TWI581037B - 顯示屏及顯示裝置 - Google Patents

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TWI581037B
TWI581037B TW100126265A TW100126265A TWI581037B TW I581037 B TWI581037 B TW I581037B TW 100126265 A TW100126265 A TW 100126265A TW 100126265 A TW100126265 A TW 100126265A TW I581037 B TWI581037 B TW I581037B
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許育儒
施博盛
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識驊科技股份有限公司
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    • GPHYSICS
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    • G02F2202/36Micro- or nanomaterials

Description

顯示屏及顯示裝置
本發明涉及一種顯示屏及顯示裝置,尤其涉及一種低色偏的顯示屏及顯示裝置。
請參閱圖1,先前技術中的顯示裝置100一般包括一觸摸屏11、一觸摸屏控制器12、一中央處理器13、一顯示屏15及一顯示屏控制器14。其中,所述顯示屏15正對且靠近觸摸屏11層疊設置;所述觸摸屏11與所述觸摸屏控制器12電連接;所述顯示屏15與所述顯示屏控制器14電連接;所述觸摸屏控制器12、中央處理器13及顯示屏控制器14三者通過電路相互連接。所述觸摸屏11可以為一電阻式觸摸屏或一電容式觸摸屏。該電阻式觸摸屏或電容式觸摸屏可包括一透明奈米碳管層作為該電阻式觸摸屏或電容式觸摸屏的透明導電層或遮罩層。所述顯示屏15可以為一液晶顯示屏。該液晶顯示屏可包括一透明奈米碳管層作為該液晶顯示屏的配向層、透明電極層或偏光片。
進一步的,所述顯示裝置100在使用時,使用者通過所述觸摸屏11,一邊對位於觸摸屏11背面的顯示屏15的顯示內容進行視覺確認,一邊利用手指或筆等方式按壓觸摸屏11來進行操作。由此,可以操作電子設備的各種功能。
然,所述顯示裝置100在使用時,當光線通過所述觸摸屏11或顯 示屏15中的透明奈米碳管層時,由於該透明奈米碳管層對不同波長的可見光的透光率不同,即,該透明奈米碳管層對波長較短的可見光的透光率低於對波長較長的可見光的透光率,此時,會使所述觸摸屏11或顯示屏15產生一定的色偏,從而使該顯示裝置100的顏色產生失真,進而影響觀賞效果。
有鑒於此,提供一種低色偏的顯示屏及顯示裝置實為必要。
一種顯示屏,其包括一第一透明奈米碳管層,該第一透明奈米碳管層設置於所述顯示屏的背光源發出光線的路徑上,其中,所述顯示屏進一步包括一色偏改善層,該色偏改善層設置於所述顯示屏的背光源發出光線的路徑上,用於改善由所述第一透明奈米碳管層產生的色偏。
一種顯示裝置,其包括一顯示屏,該顯示屏包括一第一透明奈米碳管層,該第一透明奈米碳管層設置於所述顯示裝置的背光源發出光線的路徑上,其中,所述顯示裝置進一步包括一色偏改善層,該色偏改善層設置於所述顯示裝置的背光源發出光線的路徑上,用於改善由所述第一透明奈米碳管層產生的色偏。
