TWI650351B

TWI650351B - 光學薄膜及其製備方法

Info

Publication number: TWI650351B
Application number: TW106143282A
Authority: TW
Inventors: 張朝欽; 鄭廖平; 林咨旻
Original assignee: 淡江大學
Priority date: 2017-12-08
Filing date: 2017-12-08
Publication date: 2019-02-11
Also published as: TW201925284A

Abstract

一種光學薄膜可包括基材、硬質層以及親水層。硬質層位於基材的一側，且親水層位於硬質層之相對於基材的一側。並且，硬質層包含70重量%至90重量%的二氧化鈦，而親水層包含20重量%的改質二氧化矽以及40重量%至70重量%的改質親水性界面活性劑。

Description

光學薄膜及其製備方法

本發明是關於一種有機／無機複合薄膜的製備技術，特別是一種光學薄膜及其製備方法。

抗反射（anti-reflection，AR）的原理是基於塗佈基材和空氣塗層界面所反射的光之間的相消干涉。一般而言，抗反射的鍍膜可為多層結構，且層數愈多可使抗反射效果愈好。然而，層數愈多亦會造成良率降低、製作成本增加。

防霧塗層形成於透明基材上，可有效防止透明基材的表面凝結水氣，並可增加表面的視覺清晰度。大部份的防霧塗層是利用親水性材料上的官能團與水分子形成極性作用或氫鍵，而讓基材表面的水滴擴散成一層薄薄的水膜以減少光的散射。然而，隨著防霧塗層上的親水性材料逐漸擴散而消耗，使得防霧塗層失去功能。防霧塗層的製程亦會受到材料尺寸及工作條件的限制，且塗層的硬度不佳。並且，防霧塗層中親水性基團的存在更使得塗層與基材之間容易受到水的入侵而失去其附著性。

在一實施例中，一種光學薄膜，其可包括硬質層以及親水層。親水層位於硬質層的一側。並且，硬質層可包括70重量%至90重量%的二氧化鈦，親水層可包括20重量%的改質二氧化矽以及40重量%至70重量%的改質親水性界面活性劑。

在一實施例中，一種光學薄膜的製備方法，其可包括於基材的一側形成硬質層、以及於硬質層相對於基材的一側形成親水層。並且，硬質層包含70重量%至90重量%的二氧化鈦，而親水層包含20重量%的改質二氧化矽以及40重量%至70重量%的改質親水性界面活性劑。

總言之，本發明實施例的光學薄膜及其製備方法適用於製備一種兼具抗反射性質及防霧性質的薄膜。將由二氧化鈦所構成且具有高折射率的硬質層，與由改質二氧化矽與改質親水性界面活性劑所構成且具有低折射率的親水層所結合成的雙層結構，可使所製備的光學薄膜不僅具有波長範圍廣的抗反射能力、高穿透率、低反射率以及良好的附著性。

請參照圖1，在一些實施例中，一種光學薄膜10可包括硬質層11及親水層12。此光學薄膜10可形成於基材20上。基材20可由塑膠或其它可替代使用的材質所構成，例如但不限於聚甲基丙烯酸甲酯（Poly(methyl methacrylate)，PMMA）。並且，在一些實施例中，硬質層11可具有50奈米至500奈米的厚度，例如87奈米至113奈米，或者，例如110奈米。並且，在一些實施例中，親水層12可具有50奈米至500奈米的厚度，例如68奈米至92奈米，或者，例如76奈米。

在一些實施例中，以硬質層11的重量為100重量%，硬質層11可包含70重量%至90重量%的二氧化鈦，例如80重量%。

在一些實施例中，硬質層11中的二氧化鈦可具有1奈米至20奈米的平均粒徑，例如1奈米至4奈米，或者，例如1.5奈米。

在一些實施例中，以親水層12的重量為100重量%，親水層12可包含20重量%的改質二氧化矽以及40重量%至70重量%的改質親水性界面活性劑。在一些實施例中，改質親水性界面活性劑在親水層12中所佔的重量比例為70重量%。

