TWI593043B - 搬運方法及基板處理裝置 - Google Patents

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菊池�浩
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Description

搬運方法及基板處理裝置
本發明主張以2014年03月04日於日本提出申請之日本出願特願第2014-042136號為基礎的優先權，將其揭露之內容全部援用至此。
本發明係關於一種搬運方法及基板處理裝置。
在半導體裝置之製造中，對係被處理體之各種基板(例如半導體晶圓)，施行成膜處理、氧化處理、擴散處理、退火處理等基板處理。施行此等基板處理之基板處理裝置，例如具備：供將收納有複數片晶圓之載體搬入處理裝置內所用的載置台(載入埠)、在將收納於載體內之晶圓搬運至晶圓舟時保持載體的保持台(FIMS埠)、以及供暫時存放載體所用的收納架(暫存架)。
一般而言，在基板處理裝置內之載體的搬運，係在藉由搬運機構的手部把持設置於載體上部之凸緣部的狀態(參考例如日本特開2004-363363號)、或將載體載置於設置在搬運機構之動態銷上的狀態下實施。
在將晶圓搬入基板處理裝置內的程序中，首先，將收納有晶圓之載體載置於載入埠。而後，藉由搬運機構，將載體自載入埠，往暫存架或FIMS埠搬運。接著，自FIMS埠上之載體取出晶圓，將晶圓進行各種處理後，再度將晶圓收納至載體而往進行下一個步驟處搬出。
若依本發明之一態樣，則提供一種搬運方法，於基板處理裝置內，將可密閉收納基板且上部形成有凸緣部之收納容器，利用具備設有凸緣***部之手部的搬運機構，從在第1水平方向並排設置至少2個以上，可各自往與該第1水平方向垂直之第2水平方向水平移動的載置台，往與該載置台於該第2水平方向側分隔設置的搬運場所搬運；該搬運方法包含以下步驟：第1步驟，使載置有搬運對象的該收納容器之該載置台，往該第2水平方向的該搬運場所側移動既定距離；第2步驟，使該手部，從載置有搬運對象亦即該收納容器之載置台所鄰接的該載置台側往該第1水平方向滑動，以將該凸緣部***至該凸緣***部內；第3步驟，藉由該手部，將該收納容器從該載置台往該搬運場所搬運。
上述概要僅供說明所用，其任一方式皆無限制本發明之意圖。藉由參考附圖及下述詳細說明，可使上述說明之態樣、實施例及特徵，以及追加之態樣、實施例及特徵更為明確。
2‧‧‧筐體
2a‧‧‧側壁
4‧‧‧分隔壁
6‧‧‧搬運口
8‧‧‧門機構
10‧‧‧第1搬運區域
12‧‧‧第2搬運區域
14a、14b‧‧‧載入埠
16‧‧‧暫存架
18‧‧‧定位銷
20a‧‧‧供給噴嘴
20b‧‧‧排氣噴嘴
22a‧‧‧吸氣口
22b‧‧‧排氣口
24‧‧‧FIMS埠
26‧‧‧熱處理爐
28‧‧‧卡鉤
30‧‧‧載體搬運機構
32‧‧‧第1引導部
34‧‧‧第2引導部
36‧‧‧移動部
38‧‧‧臂部
40‧‧‧凸緣部
42‧‧‧凸緣***部
44‧‧‧手部
46‧‧‧凹部
48‧‧‧卡止部
52‧‧‧保溫筒
54‧‧‧蓋體
56‧‧‧晶圓移載機構
58‧‧‧引導機構
60‧‧‧移動體
62‧‧‧叉架
64‧‧‧開口部
66‧‧‧收納容器本體
68‧‧‧蓋體
70‧‧‧支持部
72‧‧‧卡合溝
74‧‧‧卡合部
76‧‧‧頸部
78‧‧‧定位溝
80‧‧‧溝部
100‧‧‧基板處理裝置
C‧‧‧載體
S1‧‧‧載體搬運區域
S2‧‧‧晶圓搬運區域
W‧‧‧晶圓
S100、S110、S120、S1000、S1100、S1200、S1300、S1400‧‧‧步驟
圖1係本實施形態的基板處理裝置之一例的概略構成圖。
圖2係本實施形態的基板處理裝置之一例的概略俯視圖。
圖3係本實施形態的載體搬運區域之一例的概略立體圖。
圖4(a)及4(b)係載體之一例的概略構成圖。
圖5(a)及5(b)係本實施形態的搬運方法之一例的流程圖。
圖6(a)至6(j)係用於說明本實施形態的搬運方法之一例的載體搬運區域之概略俯視圖。
圖7(a)至7(j)係用於說明本實施形態的搬運方法之另一例的載體搬運區域之概略俯視圖。
下述詳細說明中，參考構成說明書的一部分之附圖。詳細說明、附圖及請求項所記載之說明的實施例並非意在限制本發明。亦可在未脫離此處所示之本發明的思想或範圍之範疇內，使用其他實施例，或進行其他變形。
