TWI599762B

TWI599762B - Optical measuring device

Info

Publication number: TWI599762B
Application number: TW102123930A
Authority: TW
Inventors: Kazuaki Ohkubo; Hisashi Shiraiwa
Original assignee: Otsuka Electronics Co Ltd
Priority date: 2012-07-30
Filing date: 2013-07-04
Publication date: 2017-09-21
Also published as: JPWO2014020660A1; CN104246456A; US9500520B2; CN104246456B; TW201418674A; WO2014020660A1; KR20150037730A; JP5959644B2; US20150260569A1; KR101823197B1

Description

光學測量裝置

本發明係有關於一種用以以與照射角賦予關聯之方式檢測出從光源所照射之光的光學測量裝置。

作為評估光源之性能的一個指標，已知光之放射特性。作為這種放射特性之典型例，列舉配光特性。配光特性意指對光度之對角度的變化或分布。作為這種配光特性，使用絕對光度或相對光度之任一種。絕對光度之配光特性係利用於求得光源所產生之全光束的情況等。另一方面，相對光度之配光特性係利用於求得配光圖案的情況等。

作為測量這種配光特性之裝置的先前技術，例如，有特開平07-294328號公報(專利文獻1)或特開2003-247888號公報(專利文獻2)等。

關於配光特性之量測，在日本工業規格，規定JIS C8105-5：2011「照明器具-第5部：配光量測方法」(非專利文獻1)。

一般，在對大型之照明器具等的光源測量配光特性的情況，採用藉由使平面鏡轉動，將從光源所照射之光引導至受光器的構成。在這種測量裝置，典型上，處理對象之光源被配置成可沿著鉛垂軸轉動，平面鏡被配置成可沿著水平軸轉動。配光測量裝置係主要分成2種。一方係平面鏡在中央轉動，光源在其周圍轉動的方式(以下亦記為「Moving Sample方式」)，另一方係平面鏡在光源之周圍轉動的方式(以下亦記為「Moving Mirror方式」)。

更具體而言，在Moving Sample方式，構成為連接平面鏡之中心與受光器的直線與平面鏡之轉軸一致。在此方式，與光源之大小或光量相依，改變測光距離(從光源至受光器的距離)係容易。又，在Moving Mirror方式，構成為連接光源之測光中心與受光器的直線與平面鏡之轉軸一致。在此方式，無法改變測光距離。

【先行專利文獻】【專利文獻】

[專利文獻1] 特開平07-294328號公報

[專利文獻2] 特開2003-247888號公報【非專利文獻】

[非專利文獻1] JIS C8105-5：2011「照明器具-第5部：配光量測方法」日本規格協會，2011年12月20日制定

上述之Moving Sample方式係因為從平面鏡至受光器的光軸係不變，所以具有量測上的優點。可是，因為在量測中光源在空間移動，所以在測量因姿勢而特性變化之放電燈或因周圍温度而特性變化之LED照明器具之光源的情況，具有特性不穩定的課題。

又，Moving Mirror方式係平面鏡在光源的周圍移動，因為光源本身不移動，所以可將周圍温度保持定值，具有可使在量測中之光源的特性穩定的優點。可是，因為從平面鏡至受光器的光軸變化，所以具有易受受光器之受光角特性之影響的課題或雜散光對策難的課題。

本發明之目的在於提供一種新的光學測量裝置，該裝置係與在如上述所示之先前技術所揭示的構成或方法相異，以與照射角賦予關聯之方式檢測出從光源所照射之光。

若依據本發明之一形態，提供一種以與照射角賦予關聯之方式檢測出從光源所照射之光的光學測量裝置。光學測量裝置係包含：中空之圓筒狀構件，係在一方之平面具有第1開口，而且在另一方之平面具有第2開口；轉動機構，係用以沿著是圓筒狀構件之中心軸的第1軸使圓筒狀構件轉動；支撐部，係用以在係第1軸上，而且係所照射之光通過第1開口並射入圓筒狀構件之內部的位置的量測位置，配置光源；第1反射部，係配置於圓筒狀構件之內部，並使從光源經由第1開口所射入的光反射；第2反射部，係使圓筒狀構件之內部的光反射，並使該光經由第2開口，沿著第1軸向該圓筒狀構件之外部傳播；及至少一個之第3反射部，係用以使以第1反射部所反射的光向第2反射部射入。

