TWI717384B - 附黏著劑層之偏光薄膜、光學構件及影像顯示裝置 - Google Patents

附黏著劑層之偏光薄膜、光學構件及影像顯示裝置 Download PDF

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Abstract

本發明為一種附黏著劑層之偏光薄膜，係具有偏光薄膜及設於該偏光薄膜之黏著劑層A，前述偏光薄膜係只在厚度為10μm以下之偏光件單側具有透明保護薄膜的單面保護偏光薄膜，前述黏著劑層A設於前述偏光件之不具前述透明保護薄膜之側，並且，前述黏著劑層A之透濕度為300g/(m2 ・24h)以下且厚度為50μm以下。該附黏著劑層之偏光薄膜能夠抑制單面保護偏光薄膜之偏光件在高溫加濕環境下劣化。

Description

附黏著劑層之偏光薄膜、光學構件及影像顯示裝置
技術領域 本發明關於附黏著劑層之偏光薄膜及包含該附黏著劑層之偏光薄膜的光學構件。又，本發明關於包含前述附黏著劑層之偏光薄膜及/或前述光學構件的影像顯示裝置。
背景技術 近年，在液晶顯示裝置等影像顯示裝置來說，強烈要求輕量化、薄型化，對於在影像顯示裝置所使用之偏光薄膜等各種光學構件亦迫切期望薄型化、輕量化，探討著種種薄型偏光薄膜的製造方法。
就薄型偏光薄膜的製法而言，例如，已知有：把在具有某程度厚度之樹脂基材所形成的薄的聚乙烯醇(PVA)系聚合物層在已與樹脂基材一體化的狀態下進行單軸延伸，藉此，將薄型偏光薄膜製膜在樹脂基材上的方法(例如，參照專利文獻1)；及把在基材薄膜的其中一面形成有由PVA樹脂構成之樹脂層的積層薄膜以特定的延伸倍率進行自由端縱向單軸延伸來獲得延伸薄膜，並將該延伸薄膜以二色性色素進行染色而形成薄型偏光件的方法等(例如，參照專利文獻2)。 先行技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利第4691205號說明書 專利文獻2：日本專利第5048120號說明書
發明概要 發明欲解決之課題 於前述專利文獻1、2所獲得之薄型化偏光薄膜皆是以透明保護薄膜保護了偏光件之單面的單面保護偏光薄膜，且可在該單面保護偏光薄膜的偏光件側透過黏著劑層貼合至各種光學構件等而納入影像顯示裝置。
前述單面保護偏光薄膜從薄膜化的觀點來看雖優良，但有下述這樣的問題：當該單面保護偏光薄膜以已貼合至被接著物的狀態暴露於高溫加濕環境下時，水分會轉移至偏光件，導致偏光件劣化(產生偏光消除)。
於是，本發明目的即在於提供一種附黏著劑層之偏光薄膜，其能夠抑制單面保護偏光薄膜之偏光件在高溫加濕環境下劣化。又，本發明目的亦在於提供一種附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑層為光擴散黏著劑層。又，本發明目的亦在於提供一種包含前述附黏著劑層之偏光薄膜的光學構件，以及提供一種包含前述附黏著劑層之偏光薄膜及/或前述光學構件的影像顯示裝置。 用以解決課題之手段
本發明人等為解決前述課題反覆深入探討的結果，發現下述附黏著劑層之偏光薄膜，而至完成本發明。
即，本發明關於一種附黏著劑層之偏光薄膜，係具有偏光薄膜及設於該偏光薄膜之黏著劑層A，該附黏著劑層之偏光薄膜之特徵在於： 前述偏光薄膜係只在厚度為10μm以下之偏光件單側具有透明保護薄膜的單面保護偏光薄膜，前述黏著劑層A設於前述偏光件之不具前述透明保護薄膜之側； 前述黏著劑層A之透濕度為300g/(m2 ・24h)以下，且厚度為50μm以下。
前述黏著劑層A宜為含有橡膠系聚合物作為主成分的黏著劑層。
前述橡膠系聚合物宜為選自於由苯乙烯系熱塑性彈性體、聚異丁烯及丁基橡膠所構成群組中之1種以上橡膠系聚合物。
前述黏著劑層A宜進一步包含黏著賦予樹脂。
前述黏著劑層A可為含光擴散性微粒子的光擴散黏著劑層A1。
前述光擴散黏著劑層A1的霧度宜為10~95%。
前述光擴散性微粒子宜為聚矽氧樹脂微粒子或苯乙烯樹脂微粒子。
前述光擴散性微粒子的體積平均粒徑宜為1~4μm。
又，本發明關於一種光學構件，其特徵在於具有前述附黏著劑層之偏光薄膜及增亮薄膜(luminance improving film)，該增亮薄膜係設於該附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑層A或黏著劑層A1側。
前述光學構件中，於前述增亮薄膜之不具附黏著劑層之偏光薄膜之側可進一步設置稜鏡片材。
本發明進一步關於一種影像顯示裝置，其特徵在於包含選自於由前述附黏著劑層之偏光薄膜及前述光學構件所構成群組中之1種以上。 發明效果
本發明之附黏著劑層之偏光薄膜係使用單面保護偏光薄膜，故可薄型化，又因黏著劑層A的透濕度為300g/(m2 ・24h)以下且厚度為50μm以下，所以能夠抑制偏光件在高溫加濕環境下劣化。即，本發明之附黏著劑層之偏光薄膜因黏著劑層A為低透濕度且厚度為50μm以下，所以即便被暴露於高溫加濕環境下時亦能夠抑制水分轉移至偏光件，結果即可抑制因偏光件劣化所致之偏光消除。又，當黏著劑層A為光擴散黏著劑層A1時，本發明之附黏著劑層之偏光薄膜就具有光擴散功能，因此亦能夠用來代替用於影像顯示裝置中的擴散片材，可使影像顯示裝置薄型化。又，將前述具有光擴散功能的附黏著劑層之偏光薄膜使用於背光側，則能消除來自背光之光的偏差，可進行更均勻的顯示。又，本發明之光學構件及影像顯示裝置因包含本發明之附黏著劑層之偏光薄膜，故具有高可靠性。
用以實施發明之形態 1.附黏著劑層之偏光薄膜 本發明之附黏著劑層之偏光薄膜係具有偏光薄膜及設於該偏光薄膜之黏著劑層A，該附黏著劑層之偏光薄膜之特徵在於： 前述偏光薄膜係只在厚度為10μm以下之偏光件單側具有透明保護薄膜的單面保護偏光薄膜，前述黏著劑層A設於前述偏光件之不具前述透明保護薄膜之側；並且， 前述黏著劑層A之透濕度為300g/(m2 ・24h)以下，且厚度為50μm以下。
參照圖式來詳細地針對本發明之附黏著劑層之偏光薄膜的構成進行說明。此外，在圖1中各構成的尺寸係顯示其之一例，本發明並非限定於此。
