TWI740124B - 光學清潔盒 - Google Patents

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TWI740124B
TWI740124B TW108112487A TW108112487A TWI740124B TW I740124 B TWI740124 B TW I740124B TW 108112487 A TW108112487 A TW 108112487A TW 108112487 A TW108112487 A TW 108112487A TW I740124 B TWI740124 B TW I740124B
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阿席斯 庫瑪
彼得 克拉克 紐恩曼
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美商伊路米納有限公司
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Abstract

本申請涉及光學清潔盒。公開了一種用於自動清潔分析儀器的光學部件的光學清潔盒。

Description

光學清潔盒
相關申請的交叉引用
本申請要求於2018年4月10日提交且標題為“OBJECTIVE CLEANING CARTRIDGE”的第62/655,777號美國臨時專利申請以及於2018年5月28日提交且標題為“OPTICAL CLEANING CARTRIDGE”的第62/677,092號美國臨時專利申請的優先權的權益，該兩個申請據此通過引用以其整體併入。
本公開涉及光學清潔的系統和方法。
在各種基於光學的分析單元或儀器(例如顯微成像器、DNA測序儀和其他實驗室裝備)中，樣本可以被提供在可移除盒中或流過可移除盒，該可移除盒位於具有各種光學部件(例如，透鏡、篩檢程式等)的光學感測器的視野中。這樣的可移除盒可由盒接納器(例如，機械介面)接納和支撐，盒接納器與可移除盒接合，將可移除盒固定在合適位置，並提供機械、電氣和/或流體介面，分析單元可通過這些介面與可移除盒相接。
在附圖和下面的描述中闡述了此說明書中描述的主題的一個或更多個實施方式的細節。其它特徵、方面和優點根據描述、附圖以及權利要求 將變得明顯。
在一些實施方式中，可以提供一種用於清潔分析單元中的光學部件的設備，該分析單元被配置成在分析期間使用光學部件分析位於可移除盒中的樣本。這樣的實施方式中的設備可以包括清潔盒框架，該清潔盒框架被配置為能夠被分析單元的盒接納器接納並支撐，盒接納器被配置為接納並支撐可移除盒。該設備還可以包括一個或更多個光學清潔元件，每個光學清潔元件包括吸收性清潔墊，以及柔性支撐結構，柔性支撐結構從清潔盒框架的表面凸出，並介於清潔盒框架和清潔墊的至少一部分之間。
在該設備的一些實施方式中，柔性支撐結構可以包括彈性材料，並且可以具有圓頂形狀的第一部分。在一些這樣的實施方式中，圓頂形狀可以具有當設備由盒接納器支撐時至少大體上匹配光學部件的面向清潔盒框架的表面的曲率半徑的半徑。
在該設備的一些實施方式中，吸收性清潔墊可以是包括微纖維層和置於微纖維層和柔性支撐結構之間的泡沫層的層壓材料(laminate)。
在該設備的一些實施方式中，清潔盒框架可以具有用於每個光學清潔元件的對應的光學清潔元件凹腔，每個對應的光學清潔元件凹腔可以具有底部(floor)和一個或更多個側壁，並且每個光學清潔元件可以位於對應的光學清潔元件凹腔中。
在該設備的一些實施方式中，每個光學清潔元件還可以包括對應的蓋板，蓋板被設定尺寸以至少延伸到對應的光學清潔元件凹腔的側壁，每個蓋板可以具有孔，孔被設定尺寸以允許對應的光學清潔元件的柔性支撐結構穿過蓋板突出，並且每個光學清潔元件的吸收性清潔墊的至少一部分可以夾在光學清潔元件的對應蓋板和清潔盒框架之間。
在該設備的一些實施方式中，該設備還可以包括酒精檢測感測 器或液體檢測感測器中的一個或兩個。這種感測器可以定位成分別檢測光學清潔元件凹腔中存在的酒精或液體。
在該設備的一些實施方式中，吸收性清潔墊的至少一部分可以包括指示器，當指示器暴露于液體時，該指示器引起吸收性清潔墊的該部分改變顏色。在一些實施方式中，當該部分暴露於異丙醇而不僅僅是普通液體時，顏色可發生變化。
在該設備的一些實施方式中，可以有一個光學清潔元件、兩個光學清潔元件、三個光學清潔元件、四個光學清潔元件或多於四個光學清潔元件。
在該設備的一些實施方式中，該設備可以包括防止重複使用的機構，例如射頻識別標籤、條碼、快速回應(QR)碼、序號和/或近場通信標籤。
在一些實施方式中，可以提供一種套件，該套件包括設備中的一個以及液體清潔劑容器、注射器和/或移液管。
在一些實施方式中，可以提供一種方法，該方法包括：(a)獲得上面討論的設備或套件中的任何一種，(b)將液體清潔劑施加到一個或更多個光學清潔元件中的一個的第一光學清潔元件的吸收性清潔墊，(c)將該設備安裝到分析單元的盒接納器中，(d)控制分析單元以引起盒接納器和分析單元的光學部件之間的相對豎直平移，使得分析單元的光學部件和第一光學清潔元件的吸收性清潔墊彼此接觸，並且使得第一光學清潔元件的吸收性清潔墊和第一光學清潔元件的柔性支撐結構被壓縮第一量，以及(e)控制分析單元以引起盒接納器和光學部件之間的相對水準平移，從而引起第一光學清潔元件的吸收性清潔墊清潔光學部件。
在該方法的一些實施方式中，(e)可以包括控制分析單元以引起 盒接納器和光學部件之間以蝴蝶結(
Figure 108112487-A0305-02-0005-1
)圖案或雙紐線(∞)圖案進行一次或更多次相對水準平移。
在該方法的一些實施方式中，該設備可以是具有吸收性清潔墊的設備，該吸收性清潔墊包括指示器，當該指示器在一些實施方式中暴露於液體或在其他實施方式中暴露于酒精時，該指示器引起吸收性清潔墊的部分改變顏色，並且該方法還可以包括控制分析單元，以引起分析單元在(d)或(e)之前獲得第一光學清潔元件的吸收性清潔墊的成像資料，以及基於在成像資料中檢測到的顏色確定液體清潔劑已經被施加到第一光學清潔元件的吸收性清潔墊。
