TWI738284B - 可旋轉的法拉第清洗裝置及等離子體處理系統 - Google Patents

可旋轉的法拉第清洗裝置及等離子體處理系統 Download PDF

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Abstract

一種可旋轉的法拉第清洗裝置及等離子體處理系統，包括腔蓋、電機、偏心輪、長花瓣元件、耦合窗、進氣噴嘴、連桿、短花瓣元件、扇形導電件一以及扇形導電件二，反應腔主體上側裝配有腔蓋，腔蓋內側安裝有耦合窗，耦合窗中部開設有進氣噴嘴，進氣噴嘴外側裝配有扇形導電件一，進氣噴嘴外側裝配有扇形導電件二，進氣噴嘴外側裝配有長花瓣元件，進氣噴嘴外側裝配有短花瓣元件，長花瓣元件左側裝配有連桿，連桿前側裝配有偏心輪，偏心輪上側安裝有電機，解決原有ICP反應腔不方便進行清洗的問題，結構合理，便於有效清洗ICP反應腔，清洗全面。

Description

可旋轉的法拉第清洗裝置及等離子體處理系統
本發明關於一種可旋轉的法拉第清洗裝置及等離子體處理系統，屬於ICP腔室清洗技術領域。
在半導體積體電路製造工藝中，刻蝕是其中最為重要的一道工序，其中等離子體刻蝕是常用的刻蝕方式之一，通常刻蝕發生在真空反應腔室內，通常真空反應腔室內包括靜電吸附卡盤，用於承載吸附晶圓、射頻負載及冷卻晶圓等作用。
以往的半導體積體電路刻蝕時經常會用到ICP反應腔，但在生產中經常會出現耦合窗內部無法清洗的情況，因為存在大量的死角，且傳統的反應腔為固定式安裝，不方便對內部進行全面清洗，現有的ICP反應腔不方便進行清洗，現在急需一種可旋轉的法拉第清洗裝置及等離子體處理系統來解決上述出現的問題。
針對現有技術存在的不足，本發明目的是提供一種可旋轉的法拉第清洗裝置及等離子體處理系統，以解決上述先前技術中提出的問題，本發明結構合理，便於有效清洗ICP反應腔，清洗全面。
為了實現上述目的，本發明是通過如下的技術方案來實現：一種可旋轉的法拉第清洗裝置及等離子體處理系統，包括反應腔主體、偏置電極以及可旋轉清洗機構，該反應腔主體內部下側安裝有偏置電極，該反應腔主體內部 上側設置有可旋轉清洗機構，該可旋轉清洗機構包括腔蓋、電機、偏心輪、長花瓣元件、耦合窗、進氣噴嘴、連桿、短花瓣元件、扇形導電件一以及扇形導電件二，該反應腔主體上側裝配有腔蓋，該腔蓋內側安裝有耦合窗，該耦合窗中部開設有進氣噴嘴，該進氣噴嘴外側裝配有扇形導電件一，該進氣噴嘴外側裝配有扇形導電件二，該進氣噴嘴外側裝配有長花瓣元件，該進氣噴嘴外側裝配有短花瓣元件，該長花瓣元件左側裝配有連桿，該連桿前側裝配有偏心輪，該偏心輪上側安裝有電機。
進一步地，該進氣噴嘴環形側面裝配有轉軸，該長花瓣元件和短花瓣元件內側與轉軸相連接。
進一步地，該連桿前後兩側裝配有鉸鏈，該連桿前側通過鉸鏈與偏心輪相連接，該連桿後側通過鉸鏈與長花瓣元件相連接。
進一步地，該偏置電極、扇形導電件一、扇形導電件二、電機均通過導線與外界電源相連接。
進一步地，該長花瓣元件與短花瓣元件之間均勻分佈，該長花瓣元件設有四組，且四組長花瓣元件規格相同，該短花瓣元件設有四組，且四組短花瓣元件規格相同。
進一步地，該腔蓋上側裝配有密封蓋，且密封蓋下側裝配有橡膠墊。
本發明的有益效果：本發明的一種可旋轉的法拉第清洗裝置及等離子體處理系統，因本發明添加了腔蓋、電機、偏心輪、長花瓣元件、耦合窗、進氣噴嘴、連桿、短花瓣元件、扇形導電件一以及扇形導電件二，該設計能有效旋轉清洗ICP反應腔，解決了原有ICP反應腔不方便進行清洗的問題，提高了本發明的便捷清洗性。
因進氣噴嘴環形側面裝配有轉軸，長花瓣元件和短花瓣元件內側與轉軸相連接，該設計有效旋轉長花瓣元件和短花瓣元件，從而使得耦合窗表面 清洗更加均勻，因連桿前後兩側裝配有鉸鏈，連桿前側通過鉸鏈與偏心輪相連接，連桿後側通過鉸鏈與長花瓣元件相連接，該設計防止耦合窗體內部死角清理不全面，因偏置電極、扇形導電件一、扇形導電件二、電機均通過導線與外界電源相連接，該設計使反應腔主體有效工作，因腔蓋上側裝配有密封蓋，且密封蓋下側裝配有橡膠墊，該設計有效密封防塵，本發明結構合理，便於有效清洗ICP反應腔，清洗全面。
