TWI708959B - 用於檢測x射線的裝置、包含該裝置的系統及檢測x射線的方法 - Google Patents
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Abstract
本文公開適合於檢測X射線的裝置。在一個示例中,裝置包括:X射線吸收層,其包括第一圖元和第二圖元;以及控制器。該控制器配置成用於確定單個X射線光子產生的載體被第一圖元和第二圖元收集。控制器還配置成用於基於從第一圖元檢測的第一電壓和從第二圖元檢測的第二電壓確定單個X射線光子的能量。第一電壓和第二電壓由單個X射線光子引起。
Description
本公開涉及X射線檢測器,特別涉及能夠管理電荷共用的X射線檢測器。
X射線檢測器可以是用於測量X射線的通量、空間分佈、光譜或其他性質的設備。
X射線檢測器可用於許多應用。一個重要應用是成像。X射線成像是放射攝影技術並且可以用於揭示組成不均勻和不透明物體(例如人體)的內部結構。另一個重要應用是元素分析。元素分析是就一些材料的元素組成來分析它的樣本的過程。
早期的X射線檢測器包括照相底片和照相膠片。照相底片可以是具有感光乳劑塗層的玻璃底片。
在20世紀80年代,出現了光激勵螢光板(PSP板)。PSP板可包含在它的晶格中具有色心的螢光材料。在將PSP板暴露於X射線時,X射線激發的電子被困在色心中直到它們受到在板表面上掃描的雷射光束的激勵。在鐳射掃描板時,捕獲的激發電子發出光,其被光電倍增管收集。收集的光轉換成數位圖像。
另一種X射線檢測器是X射線圖像增強器。在X射線圖像增強器中,X射線首先撞擊輸入螢光體(例如,碘化銫)並且被轉換成可見光。可見光然後撞擊光電陰極(例如,包含銫和銻複合物的薄金屬層)並且促使電子發射。發射電子數量與入射X射線的強度成比例。發射電子通過電子光學器件投射到輸出
螢光體上並且促使該輸出螢光體產生可見光圖像。
閃爍體的操作與X射線圖像增強器有些類似之處在於閃爍體(例如,碘化鈉)吸收X射線並且發射可見光,其然後可以被對可見光合適的圖像感測器檢測到。
半導體X射線檢測器可以將X射線直接轉換成電信號並且從而提供比前代X射線檢測器更好的性能。半導體X射線檢測器可包括半導體層,其在感興趣波長吸收X射線。當在半導體層中吸收X射線光子時,產生多個載荷子(例如,電子和空穴)。如本文使用的,術語“載荷子”、“電荷”和“載體”可互換使用。半導體X射線檢測器可具有多個圖元,其可以獨立確定X射線的局部強度和X射線光子能量。X射線光子產生的載荷子可在進入圖元的電場下被掃過。
如果單個X射線光子產生的載荷子被超過一個圖元收集(“電荷共用”),半導體X射線檢測器的性能可受到負面影響。在確定X射線光子能量的應用(例如,元素分析)中,因為X射線光子的能量通過它產生的電荷量來確定,電荷共用對於準確的光子能量測量尤其成問題。
本文公開的教導涉及用於X射線檢測的方法、系統和裝置。更特定地,本教導涉及用於利用電荷共用管理的X射線檢測的方法、系統和裝置。
在一個示例中,公開適合於檢測X射線的裝置。該裝置包括:X射線吸收層,其包括第一圖元和第二圖元;和控制器。該控制器配置成用於確定單個X射線光子產生的載體被第一圖元和第二圖元收集。控制器還配置成用於基於從第一圖元檢測的第一電壓和從第二圖元檢測的第二電壓確定單個X射線光子的能量,其中該第一電壓和第二電壓由單個X射線光子引起。
根據實施例,控制器進一步配置成用於獲得第一電壓的絕對值和第二電壓的絕對值的總和。控制器進一步配置成用於基於該總和確定單個X射線光子的能量。
根據實施例,第一圖元與用第一電壓充電的第一電容器關聯;第二圖元與用第二電壓充電的第二電容器關聯;並且通過使第一電容器和第二電容器串聯連接並且測量跨串聯連接電容器的電壓來獲得總和。
根據實施例,通過使第一電壓的絕對值和第二電壓的絕對值數值相加來獲得總和。
根據實施例,裝置包括計數器,其配置成用於記錄X射線吸收層吸收的X射線光子的數目,其中如果總和等於或超出預定閾值,控制器配置成用於促使計數器記錄的數目增加一。
根據實施例,在第一電壓的變化率和第二電壓的變化率大致為零時確定單個X射線光子的能量。
根據實施例,如果第一電壓和第二電壓在相同時段開始改變,控制器配置成用於確定單個X射線光子產生的載體被第一圖元和第二圖元收集。
根據實施例,如果第一電壓的絕對值和第二電壓的絕對值在相同時段達到第一閾值,控制器配置成用於確定單個X射線光子產生的載體被第一圖元和第二圖元收集。
根據實施例,基於以下中的至少一個將X射線光子分配給第一圖元和第二圖元中的一個來形成圖像:第一電壓和第二電壓的比較;以及兩個圖元的相對位置。
根據實施例,裝置包括圖元陣列。
本文公開這樣的系統,其包括上文描述的裝置和X射線源。該系統組態成用於對人的胸部或腹部進行X射線放射攝影。
本文公開這樣的系統,其包括上文描述的裝置和X射線源。該系統組態成用於對人的口腔進行X射線放射攝影。
本文公開貨物掃描或非侵入式檢查(NII)系統,其包括上文描述的裝置和X射線源。該貨物掃描或非侵入式檢查(NII)系統組態成用於基於背散射X射線來形成圖像。
本文公開貨物掃描或非侵入式檢查(NII)系統,其包括上文描述的裝置和X射線源。該貨物掃描或非侵入式檢查(NII)系統組態成使用透射通過被檢查物體的X射線來形成圖像。
本文公開全身掃描器系統,其包括上文描述的裝置和X射線源。
本文公開X射線電腦斷層攝影(X射線CT)系統,其包括上文描述的裝置和X射線源。
本文公開電子顯微鏡,其包括上文描述的裝置、電子源和電子光學系統。
本文公開這樣的系統,其包括上文描述的裝置。該系統組態成用於測量X射線源的劑量。
本文公開這樣的系統,其包括上文描述的裝置。該系統是X射線望遠鏡或X射線顯微鏡或配置成進行***攝影、工業缺陷檢測、顯微放射攝影、鑄件檢查、焊縫檢查或數位減影血管攝影的系統。
在另一個示例中,公開方法。該方法包括:確定單個X射線光子產生的載體被第一圖元和第二圖元收集;從第一圖元檢測第一電壓;從第二圖元檢測第
二電壓;以及基於第一電壓和第二電壓確定單個X射線光子的能量,其中第一電壓和第二電壓由單個X射線光子引起。
根據實施例,方法進一步包括:獲得第一電壓的絕對值和第二電壓的絕對值的總和,其中第一電壓和第二電壓由單個X射線光子引起;以及基於該總和確定單個X射線光子的能量。
根據實施例,第一圖元與用第一電壓充電的第一電容器關聯;第二圖元與用第二電壓充電的第二電容器關聯;並且通過使第一電容器和第二電容器串聯連接並且測量跨串聯連接的電容器的電壓來獲得總和。
根據實施例,通過使第一電壓的絕對值和第二電壓的絕對值數值相加來獲得總和。
根據實施例,方法進一步包括如果總和等於或超出預定閾值則使X射線吸收層上入射的X射線光子的計數增加一,該X射線吸收層包括第一圖元和第二圖元。
根據實施例,在第一電壓的變化率和第二電壓的變化率大致為零時確定單個X射線光子的能量。
根據實施例,如果第一電壓和第二電壓在相同時段開始改變,確定單個X射線光子產生的載體被第一圖元和第二圖元收集。
根據實施例,如果第一電壓的絕對值和第二電壓的絕對值在相同時段達到第一閾值,確定單個X射線光子產生的載體被第一圖元和第二圖元收集。
根據實施例,基於以下中的至少一個將X射線光子分配給第一圖元和第二圖元中的一個來形成圖像:第一電壓和第二電壓的比較;以及兩個圖元的相對位置。
本文公開適合於相襯X射線成像(PCI)的系統,該系統包括:上文描述的裝置、第二X射線檢測器和間隔物。裝置和第二X射線檢測器通過間隔物而隔開。
根據實施例,裝置和第二X射線檢測器配置成分別同時捕獲物體的圖像。
根據實施例,第二X射線檢測器等同於裝置。
本文公開適合於相襯X射線成像(PCI)的系統,該系統包括上文描述的裝置。裝置配置成移到物體(暴露於離該物體不同距離的人射X射線)並且捕獲其圖像。
額外優勢和新穎特徵將部分在接著的描述中闡述,並且部分將在檢查下列和附圖時對本領域內技術人員變得明顯或可通過產生或操作示例而獲悉。本教導的優勢可通過實踐或使用在下文論述的詳細示例中闡述的方法論、工具和組合的各種方面而實現和得到。
100:半導體X射線檢測器
110:X射線吸收層
111:第一摻雜區
112:本征區
113:第二摻雜區
114:離散部分
119A:電觸點
119B:電觸點
120:電子層
121:電子系統
130:填充材料
131:通孔
210:圖元
210-1:圖元
210-2:圖元
220:傳輸區域
230:傳輸區域
310:二極體
315:重定開關
316:採樣電容器
318:控制開關
319:電容器模組
320:二極體
325:重定開關
