TWI706157B - 成像光學元件組、成像鏡頭及電子裝置 - Google Patents

Abstract

一種成像光學元件組，其具有光軸，並包含物側透鏡、像側透鏡及遮光片。遮光片設置於物側透鏡與像側透鏡之間，並包含物側外表面、像側外表面、外徑部、內徑部及高度補償結構。物側外表面朝向成像光學元件組的物側。像側外表面與物側外表面相對設置。外徑部具有外徑面連接物側外表面與像側外表面。內徑部定義遮光片的中心開孔，並具有內徑面連接物側外表面與像側外表面。高度補償結構為全環型，並環繞中心開孔，且用以調整內徑面與外徑面之間沿平行光軸方向上的高度差。藉此，降低遮光片於壓疊應力與熱應力下的翹曲量。

Description

成像光學元件組、成像鏡頭及電子裝置

本揭示內容係關於一種成像光學元件組與成像鏡頭，且特別是一種應用在可攜式電子裝置上的成像光學元件組與成像鏡頭。

近年來，可攜式電子裝置發展快速，例如智慧型電子裝置、平板電腦等，已充斥在現代人的生活中，而裝載在可攜式電子裝置上的成像鏡頭及其成像光學元件組也隨之蓬勃發展。但隨著科技愈來愈進步，使用者對於成像光學元件組的品質要求也愈來愈高，其中遮光片為影響成像品質的主要因素之一。

請參照第7圖，第7圖繪示現有技術的電子裝置70的示意圖，其中電子裝置70之成像鏡頭經烘烤製程。電子裝置70中配置有一遮光片720，其中心夾層為塑膠材質，特別為PET材質。遮光片720於成像鏡頭(圖未標示)的組裝過程中會經歷壓疊應力與長時間溫度的急遽變化，一般來說，壓疊應力的重量於數十公斤內，溫度變化於5小時內由室溫25℃至100℃之間震盪，上述的壓疊應力重量與溫度 變化範圍並不以此為限。由於組裝過程中環境條件變動的情況下，習用遮光片720的物理結構容易產生不可恢復的變異，其變異可為遮光片720的內孔發生翹曲或不規則的扭曲，其中翹曲量為56.6μm至75.5μm，翹曲量並不以上述範圍為限，故造成遮光片720的遮蔽效率下降，並導致成像品質的劣化與肇生光學解像能力低於預期的情況。

本揭示內容提供一種成像光學元件組、成像鏡頭及電子裝置，藉由調整遮光片的結構有助於增加遮光片的遮蔽效率，且改善翹曲的問題。

依據本揭示內容一實施方式提供一種成像光學元件組，其具有一光軸，並包含至少一物側透鏡、至少一像側透鏡及至少一遮光片。遮光片設置於物側透鏡與像側透鏡之間，並包含一物側外表面、一像側外表面、一外徑部、一內徑部及一高度補償結構。物側外表面朝向成像光學元件組的一物側。像側外表面與物側外表面相對設置。外徑部具有一外徑面連接物側外表面與像側外表面。內徑部定義遮光片的一中心開孔，並具有一內徑面連接物側外表面與像側外表面。高度補償結構為全環型，並環繞中心開孔，且用以調整內徑面與外徑面之間沿平行光軸方向上的高度差。其中，高度補償結構的最大高度為H，內徑面與外徑面之間沿平行光軸方向上的高度差為△d，其滿足下列條件：0.0

△d/H<0.85。

依據前段所述實施方式的成像光學元件組，其中高度補償結構的最大高度為H，內徑面與外徑面之間沿平行光軸方向上的高度差為△d，其可滿足下列條件：0.0

△d/H<0.55。另外，其可滿足下列條件：0.0

△d/H<0.35。

依據前段所述實施方式的成像光學元件組，其中遮光片的厚度為s，其可滿足下列條件：0.0mm<s<0.12mm。

依據前段所述實施方式的成像光學元件組，其中高度補償結構的最大高度為H，遮光片的厚度為s，其可滿足下列條件：0.7

H/s<5.0。

依據前段所述實施方式的成像光學元件組，其中高度補償結構與相鄰之一透鏡可有實體接觸。

依據前段所述實施方式的成像光學元件組，其中高度補償結構相鄰之透鏡可包含一全環型結構面，用以與高度補償結構對應並實體接觸。

依據前段所述實施方式的成像光學元件組，其中內徑面與外徑面之間沿平行光軸方向上的高度差為△d，其可滿足下列條件：0.0mm

△d<0.02mm。

依據前段所述實施方式的成像光學元件組，其中高度補償結構由遮光片的外徑面至中心開孔可依序包含一第一側壁與一第二側壁。第一側壁由物側外表面與像側外表面中之一者往遠離另一者的方向延伸。第二側壁由物側外表面與像側外表面中之一者往靠近另一者的方向延伸。

依據前段所述實施方式的成像光學元件組，其中遮光片的中心開孔可為成像光學元件組的一光圈。

依據本揭示內容一實施方式提供成像鏡頭，包含一鏡筒與前述實施方式之成像光學元件組。成像光學元件組設置於鏡筒內，且成像光學元件組的遮光片的中心開孔與鏡筒的一最小中心開孔對應。

