TWI701468B - 偏光板及偏光板的檢查方法 - Google Patents

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日商住友化學股份有限公司
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Abstract

本發明之目的在於提供一種不易產生偏光片之龜裂的薄型之偏光板。進一步,本發明之目的在於提供一種在反覆高溫與低溫之環境下可抑制偏光片產生龜裂等之外觀不良的發生之偏光板。
本發明之偏光板,係積層有:第1黏著劑層、含有纖維素酯系樹脂之第1保護膜、厚度為10μm以下之偏光片、第2黏著劑層、及第2保護膜而成者,其中,前述第2保護膜係在前述第2保護膜中之與前述第2黏著劑層為相反側之面及前述第2保護膜中之前述第2黏著劑層側之面的至少一者具有傷痕,前述傷痕係長度0.001至500μm、寬0.001至500μm、且深度0.001至10μm之傷痕,及深度0.001至10μm、且面積0.001至1.0mm2之傷痕的至少一者。

Description

偏光板及偏光板的檢查方法
本發明係關於可使用於各種之光學用途的偏光板。又,本發明係關於偏光板之檢查方法。
近年,如智慧型手機之行動終端係從設計或攜帶性之面向而急速朝大畫面化、薄型化進展。為了以受限之厚度實現長時間之驅動,對於所使用之偏光板亦期望高亮度化、薄型化。
為解決如此之期望,通常,已提出一種將貼合有偏光片之兩面之透明樹脂所構成之保護膜配置於單側,進一步貼合有增亮膜之偏光板。例如,專利文獻1中係已揭示一種依序積層由透明樹脂所構成之保護膜、在聚乙烯醇膜使碘吸附定向之偏光片、感壓接著劑層、增亮膜而成之薄型且高亮度之偏光板。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2010-039458號公報
然而,偏光片之薄膜化進展之結果,在引用文獻1所記載之偏光板中,若反覆高溫與低溫之環境下使用偏光板時,在偏光片會產生龜裂。
如此之偏光片的龜裂係例如起因於偏光板之製造過程中異物被咬入保護膜之表面、保護膜積層時之異物的咬入、及偏光板之處理等偏光板表面之端部附近產生的傷痕而造成。
隨著近年偏光板之薄型化,偏光片之龜裂係更易發生,故尋求解決對策。
因此,本發明係目的在於提供一種不易產生偏光片之龜裂的薄型偏光板。進一步,本發明之目的在於提供一種即使在反覆高溫與低溫之環境下使用,亦可抑制偏光片產生龜裂、洩光等之外觀不良的發生之偏光板。
本發明係包含下列者。
[1]一種偏光板,係積層有:第1黏著劑層、含有纖維素酯系樹脂之第1保護膜、厚度為10μm以下之偏光片、第2黏著劑層、及第2保護膜者,其中,前述第2保護膜係在前述第2保護膜中之與前述第2黏著劑層為相反側之面及前述第2保護膜中之前述第2黏著劑層側之面的至少一者具有傷痕,前述傷痕係長度0.001至500μm、寬0.001至500μm、且深度0.001至10μm之 傷痕,及深度0.001至10μm、且面積0.001至1.0mm2之傷痕的至少一者。
[2]如[1]項所述之偏光板,其係依序積層有:前述第1黏著劑層、前述第1保護膜、前述偏光片、前述第2黏著劑層、及前述第2保護膜。
[3]如[1]或[2]項所述之偏光板,其中,前述第2保護膜係於前述第2保護膜中之與前述第2黏著劑層為相反側之面具有傷痕。
[4]如[1]至[3]項中任一項所述之偏光板,其中前述第2保護膜係增亮膜。
[5]一種偏光板之檢查方法,該偏光板係積層有:第1黏著劑層、含有纖維素酯系樹脂之第1保護膜、厚度為10μm以下之偏光片、第2黏著劑層、及第2保護膜者,其包含如下步驟:(1)測定前述第2保護膜中之傷痕的最大尺寸之步驟;(2)將前述第2保護膜中之傷痕的最大尺寸係在前述第2保護膜中之與前述第2黏著劑層為相反側之面及前述第2保護膜中之前述第2黏著劑層側之面的至少一者中,為長度0.001至500μm、寬0.001至500μm、且深度0.001至10μm之偏光板,及/或前述第2保護膜中之傷痕之最大尺寸係在前述第2保護膜中之與前述第2黏著劑層為相反側之面及前述第2保護膜中之前述第2黏著劑層側之面的至少一者中,為深度0.001至10μm、且面積0.001至1.0mm2之偏光板,判定為 良品之步驟。
本發明之偏光板係即使在反覆高溫與低溫之環境下,不產生偏光片之洩光、龜裂等,顯示良好之偏光特性。
又,本發明之偏光板係薄型,且強度、耐久性優之偏光板。
11‧‧‧偏光片
12‧‧‧第1保護膜
13‧‧‧第1黏著劑層
22‧‧‧第2保護膜
23‧‧‧第2黏著劑層
100‧‧‧偏光板
第1圖係例示本發明之偏光板中較佳之層構成的概略剖面圖。
以下,使用適宜圖說明本發明之偏光板,但本發明係不受此等之實施形態所限定者。
在本發明中,偏光板係積層有:第1黏著劑層、第1保護膜、厚度為10μm以下之偏光片、第2黏著劑層、及第2保護膜,此等之積層順係無特別限定。在較佳之態樣中,如第1圖所示,本發明之偏光板100係可具有依序積層有:第1黏著劑層13、第1保護膜12、偏光片11、第2黏著劑層23、第2保護膜22之構成。
本發明中之偏光片係厚度為10μm以下,具有將自然光等之光轉換為直線偏光之機能的構件。較佳係偏光片具有8μm以下之厚度。又,本發明中之偏光片通常具有2μm以上之厚度。
本發明中之第2保護膜係在第2保護膜中之與第2黏著劑層為相反側之面及/或第2保護膜中之第2黏著劑層側之面具有傷痕,傷痕係長度0.001至500μm、寬0.001至500μm、且深度0.001至10μm之傷痕,及深度0.001至10μm、且面積0.001至1.0mm2之傷痕的至少一者。
藉由第2保護膜具有如此大小之傷痕,即使在反覆高溫與低溫之環境下,本發明之偏光板係不產生洩光、龜裂等並可顯示良好之偏光特性。其理由係不確定,但第1保護膜藉由含有纖維素酯系樹脂,在反覆高溫與低溫之環境下之第1保護膜的行為及偏光片之行為之差變小,可使施加於偏光片之力減少。再者,咸認為偏光板中之第2保護膜藉由在其表面具有上述範圍之傷痕,在反覆高溫與低溫之環境下施加熱衝擊時,以傷痕為起點而偏光板內部之應力易逃逸之故。另一方面,超過上述範圍之傷痕,其本身可能成為辨視性惡化之原因。
因此,本發明中之「傷痕」只要傷痕之尺寸包含於上述範圍,形狀係無限定。例如,包含線狀之傷痕、多角形狀之傷痕、曲線狀之傷痕、複數之傷痕分歧之傷痕(例如擦傷痕狀)、凹陷(例如圓柱、多角柱、圓錐、多角錐、錐狀(taper))等。
又,本發明中之「傷痕」,只要傷痕之尺寸包含於上述範圍,傷痕之深度、及寬等之尺寸係可變動。例如,具有傷痕之處係具有6μm之深度,傷痕之另一處係亦可具有7μm之深度。
如此之傷痕之尺寸的計測係可使用常用之方法,可舉例如以雷射光進行測量、以顯微鏡進行測量。
本發明之傷痕的尺寸係測定第2保護膜存在之最大傷痕中之尺寸的最大值者。
又,傷痕之面積係意指與第2保護膜之平面平行之面內之面積。
亦即,傷痕之面積係可不考量傷痕之深度,僅測定第2保護膜之平面被觀察之傷痕面積即可。又,傷痕之面積係可使用常用之方法而算出。
