TWI769815B - 塑膠光轉折元件、成像鏡頭模組及電子裝置 - Google Patents

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Abstract

一種塑膠光轉折元件，包含一入光面、一出光面、至少一反射面、至少一連接面及至少一注料痕結構。入光面用以使一成像光線入射塑膠光轉折元件。出光面用以使成像光線出射塑膠光轉折元件。反射面用以轉折成像光線。連接面連接入光面、出光面及反射面。注料痕結構設置於連接面。入光面、出光面及反射面中至少一者包含一光學部與一圓弧階差結構，圓弧階差結構設置於光學部的外周，且圓弧階差結構是以光學部的中心形成一圓弧。藉此，可減少缺陷產生，並可降低光學表面的尺寸公差。

Description

塑膠光轉折元件、成像鏡頭模組及電子裝置
本揭示內容係關於一種塑膠光轉折元件與成像鏡頭模組，且特別是一種應用在可攜式電子裝置上的塑膠光轉折元件與成像鏡頭模組。
近年來，可攜式電子裝置發展快速，例如智慧型電子裝置、平板電腦等，已充斥在現代人的生活中，而裝載在可攜式電子裝置上的成像鏡頭模組與其塑膠光轉折元件也隨之蓬勃發展。但隨著科技愈來愈進步，使用者對於塑膠光轉折元件的品質要求也愈來愈高。因此，發展一種於注料過程可穩定控制塑料填充的塑膠光轉折元件遂成為產業上重要且急欲解決的問題。
本揭示內容提供一種塑膠光轉折元件、成像鏡頭模組及電子裝置，藉由注料痕結構可有助於注料過程穩定控制塑料填充的速度，以減少缺陷的產生。
依據本揭示內容一實施方式提供一種塑膠光轉折元件，包含一入光面、一出光面、至少一反射面、至少一連接面及至少一注料痕結構。入光面用以使一成像光線入射塑膠光轉折元件。出光面用以使成像光線出射塑膠光轉折元件。反射面用以轉折成像光線。連接面連接入光面、出光面及反射面。注料痕結構設置於連接面。入光面、出光面及反射面中至少一者包含一光學部與一圓弧階差結構，圓弧階差結構設置於光學部的外周，且圓弧階差結構是以光學部的中心形成一圓弧。注料痕結構於連接面上所占的面積為Ag，連接面的總面積為At，其滿足下列條件：33% ≤ Ag/At ≤ 90%。
依據前段所述實施方式的塑膠光轉折元件，其中入光面、出光面及反射面中至少二者可分別包含光學部與圓弧階差結構，各圓弧階差結構設置於各光學部的外周，且各圓弧階差結構是以各光學部的中心形成圓弧。
依據前段所述實施方式的塑膠光轉折元件，其中入光面、出光面及反射面可分別包含光學部與圓弧階差結構，各圓弧階差結構設置於各光學部的外周，且各圓弧階差結構是以各光學部的中心形成圓弧。
依據前段所述實施方式的塑膠光轉折元件，其中連接面的數量可為二，連接面皆連接入光面、出光面及反射面，且連接面相對設置。
依據前段所述實施方式的塑膠光轉折元件，其中注料痕結構的數量可為二，且注料痕結構分別設置於連接面。
依據前段所述實施方式的塑膠光轉折元件，其中連接面可實質上互相平行。
依據前段所述實施方式的塑膠光轉折元件，其中連接面可實質上分別與入光面、出光面及反射面互相正交。
依據前段所述實施方式的塑膠光轉折元件，其中光學部可包含一光滑平面。
依據前段所述實施方式的塑膠光轉折元件，其中光學部可包含一光學非球面，光學非球面位於光學部的中心。
依據前段所述實施方式的塑膠光轉折元件，其中注料痕結構於連接面上所占的面積為Ag，連接面的總面積為At，其可滿足下列條件：35% ≤ Ag/At ≤ 80%。
依據前段所述實施方式的塑膠光轉折元件，其中塑膠光轉折元件的阿貝數為V，其可滿足下列條件：40 ≤ V ≤ 72。
依據前段所述實施方式的塑膠光轉折元件，其中反射面的數量可為二，反射面皆用以轉折成像光線。
依據前段所述實施方式的塑膠光轉折元件，其中反射面可實質上互相正交。
依據前段所述實施方式的塑膠光轉折元件，其中入光面、出光面及二反射面可分別包含光學部與圓弧階差結構，各圓弧階差結構設置於各光學部的外周，且各圓弧階差結構是以各光學部的中心形成圓弧。
依據前段所述實施方式的塑膠光轉折元件，其中注料痕結構可包含一弧形邊，弧形邊從注料痕結構的中心朝外側延伸。
依據前段所述實施方式的塑膠光轉折元件，其中圓弧階差結構的階差高度為h，其可滿足下列條件：0.003 mm ＜ h ＜ 0.32 mm。另外，其可滿足下列條件：0.005 mm ≤ h ≤ 0.17 mm。
依據本揭示內容一實施方式提供一種成像鏡頭模組，包含前述實施方式的塑膠光轉折元件與一成像透鏡組，其中塑膠光轉折元件設置於成像透鏡組的物側與像側其中一者。
依據本揭示內容一實施方式提供一種電子裝置，包含前述實施方式的成像鏡頭模組與一電子感光元件，其中電子感光元件設置於成像鏡頭模組的一成像面。
本揭示內容提供一種塑膠光轉折元件，包含一入光面、一出光面、至少一反射面、至少一連接面及至少一注料痕結構。入光面用以使一成像光線入射塑膠光轉折元件。出光面用以使成像光線出射塑膠光轉折元件。反射面用以轉折成像光線。連接面連接入光面、出光面及反射面。注料痕結構設置於連接面。入光面、出光面及反射面中至少一者包含一光學部與一圓弧階差結構，圓弧階差結構設置於光學部的外周，且圓弧階差結構是以光學部的中心形成一圓弧。注料痕結構於連接面上所占的面積為Ag，連接面的總面積為At，其滿足下列條件：33% ≤ Ag/At ≤ 90%。透過高面積占比的注料痕結構使塑膠光轉折元件在注料的過程中更能夠穩定控制塑料填充的速度，藉此避免殘留下注料時塑料流動的痕跡，以減少缺陷產生。再者，於光學表面上設置圓弧階差結構可進一步控制光學表面的面精度，降低光學表面的尺寸公差。
塑膠光轉折元件可由射出成型製成，並包含透明塑膠材料，且反射面可以透過高反射薄膜或是透過全內反射來反射成像光線。進一步來說，入光面、出光面及反射面皆可為光學表面。
注料痕結構的形狀可以是矩形、梯形、圓形、半月形、三角形、多邊形或以上多種形狀的組合，但不以此為限。再者，注料痕結構的表面特性與連接面中非注料痕結構區域的表面特性不相同。
圓弧階差結構可為一個完整的圓形或包含複數弧形。詳細來說，弧形彼此相互間隔。再者，圓弧階差結構可以是凸階或凹階，其中凸階是指光學部高於光學部的外周，而凹階是指光學部低於光學部的外周。
入光面、出光面及反射面中至少二者可分別包含光學部與圓弧階差結構，各圓弧階差結構設置於各光學部的外周，且各圓弧階差結構是以各光學部的中心形成圓弧。透過複數個光學表面皆設置圓弧階差結構，可提升各光學表面的同軸度，使成像光線經過塑膠光轉折元件後能維持於較高的影像解析度。