如於圖1所示，本發明之附黏著劑層之偏光薄膜1為在偏光薄膜2之至少單面具有黏著劑層A(圖1中的3)者。又，前述偏光薄膜2只在偏光件4單面具有透明保護薄膜5，且前述黏著劑層A(3)只要設於前述偏光件4之不具前述透明保護薄膜5之側(即，偏光件4側)即可。前述偏光件4與黏著劑層A(3)不一定要接觸，但從能夠顯著表現本發明效果的觀點來看，其等相接觸為佳。
又，在前述透明保護薄膜5之不具偏光件4之側，也可進一步設置黏著劑層B(未圖示)。針對設於透明保護薄膜5的黏著劑層B來說，可為前述具有特定透濕度的黏著劑層A，亦可為其以外之黏著劑層。針對黏著劑層B係後述。
(1)黏著劑層A 於本發明使用的黏著劑層A特徵在於其透濕度為300g/(m2 ・24h)以下，且厚度為50μm以下。
在本發明使用的黏著劑層A之透濕度為300g/(m2 ・24h)以下，由於水蒸氣的穿透率低的緣故，為能夠抑制偏光件因水分等而劣化者。前述透濕度是在黏著劑層厚度50μm之在40℃、92%R.H.條件下的水蒸氣穿透率(透濕度)，其測定方法係可藉由於實施例記載的方法而測定。
前述透濕度為300g/(m2 ・24h)以下，較佳為200g/(m2 ・24h)以下，進一步較佳為100g/(m2 ・24h)以下，特佳為60g/(m2 ・24h)以下。又，透濕度的下限値雖無特別限定，但理想地來說，較佳為完全不使水蒸氣穿透(即，0g/(m2 ・24h))。黏著劑層A的透濕度為前述範圍的話，能夠抑制水分轉移至偏光件，能夠抑制因偏光件的劣化所致之偏光消除，並能夠作成光學可靠性高的附黏著劑層之偏光薄膜。
於本發明使用之黏著劑層A的厚度為50μm以下，較佳為30μm以下，更佳為20μm以下，進一步較佳為10μm以下。又，黏著劑層A厚度的下限値，雖無特別限定，但從耐久性的觀點來看，較佳為1μm以上，更佳為5μm以上。本發明使用之黏著劑層A如前所述水蒸氣的穿透率低且厚度為50μm以下，故可在高溫加濕環境下抑制水分轉移至偏光件。其結果，為能夠抑制因偏光件的劣化所致之偏光消除，並能夠作成光學可靠性高的附黏著劑層之偏光薄膜。
單面保護薄膜之水分往偏光件的轉移，被認為是來自設於單面保護偏光薄膜之黏著劑層A之黏著面(即，黏著劑層A之與設有偏光件之側為相反側的面)的水分轉移，與來自黏著劑層A之側面的水分轉移。通常，在與黏著劑層A具有偏光件之側為相反側來說，貼合有：顯示面板、玻璃板等被接著物，雖能夠某種程度抑制來自黏著劑層A之面方向的水分轉移，但針對來自黏著劑層A之側面部分的水分轉移要抑制是困難的。在本發明使用之黏著劑層A為低透濕的，且厚度為50μm以下，由於黏著劑層A側面部分的面積小的緣故，能夠抑制來自該側面部分的水分轉移量，並能夠抑制因偏光件的劣化所致之偏光消除。
就於本發明使用之黏著劑層A而言，只要是透濕度及厚度為前述範圍者即可，其組成沒有限定，例如，可適宜使用由橡膠系黏著劑組成物、丙烯酸系黏著劑組成物、聚矽氧系黏著劑組成物、胺基甲酸酯系黏著劑組成物等所形成者。該等之中，從透濕度的觀點來看，較佳為以橡膠系聚合物作為基底聚合物的橡膠系黏著劑組成物。在本發明使用之黏著劑層A來說，較佳含有前述橡膠系聚合物作為主成分。於此處，所謂「主成分」係稱在黏著劑層A中(或在形成黏著劑層A之黏著劑組成物的總固體成分中)，包含橡膠系聚合物40重量%以上。
所謂前述橡膠系聚合物，為在室溫附近的溫度域中顯示橡膠彈性的聚合物。就橡膠系聚合物而言，宜使用選自於由天然橡膠、合成橡膠及熱塑性彈性體所構成群組中之1種以上。
就前述合成橡膠而言，可舉：聚異丁烯(PIB)、丁二烯橡膠(BR)、丁基橡膠(IIR)、異戊二烯橡膠(IR)、苯乙烯-丁二烯橡膠(SBR)、氯丁二烯橡膠(CR)、丙烯腈-丁二烯橡膠(NBR)、丁二烯-異戊二烯-苯乙烯無規共聚物、異戊二烯-苯乙烯無規共聚物、EPR(二元系乙烯-丙烯橡膠)、EPT(三元系乙烯-丙烯橡膠)、丙烯酸橡膠、胺基甲酸酯橡膠等。在該等之中，從透明性、耐光性的觀點來看，較佳為聚異丁烯(PIB)、丁基橡膠(IIR)，更佳為聚異丁烯(PIB)。
就前述熱塑性彈性體而言，例如，可舉：苯乙烯-乙烯-丁烯-苯乙烯嵌段共聚物(SEBS)、苯乙烯-異戊二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SIS)、苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS)、苯乙烯-乙烯-丙烯-苯乙烯嵌段共聚物(SEPS、SIS的氫化物)、苯乙烯-乙烯-丙烯嵌段共聚物(SEP、苯乙烯-異戊二烯嵌段共聚物的氫化物)、苯乙烯-異丁烯-苯乙烯嵌段共聚物(SIBS)等苯乙烯系熱塑性彈性體(苯乙烯系嵌段共聚物)；聚胺基甲酸酯系熱塑性彈性體；聚酯系熱塑性彈性體；聚丙烯與EPT(三元系乙烯-丙烯橡膠)的聚合物摻合物等摻合物系熱塑性彈性體等。該等之中，從透明性、耐光性的觀點來看，較佳為苯乙烯系熱塑性彈性體，更佳為苯乙烯-乙烯-丙烯-苯乙烯嵌段共聚物(SEPS、SIS的氫化物)。
前述黏著劑組成物是包含橡膠系聚合物作為基底聚合物者，在黏著劑組成物中橡膠系聚合物的含量較佳為40重量%以上，更佳為50重量%以上，進一步較佳為60重量%以上。橡膠系聚合物含量的上限無特別限定，為100重量%以下即可，較佳為95重量%以下。
從對於被接著物，即偏光件、光學薄膜、玻璃、顯示面板等之接著性的點來看，前述黏著劑組成物較佳為進一步包含黏著賦予樹脂。
就前述黏著賦予樹脂而言，可舉：萜烯系黏著賦予樹脂、酚系黏著賦予樹脂、松香系黏著賦予樹脂、石油樹脂系黏著賦予樹脂等，可將該等以單獨1種，或組合2種以上來使用。該等之中，從透明性、接著性之點來看，較佳為萜烯系黏著賦予樹脂。
就萜烯系黏著賦予樹脂而言，例如，可舉：α -蒎烯(pinene)聚合物、β -蒎烯聚合物、二戊烯聚合物等萜烯聚合物，以及將前述萜烯聚合物予以改性(酚改性、苯乙烯改性、芳香族改性、氫化改性、烴改性等)而成之改性萜烯樹脂等。在上述改性萜烯樹脂之例來說，可包含：萜烯酚樹脂、苯乙烯改性萜烯樹脂、芳香族改性萜烯樹脂、氫化萜烯樹脂(氫化萜烯樹脂)等。此處稱之氫化萜烯樹脂的例來說，包含：萜烯聚合物的氫化物及其他改性萜烯樹脂、萜烯酚樹脂的氫化物。