傷痕存在之位置係並無特別限定。例如,在膜表面之全區域中,可隨機存在傷痕。較佳係傷痕存在於第2保護膜之表面端部。
較佳係在第2保護膜中之與第2黏著劑層為相反側之面存在傷痕。
此時,傷痕係例如具有長度0.001至500μm、寬0.001至500μm、且深度0.001至10μm之尺寸。
又,傷痕係只要於第2保護膜之表面至少存在1個即可,每1mm2以0.0001至0.001個之密度存在。例如,65mm×130mm大小之偏光板時,可存在約0.8至約8.5個之傷痕。傷痕之數若超過如此之範圍而存在,偏光板之霧度值變高,偏光板之光學特性變得不充分。
又,形成於第2保護膜之深度方向的傷痕之形狀,係可相對於第2保護膜之平面呈垂直方向所形成者,亦可相對於第2保護膜之平面呈斜方向所形成者,亦 可為此等組合之形狀。
傷痕之形成方法係無特別限定,例如,亦可利用藉由於偏光板之製造過程中異物被咬入保護膜之表面,保護膜積層時之異物之咬入,及偏光板之處理等在偏光板表面之端部附近產生之傷痕。又,偏光板之製造時,例如,亦可於第2保護膜之表面端部設置預定之傷痕。此時,使用劃刮式硬度計等,於第2保護膜之表面端部設置傷痕。
本發明中之傷痕之尺寸係只要包含在上述範圍,可為以下記載之尺寸組合之傷痕。
較佳係傷痕之長度為0.001至500μm,更佳為0.001至400μm。又,為經彎折之傷痕時,傷痕之長度係以其傷痕之長度之合計表示。
傷痕之寬度較佳係0.001至500μm,更佳係0.001至400μm。
傷痕之深度係0.001至10μm,更佳係1至10μm。
例如,凹狀之傷痕時,具有0.01至1.0mm2之面積,較佳係具有0.1至0.50mm2之面積,更佳係具有0.1至0.25mm2之面積。
在較佳之實施態樣中,傷痕係具有長度0.001至500μm,寬0.001至500μm、且深度0.001至10μm之尺寸。
在更佳之實施態樣中,傷痕係深度0.001至 10μm,且具有0.001至1.0mm2之面積。
[偏光片]
本發明中之偏光片一般係具有穿透軸及吸收軸。如此之偏光片之穿透軸方向係可理解為於偏光片使自然光穿透時之穿透光之振動方向。另一方面,偏光片之吸收軸係與偏光片之穿透軸正交。又,偏光片一般可為延伸膜,偏光片之吸收軸方向係與其延伸方向一致。
在本發明中,用語「與偏光片之穿透軸方向平行的方向」係表示成為上述之偏光片之穿透軸方向、以及平行或略平行(構成之角度為±7度以內)之方向。
偏光片係可為於經單軸延伸之聚乙烯醇系樹脂層使二色性色素吸著定向而成者。
聚乙烯醇系樹脂係可使用使聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而成者。聚乙酸乙烯酯系樹脂除了乙酸乙烯酯之均聚物的聚乙酸乙烯酯之外,可例示乙酸乙烯酯與可與此共聚合之其他單體之共聚物。可於乙酸乙烯酯共聚合之其他單體係可舉例如不飽和羧酸、烯烴、乙烯基醚、不飽和磺酸、具有銨基之丙烯酸醯胺等。
聚乙烯醇系樹脂之皂化度係可為80莫耳%以上之範圍,但較佳係90莫耳%以上,更佳係95莫耳%以上之範圍。聚乙烯醇系樹脂係可為一部分被改質之改質聚乙烯醇,可舉例如使聚乙烯醇系樹脂以乙烯及丙烯等之烯烴;丙烯酸、甲基丙烯酸及巴豆酸等不飽和羧酸;不飽和 羧酸之烷基酯及丙烯酸醯胺等改質者。聚乙烯醇系樹脂之平均聚合度較佳係100至10000,更佳係1500至8000,更佳係2000至5000。
偏光片係例如可將由聚乙烯醇系樹脂所構成之胚膜進行單軸延伸,以二色性色素染色(染色處理),以硼酸水溶液處理(硼酸處理),水洗(水洗處理),最後使其乾燥而製造。
聚乙烯醇系樹脂膜之單軸延伸係可在以二色性色素進行染色之前實施,亦可與以二色性色素進行染色同時地實施,亦可在以二色性色素進行染色之後實施。使單軸延伸以二色性色素進行染色後之情形,此單軸延伸係可在硼酸處理之前實施,亦可在硼酸處理中實施。又,當然,亦可在此等複數之段階進行單軸延伸。實施單軸延伸係可通過周速相異之輥間而進行延伸,亦能夠以熱輥夾住之方法進行延伸。又,亦可為在大氣中進行延伸之乾式延伸,亦可為藉溶劑經膨潤之狀態進行延伸之濕式延伸。聚乙烯醇系樹脂膜之最終延伸倍率通常為4至8倍左右。
在染色處理係使聚乙烯醇系樹脂膜以二色性色素染色,於膜吸附二色性色素。染色處理係例如只要為使聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於含有二色性色素之水溶液中即可。二色性色素具體上係可使用碘或二色性染料。
使用碘作為二色性色素時通常係可採用在含有碘及碘化鉀之水溶液中,浸漬聚乙烯醇系樹脂膜而染色之方法。此水溶液中之碘之含量係水每100重量份,通 常為0.01至0.5重量份左右,碘化鉀之含量係水每100重量份,通常為0.5至10重量份左右。此水溶液之溫度通常為20至40℃左右,又,於此水溶液之浸漬時間通常為30至300秒左右。
另一方面,使用二色性染料作為二色性色素時,通常係採用於含有水溶性二色性染料之水溶液中浸漬聚乙烯醇系樹脂膜而染色之方法。此水溶液中之二色性染料之含量係水每100重量份,通常為1×10-3至1×10-2重量份左右。此水溶液係可含有硫酸鈉等無機鹽。此水溶液之溫度通常為20至80℃左右,又,於此水溶液之浸漬時間通常為30至300秒左右。
硼酸處理係例如使經染色之聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於硼酸水溶液而進行。硼酸水溶液中之硼酸之含量係水每100重量份,通常為2至15重量份左右、較佳係5至12重量份。使用碘作為二色性色素時,此硼酸水溶液係以含有碘化鉀為較佳。硼酸水溶液中之碘化鉀之含量係水每100重量份,通常為2至20重量份左右,較佳係5至15重量份。膜在硼酸水溶液之浸漬時間通常為100至1200秒左右,較佳係150秒以上,更佳係200秒以上,又再更佳係600秒以下,最佳係400秒以下。硼酸水溶液之溫度通常為50℃以上,較佳係50至85℃。硼酸水溶液係可添加硫酸、鹽酸、乙酸、抗壞血酸等作為pH調整劑。
硼酸處理後之聚乙烯醇系樹脂膜通常係實施水洗處理。
水洗處理係例如使經硼酸處理之聚乙烯醇系樹脂膜浸漬於水而進行。水洗後實施乾燥,可製得偏光片。水洗處理中之水之溫度通常為5至40℃左右,浸漬時間通常為2至120秒左右。其後所實施之乾燥通常係使用熱風乾燥機、遠紅外線加熱器來實施。其乾燥溫度通常為40至100℃,乾燥時間通常為120至600秒左右。
[保護膜]
在較佳之實施態樣中,第1保護膜及偏光片係透過接著劑層而貼合。接著劑層之厚度例如為0.001μm至10μm。接著劑層係可使用在該技術領域中公知者。藉由將第1保護膜與偏光片透過接著劑層而貼合,即使在重複高溫與低溫之環境下,亦可抑制偏光片之洩光、龜裂等。
在較佳之實施態樣中,含有纖維素酯系樹脂之第1保護膜之與偏光片之穿透軸方向平行的方向中,在85℃相對濕度5%之條件下經過1小時後之尺寸變化率作為保護膜之尺寸變化率(85℃),保護膜之與偏光片之穿透軸方向平行的方向中,在30℃相對濕度95%之條件下經過0.5小時後之尺寸變化率,作為保護膜之尺寸變化率(30℃)時,保護膜之尺寸變化率(85℃)與保護膜之尺寸變化率(30℃)之差之絕對值例如為0.00至0.50。