與先前技術的顯示屏及顯示裝置相比較,本發明提供的顯示屏及顯示裝置通過設置一色偏改善層,可以顯著降低所述包括一透明奈米碳管層的顯示屏及顯示裝置所產生的色偏,從而獲得良好的畫質及觀賞效果。
200、300‧‧‧顯示裝置
12‧‧‧觸摸屏控制器
13‧‧‧中央處理器
14‧‧‧顯示屏控制器
11、20、50‧‧‧觸摸屏
22‧‧‧基板
221‧‧‧第一表面
222‧‧‧第二表面
24‧‧‧透明導電層
25‧‧‧遮罩層
28a、28b、28c、28d‧‧‧電極
15、30、60‧‧‧顯示屏
31‧‧‧第一基體
32‧‧‧第一透明電極層
33‧‧‧第一配向層
352‧‧‧液晶分子
332‧‧‧第一溝槽
34‧‧‧第一偏光片
35‧‧‧液晶層
36‧‧‧第二基體
37‧‧‧第二透明電極層
38、62‧‧‧第二配向層
382、626‧‧‧第二溝槽
39‧‧‧第二偏光片
40‧‧‧色偏改善層
104‧‧‧鈍化層
106‧‧‧間隙
108‧‧‧支撐體
622‧‧‧第一透明奈米碳管層
624‧‧‧固定層
圖1 係先前技術中的顯示裝置的結構示意圖。
圖2 係本發明第一實施例提供的顯示裝置的結構示意圖。
圖3 係本發明第一實施例提供的顯示裝置中的觸摸屏的剖面圖。
圖4係本發明第一實施例提供的顯示裝置中的觸摸屏的俯視圖。
圖5係本發明第一實施例提供的顯示裝置中的觸摸屏中所使用的奈米碳管拉膜的掃描電鏡照片。
圖6係從奈米碳管陣列中拉取如圖5所示的奈米碳管拉膜的過程的示意圖。
圖7係本發明第一實施例提供的顯示裝置中的顯示屏的結構示意圖。
圖8 係本發明第二實施例提供的顯示裝置的結構示意圖。
圖9係本發明第二實施例提供的顯示裝置中的顯示屏的結構示意圖。
圖10係沿圖9中的線X-X將本發明第二實施例提供的顯示裝置中的顯示屏剖開的剖面圖。
請參見圖2,本發明第一實施例提供一種顯示裝置200。所述顯示裝置200包括一觸摸屏20、一顯示屏30、一色偏改善層40、一觸摸屏控制器12、一中央處理器13及一顯示屏控制器14。
所述色偏改善層40、觸摸屏20及顯示屏30依次層疊設置,形成一層狀結構。所述觸摸屏20與所述觸摸屏控制器12電連接;所述顯示屏30與所述顯示屏控制器14電連接;所述觸摸屏控制器12、中央處理器13及顯示屏控制器14三者通過電路相互連接。
所述顯示屏30與觸摸屏20可間隔一預定距離設置或集成設置。進一步地,當顯示屏30與觸摸屏20間隔一定距離設置時,可在觸摸屏20靠近顯示屏30的一個表面上設置一鈍化層104,該鈍化層104可由苯並環丁烯(BCB)、聚酯或丙烯酸樹脂等柔性材料形成。該顯示屏30與所述鈍化層104間隔一間隙106設置。具體地,在所述的鈍化層104與顯示屏30之間設置兩個支撐體108。該鈍化層104可作為介電層使用,所述鈍化層104與間隙106可保護顯示屏30不致於由於外力過大而損壞。當顯示屏30與觸摸屏20集成設置時,觸摸屏20和顯示屏30之間接觸設置。所述鈍化層104無間隙地設置在顯示屏30的表面。
所述觸摸屏20可以為一電容式觸摸屏或電阻式觸摸屏。本實施例中,所述觸摸屏20為一電容式觸摸屏。請參見圖3及圖4,所述觸摸屏20包括一基板22、一透明導電層24及複數個電極。
