TWI735995B

TWI735995B - 光模組

Info

Publication number: TWI735995B
Application number: TW108139218A
Authority: TW
Inventors: 大谷龍輝; 岡田規男
Original assignee: 日商三菱電機股份有限公司
Priority date: 2018-11-21
Filing date: 2019-10-30
Publication date: 2021-08-11
Also published as: TW202021218A; JPWO2020105145A1; US20210257808A1; US12015242B2; JP7019838B2; CN112997371A; CN112997371B; WO2020105145A1

Abstract

本發明所揭示之光模組係包括：板狀之金屬座(2)，係在貫穿孔(30)將金屬製之導針(3)***成與貫穿孔(30)同軸；及一片電介質基板(5)，係包括：與導針(3)連接的高頻信號線路(60)；及半導體光積體元件(9)，係由半導體雷射與光調變器所集積，並以接合線(8)與高頻信號線路(60)連接；電介質基板(5)的一側面(5a)係在與半導體光積體元件(9)之光軸方向(La)垂直的方向延伸，電介質基板(5)係被配置成一側面(5a)與該金屬座(2)之表面(2a)接觸。

Description

光模組

本發明係有關於一種光模組。

現在，在高速之光通訊使用搭載由電場吸收型光調變器(Electro Absorption Modulator：EAM)與半導體雷射所集積的EAM－LD(Electro Absorption Modulated－Laser Diode)之光模組。此光模組係為了將半導體雷射及EAM之溫度控制成定溫，成為使用泊耳帖元件等之冷卻手段來冷卻的構造(例如參照專利文獻1及專利文獻2)。

在EAM－LD的情況，對是光調變器之EAM施加調變用之高頻信號，對光進行調變。有對EAM係經由接合線施加高頻信號的情況。在此情況，由於在EAM之寄生電容或寄生電阻、接合線之電感等的影響，隨著頻率變高，在對EAM的連接點無法取得阻抗匹配。

在專利文獻1或專利文獻2所揭示之是使用被搭載於金屬座，並在高頻之輸入部同軸狀地貫穿金屬座之導針的構成，係金屬座之導針貫穿部的線路阻抗因固持導針之玻璃直徑與導針直徑的限制，成為約20Ω~30Ω，作為匹配電阻，與一般之50Ω係無法取得匹配。又，成為將搭載EAM－LD之基板、與用以傳送高頻信號的基板分開，並以線等之配線構件連接基板之間的構成。在此基板間之線的部分亦具有阻抗不匹配的問題。如以上所示，隨著信號之頻率變高，因為阻抗之不匹配，在高頻信號在EAM－LD反射、在基板間之線部分亦反射，進而在貫穿金屬座之部分亦反射而再回到EAM－LD時，高頻信號的相位旋轉180度，而抵消增益，引起頻帶劣化。

另一方面，在以往之使用冷卻手段的光模組，因為冷卻所需之電力係對光信號之產生不是必需的電力，所以期望在不冷卻下可動作之非冷卻之光模組的實現。在非冷卻之光模組，亦只是不需要溫度控制所需的冷卻手段，只是是非冷卻的構成，而不是解決頻帶劣化的問題。 [先行專利文獻] [專利文獻]

[專利文獻1] 國際公開WO2010－140473號 [專利文獻2] 日本特開2011－197360號公報

[發明所欲解決之課題]

在以往之使用冷卻手段的光模組，係如以上所示，為了使冷卻部分的熱容量變成儘量小，採用以下的構成，將搭載半導體光積體元件之基板、與用以傳送高頻信號的基板分開，並以線等之配線構件連接基板之間。在此線之部分的阻抗匹配難，此部分亦成為反射點，成為高頻信號之頻帶劣化的原因。

本發明係揭示用以解決如上述所示之課題的技術，其目的在於提供一種可應用於非冷卻之光模組之抑制高頻信號之頻帶劣化的構成。 [解決課題之手段]

本發明之光模組係包括：板狀之金屬座，係在貫穿孔將金屬製之導針***成與貫穿孔同軸；及一片電介質基板，係包括：與導針連接的高頻信號線路；及半導體光積體元件，係由半導體雷射與光調變器所集積，並以接合線與高頻信號線路連接；電介質基板的一側面係在與半導體光積體元件之光軸方向垂直的方向延伸，電介質基板係被配置成一側面與該金屬座之表面接觸。 [發明之效果]

