TWI710528B - 水處理裝置 - Google Patents
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- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 106
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims abstract description 37
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 21
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 17
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 19
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 10
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 10
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 10
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 239000003651 drinking water Substances 0.000 description 4
- 235000020188 drinking water Nutrition 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 239000003566 sealing material Substances 0.000 description 4
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 4
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000010865 sewage Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
- C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
- C02F1/325—Irradiation devices or lamp constructions
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
- C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
- C02F2201/322—Lamp arrangement
- C02F2201/3222—Units using UV-light emitting diodes [LED]
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2201/00—Apparatus for treatment of water, waste water or sewage
- C02F2201/32—Details relating to UV-irradiation devices
- C02F2201/322—Lamp arrangement
- C02F2201/3227—Units with two or more lamps
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2303/00—Specific treatment goals
- C02F2303/04—Disinfection
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Abstract
本發明的水處理裝置100為利用自LED元件31所照射的紫外光對被處理水進行紫外線處理的水處理裝置。水處理裝置100具有被處理水流動的流路10、介隔包含透明構件的窗部20而配置於流路10的外側的LED元件收容室30、及配置於LED元件收容室30內的多個LED元件31，LED元件收容室30具有乾燥氣體的流入口34及流出口35，LED元件31的發光面於LED元件收容室30內的空間中露出。
Description
本發明是有關於一種水處理裝置，尤其是有關於一種利用自發光二極體（Light Emitting Diode，LED）元件所照射的紫外光對被處理水進行紫外線處理的水處理裝置。