1:反應腔主體
2:偏置電極
3:可旋轉清洗機構
31:腔蓋
32:電機
33:偏心輪
34:長花瓣元件
35:耦合窗
36:進氣噴嘴
331:連桿
341:短花瓣元件
361:扇形導電件一
362:扇形導電件二
第1圖為本發明一種可旋轉的法拉第清洗裝置及等離子體處理系統的結構示意圖。
第2圖為本發明一種可旋轉的法拉第清洗裝置及等離子體處理系統中可旋轉清洗機構的結構示意圖。
第3圖為本發明一種可旋轉的法拉第清洗裝置及等離子體處理系統中耦合窗的俯視圖。
為使本發明實現的技術手段、創作特徵、達成目的與功效易於明白瞭解，下面結合具體實施方式，進一步闡述本發明。
請參閱第1圖至第3圖，本發明提供一種技術方案：一種可旋轉的法拉第清洗裝置及等離子體處理系統，包括反應腔主體1、偏置電極2以及可旋轉清洗機構3，反應腔主體1內部下側安裝有偏置電極2，反應腔主體1內部上側設置有可旋轉清洗機構3。
可旋轉清洗機構3包括腔蓋31、電機32、偏心輪33、長花瓣元件34、耦合窗35、進氣噴嘴36、連桿331、短花瓣元件341、扇形導電件一361以及扇形導電件二362，反應腔主體1上側裝配有腔蓋31，腔蓋31內側安裝有耦合窗35，耦 合窗35中部開設有進氣噴嘴36，進氣噴嘴36外側裝配有扇形導電件一361，進氣噴嘴36外側裝配有扇形導電件二362，進氣噴嘴36外側裝配有長花瓣元件34，進氣噴嘴36外側裝配有短花瓣元件341，長花瓣元件34左側裝配有連桿331，連桿331前側裝配有偏心輪33，偏心輪33上側安裝有電機32，該設計解決了原有ICP反應腔不方便進行清洗的問題。
進氣噴嘴36環形側面裝配有轉軸，長花瓣元件34和短花瓣元件341內側與轉軸相連接，該設計有效旋轉長花瓣元件34和短花瓣元件341，從而使得耦合窗35表面清洗更加均勻，連桿331前後兩側裝配有鉸鏈，連桿331前側通過鉸鏈與偏心輪33相連接，連桿331後側通過鉸鏈與長花瓣元件34相連接，該設計防止耦合窗35體內部死角清理不全面。
偏置電極2、扇形導電件一361、扇形導電件二362、電機32均通過導線與外界電源相連接，該設計使反應腔主體1有效工作，長花瓣元件34與短花瓣元件341之間均勻分佈，長花瓣元件34設有四組，且四組長花瓣元件34規格相同，短花瓣元件341設有四組，且四組短花瓣元件341規格相同，該設計使電機32運作時長花瓣元件34與短花瓣元件341圍繞其中心軸往復旋轉一定角度，方便全面清洗，腔蓋31上側裝配有密封蓋，且密封蓋下側裝配有橡膠墊，該設計有效密封防塵。
作為本發明的一個實施例：工作人員首先將反應腔主體1內部的偏置電極2、電機32通過導線與外界電源相連接，電機32工作帶動連桿331偏移，進而帶動長花瓣元件34和短花瓣元件341旋轉一定角度，方便清洗耦合窗35內部下側，偏置電極2工作使反應腔主體1內部連通，經過扇形導電件一361和扇形導電件二362通電後使外界離子進入耦合窗35下側，快速高效對耦合窗35、腔蓋31、反應腔主體1內部進行清洗。
以上顯示和描述了本發明的基本原理和主要特徵和本發明的優點， 對於本領域技術人員而言，顯然本發明不限於上述示範性實施例的細節，而且在不背離本發明的精神或基本特徵的情況下，能夠以其他的具體形式實現本發明。因此，無論從哪一點來看，均應將實施例看作是示範性的，而且是非限制性的，本發明的範圍由所附申請專利範圍而不是上述說明限定，因此旨在將落在申請專利範圍的等同要件的含義和範圍內的所有變化囊括在本發明內。不應將申請專利範圍中的任何附圖標記視為限制所涉及的申請專利範圍。
此外，應當理解，雖然本說明書按照實施方式加以描述，但並非每個實施方式僅包含一個獨立的技術方案，說明書的這種敍述方式僅僅是為清楚起見，本領域技術人員應當將說明書作為一個整體，各實施例中的技術方案也可以經適當組合，形成本領域技術人員可以理解的其他實施方式。
1:反應腔主體
2:偏置電極
3:可旋轉清洗機構