326:採樣電容器
328:控制開關
329:電容器模組
330:資料處理模組
331:第一電壓比較器
332:第二電壓比較器
334:電壓表
336:控制器
338:計數器
340:共用開關
810:傳輸區域
815:左上圖元
820:傳輸區域
825:上圖元
830:傳輸區域
835:左圖元
840:傳輸區域
845:左下圖元
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1800:系統
1850:入射X射線
1860:物體
1900:系統
1910:X射線檢測器
1920:X射線檢測器
1930:間隔物
1950:入射X射線
1960:成像物體
1201:X射線源
1202:物體
1301:X射線源
1302:物體
1401:X射線源
1402:物體
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RST:復位期
t0、t1、t2、te、th、ts:時間
Φ1、Φ2、Φ3:相位
TD1:時間延遲
TD2:時間延遲
V1:第一閾值
V2:第二閾值
VR:殘餘電壓
圖1A示意示出根據實施例的檢測器的橫截面圖;圖1B示意示出根據實施例的檢測器的詳細橫截面圖;圖1C示意示出根據實施例的檢測器的備選詳細橫截面圖;圖2A示意示出根據實施例的半導體X射線檢測器的一部分的示範性頂視圖;圖2B示出根據實施例的半導體X射線檢測器中的示範性圖元陣列;圖3A示出根據實施例的半導體X射線檢測器的兩個相鄰電子系統的部件
圖;圖3B示出根據實施例在出現電荷共用時半導體X射線檢測器的兩個相鄰電子系統的部件圖,其中標記開關位置;圖4A示意示出根據實施例在未出現電荷共用時流過暴露於X射線的X射線吸收層的二極體的電極或電阻器的電觸點的電流的時間變化(上曲線)和電極電壓的對應時間變化(下曲線),電流由X射線吸收層上入射的X射線光子產生的載荷子引起;圖4B示意示出根據實施例在出現電荷共用時流過兩個相鄰電極的電流的時間變化(上曲線)和電極電壓的對應時間變化(下曲線)。每個電極可以是暴露於X射線的X射線吸收層的二極體或電阻器的電觸點。電流由X射線吸收層上入射的X射線光子產生的載荷子引起;圖5A示意示出根據實施例在採用圖4A中示出的方式操作的電子系統中雜訊(例如,暗電流)引起的流過電極的電流的時間變化(上曲線)和電極電壓的對應時間變化(下曲線);圖5B示意示出根據實施例在採用圖4B中示出的方式操作的電子系統中雜訊(例如,暗電流)引起的流過兩個相鄰電極的電流的時間變化(上曲線)和電極電壓的對應時間變化(下曲線);圖6示意示出根據實施例在出現電荷共用並且檢測的電壓數值相加時流過暴露於X射線的X射線吸收層的兩個相鄰電極的電流的時間變化(上曲線)和電極電壓的對應時間變化(下曲線),電流由X射線吸收層上入射的X射線光子產生的載荷子引起。在該公開中,數值相加可以是電壓的數值信號相加(即,在電壓轉換成數位信號後)。
圖7示意示出根據實施例在採用圖6中示出的方式操作的電子系統中流過兩個相鄰電極的電流的時間變化(上曲線)和電極電壓的對應時間變化(下曲線),其中至少一個電流由雜訊(例如,暗電流)引起。
圖8A圖示根據實施例將在多個圖元處引起電荷共用的X射線光子分配給圖元中的一個來形成圖像的各種示例;圖8B示出可以實現圖8A的策略的電路的示例。
圖9A示出根據實施例適合於基於系統(例如圖3A和圖3B中的圖元1的電子系統121)檢測X射線的方法的流程圖;圖9B示出根據實施例適合於基於系統(例如圖3A和圖3B中的圖元2的電子系統121)檢測X射線的方法的流程圖;圖9C示出根據實施例確定電荷共用的出現並且使共用X射線光子在相鄰圖元上產生的電壓組合的方法的流程圖;圖10示意示出根據實施例適合於相襯X射線成像(PCI)的系統;圖11示意示出根據實施例適合於相襯X射線成像(PCI)的系統;圖12示意示出根據實施例適合於醫學成像(例如胸部X射線放射攝影、腹部X射線放射攝影等)的系統,其包括本文描述的半導體X射線檢測器;圖13示意示出根據實施例適合於牙齒X射線放射攝影的系統,其包括本文描述的半導體X射線檢測器;圖14示意示出根據實施例的貨物掃描或非侵入式檢查(NII)系統,其包括本文描述的半導體X射線檢測器;圖15示意示出根據實施例的另一個貨物掃描或非侵入式檢查(NII)系統,
其包括本文描述的半導體X射線檢測器;圖16示意示出根據實施例的全身掃描器系統,其包括本文描述的半導體X射線檢測器;圖17示意示出根據實施例的X射線電腦斷層攝影(X射線CT)系統,其包括本文描述的半導體X射線檢測器;圖18示意示出根據實施例的電子顯微鏡,其包括本文描述的半導體X射線檢測器;以及圖19示意示出根據實施例的輻射劑量計。
圖20示意示出根據實施例的元素分析儀。
在下列詳細描述中,通過示例闡述許多具體細節以便提供對相關教導的全面理解。然而,本教導可在沒有這樣的細節的情況下實踐,這對於本領域內技術人員應是明顯的。在其他實例中,在相對高的級別但未詳細描述眾所周知的方法、規程、部件和/或電路以避免不必要地掩蓋使本教導的方面。
當在具有圖元陣列的X射線檢測器的半導體層中吸收X射線光子時,產生多個載荷子(例如,電子和空穴)並且它們可在朝向電路的電場下被掃過以用於測量這些載荷子。載體沿電場方向漂移並且在所有方向上擴散。載體軌跡的包絡可以是大致圓錐形狀。如果包絡坐落在X射線檢測器的兩個或以上圖元的邊界上,出現電荷共用(在本教導中使用的“電荷共用”意指從單個X射線光子產生的載荷子被兩個或以上圖元收集)。因為X射線光子的能量通過它產生的電荷量來確定,電荷共用可導致不準確的X射線光子測量。
在本教導中,當確定相鄰圖元共用單個光子產生的電荷時,在圖元處檢測
的電壓相加,例如在這些圖元上的電壓穩定後。在一個示例中,電壓可通過使用可以串聯連接的物理電容器而相加。在另一個示例中,相鄰圖元中的每個讀取它自己的電壓並且這些電壓數值相加。電壓的相加總和然後可以用於準確測量被相鄰圖元共用的光子的能量。
在X射線檢測器配置成用於感測圖像時,基於相鄰圖元的相對位置和/或相鄰圖元的電壓比較,光子可分配給相鄰圖元中的一個來形成圖像。
圖1A示意示出根據實施例的半導體X射線檢測器100。該半導體X射線檢測器100可包括X射線吸收層110和電子層120(例如,ASIC),用於處理或分析入射X射線在X射線吸收層110中產生的電信號。在實施例中,半導體X射線檢測器100不包括閃爍體。X射線吸收層110可包括半導體材料,例如矽、鍺、GaAs、CdTe、CdZnTe或其組合。半導體對於感興趣的X射線能量可具有高的品質衰減係數。
如在圖1B中的檢測器100的詳細橫截面圖中示出的,根據實施例,X射線吸收層110可包括由第一摻雜區111、第二摻雜區113的一個或多個離散區114形成的一個或多個二極體(例如,p-i-n或p-n)。第二摻雜區113可通過本征區112(可選)而與第一摻雜區111分離。離散部分114通過第一摻雜區111或本征區112而彼此分離。第一摻雜區111和第二摻雜區113具有相反類型的摻雜(例如,區111是p型並且區113是n型,或區111是n型並且區113是p型)。在圖1B中的示例中,第二摻雜區113的離散區114中的每個與第一摻雜區111和本征區112(可選)一起形成二極體。即,在圖1B中的示例中,X射線吸收層110具有多個二極體,其具有第一摻雜區111作為共用電極。第一摻雜區111還可具有離散部分。
在X射線光子撞擊X射線吸收層110(其包括二極體)時,X射線光子可被吸收並且通過許多機制產生一個或多個載荷子。一個X射線光子可產生10至100000個載荷子。載荷子可在電場下向二極體中的一個的電極漂移。場可以是外部電場。電觸點119B可包括離散部分,其中的每個與離散區114電接觸。在實施例中,單個X射線光子產生的載荷子可以被兩個不同的離散區114共用。
如在圖1C中的檢測器100的備選詳細橫截面圖中示出的,根據實施例,X射線吸收層110可包括具有半導體材料(例如矽、鍺、GaAs、CdTe、CdZnTe或其組合)的電阻器,但不包括二極體。半導體對於感興趣的X射線能量可具有高的品質衰減係數。
在X射線光子撞擊X射線吸收層110(其包括電阻器但不包括二極體)時,它可被吸收並且通過許多機制產生一個或多個載荷子。一個X射線光子可產生10至100000個載荷子。載荷子可在電場下向電觸點119A和119B漂移。場可以是外部電場。電觸點119B包括離散部分。在實施例中,單個X射線光子產生的載荷子可以被兩個不同的觸點119B共用。