在該方法的一些實施方式中，該方法還可以包括控制分析單元以引起分析單元在(d)或(e)之前獲得第一光學清潔元件的吸收性清潔墊的成像資料，並且基於從成像資料測量的吸收性清潔墊的反射率確定液體清潔劑已經被施加到第一光學清潔元件的吸收性清潔墊。
在該方法的一些實施方式中，該設備可以具有如上所討論的感測器，並且該方法還可以包括控制分析單元以在(d)或(e)之前從至少一個感測器獲得感測器讀數。
在一些實施方式中，可以提供一種分析單元，該分析單元包括：光學感測器頭，其包含光學部件；盒接納器，其被配置為接納和支撐可移除盒；以及控制器，其包括記憶體和一個或更多個處理器。一個或更多個處理器可以與記憶體通信地連接，並且記憶體可以存儲用於控制一個或更多個處理器的指令，以：(a)確定權利要求1至10中任一項所述的設備已經安裝在盒接納器中，(b)引起盒接納器和光學部件之間的相對豎直平移，使得光學部件和設備的一個或更多個光學清潔元件中的第一光學清潔元件的吸收性清潔墊彼此接觸，並且使得第一光學清潔元件的吸收性清潔墊和第一光學清潔元件的柔性支撐結構被壓縮第一量；和(c)引起盒接納器和光學部件之間的相對水準平移，以 便引起第一光學清潔元件的吸收性清潔墊清潔光學部件。
在分析單元的一些實施方式中，設備可以是具有防止重複使用的機構的設備，並且記憶體還可以存儲用於控制一個或更多個處理器的指令，以進一步引起分析單元：從防止重複使用的機構獲得資料，基於該資料確定設備是否被授權使用，並且僅當設備被確定被授權使用時執行(b)和(c)。
在分析單元的一些實施方式中，記憶體還可以存儲用於控制一個或更多個處理器的指令，以作為(c)的一部分，進一步引起盒接納器和光學部件之間以蝴蝶結(
Figure 108112487-A0305-02-0006-2
)圖案或雙紐線(∞)圖案進行一次或更多次相對水準平移。
在分析單元的一些實施方式中，該設備可以包括指示器，當該指示器暴露於液體或在一些實施方式中暴露于酒精時，該指示器引起吸收性清潔墊的一部分改變顏色。在這樣的實施方式中，記憶體還可以存儲用於控制一個或更多個處理器的指令，以進一步引起分析單元在(b)或(c)之前獲得第一光學清潔元件的吸收性清潔墊的成像資料，並且基於在成像資料中檢測到的顏色確定液體清潔劑已經被施加到第一光學清潔元件的吸收性清潔墊。
在分析單元的一些實施方式中，記憶體還可以存儲用於控制一個或更多個處理器的指令，以進一步引起分析單元在(b)或(c)之前獲得第一光學清潔元件的吸收性清潔墊的成像資料，並且基於從成像資料測量的吸收性清潔墊的反射率確定液體清潔劑已經被施加到第一光學清潔元件的吸收性清潔墊。
在分析單元的一些實施方式中，設備可以具有酒精檢測感測器或液體檢測感測器，並且記憶體還可以存儲用於控制一個或更多個處理器的指令，以進一步引起分析單元在(b)或(c)之前從至少一個感測器獲得感測器讀數，並且基於感測器讀數確定液體清潔劑已經被施加到第一光學清潔元件的吸收性清潔墊。
102:分析單元
104:光學部件
106:盒接納器
108:可移除盒
110:光學清潔盒
112:清潔盒框架
114:支架
116:***件
118:光學清潔元件
120:吸收性清潔墊
122:柔性支撐結構
124:蓋板
126:表面
128:圓頂形狀
130:凹表面
132:曲率半徑
134:紡織層
136:泡沫芯
138:光學清潔元件凹腔
140:側壁
142:底部
144:孔
150:夾子
154:移液管
156:容器
158:光學感測器頭
160:門
162:蝴蝶結圖案
164:雙紐線圖案
172:電極
174:光纖
176:化學指示器
178:防止重複使用的機構
180:控制器
182:埠
184:處理器
186:記憶體
188:帽
190:包裝材料
192:突出部
1102:框
1104:框
1106:框
1108:框
1110:框
1112:框
1114:框
1116:框
1118:框
1120:框
1122:框
1124:框
1126:框
1128:框
1130:框
1132:框
1134:框
1452:污染物
在所附的附圖的圖中，本文中公開的各種實施方式以示例的方式而非限制性的方式示出，其中相似的參考標記指的是相似的元件。
圖1描繪了示例性分析系統以及可與分析系統一起使用的示例性可移除盒和示例性光學清潔盒。
圖2描繪了圖1的示例光學清潔盒的等距分解圖。
圖3描繪了用於圖2的示例性清潔盒的示例性***件的等距分解圖。
圖4描繪了圖2的示例性清潔盒的側視截面圖。
圖4’描繪了圖4的由點劃線矩形界限界定的部分的詳細視圖。
圖5描繪了處於第一構型的圖1的示例分析單元的簡化部分的透視圖。
圖6描繪了圖5的一部分的詳細視圖。
圖7描繪了處於第二構型的圖1的示例分析單元的簡化部分的透視圖。
圖8描繪了圖7的一部分的詳細視圖。
圖9描繪了包括圖1的示例性光學清潔盒的示例性套件。
圖10描繪了包括各種示例性感測器的圖1的示例光學清潔盒的另一分解圖。
圖11描繪了使用如本文所述的光學清潔盒的示例性工藝流程。
圖12描繪了帶有密封帽的示例性光學清潔盒***件的橫截面。
圖13描繪了帶有密封膜的示例性光學清潔盒***件的橫截面。
圖14是被污染的示例性光學部件在兩趟盲手動清潔後的放大照片。
圖15是被污染的示例性光學部件在多趟盲手動清潔後的放大照片，該多趟盲手動清潔導致通過光學部件的額外的2%的強度損失。
圖16是被污染的示例性光學部件在使用圖1的示例性光學清潔盒清潔之後的放大照片。
圖1至圖10是在每個圖中按比例繪製的，但是從圖到圖不一定是相同的比例。應當理解，本公開不限於附圖中描繪的實施方式(特別地，本公開不限於本文描繪的若干詳細示例)，並且與本文公開一致的其他實施方式也被認為在本公開的範圍內。
