TWI788670B - 各向同性導電性黏著片 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種導電性黏著片,其可以簡單地以高密著力接著於被接著體,且電性連接穩定性優異、熱循環試驗後之電阻值變化較小。
本發明之各向同性導電性黏著片係由黏著劑形成,該黏著劑含有玻璃轉移溫度為0℃以下之丙烯酸系樹脂、異氰酸酯系硬化劑及樹枝狀導電性粒子,且相對於前述丙烯酸系樹脂100質量份,前述異氰酸酯系硬化劑之含量為0.05~5.0質量份、前述樹枝狀導電性粒子之含量為120~240質量份;並且,黏著片厚度與前述樹枝狀導電性粒子之中值粒徑D50之比[黏著片厚度/D50]為1.3~5.0。
Description
本發明係關於各向同性導電性黏著片。更詳細地說,本發明係關於用於印刷配線板之各向同性導電性黏著片。
背景技術
於印刷配線板中,經常使用導電性接著劑。例如,接著於印刷配線板進行使用之電磁波屏蔽膜(以下有時簡稱為「屏蔽膜」),具有金屬箔等屏蔽層與設置於該屏蔽層表面之導電性接著片。導電性接著片係例如將導電性接著劑片狀地塗覆於屏蔽層表面而形成,將屏蔽層接著於印刷配線板表面之同時,使印刷配線板之接地圖案與屏蔽層導通。
上述導電性接著片係要求與設置於印刷配線板表面之絕緣膜(覆蓋膜)牢固地密著,且於屏蔽膜所設置之開口部中確保與外部接地良好的導通。
關於具有導電性接著片之屏蔽膜,例如已知有專利文獻1及2所揭示者。上述屏蔽膜係以露出導電性接著片之表面貼著於印刷配線板表面、具體為印刷配線板表面所設置之覆蓋膜表面之方式進行貼合後使用。此等導電性接著片通常於高溫、高壓條件下進行熱壓接,而接著及積層於印刷配線板。
先行技術文獻
專利文獻
[專利文獻1]日本特開2015-110769號公報
[專利文獻2]日本專利2012-28334號公報
發明概要
發明欲解決之課題
近年來,有追求不於高溫、高壓條件下而是可於較寬大條件下接著於印刷配線板之導電性黏著片的傾向。然而,先前的各向異性導電性黏著片以較寬大條件接著於印刷配線板時,有如下問題:與外部接地之電性連接不穩定、熱循環試驗後之電阻值變化變大。為了提高電性連接之穩定性,增加先前的各向異性導電性黏著片中的導電性粒子的調配量而製成各向同性導電性黏著片時,則與印刷配線板之密著力就會變差。
本發明係鑑於上述而完成者,本發明之目的在於提供一種導電性黏著片,其可以簡單地以高密著力接著於被接著體,且電性連接穩定性優異、熱循環試驗後之電阻值變化較小。
用以解決課題之手段
本發明人等為達成上述目的,專心致力於研究,結果發現:由含有特定的丙烯酸系樹脂、特定量的異氰酸酯系硬化劑及特定量的樹枝狀導電性粒子的黏著劑形成、且黏著片厚度與樹枝狀導電性粒子之中值粒徑D50之比在特定範圍內之各向同性導電性黏著片,可以簡單地以高密著力接著於被接著體,且電性連接穩定性優異、熱循環試驗後之電阻值變化較小。本發明係基於上述發現而完成者。
即,本發明提供一種各向同性導電性黏著片,其由黏著劑形成,該黏著劑含有玻璃轉移溫度為0℃以下之丙烯酸系樹脂、異氰酸酯系硬化劑及樹枝狀導電性粒子,且相對於上述丙烯酸系樹脂100質量份,上述異氰酸酯系硬化劑之含量為0.05~5.0質量份、上述樹枝狀導電性粒子之含量為120~240質量份;並且,黏著片厚度與上述樹枝狀導電性粒子之中值粒徑D50之比[黏著片厚度/D50]為1.3~5.0。
上述樹枝狀導電性粒子之D50宜為6~15μm。
上述各向同性導電性黏著片之厚度宜為1~100μm。
上述丙烯酸系樹脂之酸值宜為5mgKOH/g以下。
上述丙烯酸系樹脂之重量平均分子量宜為10萬~100萬。
上述丙烯酸系樹脂之玻璃轉移溫度宜為-50℃以上。