依據本揭示內容一實施方式提供一種電子裝置，包含前述實施方式之成像鏡頭與一電子感光元件。電子感光元件設置於成像鏡頭的一成像面。

10、20、30、40、50、60、70‧‧‧電子裝置

110、210、310、410、510‧‧‧物側透鏡

111、211、311、411、511‧‧‧全環型結構面

120、220、320、420、520、720‧‧‧遮光片

121、221、321、421、521‧‧‧物側外表面

122、222、322、422、522‧‧‧像側外表面

123、223、323、423、523‧‧‧外徑部

124、224、324、424、524‧‧‧外徑面

125、225、325、425、525‧‧‧內徑部

126、226、326、426、526‧‧‧中心開孔

127、227、327、427、527‧‧‧內徑面

128、228、328、329、428、429、528‧‧‧高度補償結構

128a、228a、328a、329a、428a、429a‧‧‧第一側壁

128b、228b、328b、329b、428b、429b‧‧‧第二側壁

130、230、330、430、530‧‧‧像側透鏡

140、240、340、440、540‧‧‧鏡筒

150、250、350、450、550‧‧‧成像面

155、255、355、455、555、62‧‧‧電子感光元件

61‧‧‧成像鏡頭

63‧‧‧使用者介面

64‧‧‧成像訊號處理元件

65‧‧‧光學防手震組件

66‧‧‧感測元件

67‧‧‧閃光燈模組

68‧‧‧對焦輔助模組

X‧‧‧光軸

H‧‧‧高度補償結構的最大高度

△d‧‧‧內徑面與外徑面之間沿平行光軸方向上的高度差

s‧‧‧遮光片的厚度

第1A圖繪示依照本發明第一實施例中電子裝置的示意圖，其中電子裝置之成像鏡頭未經烘烤製程；

第1B圖繪示依照第1A圖第一實施例中電子裝置的另一示意圖，其中電子裝置之成像鏡頭經烘烤製程；

第1C圖繪示第1A圖第一實施例中遮光片的示意圖；

第1D圖繪示第1A圖第一實施例中遮光片的側視圖；

第1E圖繪示第1A圖第一實施例中遮光片之物側外表面的示意圖；

第1F圖繪示第1A圖第一實施例中遮光片的部分剖視圖；

第1G圖繪示第1A圖第一實施例中遮光片之像側外表面的示意圖；

第1H圖繪示第1A圖第一實施例中遮光片的另一部分剖視圖；

第2A圖繪示依照本發明第二實施例中電子裝置的示意圖，其中電子裝置之成像鏡頭未經烘烤製程；

第2B圖繪示依照第2A圖第二實施例中電子裝置的另一示意圖，其中電子裝置之成像鏡頭經烘烤製程；

第2C圖繪示第2A圖第二實施例中遮光片的示意圖；

第2D圖繪示第2A圖第二實施例中遮光片的側視圖；

第2E圖繪示第2A圖第二實施例中遮光片之物側外表面的示意圖；

第2F圖繪示第2A圖第二實施例中遮光片的部分剖視圖；

第2G圖繪示第2A圖第二實施例中遮光片之像側外表面的示意圖；

第2H圖繪示第2A圖第二實施例中遮光片的另一部分剖視圖；

第3A圖繪示依照本發明第三實施例中電子裝置的示意圖，其中電子裝置之成像鏡頭未經烘烤製程；

第3B圖繪示依照第3A圖第三實施例中電子裝置的另一示意圖，其中電子裝置之成像鏡頭經烘烤製程；

第3C圖繪示第3A圖第三實施例中遮光片的示意圖；

第3D圖繪示第3A圖第三實施例中遮光片的側視圖；

第3E圖繪示第3A圖第三實施例中遮光片之物側外表面的示意圖；

第3F圖繪示第3A圖第三實施例中遮光片的部分剖視圖；

第3G圖繪示第3A圖第三實施例中遮光片之像側外表面的示意圖；

第3H圖繪示第3A圖第三實施例中遮光片的另一部分剖視圖；

第4A圖繪示依照本發明第四實施例中電子裝置的示意圖，其中電子裝置之成像鏡頭未經烘烤製程；

第4B圖繪示依照第4A圖第四實施例中電子裝置的另一示意圖，其中電子裝置之成像鏡頭經烘烤製程；

第4C圖繪示第4A圖第四實施例中遮光片的示意圖；

第4D圖繪示第4A圖第四實施例中遮光片的側視圖；

第4E圖繪示第4A圖第四實施例中遮光片之物側外表面的示意圖；

第4F圖繪示第4A圖第四實施例中遮光片的部分剖視圖；

第4G圖繪示第4A圖第四實施例中遮光片之像側外表面的示意圖；

第4H圖繪示第4A圖第四實施例中遮光片的另一部分剖視圖；

第5A圖繪示依照本發明第五實施例中電子裝置的示意圖，其中電子裝置之成像鏡頭未經烘烤製程；

第5B圖繪示依照第5A圖第五實施例中電子裝置的另一示意圖，其中電子裝置之成像鏡頭經烘烤製程；

第5C圖繪示第5A圖第五實施例中遮光片的示意圖；

第5D圖繪示第5A圖第五實施例中遮光片的側視圖；

第5E圖繪示第5A圖第五實施例中遮光片之物側外表面的示意圖；

第5F圖繪示第5A圖第五實施例中遮光片的部分剖視圖；

第5G圖繪示第5A圖第五實施例中遮光片之像側外表面的示意圖；

第5H圖繪示第5A圖第五實施例中遮光片的另一部分剖視圖；

第6A圖繪示依照本揭示內容第六實施例中電子裝置之示意圖；

第6B圖繪示依照第6A圖第六實施例中電子裝置的方塊圖；

第6C圖繪示依照第6A圖第六實施例中自拍場景之示意圖；

第6D圖繪示依照第6A圖第六實施例中拍攝的影像之示意圖；以及

第7圖繪示現有技術的電子裝置的示意圖，其中電子裝置之成像鏡頭經烘烤製程。

本揭示內容提供一種成像光學元件組，其具有一光軸，並包含至少一物側透鏡、至少一像側透鏡及至少一 遮光片。遮光片設置於物側透鏡與像側透鏡之間，並包含一物側外表面、一像側外表面、一外徑部、一內徑部及一高度補償結構。物側外表面朝向成像光學元件組的一物側。像側外表面與物側外表面相對設置。外徑部具有一外徑面連接物側外表面與像側外表面。內徑部定義遮光片的一中心開孔，並具有一內徑面連接物側外表面與像側外表面。高度補償結構為全環型，並環繞中心開孔，且用以調整內徑面與外徑面之間沿平行光軸方向上的高度差。高度補償結構的最大高度為H，內徑面與外徑面之間沿平行光軸方向上的高度差為△d，其滿足下列條件：0.0