入光面、出光面及反射面可分別包含光學部與圓弧階差結構，各圓弧階差結構設置於各光學部的外周，且各圓弧階差結構是以各光學部的中心形成圓弧。透過各光學表面皆設置圓弧階差結構，可使實體部品的光學性質更貼近光學設計的模擬數值。
連接面的數量可為二，其中連接面皆連接入光面、出光面及反射面，且連接面相對設置。藉此，可簡化模具的複雜度，進而降低產品的生產成本。
注料痕結構的數量可為二，且注料痕結構分別設置於連接面。藉此，提高成型效率，並保持圓弧階差結構的結構完整性。
連接面可實質上互相平行。藉此，使整體光路不易歪斜或偏折，可降低非成像光線產生的機率。
連接面可實質上分別與入光面、出光面及反射面互相正交。藉此，有利於模具離型的結構設計。
光學部可包含一光滑平面。藉此，提供光學表面較佳的平面度。
光學部可包含一光學非球面，其中光學非球面位於光學部的中心。具體而言，塑膠光轉折元件可具有光學屈折力，故有利於修補像差，以達成高解析度的成像品質。
反射面的數量可為二，其中反射面皆用以轉折成像光線。藉此，可依據光學需求與機構需求提供複數個反射面，得到較適合的光路配置，以達成微型化的功效。
反射面可實質上互相正交。藉此，可縮短對焦驅動距離的光路設計。
入光面、出光面及二反射面可分別包含光學部與圓弧階差結構，各圓弧階差結構設置於各光學部的外周，且各圓弧階差結構是以各光學部的中心形成圓弧。透過各光學表面設置圓弧階差結構，可使實體部品的光學性質更貼近光學設計的模擬數值。
注料痕結構可包含一弧形邊，其中弧形邊從注料痕結構的中心朝外側延伸。藉此，注料痕結構可具有穩定且快速的射出速率，提供量產的可行性。
注料痕結構於連接面上所占的面積為Ag，連接面的總面積為At，其可滿足下列條件：35% ≤ Ag/At ≤ 80%。藉此，可兼顧較快速的注料速率與較高的尺寸精度，以提供較高的成型良率。
塑膠光轉折元件的阿貝數為V，其可滿足下列條件：40 ≤ V ≤ 72。藉此，可降低光學色散，且可減少光學色散引起的光學像差，以提升成像品質。
圓弧階差結構的階差高度為h，其可滿足下列條件：0.003 mm ＜ h ＜ 0.32 mm。透過利於辨識的階差高度範圍，可提供光學表面一個平面基準，以確保光學表面有良好的平面度。另外，其可滿足下列條件：0.005 mm ≤ h ≤ 0.17 mm。
上述本揭示內容塑膠光轉折元件中的各技術特徵皆可組合配置，而達到對應之功效。
本揭示內容提供一種成像鏡頭模組，包含前述的塑膠光轉折元件與一成像透鏡組，其中塑膠光轉折元件設置於成像透鏡組的物側與像側其中一者。具體而言，塑膠光轉折元件適合應用於攝遠的成像鏡頭模組（全視角小於40度）。藉此，可有效縮減成像鏡頭模組的體積。
本揭示內容提供一種電子裝置，包含前述的成像鏡頭模組與一電子感光元件，其中電子感光元件設置於成像鏡頭模組的一成像面。
根據上述實施方式，以下提出具體實施例並配合圖式予以詳細說明。
＜第一實施例＞
請參照第1A圖，其繪示依照本揭示內容第一實施例中電子裝置10的示意圖。由第1A圖可知，電子裝置10包含一成像鏡頭模組（圖未標示）與一電子感光元件11，其中電子感光元件11設置於成像鏡頭模組的一成像面12。進一步來說，成像鏡頭模組包含一塑膠光轉折元件100與一成像透鏡組13，其中塑膠光轉折元件100設置於成像透鏡組13的物側與像側其中一者。第一實施例中，塑膠光轉折元件100設置於成像透鏡組13的物側。具體而言，塑膠光轉折元件100適合應用於攝遠的成像鏡頭模組（全視角小於40度）。藉此，可有效縮減成像鏡頭模組的體積。
請參照第1B圖與第1C圖，其中第1B圖繪示依照第1A圖第一實施例中塑膠光轉折元件100的立體圖，第1C圖繪示依照第1A圖第一實施例中塑膠光轉折元件100的另一立體圖。由第1B圖與第1C圖可知，塑膠光轉折元件100包含一入光面110、一出光面120、至少一反射面130、連接面140a、140b及至少一注料痕結構150，其中入光面110用以使一成像光線L入射塑膠光轉折元件100，出光面120用以使成像光線L出射塑膠光轉折元件100，反射面130用以轉折成像光線L，連接面140a、140b皆連接入光面110、出光面120及反射面130，且注料痕結構150設置於連接面140a。第一實施例中，反射面的數量為一，連接面的數量為二，注料痕結構的數量為一，但並不以此為限。
塑膠光轉折元件100可由射出成型製成，並包含透明塑膠材料，且反射面130可以透過高反射薄膜或是透過全內反射來反射成像光線L。進一步來說，入光面110、出光面120及反射面130皆可為光學表面。具體而言，本揭示內容透過高面積占比的注料痕結構150使塑膠光轉折元件100在注料的過程中更能夠穩定控制塑料填充的速度，藉此避免殘留下注料時塑料流動的痕跡，以減少缺陷產生。
具體而言，連接面140a、140b相對設置。藉此，可簡化模具的複雜度，進而降低產品的生產成本。並且，連接面140a、140b實質上分別與入光面110、出光面120及反射面130互相正交。藉此，有利於模具離型的結構設計。
請參照第1D圖，其繪示依照第1A圖第一實施例中塑膠光轉折元件100的入光面110的示意圖。由第1A圖、第1B圖及第1D圖可知，入光面110包含一光學部111與一圓弧階差結構112，圓弧階差結構112設置於光學部111的外周，且圓弧階差結構112是以光學部111的中心形成一圓弧，其中光學部111包含一光學非球面114，且光學非球面114位於光學部111的中心。具體而言，塑膠光轉折元件100可具有光學屈折力，故有利修補像差，以達成高解析度的成像品質。第一實施例中，圓弧階差結構112包含複數弧形，且其彼此相互間隔，其中圓弧階差結構112為凹階，其中凹階是指光學部111低於光學部111的外周。
請參照第1E圖，其繪示依照第1A圖第一實施例中塑膠光轉折元件100的反射面130的示意圖。由第1A圖、第1C圖及第1E圖可知，反射面130包含一光學部131與一圓弧階差結構132，圓弧階差結構132設置於光學部131的外周，且圓弧階差結構132是以光學部131的中心形成一圓弧，其中光學部131包含一光滑平面。藉此，提供反射面130較佳的平面度。第一實施例中，圓弧階差結構132包含複數弧形，且其彼此相互間隔，其中圓弧階差結構132為凹階，而凹階是指光學部131低於光學部131的外周。