如上所述，諸如顯微成像器、DNA測序儀和其他實驗室設備的各種基於光學的分析單元或儀器可以被裝備成接納可移除盒，該可移除盒可以包含或接納樣本，例如流過盒的樣本，該樣本位於具有各種光學部件(例如透鏡、篩檢程式等)的光學感測器的視野中。這種可移除盒可由盒接納器(例如，機械介面)接納和支撐，該盒接納器與可移除盒接合，將可移除盒固定在合適位置，並提供機械、電氣和/或流體介面，分析單元可通過這些介面與可移除盒相接。
圖1描繪了示例性分析系統或單元以及可與分析系統一起使用的示例性可移除盒和示例性光學清潔盒。示例性分析單元102可以具有光學感測器頭158(這裡示出為封裝在殼體中)，光學感測器頭158可以包括一個或更多個光學感測器，該一個或更多個光學感測器可以被配置為掃描可移除盒108的 部分，在該示例中，可移除盒108是微流體流動池(microfluidic flow cell)。可移除盒108可以例如***分析單元102的位於門160下方的盒接納器中；在使用過程中，門160可以滑出，允許可移除盒***並放置到盒接納器中。盒接納器然後可以在光學感測器頭158下方平移，以便允許由光學感測器頭158掃描/成像可移除盒的部分。
分析單元102可以包括例如控制器180，控制器180可以包括記憶體186和一個或更多個處理器184。該一個或更多個處理器184和記憶體186可以彼此可操作地連接，並且可以與例如光學感測器頭可操作地連接，並且可以被配置成使得分析單元執行各種動作或操作，例如裝載盒、執行清潔操作、檢查光學部件清潔度和/或驗證光學清潔盒的使用狀態。在許多實施方式中，記憶體186可以存儲可由一個或更多個處理器184執行的指令，該指令引起一個或更多個處理器184執行各種動作或者引起各種動作發生。
在一些情況下，污染物可能積聚在光學感測器的光學部件上，尤其是在這些部件的最靠近可移除盒108(並因此暴露於環境空氣)的表面上。
圖1還描繪了示例性光學清潔盒110，光學清潔盒110被設計成用於同一分析單元102中。因此，示例性光學清潔盒110具有與可移除盒108相似的整體形狀因數，允許其以與可移除盒108相同的方式***分析單元102中，並用於從光學部件清除污染物。這種光學清潔盒可用於這種分析系統中，以可靠、快速和安全地從這樣的光學部件清除這樣的污染物。這樣的清潔盒可以用來代替手動清潔操作，手動清潔操作可能由於不同的人如何執行操作，甚至同一個人從一次清潔到下一次清潔如何執行操作的變化而帶來變化。在諸如分析單元102的分析單元的環境中，其中光學感測器被殼體包圍，手動清潔操作還可能需要移除殼體和/或其他部件，以允許技術人員接近光學部件。
本文討論的光學清潔盒構思與分析儀器的介面相容，該分析儀器在正常(非清潔)分析操作期間接納和支撐由這樣的分析儀器使用的可移除盒，並且不只限於所示的實施方案。應當理解，類似的構思可以在其他類型的基於盒的系統的環境中實現。
圖2描繪了圖1的示例性光學清潔盒的等距分解圖。在所描繪的示例中，光學清潔盒110包括清潔盒框架112，該清潔盒框架112與用於可移除盒的盒框架大體上相似或相同。例如，在一些情況下，可移除盒可以包括塑膠外部清潔盒框架112，其在塑膠外部清潔盒框架112的邊界內支撐玻璃微流體板或類似結構；例如，這種板可以通過支架114保持在框架中的適當位置。用於設計成使用這種盒的分析單元102的光學清潔盒110在某些情況下可以使用完全相同類型的塑膠外部清潔盒框架112，但是可以用***件116代替玻璃微流體板或類似結構，***件116包括光學清潔元件118，並且可選地包括光學清潔元件凹腔(optical cleaning assembly wells)，如本文稍後討論的。在其他實施方式中，清潔盒框架112和包括光學清潔元件118的***件116可以集成為單個部件。在任一種情況下，清潔盒框架112的與分析單元102的盒接納器相接的部分可以被設計成與盒接納器相容。在一些實施方式中，光學清潔盒110可以包括防止重複使用的機構178，例如射頻識別(RFID)標籤、近場通信(NFC)標籤、機器可讀序號、條碼、快速回應(QR)碼或可以由分析單元102讀取並用於識別所討論的光學清潔盒110並確定是否應該使用光學清潔盒110的其他識別字。在圖2中，防止重複使用的機構178是RFID標籤，儘管根據分析單元的特定類型可以使用其他機構。
因此，本文討論的光學清潔盒能夠***到現有的分析單元中，與***/安裝用於正常分析操作的可移除盒相比只需很少的額外的努力或不需要額外的努力。
圖3描繪了用於圖2的示例性清潔盒的示例性***件116的等距分解圖。***件116可以包括一個或更多個(在這個例子中，三個)光學清潔元件118，光學清潔元件中的每個可以安置于光學清潔元件凹腔138中。
每個光學清潔元件118可以包括最終由清潔盒框架112和/或***件116支撐的吸收性清潔墊120和柔性支撐結構122。每個光學清潔元件118的吸收性清潔墊120可以被夾在對應的光學清潔元件凹腔138和蓋板124之間，蓋板124可以例如使用夾子150卡扣到光學清潔元件凹腔138附近的特徵上，或者可以使用其他機構附接。在一些實施方式中，吸收性清潔墊120和柔性支撐結構122可以使用不同於所描繪的蓋板124的結構保持在合適位置。
例如，每個蓋板124可以與相應的光學清潔元件凹腔138相接，例如，蓋板可以具有嵌套在限定光學清潔元件凹腔的壁或表面的內部(或外部)的壁，使得當蓋板124安裝到光學清潔盒110時，蓋板124有助於進一步封閉光學清潔元件凹腔138並防止液體從光學清潔元件凹腔138洩漏。每個蓋板124可以例如具有孔144，孔144被設定尺寸以允許對應的柔性支撐結構122和吸收性清潔墊120穿過蓋板124突出。蓋板124和光學清潔盒110的其餘結構可以緊固或連接在一起，以將吸收性清潔墊120和/或柔性支撐結構122的部分夾在兩者之間且夾緊在相對于光學清潔盒110的合適位置。
圖4描繪了圖2的示例性光學清潔盒110的側視截面圖。圖4’描繪了圖4的由點劃線矩形界限所界定的部分的詳細視圖。