在本發明中,在85℃相對濕度5%之條件下經過1小時後之尺寸變化率係依據以下之式測定。
例如,在本發明中,有時保護膜之與偏光片之穿透軸 方向平行之方向中,在85℃相對濕度5%之條件下經過1小時後之尺寸變化率,記載為保護膜之尺寸變化率(85℃)。
保護膜之尺寸變化率(85℃)=[(L0-L85)/L0]×100[式中,L0係意指與偏光片之穿透軸方向平行之方向(長尺方向或寬方向)中被裁切之膜之膜尺寸,L85係意指在85℃相對濕度5%之條件下經過1小時後之與偏光片之穿透軸方向平行之方向(長尺方向或寬方向)之膜尺寸。]
例如,膜裁切時測定寬方向之尺寸(L0)時,即使在85℃相對濕度5%之條件下靜置1小時後,測定膜之寬方向之尺寸(L85),算出尺寸變化率。又,製造偏光板之後,測定從偏光板除去偏光片等所得之保護膜中之與偏光片之穿透軸方向平行的方向之尺寸(L0)時,在85℃相對濕度5%之條件下靜置1時後,測定與偏光片之穿透軸方向平行之方向之尺寸(L85),算出尺寸變化率。
如此方式所算出之尺寸變化率(85℃)係可表示正之值(亦即收縮)或負之值(亦即膨張)之任一者。尺寸變化率(85℃)為正之值之包含纖維素酯系樹脂之第1保護膜係例如由選自纖維素三乙酸酯及纖維素二乙酸酯之纖維素酯系樹脂等所構成者。
與上述同樣,在本發明中,在30℃相對濕度95%之條件下經過0.5小時後之尺寸變化率之算出係對於測定尺寸變化率(85℃)後之膜,依據以下之式而測定。
例如,在本發明中,有時保護膜之與偏光片之穿透軸方向平行的方向中,在30℃相對濕度95%之條件下經過0.5小時後之尺寸變化率記載為保護膜之尺寸變化率(30℃)。
尺寸變化率(30℃)=[(L030-L30)/L0]×100[式中,L030係意指測定與偏光片之穿透軸方向平行的方向(長尺方向或寬方向)中之尺寸變化率(85℃)後之膜尺寸,L30係意指在30℃相對濕度95%之條件下經過0.5小時後之與偏光片之穿透軸方向平行之方向(長尺方向或寬方向)之膜尺寸。]
例如,測定尺寸變化率(85℃)之後,以溫度23℃、濕度55%放置15分鐘之後,可測定L030
如此方式所算出之尺寸變化率(30℃)係可表示正之值(亦即收縮)或負之值(亦即膨張)之任一者。
本發明中之保護膜係只要尺寸變化率(85℃)與尺寸變化率(30℃)之差之絕對值為本發明之範圍內,尺寸變化率(85℃)之符號及尺寸變化率(30℃)之符號係可皆為相同之符號(正、負或零),可為相異之符號。
在本發明中,較佳之第1保護膜係第1保護膜之尺寸變化率(85℃)及第1保護膜之尺寸變化率(30℃)之差之絕對值為0.00至0.50。更佳係第1保護膜之尺寸變化率(85℃)與第1保護膜之尺寸變化率(30℃)之差之絕對值為0.02至0.30。
本發明之偏光板係第1保護膜於如此之範 圍具有尺寸變化率之差之絕對值,藉此,可進一步控制在高溫條件、多濕條件下於偏光片產生之龜裂、洩光,可具有更優之耐久性。進一步,具有如此特性之具有保護膜之偏光板係可使偏光片薄化,且於保護膜之表面即使產生刮傷時,亦可抑制偏光片之龜裂。
第1保護膜係含有纖維素酯系樹脂。第2保護膜係可為由熱塑化性樹脂所構成之透明樹脂膜。熱塑化性樹脂係可舉例如以聚丙烯系樹脂為例之鏈狀聚烯烴系樹脂及環狀聚烯烴系樹脂等聚烯烴系樹脂;纖維素系樹脂例如纖維素三乙酸酯及纖維素二乙酸酯等纖維素酯系樹脂;聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯及聚對苯二甲酸丁二酯等之聚酯系樹脂;聚碳酸酯系樹脂;選自聚甲基甲基丙烯酸酯樹脂之(甲基)丙烯酸系樹脂;或此等之至少2種以上之混合物等。又,亦可使用構成上述樹脂之至少2種以上之單體之共聚物。
環狀聚烯烴系樹脂通常係以環狀烯烴作為聚合單元所聚合之樹脂之總稱,可舉例如日本特開平1-240517號公報、日本特開平3-14882號公報、日本特開平3-122137號公報等記載之樹脂。若舉出環狀聚烯烴系樹脂之具體例,係環狀烯烴之開環(共)聚合物、環狀烯烴之加成聚合物、乙烯及丙烯等鏈狀烯烴與環狀烯烴之共聚物(代表性係隨機共聚物)、及將此等以不飽和羧酸、其衍生物經改質之接枝聚合物、以及其等之氫化物等。其中,以使用降莰烯、多環降莰烯系單體等之降莰烯系單體作為環 狀烯烴之降莰烯系樹脂為較佳。
環狀聚烯烴系樹脂係以各種製品市售。環狀聚烯烴系樹脂之市售品之例係任一者皆以商品名、TOPAS ADVANCED POLYMERS GmbH所生產、在日本係由Polyplastics股份有限公司所販賣之「TOPAS」(註冊商標)、由JSR股份有限公司所販賣之「Arton」(註冊商標)、由日本ZEON股份有限公司所販賣之「ZEONOR」(註冊商標)及「ZEONEX」(註冊商標)、由三井學股份有限公司所販賣之「Apelle」(註冊商標)等。
又,可使用所製膜之環狀聚烯烴系樹脂膜之市售品作為保護膜。市售品之例係任一者皆以商品名,由J S R股份有限公司所販賣之「Arton膜」(「Arton」係同公司之註冊商標)、由積水化學工業股份有限公司所販賣之「Escena」(註冊商標)及「SCA40」、由日本ZEON股份有限公司所販賣之「ZEONOR膜」(註冊商標)等。
纖維素酯系樹脂通常為纖維素與脂肪酸之酯。纖維素酯系樹脂之具體例係可舉例如纖維素三乙酸酯、纖維素二乙酸酯、纖維素三丙酸酯、纖維素二丙酸酯等。又,亦可使用此等共聚合者、羥基之一部分以其他之取代基經修飾者。此等之中,以纖維素三乙酸酯(三乙醯基纖維素:TAC)為特佳。纖維素三乙酸酯係有許多之製品販售,就取得容易性、成本之點而言為有利。纖維素三乙酸酯之市售品之例係任一者皆以商品名,由富士Film股份有限公司所販賣之「Fijitac(註冊商標)TD80」、「Fujitac(註冊 商標)TD80UF」、「Fujitac(註冊商標)TD80UZ」及「Fujitac(註冊商標)TD40UZ」、Konica Minolta股份有限公司製之TAC膜「KC8UX2M」、「KC2UA」及「KC4UY」等。
聚甲基丙烯酸酯及聚丙烯酸酯(以下,有時彙整聚甲基丙烯酸酯及聚丙烯酸酯稱為(甲基)丙烯酸系樹脂。)係可從市場容易取得。
(甲基)丙烯酸系樹脂係可舉例如甲基丙烯酸烷基酯或丙烯酸烷基酯之均聚物、甲基丙烯酸烷基酯與丙烯酸烷基酯之共聚物等。甲基丙烯酸烷基酯具體而言係可舉例如甲基甲基丙烯酸酯、乙基甲基丙烯酸酯、丙基甲基丙烯酸酯等,又,丙烯酸烷基酯具體而言係可舉例如甲基丙烯酸酯、乙基丙烯酸酯、丙基丙烯酸酯等。如此之(甲基)丙烯酸系樹脂係就汎用之(甲基)丙烯酸系樹脂而言可使用市售者。(甲基)丙烯酸系樹脂係可使用所謂耐衝擊(甲基)丙烯酸樹脂者。
