TWI552214B - 液體傳輸管路裝置及運用該液體傳輸管路裝置之供液方法和停止供液方法 - Google Patents

液體傳輸管路裝置及運用該液體傳輸管路裝置之供液方法和停止供液方法 Download PDF

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Description

液體傳輸管路裝置及運用該液體傳輸管路裝置之供液方法和停止供液方法
本發明是關於一種液體傳輸管路裝置及運用該液體傳輸管路裝置之供液方法和停止供液方法，特別是關於一種適用於一製程反應槽的液體傳輸管路裝置及運用該液體傳輸管路裝置之供液方法和停止供液方法。
請參照第1圖，其顯示一種傳統液體傳輸管路裝置10之管路示意圖。該液體傳輸管路裝置10與一製程反應槽20連通，用於供應第一種製程液體至該製程反應槽20內。該液體傳輸管路裝置10包含：一液體供應單元11用於提供該第一種製程液體，以及一進液管路S連通於該液體供應單元11和該製程反應槽20之間用於將該第一種製程液體輸送至該製程反應槽20。該進液管路S包含一閥門V用於控制該第一種製程液體的流通。
如第1圖所示，該進液管路S包含一第一段P1和一第二段P2，其中該第一段P1位於該液體供應單元11和該閥門V之間，以及該第二段P2位於該閥門V和該製程反應槽20之間。然而當將該閥門V關閉後，即停止 供應該第一種製程液體流通至該製程反應槽20內時，一部分的該第一種製程液體可能會殘留在該進液管路S之該第二段P2中，使得當該製程反應槽20經由另一液體傳輸管路裝置(未圖示)注入第二種製程液體時，該第二段P2中殘留的該第一種製程液體會滴入該製程反應槽20內，因而汙染該製程反應槽20內新注入的該第二種製程液體，使製程產生變異。
舉例來說，當該製程反應槽20係用於半導體製程中的去光阻製程時，該製程反應槽20內主要裝載去光阻液(如EKC)，以及該液體傳輸管路裝置10為用於供給用來清洗該製程反應槽20的清洗液體(如去離子水)。當藉由該液體傳輸管路裝置10將該製程反應槽20清洗完畢後，再藉由另一液體傳輸管路裝置(未圖示)將EKC注入該製程反應槽20。當殘留在該進液管路S之該第二段P2內的去離子水滴入該製程反應槽20時，EKC與水發生反應產生強鹼，因而造成製程變異，例如當製程基板上包含金屬層時，該金屬層會因此產生氧化。
有鑑於此，有必要提出一種改進的液體傳輸管路裝置，能有效避免當該液體傳輸管路裝置停止供應製程液體時部分製程液體殘留在該液體傳輸管路裝置的管路中所造成的製程變異問題。
為解決上述習知技術之問題，本發明之目的在於提供一種液體傳輸管路裝置及運用該液體傳輸管路裝置之供液方法和停止供液方法。藉由該液體傳輸管路裝置可將殘留在該液體傳輸管路裝置之管路中的製程液體排除，因而避免該製程液體殘留的問題。
為達成上述目的，本發明提供一種液體傳輸管路裝置，適用 於一製程反應槽，包含：一液體供應單元，用於提供一製程液體；一進液管路，連通於該液體供應單元和該製程反應槽之間，用於將該製程液體輸送至該製程反應槽，其中該進液管路包含一第一閥門和一第二閥門；以及一排液管路，與該進液管路相互連通，包含一第三閥門，其中該排液管路和該進液管路之連接點位於該第一閥門和該第二閥門之間。
於本發明其中之一較佳實施例當中，當該液體供應單元供應該製程液體至該製程反應槽時，該進液管路之該第一閥門和該第二閥門開啟，並且該排液管路之該第三閥門關閉。
於本發明其中之一較佳實施例當中，當該液體供應單元停止供應該製程液體至該製程反應槽時，該進液管路之該第一閥門和該第二閥門關閉，並且該排液管路之該第三閥門開啟。
於本發明其中之一較佳實施例當中，該進液管路之該第二閥門接近該液體供應單元，且該第一閥門接近該製程反應槽，當該液體供應單元停止供應該製程液體至該製程反應槽時，該第二閥門最先關閉，接著開啟該排液管路之該第三閥門，並且經過一延遲時間之後關閉該第二閥門。
本發明還提供一種液體傳輸管路裝置之供液方法，包含：關閉該排液管路之該第三閥門；以及開啟該進液管路之該第一閥門和該第二閥門。
本發明還提供一種液體傳輸管路裝置之停止供液方法，包含：關閉該進液管路之該第二閥門，該第二閥門為接近該液體供應單元者；開啟該排液管路之該第三閥門；以及關閉該進液管路之該第一閥門。
於本發明其中之一較佳實施例當中，當開啟該排液管路之該 第三閥門後，經過一延遲時間才關閉該進液管路之該第一閥門。
10、100‧‧‧液體傳輸管路裝置
11、110‧‧‧液體供應單元
20、200‧‧‧製程反應槽
S‧‧‧進液管路
P1‧‧‧第一段
P2‧‧‧第二段
D‧‧‧排液管路
V‧‧‧閥門
V1‧‧‧第一閥門
V2‧‧‧第二閥門
V3‧‧‧第三閥門
第1圖顯示一種傳統液體傳輸管路裝置之管路示意圖。
第2圖顯示一種根據本發明之較佳實施例之液體傳輸管路裝置於供液時之管路示意圖。
第3圖顯示一種根據本發明之較佳實施例之液體傳輸管路裝置於停止供液時之管路示意圖。
為了讓本發明之上述及其他目的、特徵、優點能更明顯易懂，下文將特舉本發明較佳實施例，並配合所附圖式，作詳細說明如下。
請參照第2圖所示，其顯示一種根據本發明之較佳實施例之液體傳輸管路裝置100於供液時之管路示意圖。該液體傳輸管路裝置100與一製程反應槽200相互連通，用於供應一製程液體至該製程反應槽200內。該液體傳輸管路裝置100包含：一液體供應單元110、一進液管路S、和一排液管路D。該液體供應單元110用於提供該製程液體。該進液管路S連通於該液體供應單元110和該製程反應槽200之間用於將該製程液體輸送至該製程反應槽200。該進液管路包含一第一閥門V1和一第二閥門V2用於控制該製程液體的流通，其中該第一閥門V1位於靠近該製程反應槽200端，以及該第二閥門V2位於靠近該液體供應單元110端。該排液管路D之一端與該進液管路S相互連通，另一端則連通至一排液端，其中該排液管路D和該進液管路S之連接點位於該第一閥門V1和該第二閥門V2之間。再者，該排液管路D包 含一第三閥門V3，當該第三閥門V3開啟時，管路S內殘留的該製程液體可經由該排液管路D流向該排液端。
如第2圖所示，當藉由該液體傳輸管路裝置100將該製程液體供應至該製程反應槽200內時，首先需將該排液管路D之該第三閥門V3關閉以避免該製程液體經由該排液管路D流向該排液端。接著，開啟該進液管路S之該第一閥門V1和該第二閥門V2，使得該製程液體流入該製程反應槽200內。
請參照第3圖所示，其顯示一種根據本發明之較佳實施例之該液體傳輸管路裝置100於停止供液時之示意圖。當停止將該製程液體供應至該製程反應槽200內時，首先需將靠近該液體供應單元110之該第二閥門V2關閉以停止供應該製程液體。接著，開啟該排液管路D之該第三閥門V3以將殘留在該進液管路S中的該製程液體排除。最後，經過一段延遲時間以確保該液體傳輸管路裝置100之管路S中已無殘留該製程液體後再將該進液管路S之靠近該製程反應槽200的該第一閥門V1關閉。
綜上所述，藉由本發明之該液體傳輸管路裝置100可將殘留在該液體傳輸管路裝置100之管路中的該製程液體排除，因而避免該製程液體殘留的問題。應當注意的是，在本發明中所指的製程液體並非限定在實質上參與製程反應的液體，而是指任何一種需要被注入該製程反應槽200的液體，例如用於清洗該製程反應槽200的液體。另一方面，在本發明的第2圖和第3圖中僅出示一個液體傳輸管路裝置100，但本發明之該液體傳輸管路裝置100的數量不侷限於此，可根據實際需求將單一個該製程反應槽200配置一個以上的該液體傳輸管路裝置100。
雖然本發明已用較佳實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，本發明所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
100‧‧‧液體傳輸管路裝置
110‧‧‧液體供應單元
200‧‧‧製程反應槽
S‧‧‧進液管路
D‧‧‧排液管路
V1‧‧‧第一閥門
V2‧‧‧第二閥門
V3‧‧‧第三閥門

