玻璃組成物包含以下量之MgO：小於或等於6 mol%、小於或等於5.5 mol%、小於或等於5 mol%、小於或等於4.5 mol%、小於或等於4 mol%、小於或等於3.5 mol%小於或等於3 mol%、小於或等於2.5 mol%、小於或等於2 mol%、小於或等於1.5 mol%、或小於或等於1 mol%。在其他實施例中，玻璃組成物包含以下量之MgO：大於或等於0.5 mol%至小於或等於6 mol%，諸如大於或等於1 mol%至小於或等於5.5 mol%、大於或等於1.5 mol%至小於或等於5 mol%、大於或等於2 mol%至小於或等於4.5 mol%、大於或等於2.5 mol%至小於或等於4 mol%、或大於或等於3 mol%至小於或等於3.5 mol%、及前述值之間的所有範圍及子範圍。
CaO降低玻璃之黏度，從而增強可成形性、應變點及楊氏模數，且可改良離子交換能力。然而，當過多CaO添加至玻璃組成物時，玻璃組成物之密度及CTE增加。在實施例中，玻璃組成物大體上包含以下濃度之CaO：大於或等於0 mol%至小於或等於5 mol%及前述值之間的所有範圍及子範圍。在一些實施例中，玻璃組成物包含以下量之CaO：大於或等於0.5 mol%、大於或等於1 mol%、大於或等於1.5 mol%、大於或等於2 mol%、大於或等於2.5 mol%、大於或等於3 mol%、大於或等於3.5 mol%、大於或等於4 mol%、或大於或等於4.5 mol%。在一些實施例中，玻璃組成物包含以下量之CaO：小於或等於4.5 mol%、小於或等於4 mol%、小於或等於3.5 mol%、小於或等於3 mol%、小於或等於2.5 mol%、小於或等於2 mol%、小於或等於1.5 mol%、小於或等於1 mol%、或小於或等於0.5 mol%。在其他實施例中，玻璃組成物包含以下量之CaO：大於或等於0.5 mol%至小於或等於4.5 mol%，諸如大於或等於1 mol%至小於或等於4 mol%、大於或等於1.5 mol%至小於或等於3 mol%、或大於或等於2 mol%至小於或等於3 mol%、及前述值之間的所有範圍及子範圍。
在實施例中，玻璃組成物可視需要包括一或多種澄清劑。在一些實施例中，澄清劑可包括例如SnO2
。在此種實施例中，SnO2
可以以下量存在於玻璃組成物中：小於或等於0.2 mol%，諸如大於或等於0 mol%至小於或等於0.11 mol%及前述值之間的所有範圍及子範圍。在其他實施例中，SnO2
可以以下量存在於玻璃組成物中：大於或等於0 mol%至小於或等於0.2 mol%、或大於或等於0.1 mol%至小於或等於0.2 mol%、及前述值之間的所有範圍及子範圍。
ZnO諸如藉由增加玻璃之壓縮應力而增強玻璃之離子交換效能。然而，添加過多ZnO可增加密度且引起相分離。在實施例中，玻璃組成物可包含以下量之ZnO：大於或等於0 mol%至小於或等於2 mol%，諸如大於或等於0.5 mol%至小於或等於1.5 mol%及前述值之間的所有範圍及子範圍。在一些實施例中，玻璃組成物可包含以下量之ZnO：大於或等於0.5 mol%、大於或等於1 mol%、或大於或等於1.5 mol%。在其他實施例中，玻璃組成物可包含以下量之ZnO：小於或等於1.5 mol%、小於或等於1 mol%、或小於或等於0.5 mol%。
SrO降低本文揭示的玻璃物件之液相溫度。在實施例中，玻璃組成物可包含以下量之SrO：大於或等於0.5 mol%至小於或等於2 mol%，諸如大於或等於1 mol%至小於或等於1.5 mol%及前述值之間的所有範圍及子範圍。在一些實施例中，玻璃組成物可包含以下量之SrO：大於或等於1 mol%或大於或等於1.5 mol%。在其他實施例中，玻璃組成物可包含以下量之SrO：小於或等於1.5 mol%、小於或等於1 mol%、或小於或等於0.5 mol%。
除上文個別組分之外，根據本文揭示的實施例之玻璃組成物可包含以下量之二價陽離子氧化物：大於或等於0.5 mol%至小於或等於6.5 mol%及前述值之間的所有範圍及子範圍。如本文所使用，二價陽離子氧化物包括但不限於MgO、CaO、SrO、BaO、FeO、及ZnO。在一些實施例中，玻璃組成物可包含以下量之二價陽離子氧化物：大於或等於1 mol%、大於或等於1.5 mol%、大於或等於2 mol%、大於或等於2.5 mol%、大於或等於3 mol%、大於或等於3.5 mol%、大於或等於4 mol%、大於或等於4.5 mol%、大於或等於5 mol%、大於或等於5.5 mol%、或大於或等於6 mol%。在其他實施例中，玻璃組成物可包含以下量之二價陽離子氧化物：小於或等於5.5 mol%、小於或等於5 mol%、小於或等於4.5 mol%、小於或等於4 mol%、小於或等於3.5 mol%、小於或等於3 mol%、小於或等於2.5 mol%、小於或等於2 mol%、小於或等於1.5 mol%、或小於或等於1 mol%。在其他實施例中，玻璃組成物可包含以下量之二價陽離子氧化物：大於或等於1 mol%至小於或等於6 mol%、大於或等於1.5 mol%至小於或等於5.5 mol%、大於或等於2 mol%至小於或等於5 mol%、大於或等於2.5 mol%至小於或等於4.5 mol%、或大於或等於3.2 mol%至小於或等於3 mol%、及前述值之間的所有範圍及子範圍。
在實施例中，Li2
O:R2
O之莫耳比率為大於或等於0.4，其中R2
O為存在於玻璃組成物中之鹼金屬氧化物之總和(例如，Li2
O+Na2
O+K2
O)。玻璃組成物中之Li2
O之量增加CT，且改良玻璃物件之壓縮應力輪廓，從而可產生改良的機械效能，諸如改良抗破壞性。因此，具有諸如大於或等於0.4的Li2
O與其他鹼金屬氧化物之高比率提供此等改良。在一些實施例中，Li2
O:R2
O之莫耳比率為大於或等於0.5、大於或等於0.6、大於或等於0.7、大於或等於0.8、大於或等於0.9、或等於約1。在一些實施例中，Li2
O:R2
O之莫耳比率為小於或等於1、小於或等於0.9、小於或等於0.8、小於或等於0.7、小於或等於0.6、或小於或等於0.5。在其他實施例中，Li2
O:R2
O之莫耳比率為大於或等於0.4至小於或等於1、大於或等於0.5至小於或等於1、大於或等於0.6至小於或等於1、大於或等於0.7至小於或等於1、大於或等於0.8至小於或等於1、或大於或等於0.9至小於或等於1及前述值之間的所有範圍及子範圍。在其他實施例中，Li2
O:R2
O之莫耳比率為大於或等於0.4至小於或等於0.9、大於或等於0.4至小於或等於0.8、大於或等於0.4至小於或等於0.7、大於或等於0.4至小於或等於0.6、或大於或等於0.4至小於或等於0.5。
在實施例中，Al2
O3
:(R2
O+RO)之莫耳比率為大於或等於0.9，其中RO為二價陽離子氧化物之總和且R2
O為存在於玻璃組成物中之鹼金屬氧化物之總和。具有增加的Al2
O3
與R2
O+RO之比率改良液相溫度及玻璃物件之黏度。具有大於或等於0.9之此比率產生更緻密玻璃，其脆性較小且具有較高抗破壞性。在一些實施例中，Al2
O3
:(R2
O+RO)之莫耳比率為大於或等於1、大於或等於1.1、大於或等於1.2、大於或等於1.3、大於或等於1.4、或大於或等於1.5。在其他實施例中，Al2
O3
:(R2
O+RO)之莫耳比率為小於或等於1.5、小於或等於1.4、小於或等於1.3、小於或等於1.2、小於或等於1.1、或小於或等於1。在其他實施例中，Al2
O3
:(R2
O+RO)之莫耳比率為大於或等於0.9至小於或等於1.5、大於或等於1至小於或等於1.5、大於或等於1.1至小於或等於1.5、大於或等於1.2至小於或等於1.5、大於或等於1.3至小於或等於1.5、或大於或等於1.4至小於或等於1.5及前述值之間的所有範圍及子範圍。在其他實施例中，Al2
O3
:(R2
O+RO)之莫耳比率為大於或等於0.9至小於或等於1.4、大於或等於0.9至小於或等於1.3、大於或等於0.9至小於或等於1.2、大於或等於0.9至小於或等於1.1、或大於或等於0.9至小於或等於1及前述值之間的所有範圍及子範圍。
在實施例中，網狀結構成形組分Al2
O3
+SiO2
+B2
O3
+P2
O5
之總量為大於或等於80 mol%，諸如大於或等於82 mol、大於或等於84 mol%、大於或等於86 mol%、大於或等於88 mol%、大於或等於90 mol%、大於或等於92 mol%、或大於或等於94 mol%。具有高量之網狀結構成形劑增加玻璃之密度，從而使得脆性較少且改良抗破壞性。在其他實施例中，網狀結構成形組分之總量小於或等於94 mol%、小於或等於92 mol%、小於或等於90 mol%、小於或等於88 mol%、小於或等於86 mol%、小於或等於84 mol%、或小於或等於82 mol%。在其他實施例中，網狀結構成形組分之總量大於或等於80 mol%至小於或等於94 mol%、大於或等於82 mol%至小於或等於92 mol%、大於或等於84 mol%至小於或等於90 mol%、或大於或等於86 mol%至小於或等於88 mol%、及前述值之間的所有範圍及子範圍。