在一些實施方式中，如圖4’中可看到的，吸收性清潔墊120可以具有最外表面和內部泡沫芯136，該最外表面由適於清潔光學部件的材料製成，例如紡織層134，該內部泡沫芯136能夠吸收可施加到吸收性清潔墊120的清潔劑，該清潔劑例如為異丙醇(IPA)。例如，合適的示例的吸收性清潔墊120可以是具有聚氨酯小孔隙開孔泡沫芯136的吸收性清潔墊120，該泡沫芯夾 在聚酯微纖維紡織材料的兩個紡織層134之間。這種吸收性清潔墊120的面朝上的紡織層134可以與光學部件直接接合，並且可以擦掉存在於這種光學部件上的任何污染物。這種吸收性清潔墊120的泡沫芯136可用於在紡織層134上提供分散式的壓縮載荷，從而有助於將紡織層134壓靠在被清潔的光學部件的表面上，但也可用作容納液體清潔劑如IPA的儲器。在這樣的實施方式中，清潔劑可以在使用期間被吸到(或壓到)紡織層134中，從而潤濕紡織層134，並能夠進行光學部件的濕式清潔。
吸收性清潔墊120可以由柔性支撐結構122從下方支撐，柔性支撐結構122可以例如由彈性材料製成，其從清潔盒框架112的表面126和/或***件116向上突出，以便將吸收性清潔墊120壓靠在待清潔的光學部件上。柔性支撐結構122可以由諸如矽樹脂、橡膠或其他彈性材料的材料製成。在一些實施方式中，柔性支撐結構122可以包括剛性部件，例如剛性圓頂元件，以及柔性部件，例如彈簧，柔性部件可以被壓縮以允許剛性部件例如上下行進。在這樣的情況下，剛性部件和彈簧部件兩者可以組合起來被認為是柔性支撐結構122。柔性支撐結構122可以被設計成將吸收性清潔墊120的一部分定位在這樣的位置，當盒接納器和光學元件相對於彼此適當對準時，該位置允許吸收性清潔墊120與待清潔的光學部件接觸。
在一些實施方式中，柔性支撐結構122可以被設計成具有圓頂形狀128。這種實施方式可能特別適合光學部件具有本質上為凹的待清潔表面的情況。在這樣的實施方式中，圓頂形狀128的曲率可以大體上類似於凹的光學部件表面的曲率半徑。例如，在吸收性清潔墊120接觸光學部件的區域中，圓頂形狀128的曲率半徑可以被設定尺寸以具有在凹的光學部件表面的曲率半徑和凹的光學部件表面的曲率半徑減去吸收性清潔墊120(在未壓縮狀態下)的厚度之間的半徑。
如前所述，在一些實施方式中，光學清潔元件118可以位於對應的光學清潔元件凹腔138內，例如由光學清潔盒110中的凹部或光學清潔盒中的凸起壁形成的凹腔。在任一種情況下，光學清潔元件凹腔將具有底部142和向內面向柔性支撐結構122的一個或更多個側壁140，該底部142和一個或更多個側壁140可以限定防漏容器(假設光學清潔盒110保持水準並且不被推擠)。這種凹腔不僅可以用於說明定位特徵，例如光學清潔元件118或其部件，而且還可以用於容納可能不會被吸收性清潔墊120吸收的過量液體清潔劑，例如，如果在製備期間過多的液體清潔劑被施加到吸收性清潔墊120，或者如果吸收性清潔墊120充滿液體清潔劑且然後在使用期間被壓縮(在這種情況下，液體清潔劑中的一些可能被擠出吸收性清潔墊120)。這樣的光學清潔元件凹腔138可以被設定尺寸以例如能夠至少容納旨在被施加到每個吸收性清潔墊的液體清潔劑的量(例如，約1ml液體或更多液體)。
在示例性分析儀器中，在分析過程中，可移除盒可以支撐在盒接納器的卡頭(chuck)或其他平坦表面上。在使用過程中，可移除盒的部分可以被夾緊或以其他方式固定在適當的位置，並且盒接納器可以被配置成在使用期間豎直地和/或水準地平移，例如，以允許分析單元的光學感測器聚焦於可移除盒的不同區域上。在一些分析單元中，光學感測器(和相關的光學部件)也可以在豎直方向和/或水準方向上是可移動的(在一些這樣的情況下，盒接納器可以相對於光學感測器可以移動的方向是靜止的，以提供光學感測器和盒接納器之間的相對移動。在這樣的系統中，光學感測器可以經常保持在可移除盒上方預定最小高度上方，以防止光學感測器的最底部光學部件可能與可移除盒碰撞。
圖5描繪了處於第一構型的圖1的示例性分析單元的簡化部分的透視圖。圖6描繪了圖5的一部分的細節圖。在該第一構型中，在光學感測器頭 158的光學部件104和光學清潔盒110的吸收性清潔墊120之間存在間隙。在該示例中，光學部件具有凹表面130，例如，具有負曲率半徑，該負曲率半徑通常與光學清潔元件118的圓頂形狀的曲率半徑132匹配。光學清潔盒110可以使用盒接納器106支撐在分析單元102內，盒接納器106可以從下方支撐光學清潔盒110。
圖7描繪了處於第二構型的圖1的示例分析單元的簡化部分的透視圖。圖8描繪了圖7的一部分的細節圖。
在清潔操作期間，盒接納器106和光學感測器頭158可以移動到第二構型，其中吸收性清潔墊120可以與光學部件104緊密接觸。當與光學部件104接觸時，吸收性清潔墊120和光學部件104可被引起相對於彼此橫向移動，例如，以8字形或雙紐線圖案164、蝴蝶結圖案162或引起吸收性清潔墊120擦拭光學部件104的污染表面的任何其他移動圖案。
圖9描繪了用於分析單元的示例性套件，該套件包括圖1的示例光學清潔盒。在一些實施方式中，套件還可以包括清潔劑(例如，IPA或其他合適的液體)的容器156，和/或用於將預定量的清潔劑轉移到每個光學清潔元件118的移液管154或某種其他施用器，例如注射器。在一些實施方式中，套件可以僅包括施用器或移液管154和光學清潔盒110，清潔劑例如由最終使用者或分析單元102所位於的設施單獨提供。在其他實施方式中，套件可以包括帶有清潔劑的容器156，但是沒有施用器或移液管154。在一些這樣的實施方式中，用於清潔劑的容器156可以包括自計量機構，該自計量機構一次僅分配預定量的清潔劑。在其他這樣的實施方式中，容器156可以是簡單的容器，用戶負責監控清潔劑的分配，以確保不分配太多清潔劑。在另外的實施方式中，套件可以包括光學清潔盒110、施用器或移液管154和清潔劑的容器156中的所有三者。