Claims (7)

  1. 一種液體傳輸管路裝置，適用於一製程反應槽，包含：一液體供應單元，用於提供一製程液體；一進液管路，連通於該液體供應單元和該製程反應槽之間，用於將該製程液體輸送至該製程反應槽，其中該進液管路包含一第一閥門和一第二閥門；以及一排液管路，與該進液管路相互連通，包含一第三閥門，其中該排液管路和該進液管路之連接點位於該第一閥門和該第二閥門之間。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之液體傳輸管路裝置，其中當該液體供應單元供應該製程液體至該製程反應槽時，該進液管路之該第一閥門和該第二閥門開啟，並且該排液管路之該第三閥門關閉。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之液體傳輸管路裝置，其中當該液體供應單元停止供應該製程液體至該製程反應槽時，該進液管路之該第一閥門和該第二閥門關閉，並且該排液管路之該第三閥門開啟。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之液體傳輸管路裝置，其中該進液管路之該第二閥門接近該液體供應單元，且該第一閥門接近該製程反應槽，當該液體供應單元停止供應該製程液體至該製程反應槽時，該第二閥門最先關閉，接著開啟該排液管路之該第三閥門，並且經過一延遲時間之後關閉該第二閥門。
  5. 一種如申請專利範圍第1項所述之液體傳輸管路裝置之供液方法，包含：關閉該排液管路之該第三閥門；以及開啟該進液管路之該第一閥門和該第二閥門。
  6. 一種如申請專利範圍第1項所述之液體傳輸管路裝置之停止供液方法，包含：關閉該進液管路之該第二閥門，該第二閥門為接近該液體供應單元者；開啟該排液管路之該第三閥門；以及關閉該進液管路之該第一閥門。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之停止供液方法，其中當開啟該排液管路之該第三閥門後，經過一延遲時間才關閉該進液管路之該第一閥門。
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