電子層120可包括電子系統121,其適合於處理或解釋X射線吸收層110上入射的X射線光子產生的信號。電子系統121可包括例如濾波網路、放大器、積分器和比較器等類比電路或例如微處理器等數位電路和記憶體。電子系統121可包括圖元共用的部件或專用於單個圖元的部件。例如,電子系統121可包括專用於每個圖元的放大器和在所有圖元之間共用的微處理器。電子系統121可通過通孔131電連接到圖元。通孔之間的空間可用填充材料130填充,其可使電子層120到X射線吸收層110的連接的機械穩定性增加。在不使用通孔的情況下使電子系統121連接到圖元的其他接合技術是可能的。
圖2A示出具有4×4陣列的離散區114的設備100的一部分的示範性頂視圖。在這些離散區114中的一個的足跡周圍入射的X射線光子產生的載荷子大致未與這些離散區114中的另一個共用。圍繞離散區114的區域210叫作與該離散區114關聯的圖元,其中由其中入射的X射線光子產生的載荷子中的大致全部(超過95%、超過98%或超過99%)流向離散區114。即,在X射線光子在圖元內部撞擊時,這些載荷子中不到5%、不到2%或不到1%流到圖元外。圖元可採用任何適合的陣列來組織,例如方形陣列、三角形陣列和蜂窩狀陣列。圖元可具有任何適合的形狀,例如圓形、三角形、方形、矩形和六角形。圖元可以是獨立可定址的。
相似地,當圖2A中的4×4陣列指示圖1B中的電觸點119B的離散部分的陣列時,在電觸點119B的這些離散部分中的一個的足跡周圍入射的X射線光子產生的載荷子大致未與電觸點119B的這些離散部分中的另一個共用。圍繞電觸點119B的離散部分的區域叫作與電觸點119B的離散部分關聯的圖元,其中由其中入射的X射線光子產生的載荷子中的大致全部(超過95%、超過98%或超過99%)流向電觸點119B的離散部分。即,在X射線光子在圖元內部撞擊時,這些載荷子中不到5%、不到2%或不到1%流到與電觸點119B的一個離散部分關聯的圖元外。圖元可採用任何適合的陣列來組織,例如方形陣列、三角形陣列和蜂窩狀陣列。圖元可具有任何適合的形狀,例如圓形、三角形、方形、矩形和六角形。圖元可以是獨立可定址的。
如在圖2A中示出的,與兩個相鄰離散區114關聯的兩個圖元210(例如,210-1和210-2)可以叫作兩個相鄰圖元(在本教導中使用的“相鄰圖元”意指這樣的圖元,其接近彼此使得從單個光子產生的載體可被這些圖元共用)。
圖2B示出根據實施例在半導體X射線檢測器中的示範性圖元陣列。當X射線光子撞擊陣列時,它可被吸收並且導致產生多個載荷子。載體可在各種方向上移動,例如沿電場方向漂移並且在所有方向上擴散。在圖2B中,每個圓(例如220、230)代表光子產生的載荷子的傳輸區域的足跡(在本教導中使用的“傳輸區域”意指光子產生的載體傳輸進入的空間)。
如在圖2B中示出的,傳輸區域可坐落在圖元內部(例如傳輸區域220),或在相鄰圖元的邊界上(例如傳輸區域230)。
如上文論述的,當傳輸區域坐落在兩個或以上相鄰圖元的邊界上時,出現電荷共用,其可引起能量測量問題。電荷共用還可在對光子數目計數方面導致錯誤。在實施例中,X射線檢測器中的電子系統121仍可以準確測量X射線光子的能量,即使對X射線光子產生的載體出現電荷共用也如此。
根據實施例,兩個相鄰圖元不必共用邊界,但可以彼此接近使得由單個光子產生的載體可被兩個圖元共用。即,電荷共用可在相鄰圖元上出現,即使沒有被相鄰圖元共用的邊界也如此。
圖元的尺寸可以通過設計、基於製造工藝來確定。如在圖2B中示出的,當對應光子圍繞圖元中心撞擊時,每個圖元的尺寸設計成相同並且足以覆蓋傳輸區域。如果圖元的尺寸太小,例如比傳輸區域要小,則可以一直發生電荷共用。另一方面,如果圖元的尺寸太大,多個光子很可能同時撞擊圖元,這可以對準確的X射線檢測和圖像產生造成困難。
圖3A示出根據實施例的半導體X射線檢測器的兩個相鄰圖元中的兩個電子系統121的部件圖。在該示例中,圖3A中的圖元1和圖元2是半導體X射線檢測器的兩個相鄰圖元。如在圖3A中示出的,圖元1的電子系統121配置成用於
處理圖元1中來自二極體310的電極的信號;並且圖元2的電子系統121配置成用於處理圖元2中來自二極體320的電極的信號。
在該示例中,圖元1的電子系統121可包括電容器模組319、一個或多個採樣電容器316、多個控制開關318和資料處理模組330。如在圖3A中示出的,電容器模組319電連接到二極體310的電極或電觸點。電容器模組319配置成從電極收集載荷子。電容器模組319可以包括放大器的回饋路徑中的電容器。如此配置的放大器叫作電容跨阻放大器(CTIA)。CTIA通過防止放大器飽和而具有高的動態範圍並且通過限制信號路徑中的頻寬來提高信噪比。來自電極的載荷子在一段時間(“整合期”)(例如,如在圖4A中示出的,在t0與t1之間,或t1與t2之間)內可在電容器上累積。在整合期終止後,對電容器電壓採樣然後由重定開關315將其重定。電容器模組319可以包括直接連接到電極的電容器。
在未出現電荷共用時,多個控制開關318閉合使得用來自前端(二極體和放大器)的電壓對一個或多個採樣電容器316中的每個充電。
圖元2的電子系統121可包括與圖元1的電子系統121相同的結構。如在圖3A中示出的,圖元2的電子系統121可包括電容器模組329、一個或多個採樣電容器326、多個控制開關328和資料處理模組330。電容器模組329電連接到二極體320的電極或電觸點。與電容器模組319相似,電容器模組329配置成從電極收集載荷子。電容器模組329可以包括CTIA的回饋路徑中的電容器。來自電極的載荷子在一段時間(“整合期”)(例如,如在圖4A中示出的,在t0與t1之間,或t1與t2之間)內可在電容器上累積。在整合期終止後,對電容器電壓採樣然後由重定開關325將其重定。電容器模組329可以包括直接連接到電極的電容器。
在未出現電荷共用時,多個控制開關328閉合並且一個或多個採樣電容器326可分別採用與多個控制開關318和一個或多個採樣電容器316相同的方式工作。在多個控制開關328閉合時,用來自前端(二極體和放大器)的電壓對一個或多個採樣電容器316中的每個充電。
圖3A中的兩個電子系統121都可包括資料處理模組330,其可包括下游電路,用於解釋和處理來自電子系統121上游的信號。
根據實施例,資料處理模組330包括第一電壓比較器331、第二電壓比較器332、計數器338、電壓表334和控制器336。
第一電壓比較器331配置成將電壓(例如,二極體310或320的電極的電壓)與第一閾值比較。二極體可以是由第一摻雜區111、第二摻雜區113的離散區114中的一個和本征區112(可選)形成的二極體。備選地,第一電壓比較器331配置成將電觸點(例如,電觸點119B的離散部分)的電壓與第一閾值比較。第一電壓比較器331可配置成直接監測電壓,或通過使在一段時間內流過二極體或電觸點的電流整合來計算電壓。第一電壓比較器331可由控制器336可控地啟動或停用。第一電壓比較器331可以是連續比較器。即,第一電壓比較器331可配置成被連續啟動,並且連續監測電壓。配置為連續比較器的第一電壓比較器331使系統121錯過由入射X射線光子產生的信號的機會減少。配置為連續比較器的第一電壓比較器331在入射X射線強度相對高時尤其適合。第一電壓比較器331可以是鐘控比較器,其具有較低功耗的益處。配置為鐘控比較器的第一電壓比較器331可導致系統121錯過由一些入射X射線光子產生的信號。在入射X射線強度低時,錯過入射X射線光子的機會因為兩個連續光子之間的時間間隔相對長而較低。因此,配置為鐘控比較器的第一電壓比較器331在入射X射線
強度相對低時尤其適合。第一閾值可以是一個入射X射線光子可在二極體或電阻器中產生的最大電壓的5-10%、10%-20%、20-30%、30-40%或40-50%。最大電壓可取決於入射X射線光子的能量(即,入射X射線的波長)、X射線吸收層110的材料和其他因素。例如,第一閾值可以是50mV、100mV、150mV或200mV。
第二電壓比較器332配置成將電壓(例如,二極體310或320的電極的電壓)與第二閾值比較。第二電壓比較器332可配置成直接監測電壓,或通過使一段時間內流過二極體或電觸點的電流整合來計算電壓。第二電壓比較器332可以是連續比較器。第二電壓比較器332可由控制器336可控地啟動或停用。在停用第二電壓比較器332時,第二電壓比較器332的功耗可以是啟動第二電壓比較器332時的功耗的不到1%、不到5%、不到10%或不到20%。第二閾值的絕對值大於第一閾值的絕對值。如本文使用的,術語實數x的“絕對值”或“模數”|x|是x的非負值而不考慮它的符號。即,。第二閾值可以是第一閾值的200%-300%。第二閾值可以是一個入射X射線光子可在二極體或電阻器中產生的最大電壓的至少50%。例如,第二閾值可以是100mV、150mV、200mV、250mV或300mV。第二電壓比較器332和第一電壓比較器331可以是相同部件。即,系統121可具有一個電壓比較器,其可以在不同時間將電壓與兩個不同閾值比較。