近年，自晶片尺寸的大型化與提高生產力之觀點來看，開發大口徑尺寸之半導體晶圓。伴隨半導體晶圓的大口徑化，其重量亦增大，故在載體的搬運時，搬運機構之臂部等的撓曲變大。因此，而有為了使搬運機構的剛性增大，而使搬運機構的大小、重量變大等問題。
因而，本發明提供一種，藉由輕量的搬運機構，而可搬運收納基板的載體之搬運方法。
若依本發明之一態樣，則提供一種搬運方法，於基板處理裝置內，將可密閉收納基板且上部形成有凸緣部之收納容器，利用具備設有凸緣***部之手部的搬運機構，從在第1水平方向並排設置至少2個以上，可各自往與該第1水平方向垂直之第2水平方向水平移動的載置台，往與該載置台於該第2水平方向側分隔設置的搬運場所搬運；該搬運方法包含以下步驟：第1步驟，使載置有搬運對象亦即該收納容器之該載置台，往該第2水平方向的該搬運場所側移動既定距離；第2步驟，使該手部，從載置有搬運對象亦即該收納容器之載置台所鄰接的 該載置台側往該第1水平方向滑動，以將該凸緣部***至該凸緣***部內；以及第3步驟，藉由該手部，將該收納容器從該載置台往該搬運場所搬運。
上述搬運方法中，該第3步驟，包含以下步驟：第4步驟，使該手部上升，使該收納容器往該載置台之上方移動；以及第5步驟，於該第4步驟後，使該手部，從該第1水平方向之載置有搬運對象亦即該收納容器之該載置台側，往旁邊的該載置台側滑動既定距離。
上述搬運方法中，更包含第6步驟，於該第3步驟後，使該手部，從該第1水平方向之載置有搬運對象亦即該收納容器之該載置台側，往旁邊的該載置台側滑動既定距離，解除該手部之對於該凸緣部的卡止。
上述搬運方法中，該手部，於底面側具有卡止部，與***之該凸緣部的底面卡止。
上述搬運方法中，該基板處理裝置，具有基板搬運區域與容器搬運區域，藉由在該第1水平方向具備1個或2個以上的搬運口之分隔壁予以區隔；該基板處理裝置更具備：保持台，於該容器搬運區域內與該搬運口對應地設置，為了將收納在該收納容器的該基板，從該容器搬運區域起經由該搬運口往該基板搬運區域傳遞，而保持該收納容器；以及收納架，設置於該保持台之上方，收納該收納容器。
上述搬運方法中，該搬運場所，係該保持台或該收納架中之任一方。
上述搬運方法中，該收納容器，於底部具有定位用的溝部；該載置台、該保持台及該收納架，具有與該定位用的溝部卡合之定位用的銷。
上述搬運方法中，該搬運機構，具備：第1引導部，設置於該搬運場所與該載置台之間，往鉛直方向延伸；第2引導部，與該第1引導部連接而可於鉛直方向移動，往該第1水平方向延伸；移動部，與該第2引導部連接，可於該第1水平方向移動；以及臂部，設置於該移動部；而該手部，設置於該臂部之前端。
若依本發明之其他態樣，則提供一種基板處理裝置，具有基板搬運區域與容器搬運區域，藉由在第1水平方向具備1個或2個以上的搬運口之分隔壁予以區隔；該基板處理裝置具備：保持台，於該容器搬運區域內與該搬運口對應地設置，為了將收納在可密閉收納基板且上部形成有凸緣部之收納容器的該基板，從該容器搬運區域起經由該搬運口往該基板搬運區域傳遞，而保持該收納容器；收納架，設置於該保持台之上方，收納該收納容器；載置台，於該容器搬運區域，在第1水平方向及垂直於鉛直方向之第2水平方向與該保持台分隔設置，可往該保持台側水平移動，於該第1水平方向並排設置至少2個以上；搬運機構，具有：第1引導部，設置於該保持台與該載置台之間，往鉛直方向延伸；第2引導部，與該第1引導部連接而可於鉛直方向移動，往該第1水平方向延伸；移動部，與該第2引導部連接，可於該第1水平方向移動；臂部，設置於該移動部，可往該第2水平方向伸縮；及手部，設置於該臂部之前端，具有凸緣***部； 以及控制部，控制該搬運機構的作動。該控制部，實施以下步驟，以控制該搬運機構的作動：第1步驟，使載置有搬運對象亦即該收納容器之該載置台，往該第2水平方向的該保持台側移動既定距離；第2步驟，使該手部，從載置有搬運對象亦即該收納容器之載置台所鄰接的該載置台側往該第1水平方向滑動，以將該凸緣部***至該凸緣***部內，將該手部與該凸緣部卡止；以及第3步驟，藉由該手部，將該收納容器從該載置台往該保持台或該收納架搬運。