先前，在水處理的消毒處理中通常使用氯。然而，近年來已表明，利用氯的消毒處理於殺菌性能的方面存在改善的餘地。因此，為了對作為消毒處理對象的飲用水等被處理水充分地進行殺菌，正在研究使用紫外線的技術。此處，作為用以對被處理水照射紫外線的紫外線照射裝置，通常使用搭載有水銀燈作為光源的紫外線照射裝置。然而，搭載有水銀燈的紫外線照射裝置無法完全排除因裝置的經年劣化等而水銀與被處理水接觸的風險（risk）。
因此，近年來正在開發使用LED作為紫外線光源的水處理裝置（例如參照專利文獻1）。於專利文獻1中揭示有如下水處理裝置（以下亦稱為「第一先前例的水處理裝置」），該水處理裝置於由成為窗部的透明構件所劃分的空間內配置有作為紫外線光源的LED元件。另外，於專利文獻1中揭示有如下水處理裝置（以下亦稱為「第二先前例的水處理裝置」），該水處理裝置具有用以保護作為紫外線光源的LED元件不與水接觸的玻璃等的透明密封構件。 [現有技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2014-233646號公報
[發明所欲解決之課題] 此處，所述第一先前例的水處理裝置於在設置有作為紫外線光源的LED元件的空間內產生了結露的情形時，有時裸露的LED元件損傷。另外，對於所述第二先前例的水處理裝置而言，雖然作為紫外線光源的LED元件不會因水而損傷，但由於對每個LED元件設置密封材料，故自LED元件照射的紫外光的強度因密封材料而減弱，無法充分確保所需的照射強度。 因此，本發明的目的在於提供一種採用未經密封的所謂「裸露」狀態的LED元件作為紫外線光源而保持自LED元件所照射的紫外光的強度，並且可抑制該LED元件因結露而受到損傷的水處理裝置。 [解決課題之手段]
本發明者等人為了達成所述目的而進行了努力研究。而且，本發明者等人發現，藉由在利用自LED元件所照射的紫外光對被處理水進行紫外線處理的水處理裝置中，設置收容發光面露出的LED元件的LED元件收容室，並且在該收容室內流通乾燥氣體，可保持自LED元件所照射的紫外光的強度，並且可抑制該LED元件因結露而受到損傷，從而完成了本發明。
即，本發明的目的在於有利地解決所述課題，本發明的水處理裝置利用自LED元件所照射的紫外光對被處理水進行紫外線處理，並且所述水處理裝置的特徵在於包括：被處理水流動的流路、介隔包含透明構件的窗部而配置於所述流路的外側的LED元件收容室、以及配置於所述LED元件收容室內的多個LED元件，且所述LED元件收容室具有乾燥氣體的流入口及流出口，所述LED元件的發光面於所述LED元件收容室內的空間中露出。藉由如此般在LED元件收容室內以使發光面露出的狀態配置LED元件，進而於該LED元件收容室內流通乾燥空氣，可保持自LED元件所照射的紫外光的強度，並且抑制該LED元件因結露而受到損傷。
另外，本發明的水處理裝置中，較佳為所述LED元件的設置密度為8,000個/m2
以上。若為LED的設置密度為8,000個/m2
以上的高密度，則可進一步提高紫外線對被處理水的照射強度，進一步提高水處理裝置的殺菌效果。
另外，本發明的水處理裝置中，較佳為於所述LED元件收容室內設有圍繞各LED元件的聚光板，且於所述聚光板與所述窗部之間設有間隙。可藉由聚光板將來自LED元件的紫外線聚光，進一步提高紫外線對被處理水的照射強度。另外，藉由使聚光板不與窗部接觸，而於與窗部之間設有間隙，可進一步提高利用乾燥氣體防止結露的效果。
另外，本發明的水處理裝置中，較佳為於所述LED元件收容室的與所述流路側相反之側設有冷卻裝置。可將LED元件收容室自背面側、即與流路相反之側冷卻，抑制LED元件的短壽命化及故障。
另外，本發明的水處理裝置中，較佳為於構成所述流路的構件與構成所述窗部的透明構件之間、及構成所述窗部的透明構件與構成所述LED元件收容室的構件之間，分別配置有密封構件。藉由不僅於構成窗部的透明構件的單面側而且於兩側進行密封，可提高水處理裝置的可靠性。 [發明的效果]
根據本發明的水處理裝置，可保持自LED元件所照射的紫外光的強度，並且抑制該LED元件因結露而受到損傷。
以下，參照圖式對本發明的水處理裝置的實施形態加以詳細說明。本發明的水處理裝置例如可搭載於淨水廠等大型設備或小型的飲水機（water server）、污水處理廠及超純水製造設備等，可用於飲用水的殺菌處理。