在使用光學清潔盒110之前，諸如IPA或其他合適的液體的清潔劑可以施加到吸收性清潔墊120，例如，使用移液管154或諸如注射器的其他施加器。在一些實施方式中，光學清潔盒110可以包括被設計成允許確認清潔劑已經被施加的一個或更多個特徵。例如，在一些實施方式中，光學清潔盒可以包括感測器或感測器的部件，感測器或感測器的部件可以用於檢測清潔劑是否已經被施加。圖10描繪了包括各種示例性感測器的圖1的示例光學清潔盒的另一分解圖。在圖10的示例光學清潔盒中，為了便於討論，在每個光學清潔元件118中實施不同類型的感測器。然而，實際上，如果使用這樣的感測器，相同類型的光學清潔元件118對於光學清潔盒110的每個光學清潔元件118將可能是相同的。
在一些情況下，這種感測器可以像液體檢測感測器一樣簡單，其可以檢查光學清潔元件凹腔中的兩個電極172之間的電導率變化，如果存在液體，兩個電極172可以同時與諸如清潔劑的液體接觸。電路可以被配置成監控這樣的電極172，並檢測電極之間的電導率的變化，這種變化可能由於電極之間存在液體橋而導致。這樣的電極172可以由位於光學清潔盒110上的電路監控，或者其可以例如簡單地是導電跡線和/或導線，其被佈線到光學清潔盒110上的位置，在該位置，電極可以與分析單元102的導電觸點相接，分析單元102可以監控電極172在電特性方面的這些變化。
在其他情況下，感測器可以更有辨別力，並且可以不僅能夠檢測清潔劑的存在，還能夠檢測清潔劑是否是期望的清潔劑。例如，位於光學清潔元件凹腔138中的光纖174可以配備有特定的光學塗層，當暴露于IPA時，該光學塗層膨脹並因此改變其折射率；這種折射率變化可以是可檢測的，並且可以用作確定光學清潔元件凹腔138中存在IPA的機制。例如，聚碳酸酯光纖可以用聚苯乙烯層塗覆(在去除任何包覆層之後)，當暴露于酒精時，聚苯乙烯層 會膨脹。與光學清潔盒一起使用的分析單元可以詢問這種光纖傳感器，以確定在開始光學清潔盒110的清潔操作之前，光學清潔盒110是否已經適當地準備了清潔劑，例如IPA。如果不是，分析單元102可以被配置為顯示錯誤消息並拒絕啟動清潔操作。
在一些其他實施方式中，用於檢測清潔劑的施加的感測器可以採取基於化學物質的指示器176的形式，該指示器176例如可以在暴露于清潔劑時改變顏色。這種化學物質指示器176可以設置在例如吸收性清潔墊的在柔性支撐結構的基部附近的部分中，使得這些化學物質不靠近將用於向接觸光學部件的吸收性清潔墊120施加壓力的柔性支撐結構122的頂部(以防止光學部件被指示器意外污染)。在一些實施方式中，蓋板124可以包括埠182，如果指示器176會以其它方式從視野中被遮擋的話，埠182允許指示器176被看到。
例如，重鉻酸鉀在暴露于IPA時可能會發生還原反應，IPA引起重鉻酸鉀從黃色變成淺藍色。根據所選的清潔劑，可以使用其他化學指示器來達到類似的效果。這種顏色變化可以由人類操作員觀察到，或者在某些情況下，可以由分析單元檢測到。例如，分析單元102可以將待清潔的光學感測器與光學清潔盒110的具有化學指示器176的部分對準，並且可以獲得允許識別成像區域的顏色的圖像資料──如果顏色不是液體清潔劑存在將所引起的預期顏色，則分析單元102可以產生錯誤消息，並且可以要求在繼續清潔操作之前添加清潔劑。
在一些情況下，在光學清潔盒110上可能沒有使用感測器，但是分析單元102可以簡單地嘗試使用來自光學感測器的資料來檢測光學清潔盒110中液體的存在。例如，如果吸收性清潔墊120包括白色或灰白的微纖維紡織層134和較深色泡沫芯136，例如灰色、深灰色、藍色、深藍色、紅色等，則外部紡織層134在潮濕時會顯得更深，這是由於液體充當通向較深泡沫芯136的光管 (例如，當淺色布料變濕時，它顯得更深，並且允許布料下面的較深顏色的物體更加可見)。在這樣的情況下，分析單元102可以獲得吸收性清潔墊120的圖像資料，並且將吸收性清潔墊120的平均顏色與已經預定指示吸收性清潔墊120處於“濕”狀態的值的範圍進行比較。如果考慮到這樣的資訊，吸收性清潔墊120看起來不“濕”，則分析單元102可以產生錯誤消息，並且可以要求在繼續清潔操作之前添加清潔劑。
可選擇地，可以分析來自光學感測器的成像資料，以確定存在于吸收性清潔墊120中的反射率水準；如果吸收性清潔墊120是濕的，則它將具有比乾燥時更高的反射率。因此，如果吸收性清潔墊的反射率不在被認為指示“濕”狀態的預定反射率範圍內，那麼分析單元102可以產生錯誤消息，並且可以要求在繼續清潔操作之前添加清潔劑。
應當理解，其他清潔盒和/或分析單元可以是“開環的”，即，它們可能沒有檢測或指示清潔劑存在或不存在的設置。
應當理解，本文討論的清潔盒可以包括一個或更多個光學清潔元件。例如，清潔盒可以包括兩個、三個、四個或者甚至更多個光學清潔元件。在這樣的情況下，清潔操作可以在清潔期間的不同階段切換到未使用的光學清潔元件，以確保在清潔操作的後續部分期間，從光學部件擦掉的污染物不被重新引入到光學部件。在具有多個光學清潔元件的實施方式中，每個光學清潔元件的部件中的一些或所有可以集成或合併成更少的部件。例如，單個蓋板可以在其中具有三個孔，並且用於固定三個光學清潔元件的零件。類似地，單個光學清潔元件凹腔可以將尺寸設定成足夠大以容納多個光學清潔元件。另外地或可選擇地，單個長吸收性清潔墊可以用於多個光學清潔元件。在一些實施方式中，用於多個光學清潔元件的柔性支撐結構可以是一個連續的部件。
如前所述，在一些實施方式中，光學清潔盒110可以包括防止重 複使用的機構178，例如射頻識別(RFID)標籤、近場通信(NFC)標籤、機器可讀序號、條碼、快速回應(QR)碼或可以由分析單元102讀取並用於識別所討論的光學清潔盒110並確定是否應該使用光學清潔盒110的其他識別字。例如，在一些實施方式中，分析單元102可以將這種識別資訊傳送給與其他分析單元102通信連接的遠端伺服器，並且遠端伺服器可以確定光學清潔盒110是否先前已經與另一個分析單元102一起使用(該另一個分析單元在之前的使用期間也將該識別資訊報告給遠端伺服器)。在其他實施方式中，光學清潔盒110可以包括某種形式的記憶體，例如，其可以是RFID部件(比如圖2所示的RFID部件)的一部分，其允許光學清潔盒110的使用資料存儲在光學清潔盒110本身中。這種資料可以由分析單元102讀取，以確定光學清潔盒110是否未被使用；如果已經使用，則分析單元102可以拒絕重新使用光學清潔盒110，並要求使用未使用的替換光學清潔盒110。在這樣的情況下，當分析單元102使用光學清潔盒110執行清潔操作時，分析單元102可以引起存儲在光學清潔盒110中的資訊被更新以反映這種使用並防止以後重複使用。
