TWI551725B - 隔板式沉積裝置 - Google Patents

Description

隔板式沉積裝置

本發明係與薄膜沉積設備有關，更詳而言之是指一種可用於對玻璃基板形成單面薄膜或雙面不同薄膜的沉積裝置。

已知玻璃基板為因應後續製程而於表面經各種加工方式形成具有設定特性的薄膜結構。其中常見薄膜生成的方式是將玻璃基板直接放入一個具有化學藥液的容槽中，再經控制時間與溫度而於玻璃基板表面逐漸生成所需的薄膜結構。惟，前述方式將於玻璃基板的兩面同時生成有相同結構的薄膜，為此，業者通常必須再施以一道程序以去除玻璃基板其中一面的薄膜，然如此一來，不僅因製程增加而降低效率，更有增加成本支出之虞。

另外，對於玻璃基板之兩面各有不同薄膜結構的特殊需求時，已知的加工方式是先在完成玻璃基板的其中一面之薄膜生成後，再進行另一面的薄膜生成製作。同樣地，該多道加工製程將降低效率並增加成本支出。

為解決上述問題，本發明之主要目的在於提供一種隔板式沉積裝置，利用具有至少兩個沉積室的設計，以對玻璃基板形 成單面薄膜或是雙面不同薄膜的製作。

緣以達成上述目的，本發明所提供之隔板式沉積裝置包含一邊框、二玻璃基板與至少一隔板。其中該邊框具有一鏤空部，且該鏤空部於該邊框的左、右側面分別具有一左、右開放端面；該二玻璃基板分設於該邊框的左、右側面，且各別封閉該鏤空部之左、右開放端面；該隔板係插設於該邊框之鏤空部中，且將該鏤空部區分為二互不相通的沉積室，該二玻璃基板之一側表面各別面對一該沉積室。

本發明另提供一種隔板式沉積裝置，包含一基座與至少一第一玻璃基板。其中該基座內部具有一封閉空間；該第一玻璃基板設置於該基座之封閉空間中，且將該封閉空間區分為至少兩個互不相通的沉積室，該第一玻璃基板之二側表面分別面對二該沉積室。

藉此，利用於基座的封閉空間中所區分出的兩個沉積室，以對構成該沉積裝置一部分的玻璃基板之一側表面生成有薄膜結構，或者，在隔板為另一個玻璃基板時，可對該玻璃基板的兩面同時生成有不同的薄膜結構。

為能達成對玻璃基板生成單面薄膜或是雙面不同薄膜的目的，本發明所提供的隔板式沉積裝置主要具有至少兩個沉積室。以下茲舉一較佳實施例來說明本發明的隔板式沉積裝置。

請參閱圖1至圖3所示，為本發明第一較佳實施例之隔板式沉積裝置10，其包括有一基座、二密封件16、二玻璃基板20與一隔板24。

該基座包括有一矩形的邊框12與二側板14。其中：該邊框12所圍設的空間定義為一鏤空部12a，且鏤空部12a於該邊框12的左、右側面分別具有一左、右開放端面；該邊框12頂面並具有一長形的插槽12b與該鏤空部12a相通；又，請配合圖4，該邊框12之左、右側面上分別具有一沿著該鏤空部12a外圍設置的嵌槽12c，各該嵌槽12c中分別嵌入一該密封件16，且密封件16係具有良好的變形能力。

各該側板14內面設置有複數個凸塊14a，該些凸塊14a排列呈「ㄩ」形，且各凸塊14a與側板14內面之間形成有一夾槽(圖未示)；各側板14內面的夾槽分別供一該玻璃基板20***其中，亦即玻璃基板20為該些凸塊14a所框限定位並且不會晃動。各該側板14藉由至少一定位銷22穿過側板14上的孔14b與邊框12上的孔12d，而獲得對位且組裝於該邊框12的左、右側面，於此同時，各玻璃基板20受到側板14的擠壓而致其一側表面緊緊壓貼於一對應的密封件16上，各玻璃基板20並分別封閉該鏤空部12a之左、右開放端面，於此定義，此狀態下的鏤空部12a形成一封閉空間。又，為提高該邊框12與各側板14彼此間 的結合穩固性以確保封閉空間的密閉性，本實施例結構可再選擇以螺栓穿過邊框12及側板14並為緊逼，或是以夾具將其等迫緊等方式為之。

該隔板24係自該邊框12之插槽12b而***該鏤空部12a中，並將該鏤空部12a區分為兩個互不相通的沉積室S1,S2，亦即，此狀態下的該二玻璃基板20之一側表面，分別面對著沉積室S1與沉積室S2。較佳者，該邊框12之內緣可設置有一導槽12e，以便該隔板24對準***而確實產生分隔效果，又，隔板24以平行玻璃基板20為佳。

上述即為本實施例之隔板式沉積裝置10之結構敘述，使用時，係可安置在一支撐架26上。以下說明其可用於玻璃基板的單面生成薄膜如后：在圖3及圖4所示實施例中，該二玻璃基板20是構成封閉空間的一部分，因此，當沉積室S1與沉積室S2被注入以化學藥液為例的反應物時，各玻璃基板20的一側表面即與化學藥液直接接觸，隨著時間與溫度等因素的控制，逐漸生成所需的薄膜結構。在注入沉積室S1與沉積室S2的化學藥液相同時，該二玻璃基板20表面生成相同結構的薄膜；反之，當注入沉積室S1與沉積室S2的化學藥液不相同時，即可使得各玻璃基板20表面獲得不同結構的薄膜。前述化學藥液的注入與排出，可藉由於邊框12上設置一注入孔與一排出孔，抑或同時兼具注入及排出的單一孔的結構來達成。