（水處理裝置） 圖1中示出本發明的一實施形態的水處理裝置的概略構成圖。圖1所示的水處理裝置100為利用自LED元件所照射的紫外光對被處理水進行紫外線處理的水處理裝置。而且，水處理裝置100具備被處理水流動的流路10、介隔窗部20而配置於流路10的外側的LED元件收容室30、及配置於LED元件收容室30內的多個LED元件31。進而，LED元件收容室30具有乾燥氣體的流入口34及流出口35。而且，LED元件31的發光面在LED元件收容室30內的空間中露出。水處理裝置100對通過流路10而流動的被處理水照射自LED元件收容室30內的LED元件31所出射的紫外光，進行殺菌處理。所得的處理水例如可作為飲用水而對用以供給飲用水的各種設備進行送水。
以下，對構成水處理裝置100的各功能部進行更詳細說明。再者，以下將被處理水流入水處理裝置100之側稱為前段側，將處理水自水處理裝置100流出之側稱為後段側。
流路10例如可形成於套管構造部13的內部，該套管構造部13具備可為不鏽鋼（Stainless Steel，SUS）管的內管11及外管12。此處，內管11是由設於內管11的外周側的外管12所圍繞。另外，外管12並無特別限定，例如於外周面內具有處理水的流出口（未圖示）。而且，於內管11的軸線方向一側的端緣與窗部20之間設有間隙。該間隙可藉由任意的防移位構件14而劃定。防移位構件14只要可劃定內管11的軸線方向一側的端緣與窗部20之間的間隙16，則並無特別限定，例如可由法蘭（flange）、導向法蘭（pilot flange）及/或鎖銷（lock pin）等所形成。因此，圖1所示的防移位構件14並未詳細圖示，可為具有可將內管11保持於既定位置並劃定與窗部20之間的間隙的導向凸部的導向法蘭。當然，防移位構件14不限定於導向法蘭，例如亦可為不具有導向凸部的通常的法蘭。於該情形時，例如可藉由設定為如下構造而劃定內管與窗部之間的間隙：將內管自軸線方向上側朝向下側按壓，於防移位構件的圓錐狀的內周面的內徑與內管的外徑一致的位置，以不進一步向軸線方向下側移動的方式保持。
進而，外管12的軸線方向的窗部20側端部可具有凸緣。而且，以導向法蘭的形式圖示的防移位構件14與外管12端部的凸緣經相互固定，並相較於內管11進一步向軸線方向一側延伸。尤其防移位構件14保持窗部20並且與窗部20液密地連結。再者，圖1中將防移位構件14與外管12以不同構件的形式進行圖示，但該等亦可作為一個構件而表現。即，外管12亦可圍繞內管11，並且具備用以劃定內管11的軸線方向一側的端緣與窗部20之間的間隙16的構造。
而且，藉由該些內管11、外管12及任意的防移位構件14而形成流路10、及使經過流路10並藉由來自窗部20的紫外光進行了處理的處理水流入的處理水流路15。
經過流路10而接觸窗部20的水流沿著窗部20的表面流動，並且介隔窗部20而受到來自LED元件收容室30的紫外光的照射。如此，經過流路10而流入水處理裝置100內的被處理水經紫外線處理而成為處理水。繼而，該處理水沿著窗部20的表面向內管11或外管12、及防移位構件14的內壁面方向流動，經過間隙16而到達由內管11、外管12及防移位構件14所劃定的處理水流路15。然後，處理水經過處理水流路15，經由設於外管12的外周面內的流出口而向水處理裝置100外流出。
窗部20例如較理想為包含紫外光的透過率高的透明材料。例如，窗部20較佳為包含將石英玻璃（SiO2
）、藍寶石玻璃（Al2
O3
）及氟系樹脂等般的透明材料成形為板狀而成的透明構件。其中，就耐久性及透過性等觀點而言，透明材料較佳為石英玻璃。窗部20是設於由所述內管11及外管12所形成的套管構造部13的軸線方向一側（圖1中為下側）。進而，於介隔窗部20的流路10的外側配置有LED元件收容室30。
LED元件收容室30包含多個LED元件31。而且，該些LED元件31的發光面於LED元件收容室30內的空間中露出。此處，於本說明書中，所謂「LED元件的發光面露出」意指以下狀態：於藍寶石基板等基板上積層LED構造的磊晶層等而成的發光面並未由透鏡及/或密封材料等不直接有助於發光的構造部所被覆。而且，自該些發光面於LED元件收容室30內的空間中露出的多個LED元件31所出射的紫外光被照射至在內管11內流動的被處理水。
LED元件31例如可為照射波長為200 nm以上、更佳為240 nm以上且為300 nm以下、更佳為285 nm以下的紫外線的元件。紫外光中，該波長域的紫外光的殺菌力高。
進而，多個LED元件31並無特別限定，例如能以固定於LED基板32的狀態配置。進而，LED元件收容室30內的多個LED元件31的設置密度較佳為8,000個/m2
以上。若於LED元件收容室30內以8,000個/m2
以上的高密度配置LED元件，則可提高紫外線的照射強度，從而可提高水處理裝置100的殺菌性能。本發明中，正因為採用以發光面於LED元件收容室30內的空間中露出的狀態配置多個LED元件31的構造，故能以此種高密度來配置LED元件。