請參照第1F圖，其繪示依照第1A圖第一實施例中塑膠光轉折元件100的出光面120的示意圖。由第1A圖、第1B圖及第1F圖可知，出光面120包含一光學部121與一圓弧階差結構122，圓弧階差結構122設置於光學部121的外周，且圓弧階差結構122是以光學部121的中心形成一圓弧，其中光學部121包含一光滑平面。藉此，提供出光面120較佳的平面度。第一實施例中，圓弧階差結構122為一個完整的圓形，且圓弧階差結構122為凸階，其中凸階是指光學部121高於光學部121的外周。
由第1D圖至第1F圖可知，於光學表面（即入光面110、出光面120及反射面130）上設置圓弧階差結構112、122、132可進一步控制光學表面的面精度，降低光學表面的尺寸公差。
請參照第1G圖，其繪示依照第1A圖第一實施例中塑膠光轉折元件100的參數示意圖。由第1B圖與第1G圖可知，注料痕結構150的形狀為多邊形，但並不以此形狀為限。再者，注料痕結構150的表面特性與連接面140a中非注料痕結構區域的表面特性不相同。
由第1G圖可知，注料痕結構150包含弧形邊151，其中弧形邊151從注料痕結構150的中心朝外側延伸。藉此，可具有穩定且快速的射出速率，提供量產的可行性。第一實施例中，弧形邊151的數量為三，但並不以此為限。
配合第1A圖與第1G圖可知，注料痕結構150於連接面140a上所占的面積為Ag，連接面140a的總面積為At，圓弧階差結構112、122、132的階差高度為h，塑膠光轉折元件100的阿貝數為V，所述參數滿足下列表一條件。
表一、第一實施例
Ag (mm 2) 10.8 h (mm) (圓弧階差結構112) 0.05
At (mm 2) 16 h (mm) (圓弧階差結構122) 0.05
Ag/At (%) 67.5 h (mm) (圓弧階差結構132) 0.03
V 56    
＜第二實施例＞
請參照第2A圖，其繪示依照本揭示內容第二實施例中電子裝置20的示意圖。由第2A圖可知，電子裝置20包含一成像鏡頭模組（圖未標示）與一電子感光元件21，其中電子感光元件21設置於成像鏡頭模組的一成像面22。進一步來說，成像鏡頭模組包含一塑膠光轉折元件200與一成像透鏡組23，其中塑膠光轉折元件200設置於成像透鏡組23的物側與像側其中一者。第二實施例中，塑膠光轉折元件200設置於成像透鏡組23的像側。具體而言，塑膠光轉折元件200適合應用於攝遠的成像鏡頭模組（全視角小於40度）。藉此，可有效縮減成像鏡頭模組的體積。
請參照第2B圖與第2C圖，其中第2B圖繪示依照第2A圖第二實施例中塑膠光轉折元件200的立體圖，第2C圖繪示依照第2A圖第二實施例中塑膠光轉折元件200的另一立體圖。由第2B圖與第2C圖可知，塑膠光轉折元件200包含一入光面210、一出光面220、反射面230、連接面240及注料痕結構250，其中入光面210用以使一成像光線L入射塑膠光轉折元件200，出光面220用以使成像光線L出射塑膠光轉折元件200，反射面230用以轉折成像光線L，連接面240皆連接入光面210、出光面220及反射面230，且注料痕結構250分別設置於連接面240。第二實施例中，反射面的數量為四，連接面的數量為二，注料痕結構的數量為二，其中反射面中其中二者分別與入光面210和出光面220共用平面，但並不以此為限。
塑膠光轉折元件200可由射出成型製成，並包含透明塑膠材料，且反射面230可以透過高反射薄膜或是透過全內反射來反射成像光線L。進一步來說，入光面210、出光面220及反射面230皆可為光學表面。具體而言，本揭示內容透過高面積占比的注料痕結構250使塑膠光轉折元件200在注料的過程中更能夠穩定控制塑料填充的速度，藉此避免殘留下注料時塑料流動的痕跡，以減少缺陷產生。
具體而言，連接面240相對設置，且連接面240實質上互相平行。藉此，可簡化模具的複雜度，進而降低產品的生產成本，並使整體光路不易歪斜或偏折，以降低非成像光線產生的機率。並且，連接面240實質上分別與入光面210、出光面220及反射面230互相正交。藉此，有利於模具離型的結構設計。
請參照第2D圖，其繪示依照第2A圖第二實施例中塑膠光轉折元件200的入光面210與反射面230的示意圖。由第2A圖、第2B圖及第2D圖可知，入光面210包含一光學部211與一圓弧階差結構212，圓弧階差結構212設置於光學部211的外周，且圓弧階差結構212是以光學部211的中心形成一圓弧，其中光學部211包含一光滑平面。藉此，提供入光面210較佳的平面度。第二實施例中，圓弧階差結構212包含複數弧形，且其彼此相互間隔，其中圓弧階差結構212為凹階，而凹階是指光學部211低於光學部211的外周。
反射面230包含一光學部231與一圓弧階差結構232，圓弧階差結構232設置於光學部231的外周，且圓弧階差結構232是以光學部231的中心形成一圓弧，其中光學部231包含一光滑平面。藉此，提供反射面230較佳的平面度。第二實施例中，圓弧階差結構232包含複數弧形，且其彼此相互間隔，其中圓弧階差結構232為凸階，而凸階是指光學部231高於光學部231的外周。
進一步來說，反射面230皆用以轉折成像光線L。藉此，可依據光學需求與機構需求提供複數個反射面，得到較適合的光路配置，以達成微型化的功效。
由第2A圖與第2C圖可知，出光面220包含一光學部221與一圓弧階差結構222，圓弧階差結構222設置於光學部221的外周，且圓弧階差結構222是以光學部221的中心形成一圓弧，其中光學部221包含一光滑平面。藉此，提供出光面220較佳的平面度。第二實施例中，圓弧階差結構222包含複數弧形，且其彼此相互間隔，其中圓弧階差結構222為凹階，而凹階是指光學部221低於光學部221的外周。
由第2C圖與第2D圖可知，於光學表面（即入光面210、出光面220及反射面230）上設置圓弧階差結構212、222、232可進一步控制光學表面的面精度，降低光學表面的尺寸公差。
請參照第2E圖，其繪示依照第2A圖第二實施例中塑膠光轉折元件200的參數示意圖。由第2B圖、第2C圖及第2E圖可知，注料痕結構250的形狀為梯形，但並不以此形狀為限。再者，注料痕結構250的表面特性與連接面240中非注料痕結構區域的表面特性不相同。