不限制可能選自上文敘述的各種組分中之每一者的組成物的情況下，在一些實施例中，玻璃組成物可包含大於或等於60 mol%至小於或等於74 mol% SiO2
；大於或等於7 mol%至小於或等於18 mol% Al2
O3
；大於或等於3 mol%至小於或等於16 mol% B2
O3
；大於0 mol%至小於或等於6 mol% Na2
O；大於或等於0 mol%至小於或等於5 mol% P2
O5
；大於或等於5 mol%至小於或等於11 mol% Li2
O；小於或等於0.2 mol% SnO2
；及大於或等於0.5 mol%至小於或等於6.5 mol%二價陽離子氧化物，其中Al2
O3
:(R2
O+RO)之莫耳比率為大於或等於0.9。在其他實施例中，玻璃組成物可包含大於或等於60 mol%至小於或等於66 mol% SiO2
；大於或等於11.5 mol%至小於或等於18 mol% Al2
O3
；大於或等於3 mol%至小於或等於8 mol% B2
O3
；大於或等於2 mol%至小於或等於6 mol% Na2
O；大於或等於0 mol%至小於或等於5 mol% P2
O5
；大於或等於5 mol%至小於或等於11 mol% Li2
O；及大於或等於0.5 mol%至小於或等於6.5 mol%二價陽離子氧化物，其中Al2
O3
:(R2
O+RO)之莫耳比率為大於或等於0.9。在其他實施例中，玻璃可包含大於或等於65 mol%至小於或等於74 mol% SiO2
；大於或等於7 mol%至小於或等於12 mol% Al2
O3
；大於或等於5 mol%至小於或等於16 mol% B2
O3
；大於或等於0 mol%至小於或等於4 mol% Na2
O；大於或等於0 mol%至小於或等於5 mol% P2
O5
；大於或等於5 mol%至小於或等於11 mol% Li2
O；及大於或等於0.5 mol%至小於或等於6.5 mol%二價陽離子氧化物，其中Al2
O3
:(R2
O+RO)之莫耳比率為 大於或等於0.9。
在實施例中，玻璃物件可實質上不含砷及銻中之一或兩者。在其他實施例中，玻璃物件可不含砷及銻中之一或兩者。
現將論述如上文揭示的含有Li的鋁矽酸鹽玻璃組成物之物理性質。下文論述的性質展示將鋰添加至鋁矽酸鹽玻璃或鹼金屬鋁矽酸鹽玻璃之結果。此等物理性質可藉由修改含有Li的鋁矽酸鹽玻璃組成物之組分量而達成，如將參考實例更詳細論述的。迄今，尚未清楚地瞭解鋰對玻璃組成物之物理性質的效應。
根據實施例之玻璃組成物可具有以下密度：大於或等於2.20 g/cm3
至小於或等於2.50 g/cm3
，諸如大於或等於2.25 g/cm3
至小於或等於2.50 g/cm3
、或大於或等於2.30 g/cm3
至小於或等於2.50 g/cm3
、大於或等於2.35 g/cm3
至小於或等於2.50 g/cm3
、大於或等於2.40 g/cm3
至小於或等於2.50 g/cm3
、或大於或等於2.45 g/cm3
至小於或等於2.50 g/cm3
。在其他實施例中，玻璃組成物可具有以下密度：大於或等於2.20 g/cm3
至小於或等於2.45 g/cm3
、大於或等於2.20 g/cm3
至小於或等於2.40 g/cm3
、大於或等於2.20 g/cm3
至小於或等於2.35 g/cm3
、大於或等於2.20 g/cm3
至小於或等於2.30 g/cm3
、或大於或等於2.20 g/cm3
至小於或等於2.25 g/cm3
及前述值之間的所有範圍及子範圍。大體上，由於鹼金屬鋁矽酸鹽玻璃組成物中諸如Na+
或K+
之較大、較緻密鹼金屬陽離子與諸如Li+
的較小鹼金屬陽離子置換，所以玻璃組成物之密度減小。因此，玻璃組成物中鋰之量越高，玻璃組成物將越不緻密。本揭示內容中敘述的密度值係指如藉由ASTM C693-93 (2013)之浮力方法量測的值。
玻璃組成物之應變點、退火點、及軟化點亦可藉由玻璃組成物中鋰之量影響。當玻璃組成物中鋰之量增加，諸如Na+
及K+
的其他、較大鹼金屬陽離子之量減小。在實施例中，玻璃組成物之應變點可大於或等於450℃至小於或等於625℃，諸如大於或等於475℃至小於或等於600℃、大於或等於500℃至小於或等於575℃、大於或等於515℃至小於或等於560℃、或大於或等於530℃至小於或等於550℃及前述值之間的所有範圍及子範圍。在其他實施例中，玻璃組成物之應變點可大於或等於500℃至小於或等於560℃，諸如大於或等於510℃至小於或等於560℃、大於或等於520℃至小於或等於560℃、大於或等於530℃至小於或等於560℃、或大於或等於540℃至小於或等於560℃。在其他實施例中，玻璃組成物之應變點可大於或等於500℃至小於或等於555℃、大於或等於500℃至小於或等於550℃、大於或等於500℃至小於或等於540℃、大於或等於500℃至小於或等於530℃、或大於或等於500℃至小於或等於520℃及前述值之間的所有範圍及子範圍。本揭示內容中敘述的應變點值係指如藉由ASTM C336-71 (2015)之纖維伸長方法量測的值。
在實施例中，玻璃組成物之退火點可大於或等於500℃至小於或等於675℃，諸如大於或等於525℃至小於或等於650℃、大於或等於550℃至小於或等於625℃、大於或等於565℃至小於或等於615℃、或大於或等於580℃至小於或等於600℃及前述值之間的所有範圍及子範圍。在其他實施例中，玻璃組成物之退火點可大於或等於550℃至小於或等於625℃，諸如大於或等於560℃至小於或等於625℃、大於或等於570℃至小於或等於625℃、大於或等於580℃至小於或等於625℃、或大於或等於590℃至小於或等於625℃及前述值之間的所有範圍及子範圍。在其他實施例中，玻璃組成物之退火點可大於或等於550℃至小於或等於615℃、大於或等於550℃至小於或等於610℃、大於或等於550℃至小於或等於600℃、大於或等於550℃至小於或等於590℃、或大於或等於550℃至小於或等於580℃及前述值之間的所有範圍及子範圍。本揭示內容中敘述的退火點值係指如藉由ASTM C336-71 (2015)之纖維伸長方法量測的值。
在實施例中，玻璃組成物之軟化點可大於或等於725℃至小於或等於950℃，諸如大於或等於750℃至小於或等於925℃、大於或等於775℃至小於或等於900℃、大於或等於800℃至小於或等於875℃、或大於或等於825℃至小於或等於850℃及前述值之間的所有範圍及子範圍。在其他實施例中，玻璃組成物之軟化點可大於或等於750℃至小於或等於925℃，諸如大於或等於775℃至小於或等於925℃、大於或等於800℃至小於或等於925℃、大於或等於825℃至小於或等於925℃、或大於或等於850℃至小於或等於925℃及前述值之間的所有範圍及子範圍。在其他實施例中，玻璃組成物之軟化點可大於或等於725℃至小於或等於900℃、大於或等於725℃至小於或等於875℃、大於或等於725℃至小於或等於850℃、大於或等於725℃至小於或等於825℃、或大於或等於725℃至小於或等於800℃及前述值之間的所有範圍及子範圍。本揭示內容中敘述的軟化點值係指如藉由ASTM C338-93 (2013)之纖維伸長方法量測的值。
玻璃組成物中之鋰之量亦對玻璃組成物之液相黏度具有效應。在實施例中，液相黏度為小於或等於300 kP，諸如小於或等於275 kP、小於或等於250 kP、小於或等於225 kP、小於或等於200 kP、小於或等於175 kP、或小於或等於150 kP。在其他實施例中，液相黏度為大於或等於100 kP、大於或等於125 kP、大於或等於150 kP、大於或等於175 kP、大於或等於200 kP、大於或等於225 kP、大於或等於250 kP、或大於或等於275 kP。在其他實施例中，液相黏度為大於或等於100 kP至小於或等於300 kP、大於或等於125 kP至小於或等於275 kP、大於或等於150 kP至小於或等於250 kP、或大於或等於175 kP至小於或等於225 kP及前述值之間的所有範圍及子範圍。液相黏度值係藉由以下方法測定。首先，玻璃之液相溫度係根據標題為「Standard Practice for Measurement of Liquidus Temperature of Glass by the Gradient Furnace Method」之ASTM C829-81 (2015)來量測。接著，玻璃在液相溫度下之黏度係根據標題為「Standard Practice for Measuring Viscosity of Glass Above the Softening Point」之ASTM C965-96 (2012)來量測。