支撐部係構成為可沿著與第1軸係正交之第2軸使光源轉動較佳。

轉動機構係包含對圓筒狀構件進行轉動支撐的輥較佳。

光學測量裝置係更包括配置於第1軸上之受光部較佳。

最好支撐部係包含：用以支撐複數個光源之臂；及切換手段，係藉由使臂轉動，而依序切換配置於量測位置的光源。

第3反射部係包含複數個反射部較佳，該反射部係配置成在與第1軸係正交之方向引導來自光源之光。

第3反射部係構成為使來自該光源之光在第1軸至少局部地繞其周圍更佳。

若依據本發明，可實現以與照射角賦予關聯之方式檢測出從光源所照射之光之新的光學測量裝置。

1、1A、1B、1C‧‧‧光學測量裝置

2、2B、2C‧‧‧鼓輪

4‧‧‧控制部

6‧‧‧受光部

10‧‧‧光源窗

12、14、14B、14C、16、16-1~16-7‧‧‧平面鏡

18‧‧‧觀測窗

20、20A‧‧‧光源支撐部

22、22-1、22-2‧‧‧臂

30‧‧‧光源

40‧‧‧通訊介面

42、44、46‧‧‧馬達驅動器

48‧‧‧光源驅動部

52、54‧‧‧輥

62、64‧‧‧遮光板

70‧‧‧遮光幕

72、74、76‧‧‧馬達

200‧‧‧處理裝置

202‧‧‧CPU

204‧‧‧顯示器

206‧‧‧網路介面

208‧‧‧輸入部

210‧‧‧硬碟

212‧‧‧記憶體

214‧‧‧CD-ROM驅動器

216‧‧‧I/O單元

第1圖係根據本發明之實施形態之光學測量裝置的側剖面圖。

第2圖係表示根據本發明之實施形態的光學測量裝置之整體構成的立體圖。

第3圖係在第1圖之Ⅲ-Ⅲ線的剖面圖。

第4圖係表示使第1圖所示之鼓輪沿著X軸僅轉動90度之狀態的圖。

第5圖係表示根據本發明之實施形態的處理裝置之硬體構成的示意圖。

第6圖係表示根據本發明之實施形態的光學測量裝置之電性構成的示意圖。

第7圖係表示根據本發明之實施形態的第1變形例之光學測量裝置的模式圖。

第8圖係表示根據本發明之實施形態的第2變形例之光學測量裝置的模式圖。

第9圖係表示根據本發明之實施形態的第2變形例之別的光學測量裝置的模式圖。

第10圖係在第9圖之X-X線的剖面圖。

一面參照圖面，一面詳細說明本發明之實施形態。此外，對圖中相同或相當之部分附加相同的符號，其說明係不重複。

<A.整體構成>

根據本實施形態之光學測量裝置1係以與照射角賦予關聯之方式檢測出從量測對象之光源所照射的光。更具體而言，光學測量裝置1係藉由分別測量在以光源為中心之空間座標系統之複數個位置的光度，取得關於光源之光度的空間分布。在以下，作為光放射特性之典型例，說明測量光源之配光特性的例子。

首先，說明光學測量裝置1的構成。第1圖係根據本發明之實施形態之光學測量裝置1的側剖面圖。第2圖係表示根據本發明之實施形態的光學測量裝置1之整體構成的立體圖。第3圖係在第1圖之Ⅲ-Ⅲ線的剖面圖。

參照第1圖~第3圖，光學測量裝置1係包含中空的鼓輪2。將光源30配置於鼓輪2之一方的平面(底面)側，使其點燈，而且以配置於鼓輪2之另一方的平面(底面)側的受光部6對來自光源30之光進行受光，藉此，測量光源30之光度。鼓輪2係在一方之平面(底面)具有是用以配置光源30之開口的光源窗10，而且在另一方之平面(底面)具有是用以取出來自光源30之光之開口的觀測窗18。

在測量配光特性的情況，鼓輪2以X軸為中心轉動，光源30以Y軸為中心轉動，藉此，對各照射角測量從光源30所照射之光。鼓輪2係配置成可沿著是鼓輪2之中心軸(與光軸AX1一致)的X軸轉動。即，光學測量裝置1係包含用以使鼓輪2沿著其中心軸轉動的轉動機構。將鼓輪2之對X軸的轉動角度設為θ。例如轉動角度θ係以既定之起始狀態為基準(0°)，在-180°≦θ≦180°之範圍所定義。但，實用上只要在-90°≦θ≦90°之範圍測量就充分的情況亦多。