第一電壓比較器331或第二電壓比較器332可包括一個或多個運算放大器或任何其他適合的電路。第一電壓比較器331或第二電壓比較器332可具有高的速度以允許系統121在高的入射X射線通量下操作。
計數器338配置成記錄到達對應的二極體或電阻器的X射線光子的數目。計數器338可以是軟體部件(例如,電腦記憶體中存儲的數目)或硬體部件(例
如,4017 IC和7490 IC)。
控制器336可以是例如微控制器和微處理器等硬體部件。控制器336可配置成從第一電壓比較器331確定電壓的絕對值等於或超出第一閾值的絕對值(例如,電壓的絕對值從第一閾值的絕對閾值以下增加到等於或超出第一閾值的絕對值的值)的時間啟動時間延遲。在這裡因為電壓可以是負的或正的而使用絕對值,這取決於是使用二極體的陰極還是陽極的電壓或使用哪個電觸點。控制器336可配置成在第一電壓比較器331確定電壓的絕對值等於或超出第一閾值的絕對值的時間之前,保持停用第二電壓比較器332、計數器338和第一電壓比較器331的操作不需要的任何其他電路。時間延遲可在電壓變穩定(即,電壓的變化率大致為零)之前或之後終止。短語“電壓的變化率大致為零”意指電壓的時間變化小於0.1%/ns。短語“電壓的變化率大致為非零”意指電壓的時間變化是至少0.1%/ns。
控制器336可配置成在時間延遲期間(其包括開始和終止)啟動第二電壓比較器。在實施例中,控制器336配置成在時間延遲開始時啟動第二電壓比較器。術語“啟動”意指促使部件進入操作狀態(例如,通過發送例如電壓脈衝或邏輯電平等信號、通過提供電力等)。術語“停用”意指促使部件進入非操作狀態(例如,通過發送例如電壓脈衝或邏輯電平等信號、通過切斷電力等)。操作狀態可具有比非操作狀態更高的功耗(例如,高10倍、高100倍、高1000倍)。控制器336本身可被停用直到第一電壓比較器331的輸出在電壓的絕對值等於或超出第一閾值的絕對值時才啟動控制器336。
如果在時間延遲期間,第二電壓比較器332確定電壓的絕對值等於或超出第二閾值的絕對值,控制器336可配置成促使計數器338記錄的數目增加一。
控制器336可配置成促使電壓表334在時間延遲終止時測量電壓。控制器336可配置成使電極連接到電接地,以便使電壓重定並且使電極上累積的任何載荷子放電。在實施例中,電極在時間延遲終止後連接到電接地。在實施例中,電極持續有限復位時期地連接到電接地。控制器336可通過控制重定開關315或325而使電極連接到電接地。開關可以是電晶體,例如場效應電晶體(FET)。
在實施例中,系統121沒有類比濾波器網路(例如,RC網路)。在實施例中,系統121沒有類比電路。
電壓表334可將它測量的電壓作為類比或數位信號饋送給控制器336。
當在圖元1和圖元2上未出現電荷共用時,兩個電子系統121可獨立操作並且處理從它們的二極體(310或320)的相應對應電極產生的信號。當在圖元1和圖元2上未出現電荷共用時,多個控制開關318閉合使得來自前端(二極體和放大器)的電壓在採樣電容器上反映並且被資料處理模組330測量。相同電壓也可通過資料處理模組330與閾值比較(例如,使用第一電壓比較器331和/或第二電壓比較器332)。
在未出現電荷共用時,在電壓的變化率大致變成零後,電壓與X射線光子產生的載荷子數量成比例,該數量與X射線光子的能量有關。然而,當在圖元1和圖元2上出現電荷共用時,由圖3A中的兩個電子系統121中的任一個測量的電壓不足以估計X射線光子產生的載荷子的數量。因此,在出現電荷共用時需要某一方法來估計X射線光子的能量。在一個實施例中,可存在使圖元1和圖元2的兩個電子系統121連接的共用開關340。該共用開關340可用於使來自兩個圖元的採樣電容器316和326序列化。共用開關340的詳細使用將於圖3B中描述。
圖3B示出根據實施例的半導體X射線檢測器的兩個相鄰電子系統的部件圖,其中標記開關位置。與圖3A相似,圖3B中的圖元1和圖元2是半導體X射線檢測器的兩個相鄰圖元。圖3B中的圖元1和圖元2的電子系統121分別具有與圖3A中的圖元1和圖元2的電子系統121相同的結構。另外,圖3B中的開關的位置根據電子系統121操作的不同相位來標記,這將在下文詳細描述。
在該示例中,單個X射線光子可撞擊兩個相鄰圖元上的共同邊界或兩個相鄰圖元之間的區域,並且從而導致產生載荷子並且將其傳輸到兩個圖元內。在該情況下,二極體310和320中的每個可具有載荷子的一部分所引起的電壓增加。
在該示例中,兩個電子系統121在不同相位操作:相位1(Φ1)、相位2(Φ2)和相位3(Φ3)。用Φ1標記的開關僅在相位1期間閉合。用Φ2標記的開關僅在相位2期間閉合。用Φ3標記的開關僅在相位3期間閉合。用Φ1,2標記的開關在相位1和相位2期間閉合。用Φ1,3標記的開關在相位1和相位3期間閉合。
兩個圖元可在相位1中,這時它們準備檢測光子,其中除共用開關340以外的所有開關閉合。兩個電子系統121可通過彼此直接通信或通過控制X射線檢測器的所有圖元的中央控制器而合作。基於它們的合作,兩個系統121可以確定在兩個圖元上出現電荷共用,例如在它們看到載荷子同時或在相同時段改變二極體310和320的電壓時。因為兩個圖元在相位1中(其中除共用開關340以外的所有開關閉合),來自前端(二極體和放大器)的電壓在兩個電子系統121中的每個中的採樣電容器上反映。
因為在兩個圖元中的一個處測量的每個電壓可以僅代表X射線光子能量的一部分,兩個電壓可相加在一起來估計光子能量。兩個電子系統121然後進入
相位2來進行使兩個電壓相加。
根據實施例,在相位2中,用Φ2和Φ1,2標記的開關閉合,而其他開關斷開。如在圖3B中示出的,圖元1中的採樣電容器和圖元2中的採樣電容器在相位2中串聯連接,使得跨這兩個串聯連接電容器的電壓等於相同X射線光子所激發的兩個二極體的兩個電壓總和。兩個採樣電容器中的一個的正端連接到另一採樣電容器的負端,使得它們的相應電壓相加在一起,即跨兩個串聯連接電容器的電壓的絕對值等於相同X射線光子所激發的兩個二極體的兩個電壓的絕對值總和。
在相位2期間,兩個圖元中的一個(例如圖元1)中的資料處理模組330可以測量總和的絕對值並且將它與閾值比較,如果總和的絕對值等於或超出閾值則確定吸收的光子的數目增加一。光子的能量也可以基於電壓總和來測量。在超過兩個圖元上出現電荷共用的情況下,超過兩個採樣電容器(其中的每個來自圖元中的一個)可以串聯連接來獲得總和電壓以用於測量X射線光子的能量。
根據另一個實施例,在相位2中,代替連接採樣電容器,兩個330可彼此通信以使相同X射線光子所激發的兩個二極體的兩個電壓數值相加。兩個圖元之間的通信可以經由中央控制器、匯流排或任何其他適合的通信方式。在該情況下,在圖元中的任一個中不需要採樣電容器;並且也不需要共用開關340。
在測量能量後,兩個圖元可進入相位3,其中用Φ1,3標記的開關閉合,並且其他開關斷開。在相位3期間,電容器電壓由重定開關315或325重定。根據實施例,兩個圖元可同時或在不同時間重定它們的電壓。因此,兩個圖元可同時或在不同時間進入相位3。
在相位3後,兩個圖元可再次進入相位1,使得它們準備測量下一個入射光
子。
圖4A示意示出根據實施例在未出現電荷共用時流過暴露於X射線的X射線吸收層的二極體的電極或電阻器的電觸點的電流的時間變化(上曲線)和電極電壓的對應時間變化(下曲線),電流由X射線吸收層上入射的X射線光子產生的載荷子引起。當在兩個圖元上未出現電荷共用時,電極可以是如在圖3A和圖3B中示出的二極體310或320。