將鋰添加至玻璃組成物亦影響玻璃組成物之楊氏模數、剪力模數、及帕松比。在實施例中，玻璃組成物之楊氏模數可大於或等於65 GPa至小於或等於85 GPa，諸如大於或等於67 GPa至小於或等於82 GPa、大於或等於70 GPa至小於或等於80 GPa、大於或等於72 GPa至小於或等於78 GPa、或大於或等於74 GPa至小於或等於76 GPa及前述值之間的所有範圍及子範圍。在其他實施例中，玻璃組成物之楊氏模數可大於或等於66 GPa至小於或等於85 GPa、大於或等於68 GPa至小於或等於85 GPa、大於或等於70 GPa至小於或等於85 GPa、大於或等於72 GPa至小於或等於85 GPa、大於或等於74 GPa至小於或等於85 GPa、大於或等於76 GPa至小於或等於85 GPa、大於或等於78 GPa至小於或等於85 GPa、大於或等於80 GPa至小於或等於85 GPa、或大於或等於82 GPa至小於或等於85 GPa及前述值之間的所有範圍及子範圍。在其他實施例中，楊氏模數可大於或等於65 GPa至小於或等於84 GPa、大於或等於65 GPa至小於或等於82 GPa、大於或等於65 GPa至小於或等於80 GPa、大於或等於65 GPa至小於或等於78 GPa 、大於或等於65 GPa至小於或等於76 GPa、大於或等於64 GPa至小於或等於74 GPa、大於或等於65 GPa至小於或等於72 GPa、大於或等於65 GPa至小於或等於70 GPa、大於或等於65 GPa至小於或等於68 GPa、或大於或等於65 GPa至小於或等於66 GPa及前述值之間的所有範圍及子範圍。本揭示內容中敘述的楊氏模數值係指如藉由標題為「Standard Guide for Resonant Ultrasound Spectroscopy for Defect Detection in Both Metallic and Non-metallic Parts」之ASTM E2001-13中闡述的通用類型之共振超音波光譜技術來量測的值。
根據一些實施例，玻璃組成物可具有以下剪力模數：大於或等於25 GPa至小於或等於35 GPa，諸如大於或等於26 GPa至小於或等於34 GPa、大於或等於27 GPa至小於或等於33 GPa、大於或等於28 GPa至小於或等於32 GPa、或大於或等於29 GPa至小於或等於31 Gpa及前述值之間的所有範圍及子範圍。在其他實施例中，玻璃組成物可具有以下剪力模數：大於或等於26 GPa至小於或等於35 GPa、大於或等於27 GPa至小於或等於35 GPa、大於或等於28 GPa至小於或等於35 GPa、大於或等於29 GPa至小於或等於35 GPa、大於或等於30 GPa至小於或等於35 GPa、大於或等於31 GPa至小於或等於35 GPa、大於或等於32 GPa至小於或等於35 GPa、大於或等於33 GPa至小於或等於35 GPa、或大於或等於34 GPa至小於或等於35 GPa及前述值之間的所有範圍及子範圍。在其他實施例中，玻璃組成物可具有以下剪力模數：大於或等於25 GPa至小於或等於34 GPa、大於或等於25 GPa至小於或等於33 GPa、大於或等於25 GPa至小於或等於32 GPa、大於或等於25 GPa至小於或等於31 GPa、大於或等於25 GPa至小於或等於30 GPa、大於或等於25 GPa至小於或等於29 GPa、大於或等於25 GPa至小於或等於28 GPa、大於或等於25 GPa至小於或等於27 GPa、或大於或等於25 GPa至小於或等於26 GPa及前述值之間的所有範圍及子範圍。本揭示內容中敘述的剪力模數值係指如藉由標題為「Standard Guide for Resonant Ultrasound Spectroscopy for Defect Detection in Both Metallic and Non-metallic Parts」之ASTM E2001-13中闡述的通用類型之共振超音波光譜技術來量測的值。
在一或多個實施例中，本文描述的玻璃物件可展現非晶形微結構且可實質上不含晶體或微晶。換言之，玻璃物件排除玻璃陶瓷材料。
在一些實施例中，在589 nm之波長下量測的本文揭示的剛形成玻璃之折射率(「RI剛形成
」)低於當在退火點下加熱1小時之時在589 nm之波長下玻璃之折射率(「RI退火
」)。在一些實施例中，RI退火
-RI剛形成
為大於或等於0.0003、大於或等於0.0004、大於或等於0.0005、大於或等於0.0006、大於或等於0.0007、大於或等於0.0008、大於或等於0.0009。在一些實施例中，RI退火
-RI剛形成
在以下範圍：0.0003至0.001、0.0003至0.0009、0.0003至0.0008、0.0003至0.0007、0.0003至0.0006、0.0003至0.0005、0.0003至0.0004、0.0004至0.001、0.0004至0.0009、0.0004至0.0008、0.0004至0.0007、0.0004至0.0006、0.0004至0.0005、0.0005至0.001、0.0005至0.0009、0.0005至0.0008、0.0005至0.0007、0.0005至0.0006、0.0006至0.001、0.0006至0.0009、0.0006至0.0008、0.0006至0.0007、0.0007至0.001、0.0007至0.0009、0.0007至0.0008、0.0008至0.001、0.0008至0.0009、或0.0009至0.001。如本文所使用，術語「剛形成」係指在玻璃形成之後(亦即，在浮製製程或下拉製程之後)且在玻璃上執行另外的熱處理之前的玻璃。
如上文所提及，在實施例中，含有Li的鋁矽酸鹽玻璃組成物可諸如藉由離子交換強化，從而製成針對諸如而不限於用於顯示蓋件之玻璃的應用為抗破壞性的玻璃。參考第23圖，玻璃具有自表面延伸至玻璃之壓縮深度(depth of compression; DOC)的處於壓縮應力之第一區域(例如，第23圖中之第一壓縮層520及第二壓縮層522)，及自DOC延伸至玻璃之中心或內部區域中的處於拉伸應力或中心張力(central tension; CT)之第二區域(例如，第23圖中之中心區域530)。如本文所使用，DOC係指玻璃物件內之應力將壓縮應力變化至拉伸應力所在之深度。在DOC處，應力自正(壓縮)應力跨至負(拉伸)應力，且因此展現具有零應力值。
根據常用於此項技術中之慣例，壓縮或壓縮應力係表示為負(＜ 0)應力，且張力或拉伸應力係表示為正(＞ 0)應力。然而，在本說明書全文中，CS係表示為正值或絕對值-亦即，如本文所述，CS = |CS|。壓縮應力(compressive stress; CS)在玻璃之表面處具有最大值，且CS根據一函數隨自表面之距離d變化。再次參考第23圖，第一節段520自第一表面510延伸至深度d1
，且第二節段522自第二表面512延伸至深度d2
。總之，此等節段界定玻璃500之壓縮或CS。壓縮應力(包括表面CS)係由表面應力量計(FSM)使用可商購儀器來量測，該等可商購儀器諸如由Orihara Industrial Co., Ltd. (日本)製造的FSM-6000。表面應力量測依賴於應力光學係數(stress optical coefficient; SOC)之準確量測，該應力光學係數與玻璃之雙折射率有關。SOC繼而根據名稱為「Standard Test Method for Measurement of Glass Stress-Optical Coefficient」之ASTM標準C770-16中描述的程序C (玻璃碟方法)來量測，該ASTM標準C770-16之內容係以全文引用方式併入本文中。
在一些實施例中，CS為大於或等於300 MPa至小於或等於950 MPa，諸如大於或等於325 MPa至小於或等於950 MPa、大於或等於350 MPa至小於或等於950 MPa、大於或等於375 MPa至小於或等於950 MPa、大於或等於400 MPa至小於或等於950 MPa、大於或等於425 MPa至小於或等於950 MPa、大於或等於450 MPa至小於或等於950 MPa、大於或等於475 MPa至小於或等於950 MPa、大於或等於500 MPa至小於或等於950 MPa、大於或等於525 MPa至小於或等於950 MPa、大於或等於550 MPa至小於或等於950 MPa、大於或等於575 MPa至小於或等於950 MPa、大於或等於600 MPa至小於或等於950 MPa、大於或等於625 MPa至小於或等於950 MPa、大於或等於650 MPa至小於或等於950 MPa、或大於或等於675 MPa至小於或等於950 MPa及前述值之間的所有範圍及子範圍。在其他實施例中，CS為大於或等於300 MPa至小於或等於925 MPa、大於或等於300 MPa至小於或等於900 MPa、大於或等於300 MPa至小於或等於875 MPa、大於或等於300 MPa至小於或等於850 MPa、大於或等於300 MPa至小於或等於825 MPa、大於或等於300 MPa至小於或等於800 MPa、大於或等於300 MPa至小於或等於775 MPa、大於或等於300 MPa至小於或等於750 MPa、大於或等於300 MPa至小於或等於725 MPa、大於或等於300 MPa至小於或等於700 MPa、大於或等於300 MPa至小於或等於675 MPa、大於或等於300 MPa至小於或等於650 MPa、大於或等於300 MPa至小於或等於625 MPa、大於或等於300 MPa至小於或等於600 MPa、大於或等於300 MPa至小於或等於575 MPa、大於或等於300 MPa至小於或等於550 MPa、或大於或等於300 MPa至小於或等於525 MPa及前述值之間的所有範圍及子範圍。