(甲基)丙烯酸系樹脂通常係以甲基丙烯酸酯作為主體之聚合物。甲基丙烯酸系樹脂係可為1種類之甲基丙烯酸酯之均聚物,亦可為甲基丙烯酸酯與其他之甲基丙烯酸酯、丙烯酸酯等之共聚物。甲基丙烯酸酯係可舉例如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯等甲基丙烯酸烷酯,其烷基之碳數通常為1至4左右。又,亦可使用甲基丙烯酸環戊酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸等甲基丙烯酸環烷酯、甲基丙烯酸苯酯等甲基丙烯酸芳酯、甲基丙烯酸環己基甲酯等甲基丙烯酸環烷基烷酯、 甲基丙烯酸苯甲酯等甲基丙烯酸芳烷酯。
可構成(甲基)丙烯酸系樹脂之上述其他之聚合性單體係可舉例如丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯及丙烯酸酯以外之聚合性單體。丙烯酸酯係可使用丙烯酸烷基酯,其具體例係包含:丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸異丙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸異丁酯、丙烯酸第三丁酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸2-羥基乙酯等烷基之碳數為1至8之丙烯酸烷基酯。烷基之碳數較佳係1至4。(甲基)丙烯酸系樹脂中,丙烯酸酯係可僅單獨使用1種,亦可併用2種以上。
甲基丙烯酸酯及丙烯酸酯以外之聚合性單體係可舉例如於分子內具有1個之聚合性之碳-碳雙鍵之單官能單體、於分子內具有至少2個之聚合性之碳-碳雙鍵的多官能單體,但以使用單官能單體為較佳。單官能單體之具體例係包含:苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、鹵化苯乙烯、羥基苯乙烯等苯乙烯系單體;丙烯腈、甲基丙烯腈等氰化乙烯;丙烯酸、甲基丙烯酸、馬來酸酐、依康酸酐等不飽和酸;N-甲基馬來醯亞胺、N-環己基馬來醯亞胺、N-苯基馬來醯亞胺等之馬來醯亞胺;甲基丙烯醇、烯丙基醇等烯丙基醇;乙酸乙烯酯、氯化乙烯、乙烯、丙烯、4-甲基-1-戊烯、2-羥基甲基-1-丁烯、甲基乙烯酮、N-乙烯基吡咯啶酮、N-乙烯基咔唑等之其他單體。
又,多官能單體之具體例係包含:乙二醇二甲基丙烯酸酯、丁二醇二甲基丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三 丙烯酸酯等多元醇之聚不飽和羧酸酯;丙烯酸烯丙酯、甲基丙烯酸烯丙酯、桂皮酸烯丙酯等不飽和羧酸之烯酯;酞酸二烯丙酯、馬來酸二烯丙酯、三烯丙基氰酸酯、三烯丙基三聚氰酸酯等多鹼酸之聚烯酯、二乙烯基苯等芳香族聚烯化合物。甲基丙烯酸酯及丙烯酸酯以外之聚合性單體係可僅單獨使用1種,亦可併用2種以上。
(甲基)丙烯酸系樹脂之較佳之單體組成係以全單體量為基準,甲基丙烯酸烷基酯為50至100重量%,丙烯酸烷基酯為0至50重量%,此等以外之聚合性單體為0至50重量%,更佳係甲基丙烯酸烷基酯50至99.9重量%,丙烯酸烷基酯為0.1至50重量%,此等以外之聚合性單體為0至49.9重量%。
又,(甲基)丙烯酸系樹脂係從提高膜之耐久性而言,可於高分子主鏈具有環構造。環構造較佳係環狀酸酐構造、環狀醯亞胺構造、內酯環構造等雜環構造。具體而言係可舉例如戊二酸酐構造、琥珀酸酐構造等環狀酸酐構造、戊二醯亞胺構造、琥珀醯亞胺構造等環狀醯亞胺構造、丁內酯、戊內酯等內酯環構造。主鏈中之環構造之含有量愈增大,愈可提高(甲基)丙烯酸系樹脂之玻璃轉移溫度。環狀酸酐構造、環狀醯亞胺構造係可藉由使馬來酸酐、馬來醯亞胺等具有環狀構造之單體進行共聚合而導入之方法、聚合後藉由脫水/脫甲醇縮合反應導入環狀酸酐構造之方法、使胺基化合物反應而導入環狀醯亞胺構造之方法等而導入。具有內酯環構造之樹脂(聚合物)係調製於高 分子鏈具有羥基及酯基之聚合物後,使所得之聚合物中之羥基與酯基藉由加熱而依需要在如有機磷化合物之觸媒存在下環化縮合而形成內酯環構造之方法來製得。
於高分子鏈具有羥基及酯基之聚合物係可使用例如2-(羥基甲基)丙烯酸甲酯、2-(羥基甲基)丙烯酸乙酯、2-(羥基甲基)丙烯酸異丙酯、2-(羥基甲基)丙烯酸正丁酯、2-(羥基甲基)丙烯酸第三丁酯等具有羥基及酯基之(甲基)丙烯酸酯作為單體之一部分而製得。具有內酯環構造之聚合物之更具體的調製方法係已記載於例如特開2007-254726號公報中。
藉由使含有上述之單體的單體組成物自由基聚合,可調製(甲基)丙烯酸系樹脂。單體組成物係可依需要而含有溶劑、聚合開始劑。
(甲基)丙烯酸系樹脂係可含有上述之(甲基)丙烯酸系樹脂以外之其他樹脂。該其他樹脂之含有率較佳係0至70重量%,更佳係0至50重量%,再更佳係0至30重量%。該樹脂係可為例如聚乙烯、聚丙烯、乙烯-丙烯共聚合物、聚(4-甲基-1-戊烯)等烯烴系聚合物;氯乙烯、氯乙烯樹脂等之含鹵素系聚合物;聚苯乙烯、苯乙烯-甲基丙烯酸甲基共聚物、苯乙烯-丙烯腈共聚物等之苯乙烯系聚合物;聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯等之聚酯;芳香族二醇與芳香族二羧酸所構成之聚烯丙酸酯;聚乳酸、聚琥珀酸丁二酯等生物分解性聚酯;聚碳酸酯;耐倫6、耐倫66、耐倫610等聚醯胺;聚 縮醛;聚苯氧醚;聚苯硫醚;聚醚醚酮;聚醚腈;聚碸;聚醚碸;聚苯氧;聚醯胺醯亞胺等。
(甲基)丙烯酸系樹脂係從提升膜之耐衝擊性或製膜性之觀點而言,亦可含有橡膠粒子。橡膠粒子係可為僅由顯示橡膠彈性之層所構成之粒子,亦可為顯示橡膠彈性之層以及具有其他之層的多層構造之粒子。橡膠彈性體係可舉例如烯烴系彈性聚合物、二烯系彈性聚合物、苯乙烯-二烯系彈性共聚合物、丙烯酸系彈性聚合物等。其中,從耐光性及透明性之觀點而言,使用丙烯酸系彈性聚合物為較佳。
丙烯酸系彈性聚合物係可為以丙烯酸烷基酯為主體,亦即以全單體量為基準而含有源自丙烯酸烷基酯之構成單元50重量%以上之聚合物。丙烯酸系彈性聚合物係可為丙烯酸烷基酯之均聚物,亦可為以源自丙烯酸烷基酯之構成單元50重量%以上、及源自其他之聚合性單體之構成單元50重量%以下之共聚物。
構成丙烯酸系彈性聚合物之丙烯酸烷基通常係可使用其烷基之碳數為4至8者。若舉出上述其他之聚合性單體之例,例如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯等甲基丙烯酸烷酯;苯乙烯、烷基苯乙烯等苯乙烯系單體;丙烯腈、甲基丙烯腈等不飽和腈等單官能單體、進一步係(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸甲基烯丙酯等不飽和羧酸之烯酯;馬來酸二烯丙酯等二質子酸之二烯酯;烷二醇二(甲基)丙烯酸酯等之甘醇的不飽和羧酸二酯等多官能單 體。
含有丙烯酸系彈性聚合物之橡膠粒子較佳係具有丙烯酸系彈性聚合物之層的多層構造之粒子。具體而言係可舉例如在丙烯酸系彈性聚合物之層之外側具有以甲基丙烯酸烷酯為主體之硬質之聚合物層的2層構造者、或進一步於丙烯酸系彈性聚合物之層之內側具有以甲基丙烯酸烷酯為主體之硬質之聚合物層的3層構造者。