配合第2A圖與第2E圖可知，注料痕結構250於連接面240上所占的面積為Ag，連接面240的總面積為At，圓弧階差結構212、222、232的階差高度為h，塑膠光轉折元件200的阿貝數為V，所述參數滿足下列表二條件。
表二、第二實施例
Ag (mm 2) 10.87 h (mm) (圓弧階差結構212) 0.03
At (mm 2) 17.92 h (mm) (圓弧階差結構222) 0.03
Ag/At (%) 60.7 h (mm) (圓弧階差結構232) 0.03
V 55    
＜第三實施例＞
請參照第3A圖，其繪示依照本揭示內容第三實施例中電子裝置30的示意圖。由第3A圖可知，電子裝置30包含一成像鏡頭模組（圖未標示）與一電子感光元件31，其中電子感光元件31設置於成像鏡頭模組的一成像面32。進一步來說，成像鏡頭模組包含一塑膠光轉折元件300與一成像透鏡組33，其中塑膠光轉折元件300設置於成像透鏡組33的物側與像側其中一者。第三實施例中，塑膠光轉折元件300設置於成像透鏡組33的像側。具體而言，塑膠光轉折元件300適合應用於攝遠的成像鏡頭模組（全視角小於40度）。藉此，可有效縮減成像鏡頭模組的體積。
請參照第3B圖與第3C圖，其中第3B圖繪示依照第3A圖第三實施例中塑膠光轉折元件300的立體圖，第3C圖繪示依照第3A圖第三實施例中塑膠光轉折元件300的另一立體圖。由第3B圖與第3C圖可知，塑膠光轉折元件300包含一入光面310、一出光面320、反射面330、連接面340a、340b及至少一注料痕結構350，其中入光面310用以使一成像光線L入射塑膠光轉折元件300，出光面320用以使成像光線L出射塑膠光轉折元件300，反射面330用以轉折成像光線L，連接面340a、340b皆連接入光面310、出光面320及反射面330，且注料痕結構350設置於連接面340a。第三實施例中，反射面的數量為二，連接面的數量為二，注料痕結構的數量為一，其中入光面310與出光面320共用平面，但並不以此為限。
塑膠光轉折元件300可由射出成型製成，並包含透明塑膠材料，且反射面330可以透過高反射薄膜或是透過全內反射來反射成像光線L。進一步來說，入光面310、出光面320及反射面330皆可為光學表面。具體而言，本揭示內容透過高面積占比的注料痕結構350使塑膠光轉折元件300在注料的過程中更能夠穩定控制塑料填充的速度，藉此避免殘留下注料時塑料流動的痕跡，以減少缺陷產生。
具體而言，連接面340a、340b相對設置，且連接面340a、340b實質上互相平行。藉此，可簡化模具的複雜度，進而降低產品的生產成本，並使整體光路不易歪斜或偏折，以降低非成像光線產生的機率。並且，連接面340a、340b實質上分別與入光面310、出光面320及反射面330互相正交。藉此，有利於模具離型的結構設計。
請參照第3D圖，其繪示依照第3A圖第三實施例中塑膠光轉折元件300的入光面310與出光面320的示意圖。由第3A圖、第3B圖及第3D圖可知，入光面310包含一光學部311與一圓弧階差結構312，圓弧階差結構312設置於光學部311的外周，且圓弧階差結構312是以光學部311的中心形成一圓弧，其中光學部311包含一光學非球面314，且光學非球面314位於光學部311的中心。具體而言，塑膠光轉折元件300可具有光學屈折力，故有利修補像差，以達成高解析度的成像品質。第三實施例中，圓弧階差結構312包含複數弧形，且其彼此相互間隔，其中弧階差結構312為凹階，而凹階是指光學部311低於光學部311的外周。
請參照第3E圖，其繪示依照第3A圖第三實施例中塑膠光轉折元件300的反射面330的示意圖。由第3A圖與第3E圖可知，反射面330包含一光學部331與一圓弧階差結構332，圓弧階差結構332設置於光學部331的外周，且圓弧階差結構332是以光學部331的中心形成一圓弧，其中光學部331包含一光滑平面。藉此，提供反射面330較佳的平面度。第三實施例中，圓弧階差結構332包含複數弧形，且其彼此相互間隔，其中圓弧階差結構332為凸階，而凸階是指光學部331高於光學部331的外周。
進一步來說，反射面330皆用以轉折成像光線L。藉此，可依據光學需求與機構需求提供複數個反射面，得到較適合的光路配置，以達成微型化的功效。再者，反射面330實質上互相正交。藉此，可縮短對焦驅動距離的光路設計。
由第3A圖、第3B圖及第3D圖可知，出光面320包含一光學部321與一圓弧階差結構322，圓弧階差結構322設置於光學部321的外周，且圓弧階差結構322是以光學部321的中心形成一圓弧，其中光學部321包含一光學非球面324，且光學非球面324位於光學部321的中心。具體而言，塑膠光轉折元件300可具有光學屈折力，故有利於修補像差，以達成高解析度的成像品質。第三實施例中，圓弧階差結構322包含複數弧形，且其彼此相互間隔，其中圓弧階差結構322為凹階，而凹階是指光學部321低於光學部321的外周。
由第3D圖與第3E圖可知，於光學表面（即入光面310、出光面320及反射面330）上設置圓弧階差結構312、322、332可進一步控制光學表面的面精度，降低光學表面的尺寸公差。
請參照第3F圖，其繪示依照第3A圖第三實施例中塑膠光轉折元件300的參數示意圖。由第3B圖與第3F圖可知，注料痕結構350的形狀為梯形與半月形的結合，但並不以此形狀為限。再者，注料痕結構350的表面特性與連接面340a中非注料痕結構區域的表面特性不相同。
由第3F圖可知，注料痕結構350包含一弧形邊351，其中弧形邊351從注料痕結構350的中心朝外側延伸。藉此，可具有穩定且快速的射出速率，提供量產的可行性。第三實施例中，弧形邊351的數量為一，但並不以此為限。
配合第3A圖與第3F圖可知，注料痕結構350於連接面340a上所占的面積為Ag，連接面340a的總面積為At，圓弧階差結構312、322、332的階差高度為h，塑膠光轉折元件300的阿貝數為V，所述參數滿足下列表三條件。
表三、第三實施例
Ag (mm 2) 15.14 h (mm) (圓弧階差結構312) 0.03
At (mm 2) 36.39 h (mm) (圓弧階差結構322) 0.03
Ag/At (%) 41.6 h (mm) (圓弧階差結構332) 0.03
V 64.2    
＜第四實施例＞