LED元件收容室30是由LED元件收容室劃定法蘭33、窗部20及LED基板32所圍繞。進而，LED基板32具有使乾燥氣體流入LED元件收容室30內的乾燥氣體流入口34。另外，LED元件收容室劃定法蘭33於在水處理裝置100的軸線方向上劃定LED元件收容室30的壁部內，具備至少一個、較佳為多個乾燥氣體流出口35。 此處，本說明書中所謂「乾燥氣體」，意指露點溫度為水處理裝置100的設置環境周圍的空氣的露點溫度以下的空氣，更具體而言可為露點0℃以下的空氣。進而，乾燥氣體的溫度並無特別限定，可為室溫（日本工業標準（Japanese Industrial Standards，JIS）Z 8703）。經由乾燥氣體流入口34向LED元件收容室30內流入的乾燥氣體接觸窗部20，沿著窗部20流動，最終自乾燥氣體流出口35排出。藉由如此般設定為乾燥氣體於LED元件收容室30內流通的構造，可抑制LED元件因結露而受到損傷。
進而，較佳為於LED元件收容室30內設有圍繞各LED元件31的聚光板36，且於該聚光板36與窗部20之間設有間隙。首先，若LED元件31例如具有可為反射鏡（reflector）等的聚光板36，則可將自LED元件31發出的紫外線聚光，進一步提高紫外線對被處理水的照射強度。此處，聚光板36的形狀可考慮與窗部20的間隔及窗部20的面積、厚度等而任意地最佳化。再者，反射鏡等聚光板36可經由反射鏡架（reflector mount）般的聚光板保持構件37而保持。
進而，較佳為於聚光板36的軸線方向最上部與窗部20之間存在間隙。若於聚光板36與窗部20之間存在間隙，則可提高LED元件收容室30內的乾燥氣體的流動性，進一步提高利用乾燥氣體防止結露的效果。該間隙的大小可任意設定，較佳為0.5 mm以上且1.0 mm以下。其原因在於：若間隙的大小為0.5 mm以上，則可充分確保聚光板36的聚光效果。進而其原因在於：若間隙的大小為1.0 mm以下，則可充分提高利用乾燥氣體防止結露的效果。
此處，構成窗部20的透明構件是藉由上文所述的防移位構件14及LED元件收容室劃定法蘭33而於所述軸線方向上自兩側保持。而且，該些防移位構件14及LED元件收容室劃定法蘭33、進而形成於外管12的端部的凸緣可相互固定。該固定方法並無特別限定，例如可為圖1所示般的經由螺栓23及螺母24的一般的固定方法。
較佳為於防移位構件14與構成窗部20的透明構件之間配置有第一密封構件21，且於構成窗部20的透明構件與LED元件收容室劃定法蘭33之間配置有第二密封構件22。藉由防移位構件14與窗部20於軸線方向上自上下擠壓第一密封構件21，而提高防移位構件14及窗部20之間的連接的密閉性。另外，藉由窗部20與LED元件收容室劃定法蘭33於軸線方向上自上下擠壓第二密封構件22，而提高窗部20及LED元件收容室劃定法蘭33之間的連接的密閉性。第一密封構件21及第二密封構件22為藉由介於連接對象間並經壓縮，而可發揮確保作為連接對象的構件管的密閉性的功能的構件。更具體而言，第一密封構件21及第二密封構件22分別例如可為襯墊（packing）或墊圈（gasket）等。再者，可為襯墊或墊圈等的密封構件亦可為包含橡膠等彈性材料而成的構件。 如此，若將透明構件不僅於流路10側而且於兩側密封，則可提高水處理裝置100的可靠性。其原因在於：於被處理水漏出至LED元件收容室30內的情形時，水處理裝置100發生故障，故藉由形成此種嚴格的密閉構造，可防止水向LED元件收容室30內滲入。
進而，水處理裝置100較佳為於LED元件收容室30的與流路10側相反之側具備冷卻裝置40。此處，冷卻裝置40例如可包含設於冷卻板內的冷卻室41、及使冷卻水流入該冷卻室內的冷卻水線路42。如上文所述，水處理裝置100為以於LED元件收容室30內流通乾燥氣體作為特徵的裝置。因此，於水處理裝置100中，無法利用在流路10中流動的被處理水將LED元件31冷卻。另外，如上文所述，水處理裝置100中，LED元件31的發光面並未由透鏡或密封材料等保護，而是於LED元件收容室30內的空間中露出。因此，水處理裝置100中亦無法藉由在LED元件收容室30內直接導入冷卻水而將LED元件31冷卻。因此本發明中，可藉由在LED元件收容室30的與流路10側相反之側設置冷卻裝置40而將LED元件31冷卻。如此，可藉由將LED元件31冷卻而延長LED元件31的壽命，並且抑制故障的產生。
而且，冷卻水線路42雖未圖示，但亦可連接於外管12，可對冷卻室41供給處理水作為冷卻水。作為於冷卻室41中循環的冷卻水的處理水可經由未圖示的冷卻水排水線路而與自外管12流出的處理水合流。此處，若冷卻水線路42與外管12連接，則可於不設置用以對冷卻室41供水的另外的動力的情況下將LED元件31冷卻。因此，根據該構成，可進一步提高水處理裝置100的水處理效率。