在一些實施例中，親水層12中的改質二氧化矽可具有2奈米至6奈米的平均粒徑，例如2.7奈米。

在一些實施例中，親水層12中的改質親水性界面活性劑可具有1奈米至4奈米的平均粒徑，例如1.6奈米。

在一些實施例中，親水層12對水的接觸角（contact angle）可為小於或等於10度。當親水層12對水的接觸角小於或等於10度時，則表示此親水層12可具備防霧性質。

請參照圖2，在一些實施例中，光學薄膜10可由下列流程所製得。首先，在基材20的一側形成硬質層11（步驟S10）。並且，在硬質層11相對於基材20的一側形成親水層12（步驟S20）。於此，可得到同時具有抗反射性及防霧性的光學薄膜10。

請參照圖3，在步驟S10的一些實施例中，硬質層11的形成步驟可包括以下流程。先將鈦烷氧化物進行水解縮合反應以形成二氧化鈦溶膠（步驟S11）後，再將光起始劑及感光性單體加入由步驟S11所得到的二氧化鈦溶膠中，並形成硬質塗料（步驟S12）。將硬質塗料塗佈於基材20的一側（步驟S13），並且對經塗佈於基材20的硬質塗料進行紫外線交聯硬化（步驟S14），以形成硬質層11。

請參照圖4，在步驟S11的一些實施例中，二氧化鈦溶膠的形成可包括以下流程。首先，將鈦烷氧化物與醇類溶劑混合成反應溶液（步驟S110）。接著，將鹽酸溶液加入至反應溶液中，以進行水解縮合反應（步驟S111）。適合的鈦烷氧化物可為四乙氧基鈦（titanium(IV) ethoxide）、四丙氧基鈦（titanium(IV) propoxide）、四異丙氧基鈦（titanium(IV) isopropoxide）、四丁氧基鈦（titanium(IV) butoxide）、四異丁氧基鈦（titanium(IV) isobutoxide）、四三級異丁氧基鈦（titanium(IV) tert-butoxide）、或其它可替代的物質、或其任意組合。適合的醇類溶劑可為丙醇（1-propanol）、異丙醇（2-propanol）、丁醇（1-butanol）、異丁醇（2-methyl-1-propanol）、仲丁醇（2-butanol）、叔丁醇（2-methyl-2-propanol）、或其它可替代的醇類、或其任意組合。

此外，在步驟S12的一些實施例中，以硬質塗料的重量為100重量%，光起始劑的含量可為1重量%至5重量%，感光性單體的含量可為1重量%至30重量%。

請參照圖5，在步驟S20的一些實施例中，親水層12的形成步驟可包括以下流程。分別準備改質親水性界面活性劑以及改質二氧化矽（步驟S21、S22），並且將改質親水性界面活性劑與改質二氧化矽混合成混合液（步驟S23）。將光起始劑及感光性單體加入至由步驟S23所得到的混合液，並形成親水塗料（步驟S24）。將親水塗料塗佈於硬質層11之相對於基材20的一側（步驟S25）後，對經塗佈於硬質層11的親水塗料進行紫外線交聯硬化（步驟S26），以形成親水層12。

請參照圖6，在步驟S21的一些實施例中，改質親水性界面活性劑的準備流程可包括以下程序。例如，將甲基丙烯酸羥乙酯（2-hydroxyethyl methacrylate，2-HEMA）及異佛爾酮二異氰酸酯（isophorondiisocyanate，IPDI）混合並進行反應，以形成改質異佛爾酮二異氰酸酯（2-HEMA-IPDI）（步驟S210）。接著，將親水性界面活性劑與改質異佛爾酮二異氰酸酯混合並進行反應（步驟S211）。適合的親水性界面活性劑可為聚山梨醇酯20（Tween 20）、聚山梨醇酯80（Tween 80）、甘油（glycerol）、聚乙二醇600（PEG 600）、其他可替代的物質、或其任意組合。於此，可得到改質親水性界面活性劑。