Claims (6)

  1. 一種可旋轉的法拉第清洗裝置及等離子體處理系統，包括反應腔主體、偏置電極以及可旋轉清洗機構，該反應腔主體內部下側安裝有該偏置電極，該反應腔主體內部上側設置有該可旋轉清洗機構；該可旋轉清洗機構包括腔蓋、電機、偏心輪、長花瓣元件、耦合窗、進氣噴嘴、連桿、短花瓣元件、扇形導電件一以及扇形導電件二，該反應腔主體上側裝配有腔蓋，該腔蓋內側安裝有該耦合窗，該耦合窗中部開設有該進氣噴嘴，該進氣噴嘴外側遠離該腔蓋的一端裝配有該扇形導電件一，該進氣噴嘴外側遠離該腔蓋的一端裝配有該扇形導電件二，該進氣噴嘴外側遠離該腔蓋的一端裝配有該長花瓣元件，該進氣噴嘴外側遠離該腔蓋的一端裝配有該短花瓣元件，該長花瓣元件左側裝配有該連桿，該連桿前側裝配有該偏心輪，該偏心輪上側安裝有該電機。
  2. 如請求項1所述之可旋轉的法拉第清洗裝置及等離子體處理系統，其中該進氣噴嘴環形側面裝配有轉軸，該長花瓣元件和該短花瓣元件內側與該轉軸相連接。
  3. 如請求項1所述之可旋轉的法拉第清洗裝置及等離子體處理系統，其中該連桿前後兩側裝配有鉸鏈，該連桿前側通過該鉸鏈與該偏心輪相連接，該連桿後側通過該鉸鏈與該長花瓣元件相連接。
  4. 如請求項1所述之可旋轉的法拉第清洗裝置及等離子體處理系統，其中該偏置電極、該扇形導電件一、該扇形導電件二、該電機均通過導線與外界電源相連接。
  5. 如請求項1所述之可旋轉的法拉第清洗裝置及等離子體處理系統，其中該長花瓣元件與該短花瓣元件之間均勻分佈，該長花瓣元件設有四組，且四組該長花瓣元件規格相同，該短花瓣元件設有四組，且四組該 短花瓣元件規格相同。
  6. 如請求項1所述之可旋轉的法拉第清洗裝置及等離子體處理系統，其中該腔蓋上側裝配有密封蓋，且該密封蓋下側裝配有橡膠墊。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111589781B (zh) * 2020-05-21 2022-04-22 北京北方华创微电子装备有限公司 一种槽式清洗设备的密封盖及槽式清洗设备
CN113972125B (zh) 2020-07-24 2022-07-29 江苏鲁汶仪器有限公司 一种等离子体处理***及其多段式法拉第屏蔽装置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1717791A (zh) * 2002-11-27 2006-01-04 东京毅力科创株式会社 基板处理容器的清洗方法
WO2006113170A2 (en) * 2005-04-14 2006-10-26 Tango Systems, Inc. Sputtering system
TW200845195A (en) * 2007-03-14 2008-11-16 Lam Res Corp Cleaning hardware kit for composite showerhead electrode assemblies for plasma processing apparatuses
WO2017164186A1 (ja) * 2016-03-25 2017-09-28 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理方法および基板処理装置
TW201830460A (zh) * 2016-11-09 2018-08-16 美商蘭姆研究公司 主動式噴淋頭
US10096492B2 (en) * 2012-10-03 2018-10-09 Ebara Corporation Substrate cleaning apparatus and polishing apparatus