所述基板22具有一第一表面221以及與該第一表面221相對的第二表面222。所述第一表面221為面向用戶的一側,所述第二表面222為背向用戶的一側。所述基板22為一曲面型或平面型的絕緣透明基板。該基板22由玻璃、石英、金剛石或塑膠等硬性材料或柔性材料形成。本實施例中,該基板22為一玻璃基板,該基板22主要起支撐作用。
所述透明導電層24設置於所述基板22的第一表面221,用於感測外界觸摸。所述透明導電層24可以為一銦錫氧化物層或透明奈米碳管層。本實施例中,所述透明導電層24為一透明奈米碳管層,該透明奈米碳管層包括複數個奈米碳管。進一步地,所述透明奈米碳管層可以係單個奈米碳管膜或複數個層疊設置的奈米碳管膜 ,故,所述透明奈米碳管層的厚度亦不限,只要能夠具有理想的透明度,可根據實際需要製成具有任意厚度的透明奈米碳管層。由於所述透明奈米碳管層對不同頻率的可見光的透光率不同,故,當光線穿透該透明奈米碳管層時,會產生一定的色偏。所述透明奈米碳管層的色偏與其厚度有關。定義所述透明奈米碳管層的厚度為A1微米。
所述透明奈米碳管層中的奈米碳管膜由有序的或無序的奈米碳管組成,並且該奈米碳管膜具有均勻的厚度。具體地,該透明奈米碳管層包括無序的奈米碳管膜或者有序的奈米碳管膜。無序的奈米碳管膜中,奈米碳管為無序或各向同性排列。該無序排列的奈米碳管相互纏繞,該各向同性排列的奈米碳管平行於奈米碳管膜的表面。有序的奈米碳管膜中,奈米碳管為沿同一方向擇優取向排列或沿不同方向擇優取向排列。當透明奈米碳管層包括多層有序的奈米碳管膜時,該多層奈米碳管膜可以沿任意方向層疊設置,故,在該透明奈米碳管層中,奈米碳管為沿相同或不同方向擇優取向排列。
請參閱圖5,本實施例中,所述透明奈米碳管層包括一層奈米碳管拉膜,該奈米碳管拉膜中的奈米碳管有序排列。具體的,所述奈米碳管拉膜包括複數個奈米碳管束片段,每個奈米碳管束片段具有大致相等的長度且每個奈米碳管束片段由複數個相互平行的奈米碳管束構成,奈米碳管束片段兩端通過凡得瓦力相互連接。所述奈米碳管拉膜中的複數個奈米碳管束和複數個奈米碳管之間存在間隙,故上述透明奈米碳管層具有複數個平行且均勻分佈的間隙。
所述奈米碳管拉膜的厚度優選為0.5奈米~100微米,寬度為0.01釐米~10釐米。本實施例中,該奈米碳管拉膜的厚度為0.3微米。所述奈米碳管包括單壁奈米碳管、雙壁奈米碳管和多壁奈米碳管。所述單壁奈米碳管的直徑為0.5奈米~50奈米,雙壁奈米碳管的直徑為1奈米~50奈米,多壁奈米碳管的直徑為1.5奈米~50奈米。本實施例中的奈米碳管拉膜的製備方法,主要包括以下步驟:
步驟一:提供一奈米碳管陣列,優選地,該奈米碳管陣列為超順排奈米碳管陣列。
本實施例提供的奈米碳管陣列為單壁奈米碳管陣列、雙壁奈米碳管陣列或多壁奈米碳管陣列。所述超順排奈米碳管陣列的製備方法採用化學氣相沈積法,其具體步驟包括:(a)提供一平整基底,該基底可選用P型或N型矽基底,或選用形成有氧化層的矽基底,本實施例優選為採用4英寸的矽基底;(b)在基底表面均勻形成一催化劑層,該催化劑層材料可選用鐵(Fe)、鈷(Co)、鎳(Ni)或其任意組合的合金之一;(c)將所述形成有催化劑層的基底在700℃~900℃的空氣中退火約30分鐘~90分鐘;(d)將處理過的基底置於反應爐中,在保護氣體環境下加熱到500℃~740℃,然後通入碳源氣體反應約5~30分鐘,生長得到超順排奈米碳管陣列,其高度為200~400微米。該超順排奈米碳管陣列為複數個彼此平行且垂直於基底生長的奈米碳管形成的純奈米碳管陣列。通過控制生長條件,該超順排奈米碳管陣列中基本不含有雜質,如無定型碳或殘留的催化劑金屬顆粒等。該奈米碳管陣列中的奈米碳管彼此通過凡得瓦力緊密接觸形成陣列。