在步驟S22的一些實施例中，改質二氧化矽的準備流程可包括以下程序。首先，將矽烷氧化物進行水解縮合反應以形成二氧化矽溶膠（步驟S220）。適合的矽烷氧化物可為四乙基矽氧烷、其他可替代的物質、或其任意組合。接著，將偶合劑加入至二氧化矽溶膠中後，對二氧化矽溶膠進行表面修飾（步驟221）。於此，可得到改質二氧化矽。

在步驟S24的一些實施例中，以親水塗料的重量為100重量%，光起始劑的含量可為1重量%至5重量%，感光性單體的含量可為1重量%至50重量%。

在步驟S10或S20的一些實施例中，感光性單體可為二異戊四醇六丙烯酸酯（pentaerythritol hexaacrylate，PETA）、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯（trimethylolpropane triacrylate，TMPTA）、季戊四醇四丙烯酸酯（pentaerythritol tetraacrylate）、季戊四醇三丙烯酸酯（pentaerythritol triacrylate，PETA）、二（三羥甲基丙烷）四丙烯酸酯（di(trimethylolpropane) tetraacrylate，DiTMPTA）、1,6-己二醇二丙烯酸酯（1,6-hexanediol diacrylate，HDODA）、二季戊四醇六丙烯酸酯（dipentaerythritol hexa-acrylate，DPHA）、其他可替代的物質、或其組合。

此外，在步驟S13或S25的一些實施例中，塗佈的方式可以是人工方式，例如手動以刮刀進行塗佈或其它人工塗佈方法，或是機械方式，例如旋轉塗佈（spin coating）或其它機械塗佈方法。

舉例來說，先將22克的四丁氧基鈦及26克的丁醇均勻混合後，接著加入3.7克且濃度為37重量%的鹽酸溶液，於室溫下攪拌3小時，以形成二氧化鈦溶膠。並且，取適量的二氧化鈦溶膠分別以溶劑稀釋至濃度大約為0.01重量%至0.02重量%的二氧化鈦溶膠樣本溶液。將二氧化鈦溶膠樣本溶液成裝於樣品槽中。接著，以動態光散射儀（Nano ZS，Malvern）對二氧化鈦溶膠樣本溶液中的粒子尺寸進行檢測，檢測溫度為25℃。

將0.2克的二季戊四醇六丙烯酸酯、0.05克的光起始劑（型號為Darocur 1173，購自CIBA）與1.8克的丁醇加入8克的二氧化鈦溶膠中混合並形成含有5重量%固成分的硬質塗料。以1500至3000 rpm的轉速進行旋轉塗佈，以將硬質塗料塗佈於聚甲基丙烯酸甲酯（Poly(methyl methacrylate)，PMMA）基材上並進行預烤，接著再進行紫外線交聯硬化，並且在硬化完成後再進行後烤，以在PMMA基材上形成硬質層。預烤及後烤的程序皆是以60℃至80℃的溫度進行烘烤10秒至2分鐘，藉此移除溶劑及水分。在所形成的硬質層中，二氧化鈦所佔的重量比例為80重量%。

並且，先將1.301克的甲基丙烯酸乙酯（2-HEMA）及2.22克的異佛爾酮二異氰酸酯（IPDI）分別溶解於丁酮（methyl ethyl ketone，MEK）中，再將2-HEMA／MEK溶液緩慢加入IPDI／MEK溶液以形成反應液。將反應液升溫至50℃並添加錫觸媒，維持恆溫並攪拌2小時以進行反應，得到改質異佛爾酮二異氰酸酯（2-HEMA-IPDI）。接著，加入5.7克的聚山梨醇酯20及丁酮於改質異佛爾酮二異氰酸酯（2-HEMA-IPDI）中，並攪拌2小時以進行反應，得到改質聚山梨醇酯20（即，改質親水性界面活性劑）。並且，將18.29克的四乙氧基矽烷（TEOS）與1.04克的異丙醇混合後，接著加入6.52克的pH1.2鹽酸溶液，並於室溫攪拌3小時，以形成二氧化矽溶膠。將5克的3-（三甲氧基甲矽烷基）丙基丙烯酸酯（3-(trimethoxysilyl)propyl methacrylate，MSMA）（即，偶合劑）、5克的異丙醇及1.087克的pH1.2的鹽酸溶液加入反應液中並進行反應3小時，以形成改質二氧化矽。