圖11描繪了使用光學清潔盒(如本文所述的那些光學清潔盒)的示例性工藝流程。這種工藝流程的各個方面可以由分析單元的控制器引起發生，儘管該技術的一些方面可以由使用者或另一系統執行。
在框1102中，可以獲得光學清潔盒。在框1104中，如果液體清潔劑不存在，則光學清潔盒可以配給有液體清潔劑。例如，可以使用移液管或類似的施加器將預定量的IPA施加到每個光學清潔元件。在框1106中，光學清潔盒可以***到分析單元中，該光學清潔盒將清潔一個或更多個光學部件。一旦光學清潔盒被***分析單元中，則在框1108中，可以在分析單元上啟動清潔模式。在一些實施方式中，分析單元本身可以配備清潔劑儲器和配置成將清潔劑分配到盒中的系統。在這樣的系統中，光學清潔盒可以首先裝載到分析單元 中，然後分析單元可以將清潔劑輸送到合適的光學清潔元件。
在一些實施方式中，光學清潔盒可以預先配給有液體清潔劑，例如，在包裝和運送給顧客之前，可以將計量的數量的液體清潔劑施加到每個吸收性清潔墊。在這樣的實施方式中，光學清潔盒可以被包裝在密封包裝材料中，或者光學清潔元件凹腔可以用可移除的帽(例如，塑膠或彈性帽，其可以壓配合在光學清潔元件凹腔側壁周圍)密封，以防止液體清潔劑的洩漏和/或蒸發。在使用之前，包裝材料或帽可以由使用者移除。在一些這樣的情況下，包裝材料或帽可以以一種方式被著色或圖案化，使容易視覺確認包裝材料或帽是否已經被移除，例如帽可以由紅色、橙色、黑色、藍色或綠色材料製成，該材料與用於吸收性清潔墊的白色或類白色材料具有高對比。在一些這樣的實施方式中，分析單元本身可以在使用之前掃描吸收性清潔墊或使吸收性清潔墊成像，以確認包裝材料或帽已經完全移除──例如，對仍然具有高對比顏色的任何區域的檢測可以指示包裝材料或帽沒有完全移除。分析單元可能會停止操作，並指示光學清潔盒未正確配置成供使用。
圖12描繪了帶有密封帽的示例性光學清潔盒***件的橫截面。***件116類似於圖4’中所示的***件，並且類似的標注用於指示類似的結構(然而，從圖4’中所示的部分省略了一些部件)。蓋板124的形狀與圖4’中的不同，但是具有相似的功能。示出了彈性帽或塑膠帽188，其在光學清潔元件凹腔138周圍密封，抵著光學清潔元件凹腔138的側壁密封。在吸收性清潔墊120被配給有液體清潔劑之後，帽188可以密封到光學清潔元件凹腔138，從而將液體清潔劑密封在內部並防止洩漏。在使用之前，帽188可以被移除。
圖13描繪了帶有密封膜的示例性光學清潔盒***件的橫截面。這個示例類似於圖12的示例，除了塑膠膜或包裝材料190已經被施加在吸收性清潔墊120上(在吸收性清潔墊120已經配給有液體清潔劑之後)並且粘附或膠 粘到形成光學清潔元件凹腔138的周界的壁。膜或包裝材料的突出部192可以延伸超過光學清潔元件凹腔138的邊緣，以允許用戶容易地將膜或包裝材料190從光學清潔盒剝離。
作為清潔模式的一部分，分析單元可以可選地在框1110中進行檢查，以查看光學清潔盒之前是否已經被使用過，如本文前面所討論的。如果在框1110中分析單元確定光學清潔盒先前已經被使用，那麼在框1112中分析單元可以停止清潔模式，並且在框1116中光學清潔盒被新的光學清潔盒替換之前，在框1114中可以從分析單元移除光學清潔盒，然後在框1106中光學清潔盒可以被***到分析單元中，此時分析單元的清潔模式可以重新開始。
如果在框1110中確定光學清潔盒以前沒有被使用過(或者如果根本沒有對光學清潔盒以前的使用進行檢查)，該技術可以可選地進行到框1118，在框1118中，分析單元可以使用本文前面討論的一種或更多種技術中的一種來檢查光學清潔盒中是否存在清潔劑。如果在框1118中確定清潔劑不存在，則在框1120中分析單元可以停止清潔模式，並且在框1122中可以從分析單元移除光學清潔盒，之後，在框1106中光學清潔盒被重新***分析單元中(此時可以重新開機分析單元的清潔模式)之前，在框1124中清潔劑可以被施加到光學清潔盒。
如果在框1118中確定光學清潔盒中有清潔劑(或者如果根本沒有對清潔劑進行檢查)，則該技術可以前進到框1126，在框1126中，分析單元可以使光學清潔盒的吸收性清潔墊與待清潔的光學部件接觸。這可以包括水準平移光學清潔盒和/或光學部件(沿X和/或Y方向)，使得吸收性清潔墊通常位於光學部件下方的中心，且然後豎直平移光學清潔盒和/或光學部件(沿Z方向)，使得吸收性清潔墊和光學部件接觸。
然後，在框1128中，分析單元可以使吸收性清潔墊橫向平移一 次或更多次，例如以雙紐線圖案、蝴蝶結圖案或其他圖案橫向平移，以使吸收性清潔墊擦拭光學部件，同時通過柔性支撐結構被壓靠在光學部件上。
在一些實施方式中，可以在框1130中可選地評估光學部件的清潔度，以確定清潔操作的有效性。例如，可以移動光學清潔盒和/或光學部件，使得光學清潔盒不阻擋光學部件的光路，且因此光學部件可以用於執行測試測量，其中可以在一個或更多個條件下評估光學部件的透射率。
在框1132中，可以確定是否需要進一步清潔。這種確定可以基於清潔度評估的結果做出，如關於框1130所討論的，或者可以基於預定的清潔時間表做出。例如，如果光學清潔盒具有三個光學清潔元件，則可以對每個光學清潔元件執行單獨的清潔迴圈(初始清潔迴圈、中間清潔迴圈和最終清潔迴圈)，而不管光學部件的清潔度水準如何。如果在光學清潔盒上存在多個光學清潔元件，那麼分析單元可以引起光學部件和光學清潔盒週期性地相對於彼此平移，以便將其餘光學清潔元件中的一個的吸收性清潔墊與光學部件接合，等等。如果在框1132中確定要執行進一步的清潔，則該技術可以返回到框1126，此時，分析單元可以在前進到框1128之前使光學清潔盒的相同或不同的光學清潔元件在光學部件下方居中。
