JP4048074B2 - 処理装置 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、搬送機構を備えると共に、搬送容器の中から例えば半導体ウエハなどの被処理体を取り出して処理を行う処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体製造装置の一つとして、多数の半導体ウエハ(以下ウエハという)に対してバッチで熱処理を行う熱処理装置がある。この熱処理装置は、複数枚のウエハを収納したキャリアが自動送ロボットまたはオペレータにより搬入搬出される搬入搬出領域と、キャリア内のウエハを基板保持具であるウエハボートに移載して熱処理炉への搬入搬出を行うローディングエリアとを備えている。
【0003】
このような熱処理装置においては、ローディングエリアを搬入搬出領域よりもクリーン度の高い雰囲気にすると共にウエハの自然酸化膜の発生などを防止するために、大気側の搬入搬出領域とローディングエリアとを隔壁で仕切り、ローディングエリア内を不活性ガス例えば窒素(N2)ガスで満たした不活性ガス雰囲気とすることが好ましい。またこの場合、ウエハのパーティクル汚染を抑えるために、キャリア本体の前面のウエハ取り出し口が蓋で密閉されている密閉型のキャリア(クローズ型キャリアとも呼ばれている)を適用することが更に好ましい。
【0004】
本出願人は、密閉型のキャリアを用いた熱処理装置を具体的に検討しており、既に特許出願した特願2000-358600号にその一例を開示している。図9は前記出願において開示している熱処理装置について、キャリアの搬入に関する部位を示す概略図である。101は筐体100の正面パネル部をなす隔壁であり、この隔壁101の前面側に搬入搬出用の載置台102が設けられる。先ず図示しない自動搬送ロボットあるいはオペレータによりこの載置台102にキャリア2が載置され(aの状態)、次いで載置台102が隔壁101側に移動し、隔壁101に設けられた図示しない蓋開閉機構によりキャリア2の蓋が開けられウエハ状況を確認後キャリア2の蓋が閉じられる。更に載置台102が筐体100内のキャリア搬送機構103の受け渡し位置(bの状態)まで移動し、キャリア搬送機構103によりキャリア2がキャリア保管棚106に移送される。その後キャリア保管棚106からウエハ移し替え位置(cの状態)までキャリア搬送機構103によりキャリア2が移送され、図示しない蓋開閉機構によりキャリア2の蓋が開けられ、キャリア2内のウエハをウエハ搬送機構105により図示しないウエハボートに移載される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
ここで本出願人は、図9の装置を一歩進め、載置台102に移動機構を設けず固定状態とし、図示しない自動搬送ロボットあるいはオペレータにより載置台102上に載置されたキャリア2の上部を保持し、キャリア搬送機構103によりキャリア保管棚106に移送させ、その後キャリア搬送機構103によりウエハ移し替え位置に搬送することを検討している。このような構成によれば、載置台102に移動機構を設けなくて済み、スペースもより小さくなる利点がある。
【0006】
ところで図9の装置では、載置台102上に載置されたキャリア2が装置内に取り込まれた後、キャリア搬送機構103により搬送されるため、載置台102上のキャリア2の位置調整などのメンテナンス作業を行う場合には、作業者に対する危険はほとんどない。しかしながら載置台102上に載置されたキャリア2上までキャリア搬送機構103が移動するため、キャリア2の載置時、キャリア2の取り出し時及びメンテナンス作業時において作業者がキャリア搬送機構103の移動領域内に位置するため、作業者への危険性が生じる。
【0007】
本発明はこのような背景の下になされたものであり、その目的は作業者の安全を確保することのできる処理装置を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明は、装置を囲む筐体内に位置し、被処理体を収納した搬送容器が搬入される搬入領域と、前記筐体内に設けられ、前記搬入領域との間で前記搬送容器の搬送を行う搬送機構と、前記筐体の側面にて前記搬入領域に面して形成され、外部から作業者が当該筐体の内部に対して作業を行うための開口部と、前記搬入領域の上方空間に面し、その下縁が前記開口部の上部側の開口縁に相当すると共に前記筐体の一部をなすパネル部と、を備え、前記筐体内にて搬送容器の中から被処理体を取り出して処理を行う処理装置において、
前記パネル部の下縁側以外の一縁側を当該一縁に沿った軸の回りに回動自在に支持し、外部から前記開口部を介して前記筐体内に入った作業者の身体の一部が当該筐体の内部側から前記パネル部を押圧したときに身体の一部の圧迫を避けるために当該パネル部が前記筐体の外側に回動して開くように構成したことを特徴とする。