請參照第4A圖，其繪示依照本揭示內容第四實施例中電子裝置40的示意圖。由第4A圖可知，電子裝置40包含一成像鏡頭模組（圖未標示）與一電子感光元件41，其中電子感光元件41設置於成像鏡頭模組的一成像面42。進一步來說，成像鏡頭模組包含一塑膠光轉折元件400與一成像透鏡組43，其中塑膠光轉折元件400設置於成像透鏡組43的物側與像側其中一者。第四實施例中，塑膠光轉折元件400設置於成像透鏡組43的像側。具體而言，塑膠光轉折元件400適合應用於攝遠的成像鏡頭模組（全視角小於40度）。藉此，可有效縮減成像鏡頭模組的體積。
請參照第4B圖與第4C圖，其中第4B圖繪示依照第4A圖第四實施例中塑膠光轉折元件400的立體圖，第4C圖繪示依照第4A圖第四實施例中塑膠光轉折元件400的另一立體圖。由第4B圖與第4C圖可知，塑膠光轉折元件400包含一入光面410、一出光面420、反射面430、連接面440及注料痕結構450，其中入光面410用以使一成像光線L入射塑膠光轉折元件400，出光面420用以使成像光線L出射塑膠光轉折元件400，反射面430用以轉折成像光線L，連接面440皆連接入光面410、出光面420及反射面430，且注料痕結構450分別設置於連接面440。第四實施例中，反射面的數量為二，連接面的數量為二，注料痕結構的數量為二，但並不以此為限。
塑膠光轉折元件400可由射出成型製成，並包含透明塑膠材料，且反射面430可以透過高反射薄膜或是透過全內反射來反射成像光線L。進一步來說，入光面410、出光面420及反射面430皆可為光學表面。具體而言，本揭示內容透過高面積占比的注料痕結構450使塑膠光轉折元件400在注料的過程中更能夠穩定控制塑料填充的速度，藉此避免殘留下注料時塑料流動的痕跡，以減少缺陷產生。
具體而言，連接面440相對設置，且連接面440實質上互相平行。藉此，可簡化模具的複雜度，進而降低產品的生產成本，並使整體光路不易歪斜或偏折，以降低非成像光線產生的機率。並且，連接面440實質上分別與入光面410、出光面420及反射面430互相正交。藉此，有利於模具離型的結構設計。
請參照第4D圖與第4E圖，其中第4D圖繪示依照第4A圖第四實施例中塑膠光轉折元件的入光面410與反射面430的示意圖，第4E圖繪示依照第4A圖第四實施例中塑膠光轉折元件400的入光面410與反射面430的另一示意圖。由第4A圖、第4B圖、第4D圖及第4E圖可知，入光面410包含一光學部411與一圓弧階差結構412，圓弧階差結構412設置於光學部411的外周，且圓弧階差結構412是以光學部411的中心形成一圓弧，其中光學部411包含一光滑平面。藉此，提供入光面410較佳的平面度。第四實施例中，圓弧階差結構412包含複數弧形，且其彼此相互間隔，其中圓弧階差結構412為凹階，而凹階是指光學部411低於光學部411的外周。
反射面430包含一光學部431與一圓弧階差結構432，圓弧階差結構432設置於光學部431的外周，且圓弧階差結構432是以光學部431的中心形成一圓弧，其中光學部431包含一光滑平面。藉此，提供反射面430較佳的平面度。第四實施例中，圓弧階差結構432包含複數弧形，且其彼此相互間隔，其中圓弧階差結構432為凹階，而凹階是指光學部431低於光學部431的外周。
進一步來說，反射面430皆用以轉折成像光線L。藉此，可依據光學需求與機構需求提供複數個反射面，得到較適合的光路配置，以達成微型化的功效。
由第4A圖與第4B圖可知，出光面420包含一光學部421與一圓弧階差結構422，圓弧階差結構422設置於光學部421的外周，且圓弧階差結構422是以光學部421的中心形成一圓弧，其中光學部421包含一光滑平面。藉此，提供出光面420較佳的平面度。第四實施例中，圓弧階差結構422包含複數弧形，且其彼此相互間隔，其中圓弧階差結構422為凹階，而凹階是指光學部421低於光學部421的外周。
由第4B圖、第4D圖及第4E圖可知，於光學表面（即入光面410、出光面420及反射面430）上設置圓弧階差結構412、422、432可進一步控制光學表面的面精度，降低光學表面的尺寸公差。
請參照第4F圖，其繪示依照第4A圖第四實施例中塑膠光轉折元件400的參數示意圖。由第4B圖、第4C圖及第4F圖可知，注料痕結構450的形狀為多邊形與二半月形的組合，但並不以此形狀為限。再者，注料痕結構450的表面特性與連接面440中非注料痕結構區域的表面特性不相同。
由第4F圖可知，注料痕結構450包含弧形邊451，其中弧形邊451從注料痕結構450的中心朝外側延伸。藉此，可具有穩定且快速的射出速率，提供量產的可行性。第四實施例中，弧形邊451的數量為二，但並不以此為限。
配合第4A圖與第4F圖可知，注料痕結構450於連接面440上所占的面積為Ag，連接面440的總面積為At，圓弧階差結構412、422、432的階差高度為h，塑膠光轉折元件400的阿貝數為V，所述參數滿足下列表四條件。
表四、第四實施例
Ag (mm 2) 47.1 h (mm) (圓弧階差結構412) 0.07
At (mm 2) 95.03 h (mm) (圓弧階差結構422) 0.07
Ag/At (%) 49.6 h (mm) (圓弧階差結構432) 0.01
V 44.3    
＜第五實施例＞
請參照第5圖，其繪示依照本揭示內容第五實施例中連接面540與注料痕結構550的示意圖。由第5圖可知，塑膠光轉折元件（圖未標示）包含一入光面（圖未標示）、一出光面（圖未標示）、至少一反射面（圖未標示）、連接面540及至少一注料痕結構550，其中入光面用以使的一成像光線（圖未繪示）入射塑膠光轉折元件，出光面用以使成像光線出射塑膠光轉折元件，反射面用以轉折成像光線，連接面540連接入光面、出光面及反射面，且注料痕結構550設置於連接面540。
進一步來說，注料痕結構550的形狀為多邊形，但並不以此形狀為限。再者，注料痕結構550的表面特性與連接面540中非注料痕結構區域的表面特性不相同。
再者，注料痕結構550包含弧形邊551，其中弧形邊551從注料痕結構550的中心朝外側延伸。藉此，可具有穩定且快速的射出速率，提供量產的可行性。第五實施例中，弧形邊551的數量為三，但並不以此為限。
注料痕結構550於連接面540上所占的面積為Ag，連接面540的總面積為At，塑膠光轉折元件的阿貝數為V，所述參數滿足下列表五條件。
表五、第五實施例
Ag (mm 2) 5.31 Ag/At (%) 33.2
At (mm 2) 16 V 56