以對鼓輪2之光源窗10賦予關聯的方式配置光源支撐部20。光源支撐部20係將光源30配置於既定位置，而且供給用以將光源30點燈的電源。光源30之發光面的中心係被定位於鼓輪2之中心軸(光軸AX1)上。即，光源支撐部20係位於鼓輪2之中心軸上，而且將光源30配置於所照射之光透過光源窗10射入鼓輪2之內部的位置(量測位置)。

光源30係由光源支撐部20之臂22所支撐，臂22係可沿著Y軸轉動。光源30係因應於需要，沿著Y軸轉動。即，光源支撐部20係構成為沿著與鼓輪2之中心軸正交的Y 軸可使光源30轉動。將藉該光源支撐部20之光源30之對Y軸的轉動角度設為ψ。例如，轉動角度ψ係以既定之起始狀態為基準(0°)，在-180°≦θ≦180°之範圍所定義。

將平面鏡12、14及16設置於鼓輪2內。射入鼓輪2之來自光源30的光係經由平面鏡12、平面鏡14及平面鏡16，被導往受光部6。即，3個平面鏡固定於鼓輪2之內部，在使配置於鼓輪2之中心軸的光源30點燈之狀態，鼓輪2係轉動。伴隨鼓輪2之轉動，平面鏡12亦在光源30的周圍轉動，對在各放射角之來自光源30之光進行受光。平面鏡14及16係使來自平面鏡12的反射光從鼓輪2之轉動中心(觀測窗18)射出。受光部6係對從該鼓輪2所射出之光進行受光。

平面鏡12係使來自光源30之光朝向所預定之方向反射。因為平面鏡12係固定於鼓輪2，所以伴隨鼓輪2之轉動而沿著X軸轉動。因為光源30之發光面的中心位於鼓輪2之中心軸上，所以不論鼓輪2之轉動角度，從光源30至平面鏡12的距離係被保持定值。即，不論鼓輪2位於任何轉動位置，在平面鏡12之視野總是包含光源30。依此方式，光學測量裝置1係包含平面鏡12，該平面鏡12係配置於鼓輪2之內部，並使從光源30經由光源窗10所射入之光反射。

平面鏡14係以對觀測窗18賦予關聯的方式所固定。平面鏡14係使鼓輪2之內部的光反射，並使該光通過觀測窗18，沿著鼓輪2之中心軸(光軸AX1)向鼓輪2之外部傳播。平面鏡14係構成為不論鼓輪2位於任何轉動位置，都使所反射的光朝向受光部6射出。

平面鏡16係使以平面鏡12所反射的光向平面鏡 14射入。在第1圖所示之例子，表示將一片平面鏡16配置於平面鏡12與平面鏡14之間的構成，但是亦可配置複數個平面鏡。

受光部6係配置於鼓輪2之中心軸(光軸AX1)上，並檢測出從光源30所照射之光，即從鼓輪2所射出之光的光度。受光部6係向處理裝置200輸出表示所受光之光之光度(強度)的值。作為受光部6，亦可採用如光電二體體之檢測出光之強度的組件，亦可採用用以檢測出各波長之強度(頻譜)的分光檢測器。又，受光部6係包含用以收集光之透鏡系統等。

基本上，藉光學測量裝置1之配光特性的量測係在暗室內所進行。可是，鼓輪2與受光部6之間的測光距離變長時，具有在其光學路徑上之其中一部分所產生的雜散光混入的可能性。這種雜散光係成為量測誤差的主要原因。因此，在鼓輪2與受光部6之間的光學路徑上，設置遮光板62、64較佳。遮光板62、64係藉由限制從鼓輪2所射出之光的光路(軸徑)，防止雜散光的混入。

光學測量裝置1係包含用以控制鼓輪2之轉動及光源30之轉動與點燈的控制部4。控制部4係與處理裝置200連接，並按照來自處理裝置200的指示，使輥52、54及臂22轉動。

處理裝置200係以與檢測時之鼓輪2的轉動角度θ及光源支撐部20的轉動角度ψ賦予關聯的方式儲存藉受光部6之檢測結果(表示光度之值)。即，處理裝置200係對轉動角度θ及轉動角度ψ的各組合，儲存檢測結果。該儲存之檢測結果成為光源30之光度的空間分布，即配光特性。

<B.轉動機構>

如上述所示，光學測量裝置1係包含用以使鼓輪2沿著其中心軸轉動的轉動機構。只要可驅動鼓輪2轉動，亦可採用任何機構。例如，亦可機械式地連結鼓輪2之中心部與馬達，藉該馬達之轉動驅動使鼓輪2轉動。