【0009】
具体的な構成例としては、例えば前記搬送機構は昇降自在に構成されている。本発明ではパネル部の前記一縁側以外の箇所を前記筐体に止着し、搬送機構の移動領域側からの押圧により止着状態が解除される止着手段を備えるようにしてもよい。この発明によれば、搬送機構とパネル部との間に身体の一部が挟まった場合にパネル部が例えば上に跳ね上がって開くので、作業者の安全を確保できる。
【0011】
【発明の実施の形態】
以下に本発明に係る処理装置を縦型熱処理装置に適用した実施の形態について説明する。図1は縦型熱処理装置の概観を示す斜視図、図2及び図3は夫々縦型熱処理装置の内部を示す縦断側面図及び概略平面図である。図中の1は装置の外装体を構成する筐体であり、この筐体1内には、被処理体である基板例えばウエハを収納した搬送容器であるキャリア2が装置に対して搬入、搬出されるための搬入搬出領域S1と、キャリア2内のウエハを搬送して後述の熱処理炉内に搬入するための処理領域であるローディングエリアS2とが形成されている。なお便宜上図1では領域S1、S2は筐体1の外側で符号を示してある。搬入搬出領域S1とローディングエリアS2とは隔壁3により仕切られており、搬入搬出領域S1は大気雰囲気とされ、ローディングエリアS2は不活性ガス雰囲気例えば窒素(N2)ガス雰囲気とされている。
【0012】
搬入搬出領域S1は、装置の正面側から見て手前側に位置する第1の領域4と奥側に位置する第2の領域5とからなる。第1の領域4には2個のキャリア2を夫々載置するために左右に配置された第1の載置台41、42が設けられている。キャリア2は、被処理体である例えば直径300mmのウエハW(図1参照)が複数枚例えば13枚棚状に配列されて収納され、蓋により塞がれた例えば樹脂からなる密閉型のキャリアが用いられる。またキャリア2は、図2に示すように上面に四角形のフランジ部21が当該上面と隙間を介して設けられ、後述のキャリア搬送機構によりこのフランジ部21が保持されて搬送されることになる。第1の載置台41、42の載置面には、キャリア2の底部に設けられた凹部に嵌合してキャリア2を位置決めする位置決め部であるピン43(図1参照)が例えば3個所に設けられている。
【0013】
また筐体1の前面側には、第1の領域4の左右両側を仕切るように側板61、62が対向して垂直に配置されると共に、一方の側板部61の前縁部の上部側と他方の側板部62の前縁部の上部側との間に筐体1の一部をなす正面パネル部6がほぼ垂直に架け渡されて設けられている。従って筐体1の正面には、オペレータが第1の載置台41、42に対してキャリア2の受け渡しを行ったり、メンテナンスを行ったりするための四角形の開口部(正面開口部)30が形成され、この開口部30の上に正面パネル部6が位置していることになる。第1の領域4を上から見ると、側板部61、62及び正面パネル部6によりコ字型形状になっており、これらで囲まれた領域は、クリーンルーム内の図示しない天井部に沿って移動する自動搬送ロボットがキャリア2を保持して第1の載置台41、42との間で受け渡しをするための昇降領域をなすものである。
【0014】
正面パネル部6及びその周辺の部位について図4及び図5を参照しながら説明する。側板部61、62の前縁頂部は前方に突出する突出部61a、62aとして構成され、これら突出部61a、62aにてほぼ水平で左右方向に伸びる回転軸63により、正面パネル部6の一縁側である上縁側を回動自在に支持している。つまりこの例では、正面パネル部6は、その上縁部に沿った軸(この例では水平な軸)の回りに回動自在に支持されていることになる。なお回転軸63よりも上側においては、正面パネル部6と側板部61、62の前縁部との間に正面パネル部6が回動できるように隙間Gを設けてある。
【0015】
そして正面パネル部6の下縁側及びこの側板部61、62の前縁部には、両者を止着する止着手段である例えばボールキャッチ方式の止め具64が設けられている。この止め具64は、図5に拡大して示すように正面パネル部6の裏面側に設けられたボール65と、側板部61、62の前縁部に形成され、前記ボール65が収まる凹部66と、この凹部66の例えば上下からバネ67a、68aにより付勢されてボール65の脱出を阻止する押圧子67、68と、を備えている。このように正面パネル部6はボールキャッチ方式の止め具64により側板部61、62に止着されているが、例えば15kg程度で裏側(内側)から押圧されると、前記押圧子67、68がバネ67a、68aに抗して広がり、止着状態が解除されて跳ね上がる。
【0016】