再者，可將第一實施例的塑膠光轉折元件100透過不同形式的注料流道，形成如第五實施例的注料痕結構550，但並不以此為限。
另外，第五實施例與第一實施例其餘的元件之結構及配置關係皆相同，在此將不另贅述。
＜第六實施例＞
請參照第6圖，其繪示依照本揭示內容第六實施例中連接面640與注料痕結構650的示意圖。由第6圖可知，塑膠光轉折元件（圖未標示）包含一入光面（圖未標示）、一出光面（圖未標示）、至少一反射面（圖未標示）、連接面640及至少一注料痕結構650，其中入光面用以使一成像光線（圖未繪示）入射塑膠光轉折元件，出光面用以使成像光線出射塑膠光轉折元件，反射面用以轉折成像光線，連接面640連接入光面、出光面及反射面，且注料痕結構650設置於連接面640。
進一步來說，注料痕結構650的形狀為三角形，但並不以此形狀為限。再者，注料痕結構650的表面特性與連接面640中非注料痕結構區域的表面特性不相同。
再者，注料痕結構650包含弧形邊651，其中弧形邊651從注料痕結構650的中心朝外側延伸。藉此，可具有穩定且快速的射出速率，提供量產的可行性。第六實施例中，弧形邊651的數量為一，但並不以此為限。
注料痕結構650於連接面640上所占的面積為Ag，連接面640的總面積為At，塑膠光轉折元件的阿貝數為V，所述參數滿足下列表六條件。
表六、第六實施例
Ag (mm 2) 6.24 Ag/At (%) 39
At (mm 2) 16 V 56
再者，可將第一實施例的塑膠光轉折元件100透過不同形式的注料流道，形成如第六實施例的注料痕結構650，但並不以此為限。
另外，第六實施例與第一實施例其餘的元件之結構及配置關係皆相同，在此將不另贅述。
＜第七實施例＞
請參照第7圖，其繪示依照本揭示內容第七實施例中連接面740與注料痕結構750的示意圖。由第7圖可知，塑膠光轉折元件（圖未標示）包含一入光面（圖未標示）、一出光面（圖未標示）、至少一反射面（圖未標示）、連接面740及至少一注料痕結構750，其中入光面用以使一成像光線（圖未繪示）入射塑膠光轉折元件，出光面用以使成像光線出射塑膠光轉折元件，反射面用以轉折成像光線，連接面740連接入光面、出光面及反射面，且注料痕結構750設置於連接面740。
進一步來說，注料痕結構750的形狀為多邊形，但並不以此形狀為限。再者，注料痕結構750的表面特性與連接面740中非注料痕結構區域的表面特性不相同。
再者，注料痕結構750包含弧形邊751，其中弧形邊751從注料痕結構750的中心朝外側延伸。藉此，可具有穩定且快速的射出速率，提供量產的可行性。第七實施例中，弧形邊751的數量為四，但並不以此為限。
注料痕結構750於連接面740上所占的面積為Ag，連接面740的總面積為At，塑膠光轉折元件的阿貝數為V，所述參數滿足下列表七條件。
表七、第七實施例
Ag (mm 2) 11.46 Ag/At (%) 71.6
At (mm 2) 16 V 56
再者，可將第一實施例的塑膠光轉折元件100透過不同形式的注料流道，形成如第七實施例的注料痕結構750，但並不以此為限。
另外，第七實施例與第一實施例其餘的元件之結構及配置關係皆相同，在此將不另贅述。
＜第八實施例＞
請參照第8圖，其繪示依照本揭示內容第八實施例中連接面840與注料痕結構850的示意圖。由第8圖可知，塑膠光轉折元件（圖未標示）包含一入光面（圖未標示）、一出光面（圖未標示）、至少一反射面（圖未標示）、連接面840及至少一注料痕結構850，其中入光面用以使一成像光線（圖未繪示）入射塑膠光轉折元件，出光面用以使成像光線出射塑膠光轉折元件，反射面用以轉折成像光線，連接面840連接入光面、出光面及反射面，且注料痕結構850設置於連接面840。
進一步來說，注料痕結構850的形狀為梯形，但並不以此形狀為限。再者，注料痕結構850的表面特性與連接面840中非注料痕結構區域的表面特性不相同。
注料痕結構850於連接面840上所占的面積為Ag，連接面840的總面積為At，塑膠光轉折元件的阿貝數為V，所述參數滿足下列表八條件。
表八、第八實施例
Ag (mm 2) 7.79 Ag/At (%) 48.7
At (mm 2) 16 V 56
再者，可將第一實施例的塑膠光轉折元件100透過不同形式的注料流道，形成如第八實施例的注料痕結構850，但並不以此為限。
另外，第八實施例與第一實施例其餘的元件之結構及配置關係皆相同，在此將不另贅述。
＜第九實施例＞
第9A圖繪示依照本揭示內容第九實施例中電子裝置90的示意圖，第9B圖繪示依照第9A圖第九實施例中電子裝置90的另一示意圖。由第9A圖與第9B圖可知，第九實施例的電子裝置90係一智慧型手機，電子裝置90包含一成像鏡頭模組（圖未標示）與一電子感光元件（圖未繪示），其中電子感光元件設置於成像鏡頭模組的一成像面（圖未繪示），且成像鏡頭模組包含超廣角相機模組92、高畫素相機模組93及攝遠相機模組94。再者，成像鏡頭模組包含一塑膠光轉折元件（圖未繪示）與一成像透鏡組（圖未繪示），其中塑膠光轉折元件設置於成像透鏡組的物側與像側其中一者。
進一步來說，攝遠相機模組94可為前述第一實施例至第八實施例中的任一成像鏡頭模組，但本揭示內容不以此為限。藉此，有助於滿足現今電子裝置市場對於搭載於其上的成像鏡頭模組的量產及外觀要求。
進一步來說，使用者透過電子裝置90的使用者介面91進入拍攝模式，其中第九實施例中使用者介面91可為觸控螢幕，其用以顯示畫面並具備觸控功能，且可用以手動調整拍攝視角以切換不同的成像鏡頭模組。此時成像鏡頭模組匯集成像光線在電子感光元件上，並輸出有關影像的電子訊號至成像訊號處理元件(Image Signal Processor，ISP)95。
由第9B圖可知，因應電子裝置90的相機規格，電子裝置90可更包含光學防手震組件（圖未繪示），進一步地，電子裝置90可更包含至少一個對焦輔助模組（圖未標示）及至少一個感測元件（圖未繪示）。對焦輔助模組可以是補償色溫的閃光燈模組96、紅外線測距元件、雷射對焦模組等，感測元件可具有感測物理動量與作動能量的功能，如加速計、陀螺儀、霍爾元件(Hall Effect Element)，以感知使用者的手部或外在環境施加的晃動及抖動，進而有利於電子裝置90中成像鏡頭模組配置的自動對焦功能及光學防手震組件的發揮，以獲得良好的成像品質，有助於依據本揭示內容的電子裝置90具備多種模式的拍攝功能，如優化自拍、低光源HDR(High Dynamic Range，高動態範圍成像)、高解析4K(4K Resolution)錄影等。此外，使用者可由使用者介面91直接目視到相機的拍攝畫面，並在使用者介面91上手動操作取景範圍，以達成所見即所得的自動對焦功能。