在本實施形態，如第1圖~第3圖所示，配置對鼓輪2進行轉動支撐的輥52及54，並採用藉由驅動該輥52及54轉動，使鼓輪2轉動的構成。藉由採用將輥52及54設置於鼓輪2之外周側的下部，並使鼓輪2轉動的驅動機構，可使裝置小型化。又，與驅動支撐鏡之臂本身或支撐光源之臂本身轉動的構成相比，可使鼓輪2之轉動驅動所需的電力變小。進而，因為驅動機構位於鼓輪2的外周側，所以使用者更易於接近光源30。

在第3圖，表示配置於鼓輪2之下部的輥52及54進行鼓輪2之支撐及轉動的構成，但是未限定如此。例如，亦可作成分別配置可轉動地支撐鼓輪2之從動輥、與驅動鼓輪2轉動的驅動輥。

<C.量測狀態>

第4圖係表示使第1圖所示之鼓輪2沿著X軸僅轉動90°之狀態的圖。在第1圖，表示測量從光源30朝向鉛垂下方向所照射之光的狀態。而，在第4圖，表示測量從光源30朝向水平進深方向所照射之光的狀態。在第1圖及第4圖所示之任一量測狀態，從光源30所照射之光中量測對象的成分都首先射入平面鏡12，然後，經由平面鏡14及16，向受光部6射入。從光源30至受光部6之光學路徑係不論鼓輪2位於任一轉動位置都被維持於同一光學距離。藉此，可測量光源30之配光特性。

<D.處理裝置>

其次，說明根據本實施形態之處理裝置200。第5圖係表示根據本發明之實施形態的處理裝置200之硬體構成的示意圖。

參照第5圖，處理裝置200係典型上藉電腦所實現。具體而言，處理裝置200係包含：CPU(Central Processing Unit)202，係執行包含作業系統(OS：Operating System)之各種程式；記憶體212，係暫時記憶在CPU202執行程式所需的資料；及硬碟(HDD：Hard Disk Drive)210，係永久性地記憶在CPU202所執行之程式。又，在硬碟210，預先記憶用以實現與光放射特性之量測相關之處理的程式，這種程式係藉CD-ROM驅動器214從CD-ROM(Compact Disk-Read Only Memory)214a等所讀取。或者，CPU202係從伺服器裝置等經由網路介面(I/F)206並經由網路接收程式後，向硬碟210儲存該程式。

CPU202係經由I/O(Input/Output)單元216，接收藉受光部6所檢測出之檢測結果，又向光學測量裝置1供給各種控制指令。CPU202係經由由鍵盤或滑鼠等所構成之輸入部208接受來自使用者等之指示，而且向顯示器204等輸出藉程式之執行所算出的配光特性等。

亦可藉專用之硬體實現處理裝置200所搭載之功能的一部分或全部。

<E.電性構成>

其次，說明根據本實施形態之光學測量裝置1的電性構成。第6圖係表示根據本發明之實施形態的光學測量裝置1之電性構成的示意圖。

參照第6圖，光學測量裝置1係更包含：馬達72與74，係分別驅動輥52與54轉動；及馬達76，係驅動光源支撐部20之臂22轉動。作為馬達72、74、76，為了可高精度地控制轉動角度，使用可控制轉動位置(相位)之步進馬達較佳。

控制部4係更包含通訊介面(I/F)40；馬達驅動器42、44、46；及光源驅動部48，係供給用以使光源30點燈的電力。通訊介面40係將來自處理裝置200之控制指令解碼後，對馬達驅動器42、44、46及光源驅動部48供給內部命令。

馬達驅動器42、44、46係根據來自通訊介面40之內部命令，驅動馬達72、74、76。光源驅動部48係根據來自通訊介面40之內部命令，產生用以使光源30點燈的電力。

亦可根據來自馬達72、74、76之回授信號(脈波信號等)，控制部4檢測出鼓輪2之轉動角度θ及光源30之轉動角度ψ，並向處理裝置200輸出那些檢測值。

<F.第1變形例(老化所造成之量測等待時間的縮短化)>

為了正確地測量光源30之光放射特性，需要在開始測量前使光源30充分地老化。老化意指使光源30點燈至成為穩定狀態的動作。以下，說明可縮短這種老化所造成之量測等待時間的變形例。

第7圖係表示根據本發明之實施形態的第1變形例之光學測量裝置1A的模式圖。第7圖所示之光學測量裝置1A係與第1圖所示之光學測量裝置1相比，在配置替代光源支撐部20之光源支撐部20A上相異。關於其他的構成，因為係與第1圖所示之光學測量裝置1相同，所以詳細說明係不重複。

