TWI770080B - 偏光膜、圖像顯示裝置用保護板、及相位差膜 - Google Patents
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Abstract
本發明之偏光膜於厚度方向一側依序具備第1透明樹脂膜、紅外線反射層、及偏光元件,紅外線反射層依序具備第1無機氧化物層、金屬層、及第2無機氧化物層。
Description
本發明係關於一種偏光膜、相位差膜、及圖像顯示裝置用保護板,詳細而言,係關於一種較佳地用於光學用途之偏光膜、相位差膜、及圖像顯示裝置用保護板。
作為數位標牌或資訊顯示器,大型液晶顯示器正廣泛普及。該等大型液晶顯示器多設置於室外,故為了防止破損,將玻璃板等保護板設置於表面。而且,為了防止太陽光等較強之外界光之映入或反射,於保護板之表面設置抗反射膜,以使視認性良好(參照專利文獻1)。 此外,於設置於室外之液晶圖像顯示裝置中,作為除外界光映入以外之不良,可舉出因太陽光造成之熱損傷。即,有液晶單元等內部零件被過度地加熱而劣化之不良。因此,研究將紅外線反射膜設置於保護板之表面(參照專利文獻2)。 專利文獻2之紅外線反射膜揭示一種於透明膜基材上依序具備包含第一金屬氧化物層、金屬層及第二金屬氧化物層之紅外線反射層之紅外線反射膜。 專利文獻2之紅外線反射膜具備金屬層,故與其他紅外線反射膜相比較,發揮良好之紅外線反射功能。 先前技術文獻 專利文獻 專利文獻1:日本專利特開平11-258592號公報 專利文獻2:日本專利特開2014-167617號公報
[發明所欲解決之問題] 然而,專利文獻2之紅外線反射膜有如下之不良,即,不僅近紅外區域(例如,800~1600 nm之波長區域)反射,而且可見光、尤其靠近近紅外區域之可見光(例如,波長600~800 nm之紅色光)亦反射。因此,對於外界光映入之抑制存在改良之餘地。 又,若將液晶圖像顯示裝置放置於雨天等濕潤環境下,則有水滲入至專利文獻2之紅外線反射膜與保護板之間之虞。此時,有於透濕度較小之紅外線反射層(尤其金屬層)與保護板之間水不會被排出而過度地蓄積水之情形,其結果會使保護板內部產生模糊,從而產生透明性降低之不良。又,有因過度地蓄積之水之存在而促進金屬層之腐蝕,從而導致外觀惡化之情形。再者,因水之存在而導致之外觀惡化於包含氧化物之紅外線反射膜中並不會產生,而是具備金屬層之紅外線反射膜所固有之課題。 本發明之目的在於提供一種可反射紅外線並抑制外界光之可見光之反射,且可抑制濕潤環境下之透明性降低及外觀惡化之圖像顯示裝置用保護板、偏光膜及相位差膜。 [解決問題之技術手段] 本發明[1]包含一種偏光膜,其於厚度方向一側依序具備第1透明樹脂膜、紅外線反射層、及偏光元件,上述紅外線反射層依序具備第1無機氧化物層、金屬層、及第2無機氧化物層。 本發明[2]包含如[1]之偏光膜,其中於上述紅外線反射層與上述偏光元件之間進而具備1/4波長層。 本發明[3]包含如[1]或[2]之偏光膜,其中於上述紅外線反射層與上述偏光元件之間進而具備第2透明樹脂膜,上述第2透明樹脂膜之厚度為10 μm以上且100 μm以下。 本發明[4]包含如[1]至[3]中任一項之偏光膜,其中於上述偏光元件之上述厚度方向一側進而具備第3透明樹脂膜。 本發明[5]包含如[4]之偏光膜,其中上述第3透明樹脂膜係紫外線吸收層。 本發明[6]包含如[1]至[5]中任一項之偏光膜,其中於上述第1透明樹脂膜與上述紅外線反射層之間進而具備第1黏著劑層。 本發明[7]包含如[1]至[6]中任一項之偏光膜,其中上述第1透明樹脂膜之透濕度為5 g/m2
∙24 h以上。 本發明[8]包含如[1]至[7]中任一項之偏光膜,其中上述金屬層係銀層或銀合金層。 本發明[9]包含如[1]至[8]中任一項之偏光膜,其中上述第1無機氧化物層及上述第2無機氧化物層含有銦系氧化物。 本發明[10]包含一種圖像顯示裝置用保護板,其具備如[1]至[9]中任一項之偏光膜、設置於上述偏光膜之上述厚度方向一側之第2黏著劑層、及設置於上述第2黏著劑層之上述厚度方向一側之透明保護板。 本發明[11]包含一種相位差膜,其於厚度方向一側依序具備第1透明樹脂膜、紅外線反射層、及1/4波長層,上述紅外線反射層依序具備第1無機氧化物層、金屬層、及第2無機氧化物層。 本發明[12]包含如[11]之相位差膜,其進而具備第2透明樹脂膜,上述第2透明樹脂膜之厚度為10 μm以上且100 μm以下。 本發明[13]包含如[11]或[12]中任一項之相位差膜,其中於上述第1透明樹脂膜與上述紅外線反射層之間進而具備第1黏著劑層。 [發明之效果] 根據具備本發明之偏光膜及相位差膜之本發明之圖像顯示裝置用保護板,可反射紅外線。因此,可抑制圖像顯示裝置之內部零件之溫度上升,從而降低圖像顯示裝置之劣化。 又,可抑制外界光之可見光之反射,故可減少外界光之映入。 又,於濕潤環境下,可抑制圖像顯示裝置用保護板之模糊,故可維持透明性。又,於濕潤環境下,可抑制金屬層之腐蝕,從而可維持良好之外觀。
1.偏光膜 參照圖1,對本發明之偏光膜1之一實施形態進行說明。 於圖1中,紙面上下方向為上下方向(厚度方向、第1方向),紙面上側為上側(厚度方向一側、第1方向一側),紙面下側為下側(厚度方向另一側、第1方向另一側)。又,紙面左右方向及深度方向為與上下方向正交之面方向。具體依據各圖之方向箭頭。 偏光膜1呈具有特定之厚度之膜形狀(包含片形狀),於與厚度方向正交之面方向上延伸,且具有平坦之上表面及平坦之下表面(2個主面)。偏光膜1例如係圖像顯示裝置(液晶圖像顯示裝置等)所具備之一零件,亦即並非圖像顯示裝置。即,偏光膜1係用以製作圖像顯示裝置等之零件,且係不包含液晶單元19等圖像顯示元件或LED等光源20而單獨流通且於產業上可利用之器件。 具體而言,如圖1所示,偏光膜1依序具備第1透明樹脂膜2、第1黏著劑層3、紅外線反射層4、第1之1/4波長層5、第3黏著劑層6、第2透明樹脂膜7、偏光元件8、第2之1/4波長層9、第4黏著劑層10、及第3透明樹脂膜11。