在一或多個實施例中，Na+
及K+
離子係交換至玻璃物件中且Na+離子比K+離子擴散至玻璃物件中之更深深度。K+
離子之穿透深度(「鉀DOL」)不同於DOC，因為其表示由於離子交換製程的鉀穿透深度。在一些實施例中，對本文描述的物件而言，鉀DOL典型地小於DOC。鉀DOL係使用表面應力計來量測，該表面應力量計諸如由Orihara Industrial Co., Ltd. (日本)製造的可商購FSM-6000表面應力量計，其依賴於應力光學係數(stress optical coefficient; SOC)之準確量測，如上文參考CS量測所述。在一些實施例中，第一壓縮層520及第二壓縮層522中之每一者之鉀DOL為大於或等於5 μm至小於或等於30 μm，諸如大於或等於6 μm至小於或等於25 μm、大於或等於7 μm至小於或等於20 μm、大於或等於8 μm至小於或等於15 μm、或大於或等於9 μm至小於或等於10 μm及前述值之間的所有範圍及子範圍。在其他實施例中，第一壓縮層520及第二壓縮層522中之每一者之鉀DOL為大於或等於6 μm至小於或等於30 μm、大於或等於10 μm至小於或等於30 μm、大於或等於15 μm至小於或等於30 μm、大於或等於20 μm至小於或等於30 μm、或大於或等於25 μm至小於或等於30 μm及前述值之間的所有範圍及子範圍。在其他實施例中，第一壓縮層520及第二壓縮層522中之每一者之鉀DOL為大於或等於5 μm至小於或等於25 μm、大於或等於5 μm至小於或等於20 μm、大於或等於5 μm至小於或等於15 μm、或大於或等於5 μm至小於或等於10 μm及前述值之間的所有範圍及子範圍。
兩個主表面(第23圖中之510、512)之壓縮應力係藉由玻璃之中心區域(530)中之所儲存張力加以平衡。最大中心張力(central tension; CT)及DOC值係使用此項技術中所知的散射光偏光鏡(scattered light polariscope; SCALP)技術來量測。折射近場(refracted near-field; RNF)方法或SCALP可用於量測應力分佈。當利用RNF方法來量測應力分佈時，藉由SCALP提供的最大CT值係用於RNF方法中。詳言之，由RNF量測的應力分佈經力平衡且校準至由SCALP量測提供的最大CT值。名稱為「Systems and methods for measuring a profile characteristic of a glass sample」之美國專利第8,854,623號中描述RNF方法，該專利以全文引用方式併入本文中。詳言之，RNF方法包括相鄰於參考區塊置放玻璃物件，產生以1 Hz與50 Hz之間的速率在正交極化之間切換的極化切換光束，量測極化切換光束之功率量且產生極化切換參考信號，其中正交極化中每一者的所量測功率量彼此相差50%以內。該方法進一步包括使極化切換光束透射穿過玻璃樣本及參考區塊達進入玻璃樣本中之不同深度，隨後使用中繼光學系統將所透射極化切換光束中繼至信號光偵測器，其中信號光偵測器產生極化切換偵測器信號。該方法亦包括將偵測器信號除以參考信號以形成正規化偵測器信號，及自正規化偵測器信號判定玻璃樣本之分佈特性。
在實施例中，玻璃組成物可具有以下最大CT：大於或等於30 MPa至小於或等於150 MPa，諸如大於或等於35 MPa至小於或等於125 MPa、大於或等於40 MPa至小於或等於120 MPa、大於或等於45 MPa至小於或等於115 MPa、大於或等於50 MPa至小於或等於110 MPa、大於或等於55 MPa至小於或等於105 MPa、大於或等於60 MPa至小於或等於100 MPa、大於或等於65 MPa至小於或等於95 MPa、或大於或等於70 MPa至小於或等於90 MPa及前述值之間的所有範圍及子範圍。在其他實施例中，玻璃組成物可具有以下最大CT：大於或等於30 MPa至小於或等於150 MPa、大於或等於35 MPa至小於或等於150 MPa、大於或等於40 MPa至小於或等於150 MPa、大於或等於45 MPa至小於或等於150 MPa、大於或等於50 MPa至小於或等於150 MPa、大於或等於55 MPa至小於或等於150 MPa、大於或等於60 MPa至小於或等於150 MPa、大於或等於65 MPa至小於或等於150 MPa、大於或等於70 MPa至小於或等於150 MPa、大於或等於75 MPa至小於或等於150 MPa、大於或等於80 MPa至小於或等於150 MPa、大於或等於85 MPa至小於或等於150 MPa、大於或等於90 MPa至小於或等於150 MPa、大於或等於95 MPa至小於或等於150 MPa、大於或等於100 MPa至小於或等於150 MPa、大於或等於105 MPa至小於或等於150 MPa、大於或等於110 MPa至小於或等於150 MPa、大於或等於115 MPa至小於或等於150 MPa、大於或等於120 MPa至小於或等於150 MPa、或大於或等於125 MPa至小於或等於150 MPa及前述值之間的所有範圍及子範圍。在其他實施例中，玻璃組成物可具有以下最大CT：大於或等於30 MPa至小於或等於125 MPa、大於或等於30 MPa至小於或等於120 MPa、大於或等於30 MPa至小於或等於115 MPa、大於或等於30 MPa至小於或等於110 MPa、大於或等於30 MPa至小於或等於105 MPa、大於或等於30 MPa至小於或等於100 MPa、大於或等於30 MPa至小於或等於95 MPa、大於或等於30 MPa至小於或等於90 MPa、大於或等於30 MPa至小於或等於85 MPa、大於或等於30 MPa至小於或等於80 MPa、大於或等於30 MPa至小於或等於75 MPa、大於或等於30 MPa至小於或等於70 MPa、大於或等於30 MPa至小於或等於65 MPa、大於或等於30 MPa至小於或等於60 MPa、大於或等於30 MPa至小於或等於55 MPa、大於或等於30 MPa至小於或等於50 MPa、大於或等於30 MPa至小於或等於45 MPa、大於或等於30 MPa至小於或等於40 MPa、或大於或等於30 MPa至小於或等於35 MPa及前述值之間的所有範圍及子範圍。在另外實施例中，玻璃組成物可具有以下最大CT：大於或等於30 MPa至小於或等於100 MPa及前述值之間的所有範圍及子範圍。在又另外實施例中，玻璃組成物可具有以下最大CT：大於或等於70 MPa至小於或等於150 MPa、或大於或等於75 MPa至小於或等於150 MPa及前述值之間的所有範圍及子範圍。
如上文所指出，DOC係使用此項技術中所知的散射光偏光鏡(scattered light polariscope; SCALP)技術來量測。DOC在本文係提供為玻璃物件之厚度(t)之一部分。在實施例中，玻璃組成物可具有以下壓縮深度(depth of compression; DOC)：大於或等於0.15t至小於或等於0.25t，諸如大於或等於0.17t至小於或等於0.23t、或大於或等於0.19t至小於或等於0.21t及前述值之間的所有範圍及子範圍。在其他實施例中，玻璃組成物可具有以下DOC：大於或等於0.16至小於或等於0.2t、大於或等於0.17t至小於或等於0.25t、大於或等於0.18t至小於或等於0.25t、大於或等於0.19t至小於或等於0.25t、大於或等於0.20t至小於或等於0.25t、大於或等於0.2It至小於或等於0.25t、大於或等於0.22t至小於或等於0.25t、大於或等於0.23t至小於或等於0.25t、或大於或等於0.24t至小於或等於0.25t及前述值之間的所有範圍及子範圍。在其他實施例中，玻璃組成物可具有以下DOC：大於或等於0.15t至小於或等於0.24t、大於或等於0.15t至小於或等於0.23t、大於或等於0.15t至小於或等於0.22t、大於或等於0.15t至小於或等於0.2It、大於或等於0.15t至小於或等於0.20t、大於或等於0.15t至小於或等於0.19t、大於或等於0.15t至小於或等於0.18t、大於或等於0.15t至小於或等於0.17t、或大於或等於0.15t至小於或等於0.16t及前述值之間的所有範圍及子範圍。