△d/H<0.85。藉此，有助於提升高度補償結構的適用範圍，亦可有效控制內徑部的翹曲量，減少過度翹曲或過度補正的情況發生。

高度補償結構與相鄰之一透鏡可有實體接觸。透過透鏡的空間設計，可進一步善用結構上的支撐作用，且提升改善翹曲變形的能力。

高度補償結構相鄰之透鏡可包含一全環型結構面，用以與高度補償結構對應並實體接觸。藉此，增加透鏡與高度補償結構的支撐穩定度，可更易掌握翹曲的變化趨勢，進而提升補償翹曲的準確度。

高度補償結構由遮光片的外徑面至中心開孔可依序包含一第一側壁與一第二側壁。第一側壁由物側外表面與像側外表面中之一者往遠離另一者的方向延伸。第二側壁由物側外表面與像側外表面中之一者往靠近另一者的方向 延伸。藉此，提供超過材料本身所能提供的本質強度，降低遮光片的易損壞率。

遮光片的中心開孔可為成像光學元件組的一光圈。藉此，使光圈的性能更穩固，且使成像光學元件組的光學規格與成像表現更不易受外界環境影響。

遮光片可為一種複合遮光片，遮光片可更包含一第一表面層、一第二表面層及一內部基材層，其中內部基材層位於第一表面層與第二表面層之間，且內部基材層連接第一表面層與第二表面層。進一步來說，內部基材層為一塑膠材質層，而第一表面層與第二表面層為黑色含碳材質層，其中塑膠材質層可為黑色/透明的PC材質、黑色/透明的PET材質或黑色/透明的PMMA材質。進一步來說，遮光片亦可為金屬材質，且外觀為黑色，但並不以此為限。

高度補償結構的最大高度為H，內徑面與外徑面之間沿平行光軸方向上的高度差為△d，可滿足下列條件：0.0

△d/H<0.55。藉此，耐用於更長時間的高溫烘烤測試，並可承受更大的壓疊應力。另外，可滿足下列條件：0.0

△d/H<0.35。藉此，可得到更佳的立體結構，且使遮光片製程的精度可更易掌握，遮光片破片的異常情況較不易出現。

遮光片的厚度為s，其可滿足下列條件：0.0mm<s<0.12mm。藉此，提供較佳的遮光效果，並減少元件表面反射的情況。

高度補償結構的最大高度為H，遮光片的厚度為s，其可滿足下列條件：0.7

H/s<5.0。藉此，增加遮光片的耐用性。

內徑面與外徑面之間沿平行光軸方向上的高度差為△d，其可滿足下列條件：0.0mm

△d<0.02mm。藉此，較不易出現過度補正或補正程度不足的情況。

上述本揭示內容成像鏡頭中的各技術特徵皆可組合配置，而達到對應之功效。

本揭示內容提供一種成像鏡頭，包含一鏡筒與前述之成像光學元件組。成像光學元件組設置於鏡筒內，且成像光學元件組的遮光片的中心開孔與鏡筒的一最小中心開孔對應。藉此，提供成像鏡頭所需遮蔽非必要反射光的條件，因應成像鏡頭的製程裝配條件以提供一適用的遮光片。

本揭示內容提供一種電子裝置，包含前述之成像鏡頭與一電子感光元件。電子感光元件設置於成像鏡頭的一成像面。

根據上述實施方式，以下提出具體實施例並配合圖式予以詳細說明。

<第一實施例>

第1A圖繪示依照本發明第一實施例中電子裝置10的示意圖，其中電子裝置10之成像鏡頭未經烘烤製程。第1B圖繪示依照第1A圖第一實施例中電子裝置10的另一示意圖，其中電子裝置10之成像鏡頭經烘烤製程。由第1A圖與第1B圖可知，電子裝置10包含一成像鏡頭(圖未標示) 與一電子感光元件155。電子感光元件155設置於成像鏡頭的一成像面150。成像鏡頭包含一鏡筒140與一成像光學元件組(圖未標示)。成像光學元件組設置於鏡筒140內，且成像光學元件組的遮光片120的中心開孔126與鏡筒140的一最小中心開孔(圖未標示)對應。藉此，提供成像鏡頭所需遮蔽非必要反射光的條件，因應成像鏡頭的製程裝配條件以提供一適用的遮光片。

詳細來說，成像光學元件組具有一光軸X，並包含至少一物側透鏡、至少一像側透鏡及至少一遮光片。第一實施例中，遮光片120設置於物側透鏡110與像側透鏡130之間。進一步來說，由物側至像側依序為物側透鏡110、遮光片120及像側透鏡130。成像光學元件組更包含複數透鏡，其中透鏡的數量、結構、面形等光學特徵可依照不同成像需求配置，並非本揭示內容的重點，將不另揭露其細節。

第1C圖繪示第1A圖第一實施例中遮光片120的示意圖。第1D圖繪示第1A圖第一實施例中遮光片120的側視圖。第1E圖繪示第1A圖第一實施例中遮光片120之物側外表面121的示意圖。第1F圖繪示第1A圖第一實施例中遮光片120的部分剖視圖。第1G圖繪示第1A圖第一實施例中遮光片120之像側外表面122的示意圖。第1H圖繪示第1A圖第一實施例中遮光片120的另一部分剖視圖。由第1C圖至第1H圖可知，遮光片120包含一物側外表面121、一像側外表面122、一外徑部123、一內徑部125及一高度補償結構128。