較佳為偏光膜1僅包含第1透明樹脂膜2、第1黏著劑層3、紅外線反射層4、第1之1/4波長層5、第3黏著劑層6、第2透明樹脂膜7、偏光元件8、第2之1/4波長層9、第4黏著劑層10、及第3透明樹脂膜11。以下,對各層詳細地進行敍述。 (第1透明樹脂膜) 第1透明樹脂膜2係偏光膜1之最下層,且係用以確保偏光膜1之機械強度之支持材。又,第1透明樹脂膜2係用以使滲入至偏光膜1或圖像顯示裝置用保護板18內部之水向偏光膜1外部(圖1中為下側)透過及排出之透水層。 第1透明樹脂膜2具有透明性、可撓性及透濕性。 作為構成第1透明樹脂膜2之材料,可舉出例如三乙醯纖維素(TAC,triacetyl cellulose)等纖維素樹脂、例如環烯烴聚合物等環狀聚烯烴樹脂、例如丙烯酸系樹脂、苯基馬來醯亞胺樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚酯樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚醯胺樹脂、聚苯乙烯樹脂等。該等材料可單獨使用或將2種以上併用。自透明性、機械強度、透濕性、光學等向性等觀點而言,較佳可舉出環狀聚烯烴樹脂、纖維素樹脂,更佳可舉出纖維素樹脂,進而佳可舉出TAC。 又,第1透明樹脂膜2亦可含有下述紫外線吸收劑等公知之添加劑。 再者,第1透明樹脂膜2較佳為實質上不具有延遲。所謂實質上不具有延遲係指波長550 nm時之延遲於厚度方向上例如為20 nm以下,較佳為10 nm以下,更佳為5 nm以下,進而佳為0 nm。 第1透明樹脂膜2之厚度例如為5 μm以上,較佳為10 μm以上,更佳為20 μm以上,又,例如為300 μm以下,較佳為200 μm以下,更佳為100 μm以下。 再者,第1透明樹脂膜2等各層(除紅外線反射層4以外)之厚度例如可使用膜厚計(Peacock公司製造,「數位度盤規DG-205」)測定。又,亦可藉由取得及觀察剖面SEM(scanning electron microscope,掃描式電子顯微鏡)像而測定厚度。 第1透明樹脂膜2之透濕度例如為5 g/m2
∙24 h以上,較佳為10 g/m2
∙24 h以上,更佳為30 g/m2
∙24 h以上,進而佳為50 g/m2
∙24 h以上,尤佳為100 g/m2
∙24 h以上,又,例如為5000 g/m2
∙24 h以下,較佳為3000 g/m2
∙24 h以下,更佳為1500 g/m2
∙24 h以下,進而佳為1000 g/m2
∙24 h以下,尤佳為800 g/m2
∙24 h以下。藉由將透濕度設為上述下限以上,可將滲入至偏光膜1內部之水、尤其滲入至第1透明樹脂膜2與紅外線反射層4之間之水快速地排出至外部,從而可抑制該等之間之水之滯留。其結果可抑制偏光膜1之模糊或金屬層13之腐蝕。另一方面,藉由將透濕度設為上述上限以下,可防止水過度地滲入至第1透明樹脂膜2與紅外線反射層4之間,從而可抑制金屬層13之腐蝕。 透濕度例如可藉由依據JIS K 7129:2008附錄B之試驗而測定。具體而言,使用MOCON公司製造之測定裝置「PERMATRAN W3/33」而求出,該試驗條件為40℃、相對濕度90%。 又,對於第1透明樹脂膜2之下表面,視需要亦可實施表面處理。作為表面處理,可實施例如濺鍍、電暈放電、火焰、紫外線照射、電子束照射、化學處理、氧化等蝕刻處理或底塗處理。又,可藉由溶劑清洗、超音波清洗等對第1透明樹脂膜2進行除塵、淨化。 (第1黏著劑層) 第1黏著劑層3係用以將第1透明樹脂膜2與紅外線反射層4接著,且將存在於紅外線反射層4之表面之水經由第1透明樹脂膜2、或通過第1黏著劑層3之端部而排出至外部之層。第1黏著劑層3具有膜形狀(包含片形狀),且以與第1透明樹脂膜2之上表面接觸之方式配置於第1透明樹脂膜2之整個上表面。 第1黏著劑層3係由黏著劑組合物調製。黏著劑組合物之組成並無限定,可舉出例如丙烯酸系黏著劑、橡膠系黏著劑(丁基橡膠等)、矽酮系黏著劑、聚酯系黏著劑、聚胺基甲酸酯系黏著劑、聚醯胺系黏著劑、環氧系黏著劑、乙烯基烷基醚系黏著劑、氟樹脂系黏著劑等,自接著性、透濕性之觀點而言,較佳可舉出丙烯酸系黏著劑。 黏著劑組合物例如亦可含有填充劑、抗氧化劑、軟化劑、觸變劑、滑劑、顏料、抗焦化劑、穩定劑、紫外線吸收劑、著色劑、防黴劑、阻燃劑等添加劑。 黏著劑組合物較佳為含有抗氧化劑。抗氧化劑並無限定,但較佳可舉出苯并***系化合物。作為苯并***系化合物,可舉出例如1,2,3-苯并***、5-甲基-1H-苯并***、4-甲基苯并***、硝基苯并***系等。抗氧化劑相對於黏著劑組合物之含量例如為0.01質量%以上且10質量%以下。 第1黏著劑層3之厚度例如為1 μm以上,較佳為5 μm以上,更佳為10 μm以上,又,例如為300 μm以下,較佳為150 μm以下,更佳為50 μm以下。藉由將第1黏著劑層3之厚度設為上述下限以上而使接合性優異。又,藉由將第1黏著劑層3之厚度設為上述上限以下而使操作性優異。 第1黏著劑層3等黏著劑層之厚度例如可使用膜厚計(Peacock公司製造,「數位度盤規DG-205」)測定。又,亦可藉由取得及觀察剖面SEM像而測定厚度。 (紅外線反射層) 紅外線反射層4係用以反射入射至偏光膜1之紅外線並使可見光透過之層。 紅外線反射層4具有膜形狀(包含片形狀),且以與第1黏著劑層3之上表面接觸之方式配置於第1黏著劑層3之整個上表面。 紅外線反射層4自下方依序具備第1無機氧化物層12、金屬層13、及第2無機氧化物層14。亦即,紅外線反射層4具備配置於第1黏著劑層3之上側之第1無機氧化物層12、配置於第1無機氧化物層12之上側之金屬層13、及配置於金屬層13之上側之第2無機氧化物層14。又,紅外線反射層4較佳為僅包含第1無機氧化物層12、金屬層13、及第2無機氧化物層14。 紅外線反射層4之厚度,即,第1無機氧化物層12、金屬層13及第2無機氧化物層14之總厚度例如為20 nm以上,較佳為60 nm以上,又,例如為150 nm以下,較佳為120 μm以下,更佳為100 nm以下。 (第1無機氧化物層) 第1無機氧化物層12係與下述第2無機氧化物層14一併用以抑制金屬層13之可見光反射,使紅外線反射層4之可見光透過率提高之光學調整層。 又,第1無機氧化物層12亦為用以防止因第1透明樹脂膜2或第1黏著劑層3中含有之氫或碳等成分侵入至金屬層13而導致金屬層13之劣化之障壁層。 第1無機氧化物層12係紅外線反射層4中之最下層,具有膜形狀(包含片形狀),且以與第1黏著劑層3之上表面接觸之方式配置於第1黏著劑層3之整個上表面。 作為形成第1無機氧化物層12之無機氧化物,可舉出例如由選自由In、Sn、Zn、Ga、Sb、Ti、Si、Zr、Mg、Al、Au、Ag、Cu、Pd、W、Fe、Pb、Ni、Nb、Cr所組成之群中之至少1種金屬所形成之金屬氧化物等。於金屬氧化物中,視需要可進而摻雜上述群中所示之金屬原子。 作為無機氧化物,自確保優異之透明性之觀點而言,較佳可舉出含有氧化銦之氧化物(銦系氧化物),更佳可舉出銦錫複合氧化物(ITO)。本說明書中之“ITO”只要為至少包含銦(In)與錫(Sn)之複合氧化物即可,亦可包含該等以外之追加成分。作為追加成分,可舉出例如除In、Sn以外之金屬元素,例如可舉出上述群中所示之金屬元素、及該等之組合。追加成分之含量並未特別限制,例如為5質量%以下。 ITO中含有之氧化錫(SnO2
)之含量相對於氧化錫及氧化銦(In2
O3
)之合計量例如為0.5質量%以上,較佳為3質量%以上,又,例如為35質量%以下,較佳為20質量%以下。氧化銦之含量(In2
O3
)為氧化錫(SnO2
)之含量之剩餘部分。藉由將ITO中含有之氧化錫(SnO2
)之含量設為上述範圍而可調整ITO膜之結晶度。 第1無機氧化物層12可為晶質,又,亦可為非晶質。較佳為非晶質。藉此,可減少製造步驟(例如,用以獲得晶質之加熱步驟)上之不良。 第1無機氧化物層12之厚度例如為5 nm以上,較佳為20 nm以上,又,例如為100 nm以下,較佳為60 nm以下。只要第1無機氧化物層12之厚度為上述範圍,則易將紅外線反射層4之可見光透過率調整至較高之水準。第1無機氧化物層12之厚度例如藉由利用透過型電子顯微鏡(TEM)進行之剖面觀察而測定。 (金屬層) 金屬層13係用以反射紅外線、且對第1無機氧化物層12及第2無機氧化物層14一併賦予透明性(可見光透過性)之層。 金屬層13具有膜形狀(包含片形狀),且以與第1無機氧化物層12之上表面接觸之方式配置於第1無機氧化物層12之上表面。 形成金屬層13之金屬只要為紅外線之反射率較高之金屬則並無限定,可舉出例如包含選自由Ti、Si、Nb、In、Zn、Sn、Au、Ag、Cu、Al、Co、Cr、Ni、Pb、Pd、Pt、Cu、Ge、Ru、Nd、Mg、Ca、Na、W、Zr、Ta及Hf所組成之群中之1種金屬、或含有其等之2種以上之金屬之合金。 作為金屬,自發揮優異之紅外線反射性之觀點而言,較佳可舉出銀(Ag)、銀合金,更佳可舉出銀合金。 銀合金含有銀作為主成分,且含有其他金屬作為副成分。副成分之金屬元素並無限定。作為銀合金,可舉出例如Ag-Cu合金、Ag-Pd合金、Ag-Pd-Cu合金、Ag-Pd-Cu-Ge合金、Ag-Cu-Au合金、Ag-Cu-In合金、Ag-Cu-Sn合金、Ag-Ru-Cu合金、Ag-Ru-Au合金、Ag-Nd合金、Ag-Mg合金、Ag-Ca合金、Ag-Na合金、Ag-Ni合金、Ag-Ti合金、Ag-In合金、Ag-Sn合金等。自耐久性之觀點而言,作為銀合金,較佳可舉出Ag-Cu合金、Ag-Cu-In合金、Ag-Cu-Sn合金、Ag-Pd合金、Ag-Pd-Cu合金等。 銀合金中之銀之含有比例例如為80質量%以上,較佳為90質量%以上,又,例如為99.9質量%以下。銀合金中之其他金屬之含有比例為上述銀之含有比例之剩餘部分。 自紅外線反射性及透明性之觀點而言,金屬層13之厚度例如為1 nm以上,較佳為5 nm以上,更佳為10 nm以上,進而佳為14 nm以上,又,例如為80 nm以下,較佳為30 nm以下,更佳為25 nm以下,進而佳為20 nm以下,尤佳為15 nm以下。尤其於金屬層13之厚度為14 nm以上且80 nm以下之情形時,可更進一步抑制濕潤環境下產生之外觀惡化。金屬層13之厚度例如藉由利用透過型電子顯微鏡(TEM)進行之剖面觀察而測定。 (第2無機氧化物層) 第2無機氧化物層14係與第1無機氧化物層12一併用以抑制金屬層13之可見光反射率,使紅外線反射層4之可見光透過率提高之光學調整層。又,第2無機氧化物層14係用以防止因外部之氧或水分等侵入至金屬層13而導致金屬層13之劣化之障壁層。 第2無機氧化物層14係紅外線反射層4中之最上層,具有膜形狀(包含片形狀),且以與金屬層13之上表面接觸之方式配置於金屬層13之整個上表面。 形成第2無機氧化物層14之無機氧化物可舉出第1無機氧化物層12中所例示之無機氧化物,較佳為含有氧化銦,更佳為包含ITO。 於第2無機氧化物層14包含ITO之情形時,ITO中含有之氧化錫(SnO2
)之含量與第1無機氧化物層12相同。 第2無機氧化物層14可為晶質,又,亦可為非晶質。自可減少製造步驟(例如,用以獲得晶質之高熱加熱步驟)上之不良之觀點而言,較佳為非晶質。又,自耐濕性之觀點而言,較佳為非晶質膜中包含晶粒之半晶質。 第2無機氧化物層14之厚度例如為5 nm以上,較佳為20 nm以上,又,例如為100 nm以下,較佳為60 nm以下。只要第2無機氧化物層14之厚度為上述範圍,則易將紅外線反射層4之可見光透過率調整至較高之水準。第2無機氧化物層14之厚度例如藉由利用透過型電子顯微鏡(TEM)進行之剖面觀察而測定。 第2無機氧化物層14之厚度T2相對於第1無機氧化物層12之厚度T1之比(T2/T1)例如為0.5以上,較佳為0.75以上,又,例如為1.5以下,較佳為1.25以下。只要比(T2/T1)為上述範圍,則可更進一步抑制濕潤環境下之金屬層13之劣化。 