壓縮應力層可藉由將玻璃暴露於離子交換溶液而形成在玻璃中。在實施例中，離子交換溶液可為熔融硝酸鹽。在一些實施例中，離子交換溶液可為熔融KNO3
、熔融NaNO3
、或其組合。在某些實施例中，離子交換溶液可包含約100%熔融KNO3
、約90%熔融KNO3
、約80%熔融KNO3
、約70%熔融KNO3
、或約60%熔融KNO3
。在某些實施例中，離子交換溶液可包含約10%熔融NaNO3
、約20%熔融NaNO3
、約30%熔融NaNO3
、或約40%熔融NaNO3
。在其他實施例中，離子交換溶液可包含約80%熔融KNO3
及約20%熔融NaNO3
、約75%熔融KNO3
及約25%熔融NaNO3
、約70%熔融KNO3
及約30%熔融NaNO3
、約65%熔融KNO3
及約35%熔融NaNO3
、或約60%熔融KNO3
及約40%熔融NaNO3
及前述值之間的所有範圍及子範圍。在實施例中，其他鈉鹽及鉀鹽可用於離子交換溶液，諸如，例如鈉或鉀之亞硝酸鹽、磷酸鹽、或硫酸鹽。
玻璃組成物可藉由以下方式暴露於離子交換溶液：將由玻璃組成物製成的玻璃物件浸入離子交換溶液之浴中，將離子交換溶液噴霧至由玻璃組成物製成的玻璃物件上，或以其他方式物理上將離子交換溶液施加至由玻璃組成物製成的玻璃物件。在暴露於玻璃組成物之後，離子交換溶液可根據實施例處於以下溫度下：大於或等於400℃至小於或等於500℃，諸如大於或等於410℃至小於或等於490℃、大於或等於420℃至小於或等於480℃、大於或等於430℃至小於或等於470℃、或大於或等於440℃至小於或等於460℃及前述值之間的所有範圍及子範圍。在實施例中，玻璃組成物可暴露於離子交換溶液達以下持續時間：大於或等於4小時至小於或等於48小時，諸如大於或等於8小時至小於或等於44小時、大於或等於12小時至小於或等於40小時、大於或等於16小時至小於或等於36小時、大於或等於20小時至小於或等於32小時、或大於或等於24小時至小於或等於28小時及前述值之間的所有範圍及子範圍。
離子交換製程可在離子交換溶液中於提供改良壓縮應力輪廓之處理條件下執行，如例如以全文引用方式併入本文中的美國專利申請公開案第2016/0102011號中所揭示。
本文揭示的玻璃物件具有相較於其他玻璃的改良抗刮擦性。如本文所使用，努普刮擦側向開裂閾值為側向開裂之開始(5個壓痕事件中之3個或更多個)。在努普刮擦側向開裂閾值測試中，首先利用努普壓頭在動態或勻變負載下對玻璃物件及物件之樣本刮痕以便確認樣本群體之側向裂紋開始負載範圍。一旦識別可應用負載範圍，即進行一系列漸增恆定負載刮痕(每個負載最少3個或更多)以識別努普刮擦閾值。可藉由將試驗試樣與以下3種斷裂模式之一比較來決定努普刮擦閾值範圍：1)大於凹槽寬度兩倍的持續側表面裂紋、2)含在凹槽內之破壞，但存在側表面裂紋，該等裂紋小於凹槽寬度的兩倍且存在肉眼可見的破壞，或3)存在大於凹槽寬度兩倍的大表面下側向裂紋及/或在刮痕之頂點處存在中值裂紋。
在實施例中，玻璃物件可具有以下努普刮擦側向開裂閾值：大於或等於5 N至小於或等於24 N，諸如大於或等於6 N至小於或等於22 N、大於或等於8 N至小於或等於20 N、大於或等於10 N至小於或等於18 N、或大於或等於12 N至小於或等於16 N及前述值之間的所有範圍及子範圍。在其他實施例中，玻璃物件可具有以下努普刮擦側向開裂閾值：大於或等於6 N至小於或等於24 N、大於或等於7 N至小於或等於24 N、大於或等於8 N至小於或等於24 N、大於或等於9 N至小於或等於24 N、大於或等於10 N至小於或等於24 N、大於或等於11 N至小於或等於24 N、大於或等於12 N至小於或等於24 N、大於或等於13 N至小於或等於24 N、大於或等於14 N至小於或等於24 N、大於或等於15 N至小於或等於24 N、大於或等於16 N至小於或等於24 N、大於或等於17 N至小於或等於24 N、大於或等於18 N至小於或等於24 N、大於或等於19 N至小於或等於24 N、大於或等於20 N至小於或等於24 N、大於或等於21 N至小於或等於24 N、大於或等於22 N、或大於或等於23 N至小於或等於24 N至小於或等於24 N及前述值之間的所有範圍及子範圍。在其他實施例中，玻璃物件可具有以下努普刮擦側向開裂閾值：大於或等於5 N至小於或等於23 N、大於或等於5 N至小於或等於22 N、大於或等於5 N至小於或等於21 N、大於或等於5 N至小於或等於20 N、大於或等於5 N至小於或等於19 N、大於或等於5 N至小於或等於18 N、大於或等於5 N至小於或等於17 N、大於或等於5 N至小於或等於16 N、大於或等於5 N至小於或等於15 N、大於或等於5 N至小於或等於14 N、大於或等於5 N至小於或等於13 N、大於或等於5 N至小於或等於12 N、大於或等於5 N至小於或等於11 N、大於或等於5 N至小於或等於10 N、大於或等於5 N至小於或等於9 N、大於或等於5 N至小於或等於8 N、大於或等於5 N至小於或等於7 N、或大於或等於5 N至小於或等於6 N及前述值之間的所有範圍及子範圍。
本文揭示的玻璃物件具有相較於其他玻璃的改良抗壓痕性。壓痕破裂閾值(或維氏裂紋起始閾值)係藉由維氏壓頭量測。壓痕破裂閾值係玻璃之壓痕抗破壞性之量度。測試涉及使用具有面之間的136°之角度的基於正方形之錐形金剛石壓頭，其稱為維氏壓頭。維氏壓頭係與用於標準微硬度測試(參考ASTM-E384-11)之維氏壓頭系統。最少五個試樣經選擇以表示所關注的玻璃類型及/或譜系。對每一試樣而言，將多組的五個壓痕引入至試樣表面中。每一組的五個壓痕係在給定負載下引入，其中每一個別壓痕係分離最少5 mm且至試樣邊緣不近於5 mm。50 kg/分鐘之壓頭加載/卸載之速率用於≥2 kg的測試負載。對於＜ 2 kg的測試負載，使用5 kg/分鐘之速率。在目標負載下利用10秒之滯留(亦即，固持)時間。機器在滯留時期期間維持負載控制。在至少12小時之時間之後，在反射光下使用500X放大率之複合顯微鏡檢查壓痕。隨後針對每一壓痕觀察中值/徑向裂紋或試樣破裂之存在或不存在。應注意，側向裂紋之形成不考慮為指示展現閾值行為，因為關注中值/徑向裂紋之形成，或對此測試關注試樣破裂。試樣閾值係定義為最低連續壓痕負載之中點，該等最低連續壓痕負載包括滿足閾值的個別壓痕中之大於50%。例如，若在單個試樣內，在5 kg負載下誘導的5個壓痕中之2個(40%)已超過閾值，且在6 kg負載下誘導的5個壓痕中之3個(60%)已超過閾值，隨後試樣閾值將定義為5 kg及6 kg之中點，或5.5 kg。樣本平均閾值係定義為所有個別試樣閾值之算術平均值。連同平均值一起，針對每一樣本報告所有試樣中點之範圍(最低值至最高值)。測試前環境、測試環境及測試後環境係控制至23±2℃及50±5%RH以最小化玻璃試樣之疲勞(應力腐蝕)行為之變化。應注意，當首先測試不熟悉組成物或譜系時，所需壓痕負載及畫界增量係藉由執行「疊代搜尋」來測定。一旦獲得與樣本效能之熟悉度，未來測試可藉由測試僅在預期閾值附近的彼等負載，且隨後僅在必要時「填入」另外壓痕負載來流線化。
在實施例中，壓痕破裂閾值為大於或等於15 kgf，諸如大於或等於15.5 kgf、大於或等於16 kgf、大於或等於16.5 kgf、大於或等於17 kgf、大於或等於17.5 kgf、大於或等於18 kgf、大於或等於18.5 kgf、大於或等於19 kgf、大於或等於19.5 kgf、大於或等於20 kgf、大於或等於15.5 kgf、大於或等於20.5 kgf、大於或等於21 kgf、大於或等於21.5 kgf、大於或等於22 kgf、大於或等於22.5 kgf及前述值之間的所有範圍及子範圍。在一些實施例中，壓痕破裂閾值為小於或等於28 kgf、小於或等於27.5 kgf、小於或等於27 kgf、小於或等於26.5 kgf、小於或等於26 kgf、或小於或等於25.5 kgf及前述值之間的所有範圍及子範圍。在其他實施例中，壓痕破裂閾值為大於或等於15 kgf至小於或等於28 kgf、大於或等於16 kgf至小於或等於28 kgf、大於或等於17 kgf至小於或等於28 kgf大於或等於18 kgf至小於或等於28 kgf、大於或等於19 kgf至小於或等於28 kgf、大於或等於20 kgf至小於或等於28 kgf、大於或等於21 kgf至小於或等於28 kgf、大於或等於22 kgf至小於或等於28 kgf、大於或等於23 kgf至小於或等於28 kgf、大於或等於24 kgf至小於或等於28 kgf、大於或等於25 kgf至小於或等於28 kgf、大於或等於26 kgf至小於或等於28 kgf、或大於或等於27 kgf至小於或等於28 kgf及前述值之間的所有範圍及子範圍。在其他實施例中，壓痕破裂閾值為大於或等於15 kgf至小於或等於27 kgf、大於或等於15 kgf至小於或等於26 kgf、大於或等於15 kgf至小於或等於25 kgf、大於或等於15 kgf至小於或等於24 kgf、大於或等於15 kgf至小於或等於23 kgf、大於或等於15 kgf至小於或等於22 kgf、大於或等於15 kgf至小於或等於21 kgf、大於或等於15 kgf至小於或等於20 kgf、大於或等於15 kgf至小於或等於19 kgf、大於或等於15 kgf至小於或等於18 kgf、大於或等於17 kgf至小於或等於26 kgf、或大於或等於15 kgf至小於或等於16 kgf及前述值之間的所有範圍及子範圍。