上述各向同性導電性黏著片宜在溫度20℃、壓力1kg/10mm之條件下貼著於聚醯亞胺膜時對聚醯亞胺膜之180°剝離接著力為4N/20mm以上。
發明效果
根據本發明之各向同性導電性黏著片,可以簡單地以高密著力接著於被接著體,且電性連接穩定性優異、熱循環試驗後之電阻值變化較小。因此,可簡單地製造具備本發明之各向同性導電性黏著片之屏蔽印刷配線板,該屏蔽印刷配線板與外部接地之連接穩定性優異。
用以實施發明之形態
[各向同性導電性黏著片]
本發明之各向同性導電性黏著片係由至少包含玻璃轉移溫度為0℃以下之丙烯酸系樹脂、異氰酸酯系硬化劑及樹枝狀導電性粒子的黏著劑(黏著劑組成物)形成。
本發明之各向同性導電性黏著片,其黏著片厚度與樹枝狀導電性粒子之D50之比[黏著片厚度/D50]為1.3~5.0、宜為1.4~4.0、較佳為1.5~4.0、更佳為2.5~4.0。藉由上述比為1.3以上,可簡單地接著於被接著體,且對被接著體之密著性更良好。藉由上述比為5.0以下,電性連接穩定性優異。又,藉由上述比於上述範圍內,熱循環試驗後之電阻值變化較小。
(丙烯酸系樹脂)
用以形成本發明之各向同性導電性黏著片的黏著劑(黏著劑組成物),包含玻璃轉移溫度為0℃以下的丙烯酸系樹脂。上述丙烯酸系樹脂可僅使用一種、亦可使用二種以上。
上述丙烯酸系樹脂之玻璃轉移溫度(Tg)為0℃以下、宜為-5℃以下、較佳為-10℃以下。又,上述玻璃轉移溫度宜為-50℃以上、較佳為-30℃以上。上述玻璃轉移溫度係利用示差掃描熱量分析求出。若玻璃轉移溫度超過0℃,在較低壓力及溫度條件下貼著於被接著體時,與被接著體之密著強度及連接電阻值變低。
上述丙烯酸系樹脂之酸值並無特別限定,但宜為5mgKOH/g以下、較佳為3mgKOH/g以下、更佳為1mgKOH/g以下。上述酸值,例如大於0mgKOH/g。若上述酸值為5mgKOH/g以下,因硬化劑所致之丙烯酸系樹脂的硬化就不會進行過度,故可簡單地接著於被接著體,對被接著體之密著性變得更良好,且電性連接穩定性更優異,熱循環試驗後之電阻值變化變更小。
上述丙烯酸系樹脂之重量平均分子量並無特別限定,但宜為10萬~100萬、較佳為20萬~60萬。若上述重量平均分子量於上述範圍內,對被接著體之密著性變得更良好,且電性連接穩定性更優異,熱循環試驗後之電阻值變化變更小。上述重量平均分子量可利用凝膠滲透層析法(GPC)使用聚苯乙烯作為標準物質進行測定。
上述丙烯酸系樹脂宜具有能與異氰酸酯反應之官能基、較佳具有羥基。藉此,上述丙烯酸系樹脂因異氰酸酯系硬化劑而來的硬化性會提高、對被接著體之密著性變得更良好,且電性連接穩定性更優異,熱循環試驗後之電阻值變化變更小。上述具有羥基之丙烯酸系樹脂,例如可藉由使用後述的含羥基(甲基)丙烯酸酯作為單體成分來製作。
上述丙烯酸系樹脂係以(甲基)丙烯酸酯化合物作為必要的單體成分所構成的聚合物、即至少具有來自(甲基)丙烯酸酯化合物之結構單元的聚合物(或共聚物)。又,於本說明書中所謂「(甲基)丙烯酸酯」係指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯。然後,所謂「(甲基)丙烯酸酯化合物」係表示具有丙烯醯基及/或甲基丙烯醯基之化合物。關於「(甲基)丙烯醯基」亦相同。上述(甲基)丙烯酸酯化合物可僅使用一種,亦可使用二種以上。
上述丙烯酸系樹脂,在構成丙烯酸系樹脂之單體成分總量(100質量%)中來自(甲基)丙烯酸酯化合物的結構單元的含有比率,並無特別限定,例如為50質量%以上(50~100質量%)、宜為60質量%以上(60~100質量%)、較佳為90質量%以上、更佳為95質量%以上。