就黏著賦予樹脂而言，例如，可使用Yasuhara Chemical(股)製的Clearon系列、Polyster系列，荒川化學工業(股)製的Super Ester系列、Pen cell系列、Pine Crystal系列等市售品。
前述黏著賦予樹脂的軟化點(軟化溫度)雖未被特別限定，例如，軟化點較佳為80℃以上左右，更佳為100℃以上左右。黏著賦予樹脂軟化點的上限値雖未被特別限定，例如，較佳為200℃以下左右，較佳為180℃以下左右。此外，此處稱之黏著賦予樹脂的軟化點是定義為藉由規定於JIS K5902及JIS K2207任一者的軟化點試驗方法(環球法)所測定出的値。
相對於前述基底聚合物100重量份，前述黏著賦予樹脂的添加量，較佳為100重量份以下，更佳為80重量份以下，進一步較佳為50重量份以下。又，黏著賦予樹脂添加量的下限値雖無特別限定，較佳為0重量份以上，更佳為1重量份以上，進一步較佳為5重量份以上。藉著將黏著賦予樹脂的使用量作成前述範圍，因確保耐熱性、接著性之故而較佳。
又，在前述黏著劑組成物來說，能夠添加有機溶劑作為稀釋劑。就稀釋劑而言，雖無特別限定，例如，可舉：己烷、庚烷、甲苯、二甲苯、二甲醚等，該等能以單獨1種或混合2種以上來使用。該等之中較佳為甲苯。
稀釋劑的添加量雖無特別限定，相對於黏著劑組成物中之基底聚合物100重量份，較佳為50~500重量份左右，更佳為100~300重量份左右。因稀釋劑的添加量是前述範圍，從對支持體等之塗敷性的觀點來看甚為理想。
在前述黏著劑組成物來說，亦可進一步包含任意妥適的添加劑。就添加劑的具體例而言，可舉：交聯劑(例如，聚異氰酸酯、環氧化合物、烷基醚化三聚氰胺化合物等)、塑化劑、填充劑、抗老化劑等。於黏著劑組成物所添加之添加劑的種類、組合、添加量等，可因應目的來妥適地設定。在黏著劑組成物中前述添加劑的含量(總量)，較佳為50重量%以下，更佳為40重量%以下，進一步較佳為30重量%以下。
(光擴散黏著劑層A1) 前述黏著劑層A可作成含光擴散性微粒子的光擴散黏著劑層A1。當黏著劑層A為光擴散黏著劑層A1時，由於能夠對本發明之附黏著劑層之偏光薄膜賦予光擴散功能之故而較佳。
就光擴散性微粒子而言，可使用任意妥適者。就具體例而言，可舉：無機微粒子、高分子微粒子等，該等之中，較佳為高分子微粒子。
就前述高分子微粒子的材質而言，例如，可舉：聚矽氧樹脂、苯乙烯樹脂、甲基丙烯酸系樹脂(例如，聚甲基丙烯酸甲酯)、聚苯乙烯樹脂、聚胺基甲酸酯樹脂、三聚氰胺樹脂。該等樹脂因對前述黏著劑組成物具有優良的分散性並且與前述黏著劑組成物有妥適的折射率差，故可獲得光擴散性能優良的光擴散黏著劑層A1。該等之中，尤以聚矽氧樹脂、苯乙烯樹脂為佳。
光擴散性微粒子的形状，例如，可為真球狀、扁平狀、不定形狀。光擴散性微粒子可單獨地使用，亦可組合2種以上來使用。
在本發明使用之光擴散性微粒子的折射率，宜低於前述黏著劑組成物的折射率。所謂前述「黏著劑組成物的折射率」，為不含光擴散性微粒子之黏著劑組成物(即，添加光擴散性微粒子前之黏著劑組成物)的折射率。光擴散性微粒子的折射率，較佳為1.30~1.70，更佳為1.40~1.65。光擴散性微粒子的折射率為前述範圍的話，能夠把與黏著劑組成物的折射率差作成所期望的範圍，其結果能夠獲得具有所期望之霧度値的光擴散黏著劑層A1之故而較佳。
光擴散性微粒子與黏著劑組成物之折射率差的絕對值，較佳為超過0且0.2以下，更佳為超過0且0.15以下，進一步較佳為0.01~0.13。
光擴散性微粒子的體積平均粒徑較佳為1~4μm左右，更佳為2~4μm左右。光擴散性微粒子的體積平均粒徑為前述範圍内的話，藉由與前述黏著劑組成物組合，可獲得具有所期望之霧度值的光擴散黏著劑層A1之故而較佳。此外，體積平均粒徑，例如，可使用超離心式自動粒度分布測定裝置來測定。
在前述光擴散黏著劑層A1中光擴散性微粒子的含量，雖無特別限定，較佳為0.3~50重量%，更佳為3~48重量%，進一步較佳為3~30重量%。藉由將光擴散性微粒子的摻合量作成前述範圍，可獲得具有優良光擴散性能的光擴散黏著劑層A1。
前述光擴散黏著劑層A1的霧度雖無特別限定，但較佳為10~95%，更佳為20~85%，進一步較佳為30~70%。藉由將霧度值設為前述範圍，可獲得所期望的擴散性能，且能夠良好地抑制波紋(moire)及閃爍的發生之故而較佳。光擴散黏著劑層A1的光擴散性能，可藉由調整基質(黏著劑)的構成材料，還有光擴散性微粒子的構成材料、體積平均粒徑及摻合量等而控制。
針對前述黏著劑層A(或A1)的形成方法而言，於後敘述。
(2)偏光薄膜 於本發明使用的偏光薄膜，為只在偏光件的單面具有透明保護薄膜的單面保護偏光薄膜。
在本發明來說，使用厚度為10μm以下的薄型偏光件。從薄型化的觀點來說的話，該厚度較佳為1~7μm。這樣的薄型偏光件，由於厚度不均少，且視辨性優良，又尺寸變化少的緣故耐久性優良，進而作為偏光薄膜的厚度亦能夠圖謀薄型化之點而較佳。
就薄型偏光件而言，代表性地可列舉於日本特開昭51-069644號公報、日本特開2000-338329號公報以及國際公開第2010/100917號說明書或日本特開2014-59328號公報及日本特開2012-73563號公報所記載的薄型偏光膜。該等薄型偏光膜可藉由包含下述步驟的製法獲得：將聚乙烯醇系樹脂(以下，亦稱PVA系樹脂)層與延伸用樹脂基材以積層體的狀態進行延伸的步驟與染色的步驟。係該製法的話，即便PVA系樹脂層薄，也因受到延伸用樹脂基材所支持而變得能夠沒有不良(因延伸所致之斷裂等)地進行延伸。
就前述薄型偏光膜而言，在包含以積層體的狀態來進行延伸的步驟與染色的步驟的製法中，在能夠高倍率地延伸並能使偏光性能提升之點，較佳亦為利用包含下述步驟的製法來獲得者：在國際公開第2010/100917號說明書，或日本特開2014-059328號公報及日本特開2012-073563號公報有記載般的在硼酸水溶液中進行延伸的步驟，特佳亦為藉由包含下述步驟的製法所獲得者：在日本特開2014-059328號公報及日本特開2012-073563號公報有記載的在硼酸水溶液中進行延伸之前，輔助性地進行空中延伸的步驟。