本文揭示的玻璃物件可併入另一物件中，諸如具有顯示器之物件(或顯示物件) (例如，消費者電子設備，包括行動電話、平板電腦、電腦、導航系統及類似物)，建築物件，運輸物件(例如，汽車、火車、飛機、水上飛機等等)，電器物件、或需要某種透明度、抗刮性、耐磨性或其組合的任何物件。合併有本文揭示的任何玻璃物件的示範性物件展示於第26A圖及第26B圖中。特定而言，第26A圖及第26B圖展示消費者電子裝置500，其包括：外殼502，該外殼具有前部504、背部506及側表面508；電氣組件(未展示)，該等電氣組件至少部分地處於外殼內部或全部處於外殼內並包括至少控制器、記憶體及處於或相鄰於外殼之前表面的顯示器510；以及蓋基板512，該蓋基板512處於外殼之前表面處或之上以使得其處於顯示器之上。在一些實施例中，外殼502之一部分或蓋基板512的至少一者可包括本文揭示的任何玻璃物件。
如先前所描述，根據實施例之玻璃組成物可藉由任何適合的方法形成，該等方法諸如狹槽成形、浮製成形、輥軋製程、熔合成形製程等等。
示範性玻璃物件可藉由其形成之方式而特性化。例如，玻璃物件可特性化為可浮製形成的(亦即，藉由浮製製程形成)、可下拉的及尤其為可熔合形成或可狹槽拉製(亦即，藉由下拉製程，諸如熔合拉製製程或狹槽拉製製程形成)的情況。
本文描述的玻璃物件之一些實施例可藉由下拉製程形成。下拉製程產生具有均勻厚度之玻璃物件，該等玻璃物件擁有相對原始的表面。因為玻璃物件之平均撓曲強度係藉由表面瑕疵之量及大小控制，所以有過最小接觸的原始表面具有較高的初始強度。另外，下拉玻璃物件具有極平坦、光滑表面，該表面可用於其最終應用中而無需高成本的研磨及拋光。
玻璃物件之一些實施例可描述為可熔合形成的(亦即，可使用熔合拉製製程形成的)。熔合製程使用拉伸槽，該拉伸槽具有用於接收熔融玻璃原材料之通道。通道具有堰口，該等堰口在通道之兩側上沿通道之長度於頂部處敞開。當通道充滿熔融材料時，熔融玻璃溢出堰口。由於重力，熔融玻璃作為兩個流動的玻璃膜沿拉製槽之外表面向下流動。拉製槽之此等外表面向下延伸且向內延伸，以使得此等表面在拉製槽下方的邊緣處會合。兩個流動玻璃膜在此邊緣處會合以便熔合並形成單一流動玻璃物件。在兩個流動玻璃膜熔合在一起的情況下形成熔合線。熔合線之存在為識別熔合拉製玻璃物件之一個方式。熔合線可在光學顯微鏡下觀察玻璃時作為光學畸變看到。熔合拉製方法提供的優點在於：因為流過通道的兩個玻璃膜熔合在一起，所以所得玻璃物件之任一外表面均不與設備之任何部分接觸。因此，熔合拉製玻璃物件之表面性質不受此種接觸影響。
本文描述的玻璃物件之一些實施例可藉由狹槽拉製製程形成。狹槽拉製製程不同於熔合拉製方法。在狹槽拉製製程中，將熔融原材料玻璃提供至拉伸槽。拉伸槽之底部具有敞開狹槽，該狹槽具有沿狹槽之長度延伸的噴嘴。熔融玻璃流動穿過狹槽/噴嘴且作為連續玻璃物件向下拉製並進入退火區域。
第一條款包括玻璃物件，其包含以氧化物計：大於或等於60 mol%至小於或等於74 mol% SiO2
；大於或等於7 mol%至小於或等於18 mol% Al2
O3
；大於或等於3 mol%至小於或等於16 mol% B2
O3
；大於0 mol%至小於或等於6 mol% Na2
O；大於或等於0 mol%至小於或等於5 mol% P2
O5
；大於或等於5 mol%至小於或等於11 mol% Li2
O；小於或等於0.2 mol% SnO2
；及大於或等於0.5 mol%至小於或等於6.5 mol%二價陽離子氧化物，其中Al2
O3
:(R2
O+RO)之莫耳比率為大於或等於0.9，其中R2
O為以mol%計的鹼金屬氧化物之總和，且RO為以mol%計的二價陽離子氧化物之總和。
第二條款包括玻璃物件，其包含以氧化物計：大於或等於60 mol%至小於或等於66 mol% SiO2
；大於或等於11.5 mol%至小於或等於18 mol% Al2
O3
；大於或等於3 mol%至小於或等於8 mol% B2
O3
；大於或等於2 mol%至小於或等於6 mol% Na2
O；大於或等於0 mol%至小於或等於5 mol% P2
O5
；大於或等於5 mol%至小於或等於11 mol% Li2
O；及大於或等於0.5 mol%至小於或等於6.5 mol%二價陽離子氧化物，其中Al2
O3
:(R2
O+RO)之莫耳比率為大於或等於0.9，其中R2
O為以mol%計的鹼金屬氧化物之總和，且RO為以mol%計的二價陽離子氧化物之總和。
第三條款包括玻璃物件，其包含以氧化物計：大於或等於65 mol%至小於或等於74 mol% SiO2
；大於或等於7 mol%至小於或等於12 mol% Al2
O3
；大於或等於5 mol%至小於或等於16 mol% B2
O3
；大於或等於0 mol%至小於或等於4 mol% Na2
O；大於或等於0 mol%至小於或等於5 mol% P2
O5
；大於或等於5 mol%至小於或等於11 mol% Li2
O；及大於或等於0.5 mol%至小於或等於6.5 mol%二價陽離子氧化物，其中Al2
O3
:(R2
O+RO)之莫耳比率為大於或等於0.9，其中R2
O為以mol%計的鹼金屬氧化物之總和，且RO為以mol%計的二價陽離子氧化物之總和。
第四條款包括條款2至3中任一者之玻璃物件，其中該玻璃物件包含小於或等於0.2 mol% SnO2
。
第五條款包括任何前述條款之玻璃物件，其中該玻璃物件具有小於或等於300 kP之液相黏度。
第六條款包括任何前述條款之玻璃物件，其中該玻璃物件包含大於或等於0.4的Li2
O:R2
O之莫耳比率，其中R2
O為以mol%計的鹼金屬氧化物之總和。
第七條款包括任何前述條款之玻璃物件，其中該玻璃物件包含大於或等於80
mol% Al2
O3
+SiO2
+B2
O3
+P2
O5
。
第八條款包括任何前述條款之玻璃物件，其中該玻璃物件包含大於或等於0.5 mol%至小於或等於2 mol% SrO。
第九條款包括任何前述條款之玻璃物件，其中該玻璃物件係藉由熔合製程形成。
第十條款包括任何前述條款之玻璃物件，其中該玻璃物件係藉由離子交換製程強化，以使得壓縮應力層形成在該玻璃物件之至少一個表面上。
第十一條款包括條款10之玻璃物件，其中壓縮深度(depth of compression; DOC)為大於或等於0.15t，其中t為該玻璃物件之厚度。
第十二條款包括條款10或11之玻璃物件，其中壓縮深度(depth of compression; DOC)為大於或等於0.15t至小於或等於0.25t，其中t為該玻璃物件之厚度。
第十三條款包括條款10-12中任一者之玻璃物件，其中該玻璃物件具有大於或等於30 MPa至小於或等於150 MPa之中心張力。
第十四條款包括條款13之玻璃物件，其中該玻璃物件具有大於或等於70 MPa至小於或等於150 MPa之中心張力。
第十五條款包括條款13之玻璃物件，其中該玻璃物件具有大於或等於30 MPa至小於或等於100 MPa之中心張力。
第十六條款包括條款10-15中任一者之玻璃物件，該玻璃物件係藉由將鉀離子添加至該玻璃物件之離子交換製程強化，且鉀層深度(depth of layer; DOL)為大於或等於5 μm至小於或等於30 μm。
第十七條款包括條款10-16中任一者之玻璃物件，其中該壓縮應力層在其表面處具有大於或等於300 MPa至小於或等於950 MPa之壓縮應力。
第十八條款包括任何前述條款之玻璃物件，其中該玻璃物件具有大於或等於5 N至小於或等於24 N之努普刮擦側向開裂閾值。
第十九條款包括任何前述條款之玻璃物件，其中該玻璃物件具有大於或等於15 kgf之壓痕破裂閾值。
第二十條款包括任何前述條款之玻璃物件，其中該玻璃物件包含大於或等於0 mol%至小於或等於6.5 mol% MgO。
第二十一條款包括任何前述條款之玻璃物件，其中該玻璃物件包含大於或等於0 mol%至小於或等於5 mol% CaO。
第二十二條款包括任何前述條款之玻璃物件，其中該玻璃物件包含大於或等於0 mol%至小於或等於2 mol% ZnO。
第二十三條款包括玻璃物件，其包含Li2
O、SiO2
、Al2
O3
、及小於或等於300 kP之液相黏度，其中RI退火
-RI剛形成
為大於或等於0.0003，其中RI退火