若依本發明之另一態樣，則提供一種搬運方法，於基板處理裝置內，將可密閉收納基板且上部形成有凸緣部之收納容器，利用具備設有凸緣***部之手部的搬運機構，從第1載置台，往第2載置台搬運；該第2載置台，在第1水平方向並排設置至少2個以上，可各自往與該第1水平方向垂直之第2水平方向水平移動；該第1載置台，與該第2載置台於該第2水平方向側分隔設置；該搬運方法包含以下步驟：第1步驟，使該手部，往該第1水平方向滑動，以對載置於該第1載置台之搬運對象亦即該收納容器，將該凸緣部***至該凸緣***部內；第2步驟，使搬運該收納容器之該第2載置台，往該第2水平方向的該第1載置台側移動既定距離；第3步驟，藉由該手部，使該收納容器，從該第1載置台，往移動過的該第2載置台移動；第4步驟，使該手部，於該第1水平方向往載置有搬運對象亦即該收納容器之該第2載置台所鄰接的該第2載置台側滑動，以將該凸緣部自該凸緣***部拔出；以及第5步驟，使載置有搬運對象亦即該收納容器之該第2載置台，往該第2水平方向之與該第1載置台為相反側的方向移動該既定距離。
本發明之更另一態樣，則提供一種基板處理裝置，具有基板搬運區域與容器搬運區域，藉由在第1水平方向具備1個或2個以上的搬運口之分隔壁予以區隔；該基板處理裝置具備：保持台，於該容器搬運區域內與該搬運口對應地設置，為了將收納在可密閉收納基板且上部形成有凸緣部之收納容器的該基板，從該容器搬運區域起經由該搬運口往該基板搬運區域傳遞，而保持該收納容器；收納架，設置於該保持台之上方，收納該收納容器；載置台，於該容器搬運區域，在第1水平方向及垂直於鉛直方向之第2水平方向與該保持台分隔設置，可往該保持台側水平移動，於該第1水平方向並排設置至少2個以上；搬運機構，具有：第1引導部，設置於該保持台與該載置台之間，往鉛直方向延伸；第2引導部，與該第1引導部連接而可於鉛直方向移動，往該第1水平方向延伸；移動部，與該第2引導部連接，可於該第1水平方向移動；臂部，設置於該移動部，可往該第2水平方向伸縮；及手部，設置於該臂部之前端，具有凸緣***部；以及控制部，控制該搬運機構的作動。該控制部，實施以下步驟，以控制該搬運機構的作動：第1步驟，使該手部，往該第1水平方向滑動，以對載置於該收納架或該保持台之搬運對象亦即該收納容器，將該凸緣部***至該凸緣***部內；第2步驟，使搬運該收納容器之該第2載置台，往該第2水平方向的該收納架及該保持台側移動既定距離；第3步驟，藉由該手部，使該收納容器，自該收納架或該保持台，往移動過的該載置台移動；第4步驟，使該手部，於該第1水平方向往載置有搬運對象亦即該收納容器之該載置台所鄰接的該載置台側滑動，以將該凸緣部自該凸緣***部拔出；以及第5步驟，使載置有搬運對象亦即該收納容器之該載置台，往該第2水平方向之與該收納架及該保持台為相反側的方向移動該既定距離。
本發明能夠提供一種，藉由輕量的搬運機構，而可搬運收納基板的載體之搬運方法。
以下，參考附圖對本發明之實施形態加以說明。
(基板處理裝置)
首先，對於可實施本實施形態之搬運方法的基板處理裝置之構成例加以說明。圖1，顯示本實施形態的基板處理裝置之一例的概略構成圖。此外，圖2，顯示本實施形態的基板處理裝置之一例的概略俯視圖。進一步，圖3，顯示本實施形態的載體搬運區域之一例的概略立體圖。另，圖2中，為了說明，顯示在圖1的載入埠14之一方與FIMS埠24，未載置載體C的狀態。
另，本實施形態之搬運方法，雖可應用於縱式熱處理裝置以外的各種基板處理裝置，但為了容易理解，本實施形態中，列舉利用縱式熱處理裝置作為具體的基板處理裝置之1種而實施的例子進行說明。
如圖1所示地，基板處理裝置100，收納於構成裝置之外裝體的筐體2而構成。於筐體2內形成有：載體搬運區域S1，將收納有係被處理體之半導體晶圓W(以後，晶圓W)的係容器之載體C，對裝置搬入、搬出；以及晶圓搬運區域S2，搬運載體C內之晶圓W而搬入至後述的熱處理爐26內。
關於載體C之構成的細節將於後述內容說明，而搬運晶圓W時，為了防止異物對晶圓W表面的附著或自然氧化膜的形成，而將半導體晶圓收納在被稱作FOUP(Front-Opening Unified Pod，晶圓傳送盒)之基板收納容器，將容器內之潔淨度保持在既定的程度。
載體搬運區域S1與晶圓搬運區域S2，藉由分隔壁4予以區隔。載體搬運區域S1，係大氣氛圍下之區域，為將收納有晶圓W的載體C，在基板處理裝置100內之後述要素間搬運的，從外部往基板處理裝置100內搬入或從基板處理裝置往外部搬出之區域。另一方面，晶圓搬運區域S2，係自載體C將晶圓W取出，施行各種處理之區域，為了防止在晶圓W形成氧化膜，而使此區域為惰性氣體氛圍，例如氮(N2)氣氛圍。後述說明中，使載體搬運區域S1及晶圓搬運區域S2之配置方向為前後方向(對應於後述第2水平方向)，使載體搬運區域S1側為前方，使晶圓搬運區域S2側為後方。此外，使與該前後方向垂直之水平方向為左右方向(對應於後述第1水平方向)。