第2無機氧化物層14之厚度T2相對於金屬層13之厚度T3之比(T2/T3)例如為1.5以上,較佳為2.0以上,更佳為3.0以上,又,例如為10以下,較佳為4.0以下。 (第1之1/4波長層) 第1之1/4波長層5係用以將已通過下述偏光元件8之直線偏振光轉換成大致圓偏振光之層。 第1之1/4波長層5具有膜形狀(包含片形狀),且以與紅外線反射層4之上表面接觸之方式配置於紅外線反射層4之整個上表面。 第1之1/4波長層5之波長550 nm時之延遲例如為137.5 nm±40 nm之範圍,較佳為137.5 nm±20 nm之範圍,更佳為137.5 nm±10 nm之範圍。 又,第1之1/4波長層5之遲相軸方向相對於偏光元件8之吸收軸方向之角度例如為45°±10°之範圍,較佳為45°±2°之範圍。 作為第1之1/4波長層5,具體而言,可舉出將樹脂膜延伸後之延伸膜、將液晶聚合物配向處理後之膜等。作為樹脂膜之材料,可舉出環烯烴聚合物等環狀聚烯烴樹脂、聚碳酸酯樹脂等。 第1之1/4波長層5之厚度例如為3 μm以上,較佳為10 μm以上,又,例如為300 μm以下,較佳為100 μm以下。 (第3黏著劑層) 第3黏著劑層6係用以將第1之1/4波長層5與第2透明樹脂膜7接著之層。 第3黏著劑層6具有膜形狀(包含片形狀),且以與第1之1/4波長層5之上表面接觸之方式配置於第1之1/4波長層5之整個上表面。 第3黏著劑層6係由黏著劑組合物調製。黏著劑組合物可舉出例如第1黏著劑層3中之上述黏著劑組合物,較佳為丙烯酸系黏著劑。 第3黏著劑層6之厚度例如為1 μm以上,較佳為5 μm以上,又,例如為300 μm以下,較佳為150 μm以下,更佳為50 μm以下。藉由將第3黏著劑層6之厚度設為上述下限以上而使接合性優異。又,藉由將第3黏著劑層6之厚度設為上述上限以下而使透濕性優異。 (第2透明樹脂膜) 第2透明樹脂膜7係支持偏光元件8(下述)之層。又,第2透明樹脂膜7亦為藉由使偏光元件8中含有之水分散至或通過第2透明樹脂膜7內部而降低熱環境下之偏光元件8之變質之層。又,第2透明樹脂膜7亦為藉由擴大紅外線反射層4與透明保護板17(下述)之距離,且使貯存於紅外線反射層4表面之水分散至第2透明樹脂膜7內部、或通過第2透明樹脂膜7之端部進行除水,而用以抑制模糊或金屬層13之腐蝕之層。 第2透明樹脂膜7具有膜形狀(包含片形狀),且以與第3黏著劑層6之上表面接觸之方式配置於第3黏著劑層6之整個上表面。 構成第2透明樹脂膜7之材料可舉出第1透明樹脂膜2中之上述材料,較佳可舉出環狀聚烯烴樹脂、纖維素樹脂,更佳可舉出纖維素樹脂,進而佳可舉出TAC。 又,第2透明樹脂膜7亦可含有下述紫外線吸收劑等公知之添加劑。 第2透明樹脂膜7之厚度例如為3 μm以上,較佳為10 μm以上,又,例如為200 μm以下,較佳為100 μm以下。藉由將第2透明樹脂膜7之厚度設為上述下限以上而具有支持偏光元件8之功能。又,藉由將厚度設為上述上限以下而可保持充分之透濕性,容易抑制熱環境下之偏光元件8之變質。 第2透明樹脂膜7之透濕度例如為5 g/m2
∙24 h以上,較佳為10 g/m2
∙24 h以上,更佳為30 g/m2
∙24 h以上,進而佳為50 g/m2
∙24 h以上,尤佳為100 g/m2
∙24 h以上,又,例如為5000 g/m2
∙24 h以下,較佳為3000 g/m2
∙24 h以下,更佳為1500 g/m2
∙24 h以下,進而佳為1000 g/m2
∙24 h以下,尤佳為800 g/m2
∙24 h以下。藉由將第2透明樹脂膜7之透濕度設為上述範圍而可有效地降低熱環境下之偏光元件8之變質。 (偏光元件) 偏光元件8係用以將光轉換成直線偏振光之層。 偏光元件8具有膜形狀(包含片形狀),且以與第2透明樹脂膜7之上表面接觸之方式配置於第2透明樹脂膜7之整個上表面。 作為偏光元件8,可舉出例如使聚乙烯醇膜(PVA,polyvinyl alcohol)、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性樹脂膜吸附二色性物質(碘、二色性染料)且單軸延伸之膜等。又,亦可舉出聚乙烯醇之脫水處理物、聚氯乙烯之脫氯處理物等聚乙烯系膜等。 偏光元件8之厚度例如為1 μm以上,較佳為3 μm以上,更佳為5 μm以上,又,例如為200 μm以下,較佳為100 μm以下,更佳為50 μm以下,進而佳為30 μm以下。 (第2之1/4波長層) 第2之1/4波長層9係用以使自光源20入射至偏光元件8之光以圓偏振光射出之層。 第2之1/4波長層9具有膜形狀(包含片形狀),且以與偏光元件8之上表面接觸之方式配置於偏光元件8之整個上表面。 第2之1/4波長層9只要將已通過偏光元件8之直線偏振光轉換成大致圓偏振光即可,可舉出與第1之1/4波長層5相同者。 (第4黏著劑層) 第4黏著劑層10係用以將第2之1/4波長層9與第3透明樹脂膜11接著之層。 第4黏著劑層10具有膜形狀(包含片形狀),且以與第2之1/4波長層9之上表面接觸之方式配置於第2之1/4波長層9之整個上表面。 第4黏著劑層10係由黏著劑組合物調製。黏著劑組合物可舉出例如第1黏著劑層3中之上述黏著劑組合物,較佳可舉出丙烯酸系黏著劑。 第4黏著劑層10之厚度例如為1 μm以上,較佳為5 μm以上,又,例如為300 μm以下,較佳為150 μm以下,更佳為50 μm以下。 (第3透明樹脂膜) 第3透明樹脂膜11係用以吸收外界光之紫外線,降低偏光元件8之劣化之紫外線吸收層。 第3透明樹脂膜11係偏光膜1之最上層,具有膜形狀(包含片形狀),且以與第4黏著劑層10之上表面接觸之方式配置於第4黏著劑層10之整個上表面。 第3透明樹脂膜11具備紫外線吸收性。具體而言,例如含有透明樹脂膜、及紫外線吸收劑。 構成透明樹脂膜之材料可舉出第1透明樹脂膜2中之上述材料,較佳可舉出纖維素樹脂,更佳可舉出TAC等。 紫外線吸收劑之材料並無限定,可舉出例如苯并***系化合物、羥苯基三氮雜苯系化合物、二苯甲酮系化合物、水楊酸酯系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、鎳錯合鹽系化合物等。 