本實施例中的碳源氣可選用乙炔、乙烯、甲烷等化學性質較活潑 的碳氫化合物,本實施例優選的碳源氣為乙炔;保護氣體為氮氣或惰性氣體,本實施例優選的保護氣體為氬氣。
可以理解,所述奈米碳管陣列的製備方法不限於本實施例中所述的製備方法。亦可為石墨電極恒流電弧放電沈積法、鐳射蒸發沈積法等。
步驟二:採用一拉伸工具從奈米碳管陣列中拉取獲得一奈米碳管拉膜。其具體包括以下步驟:(a)從所述奈米碳管陣列中選定一定寬度的複數個奈米碳管片斷,本實施例優選為採用具有一定寬度的膠帶接觸奈米碳管陣列以選定一定寬度的複數個奈米碳管片斷;(b)以一定速度沿基本垂直於奈米碳管陣列生長方向拉伸該複數個奈米碳管片斷,以形成一連續的奈米碳管拉膜。
請參閱圖6,在所述拉伸過程中,該複數個奈米碳管片段在拉力作用下沿拉伸方向逐漸脫離基底的同時,由於凡得瓦力作用,該選定的複數個奈米碳管片斷分別與其他奈米碳管片斷首尾相連地連續地被拉出,從而形成一奈米碳管拉膜。
該奈米碳管拉膜為擇優取向排列的複數個奈米碳管束首尾相連形成的具有一定寬度的奈米碳管拉膜。該奈米碳管拉膜中奈米碳管的排列方向基本平行於奈米碳管拉膜的拉伸方向。該直接拉伸獲得的奈米碳管拉膜比無序的奈米碳管膜具有更好的均勻性,即具有更均勻的厚度以及更均勻的導電性能。同時該直接拉伸獲得奈米碳管拉膜的方法簡單快速,適宜進行工業化應用。該奈米碳管拉膜的寬度與奈米碳管陣列所生長的基底的尺寸有關,該奈米碳管拉膜的長度不限,可根據實際需求製得。
所述複數個電極設置在透明導電層24的表面。該複數個電極分別間隔設置,並與所述透明導電層24形成電連接,用以在所述透明導電層24上形成等電位面。該複數個電極的材料為金屬。所述複數個電極可以採用濺射、電鍍、化學鍍等沈積方法直接沈積在所述透明導電層24的表面。亦可用銀膠等導電黏結劑將該複數個電極黏結在所述透明導電層24的表面。本實施例中,所述觸摸屏20包括四個電極28a、28b、28c以及28d。該四個電極28a、28b、28c以及28d分別設置於所述透明導電層24的四個角上,並與所述透明導電層24電連接,用以在透明導電層24上形成等電位面。
所述色偏改善層40設置於所述透明導電層24面向用戶的一側,並使所述透明導電層24夾持於所述基板22以及所述色偏改善層40之間。所述色偏改善層40的材料可以係TiO2、ZrO2、Nb2O5、Ta2O5、Al2O3、SiO2、CeO2、HfO2、ZnS及MgF2等介電材料。所述色偏改善層40的製備工藝包括:真空蒸鍍、濺鍍、夾縫式塗佈(Slot Die)、旋塗(Spin-coating)或浸漬(Dipping)。
請參照圖7,所述顯示屏30為一液晶顯示屏,其依次包括一第一偏光片34、第一基體31、一第一透明電極層32、一第一配向層33、一液晶層35、一第二配向層38、一第二透明電極層37、一第二基體36以及一第二偏光片39。