並且，利用與上述相同的工序及條件，以動態光散射儀對改質二氧化矽以及改質聚山梨醇酯20的粒子尺寸進行檢測。

接著，將5克的改質二氧化矽與4.2克的改質聚山梨醇酯20混合成混合液，再將0.6克的二季戊四醇六丙烯酸酯（即，感光性單體）及0.3克的光起始劑（型號為Darocur 1173，購自CIBA）加入混合液中並形成含有2重量%固成分的親水塗料。以1500至3000 rpm的轉速進行旋轉塗佈，以將親水塗料塗佈於硬質層之相對於PMMA基材的一側上並預烤，接著再進行紫外線交聯硬化，並且在硬化完成後進行後烤，以在硬質層上形成親水層。在所形成的親水層中，改質二氧化矽所佔的重量比例為20重量%，且改質聚山梨醇酯20所佔的重量比例為70重量%。

於此，藉由上述流程便於PMMA基材上形成本發明實施例的光學薄膜。以紫外－可見光光譜儀（UV500，Unicam）量測光學鍍膜於波長範圍為400奈米至800奈米之紫外光－可見光區的光穿透率（相對於空氣的100%光穿透率），可知所得的光學薄膜的光穿透率為95.1%。

硬質層中的二氧化鈦、親水層中的改質二氧化矽與改質聚山梨醇酯20的平均粒徑及粒徑分布範圍如下表1所示。

表1 <TABLE border="1" borderColor="#000000" width="85%"><TBODY><tr><td> （單位：奈米） </td><td> 二氧化鈦 </td><td> 改質二氧化矽 </td><td> 改質聚山梨醇酯20 </td></tr><tr><td> 平均粒徑 </td><td> 1.5 </td><td> 2.7 </td><td> 1.6 </td></tr><tr><td> 粒徑分布範圍 </td><td> 1.0-4.0 </td><td> 2.0-6.0 </td><td> 1.0-4.0 </td></tr></TBODY></TABLE>

以多功能光學檢測儀量測光學薄膜的厚度、折射率及反射率。當硬質層的折射率為1.8%且親水層的折射率為1.5%時，以1500 rpm至3000rpm的轉速進行旋轉塗佈。經由旋轉塗佈所形成的硬質層與親水層的厚度分別如下表2所示。

表2 <TABLE border="1" borderColor="#000000" width="85%"><TBODY><tr><td> </td><td> 厚度（奈米） </td></tr><tr><td> 硬質層 </td><td> 親水層 </td></tr><tr><td> 轉速（rpm） </td><td> 1500 </td><td> 113 </td><td> 92 </td></tr><tr><td> 2000 </td><td> 109 </td><td> 79 </td></tr><tr><td> 2500 </td><td> 96 </td><td> 76 </td></tr><tr><td> 3000 </td><td> - </td><td> 68 </td></tr></TBODY></TABLE>

以反射率而言，當硬質層的厚度為113奈米且親水層的厚度為79奈米時，反射率為1.29%。當硬質層的厚度為109奈米且親水層的厚度為92奈米時，反射率為0.78%。當硬質層的厚度為109奈米且親水層的厚度為79奈米時，反射率為0.84%。當硬質層的厚度為109奈米且親水層的厚度為76奈米時，反射率為1.09%。

將光學薄膜至於載台上，並藉由微量滴管於光學薄膜上添加水滴。利用接觸角分析儀（FTA-125，First Ten Angstroms）量測水滴與光學薄膜之間的夾角（即，接觸角），以判別其親水性。