物側外表面121朝向成像光學元件組的一物側，且像側外表面122與物側外表面121相對設置。外徑部123具有一外徑面124連接物側外表面121與像側外表面122。內徑部125定義遮光片120的一中心開孔126，並具有一內徑面127連接物側外表面121與像側外表面122。

高度補償結構128為全環型，並環繞中心開孔126，且用以調整內徑面127與外徑面124之間沿平行光軸X方向上的高度差。藉此，有助於提升高度補償結構128的適用範圍，亦可有效控制內徑部125的翹曲量，減少過度翹曲或過度補正的情況發生。

詳細來說，由第1A圖與第1B圖可知，高度補償結構128與相鄰之一透鏡可有實體接觸，且高度補償結構128相鄰之透鏡可包含一全環型結構面111，用以與高度補償結構128對應並實體接觸。透過透鏡的空間設計，可進一步善用結構上的支撐作用，且提升改善翹曲變形的能力。第一實施例中，高度補償結構128與物側透鏡110有實體接觸，且物側透鏡110包含全環型結構面111與高度補償結構128對應並實體接觸。藉此，增加物側透鏡110與高度補償結構128的支撐穩定度，可更易掌握翹曲的變化趨勢，進而提升補償翹曲的準確度。第一實施例中，經壓疊應力的翹曲量為-6.0μm，經壓疊應力與烘烤後的翹曲量為11.5μm。進一步來說，翹曲量為內徑面127與外徑面124之間沿平行光軸X方向上的高度差△d。

由第1C圖與第1F圖可知，高度補償結構128由遮光片120的外徑面124至中心開孔126可依序包含一第一側壁128a與一第二側壁128b。第一側壁128a由物側外表面121與像側外表面122中之一者往遠離另一者的方向延伸。第二側壁128b由物側外表面121與像側外表面122中之一者往靠近另一者的方向延伸。具體來說，由遮光片120的外徑部123至中心開孔126依序為第一側壁128a、第二側壁128b及內徑面127。藉此，提供超過材料本身所能提供的本質強度，降低遮光片120的易損壞率。

遮光片120可為金屬材質，且外觀為黑色，但並不以此為限。

遮光片120的中心開孔126可為成像光學元件組的一光圈。藉此，使光圈的性能更穩固，且使成像光學元件組的光學規格與成像表現更不易受外界環境影響。

參照第1A圖至第1C圖，第一實施例中，高度補償結構128的最大高度為H，進一步來說，高度補償結構128往成像光學元件組的物側方向延伸時，最大高度由像側外表面122起算至高度補償結構128的頂端為止，內徑面127與外徑面124之間沿平行光軸X方向上的高度差為△d，遮光片120的厚度為s，而所述參數滿足下列表一條件。

<第二實施例>

第2A圖繪示依照本發明第二實施例中電子裝置20的示意圖，其中電子裝置20之成像鏡頭未經烘烤製程。第2B圖繪示依照第2A圖第二實施例中電子裝置20的另一示意圖，其中電子裝置20之成像鏡頭經烘烤製程。由第2A圖與第2B圖可知，電子裝置20包含一成像鏡頭(圖未標示)與一電子感光元件255。電子感光元件255設置於成像鏡頭的一成像面250。成像鏡頭包含一鏡筒240與一成像光學元件組(圖未標示)。成像光學元件組設置於鏡筒240內，且成像光學元件組的遮光片220的中心開孔226與鏡筒240的一最小中心開孔(圖未標示)對應。藉此，提供成像鏡頭所需遮蔽非必要反射光的條件，因應成像鏡頭的製程裝配條件以提供一適用的遮光片。

詳細來說，成像光學元件組具有一光軸X，並包含至少一物側透鏡、至少一像側透鏡及至少一遮光片。第二實施例中，遮光片220設置於物側透鏡210與像側透鏡230之間。進一步來說，由物側至像側依序為物側透鏡210、遮光片220及像側透鏡230。成像光學元件組更包含複數透鏡，其中透鏡的數量、結構、面形等光學特徵可依照不同成像需求配置，並非本揭示內容的重點，將不另揭露其細節。

第2C圖繪示第2A圖第二實施例中遮光片220的示意圖。第2D圖繪示第2A圖第二實施例中遮光片220的側視圖。第2E圖繪示第2A圖第二實施例中遮光片220之物側外表面221的示意圖。第2F圖繪示第2A圖第二實施例中遮光片220的部分剖視圖。第2G圖繪示第2A圖第二實施例中遮光片220之像側外表面222的示意圖。第2H圖繪示第2A圖第二實施例中遮光片220的另一部分剖視圖。由第2C圖至第2H圖可知，遮光片220包含一物側外表面221、一像側外表面222、一外徑部223、一內徑部225及一高度補償結構228。

物側外表面221朝向成像光學元件組的一物側，且像側外表面222與物側外表面221相對設置。外徑部223具有一外徑面224連接物側外表面221與像側外表面222。內徑部225定義遮光片220的一中心開孔226，並具有一內徑面227連接物側外表面221與像側外表面222。

高度補償結構228為全環型，並環繞中心開孔226，且用以調整內徑面227與外徑面224之間沿平行光軸X方向上的高度差。藉此，有助於提升高度補償結構228的適用範圍，亦可有效控制內徑部225的翹曲量，減少過度翹曲或過度補正的情況發生。