進一步來說，成像鏡頭模組、電子感光元件、光學防手震組件、感測元件及對焦輔助模組可設置在一軟性電路板(Flexible Printed Circuitboard，FPC)（圖未繪示）上，並透過一連接器（圖未繪示）電性連接成像訊號處理元件95等相關元件以執行拍攝流程。當前的電子裝置如智慧型手機具有輕薄的趨勢，將成像鏡頭模組與相關元件配置於軟性電路板上，再利用連接器將電路彙整至電子裝置的主板，可滿足電子裝置內部有限空間的機構設計及電路佈局需求並獲得更大的裕度，亦使得其成像鏡頭模組的自動對焦功能藉由電子裝置的觸控螢幕獲得更靈活的控制。在第九實施例中，電子裝置90可包含複數感測元件及複數對焦輔助模組，感測元件及對焦輔助模組設置在軟性電路板及另外至少一個軟性電路板（圖未繪示），並透過對應的連接器電性連接成像訊號處理元件95等相關元件以執行拍攝流程。在其他實施例中（圖未繪示），感測元件及輔助光學元件亦可依機構設計及電路佈局需求設置於電子裝置的主板或是其他形式的載板上。
此外，電子裝置90可進一步包含但不限於顯示單元(Display)、控制單元(Control Unit)、儲存單元(Storage Unit)、暫儲存單元(RAM)、唯讀儲存單元(ROM)或其組合。
第9C圖繪示依照第9A圖第九實施例中的影像示意圖。由第9C圖可知，以超廣角相機模組92可拍攝到較大範圍的影像，具有容納更多景色的功能。
第9D圖繪示依照第9A圖第九實施例中的另一影像示意圖。由第9D圖可知，以高畫素相機模組93可拍攝一定範圍且兼具高畫素的影像，具有高解析低變形的功能。
第9E圖繪示依照第9A圖第九實施例中的再一影像示意圖。由第9E圖可知，以攝遠相機模組94具有高倍數的放大功能，可拍攝遠處的影像並放大至高倍。
由第9C圖至第9E圖可知，由具有不同焦距的成像鏡頭模組進行取景，並搭配影像處理的技術，可於電子裝置90實現變焦的功能。
＜第十實施例＞
請參照第10A圖與第10B圖，其中第10A圖繪示依照本揭示內容第十實施例中電子裝置1000的示意圖，第10B圖繪示依照第10A圖第十實施例中的電子裝置1000的部分透視圖。由第10A圖與第10B圖可知，電子裝置1000係一智慧型手機，且電子裝置1000包含一成像鏡頭模組（圖未標示）與一電子感光元件（圖未繪示），其中電子感光元件設置於成像鏡頭模組的一成像面（圖未繪示），且成像鏡頭模組包含超廣角相機模組1011、1012、廣角相機模組1013、1014、攝遠相機模組1015、1016、1017、1018及TOF模組(Time-Of-Flight:飛時測距模組)1019，而TOF模組1019另可為其他種類的取像裝置，並不限於此配置方式。
進一步來說，攝遠相機模組1015、1016、1017、1018可為前述第一實施例至第八實施例中的任一成像鏡頭模組，但本揭示內容不以此為限。藉此，有助於滿足現今電子裝置市場對於搭載於其上的成像鏡頭模組的量產及外觀要求。
再者，攝遠相機模組1017、1018用以轉折光線，但本揭示內容不以此為限。
因應電子裝置1000的相機規格，電子裝置1000可更包含光學防手震組件（圖未繪示），進一步地，電子裝置1000可更包含至少一個對焦輔助模組（圖未繪示）及至少一個感測元件（圖未繪示）。對焦輔助模組可以是補償色溫的閃光燈模組1020、紅外線測距元件、雷射對焦模組等，感測元件可具有感測物理動量與作動能量的功能，如加速計、陀螺儀、霍爾元件(Hall Effect Element)，以感知使用者的手部或外在環境施加的晃動及抖動，進而有利於電子裝置1000中成像鏡頭模組配置的自動對焦功能及光學防手震組件的發揮，以獲得良好的成像品質，有助於依據本揭示內容的電子裝置1000具備多種模式的拍攝功能，如優化自拍、低光源HDR(High Dynamic Range，高動態範圍成像)、高解析4K(4K Resolution)錄影等。
另外，第十實施例與第九實施例其餘的元件之結構及配置關係皆相同，在此將不另贅述。
雖然本揭示內容已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本揭示內容，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本揭示內容的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本揭示內容的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。
10,20,30,40,90,1000:電子裝置
11,21,31,41:電子感光元件
12,22,32,42:成像面
13,23,33,43:成像透鏡組
100,200,300,400:塑膠光轉折元件
110,210,310,410:入光面
111,121,131,211,221,231,311,321,331,411,421,431:光學部
112,122,132,212,222,232,312,322,332,412,422,432:圓弧階差結構
114,314,324:光學非球面
120,220,320,420:出光面
130,230,330,430:反射面
140a,140b,240,340a,340b,440,540,640,740,840:連接面
150,250,350,450,550,650,750,850:注料痕結構
151,351,451,551,651,751:弧形邊
91:使用者介面
92,1011,1012:超廣角相機模組
93:高畫素相機模組
94,1015,1016,1017,1018:攝遠相機模組
95:成像訊號處理元件
96,1020:閃光燈模組
1013,1014:廣角相機模組
1019:TOF模組
L:成像光線
h:圓弧階差結構的階差高度