就形成設在前述偏光件單面之透明保護薄膜的材料而言，較佳為透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻絕性、等向性等優良者。例如，可舉：聚對苯二甲酸乙二酯及聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系聚合物、二乙酸纖維素及三乙酸纖維素(triacetyl cellulose)等纖維素系聚合物、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物、聚苯乙烯及丙烯腈・苯乙烯共聚物(AS樹脂)等苯乙烯系聚合物、聚碳酸酯系聚合物等。又，亦可舉：聚乙烯、聚丙烯、具有環系或降莰烯(norbornene)構造的聚烯烴、乙烯・丙烯共聚物等聚烯烴系聚合物、氯乙烯系聚合物、耐綸及芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物、醯亞胺系聚合物、碸系聚合物、聚醚碸系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚苯硫醚系聚合物、乙烯醇系聚合物、偏二氯乙烯系聚合物、乙烯醇縮丁醛(vinyl butyral)系聚合物、芳酯系聚合物、聚甲醛(polyoxymethylene)系聚合物、環氧系聚合物，或者前述聚合物的摻混物等作為形成前述透明保護薄膜之聚合物的例子。透明保護薄膜亦可形成來作為丙烯酸系、胺基甲酸酯系、丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化型、紫外線硬化型樹脂的硬化層。
保護薄膜的厚度能夠適宜地決定，但因強度或操作性等之作業性、薄膜性等點，一般來說為1~500μm左右。
前述偏光件與保護薄膜通常透過水系接著劑等而密接。就水系接著劑而言，可例示：異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯基系乳膠(latex)系、水系聚胺基甲酸酯、水系聚酯等。除上述外，就偏光件與透明保護薄膜的接著劑而言，可舉：紫外硬化型接著劑、電子束硬化型接著劑等。電子束硬化型偏光薄膜用接著劑，對上述各種透明保護薄膜會顯示合適的接著性。又，在本發明使用之接著劑來說，可使含有金屬化合物填料。
在前述透明保護薄膜之不接著偏光件的面，可形成硬塗層或是施以抗反射處理或以防黏、擴散及抗眩光為目的的處理。
(3)附黏著劑層之偏光薄膜 本發明之附黏著劑層之偏光薄膜可藉由將前述黏著劑組成物直接塗布於前述單面保護偏光薄膜的偏光件，並利用加熱乾燥等除去溶劑等，而將黏著劑層A(或A1)形成在偏光件上。又，亦可把已形成在支持體等的黏著劑層A(或A1)，轉印至前述單面保護偏光薄膜的偏光件上，來形成附黏著劑層之偏光薄膜。
就黏著劑組成物的塗布方法而言，可使用各種方法。具體地說，例如，可舉：輥塗法、接觸上膠輥塗佈法、凹版塗佈法、逆輥塗佈法、滾動刷塗法、噴塗法、浸漬輥塗佈法、棒塗法、刮刀塗佈法、氣動刮刀塗佈法、簾幕塗佈法、唇嘴塗佈法、藉由模塗佈機等進行的押出塗佈法等方法。
前述加熱乾燥溫度，較佳為30℃~200℃左右，較佳為40℃~180℃，進一步較佳為80℃~150℃。藉由將加熱溫度作成上述範圍，能夠獲得具有優良黏著特性的黏著劑層A(或A1)。乾燥時間，可採用適宜、妥適的時間。上述乾燥時間較佳為5秒~20分左右，更佳為30秒~10分，進一步較佳為1分~8分。
就前述支持體而言，例如，可使用經剝離處理的片材(隔片(separator))。就經剝離處理的片材而言，宜使用聚矽氧剝離襯墊。
就隔片的構成材料而言，例如，可舉：聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚酯薄膜等塑料薄膜、紙、布、不織布等多孔質材料、網狀物(net)、發泡片材、金屬箔及該等的層合體等適宜的薄葉體等，從表面平滑性優良之點來看，可合適地使用塑料薄膜。
就前述塑料薄膜而言，例如，可舉：聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚丁二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、氯乙烯共聚物薄膜、聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、聚對苯二甲酸丁二酯薄膜、聚胺基甲酸酯薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物薄膜等。
前述隔片的厚度通常為5~200μm，較佳為5~100μm左右。前述隔片因應需要也可進行由聚矽氧系、氟系、長鏈烷基系或脂肪酸醯胺系之脫模劑及氧化矽粉等所致的脫模以及防污處理及塗布型、揉合型、蒸鍍型等抗靜電處理。尤其藉由對前述隔片的表面適當進行聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等剝離處理，能夠更提高從前述黏著劑層A(或A1)的剝離性。
此外，在製作上述附黏著劑層之偏光薄膜時使用之，經剝離處理的片材，可直接作為附黏著劑層之偏光薄膜的隔片來使用，能夠進行製程面上的簡化。
又，在前述附黏著劑層之偏光薄膜中，在黏著劑層A(或A1)形成之時，在偏光件的表面，或可形成錨定層，或可在施行了電暈處理、電漿處理等各種易接著處理之後形成黏著劑層。又，在黏著劑層A(或A1)的表面來說亦可進行易接著處理。
本發明之附黏著劑層之偏光薄膜，由於使用偏光件厚度為10μm以下的單面保護偏光薄膜的緣故，即便就附黏著劑層之偏光薄膜整體來說亦能夠薄膜化。就附黏著劑層之偏光薄膜的厚度而言，可作成35μm以下。
(4)其他的層 本發明之附黏著劑層之偏光薄膜，除前述偏光薄膜、黏著劑層A(或A1)以外，亦可包含例如：黏著劑層A以外的黏著劑層B等。具體地說，例如，可在附黏著劑層之偏光薄膜的透明保護薄膜側，進一步形成另外的黏著劑層B。就該黏著劑層B而言，無特別限定，可為前述黏著劑層A及光擴散黏著劑層A1，可適宜使用由含有其他的各種基底聚合物的黏著劑組成物所形成的黏著劑層。