詳細來說，由第2A圖與第2B圖可知，高度補償結構228與相鄰之一透鏡可有實體接觸，且高度補償結構228相鄰之透鏡可包含一全環型結構面211，用以與高度補償結構228對應並實體接觸。透過透鏡的空間設計，可進一 步善用結構上的支撐作用，且提升改善翹曲變形的能力。第二實施例中，高度補償結構228與物側透鏡210有實體接觸，且物側透鏡210包含全環型結構面211與高度補償結構228對應並實體接觸。藉此，增加物側透鏡210與高度補償結構228的支撐穩定度，可更易掌握翹曲的變化趨勢，進而提升補償翹曲的準確度。第二實施例中，經壓疊應力的翹曲量為-19.7μm，經壓疊應力與烘烤後的翹曲量為6.2μm。進一步來說，翹曲量為內徑面227與外徑面224之間沿平行光軸X方向上的高度差△d。

由第2C圖與第2F圖可知，高度補償結構228由遮光片220的外徑面224至中心開孔226可依序包含一第一側壁228a與一第二側壁228b。第一側壁228a由物側外表面221與像側外表面222中之一者往遠離另一者的方向延伸。第二側壁228b由物側外表面221與像側外表面222中之一者往靠近另一者的方向延伸。具體來說，由遮光片220的外徑部223至中心開孔226依序為第一側壁228a、第二側壁228b及內徑面227。藉此，提供超過材料本身所能提供的本質強度，降低遮光片220的易損壞率。

遮光片220可為金屬材質，且外觀為黑色，但並不以此為限。

遮光片220的中心開孔226可為成像光學元件組的一光圈。藉此，使光圈的性能更穩固，且使成像光學元件組的光學規格與成像表現更不易受外界環境影響。

參照第2A圖至第2C圖，第二實施例中，高度補償結構228的最大高度為H，進一步來說，高度補償結構228往成像光學元件組的物側方向延伸時，最大高度由像側外表面222起算至高度補償結構228的頂端為止，內徑面227與外徑面224之間沿平行光軸X方向上的高度差為△d，遮光片220的厚度為s，而所述參數滿足下列表二條件。

<第三實施例>

第3A圖繪示依照本發明第三實施例中電子裝置30的示意圖，其中電子裝置30之成像鏡頭未經烘烤製程。第3B圖繪示依照第3A圖第三實施例中電子裝置30的另一示意圖，其中電子裝置30之成像鏡頭經烘烤製程。由第3A圖與第3B圖可知，電子裝置30包含一成像鏡頭(圖未標示)與一電子感光元件355。電子感光元件355設置於成像鏡頭的一成像面350。成像鏡頭包含一鏡筒340與一成像光學元件組(圖未標示)。成像光學元件組設置於鏡筒340內，且成像光學元件組的遮光片320的中心開孔326與鏡筒340的一最小中心開孔(圖未標示)對應。藉此，提供成像鏡頭所 需遮蔽非必要反射光的條件，因應成像鏡頭的製程裝配條件以提供一適用的遮光片。

詳細來說，成像光學元件組具有一光軸X，並包含至少一物側透鏡、至少一像側透鏡及至少一遮光片。第三實施例中，遮光片320設置於物側透鏡310與像側透鏡330之間。進一步來說，由物側至像側依序為物側透鏡310、遮光片320及像側透鏡330。成像光學元件組更包含複數透鏡，其中透鏡的數量、結構、面形等光學特徵可依照不同成像需求配置，並非本揭示內容的重點，將不另揭露其細節。

第3C圖繪示第3A圖第三實施例中遮光片320的示意圖。第3D圖繪示第3A圖第三實施例中遮光片320的側視圖。第3E圖繪示第3A圖第三實施例中遮光片320之物側外表面321的示意圖。第3F圖繪示第3A圖第三實施例中遮光片320的部分剖視圖。第3G圖繪示第3A圖第三實施例中遮光片320之像側外表面322的示意圖。第3H圖繪示第3A圖第三實施例中遮光片320的另一部分剖視圖。由第3C圖至第3H圖可知，遮光片320包含一物側外表面321、一像側外表面322、一外徑部323、一內徑部325及二高度補償結構328、329。

物側外表面321朝向成像光學元件組的一物側，且像側外表面322與物側外表面321相對設置。外徑部323具有一外徑面324連接物側外表面321與像側外表面322。內徑部325定義遮光片320的一中心開孔326，並具有一內徑面327連接物側外表面321與像側外表面322。

高度補償結構328、329為全環型，並環繞中心開孔326，且用以調整內徑面327與外徑面324之間沿平行光軸X方向上的高度差。藉此，有助於提升高度補償結構328、329的適用範圍，亦可有效控制內徑部325的翹曲量，減少過度翹曲或過度補正的情況發生。

詳細來說，由第3A圖與第3B圖可知，高度補償結構328與相鄰之一透鏡可有實體接觸，且高度補償結構328相鄰之透鏡可包含一全環型結構面311，用以與高度補償結構328對應並實體接觸。透過透鏡的空間設計，可進一步善用結構上的支撐作用，且提升改善翹曲變形的能力。第三實施例中，高度補償結構328與物側透鏡310有實體接觸，且物側透鏡310包含全環型結構面311與高度補償結構328對應並實體接觸。藉此，增加物側透鏡310與高度補償結構328的支撐穩定度，可更易掌握翹曲的變化趨勢，進而提升補償翹曲的準確度。第三實施例中，經壓疊應力的翹曲量為-6.0μm，經壓疊應力與烘烤後的翹曲量為3.0μm。進一步來說，翹曲量為內徑面327與外徑面324之間沿平行光軸X方向上的高度差△d。

由第3C圖與第3F圖可知，高度補償結構328由遮光片320的外徑面324至中心開孔326可依序包含一第一側壁328a與一第二側壁328b，高度補償結構329由遮光片320的外徑面324至中心開孔326可依序包含一第一側壁329a與一第二側壁329b。第一側壁328a、329a由物側外表面321與像側外表面322中之一者往遠離另一者的方向延 伸。第二側壁328b、329b由物側外表面321與像側外表面322中之一者往靠近另一者的方向延伸。具體來說，由遮光片320的外徑部323至中心開孔326依序為第一側壁328a、第二側壁328b、第一側壁329a、第二側壁329b及內徑面327。藉此，提供超過材料本身所能提供的本質強度，降低遮光片320的易損壞率。