紫外線吸收劑之含量相對於第3透明樹脂膜11總量例如為0.001質量%以上,較佳為0.1質量%以上,又,例如為20質量%以下,較佳為5質量%以下。 第3透明樹脂膜11較佳為實質上不具有延遲。 第3透明樹脂膜11之厚度例如為1 μm以上,較佳為5 μm以上,更佳為10 μm以上,又,例如為300 μm以下,較佳為100 μm以下,更佳為70 μm以下。 (偏光膜之製造方法) 其次,說明製造偏光膜1之方法。為製造偏光膜1,例如將上述各層以上述順序而配置(積層)。 例如,尤其分別準備(1)第1透明樹脂膜2、(2)包含紅外線反射層4及第1之1/4波長層5之第1積層體、(3)包含第2透明樹脂膜7、偏光元件8及第2之1/4波長層9之第2積層體、以及(4)第3透明樹脂膜11,且將其等經由黏著劑層(第1黏著劑層3、第3黏著劑層6、第4黏著劑層10)而配置。 第1透明樹脂膜2、第2積層體及第3透明樹脂膜11可使用公知或市售者。 第1積層體例如係將紅外線反射層4藉由乾式而積層於公知或市售之第1之1/4波長層5之一面。 具體而言,將第2無機氧化物層14、金屬層13及第1無機氧化物層12之各者依序藉由乾式而配置於第1之1/4波長層5之一面。 作為乾式,可舉出例如真空蒸鍍法、濺鍍法、離子鍍覆法等。較佳可舉出濺鍍法。具體而言,可舉出磁控濺鍍法。 作為濺鍍法中使用之氣體,可舉出例如Ar等惰性氣體。又,視需要可併用氧氣等反應性氣體。於併用反應性氣體之情形時,反應性氣體之流量比並無特別限定,以反應性氣體之流量相對於惰性氣體之流量之比計,例如為0.1/100以上,較佳為1/100以上,又,例如為5/100以下。 具體而言,於第1無機氧化物層12及第2無機氧化物層14之形成中,作為氣體,較佳為併用惰性氣體及反應性氣體。於金屬層13之形成中,作為氣體,較佳為單獨使用惰性氣體。 於採用濺鍍法之情形時,作為靶材,可舉出構成各層之上述無機氧化物或金屬。 濺鍍法中使用之電源並無限定,可舉出例如DC(direct current,直流)電源、MF/AC(Middle Frequency/Alternating Current,中頻/交流)電源及RF(radio frequency,射頻)電源之單獨使用或併用,較佳可舉出DC電源。 藉此,於第1之1/4波長層5之一面形成由第2無機氧化物層14、金屬層13及第1無機氧化物層12依序形成之紅外線反射層4,獲得第1積層體。 再者,藉由乾式而獲得之第1無機氧化物層12及第2無機氧化物層14為非晶質。由此,為了將其等結晶化,視需要亦可實施加熱處理。 繼而,將各膜及積層體經由黏著劑層而配置。 黏著劑層例如可藉由將液狀之黏著劑組合物塗佈於各膜或積層體之一面並使其乾燥而配置,或亦可將片狀之黏著劑組合物(黏著劑層)直接配置於各膜或積層體之一面。 藉此,獲得偏光膜1。 偏光膜1之總厚度例如為2 μm以上,較佳為20 μm以上,更佳為50 μm以上,進而佳為100 μm以上,又,例如為1000 μm以下,較佳為500 μm以下,更佳為300 μm以下,進而佳為200 μm以下,尤佳為150 μm以下。 於該偏光膜1中,波長800~1600 nm之近紅外線之平均反射率例如為10%以上,較佳為20%以上,更佳為30%以上,又,例如為100%以下。 偏光膜1之可見光透過率例如為60%以上,較佳為80%以上,更佳為85%以上,又,例如為95%以下。 (作用效果) 該偏光膜1依序具備第1透明樹脂膜2、紅外線反射層4、及偏光元件8。又,紅外線反射層4依序具備第1無機氧化物層12、金屬層13、及第2無機氧化物層14。 因此,金屬層13於近紅外線區域(尤其800~1600 nm)之反射率優異,故可抑制因外界光導致之內部零件(液晶單元19等)之溫度上升,從而降低圖像顯示裝置之劣化。 又,該偏光膜1亦可抑制可見光區域、尤其是紅外線區域附近之可見光(例如,600~800 nm)之反射光。具體而言,紅外線反射層4亦少量反射近外線區域附近之可見光(例如,600~800 nm)之光。然而,對於該偏光膜1,於圖像顯示裝置中,將紅外線反射層4配置於較偏光元件8更靠液晶單元19側(與保護板18相反側),故於紅外線反射層4反射且返回至視認側之外界光通過偏光元件8而成為光之一部分被吸收之直線偏振光。因此,返回至視認側之外界光減少,從而可降低外界光之映入。又,於將第1之1/4波長層5配置於偏光元件8與紅外線反射層4之間之偏光膜1中,於紅外線反射層4反射且返回至視認側之外界光被偏光元件8吸收,未向視認側出射。因此,可大幅降低來自紅外線反射層4之反射光之紅色感。 又,由於將紅外線反射層4積層於第1透明樹脂膜2,故可將滲入至紅外線反射層4附近之水經由第1透明樹脂膜2而適度地排出至外部。因此,可抑制偏光膜1之模糊或金屬層13之腐蝕。由此,可維持偏光膜1之透明性。 尤其是,若該第1透明樹脂膜2之透濕度為5 g/m2
∙24 h以上,則可更確實地將水排出至外部。因此,可更進一步抑制偏光膜1之模糊或金屬層13之腐蝕。 又,於紅外線反射層4與偏光元件8之間具備第2透明樹脂膜7。而且,尤其是,若該第2透明樹脂膜7之厚度為10 μm以上且100 μm以下,則於紅外線反射層4與偏光元件8之間產生可使水分散之空間(第2透明樹脂膜7),故可更進一步抑制偏光膜1之模糊。 又,偏光膜1於紅外線反射層4與偏光元件8之間進而具備第1之1/4波長層5。因此,可更確實地抑制外界光之映入。具體而言,外界光藉由偏光元件8與第1之1/4波長層5而轉換成圓偏振光。其後,圓偏振光藉由液晶單元19而反射,再次藉由第1之1/4波長層5而轉換成直線偏振光。此時之直線偏振光(外界光)與偏光元件8之吸收軸一致,故被偏光元件8完全吸收。 又,偏光膜1於偏光元件8之上側(視認側)進而具備第3透明樹脂膜11。而且,若第3透明樹脂膜11為紫外線吸收層,則可降低偏光元件8之劣化。 又,偏光膜1於第1透明樹脂膜2與紅外線反射層4之間進而具備第1黏著劑層3。因此,可將貯存於紅外線反射層4之表面之水經由第1透明樹脂膜2而確實地排出至外部。 