如果在框1132中確定不需要進一步的清潔操作，則分析單元可以停止清潔模式，並且光學清潔盒可以被移除，從而允許分析單元返回正常使用。
已經發現，與手動清潔相比，諸如本文所討論的那些光學清潔盒的光學清潔盒提供了非常優越和可重複的清潔性能，尤其是在光學部件只可以使用“盲”清潔技術可行地手動清潔的系統中。例如，在許多分析系統中，使用者實際上很難或不可能直接檢查光學部件的最外表面，因為這樣的表面可能經常位於分析單元內對使用者頭部沒有足夠間隙的位置。此外，甚至可能沒有 足夠的間隙或通道讓用戶甚至間接地檢查這些表面，例如使用鏡子或其他裝置。在這樣的情況下，使用者可能需要求助於“盲”清潔，在這種情況下，他們必須通過觸摸或其他沒有直接視覺確認的方式工作以清潔光學部件。由於該過程是手動的，因此這樣的清潔操作可能非常容易受到效力變化的影響，並且可能因用戶而異，或者甚至在同一用戶的不同嘗試之間也可能不同。為了說明盲清潔和基於光學清潔盒的清潔之間的對比，下面討論手動盲清潔後和用光學清潔盒清潔後光學部件的照片。
圖14是被污染的示例光學部件在兩趟盲手動清潔之後的放大照片。如可以看出的，即使在手動清潔兩趟之後，淺色殘餘物或污染物1452的條紋仍保留在透鏡上。
圖15是被污染的示例性光學部件在多趟盲手動清潔(例如，使用由技術人員手指支撐並用IPA潤濕的吸收性清潔墊)之後的放大照片，多趟盲手動清潔導致通過光學部件的額外的2%的強度損失。在該示例中，兩趟手動清潔實際上加劇了污染問題，因為污染物1452被塗抹在光學部件的較大區域上。雖然污染物中的一些被去除，從而提高光學部件在這些區域中的透射率，但是之前未被污染的光學部件的其他區域具有被轉移到它們的污染物，導致通過光學部件的信號強度實際上進一步降低了2%。當然，上面討論的2%的減低僅僅是由特定個人完成的一個示例性清潔的結果；由同一個人或其他個人完成的其他清潔可能會表現出或多或少的減低。
圖16是被污染的示例光學部件在使用圖1的示例性光學清潔盒清潔之後的放大照片。與圖14和15中所示的透鏡對比，圖16中的透鏡已經使用諸如光學清潔盒110(以IPA作為清潔劑)的光學清潔盒和諸如上文討論的技術進行了清潔。如可以看出的，光學部件的表面幾乎沒有污染物或完全沒有污染物，這與手動盲清潔操作的結果形成鮮明對比。
應當理解的是，短語“對於一個或更多個<項>中的每一個<項>”如果在本文使用，應當理解為包括單項的組和多項的組，即短語“對於...每一個”在其在程式語言中用於指所引用的項的任何群體中的每一個項的意義上使用。例如，如果所引用的項的群體是單個項，那麼“每一個”將僅指該單個項(儘管事實上“每一個”的字典上的定義經常將該術語定義為指“兩個或更多個事物中的每一個”)，並且將不意味著必須有這些項中的至少兩個。
在本公開和權利要求中順序指示符的使用，如果有的話，例如(a)、(b)、(c)...或類似的順序指示符，應理解為不傳達任何特定的次序或順序，除非明確指示了這樣的次序或順序。例如，如果有標記為(i)、(ii)和(iii)的三個步驟，應當理解，除非另有說明，否則這些步驟可以以任何次序執行(或者甚至同時執行，如果沒有另外顯示不當的話)。例如，如果步驟(ii)涉及對在步驟(i)中創建的元件的處理，則步驟(ii)可以被視為發生在步驟(i)之後的某個時間。類似地，如果步驟(i)涉及對在步驟(ii)中創建的元件的處理，則應該相反地理解。
術語如“大約”、“近似”、“大體上”、“標稱”或類似術語當用於引用數量或類似的可量化屬性時，應理解為包括指定的值或關係的±10%以內的值(以及包括指定的實際的值或關係)，除非另有說明。
應該理解，前述概念的所有組合(假設這些概念不相互矛盾)被認為是本文公開的實用新型主題的一部分。特別地，出現在本公開結尾處的要求保護的主題的所有組合被考慮是本文公開的實用新型主題的一部分。還應當理解，也可以在通過引用併入的任何公開中出現的在本文中明確地採用的術語應當給予與本文公開的特定構思最一致的含義。
還應當理解，儘管以上公開集中於一個或更多個特定示例實施方式，但以上公開不僅僅限於所討論的示例，而且還可以應用於類似的變型和 機構，並且這些類似的變型和機構也被認為在本公開的範圍內。
110:光學清潔盒
112:清潔盒框架
114:支架
116:***件
118:光學清潔元件
178:防止重複使用的機構

Claims (22)

  1. 一種用於清潔分析單元中的光學部件的設備，所述分析單元被配置成在分析期間使用所述光學部件分析位於可移除盒中的樣本，所述設備包括：清潔盒框架，其被配置為能夠被所述分析單元的盒接納器接納並支撐，所述盒接納器被配置為接納並支撐所述可移除盒；和一個或更多個光學清潔元件，每個光學清潔元件包括：吸收性清潔墊，以及柔性支撐結構，其從所述清潔盒框架的表面凸出，並介於所述清潔盒框架和所述吸收性清潔墊的至少一部分之間。
  2. 根據請求項1所述的設備，其中，所述柔性支撐結構包括彈性材料，並且具有圓頂形狀的第一部分。
  3. 根據請求項2所述的設備，其中，所述圓頂形狀具有當所述設備由所述盒接納器支撐時至少大體上匹配所述光學部件的面向所述清潔盒框架的表面的曲率半徑的半徑。
  4. 根據請求項1至3中任一項所述的設備，其中，所述吸收性清潔墊是包括微纖維層和置於所述微纖維層和所述柔性支撐結構之間的泡沫層的層壓材料。
  5. 根據請求項1所述的設備，其中：所述清潔盒框架具有用於每個光學清潔元件的對應的光學清潔元件凹腔，每個對應的光學清潔元件凹腔具有底部和一個或更多個側壁，並且每個光學清潔元件位於對應的光學清潔元件凹腔中。
  6. 根據請求項5所述的設備，其中：每個光學清潔元件還包括對應的蓋板，所述蓋板被設定尺寸以至少延伸到 對應的光學清潔元件凹腔的所述側壁，每個蓋板具有孔，所述孔被設定尺寸以允許對應的光學清潔元件的所述柔性支撐結構穿過所述蓋板突出，並且每個光學清潔元件的所述吸收性清潔墊的至少一部分被夾在所述光學清潔元件的對應的蓋板和所述清潔盒框架之間。