遮光片320可為金屬材質，且外觀為黑色，但並不以此為限。

遮光片320的中心開孔326可為成像光學元件組的一光圈。藉此，使光圈的性能更穩固，且使成像光學元件組的光學規格與成像表現更不易受外界環境影響。

參照第3A圖至第3C圖，第三實施例中，高度補償結構328、329的最大高度為H，進一步來說，高度補償結構328、329往成像光學元件組的物側方向延伸時，最大高度由像側外表面322起算至高度補償結構328、329的頂端為止，內徑面327與外徑面324之間沿平行光軸X方向上的高度差為△d，遮光片320的厚度為s，而所述參數滿足下列表三條件。

<第四實施例>

第4A圖繪示依照本發明第四實施例中電子裝置40的示意圖，其中電子裝置40之成像鏡頭未經烘烤製程。第4B圖繪示依照第4A圖第四實施例中電子裝置40的另一示意圖，其中電子裝置40之成像鏡頭經烘烤製程。由第4A圖與第4B圖可知，電子裝置40包含一成像鏡頭(圖未標示)與一電子感光元件455。電子感光元件455設置於成像鏡頭的一成像面450。成像鏡頭包含一鏡筒440與一成像光學元件組(圖未標示)。成像光學元件組設置於鏡筒440內，且成像光學元件組的遮光片420的中心開孔426與鏡筒440的一最小中心開孔(圖未標示)對應。藉此，提供成像鏡頭所需遮蔽非必要反射光的條件，因應成像鏡頭的製程裝配條件以提供一適用的遮光片。

詳細來說，成像光學元件組具有一光軸X，並包含至少一物側透鏡、至少一像側透鏡及至少一遮光片。第四實施例中，遮光片420設置於物側透鏡410與像側透鏡430之間。進一步來說，由物側至像側依序為物側透鏡410、遮光片420及像側透鏡430。成像光學元件組更包含複數透鏡，其中透鏡的數量、結構、面形等光學特徵可依照不同成像需求配置，並非本揭示內容的重點，將不另揭露其細節。

第4C圖繪示第4A圖第四實施例中遮光片420的示意圖。第4D圖繪示第4A圖第四實施例中遮光片420的側視圖。第4E圖繪示第4A圖第四實施例中遮光片420之物 側外表面421的示意圖。第4F圖繪示第4A圖第四實施例中遮光片420的部分剖視圖。第4G圖繪示第4A圖第四實施例中遮光片420之像側外表面422的示意圖。第4H圖繪示第4A圖第四實施例中遮光片420的另一部分剖視圖。由第4C圖至第4H圖可知，遮光片420包含一物側外表面421、一像側外表面422、一外徑部423、一內徑部425及二高度補償結構428、429。

物側外表面421朝向成像光學元件組的一物側，且像側外表面422與物側外表面421相對設置。外徑部423具有一外徑面424連接物側外表面421與像側外表面422。內徑部425定義遮光片420的一中心開孔426，並具有一內徑面427連接物側外表面421與像側外表面422。

高度補償結構428、429為全環型，並環繞中心開孔426，且用以調整內徑面427與外徑面424之間沿平行光軸X方向上的高度差。藉此，有助於提升高度補償結構428、429的適用範圍，亦可有效控制內徑部425的翹曲量，減少過度翹曲或過度補正的情況發生。

詳細來說，由第4A圖與第4B圖可知，高度補償結構428與相鄰之一透鏡可有實體接觸，且高度補償結構428相鄰之透鏡可包含一全環型結構面411，用以與高度補償結構428對應並實體接觸。透過透鏡的空間設計，可進一步善用結構上的支撐作用，且提升改善翹曲變形的能力。第四實施例中，高度補償結構428與像側透鏡430有實體接觸，且像側透鏡430包含全環型結構面411與高度補償結構 428對應並實體接觸。藉此，增加像側透鏡430與高度補償結構428的支撐穩定度，可更易掌握翹曲的變化趨勢，進而提升補償翹曲的準確度。第四實施例中，經壓疊應力的翹曲量為0.0μm，經壓疊應力與烘烤後的翹曲量為9.0μm。進一步來說，翹曲量為內徑面427與外徑面424之間沿平行光軸X方向上的高度差△d。

由第4C圖與第4F圖可知，高度補償結構428由遮光片420的外徑面424至中心開孔426可依序包含一第一側壁428a與一第二側壁428b，高度補償結構429由遮光片420的外徑面424至中心開孔426可依序包含一第一側壁429a與一第二側壁429b。第一側壁428a、429a由物側外表面421與像側外表面422中之一者往遠離另一者的方向延伸。第二側壁428b、429b由物側外表面421與像側外表面422中之一者往靠近另一者的方向延伸。具體來說，由遮光片420的外徑部423至中心開孔426依序為第一側壁428a、第二側壁428b、第一側壁429a、第二側壁429b及內徑面427。藉此，提供超過材料本身所能提供的本質強度，降低遮光片420的易損壞率。

遮光片420可為金屬材質，且外觀為黑色，但並不以此為限。

遮光片420的中心開孔426可為成像光學元件組的一光圈。藉此，使光圈的性能更穩固，且使成像光學元件組的光學規格與成像表現更不易受外界環境影響。

參照第4A圖至第4C圖，第四實施例中，高度補償結構428、429的最大高度為H，內徑面427與外徑面424之間沿平行光軸X方向上的高度差為△d，遮光片420的厚度為s，而所述參數滿足下列表四條件。