又,若金屬層13為銀層或銀合金層,則可更確實地反射紅外線。 又,若第1無機氧化物層12及第2無機氧化物層14均含有銦系導電性氧化物,則可見光透過率更進一步優異。 再者,構成偏光膜1之構件中較偏光元件8更靠下側之部分,即,第1透明樹脂膜2、第1黏著劑層3、紅外線反射層4、第1之1/4波長層5、第3黏著劑層6、第2透明樹脂膜7構成本發明之相位差膜15之一實施形態。具體而言,相位差膜15之一實施形態依序具備第1透明樹脂膜2、第1黏著劑層3、紅外線反射層4、第1之1/4波長層5、第3黏著劑層6、及第2透明樹脂膜7。 相位差膜15呈具有特定之厚度之膜形狀(包含片形狀),於與厚度方向正交之面方向延伸,且具有平坦之上表面及平坦之下表面(2個主面)。相位差膜15例如係圖像顯示裝置(液晶圖像顯示裝置等)中所具備之一零件,亦即並非圖像顯示裝置。即,偏光膜1係用以製作圖像顯示裝置等之零件,且係不包含液晶單元19等圖像顯示元件或LED等光源20而單獨流通且於產業上可利用之器件。 該相位差膜15可反射紅外線,並於濕潤環境下亦可維持透明性。又,藉由配置偏光元件8而可有效地抑制外界光之可見光反射。 偏光膜1及相位差膜15例如配備於光學裝置中。作為光學裝置,可舉出例如液晶圖像顯示裝置等圖像顯示裝置、調光裝置等。更具體而言,偏光膜1及相位差膜15可較佳地用作配置於圖像顯示裝置之前表面(視認側面)之圖像顯示裝置用保護板18。 2.圖像顯示裝置用保護板 將圖像顯示裝置用保護板18之一實施形態示於圖2。 如圖2所示,圖像顯示裝置用保護板18自下方依序具備偏光膜1、第2黏著劑層16、及透明保護板17。再者,上側為視認側,下側為液晶單元側。 第2黏著劑層16係用以將偏光膜1與透明保護板17接著之層。 第2黏著劑層16具有膜形狀(包含片形狀),且以與第3透明樹脂膜11之上表面接觸之方式配置於第3透明樹脂膜11之整個上表面。 第2黏著劑層16係由黏著劑組合物調製。黏著劑組合物可舉出例如第1黏著劑層3中之上述黏著劑組合物,較佳可舉出丙烯酸系黏著劑。 第2黏著劑層16之厚度例如為1 μm以上,較佳為5 μm以上,又,例如為300 μm以下,較佳為150 μm以下,更佳為50 μm以下。 透明保護板17係用以保護液晶單元19等圖像顯示裝置內部構件免受來自外部之衝擊或污垢影響之層。 透明保護板17具有俯視下大致平板形狀,且以與第2黏著劑層16之上表面接觸之方式配置於第2黏著劑層16之整個上表面。 透明保護板17為透明性,且具有適度之厚度及機械強度。 作為透明保護板17,可舉出例如由丙烯酸系樹脂、聚碳酸酯樹脂等硬質性樹脂構成之樹脂板,例如玻璃板等。 再者,於透明保護板17之上表面及/或下表面亦可形成抗反射層(AR)等功能層。 透明保護板17之厚度例如為10 μm以上,較佳為500 μm以上,又,例如為100 mm以下,較佳為10 mm以下,更佳為5 mm以下。 而且,圖像顯示裝置用保護板18例如與圖2之假想線所示之液晶單元19及光源20對向配置而使用。再者,液晶單元19並未圖示,其具備液晶層、夾著該液晶層之2片偏光元件、及彩色濾光片。 圖像顯示裝置用保護板18呈具有特定之厚度之膜形狀(包含片形狀),於與厚度方向正交之面方向延伸,且具有平坦之上表面及平坦之下表面(2個主面)。圖像顯示裝置用保護板18例如係圖像顯示裝置(液晶圖像顯示裝置等)中所具備之一零件,亦即並非圖像顯示裝置。即,偏光膜1係用以製作圖像顯示裝置等之零件,且係不包含液晶單元19等圖像顯示元件或LED等光源20而單獨流通且於產業上可利用之器件。 圖像顯示裝置用保護板18由於具備偏光膜1,故可反射紅外線並抑制外界光之可見光反射。又,於濕潤環境下亦可維持透明性。 3.變化例 參照圖3~圖8,對偏光膜1之變化例進行說明。再者,於其他實施形態中,對與上述圖1之實施形態相同之構件標註相同之參照符號,省略其詳細之說明。 於圖1中,偏光膜1自下方依序具備第1透明樹脂膜2、第1黏著劑層3、紅外線反射層4、第1之1/4波長層5、第3黏著劑層6、第2透明樹脂膜7、偏光元件8、第2之1/4波長層9、第4黏著劑層10、及第3透明樹脂膜11,但亦可例如圖3所示,將第1之1/4波長層5及第2透明樹脂膜7相互調換,進而,亦可將第2之1/4波長層9及第3透明樹脂膜11相互調換。即,亦可為偏光膜1自下方依序具備第1透明樹脂膜2、第1黏著劑層3、紅外線反射層4、第2透明樹脂膜7、第3黏著劑層6、第1之1/4波長層5、偏光元件8、第3透明樹脂膜11、第4黏著劑層10、及第2之1/4波長層9。 再者,該情形時,圖3所示之相位差膜15自下方依序具備第1透明樹脂膜2、第1黏著劑層3、紅外線反射層4、第2透明樹脂膜7、第3黏著劑層6、及第1之1/4波長層5。 圖3所示之偏光膜1及相位差膜15亦發揮與圖1所示之偏光膜1及相位差膜15相同之作用效果。 又,除圖3所示之實施形態外,亦可如圖4所示,偏光膜1不具備第3黏著劑層6及第2透明樹脂膜7。即,圖4所示之偏光膜1自下方依序具備第1透明樹脂膜2、第1黏著劑層3、紅外線反射層4、第1之1/4波長層5、偏光元件8、第3透明樹脂膜11、第4黏著劑層10、及第2之1/4波長層9。 再者,於該情形時,圖4所示之相位差膜15自下方依序具備第1透明樹脂膜2、第1黏著劑層3、紅外線反射層4、及第1之1/4波長層5。 圖4所示之偏光膜1及相位差膜15亦發揮與圖1所示之偏光膜1及相位差膜15相同之作用效果。自藉由具備第2透明樹脂膜7而可更進一步降低模糊或金屬層13之腐蝕之觀點而言,較佳可舉出圖1所示之偏光膜1及相位差膜15。 又,亦可如圖5所示,偏光膜1不具備第3黏著劑層6、第2之1/4波長層9、及第4黏著劑層10。即,圖5所示之偏光膜1自下方依序具備第1透明樹脂膜2、第1黏著劑層3、紅外線反射層4、第1之1/4波長層5、第2透明樹脂膜7、偏光元件8、及第3透明樹脂膜11。 再者,圖5所示之相位差膜15自下方依序具備第1透明樹脂膜2、第1黏著劑層3、紅外線反射層4、第1之1/4波長層5、及第2透明樹脂膜7。 