另，可構成為於晶圓搬運區域S2的頂棚部，設置未圖示之HEPA過濾器或ULPA過濾器等過濾單元，供給藉由此等過濾器潔淨化之空氣。
於分隔壁4設置搬運口6，供在載體搬運區域S1與晶圓搬運區域S2之間搬運晶圓W所用。藉由依據FIMS(Front-Opening Interface Mechanical Standard)規格之門機構8，開啟關閉該搬運口6。
對載體搬運區域S1予以說明。載體搬運區域S1，係由第1搬運區域10、及位於第1搬運區域10之後方側的第2搬運區域12構成。
如圖1所示，於第1搬運區域10，作為一例具備上下2層且於各層左右2個(參考圖2)之載入埠14。載入埠14，係在將載體C搬入至基板處理裝置100時，接收載體C之搬入用的載置台。
載入埠14，設置於筐體2之壁面的開放處，可達成從外部進出基板處理裝置100。具體而言，藉由設置於本實施形態的基板處理裝置100之外部的未圖示之搬運裝置，可將載體C搬入而往載入埠14上載置、及自載入埠14起將載體C往外部搬出。此外，載入埠14，例如於上下存在2層，故可將雙方的載體C搬入及搬出。
此外，為了能夠在第1搬運區域10之不存在上下2層載入埠14的位置，保管多個載體C，而亦可具備後述之暫存架16。
如圖2所示，於載入埠14之載體C載置面，將定位載體C的定位銷18，例如設置於3處。此外，構成為至少在載入埠14上載置有載體C之狀態中，使載入埠14可往前後方向移動。
亦可於載入埠14，如圖2所示地，設置供給噴嘴20a、及排氣噴嘴20b。一般在載體C的底面，設置吸氣口22a及排氣口22b(參考後述圖4(b))，載入埠14， 可在載置載體C時，於與載體C之吸氣口22a對應的位置設置供給噴嘴20a，於與載體C之排氣口22b對應的位置設置排氣噴嘴20b。藉由設置此等供給噴嘴20a、排氣噴嘴20b，而可在將載體C載置於載入埠14上時，對載體C之內部供給惰性氣體，施行載體C內部的氮置換。藉此，在空間內雖填滿惰性氣體但並未供給惰性氣體之狀態下搬運的載體C，可在搬入至載入埠14之階段立即再度開始惰性氣體的供給。
於第2搬運區域12之下部側，左右方向並排地配置2個FIMS埠24。FIMS埠24，係在對晶圓搬運區域S2內的後述熱處理爐26，搬入及搬出載體C內之晶圓W時，保持載體C之保持台。FIMS埠24，構成為往前後方向任意移動。如圖2所示，於FIMS埠24之載置面，亦與載入埠14同樣地，將定位載體C的定位銷18，例如設置於3處。進一步，於FIMS埠24之載置面，設置供固定載體C所用的卡鉤28。
於第2搬運區域12之上部側，設置保管載體C的暫存架16。暫存架16，係由2層以上(圖1所示之例子中為3層)的棚架構成，各個棚架，可於左右方向載置2個以上之載體C。此外，亦可為在第2搬運區域12之下部側的未配置載體載置台之區域，亦配置暫存架16的構成。
亦可為構成在暫存架16的底面，亦與載入埠14同樣地，設置前述之供給噴嘴20a及排氣噴嘴20b，可將載置於暫存架16上之載體C的內部置換為惰性氣體。
於第1搬運區域10與第2搬運區域12之間設置載體搬運機構30，將載體C，在載入埠14、FIMS埠24、與暫存架16之間搬運。
如圖2所示，載體搬運機構30，具備：第1引導部32，往上下方向延伸；第2引導部34，與該第1引導部32連接，往左右方向(第1水平方向)延伸；移動部36，引導該第2引導部34並往左右方向移動；以及(多)關節臂部38(圖2所示之例子中為具有1個關節的2條臂部)，設置於該移動部36。
此外，如圖1所示，於多關節臂部38之前端，設置形成有凸緣***部42之手部44，該凸緣***部42構成為可***載體C之後述的凸緣部40且可與凸緣部40卡止。更具體而言，本實施形態中，可使手部44的剖面，如圖1之一例所示地，呈略C字形。亦即，於凸緣***部42之兩側，延伸形成一對凹部46。此外，在手部44的下端形成一對卡止部48，卡止部48分別成為該一對凹部46之各自的一側面，並與凸緣部40卡止。該一對卡止部48，藉由使其頂面支持凸緣部40的底面，而構成為可支持凸緣部40。因此，將對向之卡止部48間的距離，設計為較載體C之後述頸部76的寬度略大，並將凸緣***部42的寬度，設計為較載體C之凸緣部40的寬度略大。另，於卡止部48，為了與載體C的凸緣部40對準，而可設置與凸緣部40卡合之構成。
如同前述地，於分隔壁4設置晶圓W的搬運口6，與載體搬運區域S1及晶圓搬運區域S2連通。於搬運口6設置門機構8，自晶圓搬運區域S2側封閉搬運口6。 於門機構8，連接未圖示之驅動機構，藉由驅動機構使門機構8構成為可往前後方向及上下方向任意移動，將搬運口6開啟關閉。