  7. 根據請求項1所述的設備，還包括選自由酒精檢測感測器和液體檢測感測器組成的組的至少一個感測器，其中所述至少一個感測器定位成分別檢測在對應的光學清潔元件凹腔中存在的酒精或液體。
  8. 根據請求項1所述的設備，其中，所述吸收性清潔墊的至少一部分包括指示器，當所述指示器暴露于選自由液體和異丙醇組成的組的物質時，所述指示器引起所述吸收性清潔墊的所述部分改變顏色。
  9. 根據請求項1所述的設備，其中，所述光學清潔元件的數量選自由以下組成的組：一個光學清潔元件、兩個光學清潔元件、三個光學清潔元件、四個光學清潔元件和多於四個光學清潔元件。
  10. 根據請求項1所述的設備，還包括防止重複使用的機構，所述防止重複使用的機構選自由以下組成的組：射頻識別標籤、條碼、快速回應碼、序號和近場通信標籤。
  11. 一種用於清潔分析單元中的光學部件的套件，包括：根據請求項1至10中任一項所述的設備，和選自由液體清潔劑容器、注射器和移液管組成的組的至少一項。
  12. 一種用於清潔光學部件的方法，所述方法包括：(a)獲得請求項1至10中任一項所述的設備(b)將液體清潔劑施加到所述一個或更多個光學清潔元件中的一個光學清潔元件的第一光學清潔元件的所述吸收性清潔墊； (c)將所述設備安裝到分析單元的盒接納器中；(d)控制所述分析單元，以引起所述盒接納器和所述分析單元的光學部件之間的相對豎直平移，使得所述分析單元的所述光學部件和所述第一光學清潔元件的所述吸收性清潔墊彼此接觸，並且使得所述第一光學清潔元件的所述吸收性清潔墊和所述第一光學清潔元件的所述柔性支撐結構被壓縮第一量；以及(e)控制所述分析單元以引起所述盒接納器和所述光學部件之間的相對水準平移，以便引起所述第一光學清潔元件的所述吸收性清潔墊清潔所述光學部件。
  13. 根據請求項12所述的方法，其中，(e)包括控制所述分析單元以引起所述盒接納器和所述光學部件之間以蝴蝶結(
    Figure 108112487-A0305-02-0029-3
    )圖案或雙紐線(∞)圖案進行一次或更多次相對水準平移。
  14. 根據請求項12或13所述的方法，其中，該設備為請求項8所述的設備且所述方法還包括：控制所述分析單元，以引起所述分析單元在(d)或(e)之前獲得所述第一光學清潔元件的所述吸收性清潔墊的成像資料，以及基於在所述成像資料中檢測到的顏色確定所述液體清潔劑已經被施加到所述第一光學清潔元件的所述吸收性清潔墊。
  15. 根據請求項12或13所述的方法，其中，所述方法還包括：控制所述分析單元以引起所述分析單元在(d)或(e)之前獲得所述第一光學清潔元件的所述吸收性清潔墊的成像資料，並且基於從所述成像資料測量的所述吸收性清潔墊的反射率確定所述液體清潔劑已經被施加到所述第一光學清潔元件的所述吸收性清潔墊。
  16. 根據請求項12或13所述的方法，其中，該設備為請求項7所述的設備且所述方法還包括： 控制所述分析單元以在(d)或(e)之前獲得來自所述至少一個感測器的感測器讀數。
  17. 一種分析單元，包括：光學感測器頭，其包括光學部件；盒接納器，其被配置為接納和支撐可移除盒；和控制器，其包括記憶體和一個或更多個處理器，其中：所述一個或更多個處理器與所述記憶體通信地連接，並且所述記憶體存儲用於控制所述一個或更多個處理器的指令，以：(a)確定請求項1至10中任一項所述的設備已經安裝在所述盒接納器中，(b)引起所述盒接納器和所述光學部件之間的相對豎直平移，使得所述光學部件和所述設備的所述一個或更多個光學清潔元件中的第一光學清潔元件的所述吸收性清潔墊彼此接觸，並且使得所述第一光學清潔元件的所述吸收性清潔墊和所述第一光學清潔元件的所述柔性支撐結構被壓縮第一量；和(c)引起所述盒接納器和所述光學部件之間的相對水準平移，以便引起所述第一光學清潔元件的所述吸收性清潔墊清潔所述光學部件。
  18. 根據請求項17所述的分析單元，其中，該設備為請求項10所述的設備且所述記憶體還存儲用於控制所述一個或更多個處理器的指令，以進一步引起所述分析單元：從所述防止重複使用的機構獲得資料，基於所述資料確定所述設備是否被授權使用，以及僅當設備被確定授權使用時，執行(b)和(c)。
  19. 根據請求項17或18所述的分析單元，其中所述記憶體還存儲用 於控制所述一個或更多個處理器的指令，以作為(c)的一部分，進一步引起在所述盒接納器和所述光學部件之間以蝴蝶結(
    Figure 108112487-A0305-02-0031-4
    )圖案或雙紐線(∞)圖案進行一次或更多次相對水準平移。
  20. 根據請求項17所述的分析單元，其中該設備為請求項8所述的設備且所述記憶體還存儲用於控制所述一個或更多個處理器的指令，以進一步引起所述分析單元：在(b)或(c)之前獲得所述第一光學清潔元件的所述吸收性清潔墊的成像資料，以及基於在所述成像資料中檢測到的顏色，確定液體清潔劑已經被施加到所述第一光學清潔元件的所述吸收性清潔墊。
  21. 根據請求項17所述的分析單元，其中，所述記憶體還存儲用於控制所述一個或更多個處理器的指令，以進一步引起所述分析單元：在(b)或(c)之前獲得所述第一光學清潔元件的所述吸收性清潔墊的成像資料，以及基於從所述成像資料測量的所述吸收性清潔墊的反射率，確定液體清潔劑已經被施加到所述第一光學清潔元件的所述吸收性清潔墊。
  22. 根據請求項17所述的分析單元，其中，該設備為請求項7所述的設備且所述記憶體還存儲用於控制所述一個或更多個處理器的指令，以進一步引起所述分析單元：在(b)或(c)之前從所述至少一個感測器獲得感測器讀數，以及基於所述感測器讀數確定液體清潔劑已經施加到所述第一光學清潔元件的所述吸收性清潔墊。
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