若依據本發明所揭示之光模組，具有可提供一種可應用於非冷卻之光模組，並抑制高頻信號之頻帶劣化的構成之效果。

圖1係表示實施形態1之光模組之構成的立體圖。在圖1，在金屬座2，係在金屬座2所設置之貫穿孔30，設置被***成與貫穿孔30同軸的導針3。導針3係經由被設置成埋入貫穿孔30的玻璃材料11被固定於金屬座2。金屬座2及導針3的材料係例如，可使用銅、鐵、鋁或不銹鋼等的金屬，亦可作成對表面施加鍍金或鍍鎳等。

在金屬座2，係組裝電介質基板5，而在電介質基板5上，係組裝由使雷射光振盪之半導體雷射與對來自該半導體雷射之光進行調變的光調變器所集積的半導體光積體元件9。作為半導體光積體元件9，例如，使用EAM－LD，該EAM－LD係使用將InGaAsP系或AlInGaAs系量子井吸收層之電場吸收型光調變器與分布回授型雷射二極體集積成單片。半導體雷射係不限定為分布回授型雷射二極體，又，作為光調變器，係亦可作成使用半導體MZ光調變器等。在金屬座2上，係設置具有對金屬座之表面2a垂直之面20a的基板支撐部20，電介質基板5係例如背面與基板支撐部20被接合等沿著該基板支撐部20被組裝。此外，金屬座2之組裝電介質基板5之側係例如以氮氣等被密封，但是在圖1係金屬座2之導針3的貫穿部以外之密封的構造係省略。又，在金屬座2，係除了導入高頻信號之導針3以外，亦為了導入其他的信號配線或電源供給配線等，而設置與導針3之導入類似的配線導入機構，但是因為與本發明係無直接關係，所以省略圖示。

在以往之冷卻型的光模組，係為了減少冷卻半導體光積體元件所需的耗電力，使溫度控制的響應性變佳，而將搭載半導體光積體元件之基板、與用以傳送來自導針之高頻信號的基板分開，以使冷卻部分的熱容量變成儘量小。可是，在不進行溫度控制之非冷卻的光模組，係無使冷卻部分的熱容量變成儘量小的限制條件。在圖1之光模組，在基板支撐部20係未設置溫度控制構件，該溫度控制構件係冷卻半導體光積體元件9，以進行溫度控制。在由一片所構成之電介質基板5上，係不僅配置半導體光積體元件9，而且亦配置從導針3向半導體光積體元件9傳送高頻信號的信號線路。導針3係為了從在金屬座2之背面所配置的軟性印制基板1向組裝電介質基板5之側輸入調變所需之高頻信號所設置。為了從導針3傳送高頻信號，作為電介質基板5上的高頻信號線路60，在電介質基板5上形成陽極6與陰極7。在將陽極6與陰極7之間隔保持定值的狀態形成於電介質基板5上的整個面，而構成共面線路，可作為高頻信號線路60。又，陰極7係經由在電介質基板5所形成之貫穿孔、半圓孔(castellation)、或電介質基板5之側面的金屬等，藉某種方法與金屬座2以電性連接。

電介質基板5的材料係例如亦可作成使用ALN或氧化鋁等之陶瓷，亦可作成使用環氧樹脂等之樹脂。此外，電介質基板5係被配置於導針3的附近較佳。

導針3的一端與電介質基板5上之陽極6的一端係經由黏接劑4彼此連接。導針3的另一端係與軟性印制基板1之配線圖案連接。陽極6的另一端與半導體光積體元件9係經由接合線8連接，接合線8係更與在電介質基板5上所形成之導體12連接。導體12係以與陰極7係絕緣的方式被形成於電介質基板5上，在導體12與陰極7之間係連接電阻10。

其次，說明動作。在EAM－LD等由半導體雷射與光調變器所集積的半導體光積體元件係寄生電容成分、寄生電阻成分、與電極連接之接合線的寄生電感成分存在，隨著輸入信號之頻率變高，無法取得阻抗匹配。另一方面，導針之貫穿部係從氣密性及可靠性的觀點，導線直徑是約Φ0.3~0.4mm、玻璃直徑是約Φ0.7~0.8mm、玻璃之電介質常數εr＝約5.5~7.0，換算成阻抗時，成為20~30Ω。

一般，匹配電阻係為了高效率地確保電壓振幅而對準約50Ω，但是這樣係隨著信號之頻率變高而無法取得與導針之貫穿部的阻抗匹配。因此，電性信號之高頻成分係在半導體光積體元件一部分反射而回到驅動側，在導針之貫穿部又一部分反射回來。