其次，對晶圓搬運區域S2加以說明。
於晶圓搬運區域S2，設置下端作為爐口而開口的縱式之熱處理爐26。於該熱處理爐26之下方側，將棚架狀地保持多數片晶圓W的晶圓舟50，隔著保溫筒52載置於蓋體54上方。換而言之，則蓋體54，於晶圓舟50之下方側，與晶圓舟50一體化地設置。
將蓋體54，支持於未圖示之升降機構上方，藉由該升降機構將晶圓舟50對熱處理爐26搬入或搬出。
晶圓舟50，例如為石英製，構成為將大口徑例如直徑450mm或300mm等晶圓W，以水平狀態在上下方向隔著既定間隔搭載。一般而言，收納於晶圓舟50之晶圓W的片數雖未限定，但例如為50~150片程度。
此外，在晶圓舟50與分隔壁4的搬運口6之間，設置晶圓移載機構56。如圖2所示，該晶圓移載機構56，係供在保持於FIMS埠24上的載體C、及晶圓舟50之間，施行晶圓W的移載所用。晶圓移載機構56，構成為沿著往左右方向延伸之引導機構58移動，並於繞鉛直軸地轉動之移動體60，設置5片可任意進退的叉架62(移載板)。
(載體)
而後，參考圖4(a)、圖4(b)，對載體C之構成加以說明。
圖4(a)，顯示載體C之一例的概略立體圖。此外，圖4(b)，顯示載體C的底面之一例的概略圖。
載體C，主要具備在一側面形成有開口部64之收納容器本體66、及封閉該開口部64之蓋體68。
形成在收納容器本體66之開口部64，係用於將晶圓W搬出入的元件，設置在收納容器本體66的側面之，在載置於FIMS埠24時與搬運口6對向的面。
在收納容器本體66之內部的左右，將支持晶圓W之背面側的支持部70(隔板部)設置複數層。
於收納容器本體66之開口部64側的內周，形成卡合溝72，藉由將蓋體68之卡合部74與該卡合溝72卡合，而將蓋體68固定在收納容器本體66。
於載體C的頂面，形成例如矩形之頸部76，在該頸部76的上端，形成矩形地延伸出之凸緣部40。前述之載體搬運機構30，以手部44之卡止部48支持該凸緣部40的底面，而搬運載體C。另，可使凸緣部40，為容易與手部44對準之形狀。
於載體C的底面，如圖4(b)所示地，形成1條或複數條定位溝78。如同前述地，於載入埠14、暫存架16及FIMS埠24，各自形成與定位溝78卡合的定位銷18。在藉由該定位銷18及定位溝78，將載體C載置於載入埠14、暫存架16或FIMS埠24之情況，將載體C定位於既定的位置。另，於圖4(b)，雖顯示形成有3條定位溝的例子，但此數目並未限定。
此外，於載體C的底面，在與形成於FIMS埠24之載置面的供固定載體C所用之卡鉤28對應的位置，形成溝部80。藉由將該溝部80與卡鉤28卡合，而將載體C固定於FIMS埠24。
(搬運方法)
接著，參考附圖，對於使用本實施形態的基板處理裝置100之搬運方法，更具體而言，載體搬運機構30所進行的載體C之搬運方法，加以說明。
圖5(a)及5(b)，顯示本實施形態的搬運方法之一例的流程圖。
如圖5(a)所示，本實施形態之搬運方法，係搬入晶圓W時的搬運方法，在基板處理裝置100內，將可密閉收納基板且上部形成有凸緣部40之收納容器(例如前述之FOUP)，利用具備設有凸緣***部42的手部44之搬運機構(例如前述之載體搬運機構30)，從在第1水平方向(與左右方向對應)並排設置至少2個以上，可各自往與該第1水平方向垂直之第2水平方向(與前後方向對應)水平移 動的載置台(例如前述之載入埠14)，往與該載置台於該第2水平方向側分隔設置的搬運場所(例如前述之FIMS埠24或暫存架16)搬運；該搬運方法包含以下步驟：第1步驟(S100)，使載置有搬運對象亦即該收納容器之該載置台，往該第2水平方向的該搬運場所側移動既定距離；第2步驟(S110)，使該手部44，從載置有搬運對象亦即該收納容器之載置台所鄰接的該載置台側往該第1水平方向滑動，以將該凸緣部40***至凸緣***部42內；以及第3步驟(S120)，藉由該手部44，將該收納容器從該載置台往該搬運場所搬運。