為在該玻璃之退火點下加熱1小時的該玻璃在589 nm之波長下之折射率，且RI剛形成
為剛形成的該玻璃在589 nm之波長下之折射率。
第二十四條款包括條款23之玻璃物件，其進一步包含熔合線。
第二十五條款包括條款23或24之玻璃物件，其中RI退火
-RI剛形成
在0.0003至0.001範圍內。
第二十六條款包括條款23或24之玻璃物件，其中RI退火
-RI剛形成
在0.0005至0.001範圍內。
第二十七條款包括條款23或24之玻璃物件，其中RI退火
-RI剛形成
為大於或等於0.0005。
第二十八條款包括條款23-27中任一者之玻璃物件，其包含至少一種鹼金屬氧化物(R2
O)或二價陽離子氧化物(RO)，其中Al2
O3
:(R2
O+RO)之莫耳比率為大於或等於0.9。
第二十九條款包括條款23-28中任一者之玻璃物件，其中該玻璃物件包含大於或等於0.4的Li2
O:R2
O之莫耳比率，其中R2
O為以mol%計的鹼金屬氧化物之總和。
第三十條款包括條款23-29中任一者之玻璃物件，其中該玻璃物件包含大於或等於80 mol% Al2
O3
+SiO2
+B2
O3
+P2
O5
。
第三十一條款包括消費者電子產品，其包含：外殼，該外殼具有前表面、背表面、及側表面；至少部分地提供在該外殼內的電氣組件，該等電氣組件包括至少控制器、記憶體、及顯示器，該顯示器係提供在該外殼之該前表面處或相鄰於該前表面；以及蓋基板，該蓋基板安置在該顯示器之上，其中該外殼之一部分或該蓋基板中之至少一者包含任何前述條款之玻璃物件。 實例
實施例將藉由以下實例進一步闡明。應理解此等實例不限於上文所述的實施例。
製備具有下文表2中所列組分的玻璃組成物。在表2中，所有組分以mol%計。 表2 
密度、應變點、退火點、軟化點、應力光學係數、楊氏模數、及剪力模數係根據上文所述的技術來量測。在溫度範圍0-300℃內之線性熱膨脹係數(coefficient of thermal expansion; CTE)係使用根據ASTM E228-11之推桿膨脹計來測定。帕松比係藉由標題為「Standard Guide for Resonant Ultrasound Spectroscopy for Defect Detection in Both Metallic and Non-metallic Parts」之ASTM E2001-13中闡述的通用類型之共振超音波光譜技術來量測。
下文表3展示上文表2中提供的各種玻璃組成物之性質。離子交換溶液組成、溫度、及離子交換製程之持續時間亦提供於表3中。記錄在表3中的CT、DOC、CS、及鉀DOL係使用上文所述的量測技術來測定。 表3 
除上文資料之外，針對如上文表2中揭示的玻璃49測試努普刮擦側向開裂閾值。在第24圖中展示努普刮擦側向開裂閾值測試之結果。如彼圖中所示，玻璃49中之努普刮擦側向開裂閾值比比較性含有鋰的玻璃中之努普刮擦側向開裂閾值高。根據玻璃49之玻璃物件係在20 wt% NaNO3
及80 wt% KNO3
熔融鹽浴中在430℃下離子交換10小時。比較性玻璃1係在20% NaNO3
及80% KNO3
熔融鹽浴中在430℃下離子交換16小時。比較性玻璃2係在49% NaNO3
及51% KNO3
熔融鹽浴中在380℃下離子交換3.75小時。玻璃中之每一者係成形為0.8 mm厚玻璃片。比較性玻璃1及比較性玻璃2之組成物以mol%計提供於下文表4中。 
另外，針對如上文表2中揭示的玻璃49測試壓痕破裂閾值。第25圖中展示壓痕破裂閾值測試之結果。如彼圖中所示，玻璃49中之壓痕破裂閾值比比較性含有鋰的玻璃中之壓痕破裂閾值高。根據玻璃49之玻璃物件係在20 wt% NaNO3
及80 wt% KNO3
熔融鹽浴中在430℃下離子交換10小時。比較性玻璃1係在20% NaNO3
及80% KNO3
熔融鹽浴中在430℃下離子交換16小時。比較性玻璃2係在49% NaNO3
及51% KNO3
熔融鹽浴中在380℃下離子交換3.75小時。玻璃中之每一者係成形為0.8 mm厚玻璃片。
熟習此項技術者將明白，在不脫離所請求標的之精神及範疇的情況下，可對本文描述的實施例做出各種修改及變化。因此，本說明書意欲涵蓋本文描述的各種實施例之修改及變化，前提條件是該等修改及變化屬於隨附發明申請專利範圍及其等效物之範疇內。
10‧‧‧玻璃成形設備12‧‧‧玻璃帶14‧‧‧外殼15‧‧‧熔融容器16‧‧‧玻璃批料18‧‧‧儲倉20‧‧‧分批遞送裝置22‧‧‧馬達24‧‧‧控制器28‧‧‧熔融玻璃位準探針30‧‧‧豎管36‧‧‧第一連接管38‧‧‧澄清容器40‧‧‧第二連接管42‧‧‧混合容器44‧‧‧第三連接管46‧‧‧遞送容器48‧‧‧降流管50‧‧‧進口60‧‧‧成形容器61‧‧‧向上敞開流槽62‧‧‧成形楔形物63‧‧‧堰口64a‧‧‧端部64b‧‧‧端部66a‧‧‧向下傾斜成形表面部分/傾斜會合表面部分66b‧‧‧向下傾斜成形表面部分/傾斜會合表面部分68‧‧‧下游方向70‧‧‧根部72‧‧‧拉製平面80a‧‧‧邊緣導向器80b‧‧‧邊緣導向器110‧‧‧加熱匣盒110a‧‧‧加熱匣盒110b‧‧‧加熱匣盒110c‧‧‧加熱匣盒110d‧‧‧加熱匣盒110e‧‧‧加熱匣盒111‧‧‧加熱匣盒112‧‧‧埠112a‧‧‧埠112b‧‧‧埠112c‧‧‧埠112d‧‧‧埠112e‧‧‧埠114‧‧‧支架116‧‧‧T形壁支撐支架120‧‧‧包殼121‧‧‧帶原始表面玻璃/玻璃帶121a‧‧‧第一邊緣部分121b‧‧‧第二邊緣部分122‧‧‧熱導向表面123‧‧‧上緣124‧‧‧加熱元件125‧‧‧背面126‧‧‧底部表面127‧‧‧頂部表面128‧‧‧耐火材料129‧‧‧下緣130‧‧‧牽拉輥136‧‧‧外殼密封板140‧‧‧玻璃邊緣部分142a‧‧‧下部門142b‧‧‧下部門170‧‧‧間隙180‧‧‧控制器182‧‧‧熱感測器202‧‧‧開口210‧‧‧邊緣輥210a‧‧‧第一組邊緣輥210b‧‧‧第二組邊緣輥215a‧‧‧第一上部部分215b‧‧‧第二上部部分217a‧‧‧第一向外面向接觸表面217b‧‧‧第二向外接觸表面219‧‧‧下部部分220‧‧‧邊緣輥221a‧‧‧第一向外面向接觸表面221b‧‧‧第二向外面向接觸表面222‧‧‧內緣225‧‧‧第一加熱平面225a‧‧‧第一加熱平面225b‧‧‧第二加熱平面227a‧‧‧相關聯熱覆蓋區227b‧‧‧相關聯熱覆蓋區228a‧‧‧凸起228b‧‧‧凸起229a‧‧‧第一所得方向229b‧‧‧第二所得方向230‧‧‧邊緣輥240‧‧‧第一位置/垂直或水平位置250‧‧‧邊緣輥260‧‧‧邊緣輥270‧‧‧第二位置301‧‧‧玻璃製造設備315‧‧‧牽拉輥裝置319‧‧‧分離裝置341‧‧‧黏性區343‧‧‧定型區/黏彈性區345‧‧‧彈性區347a‧‧‧玻璃片347b‧‧‧玻璃片349‧‧‧第一牽拉輥設備351‧‧‧第一對上游拉製輥353‧‧‧拉製路徑355a‧‧‧第一牽拉輥構件355b‧‧‧第二牽拉輥構件357a‧‧‧耐火輥覆蓋物357b‧‧‧耐火輥覆蓋物359a‧‧‧馬達359b‧‧‧馬達361‧‧‧第二對上游拉製輥363a‧‧‧第一牽拉輥構件363b‧‧‧第二牽拉輥構件365a‧‧‧耐火輥覆蓋物365b‧‧‧耐火輥覆蓋物367a‧‧‧馬達367b‧‧‧馬達369‧‧‧第二牽拉輥設備371‧‧‧第一對中游拉製輥373a‧‧‧第一牽拉輥構件373b‧‧‧第二牽拉輥構件375a‧‧‧耐火輥覆蓋物375b‧‧‧耐火輥覆蓋物377a‧‧‧馬達377b‧‧‧馬達379‧‧‧第二對中游拉製輥381a‧‧‧第一牽拉輥構件381b‧‧‧第二牽拉輥構件383a‧‧‧耐火輥覆蓋物383b‧‧‧耐火輥覆蓋物385a‧‧‧馬達385b‧‧‧馬達387‧‧‧第三牽拉輥設備389‧‧‧第一對下游拉製輥391a‧‧‧第一牽拉輥構件391b‧‧‧第二牽拉輥構件393a‧‧‧耐火輥覆蓋物393b‧‧‧耐火輥覆蓋物395a‧‧‧馬達395b‧‧‧馬達397‧‧‧第二對下游拉製輥399a‧‧‧第一牽拉輥構件399b‧‧‧第二牽拉輥構件401a‧‧‧耐火輥覆蓋物401b‧‧‧耐火輥覆蓋物402‧‧‧邊緣輥402a‧‧‧邊緣輥402b‧‧‧邊緣輥403a‧‧‧陰影接觸區域/馬達403b‧‧‧陰影接觸區域/馬達404‧‧‧邊緣輥405‧‧‧中間牽拉輥設備406‧‧‧閒置短輥407‧‧‧第一對中間拉製輥408‧‧‧閒置短輥409a‧‧‧第一牽拉輥構件409b‧‧‧第二牽拉輥構件411a‧‧‧耐火輥覆蓋物411b‧‧‧耐火輥覆蓋物413a‧‧‧馬達413b‧‧‧馬達415‧‧‧第二對中間拉製輥417a‧‧‧第一牽拉輥構件417b‧‧‧第二牽拉輥構件419a‧‧‧耐火輥覆蓋物419b‧‧‧耐火輥覆蓋物421a‧‧‧馬達421b‧‧‧馬達423‧‧‧控制裝置425‧‧‧通信427‧‧‧主表面429‧‧‧主表面431‧‧‧交叉拉製張力433‧‧‧交叉拉製張力435‧‧‧交叉拉製張力437‧‧‧交叉拉製張力439‧‧‧所欲張力441‧‧‧所欲張力443‧‧‧所欲張力445‧‧‧所欲張力447‧‧‧所欲張力449‧‧‧曲線451‧‧‧曲線453‧‧‧曲線455‧‧‧曲線457‧‧‧拉製方向459‧‧‧圖樣461‧‧‧圖樣463‧‧‧圖樣465‧‧‧圖樣500‧‧‧玻璃/消費者電子裝置502‧‧‧外殼504‧‧‧前部506‧‧‧背部508‧‧‧側表面510‧‧‧第一表面/主表面/顯示器512‧‧‧第二表面/主表面/蓋基板520‧‧‧第一壓縮層/第一節段522‧‧‧第二壓縮層/第二節段530‧‧‧中心區域a‧‧‧角度d1‧‧‧深度d2‧‧‧深度W‧‧‧寬度