所述第一基體31與所述第二基體36相對設置,該第一基體31與第二基體36主要起支撐所用。所述液晶層35設置於所述第一基體31與所述第二基體36之間。該液晶層35包括複數個長棒狀的液晶分子352。所述第一透明電極層32設置於所述第一基體31靠近液晶層35的表面。所述第一配向層33設置於所述第一透明電極層32靠 近液晶層35的表面,且第一配向層33靠近液晶層35的表面包括複數個平行的第一溝槽332。所述第二透明電極層37設置於所述第二基體36靠近液晶層35的表面。所述第二配向層38設置於所述第二透明電極層37靠近液晶層35的表面,且第二配向層38靠近液晶層35的表面包括複數個平行的第二溝槽382。所述第二溝槽382排列方向與第一溝槽332排列方向相互垂直,從而可以對液晶層35中的液晶分子352進行定向。所述第一偏光片34設置於所述第一基體31遠離液晶層35的表面,所述第二偏光片39設置於所述第二基體36遠離液晶層35的表面,所述第一偏光片34與所述第二偏光片39可對光線進行偏振。所述第一偏光片34及第二偏光片39為現有技術中常用的偏光片。
所述第一基體31與第二基體36的材料可以係硬性或柔性的透明材料,如玻璃、石英、金剛石或塑膠等。本實施例中,所述第一基體31和第二基體36的材料為三乙酸纖維素(cellulose triacetate,CTA)等柔性材料。所述液晶分子352為現有技術中常用的液晶材料。所述第一透明電極層32及第二透明電極層37的材料為一銦錫氧化物透明導電膜(ITO)。所述第一配向層33和第二配向層38的材料為一高分子聚醯亞胺膜。該高分子聚醯亞胺膜經過摩擦法和傾斜蒸鍍SiOx膜法等方法,在所述第一配向層33和第二配向層38靠近液晶層35的表面分別形成複數個溝槽,該複數個溝槽可組成所述第一溝槽332及第二溝槽382。
所述顯示屏30的第一透明電極層32、第一配向層33、第一偏光片34、第二透明電極層37、第二配向層38以及第二偏光片39也可以為一透明奈米碳管層。所述透明奈米碳管層可選自觸摸屏20中的 透明奈米碳管層。本實施例中,所述顯示屏30不包括一透明奈米碳管層,故,該顯示屏30不會產生色偏。
由於所述顯示裝置200的色偏主要係由觸摸屏20中的透明奈米碳管層對不同波長的可見光的透光率不同引起的。即,該透明奈米碳管層對波長較短的可見光的透光率低於對波長較長的可見光的透光率,從而使該觸摸屏20產生一定的色偏,進而影響所述顯示裝置200的觀賞效果。故,可以通過設置一個對波長較短的可見光的透光率高於波長較長的可見光的透光率的色偏改善層40,使整個顯示裝置200對不同波長的可見光具有大致相等的透光率,從而提供所述顯示裝置200的觀賞效果。顯示裝置的色偏可以按照國際標準照明委員會(CIE)顏色空間標準測試得到的該顯示裝置的Lab測試值來表示,其中,a表示該顯示裝置的綠紅值,b表示該顯示裝置的藍黃值。在顯示器領域中,希望該a與b的絕對值均小於2,即,該顯示裝置產生的色偏較低。優選的,該顯示裝置的a值及b值均等於零,即,該顯示裝置不產生色偏。
表一左欄為按照國際標準照明委員會(CIE)顏色空間標準測試得到的一組(五個)觸摸屏20的Lab測試值。從中可以看出,所述觸摸屏20的a值的絕對值均小於2,故,該觸摸屏20的a值基本滿足要求,因此不需要對其a值進行改善;而,所述觸摸屏20的b值的絕對值大於2,故會使該觸摸屏20產生較大的色偏,進而影響該顯示裝置200的畫質及觀賞效果。該觸摸屏20的b值與所述觸摸屏20中的透明奈米碳管層的厚度A1有關。故,需要通過設置所述色偏改善層40來糾正所述觸摸屏20的色偏,進而降低整個 顯示裝置200的b值的絕對值,使其b值的絕對值小於2,優選地,使其b值趨近於零。