關於上述(甲基)丙烯酸酯化合物,例如可列舉:(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸十二烷酯等具有直鏈或支鏈狀烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯;(甲基)丙烯酸;丙烯酸羧乙酯等含羧基之(甲基)丙烯酸酯;(甲基)丙烯酸2-羥甲酯、(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯、二乙二醇單(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇單(甲基)丙烯酸酯等含羥基之(甲基)丙烯酸酯;(甲基)丙烯酸環己酯等(甲基)丙烯酸環烷基酯;N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺等(甲基)丙烯醯胺衍生物;(甲基)丙烯酸二甲胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二乙胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二丙胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲胺基丙酯、(甲基)丙烯酸二丙胺基丙酯等(甲基)丙烯酸二烷胺基烷基酯等。
又,關於上述(甲基)丙烯酸酯化合物,亦可列舉:新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯等多官能(甲基)丙烯酸酯。進而,亦可列舉:2-羥基-3-丙烯醯氧基丙基(甲基)丙烯酸酯、苯基環氧丙基醚(甲基)丙烯酸酯六亞甲基二異氰酸酯胺基甲酸酯預聚物、雙酚A二環氧丙基醚丙烯酸加成物等。
上述丙烯酸系樹脂亦可具有來自(甲基)丙烯酸化合物以外之單體成分的結構單元。關於上述單體成分,並無特別限定,例如可列舉:巴豆酸、衣康酸、富馬酸、馬來酸等含羧基之聚合性不飽和化合物或其酸酐;苯乙烯、乙烯基甲苯、α-甲基苯乙烯等苯乙烯系化合物;乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等乙烯酯類;氯乙烯等鹵化乙烯;甲基乙烯基醚等乙烯基醚類;(甲基)丙烯腈等含氰基之乙烯基化合物;乙烯、丙烯等α-烯烴等。
上述丙烯酸系樹脂之含有比率並無特別限定,但宜相對於上述黏著劑中之固體成分總量100質量%為20~60質量%、較佳為30~50質量%、更佳為35~45質量%。若上述含有比率為20質量%以上,對被接著體之密著性變得更加良好。若上述含有比率為60質量%以下,則導電性粒子之比率相對較多、電穩定性更優異。
(異氰酸酯系硬化劑)
上述異氰酸酯系硬化劑為分子內具有2個以上異氰酸酯基的化合物,用以促進上述丙烯酸系樹脂的硬化。上述異氰酸酯系硬化劑可僅使用一種,亦可使用二種以上。
關於上述異氰酸酯系硬化劑,例如可列舉:1,2-伸乙基二異氰酸酯、1,4-伸丁基二異氰酸酯、1,6-六亞甲基二異氰酸酯等低級脂肪族聚異氰酸酯;伸環戊基二異氰酸酯、伸環己基二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、氫化甲苯二異氰酸酯、氫化二甲苯二異氰酸酯等脂環族聚異氰酸酯;2,4-甲苯二異氰酸酯、2,6-甲苯二異氰酸酯、4,4’-二苯甲烷二異氰酸酯、伸茬基二異氰酸酯等芳香族聚異氰酸酯等。
上述異氰酸酯系硬化劑之含量相對於上述丙烯酸系樹脂100質量份為0.05~5.0質量份、宜為0.1~4.0質量份、較佳為1.0~3.5質量份。藉由上述含量為0.05質量份以上,可防止熱循環試驗時之黏著片溶解,且熱循環試驗後之電阻值變化變小。藉由上述含量為5.0質量份以下,可抑制因硬化劑所致之丙烯酸系樹脂的過度硬化,且對被接著體之密著性變得良好。