將前進波當作Y0，並將振幅進行正常化時，以如下之數學式表達。 Y0＝sin(ωt) 以往之構成的光模組係電介質基板由第1電介質基板與第2電介質基板所構成，該第1電介質基板係形成用以向半導體光積體元件傳送高頻信號的高頻信號線路，該第2電介質基板係搭載半導體光積體元件，認為在該以往之構成的光模組之高頻傳送係如以下所示。將在半導體光積體元件、連接半導體光積體元件與第2電介質基板之接合線、連接第1電介質基板與第2電介質基板之接合線、導針之貫穿部的反射率分別當作ρ1、ρ2、ρ3、ρ4時，反射波Y1係可以如下的數學式表達， Y1＝ρ1×ρ2×ρ3×ρ4×sin(ωt－Φ) 合成波Y2係可以如下的數學式表達。 Y2＝Y0＋Y1 ＝sin(ωt)＋ρ1×ρ2×ρ3×ρ4×sin(ωt－Φ) ＝A×sin(ωt＋Θ) 其中， A＝[{1＋ρ1×ρ2×ρ3×ρ4×cos(Φ)}² ＋{ρ1×ρ2×ρ3×ρ4×sin(Φ)}² ]^1/2 TanΘ＝－{ρ1×ρ2×ρ3×ρ4×sin(Φ)}/{1＋ρ1×ρ2×ρ3×ρ4×cos(Φ)}。

又，反射波之相位Φ係將從半導體光積體元件至導針之貫穿部的長度當作L、將頻率當作f、將傳送路中之信號速度當作c’時，可以如下的數學式表達。 Φ＝2L×(f/c’)×2π

從上述的數學式，得知合成波的振幅A係與反射率、及半導體光積體元件與導針之貫穿部之有效的電性長度大為相依，並具有頻率相依性。

在只是使截止頻率變成寬頻帶的觀點，使匹配電路及線路的阻抗與導針之貫穿部的特性阻抗匹配較佳。為了使導針之貫穿部的特性阻抗與50Ω匹配，一般導線－金屬座間之填充材料採用電介質常數為1.8~2.8的電介質，或者若填充材料是一般所使用之玻璃材料(εr＝5.5~7.0)，需要將導線直徑與玻璃直徑的比作成7.2~9.2。

在實施形態1之光模組，藉在一片電介質基板5上所形成的陽極6與接合線8，將是EAM－LD之半導體光積體元件9與導針3以電性連接，而以往存在之連接第1電介質基板與第2電介質基板之接合線不存在。因此，可使在連接第1電介質基板與第2電介質基板之接合線之反射率ρ3的影響變成無效，而可比以往更抑制在高頻頻帶之增益的劣化。

在此時，陽極6之線路阻抗、及電阻10的電阻值係為了抑制在半導體光積體元件9與導針之貫穿部之間所產生的多重反射，設定成接近導針之貫穿部的特性阻抗的值較佳。

一般，在光模組，係為了監視光輸出，採用將偵測從半導體光積體元件9之背面所洩漏的雷射光之光電二極體(PD)等的光檢測器配置於半導體光積體元件9與金屬座2之間的構成。在本實施形態1之光模組，係如圖1所示，不配置光檢測器，藉由將半導體光積體元件9之背面與金屬座之表面2a的間隔配置成儘量接近，使電介質基板5的高度變低，並縮短陽極6的長度。藉此，亦可抑制在高頻頻帶之增益的劣化。

此外，在不設置光檢測器的情況，作為光模組的控制方法，係亦可藉半導體雷射之驅動電流控制的ACC(Auto Current Control)驅動，在光調變器是電場吸收型光調變器(EAM)的情況，亦可監視在調變時所產生之光電流，例如將光電流用於回授控制之信號等，而藉APC(Auto Power Control)驅動。

在圖2A及圖2B，表示以往之構成之光模組的頻率特性例(虛線)、與實施形態1之光模組的頻率特性例(實線)，而該以往之光模組係電介質基板被分開成第1電介質基板與第2電介質基板之2片，並以線連接電介質基板之間，該實施形態1之光模組係電介質基板採用1片，而在電介質基板之間無線連接的構成。得知是高頻傳送之反射特性的S參數S11(圖2A)及是透射特性之S21(圖2B)都在實施形態1之光模組改善特性。

圖3A係表示從基板表面側觀察圖1所示之電介質基板5的平面圖，圖3B係表示與金屬座之表面2a接觸之電介質基板5的一側面5a之側之電介質基板5的側視圖。電介質基板5的一側面5a係在與半導體光積體元件9之光軸方向La垂直的方向延伸。因此，藉由配置成使電介質基板5沿著基板支撐部20，且電介質基板5的一側面5a與金屬座之表面2a接觸，因為將半導體光積體元件9之光軸方向La設定成對金屬座之表面2a垂直的方向，所以光軸方向的調整成為容易。