以上，使用一例對本發明的水處理裝置進行了說明，但本發明的水處理裝置不限定於所述一例。即，可對本發明的水處理裝置適當加以變更。 具體而言，例如於所述一例中，冷卻室41是以作為支持LED基板32的板狀構件的冷卻板內的空隙的形式進行了說明。然而，冷卻室例如亦可設置成以渦旋形狀及鋸齒狀等各種態樣配置的管的內部空間。藉由將冷卻室設為該構造，可進一步提高LED元件的冷卻效率。
另外，於所述一例中，對藉由內管11、外管12及任意的防移位構件14形成流路10，於該些管及構件的軸線方向的一端部配置有窗部20，介隔該窗部20而配置有LED元件收容室30的構造進行了說明。然而，本發明的水處理裝置中亦當然可採用以下構造，即，將窗部沿著流路而配置於例如形成流路的管內，介隔該窗部而照射來自LED元件的紫外光。 [產業上的可利用性]
根據本發明的水處理裝置，可保持自LED元件所照射的紫外光的強度，並且抑制該LED元件因結露而受到損傷。
10‧‧‧流路11‧‧‧內管12‧‧‧外管13‧‧‧套管構造部14‧‧‧防移位構件15‧‧‧處理水流路16‧‧‧間隙20‧‧‧窗部21‧‧‧第一密封構件22‧‧‧第二密封構件23‧‧‧螺栓24‧‧‧螺母30‧‧‧LED元件收容室31‧‧‧LED元件32‧‧‧LED基板33‧‧‧LED元件收容室劃定法蘭34‧‧‧乾燥氣體流入口35‧‧‧乾燥氣體流出口36‧‧‧聚光板37‧‧‧聚光板保持構件40‧‧‧冷卻裝置41‧‧‧冷卻室42‧‧‧冷卻水線路100‧‧‧水處理裝置
圖1為本發明的一實施形態的水處理裝置的概略構成圖。
10‧‧‧流路
11‧‧‧內管
12‧‧‧外管
13‧‧‧套管構造部
14‧‧‧防移位構件
15‧‧‧處理水流路
16‧‧‧間隙
20‧‧‧窗部
21‧‧‧第一密封構件
22‧‧‧第二密封構件
23‧‧‧螺栓
24‧‧‧螺母
30‧‧‧LED元件收容室
31‧‧‧LED元件
32‧‧‧LED基板
33‧‧‧LED元件收容室劃定法蘭
34‧‧‧乾燥氣體流入口
35‧‧‧乾燥氣體流出口
36‧‧‧聚光板
37‧‧‧聚光板保持構件
40‧‧‧冷卻裝置
41‧‧‧冷卻室
42‧‧‧冷卻水線路
100‧‧‧水處理裝置
Claims (4)
- 一種水處理裝置，利用自LED元件所照射的紫外光對被處理水進行紫外線處理，並且所述水處理裝置包括：被處理水流動的流路；LED元件收容室，介隔包含透明構件的窗部而配置於所述流路的外側；以及多個LED元件，配置於所述LED元件收容室內，與各LED元件分別對應的聚光板，配置於所述LED元件收容室內，所述LED元件收容室具有乾燥氣體的流入口及流出口，所述LED元件的發光面於所述LED元件收容室內的空間中露出，且於多個所述聚光板與所述窗部之間，設有可以使乾燥氣體流通的間隙。
- 如申請專利範圍第1項所述的水處理裝置，其中所述LED元件的設置密度為8,000個/m2以上。
- 如申請專利範圍第1項所述的水處理裝置，其中於所述LED元件收容室的與所述流路側相反之側設有冷卻裝置。
- 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項所述的水處理裝置，其中於構成所述流路的構件與構成所述窗部的透明構件之間、及構成所述窗部的透明構件與構成所述LED元件收容室的構件之間，分別配置有密封構件。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2016211002A JP6755772B2 (ja) | 2016-10-27 | 2016-10-27 | 水処理装置 |
| JP2016-211002 | 2016-10-27 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW201815692A TW201815692A (zh) | 2018-05-01 |
| TWI710528B true TWI710528B (zh) | 2020-11-21 |
Family
ID=62023477
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW106136897A TWI710528B (zh) | 2016-10-27 | 2017-10-26 | 水處理裝置 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10800673B2 (zh) |
| EP (1) | EP3533766A4 (zh) |
| JP (1) | JP6755772B2 (zh) |
| CN (1) | CN109963813A (zh) |
| CA (1) | CA3041604C (zh) |