電極的電壓可以是電流關於時間的整合。如上文論述的,圖元在相位1中,這時它準備檢測X射線光子。在相位1期間,在時間t0,X射線光子撞擊二極體或電阻器,載荷子開始在二極體或電阻器中產生,電流開始流過二極體的電極或電阻器,並且電極或電觸點的電壓的絕對值開始增加。在時間t1,第一電壓比較器331確定電壓的絕對值等於或超出第一閾值V1的絕對值,並且控制器336啟動時間延遲TD1並且控制器336可在TD1開始時停用第一電壓比較器331。如果控制器336在t1之前被停用,在t1啟動控制器336。在TD1期間,控制器336啟動第二電壓比較器332。如這裡使用的術語在時間延遲“期間”意指開始和終止(即,結束)和中間的任何時間。例如控制器336可在TD1終止時啟動第二電壓比較器332。如果在TD1期間,第二電壓比較器332確定在時間t2電壓的絕對值等於或超出第二閾值的絕對值,控制器336促使計數器338記錄的數目增加一。在時間te,X射線光子產生的所有載荷子漂移出X射線吸收層110。在時間ts,時間延遲TD1終止。在圖4A的示例中,時間ts在時間te後;即TD1在X射線光子產生的所有載荷子漂移出X射線吸收層110之後終止。電壓的變化率在ts從而大致為零。控制器336可配置成在TD1終止時或在t2或中間的任何時間停用第二電壓比較器332。
控制器336可配置成促使電壓表334在時間延遲TD1終止時測量電壓。在實施例中,在電壓變化率在時間延遲TD1終止後大致變成零之後,控制器336促使電壓表334測量電壓。當未出現電荷共用時,該時刻的電壓與X射線光子產生的載荷子的數量成比例,該數量與X射線光子的能量有關。控制器336可配置成基於電壓表334測量的電壓確定X射線光子的能量。確定能量的一個方式是通過使電壓裝倉。計數器338對於每個倉可具有子計數器。在控制器336確定X射線光子的能量落在倉中時,控制器336可促使該倉的子計數器中記錄的數目增加一。因此,系統121可能夠檢測X射線圖像並且可能夠分辨每個X射線光子的X射線光子能量。
在TD1終止後,控制器336在復位期RST使電極連接到電接地以允許電極上累積的載荷子流到地面並且使電壓重定。在TD1終止後並且在重定期RST之前,圖元可結束相位1並且進入相位3。因此在該示例中沒有電荷共用,圖元不需要相位2用於電壓相加。
在RST之後,系統121再次進入相位1並且準備檢測另一個入射X射線光子。系統121在圖4A的示例中可以應對的入射X射線光子的速率隱式地受限於1/(TD1+RST)。如果第一電壓比較器331被停用,控制器336可以在RST終止之前的任何時間啟動它。如果控制器336被停用,可在RST終止之前啟用它。
圖4B示意示出根據實施例在出現電荷共用時流過兩個相鄰電極的電流的時間變化(上曲線)和電極電壓的對應時間變化(下曲線)。每個電極可以是暴露於X射線的X射線吸收層的二極體或電阻器的電觸點。電流由X射線吸收層上入射的X射線光子產生的載荷子引起。當在兩個圖元上出現電荷共用時,兩個電極可以是如在圖3A和圖3B中示出的二極體310和320。
每個電極的電壓可以是對應電流關於時間的整合。如上文論述的,兩個圖元(圖元1和圖元2)在相位1中,這時它們準備檢測X射線光子。在相位1期間,在時間t0,X射線光子在兩個相鄰圖元(其包括兩個二極體310和320或兩個電阻器)的邊界附近或其之間的區域中撞擊,載荷子開始在二極體或電阻器中產生,電流開始流過二極體的電極或電阻器,並且電極或電觸點的兩個電壓中的每個的絕對值開始增加。然後,兩個圖元確定在兩個圖元處出現電荷共用。
根據實施例,如果兩個電壓的絕對值開始增加所在的時間點相差小於指定量(例如,10μs、1μs、100ns或10ns),認為在這兩個圖元之間出現電荷共用。
如在圖4B中示出的,因為傳輸進入兩個圖元的載荷子的數量可不同,兩個圖元可具有不同的電壓和/或電流增加率。因此,在相位1期間,兩個電壓可在不同時間達到第一閾值V1。在一個實施例中,兩個電壓中的一個在相位1期間未達到第一閾值V1。在一個實施例中,兩個電壓中的至少一個在相位1期間達到第二閾值V2。
在另一個實施例中,兩個圖元獨立確定光子是否撞擊它們。如果一個圖元上的電壓達到V1,確定該圖元上的電壓是否在一定延遲內超出V2。如果兩個圖元上的電壓大概同時(即,在指定時差內)超出V2,認為在這兩個圖元之間出現電荷共用。
在另一個實施例中,兩個圖元獨立確定光子是否撞擊它們。如果圖元的電壓大概同時(即,在指定時差內)達到V1,並且圖元中的至少一個的電壓在一定延遲內達到V2,認為在這兩個圖元之間出現電荷共用。
在實施例中,V2可以設置為對應於入射X射線光子的能量的1/2至1/4的
值。
在實施例中,當圖元的電壓視具體情況開始上升或達到V1或達到V2時,圖元可設置指示該事實的指示符。邏輯電路可基於時差確定相鄰圖元的指示符之間的時差並且確定是否出現電荷共用以及在哪些圖元之間出現電荷共用。
在實施例中,當圖元的電壓經過V2並且任何相鄰圖元的電壓到該時間為止已經達到V1時,可以認為已經出現電荷共用。
如上文論述的,當在兩個圖元處出現電荷共用時,在兩個圖元中的一個處測量的電壓無法代表X射線光子的能量。因此,如果確定在兩個圖元處出現電荷共用,在電壓穩定後在這些圖元上測量的電壓之和可用於推算X射線光子的能量。當電壓的變化率持續一定時間(例如1ms或0.1ms)大致為零(例如,變化率小於1%/ns)時,圖元處的電壓穩定。對於共用單個光子產生的電荷的兩個圖元,它們的電壓可以大概同時穩定。
相位1可在兩個圖元處的電壓穩定時或穩定後結束。在圖4B的示例中,在時間te,X射線光子產生的所有載荷子漂移出X射線吸收層110。如此,每個圖元處的電壓的變化率可在te後大致為零。在這裡,在te後的時間ts,相位1結束並且兩個圖元進入相位2。
在相位2期間,在圖元2處檢測的電壓通過電容器串聯連接或通過數值相加而加到在圖元1處檢測的電壓。如果在相位2期間,圖元1的第二電壓比較器332確定相加電壓的絕對值等於或超出第二閾值的絕對值,圖元1的控制器336促使圖元1的計數器338記錄的數目增加一。
圖元1的控制器336可配置成促使圖元1的電壓表334在相位2期間測量相加電壓。在實施例中,圖元1的控制器336促使圖元1的電壓表334在相位2期
間電壓的變化率大致變成零後測量相加電壓。當在圖元1和圖元2處出現X射線光子引起的電荷共用時,該時刻的相加電壓與X射線光子產生的載荷子的數量成比例,該數量與X射線光子的能量相關。圖元1的控制器336可配置成基於圖元1的電壓表334測量的電壓來確定X射線光子的能量。確定能量的一個方式是通過使電壓裝倉。圖元1的計數器338對於每個倉可具有子計數器。在圖元1的控制器336確定X射線光子的能量落在倉中時,圖元1的控制器336可促使該倉的子計數器中記錄的數目增加一。因此,系統121可能夠檢測X射線圖像並且能夠分辨每個X射線光子的能量,即使出現電荷共用也如此。
在獲得相加電壓後,兩個圖元可結束相位2並且進入相位3。在相位3期間,每個控制器336在復位期RST使電極連接到電接地以允許電極上累積的載荷子流到地面並且使電壓重定。
在RST之後,每個系統121再次進入相位1並且準備檢測另一個入射X射線光子。
圖5A示意示出根據實施例在採用圖4A中示出的方式操作的電子系統中雜訊(例如,暗電流)引起的流過電極的電流的時間變化(上曲線)和電極電壓的對應時間變化(下曲線)。電極可以是如在圖3A和圖3B中示出的二極體310或320。在相位1期間,在時間t0,雜訊開始。如果雜訊未大到足以促使電壓的絕對值超出V1的絕對值,控制器336未啟動第二電壓比較器332。如果在時間t1雜訊大到足以促使電壓的絕對值超出如由第一電壓比較器331確定的V1的絕對值,控制器336啟動時間延遲TD1並且控制器336可在TD1開始時停用第一電壓比較器331。在TD1期間(例如,在TD1終止時),控制器336啟動第二電壓比較器332。在TD1期間,雜訊不太可能大到足以促使電壓的絕對值超出V2
的絕對值。因此,控制器336未促使計數器338記錄的數目增加。在時間te,雜訊結束。在時間ts,時間延遲TD1終止。控制器336可配置成在TD1終止時停用第二電壓比較器332。如果在TD1期間電壓的絕對值未超出V2的絕對值,控制器336可未配置成促使電壓表334測量電壓。
在TD1終止後,圖元因為它未確定出現電荷共用而結束相位1並且進入相位3。在相位3期間,控制器336在復位期RST使電極連接到電接地以允許電極上由於雜訊而累積的載荷子流到地面並且使電壓重定。因此,系統121在雜訊抑制方面可非常有效。
圖5B示意示出根據實施例在採用圖4B中示出的方式操作的電子系統中雜訊(例如,暗電流)引起的流過兩個相鄰電極的電流的時間變化(上曲線)和電極電壓的對應時間變化(下曲線)。在該示例中,在相位1期間,雜訊在相同時間t0或在相同時段內在兩個相鄰圖元(圖元1和圖元2)處開始。從而,兩個圖元如在圖4B的過程中那樣合作。
如上文論述的,相位1可在兩個圖元處的電壓的變化率大致為零後結束。在圖5B的示例中,在時間te,雜訊結束。如此,每個圖元處的電壓變化率可在te後大致為零。在這裡,在te後的時間ts,相位1結束並且兩個圖元進入相位2。