可以理解,由於所述色偏改善層40對波長較短的可見光的透光率高於波長較長的可見光的透光率,故,該色偏改善層40也具有一定的色偏。該色偏改善層40的色偏亦可以按照國際標準照明委員會(CIE)顏色空間標準測試得到的Lab測試值來表示。該色偏改善層40的b值可以根據該透明導電層24中的透明奈米碳管層的厚度A1確定。該色偏改善層40的b值的範圍在-16.7×A1到-1.67×A1。優選的,該色偏改善層40的b值的範圍在-10×A1到-1.67×A1。本實施例中,該色偏改善層40的b值為-4×A1,且所述透明奈米碳管層的厚度A1約為0.3微米,故,該色偏改善層40的b值約為-1.2。
請參見表一中欄,表一中欄為按照國際標準照明委員會(CIE)顏色空間標準測試得到的一組所述觸摸屏20在通過所述色偏改善層 40改善後的Lab測試值。在改善後,所述觸摸屏20中a的平均值由0.07降低到-0.30,a值的變化值約為-0.37,即,該觸摸屏20的a值基本保持不變。而,所述觸摸屏20中b的平均值由2.44降低到1.01,b值的變化值約為-1.43。即,該b值的變化值與本實施例中的色偏改善層40的b值-1.2相當。因此,可以理解,可以通過所述色偏改善層40的b值對所述透明導電層24中的透明奈米碳管層的b值進行糾正,從而可以使所述顯示裝置200的b值得到顯著的降低,從而可以使該顯示裝置200的色偏得到顯著的降低。
所述色偏改善層40可以設置在所述透明導電層24面向用戶的一側,也可以設置在所述觸摸屏20內部,或設置在所述顯示屏30的內部。例如,設置在所述基板22的第一表面221或第二表面222;或設置在所述顯示屏30內部,例如,設置在所述第一基體31或第二基體36的表面上。可以理解,所述色偏改善層40的位置不限,只要設置於所述顯示裝置200中背光源發出的光線通過的路徑,使該顯示裝置200對不同波長的光線具有大致相等的透光率即可。本實施例中,所述色偏改善層40為一雙層SiO2層,該雙層SiO2層係通過浸漬法製備而成。
此外,為了減小顯示屏對觸摸屏20產生電磁干擾,還可以在基板22的第二表面222上設置一遮罩層25,從而使所述基板22夾持於所述透明導電層24及遮罩層25之間。該遮罩層25可由導電聚合物或奈米碳管等透明導電材料形成。本實施例中,該遮罩層25由一透明的透明奈米碳管層組成。該透明的透明奈米碳管層可以係定向排列的或其他結構的奈米碳管膜。本實施例中,該奈米碳管膜 為一奈米碳管拉膜,該奈米碳管拉膜包括複數個奈米碳管,所述複數個奈米碳管在所述奈米碳管拉膜中定向排列,其具體結構可與透明導電層24相同。該奈米碳管膜作為電接地點,起到遮罩的作用,從而使得觸摸屏20能在無干擾的環境中工作。定義該遮罩層25中透明奈米碳管層的厚度為A2
可以理解,當所述觸摸屏20進一步包括一透明奈米碳管層作為遮罩層時,該色偏改善層40的b值可以根據該透明導電層24中的透明奈米碳管層的厚度A1以及該遮罩層25中透明奈米碳管層的厚度A2確定。該色偏改善層40的b值的範圍在-16.7×(A1+A2)到-1.67×(A1+A2)。優選的,該色偏改善層40的b值的範圍在-10×(A1+A2)到-1.67×(A1+A2)。
請參閱圖8,本發明第二實施例提供一種顯示裝置300。所述顯示裝置300包括:包括一觸摸屏50、一顯示屏60、一色偏改善層40、觸摸屏控制器12、一中央處理器13及一顯示屏控制器14。
所述觸摸屏50與本發明第一實施例中的觸摸屏20基本相同,不同之處在於,所述觸摸屏50中的透明導電層為一銦錫氧化物層。即,所述觸摸屏50不包含一透明奈米碳管層,故,該觸摸屏50不會產生色偏。