針對前述基底聚合物的種類，無特别限制，例如，可舉：(甲基)丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、胺基甲酸酯系聚合物等各種聚合物。該等基底聚合物之中，從光學透明性優良，會顯示適宜的濕潤性、凝聚性與接著性之黏著特性，且耐候性及耐熱性等優良之點來看，宜使用(甲基)丙烯酸系聚合物。以下，針對黏著劑層B之形成材料的丙烯酸系黏著劑進行說明；該丙烯酸系黏著劑是以含有(甲基)丙烯酸烷基酯作為單體單位之(甲基)丙烯酸系聚合物作為基底聚合物。
就前述(甲基)丙烯酸系聚合物而言，可藉由將包含(甲基)丙烯酸烷基酯的單體成分予以聚合而獲得，該(甲基)丙烯酸烷基酯是在酯基的末端具有碳數4~24的烷基。此外，(甲基)丙烯酸烷基酯是稱丙烯酸烷基酯及/或甲基丙烯酸烷基酯，與本發明的(甲基)為同樣的意味。
就(甲基)丙烯酸烷基酯而言，可例示：具有直鏈狀或分枝鏈狀之碳數4~24的烷基者。(甲基)丙烯酸烷基酯能夠以單獨1種或者組合2種以上來使用。
前述黏著劑層B涉及之(甲基)丙烯酸系聚合物，從控制儲存模量，加工性、保管性、耐久性之點來看，較佳為包含最多的丙烯酸丁酯作為單體單位。
在本發明中，在酯末端具有前述碳數4~24之烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯，相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分的總量，較佳為40重量%以上，更佳為50重量%以上，進一步較佳為60重量%以上。
在形成前述(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分來說，可含有前述(甲基)丙烯酸烷基酯以外的共聚合單體作為單官能性單體成分。就這樣的共聚合單體而言，例如，可舉：含有環狀氮的單體、含有羥基的單體、含有羧基的單體、具有環狀醚基的單體等。
在本發明中，前述共聚合單體可使用來作為在單體成分中之前述(甲基)丙烯酸烷基酯的剩餘部份，且相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單官能性單體成分的總量，較佳為60重量%以下，更佳為50重量%以下，進一步較佳為40重量%以下。
又，在前述以外亦可使用：具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等不飽和雙鍵之具有聚合性官能基的各種共聚合單體、含有矽原子的矽烷系單體等。
又，在形成於本發明使用之(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分來說，除了前述例示的單官能性單體之外，為了調整黏著劑的凝聚力，可因應需要含有多官能性單體。
多官能性單體的使用量因其分子量及官能基數等而不同，但相對於單官能性單體合計100重量份，較佳以3重量份以下使用，更佳為2重量份以下，進一步較佳為1重量份以下。又，就下限値來說雖未被特別限定，較佳為0重量份以上，更佳為0.001重量份以上。因多官能性單體的使用量在前述範圍内，能夠提升接著力。
這樣的(甲基)丙烯酸系聚合物的製造，可適宜選擇：溶液聚合、紫外線聚合等放射線聚合、塊狀聚合、乳化聚合等各種自由基聚合等公知的製造方法。又，所獲得之(甲基)丙烯酸系聚合物可為：無規共聚物、嵌段共聚物、接技共聚物等任一者。
於自由基聚合所使用之聚合起始劑、鏈轉移劑、乳化劑等，無特別限定，可適宜選擇公知者來使用。此外，(甲基)丙烯酸系聚合物的重量平均分子量，可藉由聚合起始劑、鏈轉移劑的使用量、反應條件而控制，因應該等的種類調整適宜的其之使用量。
又，(甲基)丙烯酸系聚合物，在藉由活性能量線聚合而製造時來說，是能夠藉由將前述單體成分，照射電子束、紫外線等活性能量線而聚合來製造。當以電子束來進行前述活性能量線聚合時來說，並非特別需要使前述單體成分含有光聚合起始劑，但當以紫外線聚合來進行前述活性能量線聚合時來說，尤其從能夠縮短聚合時間之優點等來看，能夠使單體成分含有光聚合起始劑。光聚合起始劑能夠以單獨1種或組合2種以上來使用。前述單體成分在放射線照射之時，可使用在已於事前將一部分予以聚合作成了漿者。
就光聚合起始劑而言無特別限定，能夠適宜選擇公知者來使用。就其之添加量亦能夠以通常所使用之程度的量使用使用。
在形成前述黏著劑層B之黏著劑組成物來說，能夠含有交聯劑。就交聯劑而言，包含：異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑、聚矽氧系交聯劑、
Figure 105129957-A0304-12-0015-1
唑啉系交聯劑、吖
Figure 105129957-A0304-12-0022-1
(aziridine)系交聯劑、矽烷系交聯劑、烷基醚化三聚氰胺系交聯劑、金屬螯合物系交聯劑、過氧化物等交聯劑。交聯劑能單獨使用1種或組合2種以上。就前述交聯劑而言，宜使用異氰酸酯系交聯劑、環氧系交聯劑。
上述交聯劑能以單獨1種來使用，又亦可混合2種以上來使用，但就整體而言的含量，相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，較佳為以0.01~5重量份的範圍來含有前述交聯劑。交聯劑的含量，較佳含有0.01~4重量份，更佳含有0.02~3重量份。
又，亦可併用有機系交聯劑及多官能性金屬螯合物作為交聯劑。
在形成前述黏著劑層B之黏著劑組成物來說，為了使接著力提升，可使含有(甲基)丙烯酸系寡聚物。
進一步，在形成前述黏著劑層B之黏著劑組成物來說，可含有矽烷耦合劑。相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，矽烷耦合劑的摻合量，較佳為1重量份以下，進一步較佳為0.01~1重量份，進一步較佳為0.02~0.6重量份。