在相位2期間,在圖元2處檢測的電壓通過電容器串聯連接或通過數值相加而加到在圖元1處檢測的電壓。在該示例中,圖元1的控制器336在圖元1確定出現電荷共用後、在兩個圖元的電壓穩定後或在相位2開始後啟動第二電壓比較器332。雜訊不太可能大到足以促使相加電壓的絕對值超出V2的絕對值,其中在兩個相鄰圖元處同時具有兩個雜訊的概率已經非常低。因此,圖元1的控制器336未促使圖元1的計數器338記錄的數目增加。每個控制器336可配
置成在相位2結束時停用第二電壓比較器332。如果在相位2期間電壓(或相加電壓)的絕對值未超出V2的絕對值,每個控制器336可配置成未促使電壓表334測量電壓。
在獲得相加電壓後,兩個圖元可結束相位2並且進入相位3。在相位3期間,每個控制器336在復位期RST使電極連接到電接地以允許電極上由於雜訊而累積的載荷子流到地面並且使電壓重定。因此,系統121在雜訊抑制方面可非常有效,即使為了潛在電荷共用管理啟動電壓相加也如此。
根據另一個實施例,在兩個圖元處是否出現電荷共用可使用電壓的絕對值等於或超出第一閾值V1的絕對值的時間來確定。如果兩個電壓的絕對值在相同時段(例如,10μs、1μs、100ns或10ns)內達到第一閾值,可認為在兩個圖元處出現電荷共用。該決策策略在光子在指定圖元內部撞擊時可有助於抑制相鄰圖元處的併發雜訊。
圖6示意示出根據實施例在出現電荷共用並且檢測的電壓數值相加時流過暴露於X射線的X射線吸收層的兩個相鄰電極的電流的時間變化(上曲線)和電極電壓的對應時間變化(下曲線),電流由X射線吸收層上入射的X射線光子產生的載荷子引起。當在兩個圖元上出現電荷共用時,兩個二極體可以是圖3A和圖3B中示出的二極體310和320。
每個電極的電壓可以是對應電流關於時間的整合。如上文論述的,兩個圖元(圖元1和圖元2)在相位1中,這時它們準備檢測X射線光子。在相位1期間,在時間t0,X射線光子在兩個相鄰圖元(其包括兩個二極體310和320或兩個電阻器)的邊界附近或其之間的區域中撞擊,載荷子開始在二極體或電阻器中產生,電流開始流過二極體的電極或電阻器,並且電極或電觸點的兩個電
壓中的每個的絕對值開始增加。然後,兩個圖元確定在兩個圖元處出現電荷共用。
根據實施例,兩個電壓的絕對值在兩個不同時間(例如t01和t02,其在相同時段內)開始增加。例如,相同時段可以是10μs、1μs、100ns或10ns。如果是這樣的話,兩個圖元確定在兩個圖元處出現電荷共用。
如在圖6中示出的,因為傳輸進入兩個圖元的載荷子的數量可不同,兩個圖元可具有不同的電壓和/或電流增加率。因此,在相位1期間,兩個電壓可在不同時間達到第一閾值V1。
如上文論述的,如果在兩個圖元處出現電荷共用,在電壓穩定後在這些圖元上測量的電壓總和可用於得到X射線光子的能量。
相位1可在兩個圖元處的電壓穩定時或穩定後結束。在圖6的示例中,在時間te,X射線光子產生的所有載荷子漂移出X射線吸收層110。如此,每個圖元處的電壓的變化率可在te後大致為零。在這裡,在te後的時間th,相位1結束。
在該示例中,在圖元2處檢測的電壓例如經由中央控制器或匯流排而加到在圖元1處檢測的電壓。中央控制器或匯流排可獨立於開關318、328、340操作。如此,相位2可以是非常短的時段或在電壓穩定後可以是與相位3和/或相位1重疊的時段。如果在相位2期間,圖元1的第二電壓比較器332確定相加電壓的絕對值等於或超出第二閾值的絕對值,圖元1的控制器336促使圖元1的計數器338記錄的數目增加一。
在獲得相加電壓後,兩個圖元可結束相位2並且進入相位3。在實施例中,兩個圖元可在相位1後直接進入相位3,其中相位2包括其中進行的數值電壓相
加並且在電壓穩定後與相位3和/或相位1具有重疊。
在相位3期間,每個控制器336在復位期RST使電極連接到電接地以允許電極上累積的載荷子流到地面並且使電壓重定。
在RST之後,每個系統121再次進入相位1並且準備檢測另一個入射X射線光子。如果第一電壓比較器331被停用,控制器336可以在RST終止之前的任何時間啟動它。如果控制器336被停用,可在RST終止之前啟動它。
圖7示意示出根據實施例在採用圖6中示出的方式操作的電子系統中由雜訊(例如,暗電流)引起的流過兩個相鄰電極的電流的時間變化(上曲線)和電極電壓的對應時間變化(下曲線)。
在該示例中,在相位1期間,雜訊在相同時間t0或在相同時段內在兩個相鄰圖元(圖元1和圖元2)處開始。從而,兩個圖元如在圖6的過程中那樣合作。
如上文論述的,相位1可在兩個圖元處的電壓穩定時或穩定後結束。在圖7的示例中,在時間te,雜訊結束。如此,每個圖元處的電壓的變化率可在te後大致為零。在這裡,在te後的時間th,相位1結束。
在該示例中,在圖元2處檢測的電壓例如經由中央控制器或匯流排而加到在圖元1處檢測的電壓。中央控制器或匯流排可獨立於開關318、328、340操作。如此,相位2可以是非常短的時段或在電壓穩定後可以是與相位3和/或相位1重疊的時段。雜訊不太可能大到足以促使相加電壓的絕對值超出V2的絕對值,其中在兩個相鄰圖元處同時具有兩個雜訊的概率已經非常低。因此,圖元1的控制器336未促使圖元1的計數器338記錄的數目增加。如果在相位2期間電壓(或相加電壓)的絕對值未超出V2的絕對值,每個控制器336可配置成未促使電壓表334測量電壓。
在獲得相加電壓後,兩個圖元可結束相位2並且進入相位3。在實施例中,兩個圖元可在相位1後直接進入相位3,其中相位2包括其中進行的數值電壓相加並且在電壓穩定後與相位3和/或相位1具有重疊。
在相位3期間,每個控制器336在復位期RST使電極連接到電接地以允許電極上由於雜訊而累積的載荷子流到地面並且使電壓重定。因此,電子系統121在雜訊抑制方面可非常有效,即使為了潛在電荷共用管理啟動電壓相加並且數值進行也如此。
圖8A圖示根據實施例將在多個圖元處引起電荷共用的X射線光子分配給圖元中的一個來形成圖像或測量X射線光子的能量的各種示例。如上文論述的,在兩個或以上相鄰圖元處出現X射線光子引起的電荷共用時,可在相鄰圖元的所選圖元處進行電壓相加,並且可將X射線光子分配給所選圖元或由所選圖元測量X射線光子的能量。在一個實施例中,可基於與用於選擇圖元來進行電壓相加的策略不同的策略對圖元分配X射線光子。對於非成像應用,將光子分配給哪個圖元無關緊要。
圖8A圖示選擇相鄰圖元中的一個以用於進行電壓相加或用於分配X射線光子的策略。如在圖8A中示出的,當傳輸區域810跨四個相鄰圖元坐落時,選擇左上圖元815。當傳輸區域820坐落在垂直相鄰的兩個相鄰圖元的邊界上時,選擇上圖元825。當傳輸區域830坐落在水準相鄰的兩個相鄰圖元的邊界上時,選擇左圖元835。當傳輸區域840跨三個圖元(左下、右下和右上)坐落時,如在圖8A中示出的,選擇左下圖元845。如此,圖8A中示出的策略偏好左圖元勝於右圖元、偏好上圖元勝於下圖元並且偏好左下圖元勝於右上圖元。根據實施例,選擇相鄰圖元中的一個的不同策略可基於相鄰圖元的相對位置的不同偏
好。根據實施例,選擇相鄰圖元中的一個的不同策略可基於相鄰圖元上的電壓穩定後在這些圖元處檢測的電壓的絕對值的比較。例如,可選擇具有檢測的電極電壓的最高絕對值的圖元。
圖8B示出可以實現圖8A的策略的電路的示例。
圖9A示出根據實施例適合於基於系統(例如圖3A和圖3B中的圖元1的電子系統121)檢測X射線的方法的流程圖。在902處,確定電極電壓開始增加所在的時間t0。電極可以是暴露於X射線的二極體或電觸點。在904處,將該時間t0與相鄰圖元的時間t0比較。在905處,確定是否出現電荷共用,例如通過確定圖元1的時間t0和相鄰圖元的時間t0是否在相同時段(例如10μs、1μs、100ns或10ns)內。如果出現電荷共用,過程移到910。否則,如果未出現電荷共用,過程移到906。
在906處,例如使用第一電壓比較器331將暴露於X射線的二極體的電極或電阻器的電觸點的電壓的絕對值與第一閾值V1比較。在907處,如果電壓的絕對值不等於或超出第一閾值的絕對值,過程回到步驟906。如果在907處電壓的絕對值等於或超出第一閾值的絕對值,過程繼續到步驟908,例如在一定時間延遲後或電壓穩定後。在908處,例如使用第二電壓比較器332將電壓的絕對值與第二閾值比較。然後,過程移到913。
在910處,確定圖元1和相鄰圖元處的電壓穩定,例如通過確定每個圖元處的電壓變化率持續一段時間(例如1ms或0.1ms)大致為零。在912處,獲得圖元1和相鄰圖元處的電壓的絕對值總和。在914處,例如使用第二電壓比較器332將總和電壓的絕對值與第二閾值比較。然後,過程移到915。
在915處,如果電壓的絕對值或電壓的總和不等於或超出第二閾值的絕對