構成形成於丙烯酸系彈性聚合物之層之外側或內側的硬質聚合物層之以甲基丙烯酸烷酯為主體之聚合物中的單體組成之例,係與舉出(甲基)丙烯酸系樹脂之例的以甲基丙烯酸烷酯為主體之聚合物的單體組成之例相同,特別以使用以甲基丙烯酸甲酯作為主體之單體組成為較佳。
如此之多層構造之丙烯酸系橡膠彈性體粒子係可依例如日本特公昭55-27576號公報記載之方法而製造。
橡膠粒子係從(甲基)丙烯酸系樹脂之製膜性、膜之耐衝擊性、膜表面之平滑性之觀點而言,其中所含之橡膠彈性體層(丙烯酸系彈性聚合物之層)之平均粒徑較佳為10至350nm之範圍。該平均粒徑較佳係30nm以上,更佳係50nm以上,又更佳係300nm以下,最佳係280nm以下。
至橡膠粒子中之橡膠彈性體層(丙烯酸系彈性聚合物之層)之平均粒徑係可如下列之方式測定。亦即,若將如此之橡膠粒子混合於(甲基)丙烯酸系樹脂而進行膜 化,並將其剖面以氧化釕之水溶液染色,僅橡膠彈性體層著色而觀察呈約圓形狀,母層之(甲基)丙烯酸系樹脂係未被染色。因此,從如此方式而被染色之膜剖面,使用切片機等調製薄片,再以電子顯微鏡觀察。繼而,萃取任意100個被染色之橡膠粒子,算出各別粒徑(至橡膠彈性體層之直徑)之後,以其數平均值作為上述平均粒徑。以如此之方法進行測定,故所得之上述平均粒徑係數平均粒徑。
最外層為以甲基丙烯酸甲酯作為主體之硬質聚合物,其中包入橡膠彈性體層(丙烯酸系彈性聚合物之層)之橡膠粒子之時,將其混入母體之(甲基)丙烯酸系樹脂,橡膠粒子之最外層會與母體之(甲基)丙烯酸系樹脂混合。因此,將其剖面以氧化釕染色,以電子顯微鏡觀察時,橡膠粒子係被觀察為除去最外層之狀態的粒子。具體而言,內層為丙烯酸系彈性聚合物,外層為以甲基丙烯酸甲酯作為主體之硬質聚合物之2層構造橡膠粒子時,內層之丙烯酸系彈性聚合物部分會被染色而觀察為單層構造之粒子。又,最內層為以甲基丙烯酸甲酯作為主體之硬質聚合物,中間層為丙烯酸系彈性聚合物,最外層為以甲基丙烯酸甲酯作為主體之硬質聚合物之3層構造橡膠粒子時,最內層之粒子中心部分未被染色,而觀察為僅中間層之丙烯酸系彈性聚合物部分被染色之2層構造粒子。
(甲基)丙烯酸系樹脂之製膜性、膜之耐衝擊性、膜表面之平滑性之觀點,橡膠粒子係以與構成(甲基)丙烯酸系樹脂膜之(甲基)丙烯酸系樹脂之合計量作為基 準,以3重量%以上、60重量%以下之比例調配為較佳,更佳係45重量%以下,再更佳係35重量%以下。橡膠彈性體粒子多於60重量%時,膜之尺寸變化變大,耐熱性降低。另一方面,橡膠彈性體粒子少於3重量%時,膜之耐熱性為良好,但有時膜製膜時之捲取性差,生產性降低。又,在本發明中,就橡膠彈性體粒子而言,使用顯示橡膠彈性之層以及具有其他之層的多層構造之粒子時,係使由顯示橡膠彈性之層與其內側之層所構成之部分的重量作為橡膠彈性體粒子之重量。例如,使用上述之3層構造之丙烯酸系橡膠彈性體粒子時,係使中間層之丙烯酸系橡膠彈性聚合物部分及以最內層之甲基丙烯酸甲酯作為主體之硬質聚合物部分之合計重量作為橡膠彈性體粒子之重量。若將上述之3層構造之丙烯酸系橡膠彈性體粒子溶解於丙酮時,中間層之丙烯酸系橡膠彈性聚合物部分及以最內層之甲基丙烯酸甲酯為主體之硬質聚合物部分係殘存為不溶分,故3層構造之丙烯酸系橡膠彈性體粒子佔有之中間層及最內層之合計之重量比例係可容易求得。
(甲基)丙烯酸系樹脂膜含有橡膠粒子時,於該膜之製作所使用之含有橡膠粒子之(甲基)丙烯酸系樹脂組成物係可藉由熔融混練等混合(甲基)丙烯酸系樹脂與橡膠粒子而得之外,亦可首先製作橡膠粒子,在其存在下使成為(甲基)丙烯酸系樹脂之原料的單體組成物聚合之方法而獲得。
於保護膜亦可含有通常之添加劑,例如紫 外線吸收劑、有機系染料、顏料、無機系色素、抗氧化劑、抗靜電劑、界面活性劑等。其中,紫外線吸收劑係在提高耐候性上為較宜使用。紫外線吸收劑之例係可舉例如2,2’-亞甲基雙[4-(1,1,3,3-四甲基丁基)-6-(2H-苯并***-2-基)酚]、2-(5-甲基-2-羥基苯基)-2H-苯并***、2-[2-羥基-3,5-雙(α,α-二甲基苯甲基)苯基]-2H-苯并***、2-(3,5-二-第三丁基-2-羥基苯基)-2H-苯并***、2-(3-第三丁基-5-甲基-2-羥基苯基)-5-氯-2H-苯并***、2-(3,5-二-第三丁基-2-羥基苯基)-5-氯-2H-苯并***、2-(3,5-二-第三戊基-2-羥基苯基)-2H-苯并***、2-(2’-羥基-5’-第三辛基苯基)-2H-苯并***等苯并***系紫外線吸收劑;2-羥基-4-甲氧基二苯甲酮、2-羥基-4-辛基氧二苯甲酮、2,4-二羥基二苯甲酮、2-羥基-4-甲氧基-4’-氯二苯甲酮、2,2’-二羥基-4-甲氧基二苯甲酮、2,2’-二羥基-4,4’-二甲氧基二苯甲酮等2-羥基二苯甲酮系紫外線吸收劑;p-第三丁基苯基水楊酸酯、p-辛基苯基水楊酸酯等水楊酸苯酯系紫外線吸收劑;2,4-二苯基-6-(2-羥基-4-甲氧基苯基)-1,3,5-三
Figure 105136860-A0202-12-0024-3
、2,4-二苯基-6-(2-羥基-4-乙氧基苯基)-1,3,5-三
Figure 105136860-A0202-12-0024-5
、2,4-二苯基-(2-羥基-4-丙氧基苯基)-1,3,5-三
Figure 105136860-A0202-12-0024-6
、2,4-二苯基-(2-羥基-4-丁氧基苯基)-1,3,5-三
Figure 105136860-A0202-12-0024-7
、2,4-二苯基-6-(2-羥基-4-丁氧基苯基)-1,3,5-三
Figure 105136860-A0202-12-0024-8
、2,4-二苯基-6-(2-羥基-4-己基氧苯基)-1,3,5-三
Figure 105136860-A0202-12-0024-9
、2,4-二苯基-6-(2-羥基-4-辛基氧苯基)-1,3,5-三
Figure 105136860-A0202-12-0024-10
、2,4-二苯基-6-(2-羥基-4-十二碳基氧苯基)-1,3,5-三
Figure 105136860-A0202-12-0024-11
、2,4-二苯基-6-(2-羥基-4-苯甲基氧苯基)-1,3,5-三
Figure 105136860-A0202-12-0024-12
、2-(2-羥基-4-[1- 辛基氧羰基乙氧基]苯基)-4,6-雙(4-苯基苯基)-1,3,5-三
Figure 105136860-A0202-12-0025-13
、4-雙[2-羥基-4-丁氧基苯基]-6-(2,4-二丁氧基苯基)-1,3,5-三
Figure 105136860-A0202-12-0025-14
、2-[4-[(2-羥基-3-(2’-乙基)己基氧]-2-羥基苯基]-4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三
Figure 105136860-A0202-12-0025-15
、2-(4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三