図1〜図3に戻って装置の説明を進めると、搬入搬出領域S1における第2の領域5には、第1の載置台41、42に対して夫々一列に前後に並ぶように載置部である第2の載置台51、52が配置されている。第2の載置台51、52の載置面にも第1の載置台41、42と同様にキャリア2を位置決めする位置決め部であるピン53(図1参照)が3個所に設けられている。これら載置台51、52は、後述のキャリア搬送機構によりキャリア2が置かれる位置とキャリア2が隔壁3に当接される位置との間で図示しない駆動部により前後に移動可能に構成される。
【0017】
一方第2の領域5の上部側にはキャリア2を保管するキャリア保管部54が設けられ(図2参照)、キャリア保管部54はこの例では2段の棚により構成されている。そして第2の領域5には、キャリア2を第1の載置台41、42及び第2の載置台51、52並びにキャリア保管部54の間で搬送するキャリア搬送機構7が設けられている。
【0018】
このキャリア搬送機構7について主に図6、図7を参照しながら説明すると、例えば第2の領域5の左端側にほぼ垂直に設けられた垂直レール71と、この垂直レール71に沿って昇降自在に設けられ、左右に伸びるガイド部材であるガイドレール83を備えた昇降部8と、ガイドレール83にガイドされながら左右に移動する移動部72と、この移動部72に設けられ、キャリア2の上面のフランジ部21を保持してキャリア2を水平方向に搬送する2本のアーム73a及び73bからなる関節アームである搬送アーム73と、アーム73bの下方側に設けられ、キャリア2の上面のフランジ部21を保持する保持部74とを備えている。なお保持部74は互いに対向する一対のL字部分により前記フランジ部21の下面側を保持するものであり、このため常に同じ方向に向くようにアーム73bに対して回動可能に構成されている。
【0019】
昇降部8は、図示しない昇降機構により垂直レール71にガイドされながら昇降する基端部分81と、この基端部分81により水平な回転軸82を介して水平な軸の回りに回動自在に設けられたガイドレール(案内部材)83とを含む。なお搬送アーム73及び保持部74も昇降部8の一部である。基端部分81に対するガイドレール83の取り付け構造については、図6に示すようにガイドレール83の一端側から水平に突出している突出部83aを基端部分81の凹部81a内に嵌入した状態で回転軸82により当該突出部83aを支持すると共に、図7に示すように基端部分81における凹部81aの前面側の面81bとガイドレール83における突出部83aの下部両側の面83bとが当接しており、この当接によりガイドレール83の下方側への回動が阻止されている。この実施の形態では、基端部分81が特許請求の範囲に記載した支持部に相当し、ガイドレール83が特許請求の範囲に記載した可動部に相当する。なお図7中にて昇降部8の下面部及び保持部74の下面部に符号80を用いて黒丸で示してある部位は、接触を検知するセンサであり、このセンサ80がオンしたときに図示しない制御部を介して搬送機構7の動作が停止するようになっている。
【0020】
基端部分81を昇降する昇降機構としては、例えば基端部分81を上下に貫通しかつ基端部分81に対して螺合するネジ軸を設け、例えば垂直レール71の一端側に固定されたモータによりネジ軸を回転させて基端部分81を昇降させるボールネジ機構を用いることができる。
【0021】
図2及び図3に説明を戻すと、隔壁3には、第2の載置台51(52)に載置されたキャリア2が当該隔壁3に当接したときにキャリア2内とローディングエリアS2とを連通する開口部31が形成されている。また隔壁3におけるローディングエリアS2側には、開口部31を開閉する扉32が設けられると共にこの扉32を閉じたままでキャリア2の蓋を開閉する蓋開閉機構33が設けられている。この扉32は、キャリア2の蓋が開かれた後、図示しない扉開閉機構により蓋開閉機構33及び蓋と共にウエハWの移載の邪魔にならないように例えば上方側に退避するように構成される。
【0022】
ローディングエリアS2の奥側には、下端が炉口として開口された処理部である縦型の熱処理炉91が設けられ、この縦型の熱処理炉91の下方側には、多数枚のウエハWを棚状に保持する保持具であるウエハボート92が断熱部93を介してキャップ94の上に載置されている。キャップ94はボートエレベータ95の上に支持されており、このボートエレベータ95によりウエハボート92が熱処理炉91に対して搬入あるいは搬出される。またウエハボート92と隔壁3の開口部31との間には、ウエハ搬送機構96が設けられている。このウエハ搬送機構96は、左右に伸びるガイド機構97に沿って移動すると共に鉛直軸の回りに回動できる移動体98に複数例えば5枚の進退自在なアーム99を設けて構成され、ウエハボート92と、第2の載置台51、52上のキャリア2との間でウエハWを搬送する役割を持っている。