| SG (1) | SG11201903702QA (zh) |
| TW (1) | TWI710528B (zh) |
| WO (1) | WO2018079265A1 (zh) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6994687B2 (ja) * | 2018-08-08 | 2022-01-14 | 株式会社Ｕｓｋテクノロジー | 流体殺菌装置 |
| JP7205128B2 (ja) * | 2018-09-20 | 2023-01-17 | 東芝ライテック株式会社 | 流体殺菌装置 |
| CN114269690A (zh) | 2019-07-31 | 2022-04-01 | 捷通国际有限公司 | 水处理*** |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104822395A (zh) * | 2012-10-31 | 2015-08-05 | 株式会社德山 | 紫外线杀菌装置 |
| CN105164056A (zh) * | 2013-01-24 | 2015-12-16 | 安特蓝德公司 | 用于通过从发光二极管发射的光进行液体消毒的方法和装置 |
Family Cites Families (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06165982A (ja) | 1992-11-30 | 1994-06-14 | Iwasaki Electric Co Ltd | 水処理装置における結露防止構造 |
| US6940075B2 (en) * | 2001-03-15 | 2005-09-06 | Christopher R. Schulz | Ultraviolet-light-based disinfection reactor |
| US6773584B2 (en) * | 2001-10-17 | 2004-08-10 | Honeywell International Inc. | Apparatus for disinfecting water using ultraviolet radiation |
| WO2003096387A2 (en) * | 2002-05-08 | 2003-11-20 | Phoseon Technology, Inc. | High efficiency solid-state light source and methods of use and manufacture |
| US6903380B2 (en) * | 2003-04-11 | 2005-06-07 | Weldon Technologies, Inc. | High power light emitting diode |
| GB0714363D0 (en) * | 2007-07-24 | 2007-09-05 | P W Circuits Ltd | Treatment apparatus |
| JP5228678B2 (ja) | 2008-07-31 | 2013-07-03 | 岩崎電気株式会社 | 紫外線殺菌装置 |
| US9583678B2 (en) * | 2009-09-18 | 2017-02-28 | Soraa, Inc. | High-performance LED fabrication |
| JP2012061413A (ja) * | 2010-09-15 | 2012-03-29 | Toshiba Corp | 紫外線照射装置 |
| JP5674436B2 (ja) * | 2010-11-29 | 2015-02-25 | 前澤工業株式会社 | 紫外線照射水処理装置 |
| US9240395B2 (en) * | 2010-11-30 | 2016-01-19 | Cree Huizhou Opto Limited | Waterproof surface mount device package and method |
| JP2014011373A (ja) * | 2012-07-02 | 2014-01-20 | Tokyo Electron Ltd | 半導体検査システム及びインターフェース部の結露防止方法 |
| JP2014076422A (ja) * | 2012-10-10 | 2014-05-01 | Eagle Industry Co Ltd | 殺菌装置 |