此外，如圖5(b)所示，另一實施形態之搬運方法，係將晶圓W搬出時的搬運方法，在基板處理裝置100內，將可密閉收納基板且上部形成有凸緣部40之收納容器，利用具備設有凸緣***部42之手部44的搬運機構，從第1載置台(例如前述之FIMS埠24或暫存架16)，往第2載置台(例如前述之載入埠14)搬運；該第2載置台，在第1水平方向並排設置至少2個以上，可各自往與該第1水平方向垂直之第2水平方向水平移動；該第1載置台，與該第2載置台於該第2水平方向側分隔設置；該搬運方法包含以下步驟：第1步驟(S1000)，使該手部44，往該第1水平方向滑動，以對載置於該第1載置台之搬運對象亦即該收納容器，將該凸緣部40***至該凸緣***部42內；第2步驟(S1100)，使搬運該收納容器之該第2載置台，往該第2水平方向的該第1載置台側移動既定距離；第3步驟(S1200)，藉由該手部44，使該收納容器，從該第1載置台，往移動過的該第2載置台移動；第4步驟(S1300)，使該手部44，於該第1水平方向往載置有搬運對象亦即該收納容器之該第2載置台所鄰接的該第2載置台側滑動，以將該凸緣部自該凸緣***部拔出；以及第5步驟(S1400)，使載置有搬運對象亦即該收 納容器之該第2載置台，往該第2水平方向之與該第1載置台為相反側的方向移動該既定距離。
對於各步驟之具體的實施形態，列舉使用圖1至圖3說明之縱式熱處理裝置為例，參考圖6(a)至6(j)而加以說明。然而，本實施形態之搬運方法，可適用於其他各種基板處理裝置100。
圖6(a)~圖6(j)，顯示用於說明本實施形態的搬運方法之一例的載體搬運區域之概略俯視圖。另，圖6(a)，為了容易理解，圖示第1水平方向及第2水平方向，各附圖中的虛線，顯示前一張圖中之載體C的位置。
圖6(a)為，實施本實施形態的搬運方法前之手部44及載體C的初始配置例。作為說明之一例，於第1水平方向(前述左右方向)，2個並排地設置載入埠14，在該2個載入埠14上載置載體C。
載體搬運機構30，如同前述地，具有往上下方向延伸之第1引導部32。第1引導部32，在圖6(a)所示的第2水平方向之載體C的搬運過程中，以不妨礙載體C的搬運路徑之方式，靠筐體2的側壁2a側而配置。本實施形態中，將配置有該第1引導部32之側壁2a側的載入埠14稱作第1載入埠14a，將另一方的載入埠14稱作第2載入埠14b。另，列舉將載置於第1載入埠14a上之載體C，往FIMS埠24搬運的情況為例，於下述內容說明。然而，本發明並未限定於此一情況，亦可適用在將載置於第1載入埠14a上之載體C，往暫存架16搬運的情況等。
首先，如同以圖6(b)的箭頭所示之移動方向，使載置有載體C之第1載入埠14a，往第2水平方向的FIMS埠24側移動既定距離(S100)。
第1載入埠14a的移動距離，為載體搬運機構30之手部44搬運第1載入埠14a上之載體C時，未侵入至關於第2載入埠14b之SEMI規格的排除區域之程度即可，例如，可如圖6(b)所示地，為1個載體C之寬度。
接著，如同以圖6(c)的箭頭所示之移動方向，調整手部44的高度，以使手部44之凸緣***部42(參考圖1)與載體C之凸緣部40的高度對應，並使手部44，對載置於第1載入埠14a之載體C的凸緣部40，往第1水平方向的第2載入埠14b側移動。使手部44，對載置於第1載入埠14a之載體C的凸緣部40，往與第1水平方向的第2載入埠14b之相反側移動的情況，臂部38，有與筐體2的側壁2a或第1引導部32干涉之情況。此一干涉，雖可藉由將筐體2的尺寸增大而避免，但在此一情況，因基板處理裝置100之底面積增大而較不適宜。
而後，如同以圖6(d)的箭頭所示之移動方向，使手部44滑動，以將凸緣部40***至凸緣***部42內(S110)。另，如同前述地，可於載體C的凸緣部40及手部44，設置使彼此之對準簡易化的構成。
接著，在鬆開載入埠14之對於載體C的卡鉤28後使手部44上升，將載體C自第1載入埠14a卸下。此時，手部44之卡止部48支持凸緣部40的底面，將載體C卡 止在手部44。之後，宜使其往第1水平方向的第2載入埠14b側滑動既定距離(參考圖6(e)的箭頭之移動方向)。如同前述地，載體搬運機構30的臂部38，有與筐體2的側壁2a或第1引導部32干涉之情況。然而，藉由使手部44，從載置有搬運對象的載體之載入埠14(第1載入埠14a)側，往旁邊的載入埠14(第2載入埠14b)側滑動既定距離，即便在將基板處理裝置100的底面積減小之情況，仍可防止此一干涉(參考圖6(f))。
接著，如同以圖6(f)及圖6(g)的箭頭所示之移動方向，將支持載體C之手部44，從第2水平方向的載入埠14側，往搬運場所側(FIMS埠24或暫存架16側，圖6所示之例子中為FIMS埠24)搬運。而後，如同以圖6(h)的箭頭所示之移動方向，使支持載體C之手部44，從第1水平方向的第2載入埠14b側往第1載入埠14a側移動，移動至FIMS埠24之上方，並使手部44下降而將載體C往FIMS埠24上載置。