第1A圖繪示依照本揭示內容第一實施例中電子裝置的示意圖； 第1B圖繪示依照第1A圖第一實施例中塑膠光轉折元件的立體圖； 第1C圖繪示依照第1A圖第一實施例中塑膠光轉折元件的另一立體圖； 第1D圖繪示依照第1A圖第一實施例中塑膠光轉折元件的入光面的示意圖； 第1E圖繪示依照第1A圖第一實施例中塑膠光轉折元件的反射面的示意圖； 第1F圖繪示依照第1A圖第一實施例中塑膠光轉折元件的出光面的示意圖； 第1G圖繪示依照第1A圖第一實施例中塑膠光轉折元件的參數示意圖； 第2A圖繪示依照本揭示內容第二實施例中電子裝置的示意圖； 第2B圖繪示依照第2A圖第二實施例中塑膠光轉折元件的立體圖； 第2C圖繪示依照第2A圖第二實施例中塑膠光轉折元件的另一立體圖； 第2D圖繪示依照第2A圖第二實施例中塑膠光轉折元件的入光面與反射面的示意圖； 第2E圖繪示依照第2A圖第二實施例中塑膠光轉折元件的參數示意圖； 第3A圖繪示依照本揭示內容第三實施例中電子裝置的示意圖； 第3B圖繪示依照第3A圖第三實施例中塑膠光轉折元件的立體圖； 第3C圖繪示依照第3A圖第三實施例中塑膠光轉折元件的另一立體圖； 第3D圖繪示依照第3A圖第三實施例中塑膠光轉折元件的入光面與出光面的示意圖； 第3E圖繪示依照第3A圖第三實施例中塑膠光轉折元件的反射面的示意圖； 第3F圖繪示依照第3A圖第三實施例中塑膠光轉折元件的參數示意圖； 第4A圖繪示依照本揭示內容第四實施例中電子裝置的示意圖； 第4B圖繪示依照第4A圖第四實施例中塑膠光轉折元件的立體圖； 第4C圖繪示依照第4A圖第四實施例中塑膠光轉折元件的另一立體圖； 第4D圖繪示依照第4A圖第四實施例中塑膠光轉折元件的入光面與反射面的示意圖； 第4E圖繪示依照第4A圖第四實施例中塑膠光轉折元件的入光面與反射面的另一示意圖； 第4F圖繪示依照第4A圖第四實施例中塑膠光轉折元件的參數示意圖； 第5圖繪示依照本揭示內容第五實施例中連接面與注料痕結構的示意圖； 第6圖繪示依照本揭示內容第六實施例中連接面與注料痕結構的示意圖； 第7圖繪示依照本揭示內容第七實施例中連接面與注料痕結構的示意圖； 第8圖繪示依照本揭示內容第八實施例中連接面與注料痕結構的示意圖； 第9A圖繪示依照本揭示內容第九實施例中電子裝置的示意圖； 第9B圖繪示依照第9A圖第九實施例中電子裝置的另一示意圖； 第9C圖繪示依照第9A圖第九實施例中的影像示意圖； 第9D圖繪示依照第9A圖第九實施例中的另一影像示意圖； 第9E圖繪示依照第9A圖第九實施例中的再一影像示意圖； 第10A圖繪示依照本揭示內容第十實施例中電子裝置的示意圖；以及 第10B圖繪示依照第10A圖第十實施例中的電子裝置的部分透視圖。
100:塑膠光轉折元件
110:入光面
112,122:圓弧階差結構
120:出光面
140a:連接面
150:注料痕結構

Claims (19)

  1. 一種塑膠光轉折元件，包含： 一入光面，用以使一成像光線入射該塑膠光轉折元件； 一出光面，用以使該成像光線出射該塑膠光轉折元件； 至少一反射面，用以轉折該成像光線； 至少一連接面，連接該入光面、該出光面及該至少一反射面；以及 至少一注料痕結構，設置於該至少一連接面； 其中，該入光面、該出光面及該至少一反射面中至少一者包含一光學部與一圓弧階差結構，該圓弧階差結構設置於該光學部的外周，且該圓弧階差結構是以該光學部的中心形成一圓弧； 其中，該至少一注料痕結構於該至少一連接面上所占的面積為Ag，該至少一連接面的總面積為At，其滿足下列條件： 33% ≤ Ag/At ≤ 90%。
  2. 如請求項1所述的塑膠光轉折元件，其中該入光面、該出光面及該至少一反射面中至少二者分別包含該光學部與該圓弧階差結構，各該圓弧階差結構設置於各該光學部的外周，且各該圓弧階差結構是以各該光學部的中心形成該圓弧。
  3. 如請求項2所述的塑膠光轉折元件，其中該入光面、該出光面及該至少一反射面分別包含該光學部與該圓弧階差結構，各該圓弧階差結構設置於各該光學部的外周，且各該圓弧階差結構是以各該光學部的中心形成該圓弧。
  4. 如請求項1所述的塑膠光轉折元件，其中該至少一連接面的數量為二，該二連接面皆連接該入光面、該出光面及該至少一反射面，且該二連接面相對設置。
  5. 如請求項4所述的塑膠光轉折元件，其中該至少一注料痕結構的數量為二，且該二注料痕結構分別設置於該二連接面。
  6. 如請求項4所述的塑膠光轉折元件，其中該二連接面實質上互相平行。
  7. 如請求項1所述的塑膠光轉折元件，其中該至少一連接面實質上分別與該入光面、該出光面及該至少一反射面互相正交。
  8. 如請求項1所述的塑膠光轉折元件，其中該光學部包含一光滑平面。
  9. 如請求項1所述的塑膠光轉折元件，其中該光學部包含一光學非球面，該光學非球面位於該光學部的中心。
  10. 如請求項1所述的塑膠光轉折元件，其中該至少一注料痕結構於該至少一連接面上所占的面積為Ag，該至少一連接面的總面積為At，其滿足下列條件： 35% ≤ Ag/At ≤ 80%。
  11. 如請求項1所述的塑膠光轉折元件，其中該塑膠光轉折元件的阿貝數為V，其滿足下列條件： 40 ≤ V ≤ 72。
  12. 如請求項1所述的塑膠光轉折元件，其中該至少一反射面的數量為二，該二反射面皆用以轉折該成像光線。
  13. 如請求項12所述的塑膠光轉折元件，其中該二反射面實質上互相正交。
  14. 如請求項12所述的塑膠光轉折元件，其中該入光面、該出光面及該二反射面分別包含該光學部與該圓弧階差結構，各該圓弧階差結構設置於各該光學部的外周，且各該圓弧階差結構是以各該光學部的中心形成該圓弧。
  15. 如請求項1所述的塑膠光轉折元件，其中該至少一注料痕結構包含一弧形邊，該弧形邊從該至少一注料痕結構的中心朝外側延伸。
  16. 如請求項1所述的塑膠光轉折元件，其中該圓弧階差結構的階差高度為h，其滿足下列條件： 0.003 mm ＜ h ＜ 0.32 mm。
  17. 如請求項16所述的塑膠光轉折元件，其中該圓弧階差結構的階差高度為h，其滿足下列條件： 0.005 mm ≤ h ≤ 0.17 mm。
  18. 一種成像鏡頭模組，包含： 如請求項1所述的塑膠光轉折元件；以及 一成像透鏡組，其中該塑膠光轉折元件設置於該成像透鏡組的物側與像側其中一者。
  19. 一種電子裝置，包含： 如請求項18所述的成像鏡頭模組；以及 一電子感光元件，設置於該成像鏡頭模組的一成像面。
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