光源支撐部20A係可支撐複數個光源30(在第7 圖所示之例子，2個光源30)及使其點燈。更具體而言，光源支撐部20A係具有2支臂22-1、22-2，可將光源30安裝於各個臂。進而，光源支撐部20A係可沿著Y軸轉動，將安裝於各個臂22-1、22-2之光源30交互地配置於量測位置。即，光源支撐部20A係包含用以支撐複數個光源30之臂22-1、22-2，並藉由使臂22-1、22-2轉動，依序切換配置於量測位置之光源30。亦可作成配置3支以上之臂，並可使更多的光源30並列地進行老化。

藉由採用這種構成，可使複數個光源30同時點燈。即，在使一方之光源30點燈並測量之間，可使光源30點燈並進行老化。此外，在臂22-1與臂22-2之間，係因為被遮光幕70等所遮光，所以從老化中之光源30所照射的光不會成為量測誤差。

若依據本變形例，因為可平行地執行某光源30之光放射特性的量測與別的光源30之老化，所以可縮短老化時間所造成之量測等待時間。又，可縮短配置於量測位置之光源30的更換所需的時間。

<G.第2變形例(測光距離之延長化)>

若依據上述之JIS C8105-5：2011「照明器具-第5部：配光量測方法」，在測量配光特性時之測光距離(從光源30至受光部6)係光源(照明器具)之發光面之最大尺寸的5倍以上較佳。例如，在測量1.2m之日光燈的光放射特性之情況的測光距離係設為6m以上較佳。

但，該發光面之最大尺寸之5倍的條件係根據即使從光源30所照射之光之光束的發散是120%，亦可使光度之誤差成為1%以下的假設所決定者。因此，例如，在光源30具有聚光性之配光特性的情況，發光面之最大尺寸之5倍時係不充分，需要更長之測光距離。

因此，作為本實施形態之第2變形例，說明可使測光距離延長的構成。

第8圖係表示根據本發明之實施形態的第2變形例之光學測量裝置1B的模式圖。第8圖所示之光學測量裝置1B係與第1圖所示之光學測量裝置1相比，在配置替代鼓輪2之鼓輪2B上相異。關於其他的構成，因為係與第1圖所示之光學測量裝置1相同，所以詳細說明係不重複。

鼓輪2B係除了平面鏡12及平面鏡14B以外，還包含平面鏡16-1、16-2、16-3。平面鏡14B係與第1圖所示之平面鏡14相同，使鼓輪2之內部的光反射，並沿著光軸AX1使該光向鼓輪2之外部射出。平面鏡16-1、16-2、16 -3係構成用以將射入平面鏡12之光導向平面鏡14B的光路。即，平面鏡16-1、16-2、16-3係在與X軸正交之方向引導來自光源30之光，藉此，構成更長之光路。

因為藉該平面鏡16-1、16-2、16-3所構成之光路係比藉第1圖所示之平面鏡16所構成的光路長，所以可實現更長之測光距離。

在第8圖，表示構成來自光源30之光沿著Y軸，朝向紙面上方向僅傳播一次之光路的例子，但是未限定如此，亦可形成在紙面上方向或紙面下方向傳播複數次之光路。

第9圖係表示根據本發明之實施形態的第2變形例之別的光學測量裝置1C的模式圖。第10圖係在第9圖之X-X線的剖面圖。

第9圖所示之光學測量裝置1C係與第1圖所示之光學測量裝置1相比，在配置替代鼓輪2之鼓輪2C上相異。關於其他的構成，因為係與第1圖所示之光學測量裝置1相同，所以詳細說明係不重複。

鼓輪2C係除了平面鏡12及平面鏡14C以外，還包含以將X軸作為中心之既定關係所配置的平面鏡16-4、16-5、16-6、16-7。平面鏡14C係與第1圖所示之平面鏡14相同，使鼓輪2之內部的光反射，並沿著光軸AX1使該光向鼓輪2之外部射出。平面鏡16-4、16-5、16-6、16-7係構成用以將射入平面鏡12之光導向平面鏡14C的光路。即，平面鏡16-4、16-5、16-6、16-7係在與X軸正交之方向引導來自光源30之光，藉此，構成更長之光路。如第10圖所示，平面鏡16-4、16-5、16-6、16-7係構成為使來自光源30之光在X軸至少局部地繞其周圍。