圖5所示之偏光膜1及相位差膜15亦發揮與圖1所示之偏光膜1及相位差膜15相同之作用效果。 又,亦可如圖6所示,偏光膜1不具備第3黏著劑層6、第2透明樹脂膜7、第2之1/4波長層9、及第4黏著劑層10。即,圖6所示之偏光膜1自下方依序具備第1透明樹脂膜2、第1黏著劑層3、紅外線反射層4、第1之1/4波長層5、偏光元件8、及第3透明樹脂膜11。 再者,圖6所示之相位差膜15自下方依序具備第1透明樹脂膜2、第1黏著劑層3、紅外線反射層4、及第1之1/4波長層5。 圖6所示之偏光膜1及相位差膜15亦發揮與圖1所示之偏光膜1及相位差膜15相同之作用效果。自藉由具備第2透明樹脂膜7而可更進一步降低模糊或金屬層13之腐蝕之觀點而言,較佳可舉出圖1所示之偏光膜1及相位差膜15。 又,亦可如圖7所示,偏光膜1不具備第1黏著劑層3、第2透明樹脂膜7、第2之1/4波長層9、及第4黏著劑層10,又,亦可將第1之1/4波長層5及第3黏著劑層6相互調換。即,圖7所示之偏光膜1自下方依序具備第1透明樹脂膜2、紅外線反射層4、第3黏著劑層6、第1之1/4波長層5、偏光元件8、及第3透明樹脂膜11。 再者,圖7所示之相位差膜15自下方依序具備第1透明樹脂膜2、紅外線反射層4、第3黏著劑層6、及第1之1/4波長層5。 圖7所示之偏光膜1及相位差膜15亦發揮與圖1所示之偏光膜1及相位差膜15相同之作用效果。自藉由具備第1黏著劑層3及第2透明樹脂膜7而可更進一步降低模糊或金屬層13之腐蝕之觀點而言,較佳可舉出圖1所示之偏光膜1及相位差膜15。 又,亦可如圖8所示,偏光膜1不具備第1黏著劑層3、第1之1/4波長層5、第3黏著劑層6、第2透明樹脂膜7、第2之1/4波長層9、第4黏著劑層10、及第3透明樹脂膜11。即,圖8所示之偏光膜1自下方依序具備第1透明樹脂膜2、紅外線反射層4、及偏光元件8。 圖8所示之偏光膜1亦發揮與圖1所示之偏光膜1相同之作用效果。自藉由具備第1黏著劑層3及第2透明樹脂膜7而可更進一步降低模糊或金屬層13之腐蝕之觀點、以及藉由具備第1之1/4波長層5而可確實地降低外界光之映入之觀點而言,較佳可舉出圖1所示之偏光膜1及相位差膜15。 又,於圖1~圖8所示之偏光膜1中,將第3透明樹脂膜11設為紫外線吸收層,但例如第3透明樹脂膜亦可為非紫外線吸收層。於該情形時,圖像顯示裝置用保護板18中之第2黏著劑層16較佳設為能夠進行紫外線吸收之黏著劑層。具體而言,第2黏著劑層16例如含有紫外線吸收劑。此種圖像顯示裝置用保護板18亦發揮與具備圖1~圖8所示之偏光膜1之圖像顯示裝置用保護板18相同之作用效果。 又,雖未圖示,但紅外線反射層4亦可包含除第1無機氧化物層12、金屬層13、及第2無機氧化物層14以外之層。例如,於第2無機氧化物層14之與金屬層13相反之側亦可具備第2金屬層及第3無機氧化物層,於第3無機氧化物層之與第2金屬層相反之側亦可進而具備第3金屬層及第4無機氧化物層。 又,於第1透明樹脂膜2之一面或兩面,例如亦可進而具備防污層、密接、撥水層、抗反射層、抗低聚物層等功能層,從而可根據所需功能而適當應用。功能層較佳為含有包含有機樹脂之層。 實施例 以下表示實施例及比較例,對本發明更具體地進行說明。再者,本發明並不受實施例及比較例任何限定。又,於以下記載中使用之調配比例(含有比例)、物性值、參數等具體數值可代替上述「實施方式」中所記載之與其等對應之調配比例(含有比例)、物性值、參數等相關記載之上限值(被定義為「以下」、「未達」之數值)或下限值(被定義為「以上」、「超過」之數值)。 實施例1 如圖1所示,將TAC膜(厚度65 μm,第1透明樹脂膜)、丙烯酸系黏著劑層(厚度23 μm,第1黏著劑層)、紅外線反射層、λ/4板(厚度50 μm,第1之1/4波長層)、丙烯酸系黏著劑層(厚度23 μm,第3黏著劑層)、TAC膜(厚度40 μm,第2透明樹脂膜)、偏光元件(厚度22 μm,含浸碘之PVA)、λ/4板(厚度50 μm,第2之1/4波長層)、丙烯酸系黏著劑層(厚度23 μm,第4黏著劑層)、及含有紫外線吸收劑之TAC膜(厚度60 μm,第3透明樹脂膜)以自下方依序配置之方式積層,而製作實施例之偏光膜。 再者,作為紅外線反射層,使用包含非晶質ITO(厚度40 nm,第1無機氧化物層)、銀-銅合金(厚度8 nm,金屬層)及非晶質ITO(厚度40 nm,第2無機氧化物層)之積層體。 繼而,如圖2所示,於偏光膜之上表面依序積層丙烯酸系黏著劑層(厚度23 μm,第2黏著劑層)、低反射玻璃板(厚度5 mm,透明保護板),而製作圖像顯示裝置用保護板。 實施例2 除將紅外線反射層之金屬層之厚度變更為12 nm以外,以與實施例1相同之方法製作偏光膜及圖像顯示裝置用保護板。 實施例3 除將紅外線反射層之金屬層之厚度變更為20 nm以外,以與實施例1相同之方法製作偏光膜及圖像顯示裝置用保護板。 比較例1 如圖9所示,將TAC膜(厚度65 μm,第1透明樹脂膜)、丙烯酸系黏著劑層(厚度23 μm,第1黏著劑層)、λ/4板(厚度50 μm,第1之1/4波長層)、偏光元件(厚度22 μm,含浸碘之PVA)、TAC膜(厚度40 μm,第2透明樹脂膜)、丙烯酸系黏著劑層(厚度23 μm,第3黏著劑層)、λ/4板(厚度50 μm,第2之1/4波長層)、及紅外線反射層以自下方依序配置之方式積層,而製作比較例之偏光膜。 再者,紅外線反射層使用與實施例1之紅外線反射層相同者。 繼而,以與實施例1相同之方法,於偏光膜之上表面依序積層丙烯酸系黏著劑層(厚度23 μm,第2黏著劑層)、低反射玻璃板(厚度5 mm,透明保護板),而製作比較例之圖像顯示裝置用保護板。 (透濕度) 使用水蒸氣透過率測定裝置(「PERMATRAN W3/33」,MOCON公司製造),於溫度40℃、相對濕度90%之條件下測定第1透明樹脂膜、第2透明樹脂膜及第3透明樹脂膜之透濕度。各透明樹脂膜之透濕度均為200 g/m2
∙24 h以上且800 g/m2