(導電性粒子)
本發明之各向同性導電性黏著片包含樹枝狀(枝晶形狀(dendrite))的導電性粒子。藉由使用樹枝狀導電性粒子,能獲得可簡單地以高密著力接著於被接著體、且電性連接穩定性優異、熱循環試驗後之電阻值變化較小的導電性黏著片。上述樹枝狀導電性粒子可僅使用一種,亦可使用二種以上。
關於上述樹枝狀導電性粒子,例如可列舉:金屬粒子、金屬被覆樹脂粒子、碳填料等。
關於構成上述金屬粒子及上述金屬被覆樹脂粒子之被覆部的金屬,例如可列舉:金、銀、銅、鎳、鋅等。上述金屬可僅使用一種,亦可使用二種以上。
關於上述金屬粒子,具體上例如可列舉:銅粒子、銀粒子、鎳粒子、銀被覆銅粒子、金被覆銅粒子、銀被覆鎳粒子、金被覆鎳粒子、銀被覆合金粒子等。關於上述銀被覆合金粒子,可舉例如:利用銀被覆包含銅之合金粒子(例如由銅、鎳及鋅之合金構成之銅合金粒子)的銀被覆銅合金粒子等。上述金屬粒子可藉由電解法、霧化法或還原法等製作。
關於上述金屬粒子,其中較佳為銀粒子、銀被覆銅粒子、銀被覆銅合金粒子。由導電性優異、可抑制金屬粒子之氧化及凝集且可降低金屬粒子成本之觀點,尤宜為銀被覆銅粒子、銀被覆銅合金粒子。
上述樹枝狀導電性粒子之中值粒徑(D50)並無特別限定,但宜為6~15μm、較佳為7~10μm。若上述D50為6μm以上,對被接著體之密著性變得更加良好。若上述D50為15μm以下,則熱循環試驗後之電阻值變化變更小。上述D50係指利用雷射繞射-散射法求得的粒度分布中於累計值50%的粒徑。
上述樹枝狀導電性粒子之含量係相對於上述丙烯酸系樹脂100質量份為120~240質量份、宜為130~200質量份、較佳為140~180質量份。藉由上述含量為120質量份以上,電性連接穩定性優異且熱循環試驗後之電阻值變化較小。藉由上述含量為240質量份以下,可簡單地接著於被接著體,且對被接著體之密著性變得良好。
於無損本發明效果之範圍內,本發明之各向同性導電性黏著片及用以形成其之黏著劑亦可含有上述各成分以外的其他成分。關於上述其他成分,可舉公知乃至慣用的接著片中所含的成分。關於上述其他成分,例如可列舉:阻燃劑、塑化劑、消泡劑、黏度調整劑、抗氧化劑、稀釋劑、防沉劑、填充劑、著色劑、調平劑、偶合劑、賦黏樹脂等。上述其他成分可僅使用一種,亦可使用二種以上。再者,相對於上述黏著劑中之固體成分總量100質量%,上述丙烯酸系樹脂、上述異氰酸酯系硬化劑及上述樹枝狀導電性粒子合計之含有比率宜為80質量%以上、較佳為90質量%以上、更佳為95質量%以上、尤宜為98質量%以上。
本發明之各向同性導電性黏著片之厚度可根據用途適當選擇,但宜為1~100μm、較佳為5~50μm、更佳為10~40μm、尤宜為10~30μm。若上述厚度為1μm以上,可簡單地接著於被接著體,且對被接著體之密著性變得更良好。若上述厚度為100μm以下,則電性連接穩定性變得更良好。又,將本發明之各向同性導電性黏著片用於黏接膜(例如補強板或外部接地與印刷配線板的導電性黏接膜)時,例如為10~70μm、宜為30~65μm。
本發明之各向同性導電性黏著片在溫度20℃、壓力1kg/10mm之條件下貼著於聚醯亞胺膜時對聚醯亞胺膜之180°剝離接著力並無特別限定,宜為4N/20mm以上、較佳為5N/20mm以上。若上述剝離接著力為4N/20mm以上,可簡單地接著於被接著體,且對被接著體之密著性變得更良好。且藉此,電性連接穩定性更優異且熱循環試驗後之電阻值變化亦變得更小。上述180°剝離接著力係於常溫下以拉伸速度300mm/分之條件測定的值。