所述顯示屏60與本發明第一實施例中的顯示屏30基本相同,不同之處在於,所述顯示屏60包括一透明奈米碳管層。可以理解,所述顯示屏60亦可以為其他含有所述透明奈米碳管層的顯示屏,如:場發射顯示器、等離子顯示器、電致發光顯示器、真空螢光顯示器、陰極射線管、柔性液晶顯示器、柔性電泳顯示器及柔性有機電致發光顯示器等。
請參閱圖9及圖10,所述顯示屏60依次包括:一第一偏光片34、第一基體31、一第一透明電極層32、一第一配向層33、一液晶層35、一第二配向層62、一第二基體36、一第二偏光片39。
所述第二配向層62設置於所述第二基體36靠近液晶層35的表面,且第二配向層62靠近液晶層35的表面包括複數個平行的第二溝槽626。所述第二配向層62的第二溝槽626排列方向與第一配向層33的第一溝槽332的排列方向垂直,從而可以對液晶層35中的液晶分子進行定向。所述第二配向層62包括一第一透明奈米碳管層622、一固定層624以及複數個第二溝槽626。所述固定層624設置於所述第一透明奈米碳管層622靠近液晶層35的表面。所述第一透明奈米碳管層622可選自本發明第一實施例中的透明奈米碳管層。定義所述第一透明奈米碳管層622的厚度為A3
由於所述第一透明奈米碳管層622靠近液晶層35的表面具有複數個平行且均勻分佈的間隙,故,所述固定層624覆蓋於所述第一透明奈米碳管層622靠近液晶層35的表面時,會在所述第一透明奈米碳管層622靠近液晶層35的表面分別形成複數個平行且均勻分佈的溝槽。該溝槽可作為所述第二配向層62的第二溝槽626。
可以理解,由於所述顯示屏60中的第二配向層62包括一第一透明奈米碳管層622,因此,當光線穿過所述第二配向層62中的第一透明奈米碳管層622時,會產生一定的色偏。此時,可以通過所述色偏改善層40來改善所述顯示屏60產生的色偏,從而降低所述顯示裝置400的色偏。該色偏改善層40的b值可以根據該第一透明奈米碳管層622的厚度A3確定。該色偏改善層40的b值的範圍在-16.7×A3到-1.67×A3。優選的,該色偏改善層40的b值的範圍 在-10×A3到-1.67×A3
此外,所述顯示屏60可進一步包括一第二透明奈米碳管層。所述第二透明奈米碳管層可選自本發明第一實施例觸摸屏20中的透明奈米碳管層。所述第二透明奈米碳管層可用作所述第二透明奈米碳管層的第一透明電極層32、第一配向層33、第一偏光片34或第二偏光片39。定義所述第二透明奈米碳管層的厚度為A4。可以理解,當所述顯示屏60進一步包括一第二透明奈米碳管層時,該色偏改善層40的b值可以根據該第一透明奈米碳管層的厚度A3以及該第二透明奈米碳管層的厚度A4確定。該色偏改善層40的b值的範圍在-16.7×(A3+A4)到-1.67×(A3+A4)。優選的’該色偏改善層40的b值的範圍在-10×(A3+A4)到-1.67×(A3+A4)。
可以理解,當所述顯示屏60單獨使用時,即,所述顯示裝置300不包含所述觸摸屏50及所述觸摸屏控制器12。由於透明奈米碳管層的存在,該顯示屏60會產生一定的色偏。此時,也可以通過設置一色偏改善層40來改善所述顯示屏60的色偏。該色偏改善層40的b值可以根據該顯示屏60中透明奈米碳管層的厚度確定。所述色偏改善層40的位置不限,只要設置於所述顯示屏60中背光源發出的光線通過的路徑,從而使該顯示屏60對不同波長的光線具有大致相等的透光率即可。