∙24 h以下。 (反射率) 使用分光光度計(「U-4100」,日立高新技術公司製造)對各實施例及比較例之圖像顯示裝置用保護板照射可見光及紅外光,測定各波長下之光反射率。將此時之曲線圖示於圖10。又,將800~1600 nm下之近紅外線區域之平均反射率(波長5 nm間距之反射率之平均值)示於表1。 由圖10而明確可知,相對於比較例1之偏光膜,於實施例1~2之偏光膜中,可見光(尤其是波長600~800 nm之紅色光)之反射得以降低。又,亦可知良好地反射波長800~1600 nm之紅外線。進而,可知實施例2相對於實施例1,可見光之反射率大致相同,且更多地反射紅外線。又,與比較例1相比,實施例3之偏光膜為使紅外線大幅地較多反射之構成。因此,於紅外線區域附近之波長750~800 nm區域,光之反射較比較例1增加,但於波長600~750 nm以下之可見光區域,可見光反射較比較例1小。由此可知,即便設為紅外線反射率超過40%之高紅外線反射之偏光膜之情形時,亦可有效地抑制過半之紅色可見光波長區域之反射。 (濕潤環境下之模糊) 首先,對各實施例及比較例之圖像顯示裝置用保護板使用霧度計(「HGM-2DP」,Suga Test Instruments公司製造)測定加濕前之霧度。又,將各實施例及比較例之圖像顯示裝置用保護板於60℃、95%RH之濕潤條件下載置500小時之後,測定加濕後之霧度。將其等之結果示於表1。 (外觀) 將各實施例及比較例之圖像顯示裝置用保護板於60℃、95%RH之濕潤條件下載置500小時之後,藉由光學顯微鏡觀察(觀察面積:300 cm2
)而評價圖像顯示裝置用保護板之外觀(具體而言,紅外線反射層之點狀腐蝕)。 將完全未觀察到最長400 μm以上之外觀缺點(腐蝕)之情形評價為◎,將幾乎未觀察到最長400 μm以上之外觀缺點(腐蝕)之情形評價為○,將隨處可見最長400 μm以上之外觀缺陷之情形評價為×。將其結果示於表1。 [表1] 表1
再者,上述發明係作為本發明之例示之實施形態而提供,但其僅為例示,而並非限定性解釋。由該技術領域之業者明確之本發明之變化例包含於下述申請專利範圍。 [產業上之可利用性] 本發明之偏光膜、圖像顯示裝置用保護板及相位差膜可應用於各種工業製品,例如可較佳地用於液晶顯示器用構件等。
1‧‧‧偏光膜2‧‧‧第1透明樹脂膜3‧‧‧第1黏著劑層4‧‧‧紅外線反射層5‧‧‧第1之1/4波長層6‧‧‧第3黏著劑層7‧‧‧第2透明樹脂膜8‧‧‧偏光元件9‧‧‧第2之1/4波長層10‧‧‧第4黏著劑層11‧‧‧第3透明樹脂膜12‧‧‧第1無機氧化物層13‧‧‧金屬層14‧‧‧第2無機氧化物層15‧‧‧相位差膜16‧‧‧第2黏著劑層17‧‧‧透明保護板18‧‧‧圖像顯示裝置用保護板19‧‧‧液晶單元20‧‧‧光源
圖1係表示偏光膜之一實施形態之側視圖。 圖2係表示具備圖1所示之偏光膜之保護板之側視圖。 圖3係表示偏光膜之變化例(將各層調換後之實施形態)之側視圖。 圖4係表示偏光膜之變化例(不具備第3黏著劑層及第2透明樹脂膜之實施形態)之側視圖。 圖5係表示偏光膜之變化例(不具備第3黏著劑層、第2之1/4波長層及第4黏著層之實施形態)之側視圖。 圖6係表示偏光膜之變化例(不具備第3黏著劑層、第2透明樹脂膜、第2之1/4波長層及第4黏著層之實施形態)之側視圖。 圖7係表示偏光膜之變化例(不具備第1黏著劑層、第2透明樹脂膜、第2之1/4波長層及第4黏著層之實施形態)之側視圖。 圖8係表示偏光膜之變化例(不具備第1黏著劑層、第1之1/4波長層、第3黏著劑層、第2透明樹脂膜、第2之1/4波長層、第4黏著層及第3透明樹脂膜之實施形態)之側視圖。 圖9係表示比較例之偏光膜之側視圖。 圖10表示顯示實施例中所測定出之測定波長及光反射率之關係之曲線圖。
1‧‧‧偏光膜
2‧‧‧第1透明樹脂膜
3‧‧‧第1黏著劑層
4‧‧‧紅外線反射層
5‧‧‧第1之1/4波長層
6‧‧‧第3黏著劑層
7‧‧‧第2透明樹脂膜
8‧‧‧偏光元件
9‧‧‧第2之1/4波長層
10‧‧‧第4黏著劑層
11‧‧‧第3透明樹脂膜
12‧‧‧第1無機氧化物層
13‧‧‧金屬層
14‧‧‧第2無機氧化物層
15‧‧‧相位差膜
Claims (13)
- 一種偏光膜,其特徵在於:於厚度方向一側依序具備第1透明樹脂膜、紅外線反射層、及偏光元件,上述紅外線反射層依序具備第1無機氧化物層、金屬層、及第2無機氧化物層,上述2無機氧化物層為非晶質膜中包含晶粒之半晶質。
- 如請求項1之偏光膜,其中於上述紅外線反射層與上述偏光元件之間進而具備1/4波長層。
- 如請求項1之偏光膜,其中於上述紅外線反射層與上述偏光元件之間進而具備第2透明樹脂膜,上述第2透明樹脂膜之厚度為10μm以上且100μm以下。
- 如請求項1之偏光膜,其中於上述偏光元件之上述厚度方向一側進而具備第3透明樹脂膜。
- 如請求項4之偏光膜,其中上述第3透明樹脂膜係紫外線吸收層。
- 如請求項1之偏光膜,其中於上述第1透明樹脂膜與上述紅外線反射層之間進而具備第1黏著劑層。
- 如請求項1之偏光膜,其中上述第1透明樹脂膜之透濕度為5g/m2.24h以上。
- 如請求項1之偏光膜,其中上述金屬層係銀層或銀合金層。
- 如請求項1之偏光膜,其中上述第1無機氧化物層及上述第2無機氧化物層含有銦系氧化物。
- 一種圖像顯示裝置用保護板,其特徵在於具備:如請求項1之偏光膜;第2黏著劑層,其設置於上述偏光膜之上述厚度方向一側;及透明保護板,其設置於上述第2黏著劑層之上述厚度方向一側。
- 一種相位差膜,其特徵在於:於厚度方向一側依序具備第1透明樹脂膜、紅外線反射層、及1/4波長層,上述紅外線反射層依序具備第1無機氧化物層、金屬層、及第2無機氧化物層,上述2無機氧化物層為非晶質膜中包含晶粒之半晶質。
- 如請求項11之相位差膜,其進而具備第2透明樹脂膜,上述第2透明樹脂膜之厚度為10μm以上且100μm以下。
- 如請求項11之相位差膜,其中於上述第1透明樹脂膜與上述紅外線反射層之間進而具備第1黏著劑層。
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