並且，光學薄膜的鉛筆硬度係參照公定標準方法ASTM D3363進行測試，光學薄膜的附著度則係參照公定標準方法ASTM D3359進行測試。

並且，在燒杯中盛裝80℃熱水，並將光學薄膜置於杯口且親水層係朝向熱水。當熱水散發的蒸氣與親水層接觸時，觀察光學薄膜的起霧程度。若光學薄膜仍維持透明，則表示光學薄膜具有防霧能力。

光學薄膜的接觸角、熱蒸氣測試、硬度及附著度的測試結果如下表3所示。接觸角若以S（spreading）表示時，則表示水滴在光學薄膜表面上展開而呈現平坦狀。熱蒸氣測試結果以T（transparent）表示時，則表示光學薄膜與熱蒸氣接觸時沒有起霧而呈現透明狀。光學薄膜的硬度由鉛筆硬度表示。附著度則參照ASTM D3359標準，以1B～5B表示。

表3 <TABLE border="1" borderColor="#000000" width="85%"><TBODY><tr><td> 硬質層／親水層的厚度（奈米） </td><td> 接觸角（度） </td><td> 熱蒸氣測試 </td><td> 硬度 </td><td> 附著度 </td></tr><tr><td> 113／92 </td><td> S </td><td> T </td><td> 2H </td><td> 5B </td></tr><tr><td> 113／79 </td><td> S </td><td> T </td><td> 2H </td><td> 5B </td></tr><tr><td> 113／76 </td><td> S </td><td> T </td><td> 2H </td><td> 5B </td></tr><tr><td> 113／68 </td><td> S </td><td> T </td><td> 2H </td><td> 5B </td></tr><tr><td> 109／92 </td><td> S </td><td> T </td><td> 2H </td><td> 5B </td></tr><tr><td> 109／79 </td><td> S </td><td> T </td><td> 2H </td><td> 5B </td></tr><tr><td> 109／76 </td><td> S </td><td> T </td><td> 2H </td><td> 5B </td></tr><tr><td> 109／68 </td><td> S </td><td> T </td><td> 2H </td><td> 5B </td></tr><tr><td> 96／92 </td><td> S </td><td> T </td><td> 2H </td><td> 5B </td></tr><tr><td> 96／79 </td><td> S </td><td> T </td><td> 2H </td><td> 5B </td></tr><tr><td> 96／76 </td><td> S </td><td> T </td><td> 2H </td><td> 5B </td></tr><tr><td> 96／68 </td><td> S </td><td> T </td><td> 2H </td><td> 5B </td></tr></TBODY></TABLE>

由表3可知，本發明實施例所製備的各光學薄膜皆能使其表面上的水滴呈現攤平，顯示光學薄膜具有極佳的親水性。並且，各光學薄膜與80℃的熱蒸氣接觸時均能呈現良好的光穿透度，顯示光學薄膜可有效地防止水滴附著於光學薄膜的表面亦具有良好的防霧性質。請參照圖7，當不具有光學薄膜的PMMA基材30接觸熱蒸氣時，熱蒸氣凝結並附著於PMMA基材30的表面，以至於呈現霧狀。而結合有光學薄膜的PMMA基材30接觸熱蒸氣時仍呈現透明狀。

此外，在光學薄膜的厚度極薄的情況下，仍可保有2H的硬度。各光學薄膜與PMMA基材之間的附著度皆為5B，顯示光學薄膜與PMMA基材之間可達到大致上100%的附著。

綜上所述，本發明實施例的光學薄膜及其製備方法適用於製備一種兼具抗反射性質及防霧性質的薄膜。由水解縮合反應形成的二氧化鈦具有低結晶性、低光催化性且粒徑小，有利於製備具有高可見光穿透率與高折射率的硬質層，亦可促使所得的光學薄膜的反射率大幅降低。並且，藉由將適當比例的改質親水性界面活性劑與改質二氧化矽結合製成低折射率的親水層，其與高折射率的硬質層疊合成雙層結構所得的光學薄膜不僅具有波長範圍廣的抗反射能力、高穿透率、低反射率以及優異的附著性，還可維持良好的硬度。由於光學薄膜可只具有雙層結構，亦可降低製作的工序及成本，有利於廣泛應用於各種光學產品中。