藉由FIMS埠24之卡鉤28(參考圖2)固定載體C後，如同以圖6(i)的箭頭所示之移動方向，使手部44，從第1水平方向的第1載入埠14a側，往第2載入埠14b側滑動既定距離，而解除手部44所產生之凸緣部40的卡止。最後，使手部44返回初期位置，結束搬入晶圓W時之載體C的搬運。
另，參考圖7(a)~圖7(j)，對將晶圓W搬出時之載體C的搬運加以說明。
圖7(a)~圖7(j)，顯示用於說明本實施形態的搬運方法之另一例的載體搬運區域之概略俯視圖。另，於圖7(a)，為了容易理解，圖示第1水平方向及第2水平 方向，圖7(a)~圖7(f)中的虛線，顯示第1載入埠14a的位置。此外，搬出晶圓W時之載體C的搬運，基本上，以與圖6(a)~圖6(j)相反的動作施行，故關於各個構成要素，係使用與圖6(a)~圖6(j)相同之構成要素而予以說明。
圖7(a)為，實施本實施形態的搬運方法前之手部44及載體C的初始配置例。作為說明之一例，對於如下情況進行說明：在第1水平方向，2個並排地設置載入埠14a、14b，於第2載入埠14b、及FIMS埠24(亦可為暫存架16)載置載體C，將FIMS埠24上之載體C往第1載入埠14a搬運。
首先，如同以圖7(b)的箭頭所示之移動方向，使手部44，往FIMS埠24側移動。此時，調整手部44的高度，以使手部44之凸緣***部42(參考圖1)與載體C之凸緣部40的高度對應，並對載置於FIMS埠24之載體C的凸緣部40，於第1水平方向隔著既定距離配置手部44。
其次，如同以圖7(c)的箭頭所示之移動方向，使手部44滑動，以將凸緣部40***至凸緣***部42內(S1000)。此外，此時，使第1載入埠14a，往第2水平方向的FIMS埠24側移動既定距離(S1100)。
第1載入埠14a的移動距離，為後述圖7(f)及圖7(g)中載體搬運機構30之手部44將載體C載置於第1載入埠14a上時，未侵入至關於第2載入埠14b之SEMI規格的排除區域之程度即可，例如，可如圖6(c)所示地，為1個載體C分之寬度。
接著，在鬆開FIMS埠24之對於載體C的卡鉤28後使手部44上升，將載體C自FIMS埠24卸下。此時，手部44之卡止部48支持凸緣部40的底面，將載體C卡止在手部44。之後，宜往第1水平方向的第2載入埠14b側滑動既定距離(參考圖7(d)的箭頭之移動方向)。如同前述地，載體搬運機構30的臂部38，有與筐體2的側壁2a或第1引導部32干涉之情況。然而，藉由使手部44，從載置有搬運對象的載體之載入埠14(第1載入埠14a)側，往旁邊的載入埠14(第2載入埠14b)側滑動既定距離，即便在將基板處理裝置100的底面積減小之情況，仍可防止此一干涉。
接著，如同以圖7(e)及圖7(f)的箭頭所示之移動方向，將支持載體C之手部44，從第2水平方向的FIMS埠24側往第1載入埠14a側搬運(S1200)。而後，如同以圖7(g)的箭頭所示之移動方向，使支持載體C之手部44，從第1水平方向的，第2載入埠14b側往第1載入埠14a側移動，移動至第1載入埠14a之上方，並使手部44下降，將載體C往第1載入埠14a上載置。
藉由第1載入埠14a之卡鉤28固定載體C後，如同以圖7(h)的箭頭所示之移動方向，藉由使手部44，從第1水平方向的第1載入埠14a側，往第2載入埠14b側滑動既定距離(S1300)，而將凸緣部自凸緣***部42拔出。而後，如圖7(i)及圖7(j)所示，使手部44回到初期位置，並使第1載入埠14a往第2水平方向移動而回到初期位置，結束搬出晶圓W時之載體C的搬運。
以上，本實施形態之搬運方法，利用具備形成有凸緣***部42之手部44的搬運機構，使該手部44往水平方向滑動，以將凸緣部40***至凸緣***部42內，在卡止於凸緣部40之狀態下舉起凸緣部40而搬運載體。藉此，可減少手部44所必須的零件數目，故可將手部44輕量化，抑制搬運時的臂部38之撓曲。此外，本實施形態之搬運方法，在搬運載體C前，使載置有搬運對象的載體C之載置台，往搬運場所側移動。藉此，可防止在使手部44滑動而將凸緣部40***至凸緣***部42內時，手部44侵入至關於第2載入埠14b之SEMI規格的排除區域之情形。因此，本實施形態之搬運方法，藉由輕量的載體搬運機構30，而可確實地搬運收納基板的載體C。
藉由上述內容，以說明為目的而揭露本發明之各式各樣的實施例，此外，須理解各式各樣的變形可在未脫離本發明之範圍及思想的範疇下施行。是故，此處所揭露之各種實施例，並非用於限制下述各請求項所指定之本質上的範圍及思想。