<第五實施例>

第5A圖繪示依照本發明第五實施例中電子裝置50的示意圖，其中電子裝置50之成像鏡頭未經烘烤製程。第5B圖繪示依照第5A圖第五實施例中電子裝置50的另一示意圖，其中電子裝置50之成像鏡頭經烘烤製程。由第5A圖與第5B圖可知，電子裝置50包含一成像鏡頭(圖未標示)與一電子感光元件555。電子感光元件555設置於成像鏡頭的一成像面550。成像鏡頭包含一鏡筒540與一成像光學元件組(圖未標示)。成像光學元件組設置於鏡筒540內，且成像光學元件組的遮光片520的中心開孔526與鏡筒540的一最小中心開孔(圖未標示)對應。藉此，提供成像鏡頭所 需遮蔽非必要反射光的條件，因應成像鏡頭的製程裝配條件以提供一適用的遮光片。

詳細來說，成像光學元件組具有一光軸X，並包含至少一物側透鏡、至少一像側透鏡及至少一遮光片。第五實施例中，遮光片520設置於物側透鏡510與像側透鏡530之間。進一步來說，由物側至像側依序為物側透鏡510、遮光片520及像側透鏡530。成像光學元件組更包含複數透鏡，其中透鏡的數量、結構、面形等光學特徵可依照不同成像需求配置，並非本揭示內容的重點，將不另揭露其細節。

第5C圖繪示第5A圖第五實施例中遮光片520的示意圖。第5D圖繪示第5A圖第五實施例中遮光片520的側視圖。第5E圖繪示第5A圖第五實施例中遮光片520之物側外表面521的示意圖。第5F圖繪示第5A圖第五實施例中遮光片520的部分剖視圖。第5G圖繪示第5A圖第五實施例中遮光片520之像側外表面522的示意圖。第5H圖繪示第5A圖第五實施例中遮光片520的另一部分剖視圖。由第5C圖至第5H圖可知，遮光片520包含一物側外表面521、一像側外表面522、一外徑部523、一內徑部525及一高度補償結構528。

物側外表面521朝向成像光學元件組的一物側，且像側外表面522與物側外表面521相對設置。外徑部523具有一外徑面524連接物側外表面521與像側外表面522。內徑部525定義遮光片520的一中心開孔526，並具有一內徑面527連接物側外表面521與像側外表面522。

高度補償結構528為全環型，並環繞中心開孔526，且用以調整內徑面527與外徑面524之間沿平行光軸X方向上的高度差。藉此，有助於提升高度補償結構528的適用範圍，亦可有效控制內徑部525的翹曲量，減少過度翹曲或過度補正的情況發生。

詳細來說，由第5A圖與第5B圖可知，高度補償結構528與相鄰之一透鏡可有實體接觸，且高度補償結構528相鄰之透鏡可包含一全環型結構面511，用以與高度補償結構528對應並實體接觸。透過透鏡的空間設計，可進一步善用結構上的支撐作用，且提升改善翹曲變形的能力。第五實施例中，高度補償結構528與像側透鏡530有實體接觸，且像側透鏡530包含全環型結構面511與高度補償結構528對應並實體接觸。藉此，增加像側透鏡530與高度補償結構528的支撐穩定度，可更易掌握翹曲的變化趨勢，進而提升補償翹曲的準確度。第五實施例中，經壓疊應力的翹曲量為-42.9μm，經壓疊應力與烘烤後的翹曲量為1.2μm。進一步來說，翹曲量為內徑面527與外徑面524之間沿平行光軸X方向上的高度差△d。

由第5D圖可知，第五實施例中，遮光片520可為一種複合遮光片，遮光片520更包含一第一表面層(圖未標示)、一第二表面層(圖未標示)及一內部基材層(圖未標示)，其中內部基材層位於第一表面層與第二表面層之間，且內部基材層連接第一表面層與第二表面層。進一步來說，內部基材層為一塑膠材質層，而第一表面層與第二表面 層為黑色含碳材質層，其中塑膠材質層可為黑色/透明的PC材質、黑色/透明的PET材質或黑色/透明的PMMA材質。

遮光片520的中心開孔526可為成像光學元件組的一光圈。藉此，提升成像光學元件組的光學品質。

參照第5A圖至第5C圖，第五實施例中，高度補償結構528的最大高度為H，內徑面527與外徑面524之間沿平行光軸X方向上的高度差為△d，遮光片520的厚度為s，而所述參數滿足下列表五條件。

<第六實施例>

第6A圖繪示依照本揭示內容第六實施例中電子裝置60之示意圖，第6B圖繪示依照第6A圖第六實施例中電子裝置60的方塊圖。由第6A圖與第6B圖可知，電子裝置60係一智慧型手機，且包含一成像鏡頭61、一使用者介面63及電子感光元件62。第六實施例的成像鏡頭61設置於使用者介面63側邊的區域，電子感光元件62設置於成像鏡頭61 之成像面(圖未繪示)，其中使用者介面63可為觸控螢幕或顯示螢幕，並不以此為限。成像鏡頭61可為前述第一實施例至第五實施例中的任一者，其包含一鏡筒(圖未繪示)與成像光學元件組(圖未繪示)，其中成像光學元件組設置於鏡筒內，且成像光學元件組的遮光片(圖未繪示)的中心開孔(圖未繪示)與鏡筒的一最小中心開孔(圖未繪示)對應，但本揭示內容不以此為限。

進一步來說，使用者透過電子裝置60的使用者介面63進入拍攝模式。此時成像鏡頭61匯集成像光線在電子感光元件62上，並輸出有關影像的電子訊號至成像訊號處理元件(Image Signal Processor，ISP)64。