本發明之各向同性導電性黏著片的利用以下導電性試驗求得的電阻值(初始電阻值)並無特別限定,但宜為1000mΩ以下、較佳為100mΩ以下、更佳為20mΩ以下。若上述電阻值為1000mΩ以下,外部接地與各向同性導電性黏著片之於通孔中的導通性變得良好。
<導電性試驗>
將二個寬度10mm×長度30mm之電極以間隔成為100mm之方式配置於厚度25μm之聚醯亞胺膜上,並將貼合有屏蔽基材(厚度12μm之PET膜/厚度0.1μm之銀蒸鍍膜)的銀蒸鍍膜面與各向同性導電性黏著片的積層體的各向同性導電性黏著片面,於壓力1kg/10mm之條件下以連接二個電極間之方式進行貼合,再使用4端子法測試儀測定二個電極間的電阻值。
本發明之各向同性導電性黏著片之下述熱循環試驗後所測定的電阻值(熱循環試驗後電阻值)相對於上述初始電阻值的變化率(熱循環試驗後電阻值變化率),並無特別限定,但宜為40%以下、較佳為30%以下、更佳為25%以下。若上述電阻值之變化率為40%以下,即使於熱循環試驗後,外部接地與各向同性導電性黏著片之於通孔中的導通性亦變得良好。再者,上述熱循環試驗後電阻值變化率由下式求出。又,上述熱循環試驗後電阻值可使用熱循環試驗後之各向同性導電性黏著片,藉由上述導電性試驗所記載的方法進行測定。
熱循環試驗後電阻值變化率(%)={(熱循環試驗後電阻值(Ω)/初始電阻值(Ω))-1}×100
<熱循環試驗>
於溫度條件設為低溫側-40℃、高溫側85℃、各溫度保持時間30分鐘、升溫速度5℃/分、降溫速度5℃/分且200次循環之條件下,就上述屏蔽基材與各向同性導電性黏著片之積層體進行試驗。
本發明之各向同性導電性接著片可藉由公知乃至慣用之製造方法來製造。例如可將上述黏著劑塗佈(塗覆)於分離膜等暫時基材或基材上,視需要利用加熱等去溶媒及/或使一部分硬化而形成。上述加熱例如於25~100℃下進行1~48小時左右。
上述黏著劑亦可進一步包含溶劑(溶媒)。關於上述溶劑,例如可列舉:甲苯、丙酮、甲乙酮、甲醇、乙醇、丙醇及二甲基甲醯胺等。黏著劑之固體成分濃度可根據欲形成之各向同性導電性黏著片之厚度等而適當設定。
於塗佈上述黏著劑時,亦可使用公知之塗佈法。例如可使用:凹版輥塗佈機、逆輥塗佈機、接觸輥塗佈機、模嘴塗佈機浸漬輥塗佈機、棒塗佈機、刮刀塗佈機、噴霧塗佈機、缺角輪塗佈機、直接塗佈機、狹縫式模具塗佈機等塗佈機。
再者,本發明之各向同性導電性黏著片亦可為經B階段化的黏著片(B階段狀態的黏著片),其係利用加熱使上述丙烯酸系樹脂及異氰酸酯系硬化劑之一部分反應而獲得。
本發明之各向同性導電性黏著片宜為印刷配線板用途,尤宜為可撓性印刷配線板(FPC)用途。本發明之各向同性導電性黏著片可以簡單地以高密著力接著於被接著體,且電性連接穩定性優異、熱循環試驗後之電阻值變化較小。因此,本發明之各向同性導電性黏著片可適合用作印刷配線板用(尤其FPC用)電磁波屏蔽膜、導電性黏接膜。
有時將具有本發明之各向同性導電性黏著片之電磁波屏蔽膜稱為「本發明之電磁波屏蔽膜」。本發明之電磁波屏蔽膜宜具備包含本發明之各向同性導電性黏著片及金屬箔的電磁波屏蔽層、與設置於該電磁波屏蔽層之一面的絕緣層。具體而言,本發明之電磁波屏蔽膜例如宜依序具有絕緣層(保護層)、金屬層及本發明之各向同性導電性黏著片。由使電磁波屏蔽性能更良好之觀點,本發明之各向同性導電性黏著片宜積層於金屬層而使用。
關於構成上述金屬層之金屬,例如可列舉:金、銀、銅、鋁、鎳、錫、鈀、鉻、鈦、鋅或此等之合金等。其中,由使電磁波屏蔽性能更優異之觀點,較佳為銅層、銀層,由經濟性之觀點,較佳為銅。
[印刷配線板]
有時將使用本發明之各向同性導電性黏著片之印刷配線板稱為「本發明之印刷配線板」。