雖然本發明的技術內容已經以較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精神所作些許之更動與潤飾，皆應涵蓋於本發明的範疇內，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

10‧‧‧光學薄膜

11‧‧‧硬質層

12‧‧‧親水層

20‧‧‧基材

30‧‧‧PMMA基材

S10‧‧‧在基材的一側形成硬質層

S11‧‧‧將鈦烷氧化物進行水解縮合反應以形成二氧化鈦溶膠

S110‧‧‧將鈦烷氧化物與醇類溶劑混合成反應溶液

S111‧‧‧將鹽酸溶液加入至反應溶液中，以進行水解縮合反應

S12‧‧‧將光起始劑及感光性單體加入二氧化鈦溶膠中並形成硬質塗料

S13‧‧‧將硬質塗料塗佈於基材的一側

S14‧‧‧對經塗佈於基材的硬質塗料進行紫外線交聯硬化

S20‧‧‧在硬質層相對於基材的一側形成親水層

S21‧‧‧準備改質親水性界面活性劑

S210‧‧‧將2-HEMA及IPDI混合並進行反應以形成2-HEMA-IPDI

S211‧‧‧將親水性界面活性劑及2-HEMA-IPDI混合並進行反應

S22‧‧‧準備改質二氧化矽

S220‧‧‧將矽烷氧化物進行水解縮合反應，以形成二氧化矽溶膠

S221‧‧‧將偶合劑加入至二氧化矽溶膠中，並對二氧化矽溶膠進行表面修飾

S23‧‧‧將改質親水性界面活性劑與改質二氧化矽混合成混合液

S24‧‧‧將光起始劑及感光性單體加入混合液並形成親水塗料

S25‧‧‧將親水塗料塗佈於硬質層之相對於基材的一側

S26‧‧‧對經塗佈於硬質層的親水塗料進行紫外線交聯硬化

圖1為本發明的一實施例的光學薄膜的平面側視圖。圖2為本發明的一實施例的光學薄膜的製備方法的流程方塊圖。圖3為本發明的一實施例的光學薄膜的製備方法中硬質層的形成步驟的流程方塊圖。圖4為本發明的一實施例的光學薄膜的製備方法中二氧化鈦溶膠的形成步驟的流程方塊圖。圖5為本發明的一實施例的光學薄膜的製備方法中親水層的形成步驟的流程方塊圖。圖6為本發明的一實施例的光學薄膜的製備方法中改質親水性界面活性劑與改質二氧化矽的準備步驟的流程方塊圖。圖7為本發明的一實施例的光學薄膜經過熱蒸氣測試後的外觀狀態圖。