Figure 105136860-A0202-12-0025-16
-2-基)-5-羥基苯基、2-[4,6-雙(2,4-二甲基苯基)-1,3,5-三
Figure 105136860-A0202-12-0025-17
-2-基]-5-(辛基氧)酚、2-[2,6-二(2,4-二甲苯基)-1,3,5-三
Figure 105136860-A0202-12-0025-18
-2-基]-5-辛基氧酚、2-(4,6-二苯基-1,3,5-三
Figure 105136860-A0202-12-0025-19
-2-基)-5-[2-(2-乙基己醯基)乙氧基]酚、2,4,6-參(2-羥基-4-己基氧-3-甲氧基苯基)-1,3,5三
Figure 105136860-A0202-12-0025-20
等三
Figure 105136860-A0202-12-0025-21
系紫外線吸收劑等,亦可依需要而使用其等之2種以上。
紫外線吸收劑係亦可使用市售品,例如有三
Figure 105136860-A0202-12-0025-22
系紫外線吸收劑、Chemipro化成股份有限公司製之「Kemisorb 102」(註冊商標)、ADEKA股份有限公司製之「Adekastab(註冊商標)LA46」、「Adekastab(註冊商標)LAF70」、BASF公司製之「TINUVIN(註冊商標)460」、「TINUVIN(註冊商標)405」、「TINUVIN(註冊商標)400」及「TINUVIN(註冊商標)477」、Sun-chemical股份有限公司製之「CYASORB(註冊商標)UV-1164」(以上,任一者皆為商品名)等。苯并***系紫外線吸收劑係可舉例如ADEKA股份有限公司製之「Adekastab LA31」及「Adekastab LA36」、住化Chemtex股份有限公司製之「Sumisorb(註冊商標)200」、「Sumisorb(註冊商標)250」、「Sumisorb(註冊商標)300」、「Sumisorb(註冊商標)340」及「Sumisorb(註冊商標)350」、Chemipro化成股份有限公司製之「Kemisorb 74」(註 冊商標)、「Kemisorb 79」(註冊商標)及「Kemisorb 279」(註冊商標)、BASF公司製之「TINUVIN(註冊商標)99-2」、「TINUVIN(註冊商標)900」及「TINUVIN(註冊商標)928」(以上,任一者皆為商品名)等。於(甲基)丙烯酸系樹脂膜含有紫外線吸收劑時,其量係相對於(甲基)丙烯酸系樹脂100重量%,通常為0.1重量%以上,較佳係0.3重量%以上,又更佳係3重量%以下。
(甲基)丙烯酸系樹脂膜之製作係可採用以往公知之製膜方法。(甲基)丙烯酸系樹脂膜係亦可具有多層構造,多層構造之(甲基)丙烯酸系樹脂膜係可使用供料塊之方法、使用多歧管模頭之方法等可使用一般所知之各種方法。其中,例如透過供料塊而積層,從T模頭進行多層溶融押出成形,使所得之積層膜狀物之至少單面接觸輥或輸送帶而製膜之方法,就可獲得表面性狀之良好的膜之點,為較佳。特別,從提升(甲基)丙烯酸系樹脂膜之表面平滑性及表面光澤性之觀點而言,較佳係將上述多層溶融押出成形所得之積層膜狀物之兩面接觸輥表面或輸送帶表面而進行膜化之方法。在此時使用之輥或輸送帶中,與(甲基)丙烯酸系樹脂接觸之輥表面或輸送帶表面,為了對(甲基)丙烯酸系樹脂膜表面賦予平滑性,以其表面成為鏡面者為較佳。
(甲基)丙烯酸系樹脂膜係亦可為對如以上方式所製作之膜而實施延伸處理者。為了獲得具有所希望之光學特性或機械特性之膜,必須延伸處理。延伸處理係 可舉例如單軸延伸或二軸延伸等。延伸方向係可舉例如未延伸膜之機械流動方向(MD)、與此正交之方向(TD)、朝機械流動方向(MD)斜交之方向等。二軸延伸係可為朝2個延伸方向同時進行延伸之同時二軸延伸,亦可為朝特定方向延伸之後朝其他方向進行延伸之逐次二軸延伸。
第2保護膜係只要為包含於本發明之範圍,亦可為一併具有相位差膜及增亮膜等光學機能之保護膜。例如,將由上述材料所構成之透明樹脂膜進行延伸(單軸延伸或二軸延伸等),於該膜上形成液晶層等,藉此可形成為賦予任意之相位差值的相位差膜。
第1保護膜及第2保護膜係可於與偏光片為相反側之表面形成硬塗層、防眩層、抗反射層、抗靜電層及防污層等表面處理層(塗佈層)。於保護膜表面形成表面處理層之方法係可使用公知之方法。
第1保護膜及第2保護膜係可為互相相同之保護膜,亦可為相異之保護膜。保護膜相異之時之例係有:構成保護膜之熱塑性樹脂之種類至少相異之組合;在保護膜之光學機能之有無或其種類中至少相異之組合;形成於表面之表面處理層之有無或於其種類中至少相異之組合等。
第1保護膜及第2保護膜之厚度係從偏光板之薄膜化之觀點而言,以薄者為較佳,若太薄,則強度會降低而加工性差。因此,第1保護膜及第2保護膜之厚度係以5至90μm以下為較佳,更佳係60μm以下,再更佳 係50μm以下,特佳係30μm以下。
(黏著劑)
形成第1黏著劑層及第2黏著劑層之黏著劑係只要適宜選擇以往公知者即可,偏光板在更高溫環境、濕熱環境或高溫與低溫反覆之環境下,只要具有不產生剝離等程度之接著性者即可。具體而言,可舉例如丙烯酸系黏著劑、聚矽氧系黏著劑、橡膠系黏著劑等,就透明性、耐候性、耐熱性、加工性之點而言,以丙烯酸系黏著劑為特佳。
又,第1黏著劑層及第2黏著劑層係可使用同種之黏著劑,亦可使用相異種類之黏著劑。
於黏著劑係依需要而可事宜調配增黏劑、塑化劑、玻璃纖維、玻璃珠、金屬粉、其他之無機粉末等所構成之填充劑、顏料、著色劑、填充劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、抗靜電劑、矽烷偶合劑等各種之添加劑。
通常係將黏著劑之溶液於離型片上塗布黏著劑,乾燥以形成黏著劑層。在離型片上之塗布係可採用例如逆式塗佈、凹版塗佈等輥塗佈法、旋轉塗佈法、網版塗佈法、噴泉式塗佈法、浸漬法、噴塗法等。設有黏著劑層之離型片係可藉轉印此之方法等來利用。黏著劑層之厚度通常係3至100μm左右,較佳係5至50μm。
較佳係黏著劑層之23℃中之儲藏彈性率為0.01MPa至1MPa。黏著劑層之儲藏彈性率為未達0.01MPa時,無法抑制高溫試驗時之偏光板之收縮,而有容易產生 剝離等外觀不良之傾向。又,黏著劑層之儲藏彈性率大於1MPa時,冷熱衝擊試驗時黏著劑無法緩和玻璃與偏光板間產生之變形,有在偏光板容易產生龜裂之傾向。
在較佳之實施態樣中,黏著劑層在80℃中之儲藏彈性率係0.01MPa至1MPa。
[偏光板之檢查方法]
本發明係進一步提供偏光板之檢查方法。本發明之檢查方法,係將第1黏著劑層、含有纖維素酯系樹脂之第1保護膜、厚度為10μm以下之偏光片、第2黏著劑層、及第2保護膜積層,其中,包含:(1)測定第2保護膜中傷痕之最大尺寸之步驟;(2)前述第2保護膜中傷痕之最大尺寸,在前述第2保護膜中與前述第2黏著劑層為相反側之面及前述第2保護膜中之前述第2黏著劑層側之面的至少一者中,為長度0.001至500μm、寬0.001至500μm、且深度0.001至10μm,及/或前述第2保護膜中傷痕之最大尺寸在前述第2保護膜中之與前述第2黏著劑層為相反側之面及前述第2保護膜中之前述第2黏著劑層側之面之至少一者中,為深度0.001至10μm、且面積0.001至1.0mm2之偏光板,判斷為良品之步驟。