第1圖示意地描繪根據本文所示及所述的一或多個實施例的用於形成玻璃帶之設備；
第2圖示意地描繪第1圖中線3-3之位置處的橫截面透視圖；
第3圖示意地描繪根據本文所示及所述的一或多個實施例的第2圖之用於形成玻璃帶之設備的透視前視圖；
第4A圖示意地描繪根據本文所示及所述的一或多個實施例的適於在用於製造玻璃之設備中使用的可更換加熱匣盒；
第4B圖示意地描繪沿第4A圖之線4B-4B的可更換加熱匣盒之橫截面；
第5圖示意地描繪根據本文所示及所述的一或多個實施例的第4A圖之可更換加熱匣盒之透視後視圖；
第6圖以圖形方式描繪對如本文描述的包含二矽化鉬加熱元件之加熱匣盒的個別功率改變的根部溫度回應之數學模型；
第7圖示意地描繪根據本文所示及所述的一或多個實施例的玻璃製造設備之成形容器之另一實施例，其中加熱匣盒係安置成緊鄰該成形容器之流槽；
第8圖示意地描繪根據本文所示及所述的一或多個實施例的沿第7圖之成形容器之線8-8截取的橫截面；
第9圖示意地描繪根據本文所示及所述的一或多個實施例的玻璃製造設備之成形容器之另一實施例，其中加熱匣盒係安置成緊鄰該成形容器之流槽；
第10圖為熔合下拉設備之透視、部分橫截面視圖；
第11圖為包含一組邊緣輥的用於拉製片狀玻璃之系統之實施例的側面正視圖；
第12圖為包含第一組邊緣輥及第二組邊緣輥的用於拉製片狀玻璃之系統之實施例的側面正視圖；
第13圖例示根據本揭示內容之示範性實施例的玻璃製造設備；
第14圖為根據本揭示內容之示範性實施例的第13圖之玻璃製造設備之側視圖；
第15圖為根據本揭示內容之示範性實施例的第13圖之玻璃製造設備的在第一高程處之俯視圖；
第16圖為根據本揭示內容之示範性實施例的第13圖之玻璃製造設備的在第二高程處之俯視圖；
第17圖為根據本揭示內容之示範性實施例的第13圖之玻璃製造設備的在第三高程處之俯視圖；
第18圖例示根據本揭示內容之示範性實施例的玻璃製造設備；
第19圖為根據本揭示內容之示範性實施例的第18圖之玻璃製造設備的在中間高程處之俯視圖；
第20圖例示根據本揭示內容之示範性實施例的在兩個不同高程處獨立的恆定力輸入控制之示範性圖表；
第21圖例示根據本揭示內容之示範性實施例的在最下方拉製輥處經歷的力之示範性圖表；
第22圖例示根據本揭示內容之示範性實施例的最下方拉製輥之速度之示範性圖表；
第23圖示意地描繪根據本文揭示及描述的實施例的在其表面上具有壓縮應力層之玻璃之橫截面；
第24圖為描繪根據本文揭示及描述的實施例的玻璃物件之努普刮擦側向開裂閾值測試結果之圖表；
第25圖為描繪根據本文揭示及描述的實施例的玻璃物件之壓痕破裂閾值測試結果之圖表；
第26A圖為併入有本文揭示的任何玻璃物件之示範性電子裝置之平面視圖；
第26B圖為第26A圖之示範性電子裝置之透視圖；
第27圖為第2圖之熔合下拉設備的橫截面圖之透視圖；及
第28圖為第2圖之熔合下拉設備的橫截面圖之另一透視圖。
國內寄存資訊 (請依寄存機構、日期、號碼順序註記) 無
國外寄存資訊 (請依寄存國家、機構、日期、號碼順序註記) 無
500‧‧‧玻璃/消費者電子裝置
520‧‧‧第一壓縮層/第一節段
510‧‧‧第一表面/主表面/顯示器
512‧‧‧第二表面/主表面/蓋基板
522‧‧‧第二壓縮層/第二節段
530‧‧‧中心區域
Claims (18)
- 一種玻璃物件，其包含以一氧化物計：大於或等於60mol%至小於或等於74mol% SiO2；大於或等於7mol%至小於或等於18mol% Al2O3；大於或等於3mol%至小於或等於16mol% B2O3；大於0mol%至小於或等於6mol% Na2O；大於或等於0mol%至小於或等於5mol% P2O5；大於或等於5mol%至小於或等於11mol% Li2O；小於或等於0.2mol% SnO2，及大於或等於0.5mol%至小於或等於6.5mol%二價陽離子氧化物，其中Al2O3：(R2O+RO)之一莫耳比率大於或等於0.9，其中R2O為以mol%計的鹼金屬氧化物之一總和且RO為以mol%計的二價陽離子氧化物之一總和。
- 一種玻璃物件，其包含以一氧化物計：大於或等於60mol%至小於或等於66mol% SiO2；大於或等於11.5mol%至小於或等於18mol% Al2O3；大於或等於3mol%至小於或等於8mol% B2O3；大於或等於2mol%至小於或等於6mol% Na2O；大於或等於0mol%至小於或等於5mol% P2O5；大於或等於5mol%至小於或等於11mol% Li2O；及大於或等於0.5mol%至小於或等於6.5mol%二價陽離子氧化物，其中Al2O3：(R2O+RO)之一莫耳比率大於或等於0.9，其中R2O為以mol%計的鹼金屬氧化物之一總和且RO為以mol%計的二價陽離子氧化物之一總和。
- 一種玻璃物件，其包含以一氧化物計：大於或等於65mol%至小於或等於74mol% SiO2；大於或等於7mol%至小於或等於12mol% Al2O3；大於或等於5mol%至小於或等於16mol% B2O3；大於或等於0mol%至小於或等於4mol% Na2O； 大於或等於0mol%至小於或等於5mol% P2O5；大於或等於5mol%至小於或等於11mol% Li2O；及大於或等於0.5mol%至小於或等於6.5mol%二價陽離子氧化物，其中Al2O3：(R2O+RO)之一莫耳比率大於或等於0.9，其中R2O為以mol%計的鹼金屬氧化物之一總和且RO為以mol%計的二價陽離子氧化物之一總和。
- 如請求項1-3中任一項所述之玻璃物件，其中該玻璃物件具有小於或等於300kP之一液相黏度。
- 如請求項1-3中任一項所述之玻璃物件，其中該玻璃物件包含大於或等於0.4的Li2O：R2O之一莫耳比率，其中R2O為以mol%計的鹼金屬氧化物之一總和。
- 如請求項1-3中任一項所述之玻璃物件，其中該玻璃物件包含大於或等於80mol% Al2O3+SiO2+B2O3+P2O5。
- 如請求項1-3中任一項所述之玻璃物件，其中該玻璃物件包含大於或等於0.5mol%至小於或等於2mol% SrO。
- 如請求項1-3中任一項所述之玻璃物件，其中該玻璃物件係藉由一離子交換製程強化，以使得一壓縮應力層形成在該玻璃物件之至少一個表面上，且其中一壓縮深度大於或等於0.15t，其中t為該玻璃物件之一厚度。
- 如請求項8所述之玻璃物件，其中該玻璃物件係藉由將鉀離子添加至該玻璃物件之一離子交換製程強化，且一鉀層深度(DOL)為大於或等於5μm至小於或等於30μm。
- 如請求項8所述之玻璃物件，其中一壓縮應力層在其表面處具有大於或等於300MPa至小於或等於950MPa之一壓縮應力。
- 如請求項1-3中任一項所述之玻璃物件，其中該玻璃物件具有大於或等於5N至小於或等於24N之一努普刮擦側向開裂閾值。
- 如請求項1-3中任一項所述之玻璃物件，其中該玻璃物件具有大於或等於15kgf之一壓痕破裂閾值。
- 一種玻璃物件，其包含：Li2O；SiO2；Al2O3； 至少一種鹼金屬氧化物(R2O)或二價陽離子氧化物(RO)，其中Al2O3：(R2O+RO)之一莫耳比率大於或等於0.9；及小於或等於300kP之一液相黏度，其中RI退火-RI剛形成大於或等於0.0003，其中RI退火為在該玻璃之退火點下加熱1小時的該玻璃在589nm之一波長下之一折射率，且RI剛形成為剛形成的該玻璃在589nm之一波長下之一折射率。
- 如請求項13所述之玻璃物件，其進一步包含一熔合線。
- 如請求項13或14所述之玻璃物件，其中RI退火-RI剛形成在0.0003至0.001之一範圍內。
- 如請求項13或14所述之玻璃物件，其中該玻璃物件包含大於或等於0.4的Li2O：R2O之一莫耳比率，其中R2O為以mol%計的鹼金屬氧化物之一總和。
- 如請求項13或14所述之玻璃物件，其中該玻璃物件包含大於或等於80mol% Al2O3+SiO2+B2O3+P2O5。
- 一種消費者電子產品，其包含：一外殼，該外殼具有一前表面、一背表面、及側表 面；至少部分地提供在該外殼內的電氣組件，該等電氣組件包括至少一控制器、一記憶體、及一顯示器，該顯示器係提供在該外殼之該前表面處或相鄰於該前表面；以及一蓋基板，該蓋基板安置在該顯示器之上，其中該外殼之一部分或該蓋基板之至少一者包含請求項1-3及13中任一項所述之玻璃物件。
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