就可較佳地使用之矽烷耦合劑而言，可舉：3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、2-(3,4環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷等含有環氧基的矽烷耦合劑；3-胺基丙基三甲氧基矽烷、N-2-(胺基乙基)-3-胺基丙基甲基二甲氧基矽烷、3-三乙氧基矽基-N-(1,3-二甲基亞丁基)丙胺、N-苯基-γ-胺基丙基三甲氧基矽烷等含有胺基的矽烷耦合劑；3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷等含有(甲基)丙烯醯基的矽烷耦合劑；3-異氰酸酯基丙基三乙氧基矽烷等含有異氰酸酯基的矽烷耦合劑等。
進一步，在形成前述黏著劑層B之黏著劑組成物來說，亦可含有其他公知的添加劑，例如，可因應使用的用途來適宜添加：聚丙二醇等聚伸烷基二醇的聚醚化合物、著色劑、顏料等粉體、染料、界面活性劑、塑化劑、黏著性賦予劑、表面潤滑劑、流平劑、軟化劑、抗氧化劑、抗老化劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、無機或有機的填充劑、金屬粉、粒子狀、箔狀物等。又，在可控制的範圍内，亦可採用添加還原劑的氧化還原系。
前述黏著劑層B，例如，可藉由在偏光薄膜的透明保護薄膜上塗布前述黏著劑組成物，並乾燥除去聚合溶劑等而形成。在塗布前述形成材料時，亦可適宜地，新添加聚合溶劑以外之一種以上的溶劑。
就前述黏著劑組成物的塗布方法而言，可使用各種方法。具體地說，例如，可舉：輥塗法、接觸上膠輥塗佈法、凹版塗佈法、逆輥塗佈法、滾動刷塗法、噴塗法、浸漬輥塗佈法、棒塗法、刮刀塗佈法、氣動刮刀塗佈法、簾幕塗佈法、唇嘴塗佈法、藉著模塗佈機等進行的押出塗佈法等方法。
前述加熱乾燥溫度，較佳為40℃~200℃，進一步較佳為50℃~180℃，特佳為60℃~170℃。藉由將加熱溫度作成上述範圍，可獲得具有優良黏著特性的黏著劑層B。乾燥時間可採用適宜、妥適的時間。上述乾燥時間較佳為5秒~20分，進一步較佳為5秒~10分，特佳為10秒~5分。
又，前述黏著劑層B的形成，在前述形成材料(黏著劑)為活性能量線硬化型黏著劑時來說，可藉由照射紫外線等活性能量線而聚合來進行。在紫外線照射來說，可使用高壓水銀燈、低壓水銀燈、金屬鹵素燈等。
又，前述黏著劑層B可在已形成於支持體之後，轉印至偏光薄膜的透明保護薄膜上。就前述支持體而言，可適宜使用在本說明書中記載者。
已形成在偏光薄膜之透明保護薄膜上的黏著劑層B，在供至實際使用為止亦能以經剝離處理的片材(隔片)來保護黏著面。實際使用時，前述經剝離處理的片材被剝離。就隔片而言，可適宜使用於本說明書中記載者。
前述黏著劑層B的厚度雖無特別限定，較佳為30μm以下，更佳為1~25μm，進一步較佳為5~25μm，特佳為10~20μm。
2.光學構件 本發明之光學構件之特徵在於具有前述附黏著劑層之偏光薄膜及增亮薄膜，該增亮薄膜係設於該附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑層A側。
如於圖2所示，在本發明之光學構件10中，增亮薄膜6可透過前述附黏著劑層之偏光薄膜1的黏著劑層A(3)直接貼合，亦可隔著其他層進行積層。又，本發明之光學構件10係如圖3所示，在前述增亮薄膜6之不具附黏著劑層之偏光薄膜1之側，可透過黏著劑層(未圖示)等進一步積層稜鏡片材7。稜鏡片材7代表性地具有基板與稜鏡部。
就前述增亮薄膜6，可舉：反射型偏光板。前述反射型偏光板是直線偏光分離型的偏光板。就其代表例而言，可舉：柵型偏光板、折射率不同的2種以上材料的多層薄膜積層偏光板、折射率不同的蒸鍍多層薄膜、折射率不同的2種以上材料的雙折射層多層薄膜積層體、將使用了具有折射率差之2種以上樹脂而成之2種以上的樹脂積層體予以延伸而成者、將直線偏光在垂直的軸方向上以反射/穿透來分離的偏光板(直線偏光分離型反射偏光板)。該等之中，可合適地使用直線偏光分離型反射偏光板。就這樣的反射型偏光板而言，例如亦可使用以3M製之商品名「D-BEF」及日東電工(股)製之商品名「NIPOCS APCF」所市售者。
3.影像顯示裝置 本發明之影像顯示裝置之特徵在於包含選自於由前述附黏著劑層之偏光薄膜及前述光學構件所構成群組中之1種以上。
當前述黏著劑層A為擴散黏著劑層A1時，本發明之附黏著劑層之偏光薄膜即具有光擴散功能，因此例如可用來代替被設於影像顯示裝置之背光側的擴散片材。又，此時可如前述與增亮薄膜及稜鏡片材一起形成光學構件來使用。
又，本發明之附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑層A不具擴散功能時(即，為不含光擴散性微粒子之黏著劑層A時)，亦可用來作為影像顯示裝置之背光側、視辨側任一者的偏光薄膜。
本發明之影像顯示裝置，只要包含本發明之附黏著劑層之偏光薄膜或光學構件即可，就其他的構成而言，可舉與以前的影像顯示裝置同樣者。
本發明之影像顯示裝置因包含前述附黏著劑層之偏光薄膜或光學構件，故具有高可靠性。又，本發明之光學構件由於具備光擴散功能的緣故，可將前述光學構件用來代替設於背光側的擴散片材，其結果，能夠將影像顯示裝置予以薄膜化，且能夠消除來自背光之光的偏差，並且能夠進行更均勻的顯示。 實施例
於以下，藉由實施例來具體地說明本發明，但本發明並非受該等實施例所限定。此外，各例中的份及%任一者皆為重量基準。
製造例1(黏著劑組成物(A-1)的製造) 將苯乙烯-乙烯-丙烯-苯乙烯嵌段共聚物(SEPS、商品名：SEPTON 2063、苯乙烯含量：13%、(股)可樂麗製)100重量份作為基底聚合物、萜烯聚合物氫化物(商品名：Clearon P150、軟化點：約152℃、Yasuhara Chemical(股)製)10重量份作為黏著賦予樹脂，混合至甲苯300重量份，調製了黏著劑組成物(A-1)。
製造例2~8(黏著劑組成物(A-2)~(A-8)的製造) 除作成了於表1記載的組成以外係與製造例1同樣地進行來製作了黏著劑組成物(A-2)~(A-8)。此外，在製造例8來說，相對於黏著劑組成物100重量份，添加了於下述表1記載之量的光擴散性微粒子。又，黏著賦予樹脂的添加量是相對於基底聚合物(橡膠系聚合物)100重量份的量。
[表1]
Figure 02_image001