本發明之檢查方法係在(1)步驟中,測定傷 痕之最大尺寸。
在(1)步驟中,可具有傷痕之偏光板中之最大尺寸之測定係使用常用之方法來實施,例如藉電子顯微鏡、雷射顯微鏡實施。
繼而,在(2)步驟中,包含:對於在前述(1)步驟測定最大尺寸之偏光板,第2保護膜中傷痕之最大尺寸在第2保護膜中之與第2黏著劑層為相反側之面及第2保護膜中之第2黏著劑層側之面之至少一者中,為長度0.001至500μm、寬0.001至500μm、且深度0.001至10μm,及/或
第2保護膜中之傷痕之最大尺寸在第2保護膜中之與第2黏著劑層為相反側之面及第2保護膜中之第2黏著劑層側之面之至少一者中,為深度0.001至10μm、且面積0.001至1.0mm2之偏光板,判定為良品之步驟。
在此,第2保護膜中之傷痕之最大尺寸包含於上述範圍時,如此之偏光板係判定為良品。在本發明之檢查方法中,被判定為良品之偏光板係可不被廢棄而使用。又,傷痕之尺寸等係可具有上述之較佳範圍。
在前述步驟(2)中選擇為良品之偏光板係可使用於各種光學用途。在步驟(2)中選擇為良品之偏光板係可以原來之狀態使用,亦可依需要而實施進一步加工。
經過如此之檢查步驟所得之偏光板係即使在重複高溫及低溫之環境下,亦可不產生洩光、龜裂等而顯示良好之偏光特性。又,可助於偏光板之薄型化。
若依據本發明之偏光板之檢查方法,例如,亦可對於貼合面板後之偏光板檢查。進行貼合面板後之偏光板之檢查時,例如貼合面板時,貼合面板後,及背光單元貼合時產生之傷痕及凹陷等係只要具有特定大小,可包含於本發明中之傷痕。
本發明係進一步可獲得透過黏著劑層而將本發明之偏光板貼合於液晶單元而成之液晶面板。又,可藉由透過黏著劑層將偏光板貼合於有機電致發光顯示器,獲得有機電致發光顯示装置。
[實施例]
以下,顯示實施例而更具體說明本發明,但本發明係不受此等之例限定者。例中,表示含有量或使用量之%及份係只要無特別記載,為重量基準。
[偏光片之製造]
將厚度20μm之聚乙烯醇膜(平均聚合度約2,400、皂化度99.9莫耳%以上)藉乾式延伸進行單軸延伸至約5倍,進一步直接保持緊張狀態,於60℃之純水中浸漬1分鐘之後,在碘/碘化鉀/水之重量比為0.05/5/100之水溶液中28℃下浸漬60秒鐘。其後,在碘化鉀/硼酸/水之重量比為8.5/8.5/100之水溶液中在72℃下浸漬300秒鐘。繼而,以26℃之純水洗淨20秒鐘之後,以65℃乾燥,製得於聚乙烯醇膜吸著定向碘之厚度7μm之偏光片。
[第1黏著劑層]
使用經施予離型處理之厚度為38μm之聚對苯二甲酸乙二酯膜(剝離膜)之離型處理面積層厚度20μm之丙烯酸系黏著劑層之市售黏著劑片。於丙烯酸系黏著劑中未調配胺基甲酸酯丙烯酸酯寡聚物。從黏著劑片除去剝離膜之黏著劑層的儲藏彈性率係在23℃下為0.05MPa,在80℃下為0.04MPa。
[第2黏著劑層]
將於丙烯酸丁酯及丙烯酸之共聚物中添加胺基甲酸酯丙烯酸酯寡聚物及異氰酸酯系架橋劑之有機溶劑溶液,在經施予離型處理之厚度38μm之聚對苯二甲酸乙二酯膜(剝離膜)之離型處理面,藉模縫塗布器塗佈成乾燥後之厚度為5μm,使其乾燥,獲得積層有黏著劑層之黏著劑片。從黏著劑片除去剝離膜之黏著劑層的儲藏彈性率係在23℃下為0.40MPa,在80℃下為0.18MPa。
[第3黏著劑層]
將於丙烯酸丁酯及丙烯酸之共聚物中添加胺基甲酸酯丙烯酸酯寡聚物及異氰酸酯系架橋劑之有機溶劑溶液,在經施予離型處理之厚度38μm之聚對苯二甲酸乙二酯膜(剝離膜)之離型處理面,藉模縫塗布器塗佈成乾燥後之厚度為5μm,使其乾燥,獲得黏著劑片。從黏著劑片除去剝離膜之黏著劑層的儲藏彈性率係在23℃下為0.40MPa,在 80℃下為0.18MPa。
[第1保護膜-1]
Konical Minolta股份有限公司製之三乙醯基纖維素膜(厚度20μm、在波長590nm之面內相位差值=1.2nm、在波長590nm之厚度方向相位差值=1.3nm)
[第1保護膜-2]
使用厚度為13μm之環烯烴樹脂膜(日本ZEON股份有限公司製)。
波長590nm之面內相位差值(Re(590))=0.8nm、在波長590nm之厚度方向之相位差值(Rth(590))=3.4nm、在波長483nm之厚度方向之相位差值(Rth(483))=3.5nm、在波長755nm之厚度方向之相位差值(Rth(755))=2.8nm。
[第2保護膜]
使用厚度為26μm之增亮膜(3M製,商品名Advanced Polarized Film,Version 3)。
[水系接著劑之調製]
相對於水100份,溶解羧基改質聚乙烯醇(Kuraray股份有限公司製之KL-318)3份,於其水溶液中,添加水溶性環氧化合物之聚醯胺環氧系添加劑(住化Chemtex股份有限公司製之Sumirez resin(註冊商標)650(30)、固形分濃度 30%之水溶液]1.5份,作為水系接著劑。
[偏光板前驅體A之製作]
於上述偏光片之單面透過水系接著劑積層第1保護膜-1。積層後,在80℃下乾燥5分鐘,藉此貼合第1保護膜與偏光片。偏光片中之與第1保護膜之貼合面為相反側之面,貼合積層於剝離膜上之第2黏著劑層。在第1保護膜中之與偏光片之貼合面為相反側之面,貼合積層於剝離膜上之第1黏著劑層。
又,以偏光片之穿透軸方向與保護膜之寬方向成為平行之方式貼合。
如此方式而製作依序積層第1黏著劑層、保護膜、偏光片及第2黏著劑層而成之偏光板前驅體A-1。
同樣方式,使用第1保護膜-2所作成之偏光板前驅體設為偏光板前驅體A-2。對於其他保護膜,亦同樣方式,製作偏光板前驅體。
[偏光板A之製作]
剝離上述偏光板前驅體中之第2黏著劑層上之剝離膜。將偏光板前驅體A中之第2黏著劑層與增亮膜貼合,獲得依序積層有第1黏著劑層、第1保護膜、偏光片、第2黏著劑層、增亮膜(第2保護膜)、之偏光板A。例如,使用第1保護膜-1(偏光板前驅體A-1)所作成之偏光板設為偏光板A1。同樣地,使用第1保護膜-2(偏光板前驅體A-2) 所作成之具有如此構造之偏光板設為偏光板A2。
將所製作之偏光板裁切成100mm×60mm。剝離第一黏著劑層上之剝離膜,透過第一黏著劑層而於無鹼玻璃(Corning公司製、EAGLE XG(註冊商標))貼合偏光板。從對此玻璃貼合之偏光板的端部距離1.0mm之處藉刮劃式硬度計(德國Erichsen公司製、型式318球直徑0.75mm)將5N之荷重施加於偏光板之表面,賦予押傷痕。亦即,於前述第2保護膜中與前述第2黏著劑層為相反側之面賦予押傷痕。押傷痕之深度係2至5μm以下,直徑為0.3mm(傷痕之面積係約0.071mm2)。
又,亦分別製作從對玻璃貼合之另一偏光板之端部距離1.0mm之處藉由刮劃式硬度計將10N、及20N之荷重施加於偏光板之表面的試料。施加10N之荷重所製作之押傷痕的深度係5至8μm,直徑為0.4mm之(傷痕之面積係約0.13mm2)。施加20N之荷重所製作之押傷痕的深度係11至15μm,直徑為0.6mm(傷痕之面積係約0.28mm2)。