圖1係顯示使用本發明之各向同性導電性黏著片之屏蔽印刷配線板之一實施形態。圖1所示之屏蔽印刷配線板X具備:印刷配線板1、積層於印刷配線板1上之電磁波屏蔽積層體2、以其一部分填充於設置在電磁波屏蔽積層體2之通孔24內之方式設置於電磁波屏蔽積層體2上之導電性接著劑層31、及利用導電性接著劑層31接著之補強板32。補強板32可更換為外部接地構件。
電磁波屏蔽積層體2亦可為由本發明之電磁波屏蔽膜形成者。即,於電磁波屏蔽積層體2中,導電性接著劑層21可為本發明之各向同性導電性黏著片、亦可為由本發明之各向同性導電性黏著片形成者(例如利用熱壓接而形成者)。
印刷配線板1具有:基底構件11、局部地設置於基底構件11之表面之電路圖案13、覆蓋電路圖案13用以絕緣保護之絕緣保護層(覆蓋膜)14、及覆蓋電路圖案13且用以接著電路圖案13及基底構件11與絕緣保護層14之接著劑層12。電路圖案13包含複數個信號電路。
電磁波屏蔽積層體2係按導電性接著劑層21、金屬箔22、絕緣層23之順序積層於印刷配線板1上、具體為印刷配線板1之絕緣保護層14上。電磁波屏蔽積層體2具有於厚度方向上貫通(即,使印刷配線板1表面露出)之通孔24。藉由具有通孔24,可利用加壓及加熱使用以形成導電性接著劑層31之接著劑流入通孔24內,與導電性接著劑層21電性連接。通孔24之底為印刷配線板1、具體為絕緣保護層14。即,通孔24由絕緣層23側面、由導電性接著劑層21與金屬箔22構成之電磁波屏蔽層側面、及印刷配線板1(尤其是絕緣保護層14)表面所形成。
導電性接著劑層31係配置於電磁波屏蔽積層體2上,其一部分填充通孔24,於通孔24中與導電性接著劑層21電性連接。補強板32經由導電性接著劑層31而固定於印刷配線板1及電磁波屏蔽積層體2。導電性接著劑層31由導電性黏接膜形成。導電性接著劑層31亦可為由本發明之各向同性導電性黏著片形成者。即,上述導電性黏接膜亦可為本發明之各向同性導電性黏著片。
導電性接著劑層31不與電路圖案接觸。此時,由於形成導電性接著劑層31之接著劑流入通孔的高度較低,故可防止因朝通孔內部之流入不足所造成的氣泡混入。因此,例如可抑制於回焊步驟之界面剝離,可獲得穩定的連接可靠性。
屏蔽印刷配線板X可藉由如下製造方法製造,該製造方法具備:將電磁波屏蔽膜積層於印刷配線板1上之步驟(屏蔽膜積層步驟);將具備導電性黏接膜的補強板32以電磁波黏接膜與上述電磁波屏蔽膜接觸之方式積層於通孔24之上表面的步驟(補強板積層步驟);及藉由熱壓接使導電性黏接膜流入通孔24內而由導電性黏接膜形成導電性接著劑層31,使電磁波屏蔽積層體2中的導電性接著劑層21與導電性接著劑層31接觸的步驟(熱壓接步驟)。再者,藉由上述熱壓接,導電性接著劑層31會熱硬化或熔融、冷卻固化而形成導電性接著劑層31,從而自電磁波屏蔽膜形成電磁波屏蔽積層體2。
於上述屏蔽膜積層步驟中,以絕緣保護層14與導電性接著劑層21接觸之方式將電磁波屏蔽膜積層於印刷配線板1上。又,通孔24可以於電磁波屏蔽膜之積層前或積層後形成。通孔24之形成例如利用雷射加工進行。
具體而言,例如將具有導電性接著劑層之電磁波屏蔽膜以導電性接著劑層面成為印刷配線板1側之方式重疊貼合於絕緣保護層14上。又,亦可視需要將積層有電磁波屏蔽膜之狀態的印刷配線板進行熱壓接,使電磁波屏蔽膜中之導電性接著劑層熱硬化或熔融、冷卻固化。藉此,形成導電性接著劑層21,形成電磁波屏蔽積層體2。使用本發明之電磁波屏蔽膜作為上述電磁波屏蔽膜時,本發明之各向同性導電性黏著片可簡單地以高密著力接著於被接著體、與絕緣保護層14之密著力較高,故可不進行上述熱壓接或者以較弱條件的熱壓接形成電磁波屏蔽積層體2。然後,可形成熱循環試驗後之電阻值變化較小的屏蔽印刷配線板X。
於上述補強板積層步驟中,將導電性黏接膜與補強板32貼合,切割為任意的尺寸後,導電性黏接膜之面配置於絕緣層23之表面以封閉通孔24之開口部。