無

Claims (7)

  1. 一種搬運方法，於基板處理裝置內，將可密閉收納基板且上部形成有凸緣部之收納容器，利用具備設有凸緣***部之手部的搬運機構，從在第1水平方向並排設置至少2個以上，且可各自往與該第1水平方向垂直之第2水平方向水平移動的載置台，朝向與該載置台在該第2水平方向側分隔設置的搬運場所搬運；包含如下步驟：第1步驟，使載置有搬運對象亦即該收納容器之該載置台，在該基板處理裝置內往該第2水平方向的該搬運場所側移動既定距離；第2步驟，使該手部，從載置有搬運對象亦即該收納容器之載置台所鄰接的該載置台側往該第1水平方向滑動，以將該凸緣部***至該凸緣***部內；以及第3步驟，藉由該手部，將該收納容器從該載置台往該搬運場所搬運，其中該第3步驟包含以下步驟：第4步驟，使該手部上升，令該收納容器往該載置台之上方移動；第5步驟，使該手部，從載置有搬運對象亦即該收納容器之該載置台，往鄰接的該載置台沿該第1水平方向移動既定距離；第6步驟，使支撐該收納容器的該手部，沿該第2水平方向從該載置台移動至該搬運場所；以及第7步驟，使該手部下降，令該收納容器往下移動，以將該收納容器放置於該搬運場所上。
  2. 如申請專利範圍第1項之搬運方法，其中， 該手部，於底面側具有卡止部，該卡止部與***之該凸緣部的底面卡止。
  3. 如申請專利範圍第1項之搬運方法，其中，該基板處理裝置，具有基板搬運區域與容器搬運區域，藉由在該第1水平方向具備1個或2個以上的搬運口之分隔壁予以區隔；該基板處理裝置更具備：保持台，在該容器搬運區域內與該搬運口對應地設置，為了將收納在該收納容器的該基板，從該容器搬運區域經由該搬運口往該基板搬運區域傳遞，而保持該收納容器；以及收納架，設置於該保持台之上方，用來收納該收納容器。
  4. 如申請專利範圍第3項之搬運方法，其中，該搬運場所，係該保持台或該收納架中之任一者。
  5. 如申請專利範圍第3項之搬運方法，其中，該收納容器，於底部具有定位用的溝部；該載置台、該保持台及該收納架，具有與該定位用的溝部卡合之定位用的銷。
  6. 如申請專利範圍第1項之搬運方法，其中，該搬運機構，具備：第1引導部，設置於該搬運場所與該載置台之間，往鉛直方向延伸；第2引導部，與該第1引導部連接而可於鉛直方向移動，且往該第1 水平方向延伸；移動部，與該第2引導部連接，可於該第1水平方向移動；以及臂部，設置於該移動部；該手部，設置於該臂部之前端。
  7. 一種基板處理裝置，具有基板搬運區域與容器搬運區域，藉由在第1水平方向具備1個或2個以上的搬運口之分隔壁予以區隔；該基板處理裝置具備：保持台，在該容器搬運區域內與該搬運口對應地設置，為了將收納在可密閉收納基板且上部形成有凸緣部之收納容器的該基板，從該容器搬運區域經由該搬運口往該基板搬運區域傳遞，而保持該收納容器；收納架，設置於該保持台之上方，用來收納該收納容器；載置台，於該容器搬運區域內，在第1水平方向及垂直於鉛直方向之第2水平方向上與該保持台分隔設置，可往該保持台側水平移動，於該第1水平方向並排設置至少2個以上；搬運機構，具有：第1引導部，設置於該保持台與該載置台之間，往鉛直方向延伸；第2引導部，與該第1引導部連接而可於鉛直方向移動，且往該第1水平方向延伸；移動部，與該第2引導部連接，可於該第1水平方向移動；臂部，設置於該移動部，且可往該第2水平方向伸縮；及手部，設置於該臂部之前端，具有凸緣***部；以及控制部，控制該搬運機構的作動；該控制部，實施以下步驟，俾控制該搬運機構的作動： 第1步驟，使載置有搬運對象亦即該收納容器之該載置台，在該基板處理裝置內往該保持台側沿該第2水平方向移動既定距離；第2步驟，使該手部，從載置有搬運對象亦即該收納容器之載置台所鄰接的該載置台側往該第1水平方向滑動，以將該凸緣部***至該凸緣***部內；以及第3步驟，藉由該手部，將該收納容器從該載置台往該保持台或該收納架搬運，其中在該第3步驟時，該控制部更控制該搬運機構實施以下步驟：第4步驟，使該手部上升，令該收納容器往該載置台之上方移動；第5步驟，使該手部，從載置有搬運對象亦即該收納容器之該載置台，往鄰接的該載置台沿該第1水平方向移動既定距離；第6步驟，使支撐該收納容器的該手部，沿該第2水平方向從該載置台移動至該保持台或該收納架；以及第7步驟，使該手部下降，令該收納容器往下移動，以將該收納容器放置於該保持台或該收納架上。
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