對於施加5N、10N或20N之荷重並於表面具有押傷痕之偏光板,實施溫度85℃及-40℃(以各30分鐘為1循環)之冷熱衝擊環境試驗(250循環)。
[冷熱衝擊環境試驗]
冷熱衝擊環境試驗係以將偏光板貼合於玻璃板之狀態,使用冷熱衝擊試驗裝置[由Espec股份有限公司所販賣之製品名「TSA-71L-A-3」],以高溫條件(85℃)保持時間 30分鐘、及低溫條件(-40℃)保持時間30分鐘作為1循環而進行。又,以溫度移動時間為1分鐘,在溫度移動時之溫度移動時間0分鐘,不導入外氣,設定在光學構件不產生結露之條件。使此循環重複250循環而實施試驗。判定係以如下之方式。結果表示於表1中。
[判定]
進行冷熱衝擊環境試驗(循環數:250次)之後,以目視確認洩光之有無。試驗前,無變化,試驗後在交叉尼科耳棱鏡(cross Nicol prism)下不產生洩光者為「○」,試驗後在交叉尼柯耳棱鏡下產生洩光者設為「×」。
Figure 105136860-A0202-12-0036-1
從此結果,可知本發明之偏光板係在冷熱衝擊環境試驗中,具有優異之效果。亦即,若依據本發明,即使在反覆高溫與低溫之環境下,本發明之偏光板亦不產生洩光、龜裂等,可顯示良好之偏光特性。
[產業上之利用可能性]
若依據本發明,即使在反覆高溫與低溫之 環境下,本發明之偏光板亦不產生洩光、龜裂等,可顯示良好之偏光特性。又,本發明之偏光板為薄型、且為強度、耐久性優之偏光板。
11‧‧‧偏光片
12‧‧‧第1保護膜
13‧‧‧第1黏著劑層
22‧‧‧第2保護膜
23‧‧‧第2黏著劑層
100‧‧‧偏光板

Claims (4)

  1. 一種偏光板,係依序積層有:第1黏著劑層、含有纖維素酯系樹脂之第1保護膜、厚度為10μm以下之偏光片、第2黏著劑層、及第2保護膜者,其中,前述第1保護膜及前述偏光片係透過水性接著劑層而積層,前述第1保護膜之尺寸變化率(85℃)與尺寸變化率(30℃)之差之絕對值為0.00至0.50,前述第2保護膜係在前述第2保護膜中之與前述第2黏著劑層為相反側之面及前述第2保護膜中之前述第2黏著劑層側之面的至少一者具有傷痕,前述傷痕係長度0.001至500μm、寬0.001至500μm、且深度0.001至10μm之傷痕,及深度0.001至10μm、且面積0.001至1.0mm2之傷痕的至少一者。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之偏光板,其中,前述第2保護膜係於前述第2保護膜中之與前述第2黏著劑層為相反側之面具有傷痕。
  3. 如申請專利範圍第1或2項所述之偏光板,其中,前述第2保護膜為增亮膜。
  4. 一種偏光板之檢查方法,該偏光板係積層有:第1黏著劑層、含有纖維素酯系樹脂之第1保護膜、厚度為10μm以下之偏光片、第2黏著劑層、及第2保護膜者,其包含如下步驟:(1)測定前述第2保護膜中之傷痕的最大尺寸之步 驟;(2)將前述第2保護膜中之傷痕的最大尺寸在前述第2保護膜中之與前述第2黏著劑層為相反側之面及前述第2保護膜中之前述第2黏著劑層側之面的至少一者中,為長度0.001至500μm、寬0.001至500μm、且深度0.001至10μm之偏光板,及/或前述第2保護膜中之傷痕之最大尺寸在前述第2保護膜中之與前述第2黏著劑層為相反側之面及前述第2保護膜中之前述第2黏著劑層側之面的至少一者中,為深度0.001至10μm、且面積0.001至1.0mm2之偏光板,判定為良品之步驟。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112509472B (zh) * 2020-12-23 2022-05-03 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种膜层保护结构及膜层贴附方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW469357B (en) * 1996-08-05 2001-12-21 Teijin Ltd Alignment film with pores
JP2010164733A (ja) * 2009-01-15 2010-07-29 Dainippon Printing Co Ltd 偏光子保護用光学フィルム及びその製造方法、偏光板、並びに表示装置
TW201539061A (zh) * 2014-02-19 2015-10-16 Sumitomo Chemical Co 偏光性積層膜及偏光板的製造方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006021459A (ja) * 2004-07-09 2006-01-26 Konica Minolta Opto Inc 光学フィルムの製造方法
JP2007045071A (ja) * 2005-08-11 2007-02-22 Konica Minolta Opto Inc 光学フィルムの製造方法、光学フィルム、及びそれを用いた偏光板
JP2007052333A (ja) * 2005-08-19 2007-03-01 Konica Minolta Opto Inc 表面凹凸形状光学フィルム、その製造方法及び偏光板、画像表示装置
KR20070094184A (ko) * 2006-03-16 2007-09-20 동우 화인켐 주식회사 고경도 하드코팅 필름, 이를 구비한 편광판 및 표시장치
JP2009075535A (ja) * 2007-08-27 2009-04-09 Nitto Denko Corp 光学フィルム、偏光板、及び画像表示装置
JP5332599B2 (ja) * 2008-07-11 2013-11-06 住友化学株式会社 偏光板、その製造方法及びそれを用いた複合偏光板
JP5167039B2 (ja) * 2008-09-10 2013-03-21 富士フイルム株式会社 フィルム、フィルムの製造方法、偏光板および液晶表示装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW469357B (en) * 1996-08-05 2001-12-21 Teijin Ltd Alignment film with pores
JP2010164733A (ja) * 2009-01-15 2010-07-29 Dainippon Printing Co Ltd 偏光子保護用光学フィルム及びその製造方法、偏光板、並びに表示装置
TW201539061A (zh) * 2014-02-19 2015-10-16 Sumitomo Chemical Co 偏光性積層膜及偏光板的製造方法

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