因為藉該平面鏡16-4、16-5、16-6、16-7所構成之光路係比藉第1圖所示之平面鏡16所構成的光路長，所以可實現更長之測光距離。

在第9圖及第10圖，表示構成來自光源30之光以X軸為中心，在順時鐘方向繞3/4圈之光路的例子，但是未限定如此，亦可形成以X軸為中心，繞複數圈之光路。進而，亦可將第8圖所示的構成例與第9圖及第10圖所示的構成例適當地組合。

<H.優點>

若依據本實施形態，可實現一種Moving Mirror方式的配光量測裝置。若依據本實施形態，因為光源30不移動，所以可在光源30之周圍温度保持定值，而可使在量測中之光源30的特性穩定化。進而，因為從鼓輪2射出後射入受光部6之光軸係與鼓輪2之轉動角度無關，是定值，所以可提高量測精度。

若依據本實施形態，在藉平面鏡16所反射之光射出的面，係作為開口僅設置觀測窗18，所以可減少射入受光部6之雜散光。

若依據本實施形態，因為使用配置於鼓輪2之外周側的驅動機構，所以可使裝置小型化。又，因為驅動機構位於鼓輪2之外周側，所以可使使用者對光源30之接近變成更容易。

應認為這次所揭示之實施形態係在所有的事項上係舉例表示，不是限制性者。本發明之範圍係不是上述之說明，而藉申請專利範圍所表示，包含與申請專利範圍同等之意義及範圍內之所有的事項。

1‧‧‧光學測量裝置

2‧‧‧鼓輪

4‧‧‧控制部

6‧‧‧受光部

10‧‧‧光源窗

12、14、16‧‧‧平面鏡

18‧‧‧觀測窗

20‧‧‧光源支撐部

22‧‧‧臂

30‧‧‧光源

52、54‧‧‧輥

62、64‧‧‧遮光板

200‧‧‧處理裝置

AX1‧‧‧光軸

θ、ψ‧‧‧轉動角度

Claims

一種光學測量裝置，以與照射角賦予關聯之方式檢測出從光源所照射之光，其包括：中空之圓筒狀構件，係在一方之平面具有第1開口，而且在另一方之平面具有第2開口；轉動機構，包含對圓筒狀構件進行轉動支撐的輥，係用以沿著是該圓筒狀構件之中心軸的第1軸使該圓筒狀構件轉動；支撐部，係用以在係該第1軸上，而且係所照射之光通過該第1開口並射入該圓筒狀構件之內部的位置的量測位置，配置該光源；第1反射部，係配置於該圓筒狀構件之內部，並使從該光源經由該第1開口所射入的光反射；第2反射部，係使該圓筒狀構件之內部的光反射，並使該光經由該第2開口，沿著該第1軸向該圓筒狀構件之外部傳播；及至少一個之第3反射部，係用以使以該第1反射部所反射的光向該第2反射部射入；其中該支撐部係包含：用以支撐複數個光源之臂；及切換手段，係藉由使該臂轉動，而依序切換配置於該量測位置的光源。
一種光學測量裝置，以與照射角賦予關聯之方式檢測出從光源所照射之光，其包括：中空之圓筒狀構件，係在一方之平面具有第1開口，而且在另一方之平面具有第2開口；轉動機構，包含對圓筒狀構件進行轉動支撐的輥，係用以沿著是該圓筒狀構件之中心軸的第1軸使該圓筒狀構件轉動；支撐部，係用以在係該第1軸上，而且係所照射之光通過該第1開口並射入該圓筒狀構件之內部的位置的量測位置，配置該光源；第1反射部，係配置於該圓筒狀構件之內部，並使從該光源經由該第1開口所射入的光反射；第2反射部，係使該圓筒狀構件之內部的光反射，並使該光經由該第2開口，沿著該第1軸向該圓筒狀構件之外部傳播；及至少一個之第3反射部，係用以使以該第1反射部所反射的光向該第2反射部射入；其中該第3反射部係包含複數個反射部，該反射部係配置成在與該第1軸係正交之方向引導來自該光源之光。
如申請專利範圍第2項之光學測量裝置，其中該第3反射部係構成為使來自該光源之光在該第1軸至少局部地繞其周圍。
如申請專利範圍第1至3項中任一項之光學測量裝置，其中該支撐部係構成為可沿著與該第1軸係正交之第2軸使該光源轉動。
如申請專利範圍第1至3項中任一項之光學測量裝置，其中更包括配置於該第1軸上之受光部。