表1中， SEPS為苯乙烯-乙烯-丙烯-苯乙烯嵌段共聚物(商品名：SEPTON 2063、苯乙烯含量：13%、(股)可樂麗製)、 PIB為聚異丁烯(商品名：OPPANOL B80、重量平均分子量(Mw)：約75萬、BASF公司製)、 BR為丁基橡膠(商品名：JSR BUTYL 365、黏度平均分子量(Mv)：約35萬、JSR(股)製)、 Clearon為萜烯聚合物氫化物(商品名：Clearon P150、軟化點：約152℃、Yasuhara Chemical(股)製)、 氫化萜烯酚為商品名：YS POLYSTAR UH115、軟化點：約115℃、Yasuhara Chemical(股)製、  光擴散性微粒子為聚矽氧酮樹脂微粒子(商品名：Tospearl 145、體積平均粒徑：4μm、折射率：1.43、聚矽氧樹脂系微粒子、Momentive Performance Materials公司製)。
表1的透濕度是以以下的方法進行了測定。 (透濕度的測定方法) 使用於製造例1~8所獲得之黏著劑組成物(A-1)~(A-8)，準據於以下實施例1記載的方法來形成了黏著劑層的厚度為50μm的黏著片材。剝下黏著片材的其中一剝離襯墊，使黏著面露出，藉由該黏著面使黏著片材貼合至三乙酸纖維素薄膜(TAC薄膜、厚度25μm、Konica Minolta(股)製)。然後，剝下另一剝離襯墊來獲得了測定用樣本。 其次，使用該測定用樣本，以下述條件，藉由透濕度試驗方法(杯法(cup method)，準據JIS Z 0208)，測定了透濕度(水蒸氣穿透率)。 測定溫度：40℃ 相對濕度：92% 測定時間：24小時 此外，在測定之際來說，使用了恆溫恆濕槽。
製造例9(偏光薄膜的製造) 為了製作薄型偏光膜，首先，把於非晶形聚對苯二甲酸乙二酯(PET)基材製膜有9μm厚之聚乙烯醇(PVA)層的積層體藉由延伸溫度130℃的空中補助延伸來生成了延伸積層體。其次，藉由將延伸積層體予以染色來生成著色積層體，進一步將著色積層體藉由延伸溫度65℃的硼酸水中延伸，來生成了包含4μm厚之PVA層的光學薄膜積層體，該4μm厚之PVA層是以使得總延伸倍率成為5.94倍的方式與非晶形PET基材一體地延伸而成。藉由這樣的2段延伸而生成構成高機能偏光膜(偏光件)之厚度5μm之包含PVA層的光學薄膜積層體，該高機能偏光膜(偏光件)是被製膜在非晶形PET基材之PVA層的PVA分子被高度地配向，且藉由染色所吸附的碘以多碘離子錯合物被高度地配向於一方向。
在上述偏光件涉及之上述光學薄膜積層體的偏光膜(偏光件，厚度：5μm)的表面，以使得接著劑層的厚度成為0.1μm的方式一邊塗布聚乙烯醇系接著劑，一邊使透明保護薄膜(對厚度20μm之具有內酯環構造的(甲基)丙烯酸樹脂薄膜施行了電暈處理者)貼合之後，以50℃進行了5分鐘的乾燥。接著，剝離非晶形PET基材，製作出了使用有薄型偏光件的單面保護偏光薄膜。
製造例10(黏著劑層(B-1)的製作) 將丙烯酸丁酯(BA)99重量份、4-羥丁基丙烯酸酯(4HBA)1重量份作為單體成分，偶氮雙異丁腈0.2重量份作為聚合起始劑及乙酸乙酯作為聚合溶劑以使得固體成分成為20%的方式投入至備有溫度計、攪拌機、回流冷卻管及氮氣導入管的可分離式燒瓶之後，流動氮氣，一邊攪拌一邊進行了約1小時氮取代。其後，將燒瓶加熱至60℃，使反應7小時來獲得了重量平均分子量(Mw)110萬的丙烯酸系聚合物。將三羥甲基丙烷甲苯二異氰酸酯(商品名：Coronate L、日本聚胺基甲酸酯工業(股)製)0.8重量份作為異氰酸酯系交聯劑、矽烷耦合劑(商品名：KBM-403、信越化學(股)製)0.1重量份添加至上述丙烯酸系聚合物溶液(固體成分100重量份)，來調製了黏著劑組成物(B-1)。將前述調製出的黏著劑組成物(B-1)，以使得乾燥後的厚度成為5μm、10μm、20μm的方式來塗布至具有38μm之厚度的聚對苯二甲酸乙二酯系剝離襯墊上，在常壓下，在60℃下1分鐘及在150℃下1分鐘進行加熱乾燥，製作了具有各厚度(5μm、10μm、20μm)的黏著劑層(B-1)。黏著劑層B的透濕度為1400g/(m2 ・24h)。此外，透濕度的測定係以與黏著劑層A同樣的方法來測定。
實施例1 在經以聚矽氧對單面施行過剝離處理之厚度38μm的聚酯薄膜(商品名：DIAHOIL MRF、三菱樹脂(股)製)的剝離處理面，以使得最終的厚度成為5μm的方式塗布製造例1所獲得之黏著劑組成物(A-1)來形成了塗布層。接著，在130℃下使塗布層乾燥2分鐘來形成黏著劑層(A-1)，製作了黏著片材。又，在黏著片材的黏著面來說，把前述經以聚矽氧對單面施行過剝離處理之厚度38μm的聚酯薄膜(商品名：DIAHOIL MRF，三菱樹脂(股)製)，以使得剝離處理面與前述黏著劑層接觸的方式來貼合。被覆於黏著劑層兩面的聚酯薄膜是作為剝離襯墊(隔片)發揮功能。
剝離前述黏著劑片材之其中一剝離襯墊，積層至增亮薄膜(商品名：D-BEF、3M公司製)，來形成了附黏著劑層A之增亮薄膜(黏著劑層(A-1)/增亮薄膜)。
把於製造例10所獲得之厚度20μm的黏著劑層(B-1)，轉印至製造例9所獲得之單面保護偏光薄膜(尺寸：縱150mm×橫70mm)的單面(透明保護薄膜側)，獲得了附黏著劑層B之偏光薄膜(剝離襯墊/黏著劑層(B-1)/透明保護薄膜/偏光件)。
剝離附黏著劑層A之增亮薄膜之黏著劑層A的剝離襯墊，以使得黏著劑層A與偏光件接觸的方式來積層至前述附黏著劑層B之偏光薄膜的偏光件上而獲得了光學構件。黏著劑層B之剝離襯墊係作為隔片殘留。所獲得之光學構件的構成為剝離襯墊(隔片)/黏著劑層(B-1)/透明保護薄膜/偏光件/黏著劑層(A-1)/增亮薄膜。
實施例2~23、比較例1~5 在實施例1中，除了如表2所示變更了黏著劑層A之種類及厚度以外，係以與實施例1同樣方式形成了光學構件。比較例1~3係使用了於製造例10所獲得之各厚度的黏著劑層(B-1)作為黏著劑層A。又，實施例22、23之光擴散黏著劑層的霧度值係藉由以下方法進行了測定。
＜霧度值＞ 針對於實施例22、23使用之光擴散黏著劑層的霧度值，藉由在JIS 7136規定的方法，使用霧度計(haze meter)(製品名：HN-150、(股)村上色彩科學研究所製)來進行了測定。