然後,於上述熱壓接步驟中,導電性黏接膜利用加壓及加熱而軟化流動,並藉由加壓時的壓力流入填充於通孔24內。然後,利用之後的冷卻或熱聚合而硬化,藉此形成導電性接著劑層31。如此,導電性黏接膜就會因熱壓接而流動,從而與導電性接著劑層21接觸。使用本發明之各向同性導電性黏著片作為上述導電性黏接膜時,本發明之各向同性導電性黏著片可簡單地以高密著力接著於被接著體、與絕緣保護層14之密著力較高,故可利用較弱條件下的熱壓接形成電性連接穩定性優異、熱循環試驗後之電阻值變化較小的屏蔽印刷配線板X。
[實施例]
以下,基於實施例更詳細地說明本發明,但本發明並非僅限定於此等實施例。再者,表1記載的調配量為將丙烯酸系樹脂(純份)設為100質量份時的各成分的相對調配量(純份),除非另有說明,以「質量份」表示。
實施例1~5、比較例1~9
以表中所示之調配量,調配混合丙烯酸系樹脂溶液、異氰酸酯系硬化劑及導電性粒子,製備實施例及比較例之各黏著劑組成物(固體成分45質量%)。使用的各成分的細節如後所述。
使用線棒將黏著劑組成物塗佈於表面經離型劑處理的PET膜(厚度50μm)的表面,於100℃下加熱3分鐘,藉此片化後,於40℃、0.5MPa之壓力下以1m/min速度熱層壓於屏蔽基材(厚度12μm之PET膜/厚度0.1μm之銀蒸鍍膜)之銀蒸鍍膜面側。將熱層壓後之片材於60℃下放置24小時,藉此製成導電性黏著片與屏蔽基材之積層體。
<丙烯酸系樹脂>
丙烯酸系樹脂A:商品名「Hitaloid 5505」(酸值:小於1mgKOH/g、重量平均分子量:30萬、Tg:-25℃)、日立化成股份有限公司製
丙烯酸系樹脂B:商品名「Hitaloid 5507」(酸值:小於1mgKOH/g、重量平均分子量:50萬、Tg:-15℃)、日立化成股份有限公司製
丙烯酸系樹脂C:商品名「Teisanresin SG708-6」(酸值:9mgKOH/g、重量平均分子量:70萬、Tg:4℃)、Nagasechemtex股份有限公司製
丙烯酸系樹脂D:商品名「AR2412」(酸值:小於1mgKOH/g、重量平均分子量:40萬、Tg:-45℃)、Vigteqnos股份有限公司製
<導電性粒子>
導電性粒子A:Ag塗層電解枝晶Cu粉(樹枝狀、D50:8μm)
導電性粒子B:Ag塗層電解枝晶Cu粉(樹枝狀、D50:13μm)
導電性粒子C:Ag塗層霧化Cu粉(球狀、D50:5μm)
導電性粒子D:Ag塗層電解Cu粉(馬鈴薯狀、D50:7μm)
<硬化劑>
異氰酸酯系硬化劑:商品名「CORONATE L」、東曹股份有限公司製
(評價)
就於實施例及比較例獲得之各導電性黏著片如下所述進行評價。評價結果記載於表中。
(1)密著性(聚醯亞胺膜)
將於實施例及比較例獲得之積層體裁斷為寬度20mm,於溫度20℃之環境下使用2kg輥,使輥往返一次,將導電性黏著片面貼著於聚醯亞胺膜,製作出試驗片。將上述試驗片於20℃、60%Rh之環境下放置12小時後,利用雙面膠將試驗片的聚醯亞胺膜面固定於補強板(FR-1、厚度2mm),使用拉伸試驗機(商品名「AGS-50NX」、島津製作所股份有限公司製)實施180°剝離試驗。於180°剝離拉伸速度為300mm/分之條件下測定。
(2)連接電阻值測定
將二個寬度10mm×長度30mm之電極以間隔成為100mm之方式配置於厚度25μm之聚醯亞胺膜上。然後,將於實施例及比較例獲得之積層體沖裁成寬度10mm×長度130mm,以2kg輥往返一次來將導電性黏著片面以連接電極間之方式貼合於電極之配置面。貼合導電性黏著片後,使用4端子法測試儀(商品名「RM3542」、日置電機股份有限公司製)測定2個電極間的電阻值。再者,電阻值之測定係分別於熱循環試驗前及熱循環試驗後進行,將前者設為初始電阻值、將後者設為熱循環試驗後電阻值,由下式求出熱循環試驗後電阻值變化率。上述熱循環試驗係於溫度條件設為低溫側-40℃、高溫側85℃、各溫度保持時間30分鐘、升溫速度5℃/分、降溫速度5℃/分,就上述積層體進行200次循環。