因應電子裝置60的相機規格，電子裝置60可更包含一光學防手震組件65，係可為OIS防抖回饋裝置，進一步地，電子裝置60可更包含至少一個輔助光學元件(未另標號)及至少一個感測元件66。第六實施例中，輔助光學元件為閃光燈模組67與對焦輔助模組68，閃光燈模組67可用以補償色溫，對焦輔助模組68可為紅外線測距元件、雷射對焦模組等。感測元件66可具有感測物理動量與作動能量的功能，如加速計、陀螺儀、霍爾元件(Hall Effect Element)，以感知使用者的手部或外在環境施加的晃動及抖動，進而有利於電子裝置60中成像鏡頭61配置的自動對焦功能及光學防手震組件65的發揮，以獲得良好的成像品質，有助於依據本揭示內容的電子裝置60具備多種模式的拍攝功能，如優化自拍、低光源HDR(High Dynamic Range，高動態範圍成像)、高解析4K(4K Resolution)錄影等。此外，使用者可由觸控螢幕直接目視到相機的拍攝畫面，並在觸控螢幕上手動操作取景範圍，以達成所見即所得的自動對焦功能。

此外，電子裝置60可進一步包含但不限於顯示單元(Display)、控制單元(Control Unit)、儲存單元(Storage Unit)、暫儲存單元(RAM)、唯讀儲存單元(ROM)或其組合。

第6C圖繪示依照第6A圖第六實施例中自拍場景之示意圖，第6D圖繪示依照第6A圖第六實施例中拍攝的影像之示意圖。由第6A圖至第6D圖可知，成像鏡頭61與使用者介面63皆朝向使用者，在進行自拍(selfie)或直播(live streaming)時，可同時觀看拍攝影像與進行介面的操作，並於拍攝後可得到如第6D圖之拍攝的影像。藉此，搭配本揭示內容之成像鏡頭61可提供較佳的拍攝體驗。

雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。

10‧‧‧電子裝置

110‧‧‧物側透鏡

111‧‧‧全環型結構面

120‧‧‧遮光片

123‧‧‧外徑部

124‧‧‧外徑面

125‧‧‧內徑部

127‧‧‧內徑面

128‧‧‧高度補償結構

130‧‧‧像側透鏡

140‧‧‧鏡筒

150‧‧‧成像面

155‧‧‧電子感光元件

X‧‧‧光軸

△d‧‧‧內徑面與外徑面之間沿平行光軸方向上的高度差

Claims (12)

1. 一種成像光學元件組，其具有一光軸，並包含：至少一物側透鏡；至少一像側透鏡；以及至少一遮光片，該至少一遮光片設置於該至少一物側透鏡與該至少一像側透鏡之間，並包含：一物側外表面，其朝向該成像光學元件組的一物側；一像側外表面，其與該物側外表面相對設置；一外徑部，其具有一外徑面連接該物側外表面與該像側外表面；一內徑部，其定義該至少一遮光片的一中心開孔，並具有一內徑面連接該物側外表面與該像側外表面；以及一高度補償結構，其為全環型，並環繞該中心開孔，且用以調整該內徑面與該外徑面之間沿平行該光軸方向上的高度差；其中，該高度補償結構的變形對該內徑面與該外徑面之間沿平行該光軸方向上的高度差產生增減； 其中，該高度補償結構的最大高度為H，該內徑面與該外徑面之間沿平行該光軸方向上的高度差為△d，其滿足下列條件：0.0

   

   △d/H<0.85。
2. 如申請專利範圍第1項所述之成像光學元件組，其中該高度補償結構的最大高度為H，該內徑面與該外徑面之間沿平行該光軸方向上的高度差為△d，其滿足下列條件：0.0

   

   △d/H<0.55。
3. 如申請專利範圍第1項所述之成像光學元件組，其中該遮光片的厚度為s，其滿足下列條件：0.0mm<s<0.12mm。
4. 如申請專利範圍第3項所述之成像光學元件組，其中該高度補償結構的最大高度為H，該遮光片的厚度為s，其滿足下列條件：0.7

   

   H/s<5.0。
5. 如申請專利範圍第1項所述之成像光學元件組，其中該高度補償結構的最大高度為H，該內徑面與該外徑面之間沿平行該光軸方向上的高度差為△d，其滿足下列條件：0.0

   

   △d/H<0.35。
6. 如申請專利範圍第2項所述之成像光學元件組，其中該高度補償結構與相鄰之一透鏡有實體接觸。
7. 如申請專利範圍第6項所述之成像光學元件組，其中與該高度補償結構相鄰之該透鏡包含一全環型結構面，用以與該高度補償結構對應並實體接觸。
8. 如申請專利範圍第2項所述之成像光學元件組，其中該內徑面與該外徑面之間沿平行該光軸方向上的高度差為△d，其滿足下列條件：0.0mm

   

   △d<0.02mm。
9. 如申請專利範圍第2項所述之成像光學元件組，其中該高度補償結構由該至少一遮光片的該外徑面至該中心開孔依序包含：一第一側壁，其由該物側外表面與該像側外表面中之一者往遠離另一者的方向延伸；以及一第二側壁，其由該物側外表面與該像側外表面中之該者往靠近另該者的方向延伸。
10. 如申請專利範圍第3項所述之成像光學元件組，其中該至少一遮光片的該中心開孔為該成像光學元件組的一光圈。
11. 一種成像鏡頭，包含：一鏡筒；以及 如申請專利範圍第1項所述的成像光學元件組，其中該成像光學元件組設置於該鏡筒內，且該成像光學元件組的該至少一遮光片的該中心開孔與該鏡筒的一最小中心開孔對應。
12. 一種電子裝置，包含：如申請專利範圍第11項所述的成像鏡頭；以及一電子感光元件，其設置於該成像鏡頭的一成像面。

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