【0023】
次に上述実施の形態の作用について説明する。先ずクリーンルームの天井部に沿って移動する図示しない自動搬送ロボットによりキャリア2が正面パネル部6の裏側の空間を通って下降し、第1の載置台41(42)に載置される。続いてキャリア搬送機構7により前記キャリア2が第2の載置台51(52)に搬送される。キャリア2が第2の載置台51(52)に載置されると、第2の載置台51(52)が隔壁3側に移動してキャリア2の取り出し口の口縁部が隔壁3の開口部31の口縁部に気密に当接する。しかる後、蓋開閉機構33によりキャリア2の蓋が取り外され、その後、扉32、蓋開閉機構33及び蓋が例えば上昇して開口部31から退避し、キャリア2内とローディングエリアS2とが連通した状態となる。
【0024】
その後、ウエハ搬送機構96によりキャリア2内のウエハWが順次取り出されてウエハボート92に移載される。キャリア2内のウエハWが空になると、上述と逆の動作でキャリア2の蓋が閉じられ、第2の載置台51(52)が後退してキャリア2が隔壁3から離れ、キャリア搬送機構7によりキャリア保管部54に搬送されて一時的に保管される。一方ウエハボート92に所定枚数のウエハWが搭載されると、熱処理炉91内に搬入されてウエハWに対して熱処理例えばCVD、アニール処理、酸化処理などが行われる。熱処理が終了すると、上述と逆の動作でウエハWがキャリア2内に戻される。
【0025】
そしてメンテナンス時には、作業者が正面開口部30から上体を筐体1の中に入れて載置台41、42、51、52の点検、キャリア搬送機構7の動作確認などを行い、このとき例えばハンディターミナルなどによりマニュアルでキャリア搬送機構7を動作させる。このような作業時に例えば誤った操作により搬送機構7の昇降部8が上昇し、作業者の身体の一部が正面パネル部6と例えばガイドレール83との間に挟まると、挟まった身体の一部が正面パネル部6を押圧する。これにより正面パネル部6の止め具64の止着状態が解除されて正面パネル部6が跳ね上がり、挟まった身体の一部が圧迫から開放される。なお図8は、キャリア2の載置時、キャリア2の取り出し時またはメンテナンス作業時において、作業者がキャリア搬送機構103の移動領域内に位置している状態を示している。
また例えば誤った操作によりキャリア搬送機構7の昇降部8が下降して、例えばガイドレール83と載置台41(42)あるいはキャリア2との間に作業者の身体の一部が挟まれても、昇降部8が下側から押圧される状態になるので、図7に示すように当該昇降部8が回転軸82を中心として上側に回転する。ここでガイドレール83及び保持部74には、センサ80が設けられているが、このセンサ80が配置されていない部位にて作業者が挟まれた場合でも、またセンサ80の接触の検出により動作を停止するインターロック機能を解除していたとしても、同様に昇降部8が跳ね上がる。
【0026】
このように上述の実施の形態によれば、作業者の身体の一部がキャリア搬送機構7の昇降部8と正面パネル部6との間、あるい昇降部8とその下方側の部材との間に挟まっても、正面パネル部6あるい昇降部8が跳ね上がるので、挟まった身体の一部が強い圧迫を受ける前に開放され、従って作業者が怪我を免れるかあるいは仮に怪我をしたとしてもその程度は軽くて済み、作業者の安全を確保できる。
本発明では、パネル部との間に作業者を挟むおそれのある搬送機構としては、キャリア搬送機構に限らずその他の搬送機構例えばウエハ搬送機構であってもよく、また搬送機構との間に作業者を挟むおそれのあるパネル部としては、正面パネル部に限らず側面、背面あるいは上面のパネル部であってもよい。そしてパネル部は水平な軸の回りに回動することに限らず、例えば側面パネル部が垂直な軸の回りに回動して開く構造であってもよい。
【0027】
更にまた昇降部が跳ね上がる搬送機構としては、キャリア搬送機構に限らずその他の搬送機構例えばウエハ搬送機構であってもよい。なお本発明は、縦型熱処理装置に限らず例えば枚葉式の熱処理装置やレジストの塗布、現像を行う装置、イオン注入装置など、被処理基板に対して所定の処理を行う処理装置に適用できる。
【0028】
【発明の効果】
本発明によれば、パネル部が搬送機構の移動領域側から押圧されたときに当該移動領域とは反対側に回動してパネル部が開くように構成したので、パネル部と搬送機構との間に作業者の身体の一部が挟まった場合でも作業者の安全を確保できる。また他の発明によれば、搬送機構の昇降部が下方側から押圧されたときに上側に向かって回動するように構成したので、昇降部により作業者の身体の一部が押しつけられそうになっても作業者の安全を確保できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の処理装置の実施の形態である縦型熱処理装置の概観を示す斜視図である。