| US20140263091A1 (en) * | 2013-03-15 | 2014-09-18 | Hayward Industries, Inc. | Fluid Sanitization Assembly And Related Methods Of Use |
| JP2014233646A (ja) | 2013-05-30 | 2014-12-15 | 日機装株式会社 | 水浄化装置 |
| WO2015069680A1 (en) * | 2013-11-08 | 2015-05-14 | Mag Aerospace Industries, Llc | Point of use water treatment device |
| US10833054B2 (en) * | 2014-02-08 | 2020-11-10 | Cree Huizhou Solid State Lighting Company Limited | Smart pixel surface mount device package |
| JP6254035B2 (ja) * | 2014-03-31 | 2017-12-27 | Ｈｏｙａ Ｃａｎｄｅｏ Ｏｐｔｒｏｎｉｃｓ株式会社 | 光照射装置 |
| TWI653495B (zh) * | 2014-06-26 | 2019-03-11 | 荷蘭商皇家飛利浦有限公司 | 發光二極體照明單元 |
| JP6328527B2 (ja) * | 2014-09-02 | 2018-05-23 | 株式会社トクヤマ | 紫外線殺菌装置 |
| JP6232361B2 (ja) * | 2014-09-18 | 2017-11-15 | 株式会社トクヤマ | 紫外線殺菌装置 |
-
2016
- 2016-10-27 JP JP2016211002A patent/JP6755772B2/ja active Active
-
2017
- 2017-10-11 EP EP17864396.1A patent/EP3533766A4/en active Pending
- 2017-10-11 WO PCT/JP2017/036886 patent/WO2018079265A1/ja unknown
- 2017-10-11 CN CN201780066334.0A patent/CN109963813A/zh active Pending
- 2017-10-11 SG SG11201903702QA patent/SG11201903702QA/en unknown
- 2017-10-11 CA CA3041604A patent/CA3041604C/en active Active
- 2017-10-11 US US16/344,908 patent/US10800673B2/en active Active
- 2017-10-26 TW TW106136897A patent/TWI710528B/zh active
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104822395A (zh) * | 2012-10-31 | 2015-08-05 | 株式会社德山 | 紫外线杀菌装置 |
| CN105164056A (zh) * | 2013-01-24 | 2015-12-16 | 安特蓝德公司 | 用于通过从发光二极管发射的光进行液体消毒的方法和装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP6755772B2 (ja) | 2020-09-16 |
| TW201815692A (zh) | 2018-05-01 |
| EP3533766A1 (en) | 2019-09-04 |
| CA3041604C (en) | 2022-09-20 |
| JP2018069144A (ja) | 2018-05-10 |
| US10800673B2 (en) | 2020-10-13 |
| SG11201903702QA (en) | 2019-05-30 |
| EP3533766A4 (en) | 2020-06-24 |
| WO2018079265A1 (ja) | 2018-05-03 |
| US20190263681A1 (en) | 2019-08-29 |
| CN109963813A (zh) | 2019-07-02 |
| CA3041604A1 (en) | 2018-05-03 |
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