值,過程前往步驟920。如果電壓的絕對值或電壓的總和等於或超出第二閾值的絕對值,過程繼續到步驟916。在916處,例如使用控制器336來促使計數器338中記錄的數目增加一。在918處,例如使用控制器336基於電壓或總和電壓確定X射線光子能量。對於能量倉中的每個可有一個計數器。在測量X射線光子能量後,光子能量所屬的倉的計數器可以增加一。方法在步驟918後前往步驟920。在920處,使電壓重定為電接地,例如通過使二極體的電極或電阻器的電觸點連接到電接地。在920後,過程可回到902。
圖9B示出根據實施例適合於基於系統(例如圖3A和圖3B中的圖元2的電子系統121)說明檢測X射線的方法的流程圖。在1002處,例如使用第一電壓比較器331將暴露於X射線的二極體的電極或電阻器的電觸點的電壓的絕對值與第一閾值V1比較。在1003處,如果電壓的絕對值不等於或超出第一閾值的絕對值,過程回到步驟1002。如果在1003處電壓的絕對值等於或超出第一閾值的絕對值,過程繼續到步驟1004。
在1004處,確定電極電壓達到第一閾值V1所在的時間t1。在1006處,將該時間t1與相鄰圖元的時間t1比較。在1007處,確定是否出現電荷共用,例如通過確定圖元2的時間t1和相鄰圖元的時間t1是否在相同時段(例如10μs、1μs、100ns或10ns)內。如果出現電荷共用,過程移到1020。在1020處,確定圖元1和相鄰圖元處的電壓穩定,例如通過確定每個圖元處的電壓變化率持續一段時間(例如1ms或0.1ms)大致為零。在1022處,通過電容器串列連接或通過數值相加,圖元2的電壓的絕對值被發送到相鄰圖元用於電壓相加。在1022後,過程回到1002。
否則,如果在1007處未出現電荷共用,過程移到1008,例如在一定時間延
遲後或電壓穩定後。在1008處,例如使用第二電壓比較器332將電壓的絕對值與第二閾值比較。在1009處,如果電壓的絕對值不等於或超出第二閾值的絕對值,過程前往步驟1014。如果在1009處電壓的絕對值等於或超出第二閾值的絕對值,過程繼續到步驟1010。在1010處,例如使用控制器336促使計數器338中記錄的數目增加一。在1012處,例如使用控制器336基於電壓確定X射線光子能量。對於能量倉中的每個可有一個計數器。在測量X射線光子能量後,光子能量所屬的倉的計數器可以增加一。方法在步驟1012後前往步驟1014。在1014處,使電壓重定到電接地,例如通過使二極體的電極或電阻器的電觸點連接到電接地。在1014後,過程可回到1002。
圖9C示出根據實施例確定電荷共用的出現並且使共用X射線光子在相鄰圖元上產生的電壓組合的方法的流程圖。在該流程圖中,存在在相鄰圖元之間傳遞的若干信號。信號“RESET”告知圖元接收它來重定它的電壓和任何存儲信號。圖元發送到相鄰圖元的信號“NV1”告知相鄰圖元該圖元上的電壓是V1或更高。圖元發送到相鄰圖元的信號“COMBINE”告知相鄰圖元使它的電壓組合到該圖元的電壓。
半導體X射線檢測器100可用於相襯X射線成像(PCI)(也稱為相敏X射線成像)。PCI包含至少部分使用由物體引起的X射線束的相移(其包括相移的空間分佈)來形成該物體的圖像的技術。獲得相移的一個方式是將相位變換成強度變化。
PCI可以結合斷層攝影技術來獲得物體的折射率的實部的3D分佈。與常規的基於強度的X射線成像(例如,放射攝影)相比,PCI對物體中的密度變化更敏感。PCI對於對軟組織成像尤其有用。
根據實施例,圖10示意示出根據實施例適合於PCI的系統1900。系統1900可包括至少兩個X射線檢測器1910和1920。這兩個X射線檢測器1910中的一個或兩個是本文描述的半導體X射線檢測器100。X射線檢測器1910和1920可通過間隔物1930而隔開。間隔物1930可具有非常少的X射線吸收。例如,間隔物1930可具有非常小的品質衰減係數(例如,<10cm2g-1、<1cm2g-1、<0.1cm2g-1或<0.01cm2g-1、)。間隔物1930的品質衰減係數可以是均一的(例如,間隔物1930中每兩個點之間的變化小於5%、小於1%或小於0.1%)。間隔物1930可促使通過間隔物1930的X射線的相位改變相同數量。例如,間隔物1930可以是氣體(例如,空氣)、真空室,可包括鋁、鈹、矽或其組合。
系統1900可以用於獲得由被成像物體1960引起的入射X射線1950的相移。X射線檢測器1910和1920可以同時捕獲兩個圖像(例如,強度分佈)。因為X射線檢測器1910和1920被間隔物1930分開,兩個圖像離物體1960的距離不同。可例如使用基於菲涅耳衍射積分的線性化的演算法從兩個圖像確定相位。
根據實施例,圖11示意示出適合於PCI的系統1800。該系統1800包括本文描述的半導體X射線檢測器100。該半導體X射線檢測器100配置成移到物體1860(暴露於離物體1860的不同距離處的入射X射線1850)並且捕獲其圖像。可例如使用基於菲涅耳衍射積分的線性化的演算法從圖像確定相位。
圖12示意示出這樣的系統,其包括本文描述的半導體X射線檢測器100。該系統可用于醫學成像,例如胸部X射線放射攝影、腹部X射線放射攝影等。系統包括X射線源1201。從X射線源1201發射的X射線穿過物體1202(例如,例如胸部、肢體、腹部等人體部位)、由於物體1202的內部結構(例如,骨頭、肌肉、脂肪和器官等)而衰減不同程度並且被投射到半導體X射線檢測器100。
半導體X射線檢測器100通過檢測X射線的強度分佈來形成圖像。
圖13示意示出這樣的系統,其包括本文描述的半導體X射線檢測器100。該系統可用于醫學成像,例如牙齒X射線放射攝影。系統包括X射線源1301。從X射線源1301發射的X射線穿過物體1302,其是哺乳動物(例如,人類)口腔的部分。物體1302可包括上顎骨、顎骨、牙齒、下顎或舌頭。X射線由於物體1302的不同結構而衰減不同程度並且被投射到半導體X射線檢測器100。半導體X射線檢測器100通過檢測X射線的強度分佈來形成圖像。牙齒比齲齒、感染和牙周膜吸收更多的X射線。牙科患者接收的X射線輻射的劑量典型地是小的(對於全口系列是近似0.150mSv)。
圖14示意示出貨物掃描或非侵入式檢查(NII)系統,其包括本文描述的半導體X射線檢測器100。系統可用於在例如海運集裝箱、車輛、輪船、行李等傳輸系統中檢查和識別物品。系統包括X射線源1401。從X射線源1401發射的X射線可從物體1402(例如,海運集裝箱、車輛、輪船等)背散射並且被投射到半導體X射線檢測器100。物體1402的不同內部結構可有差異地背散射X射線。半導體X射線檢測器100通過檢測背散射X射線的強度分佈和/或背散射X射線光子的能量來形成圖像。
圖15示意示出另一個貨物掃描或非侵入式檢查(NII)系統,其包括本文描述的半導體X射線檢測器100。系統可用於公交站和機場處的行李篩查。系統包括X射線源1501。從X射線源1501發射的X射線可穿過行李1502件、由於行李的內含物而有差異地衰減並且被投射到半導體X射線檢測器100。半導體X射線檢測器100通過檢測透射的X射線的強度分佈來形成圖像。系統可揭示行李的內含物並且識別公共交通上禁用的專案,例如槍支、毒品、鋒利武器、易
燃物。
圖16示意示出全身掃描器系統,其包括本文描述的半導體X射線檢測器100。該全身掃描器系統可為了安全篩查目的來檢測人體上的物體而不物理脫衣或進行物理接觸。全身掃描器系統可能夠檢測非金屬物體。全身掃描器系統包括X射線源1601。從X射線源1601發射的X射線可從被篩查的人1602和其上的物體背散射,並且被投射到半導體X射線檢測器100。物體和人體可有差異地背散射X射線。半導體X射線檢測器100通過檢測背散射X射線的強度分佈來形成圖像。半導體X射線檢測器100和X射線源1601可配置成在線性或旋轉方向上掃描人。
圖17示意示出X射線電腦斷層攝影(X射線CT)系統,其包括本文描述的半導體X射線檢測器100。X射線CT系統使用電腦處理的X射線來產生被掃描物體的特定區域的斷層攝影圖像(虛擬“切片”)。斷層攝影圖像在各種醫學學科中可用於診斷和治療目的,或用於缺陷檢測、失效分析、計量、元件分析和逆向工程。X射線CT系統包括本文描述的半導體X射線檢測器100和X射線源1701。半導體X射線檢測器100和X射線源1701可配置成沿一個或多個圓形或螺旋形路徑同步旋轉。