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3362432B2 (ja) * 1992-10-31 2003-01-07 ソニー株式会社 プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置
US5685942A (en) 1994-12-05 1997-11-11 Tokyo Electron Limited Plasma processing apparatus and method
US5882424A (en) * 1997-01-21 1999-03-16 Applied Materials, Inc. Plasma cleaning of a CVD or etch reactor using a low or mixed frequency excitation field
CN101457338B (zh) * 2003-02-14 2011-04-27 应用材料股份有限公司 利用含氢自由基清洁自生氧化物的方法和设备
JP3868925B2 (ja) * 2003-05-29 2007-01-17 株式会社日立製作所 プラズマ処理装置
JP2008288437A (ja) * 2007-05-18 2008-11-27 Toshiba Corp プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
CN101402095A (zh) * 2008-09-09 2009-04-08 上海拓引数码技术有限公司 等离子体表面清洗装置
JP5901887B2 (ja) * 2011-04-13 2016-04-13 東京エレクトロン株式会社 プラズマ処理装置のクリーニング方法及びプラズマ処理方法
CN103014745B (zh) * 2011-09-28 2015-07-08 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 一种等离子体预清洗装置
US20140116335A1 (en) * 2012-10-31 2014-05-01 Asm Ip Holding B.V. UV Irradiation Apparatus with Cleaning Mechanism and Method for Cleaning UV Irradiation Apparatus
US9945033B2 (en) * 2014-01-06 2018-04-17 Applied Materials, Inc. High efficiency inductively coupled plasma source with customized RF shield for plasma profile control
US20160049279A1 (en) * 2014-08-14 2016-02-18 Allied Techfinders Co., Ltd. Plasma device
CN105695936B (zh) * 2014-11-26 2018-11-06 北京北方华创微电子装备有限公司 预清洗腔室及等离子体加工设备
KR101570167B1 (ko) * 2014-12-19 2015-11-20 세메스 주식회사 기판 처리 장치
CN110223904A (zh) 2019-07-19 2019-09-10 江苏鲁汶仪器有限公司 一种具有法拉第屏蔽装置的等离子体处理***
CN110416053B (zh) * 2019-07-30 2021-03-16 江苏鲁汶仪器有限公司 一种电感耦合等离子体处理***
CN110491760B (zh) 2019-08-23 2020-09-15 江苏鲁汶仪器有限公司 一种法拉第清洗装置及等离子体处理***

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1717791A (zh) * 2002-11-27 2006-01-04 东京毅力科创株式会社 基板处理容器的清洗方法
WO2006113170A2 (en) * 2005-04-14 2006-10-26 Tango Systems, Inc. Sputtering system
TW200845195A (en) * 2007-03-14 2008-11-16 Lam Res Corp Cleaning hardware kit for composite showerhead electrode assemblies for plasma processing apparatuses
US10096492B2 (en) * 2012-10-03 2018-10-09 Ebara Corporation Substrate cleaning apparatus and polishing apparatus
WO2017164186A1 (ja) * 2016-03-25 2017-09-28 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理方法および基板処理装置
TW201830460A (zh) * 2016-11-09 2018-08-16 美商蘭姆研究公司 主動式噴淋頭

Also Published As

Publication number Publication date
US12009188B2 (en) 2024-06-11
CN111081524A (zh) 2020-04-28
WO2021134890A1 (zh) 2021-07-08
JP7383317B2 (ja) 2023-11-20
JP2022549401A (ja) 2022-11-25
CN111081524B (zh) 2022-02-22
TW202127497A (zh) 2021-07-16
US20220297168A1 (en) 2022-09-22

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