圖4係將組裝電介質基板5之部分放大所表示的側視圖。如圖3所示，在電介質基板5的一側面5a，係除了與在表面形成陽極6之部分對應的部分以外，形成陰極7。如圖4所示，藉由將電介質基板5配置成一側面5a與金屬座之表面2a接觸，將在電介質基板5的一側面5a所形成的陰極7與金屬座之表面2a接合，而可將陰極7直接接地於金屬座2。根據本構成，因為AC－GND接近成為信號線路之導線部，所以導線部之電感成分減少，而光模組之頻帶可變寬。在圖6A及圖6B，表示圖4所示之在電介質基板5的一側面5a所形成的陰極7被直接接地於金屬座之表面2a的情況(實線)、與如圖5之側視圖所示將電介質基板5的一側面5a與金屬座之表面2a配置成分開，而陰極7未被直接接地於金屬座之表面2a的情況(虛線)的頻率特性。得知在直接接地的情況，頻率特性稍微地獲得改善。

如以上所示，在實施形態1之光模組，係因為作成將與貫穿金屬座2之導針3連接的高頻信號線路、及由半導體雷射與光調變器所集積的半導體光積體元件9配置於一片電介質基板5，並將電介質基板5的一側面5a配置成與金屬座之表面2a接觸，所以可作成一種光模組，該光模組係可應用於非冷卻之光模組，高頻特性之頻帶是寬，且光軸之調整容易。實施形態2

圖7A係表示實施形態2之光模組的電介質基板5之構成之從表面觀察電介質基板5的平面圖，圖7B係電介質基板5之從金屬座2側所觀察的側視圖。如圖7A及圖7B所示，在電介質基板5之表面設置槽13，並將半導體光積體元件9組裝於此槽13。根據此構成，可使陽極6－半導體光積體元件9－導體12之間的接合線8變短，而線電感減少，光模組之頻帶可變寬。在圖8A及圖8B，表示不設置槽13之實施形態1的光模組、與設置槽13而使接合線8變短之光模組的頻率特性。得知藉由設置槽13而使接合線8變短，S參數中尤其是透射特性之S21延伸至更高頻，而頻帶變寬。實施形態3

圖9係表示實施形態3之光模組之構成的立體圖。在實施形態1，係不設置光檢測器，但是藉由設置光檢測器，光輸出之穩定化變成容易。本實施形態3係設置光檢測器15的實施形態。為了使電介質基板5之光軸方向的尺寸變小，將光檢測器不設置於電介質基板5，而在金屬座2之表面2a設置槽14，再將是光檢測器15之光電二極體組裝於該槽14。藉由將光檢測器15設置於槽14，不會使電介質基板5變大，因此，陽極的長度亦不會變長，而在仍然抑制頻帶劣化下，可偵測在半導體光積體元件9之背面所漏出的背面光。藉由使用偵測背面光之光檢測器15的輸出，光模組之APC(Auto Power Control)驅動成為容易。此外，使設置光電二極體等之光檢測器15之槽14的底面對金屬座之表面2a傾斜，這是為了作成光檢測器15所反射之背面光不回到半導體光積體元件9，以免反射光再回到半導體光積體元件9而影響半導體光積體元件9的動作。實施形態4

圖10係表示實施形態4之光模組之構成的立體圖。在實施形態3，係為了使電介質基板5之光軸方向的尺寸不會變大，在金屬座2之表面2a設置槽14，再將是光電二極體等之光檢測器15組裝於該槽14。在本實施形態4，係電介質基板5之光軸方向的尺寸成為稍大，但是如圖10所示，在電介質基板5之成為半導體光積體元件9之背面的部分設置空間，並將光檢測器15組裝於電介質基板5上。在本實施形態4，亦與實施形態3一樣，為了來自光檢測器15之反射光不回到半導體光積體元件9，設置成向任一方傾斜較佳。根據此構成，亦藉由使用偵測半導體光積體元件9之背面光之光檢測器15的輸出，光模組之APC驅動成為容易。

在本發明，係記載各種例示的實施形態及實施例，但是在一種或複數種實施形態所記載之各種的特徵、形態以及功能係不是被限定為應用於特定的實施形態，而藉單獨或各種的組合可應用於實施形態。因此，在本專利說明書所揭示之技術的範圍內設想未例示之無數的變形例。例如，包含在對至少一個構成元件進行變形的情況、追加的情況或省略的情況，進而係抽出至少一個構成元件，並與其他的實施形態之構成元件組合的情況。