【図2】上記の縦型熱処理装置の内部の概略構成を示す縦断側面図である。
【図3】上記の縦型熱処理装置の内部の概略構成を示す横断平面図である。
【図4】上記の縦型熱処理装置の正面パネル部及びその周辺を示す上面図である。
【図5】上記の縦型熱処理装置の正面パネル部及びその周辺を示す側面図及び正面パネル部の止め具を示す断面図である。。
【図6】 上記の縦型熱処理装置に用いられるキャリア搬送機構を示す斜視図である。
【図7】上記の縦型熱処理装置に用いられるキャリア搬送機構を示す側面図である。
【図8】上記の縦型熱処理装置においてキャリア搬送機構の移動領域内に作業者が位置している状態を示す説明図である。
【図9】縦型熱処理装置の構成の一例を示す概略側面図である。
【符号の説明】
S1 搬入搬出領域
S2 ローディングエリア
W 半導体ウエハ
1 筐体
2 キャリア
3 隔壁
31 開口部
32 扉
4 第1の領域
41、42 第1の載置台
5 第2の領域
51、52 第2の載置台
6 正面パネル部
61、62 側板
63 回転軸
64 止め具
7 キャリア搬送機構
71 垂直レール
72 移動部
73 搬送アーム
74 保持部
8 昇降部
81 基端部分
82 回転軸
83 ガイドレール
91 熱処理炉
96 ウエハ搬送機構

Claims (3)

  1. 装置を囲む筐体内に位置し、被処理体を収納した搬送容器が搬入される搬入領域と、前記筐体内に設けられ、前記搬入領域との間で前記搬送容器の搬送を行う搬送機構と、前記筐体の側面にて前記搬入領域に面して形成され、外部から作業者が当該筐体の内部に対して作業を行うための開口部と、前記搬入領域の上方空間に面し、その下縁が前記開口部の上部側の開口縁に相当すると共に前記筐体の一部をなすパネル部と、を備え、前記筐体内にて搬送容器の中から被処理体を取り出して処理を行う処理装置において、
    前記パネル部の下縁側以外の一縁側を当該一縁に沿った軸の回りに回動自在に支持し、外部から前記開口部を介して前記筐体内に入った作業者の身体の一部が当該筐体の内部側から前記パネル部を押圧したときに身体の一部の圧迫を避けるために当該パネル部が前記筐体の外側に回動して開くように構成したことを特徴とする処理装置。
  2. 前記搬送機構は昇降自在に構成されていることを特徴とする請求項1記載の処理装置。
  3. パネル部の前記一縁側以外の箇所を前記筐体に止着し、筐体の内部側からの押圧により止着状態が解除される止着手段を備えたことを特徴とする請求項1または2記載の処理装置。
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US7798764B2 (en) 2005-12-22 2010-09-21 Applied Materials, Inc. Substrate processing sequence in a cartesian robot cluster tool
US20060130767A1 (en) * 2004-12-22 2006-06-22 Applied Materials, Inc. Purged vacuum chuck with proximity pins
JP2006287107A (ja) * 2005-04-04 2006-10-19 Nec Electronics Corp ベーク装置
JP4796024B2 (ja) * 2007-08-30 2011-10-19 東京エレクトロン株式会社 容器交換システム及び容器交換方法
WO2011148412A1 (ja) * 2010-05-26 2011-12-01 ムラテックオートメーション株式会社 装置前自動倉庫
JP2013111736A (ja) * 2011-11-30 2013-06-10 Yaskawa Electric Corp ロボットシステムおよび加工品の製造方法
JP2015141915A (ja) * 2014-01-27 2015-08-03 東京エレクトロン株式会社 基板熱処理装置、基板熱処理装置の設置方法
JP6211938B2 (ja) * 2014-01-27 2017-10-11 東京エレクトロン株式会社 基板熱処理装置、基板熱処理装置の設置方法
JP6278751B2 (ja) * 2014-03-04 2018-02-14 東京エレクトロン株式会社 搬送方法及び基板処理装置
WO2018135137A1 (ja) * 2017-01-23 2018-07-26 村田機械株式会社 物品中継装置及びストッカ

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