Claims

一種光學薄膜，包含：一基材；一硬質層，其位於該基材的一側，且該硬質層包含70重量%至90重量%的二氧化鈦；及一親水層，其位於該硬質層之相對於該基材的一側，且該親水層包含20重量%的改質二氧化矽以及40重量%至70重量%的一改質親水性界面活性劑。
如請求項1所述的光學薄膜，其中該硬質層包含80重量%的該二氧化鈦。
如請求項1所述的光學薄膜，其中該二氧化鈦具有1奈米至20奈米的平均粒徑。
如請求項3所述的光學薄膜，其中該二氧化鈦具有1奈米至4奈米的平均粒徑。
如請求項1所述的光學薄膜，其中該改質二氧化矽具有2奈米至6奈米的平均粒徑。
如請求項1所述的光學薄膜，其中該改質親水性界面活性劑具有1奈米至4奈米的平均粒徑。
如請求項1所述的光學薄膜，其中該硬質層具有50奈米至500奈米的厚度。
如請求項7所述的光學薄膜，其中該硬質層具有87奈米至113奈米的厚度。
如請求項1所述的光學薄膜，其中該親水層具有50奈米至500奈米的厚度。
如請求項9所述的光學薄膜，其中該親水層具有68奈米至92奈米的厚度。
如請求項1所述的光學薄膜，其中該基材為一塑膠基材。
一種光學薄膜的製備方法，包含：於一基材的一側形成一硬質層，且該硬質層包含70重量%至90重量%的二氧化鈦；及於該硬質層相對於該基材的一側形成一親水層，且該親水層包含20重量%的改質二氧化矽以及40重量%至70重量%的一改質親水性界面活性劑。
如請求項12所述的光學薄膜的製備方法，其中該硬質層包含80重量%的該二氧化鈦。
如請求項12所述的光學薄膜的製備方法，其中該形成該硬質層的步驟還包含：將一鈦烷氧化物進行水解縮合反應，以形成一二氧化鈦溶膠；將一光起始劑及一感光性單體加入至該二氧化鈦溶膠中，以形成一硬質塗料；將該硬質塗料塗佈於該基材之一側；及對經塗佈於該基材的該硬質塗料進行紫外線交聯硬化。
如請求項14所述的光學薄膜的製備方法，其中該形成該二氧化鈦溶膠的步驟更包含：將一鈦烷氧化物與一醇類溶劑混合成一反應溶液；及將一鹽酸溶液加入至該反應溶液，以進行水解縮合反應。
如請求項15所述的光學薄膜的製備方法，其中該鈦烷氧化物為四乙氧基鈦、四丙氧基鈦、四異丙氧基鈦、四丁氧基鈦、四異丁氧基鈦、四三級異丁氧基鈦或其組合。
如請求項15所述的光學薄膜的製備方法，其中該醇類溶劑為丙醇、異丙醇、丁醇、異丁醇、仲丁醇、叔丁醇或其組合。
如請求項14所述的光學薄膜的製備方法，其中在該形成該二氧化鈦溶膠的步驟中，以該硬質塗料的重量為100%，該光起始劑的含量為1重量%至5重量%，該感光性單體的含量為1重量%至30重量%。
如請求項14所述的光學薄膜的製備方法，其中該感光性單體為二異戊四醇六丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、二（三羥甲基丙烷）四丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯或其組合。
如請求項12所述的光學薄膜的製備方法，其中該形成該親水層的步驟還包含：準備該改質親水性界面活性劑準備該改質二氧化矽；將該改質親水性界面活性劑與該改質二氧化矽混合成一混合液；將一光起始劑及一感光性單體加入至該混合液中，以形成一親水塗料；將該親水塗料塗佈於該硬質層之相對於該基材的一側；以及對經塗佈於該硬質層的該親水塗料進行紫外線交聯硬化。
如請求項20所述的光學薄膜的製備方法，其中該準備該改質親水性界面活性劑的步驟包含：將甲基丙烯酸乙酯及異佛爾酮二異氰酸酯混合並進行反應，以形成改質異佛爾酮二異氰酸酯；及將一親水性界面活性劑及該改質異佛爾酮二異氰酸酯混合並進行反應。
如請求項21所述的光學薄膜的製備方法，其中該親水性界面活性劑為聚山梨醇酯20、聚山梨醇酯80、甘油、聚乙二醇600或其組合。
如請求項20所述的光學薄膜的製備方法，其中該準備該改質二氧化矽的步驟包含：將矽氧化合物行水解縮合反應，以形成二氧化矽溶膠；及將偶合劑加入至該二氧化矽溶膠中，並對該二氧化矽溶膠進行表面修飾。
如請求項20所述的光學薄膜的製備方法，其中在該形成該親水塗料的步驟中，以該親水塗料的重量為100%，該光起始劑的含量為1重量%至5重量%，該感光性單體的含量為1重量%至50重量%。
如請求項20所述的光學薄膜的製備方法，其中該感光性單體為二異戊四醇六丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、二（三羥甲基丙烷）四丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯或其組合。
如請求項12所述的光學薄膜的製備方法，其中該基材為一塑膠基材。