2:金屬座 2a:金屬座之表面 3:導針 5:電介質基板 7:陰極 8:接合線 9:半導體光積體元件 13:(電介質基板之)槽 14:(金屬座之表面的)槽 15:光檢測器 20:基板支撐部 30:貫穿孔 60:高頻信號線路

[圖1] 係表示實施形態1之光模組之構成的立體圖。 [圖2] 係將實施形態1之光模組的特性與以往比較所示的線圖。 [圖3] 係表示實施形態1之光模組的電介質基板之構成的平面圖及側視圖。 [圖4] 係表示實施形態1之光模組之主要部的側視圖。 [圖5] 係表示比較例之光模組之主要部的側視圖。 [圖6] 係將實施形態1之光模組的特性與比較例比較所示的線圖。 [圖7] 係表示實施形態2之光模組的電介質基板之構成的平面圖及側視圖。 [圖8] 係將實施形態2之光模組的特性與實施形態1比較所示的線圖。 [圖9] 係表示實施形態3之光模組之構成的立體圖。 [圖10] 係表示實施形態4之光模組之構成的立體圖。

1:軟性印制基板

2:金屬座

2a:金屬座之表面

3:導針

4:黏接劑

5:電介質基板

6:陽極

7:陰極

8:接合線

9:半導體光積體元件

10:電阻

11:玻璃材料

12:導體

20:基板支撐部

20a:對金屬座之表面垂直的面

30:貫穿孔

60:高頻信號線路

Claims

一種光模組，其特徵為：包括：板狀之金屬座，係在貫穿孔將金屬製之導針***成與該貫穿孔同軸；及一片電介質基板，係包括：與該導針連接的高頻信號線路；及半導體光積體元件，係由半導體雷射與光調變器所集積，並以接合線與該高頻信號線路連接；該電介質基板的一側面係在與該半導體光積體元件之光軸方向垂直的方向延伸，該電介質基板係被配置成該一側面與該金屬座之表面接觸；其中在該一側面之至少一部分，係形成與該高頻信號線路之陰極共同的電極，並將該電極與該金屬座之表面以電性連接。
如申請專利範圍第1項之光模組，其中，在該金屬座之表面，具備基板支撐部，該基板支撐部係具有對該金屬座之表面成為垂直的垂直面，並不設置溫度控制構件，該電介質基板係以背面沿著該基板支撐部之該垂直面的方式所配置。
如申請專利範圍第1項之光模組，其中該半導體光積體元件係被配置於在該電介質基板之表面所設置的槽內。
如申請專利範圍第2項之光模組，其中該半導體光積體元件係被配置於在該電介質基板之表面所設置的槽內。
如申請專利範圍第1項之光模組，其中該半導體光積體元件係光輸出之背面是該金屬座之側，檢測出在該半導體光積體元件之背面所洩漏的光之光檢測器被配置於在該金屬座之表面所設置的槽。
如申請專利範圍第2項之光模組，其中該半導體光積體元件係光輸出之背面是該金屬座之側，檢測出在該半導體光積體元件之背面所洩漏的光之光檢測器被配置於在該金屬座之表面所設置的槽。
如申請專利範圍第3項之光模組，其中該半導體光積體元件係光輸出之背面是該金屬座之側，檢測出在該半導體光積體元件之背面所洩漏的光之光檢測器被配置於在該金屬座之表面所設置的槽。
如申請專利範圍第4項之光模組，其中該半導體光積體元件係光輸出之背面是該金屬座之側，檢測出在該半導體光積體元件之背面所洩漏的光之光檢測器被配置於在該金屬座之表面所設置的槽。
如申請專利範圍第1項之光模組，其中該半導體光積體元件係光輸出之背面是該金屬座之側，檢測出在該半導體光積體元件之背面所洩漏的光之光檢測器被配置於該電介質基板。
如申請專利範圍第2項之光模組，其中該半導體光積體元件係光輸出之背面是該金屬座之側，檢測出在該半導體光積體元件之背面所洩漏的光之光檢測器被配置於該電介質基板。
如申請專利範圍第3項之光模組，其中該半導體光積體元件係光輸出之背面是該金屬座之側，檢測出在該半導體光積體元件之背面所洩漏的光之光檢測器被配置於該電介質基板。
如申請專利範圍第4項之光模組，其中該半導體光積體元件係光輸出之背面是該金屬座之側，檢測出在該半導體光積體元件之背面所洩漏的光之光檢測器被配置於該電介質基板。