實施例24 剝離於實施例1所獲得之黏著劑層(A-1)之黏著片材的其中一剝離襯墊，將黏著劑層(A-1)轉印到在製造例9所獲得之單面保護偏光薄膜(尺寸：縱150mm×橫70mm)的單面(偏光件側)，獲得了附黏著劑層之偏光薄膜(透明保護薄膜/偏光件/黏著劑層(A-1)/剝離襯墊(隔片))。
實施例25~28 在實施例24中，除了如表2所示變更了黏著劑層A的種類，係以與實施例24同樣方式形成了附黏著劑層之偏光薄膜。
比較例6 把於製造例10所獲得之厚度5μm的黏著劑層(B-1)，轉印到在製造例9所獲得之單面保護偏光薄膜(尺寸：縱150mm×橫70mm)的單面(偏光件側)，獲得了附黏著劑層B之偏光薄膜(剝離襯墊(隔片)/黏著劑層(B-1)/偏光件/透明保護薄膜)。
比較例7 把於製造例10所獲得之厚度20μm的黏著劑層(B-1)，轉印到在製造例9所獲得之單面保護偏光薄膜(尺寸：縱150mm×橫70mm)的單面(偏光件側)，獲得了附黏著劑層B之偏光薄膜(剝離襯墊(隔片)/黏著劑層(B-1)/偏光件/透明保護薄膜)。
針對在上述實施例1~23、比較例1~5所獲得之光學構件(測定樣本：附隔片(剝離襯墊))，於實施例24~28、比較例6、7所獲得之附黏著劑層之偏光薄膜(測定樣本：附隔片(剝離襯墊))，進行了以下的評價。將評價結果顯示於表2。
＜角落部的脫色＞ 把各個垂直於延伸方向的方向及延伸方向作成相對向的二兩邊的試驗片(50mm×50mm)從實施例及比較例所獲得之附黏著劑層之偏光薄膜切出。針對實施例1~23、比較例1~5的光學構件，係剝下黏著劑層B上的隔片，使試驗片貼合至玻璃板，將其在60℃、濕度90%的烘箱内放置300小時來加濕，並藉由顯微鏡調查標準偏光板與配置為正交尼科耳狀態時之加濕後之偏光薄膜的角落部脫色狀態。針對實施例24~28、比較例6、7的附黏著劑層之偏光薄膜，係剝下黏著劑層A上的隔片，使試驗片貼合至玻璃板，並與前述同樣藉由顯微鏡調查角落部的脫色狀態。具體上是測定了從偏光薄膜端部之脫色的大小(脫色量：μm)。使用Olympus公司製、MX61L作為顯微鏡，從以倍率10倍攝影出的影像測定了脫色量。當針對多個部位進行了測定時，將最大者令為脫色量。此外，已脫色之區域，偏光特性明顯地低，且實質上不起作為偏光板的功能，因此脫色量較佳為200μm以下，更佳為100μm，進一步較佳為50μm以下。
＜耐久性＞ 目視或使用放大鏡(20倍)觀察了把實施例及比較例所獲得之光學構件或附黏著劑層之偏光薄膜，投入80℃、60℃/90%R.H.的環境下300小時後的狀態。藉由以下的評價基準進行了評價。  ◎：即便以放大鏡確認，亦沒有不良(發泡、剝離等)的發生。  〇：在目視來說未能確認到不良，但要是以放大鏡確認則多少有產生對使用沒有問題程度的不良。  ×：以目視可確認到不良。
[表2]
Figure 02_image003
表2中，(A-1)~(A-8)是表示於製造例1~8所獲得之黏著劑組成物(A-1)~(A-8)，(B-1)表示於製造例10所獲得之黏著劑組成物(B-1)，D-BEF表示增亮薄膜(商品名：D-BEF、3M公司製)。
表2中之光擴散性微粒子的含量(%)，為在光擴散黏著劑層中光擴散性微粒子的含量。
1‧‧‧附黏著劑層之偏光薄膜2‧‧‧偏光薄膜3‧‧‧黏著劑層A(或光擴散黏著劑層A1)4‧‧‧偏光件5‧‧‧透明保護薄膜6‧‧‧增亮薄膜7‧‧‧稜鏡片材10‧‧‧光學構件
圖1為示意性顯示本發明之附黏著劑層之偏光薄膜一實施形態的截面圖。 圖2為示意性顯示本發明之光學構件一實施形態的截面圖。 圖3為示意性顯示本發明之光學構件一實施形態的截面圖。
1‧‧‧附黏著劑層之偏光薄膜
2‧‧‧偏光薄膜
3‧‧‧黏著劑層A(或光擴散黏著劑層A1)
4‧‧‧偏光件
5‧‧‧透明保護薄膜

Claims (11)

  1. 一種附黏著劑層之偏光薄膜，係具有偏光薄膜及設於該偏光薄膜之黏著劑層A，該附黏著劑層之偏光薄膜之特徵在於：前述偏光薄膜係只在厚度為10μm以下之偏光件單側具有透明保護薄膜的單面保護偏光薄膜，前述黏著劑層A設於前述偏光件之不具前述透明保護薄膜之側；且前述黏著劑層A之透濕度為100g/(m2‧24h)以下，且厚度為30μm以下。
  2. 如請求項1之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述黏著劑層A是含有橡膠系聚合物作為主成分的黏著劑層。
  3. 如請求項2之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述橡膠系聚合物是選自於由苯乙烯系熱塑性彈性體、聚異丁烯及丁基橡膠所構成群組中之1種以上橡膠系聚合物。
  4. 如請求項2或3之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述黏著劑層A進一步包含黏著賦予樹脂。
  5. 如請求項1之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述黏著劑層A是含光擴散性微粒子的光擴散黏著劑層A1。
  6. 如請求項5之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述光擴散黏著劑層A1的霧度為10~95%。
  7. 如請求項5之附黏著劑層之偏光薄膜，其 中前述光擴散性微粒子為聚矽氧樹脂微粒子或苯乙烯樹脂微粒子。
  8. 如請求項5至7中任一項之附黏著劑層之偏光薄膜，其中前述光擴散性微粒子的體積平均粒徑為1~4μm。
  9. 一種光學構件，其特徵在於具有如請求項1至8中任一項之附黏著劑層之偏光薄膜及增亮薄膜，該增亮薄膜係設於該附黏著劑層之偏光薄膜之黏著劑層側。
  10. 如請求項9之光學構件，其中在前述增亮薄膜之不具附黏著劑層之偏光薄膜之側進一步設有稜鏡片材。
  11. 一種影像顯示裝置，其特徵在於包含選自於由如請求項1至8之附黏著劑層之偏光薄膜及如請求項9、10之光學構件所構成群組中之1種以上。
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