圖18示意示出電子顯微鏡,其包括本文描述的半導體X射線檢測器100。該電子顯微鏡包括電子源1801(也叫作電子槍),其配置成發射電子。電子源1801可具有各種發射機制,例如熱離子、光電陰極、冷發射或等離子體源。發射的電子經過電子光學系統1803,其可配置成使電子成形、加速或聚焦。電子然後到達樣本1802並且圖像檢測器可從其處形成圖像。電子顯微鏡可包括本文描述的半導體X射線檢測器100,用於進行能量色散X射線光譜分析(EDS)。EDS
是用於樣本的元素分析或化學表徵的分析技術。當電子入射在樣本上時,它們促使從樣本發射特徵X射線。入射電子可激發樣本中原子的內殼層中的電子、從殼層逐出電子,同時在電子所在的地方形成電子空穴。來自外部較高能量殼層的電子然後填充該空穴,並且較高能量殼層與較低能量殼層之間的能量差可採用X射線的形式釋放。從樣本發射的X射線的數量和能量可以被半導體X射線檢測器100測量。
圖19示意示出輻射劑量計,其包括本文描述的半導體X射線檢測器100。該輻射劑量計能夠測量來自輻射源1901的輻射(例如,X射線)的平均劑量率。輻射源1901可以是火山1910或原子彈***。輻射劑量計可包括腔1902,其包括空氣或其他氣體。通過氣體的X射線將使氣體電離,從而產生正離子和自由電子。進入的光子將創建與它的能量成比例的許多這樣的離子對。與輻射劑量計關聯的X射線檢測器可以測量氣體體積或一定數量的相互作用光子內的平均劑量率。儘管X射線檢測器在非圖像應用中通常是單圖元檢測器,也可以使用具有本文描述的多個圖元、帶有管理可在相鄰圖元上出現的電荷共用的能力的X射線檢測器100。
圖20示意示出元素分析儀,其包括本文描述的半導體X射線檢測器100。該元素分析儀測量器能夠檢測在物體(例如玩具)上感興趣的一個或多個元素的存在。帶電粒子(例如電子或光子)的高能射束或X射線束被引導到物體上。物體的原子被激發並且在元素特有的特定波長發射X射線。X射線檢測器100接收發射的X射線並且基於發射的X射線的能量確定元素的存在。例如,X射線檢測器100可配置成檢測在多個波長Pb將發射的X射線。如果X射線檢測器100實際上在這些波長從物體接收X射線,它可以告知存在Pb。這裡描述的半導體X射線檢測器100可具有其他應用,例如在X射線望遠鏡、X射線***攝
影、工業X射線缺陷檢測、X射線顯微鏡或顯微放射攝影、X射線鑄件檢查、X射線無損檢驗、X射線焊縫檢查、X射線數位減影血管攝影等中。可使用該半導體X射線檢測器100來代替照相底片、照相膠片、PSP板、X射線圖像增強器、閃爍體或另一個半導體X射線檢測器。
儘管本文公開各種方面和實施例,其他方面和實施例對於本領域內技術人員將變得明顯。本文公開的各種方面和實施例是為了說明目的而不意在為限制性的,其真正範圍和精神由下列權利要求指示。
810:傳輸區域
815:左上圖元
820:傳輸區域
825:上圖元
830:傳輸區域
835:左圖元
840:傳輸區域
845:左下圖元
Claims (28)
- 一種適合於檢測X射線的裝置,其包括:X射線吸收層,其包括第一圖元和第二圖元;以及控制器,其配置成用於:確定單個X射線光子產生的載體被所述第一圖元和所述第二圖元收集;基於從所述第一圖元檢測的第一電壓和從所述第二圖元檢測的第二電壓確定所述單個X射線光子的能量,其中所述第一電壓和所述第二電壓由所述單個X射線光子引起;獲得所述第一電壓的絕對值和所述第二電壓的絕對值的總和;以及基於所述總和確定所述單個X射線光子的能量,其中:所述第一圖元與用所述第一電壓充電的第一電容器關聯;所述第二圖元與用所述第二電壓充電的第二電容器關聯;以及通過使所述第一電容器和所述第二電容器串聯連接並且測量跨串聯連接電容器的電壓來獲得總和。
- 如申請專利範圍第1項之裝置,通過使所述第一電壓的絕對值和所述第二電壓的絕對值數值相加來獲得所述總和。
- 如申請專利範圍第1項之裝置,其進一步包括計數器,所述計數器配置成用於記錄所述X射線吸收層吸收的X射線光子的數目,其中如果所述總和等於或超出預定閾值,所述控制器配置成用於促使所述計數器記錄的數目增加一。
- 如申請專利範圍第1項之裝置,其中在所述第一電壓的變化率和所述第二電壓的變化率大致為零時確定所述單個X射線光子的能量。
- 如申請專利範圍第1項之裝置,其中如果所述第一電壓和所述第二電壓在相同時段開始改變,所述控制器配置成用於確定單個X射線光子產生的載體被所述第一圖元和所述第二圖元收集。
- 如申請專利範圍第1項之裝置,其中如果所述第一電壓的絕對值和所述第二電壓的絕對值在相同時段達到第一閾值,所述控制器配置成用於確定單個X射線光子產生的載體被所述第一圖元和所述第二圖元收集。
- 如申請專利範圍第1項之裝置,其中基於以下中的至少一個將所述X射線光子分配給所述第一圖元和第二圖元中的一個來形成圖像:所述第一電壓和所述第二電壓的比較;以及所述兩個圖元的相對位置。
- 如申請專利範圍第1項之裝置,其中所述裝置包括圖元陣列。
- 一種系統,其包括如申請專利範圍第1項之裝置和X射線源,其中所述系統組態成用於對人的胸部或腹部進行X射線放射攝影。
- 一種系統,其包括如申請專利範圍第1項之裝置和X射線源,其中所述系統組態成用於對人的口腔進行X射線放射攝影。
- 一種貨物掃描或非侵入式檢查(NII)系統,其包括如申請專利範圍第1項之裝置和X射線源,其中所述貨物掃描或非侵入式檢查(NII)系統組態成用於基於背散射X射線來形成圖像。
- 一種貨物掃描或非侵入式檢查(NII)系統,其包括如申請專利範圍第1 項之裝置和X射線源,其中所述貨物掃描或非侵入式檢查(NII)系統組態成使用透射通過被檢查物體的X射線來形成圖像。
- 一種全身掃描器系統,其包括如申請專利範圍第1項之裝置和X射線源。
- 一種X射線電腦斷層攝影(X射線CT)系統,其包括如申請專利範圍第1項之裝置和X射線源。
- 一種電子顯微鏡,其包括如申請專利範圍第1項之裝置、電子源和電子光學系統。
- 一種系統,其包括如申請專利範圍第1項之裝置,其中所述系統組態成用於測量X射線源的劑量。
- 一種系統,其包括如申請專利範圍第1項之裝置,其中所述系統是X射線望遠鏡或X射線顯微鏡,或其中所述系統組態成用於進行***攝影、工業缺陷檢測、顯微放射攝影、鑄件檢查、焊縫檢查或數字減影血管攝影。
- 一種檢測X射線的方法,其包括:確定單個X射線光子產生的載體被第一圖元和第二圖元收集;從所述第一圖元檢測第一電壓;從所述第二圖元檢測第二電壓;基於所述第一電壓和所述第二電壓確定所述單個X射線光子的能量,其中所述第一電壓和所述第二電壓由所述單個X射線光子引起;獲得所述第一電壓的絕對值和所述第二電壓的絕對值的總和;以及基於所述總和確定所述單個X射線光子的能量,其中: 所述第一圖元與用所述第一電壓充電的第一電容器關聯;所述第二圖元與用所述第二電壓充電的第二電容器關聯;以及通過使所述第一電容器和所述第二電容器串聯連接並且測量跨串聯連接的電容器的電壓來獲得所述總和。
- 如申請專利範圍第18項之方法,其中通過使所述第一電壓的絕對值和所述第二電壓的絕對值數值相加來獲得所述總和。
- 如申請專利範圍第18項之方法,其進一步包括如果所述總和等於或超出預定閾值則使X射線吸收層上入射的X射線光子的計數增加一,所述X射線吸收層包括所述第一圖元和所述第二圖元。
- 如申請專利範圍第18項之方法,其中當所述第一電壓的變化率和所述第二電壓的變化率大致為零時,確定所述單個X射線光子的能量。
- 如申請專利範圍第18項之方法,其中如果所述第一電壓和所述第二電壓在相同時段開始改變,確定所述單個X射線光子產生的載體被所述第一圖元和所述第二圖元收集。
- 如申請專利範圍第18項之方法,其中如果所述第一電壓的絕對值和所述第二電壓的絕對值在相同時段達到第一閾值,確定所述單個X射線光子產生的載體被所述第一圖元和所述第二圖元收集。
- 如申請專利範圍第18項之方法,其中基於以下中的至少一個將所述X射線光子分配給所述第一圖元和所述第二圖元中的一個來形成圖像:所述第一電壓和所述第二電壓的比較;以及所述兩個圖元的相對位置。
- 一種適合於相襯X射線成像(PCI)的系統,所述系統包括:如申請專利範圍第1項之裝置;第二X射線檢測器;以及間隔物,其中所述裝置和所述第二X射線檢測器通過所述間隔物而隔開。
- 如申請專利範圍第25項之系統,其中所述裝置和所述第二X射線檢測器配置成分別同時捕獲物體的圖像。
- 如申請專利範圍第25項之系統,其中所述第二X射線檢測器等同於所述裝置。
- 一種適合於相襯X射線成像(PCI)的系統,所述系統包括如申請專利範圍第1項之裝置,其中所述裝置配置成移到物體並且捕獲其圖像,所述物體暴露於離所述物體不同距離的入射X射線。
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