本發明實施例中的顯示裝置及顯示屏通過在所述顯示裝置及顯示屏中設置一色偏改善層,可以顯著降低該顯示裝置及顯示屏的色偏,獲得良好的畫質及觀賞效果;此外,該色偏改善層具有製作工藝簡單成本較低等特點,適用於工業化。
綜上所述,本發明確已符合發明專利之要件,遂依法提出專利申 請。惟,以上所述者僅為本發明之較佳實施例,自不能以此限製本案之申請專利範圍。舉凡習知本案技藝之人士援依本發明之精神所作之等效修飾或變化,皆應涵蓋於以下申請專利範圍內。
300‧‧‧顯示裝置
12‧‧‧觸摸屏控制器
13‧‧‧中央處理器
14‧‧‧顯示屏控制器
40‧‧‧色偏改善層
50‧‧‧觸摸屏
60‧‧‧顯示屏
104‧‧‧鈍化層
106‧‧‧間隙
108‧‧‧支撐體

Claims (12)

  1. 一種顯示屏,其包括一第一透明奈米碳管層,該第一透明奈米碳管層設置於所述顯示屏的背光源發出光線的路徑上,其改良在於,所述顯示屏進一步包括一色偏改善層,該色偏改善層設置於所述顯示屏的背光源發出光線的路徑上,用於改善由所述第一透明奈米碳管層產生的色偏;定義所述第一透明奈米碳管層的厚度為A微米,所述色偏改善層的藍黃值的範圍在-16.7×A到-1.67×A之間。
  2. 如請求項1所述的顯示屏,其中,所述色偏改善層的藍黃值的範圍在-10×A到-1.67×A之間。
  3. 如請求項1所述的顯示屏,其中,所述第一透明奈米碳管層的厚度為0.3微米,所述色偏改善層的藍黃值為-1.2。
  4. 如請求項1所述的顯示屏,其中,所述第一透明奈米碳管層用作所述顯示屏的透明電極層、配向層或偏光片。
  5. 如請求項1所述的顯示屏,其中,所述顯示屏進一步包括一第二奈米碳管層,定義所述第一透明奈米碳管層的厚度為A微米,定義所述第二透明奈米碳管層的厚度為B微米,則,所述色偏改善層的藍黃值的範圍在-16.7(A+B)到-1.67(A+B)之間。
  6. 如請求項5所述的顯示屏,其中,所述第二透明奈米碳管層用作所述顯示屏的透明電極層、配向層或偏光片。
  7. 如請求項1所述的顯示屏,其中,所述色偏改善層的材料選自TiO2、ZrO2、Nb2O5、Ta2O5、Al2O3、SiO2、CeO2、HfO2、ZnS及MgF2
  8. 如請求項1所述的顯示屏,其中,所述色偏改善層的製備工藝包括:真空蒸鍍法、濺鍍法、夾縫式塗佈法、旋塗法及浸漬法。
  9. 如請求項1所述的顯示屏,其中,所述色偏改善層對短波長的可見光的透光率高於長波長的可見光的透光率。
  10. 一種顯示裝置,其包括一顯示屏,該顯示屏包括一第一透明奈米碳管層,該第一透明奈米碳管層設置於所述顯示裝置的背光源發出光線的路徑上,其改良在於,所述顯示裝置進一步包括一色偏改善層,該色偏改善層設置於所述顯示裝置的背光源發出光線的路徑上,用於改善由所述第一透明奈米碳管層產生的色偏,定義所述第一透明奈米碳管層的厚度為A微米,所述色偏改善層的藍黃值的範圍在-16.7×A到-1.67×A之間。
  11. 如請求項10所述的顯示裝置,其中,所述顯示裝置進一步包括一觸摸屏,所述觸摸屏正對且靠近所述顯示屏設置,該觸摸屏用於控制所述顯示屏的顯示。
  12. 如請求項11所述的顯示裝置,其中,所述色偏改善層設置於所述觸摸屏或顯示屏中。
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