熱循環試驗後電阻值變化率(%)={(熱循環試驗後電阻值(Ω)/初始電阻值(Ω))-1}×100
本發明之各向同性導電性黏著片(實施例)在較弱壓力及溫度條件下貼著於聚醯亞胺膜時其對於聚醯亞胺膜之密著性較高、初始之連接電阻值較低、熱循環試驗後之電阻值變化亦較小。另一方面,[黏著片厚度/D50]較低時(比較例1),在較弱壓力及溫度條件下貼著時對聚醯亞胺膜之密著性差。導電性粒子之含量較少時(比較例2、4、5),熱循環試驗後之電阻值變化較大。導電性粒子之含量較多時(比較例3),在較弱壓力及溫度條件下貼著時對聚醯亞胺膜之密著性差。使用球狀粒子作為導電性粒子時(比較例6),熱循環試驗後之電阻值變化較大。使用馬鈴薯狀粒子作為導電性粒子時(比較例7),初始之連接電阻值較高、熱循環試驗後之電阻值變化亦較大。使用Tg較高者作為丙烯酸系樹脂時(比較例8),在較弱壓力及溫度條件下貼著時對聚醯亞胺膜之密著性差,熱循環試驗後之電阻值變化亦較大。
又,使用球狀粒子作為導電性粒子時,即使使用Tg特別低者作為丙烯酸系樹脂,雖然在較弱壓力及溫度條件下貼著時對聚醯亞胺膜之密著性為良好,但熱循環試驗後之電阻值變化依然較大(比較例9)。由比較例6及9之結果可知,於使用球狀粒子作為導電性粒子時,雖然改變丙烯酸系樹脂種類可提高對於聚醯亞胺膜之黏著力,但熱循環試驗後之電阻值變化雖得以減輕卻難以保持在容許範圍內。
X:屏蔽印刷配線板
1:印刷配線板
11:基底構件
12:接著劑層
13:電路圖案
14:絕緣保護層(覆蓋膜)
2:電磁波屏蔽積層體
21:導電性接著劑層
22:金屬箔
23:絕緣層
24:通孔
31:導電性接著劑層
32:補強板
圖1係顯示使用本發明各向同性導電性黏著片之屏蔽印刷配線板之一實施形態的示意剖面圖。
X:屏蔽印刷配線板
1:印刷配線板
11:基底構件
12:接著劑層
13:電路圖案
14:絕緣保護層(保護膜)
2:電磁波屏蔽積層體
21:導電性接著劑層
22:金屬箔
23:絕緣層
24:通孔
31:導電性接著劑層
32:補強板
Claims (7)
- 一種各向同性導電性黏著片,係由黏著劑形成,該黏著劑含有玻璃轉移溫度為0℃以下之丙烯酸系樹脂、異氰酸酯系硬化劑及樹枝狀導電性粒子,且相對於前述丙烯酸系樹脂100質量份,前述異氰酸酯系硬化劑之含量為0.05~5.0質量份、前述樹枝狀導電性粒子之含量為120~240質量份; 並且,黏著片厚度與前述樹枝狀導電性粒子之中值粒徑D50之比[黏著片厚度/D50]為1.3~5.0。
- 如請求項1之各向同性導電性黏著片,其中前述樹枝狀導電性粒子之D50為6~15μm。
- 如請求項1或2之各向同性導電性黏著片,其厚度為1~100μm。
- 如請求項1或2之各向同性導電性黏著片,其中前述丙烯酸系樹脂之酸值為5mgKOH/g以下。
- 如請求項1或2之各向同性導電性黏著片,其中前述丙烯酸系樹脂之重量平均分子量為10萬~100萬。
- 如請求項1或2之各向同性導電性黏著片,其中前述丙烯酸系樹脂之玻璃轉移溫度為-50℃以上。
- 如請求項1或2之各向同性導電性黏著片,其在溫度20℃、壓力1kg/10mm之條件下貼著於聚醯亞胺膜時對聚醯亞胺膜之180°剝離接著力為4N/20mm以上。
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