為了有效控制化學藥液在薄膜生成過程中的反應情形，本發明沉積裝置可選擇加裝至少一溫控器，請參圖5所示之第二較佳實施例，該二溫控器28分別設置於各該側板14的外側，藉由選擇導入冷空氣或是熱空氣，以對不同化學藥液造成不同程度的影響，如此當可縮短薄膜生成的反應時間。

另外，本發明可再增設一擾流裝置，用以使各沉積室內的反應物產生紊流效果，以使薄膜沉積厚度均勻。請參圖6所示之第三較佳實施例，該擾流裝置包括設置在邊框12底部的複數個氣孔12f，該些氣孔12f共同連通至一外部氣體供應源30，利用導入空氣的方式，以於化學藥液中生成氣泡而達到擾流效果。

圖7所示之第四較佳實施例中的擾流裝置包括於邊框12的側端面上設置有複數個貫孔12g連通各沉積室，各貫孔12g經由連接外管32的方式而連結至一強制循環系統34，透過強制驅使化學藥液於各沉積室及外管32中不斷對流，以達成擾流目的。必須說明的是，達成擾流效果之結構不以上述為限，例如亦可使用可轉動或是可產生往復動作的攪拌棒來使化學藥液產生紊流。

以下再說明其可用於單一玻璃基板之雙面生成不同薄膜結構如后：請參圖8所示之第五較佳實施例，係以一玻璃基板36作為隔板使用，亦即玻璃基板36將基座的封閉空間區有兩個互 不相通的沉積室S1,S2，而透過於各該沉積室分別注入不同成分的化學藥液，即可於該玻璃基板36的兩面分別生成有不同結構的薄膜。在前述基礎下，維持使用該二玻璃基板20以構成封閉空間的一部分時，則可同時對各該玻璃基板20的單面生成薄膜結構。

又請參閱圖9所示之第六較佳實施例，該隔板式沉積裝置40包括有一基座、複數密封件48、二第一玻璃基板50與二第二玻璃基板52，其中：該基座具有相同外形且中間呈透空的二邊框42、一串接框44與二側板46。其中，各邊框42與該串接框44的兩側面分別具有一沿著中間透空部位外圍設置的嵌槽42a,44a，各嵌槽42a,44a中分別置入一該密封件48；各側板46內面則具有一沿著中間透空部位外圍突起設置的凸垣46a。如圖9所示，該串接框44係放置於兩個邊框42之間，而各側板46則是位於一對應邊框42的外側，且，在相鄰的側板46與邊框42之間，設置一該第二玻璃基板52，以及在相鄰的邊框42與串接框44之間，設置一該第一玻璃基板50。

隨著以鎖合或是夾合的方式迫使上述構件互為抵靠時，將使得側板46的凸垣46a抵接第二玻璃基板52的一側表面，間接造成第一玻璃基板50與第二玻璃基板52緊貼著對應的密封件48，此時，各邊框42配合著設置在其兩側面的第一玻璃基板50與第二玻璃基板52而共同圍設形成有一個密閉的沉積 室，待於沉積室中注入特定的化學藥液後，即可同時於各第一玻璃基板50及各第二玻璃基板52的一側表面生成所需的薄膜結構。前述注入化學藥液的方式如於邊框42上設置注入孔42b來達成，但不以此為限。

另請參圖10所示之第七較佳實施例，吾人得於該二側板46之間，透過組裝更多的邊框42、串接框44、密封件48、第一玻璃基板50及第二玻璃基板52，以增加更多的沉積室，並據以提高生產效能。

上述用以生成薄膜的反應物是以化學藥液為例，惟亦得視需求而選用化學氣體，在使用化學氣體時，則須注意應將基座的所有孔洞予以封蔽以防逸散。

以上所述僅為本發明較佳可行實施例而已，舉凡應用本發明說明書及申請專利範圍所為之等效結構變化，理應包含在本發明之專利範圍內。

10‧‧‧隔板式沉積裝置

12‧‧‧邊框

12a‧‧‧鏤空部

12b‧‧‧插槽

12c‧‧‧嵌槽

12d‧‧‧孔

12e‧‧‧導槽

12f‧‧‧氣孔

12g‧‧‧貫孔

14‧‧‧側板

14a‧‧‧凸塊

14b‧‧‧孔

16‧‧‧密封件

20‧‧‧玻璃基板

22‧‧‧定位銷

24‧‧‧隔板

26‧‧‧支撐架

28‧‧‧溫控器

30‧‧‧外部氣體供應源

32‧‧‧外管

34‧‧‧強制循環系統

36‧‧‧玻璃基板

40‧‧‧隔板式沉積裝置

42‧‧‧邊框

42a‧‧‧嵌槽

42b‧‧‧注入孔

44‧‧‧串接框

44a‧‧‧嵌槽

46‧‧‧側板

46a‧‧‧凸垣

48‧‧‧密封件

50‧‧‧第一玻璃基板

52‧‧‧第二玻璃基板

S1、S2‧‧‧沉積室

圖1為本發明第一較佳實施例之隔板式沉積裝置分解立體圖；圖2為圖1之隔板式沉積裝置的組合立體圖；圖3為圖2之3-3方向剖視圖；圖4為圖3之側視圖；圖5為本發明第二較佳實施例之隔板式沉積裝置組合立體圖；圖6為本發明第三較佳實施例之隔板式沉積裝置組合立體圖；圖7為本發明第四較佳實施例之隔板式沉積裝置組合立體圖；圖8類同圖4，為本發明第五較佳實施例之隔板式沉積裝置之剖視圖；圖9為本發明第六較佳實施例之隔板式沉積裝置分解立體圖；圖10為本發明第七較佳實施例之隔板式沉積裝置分解立體圖。

10‧‧‧隔板式沉積裝置

12‧‧‧邊框

12a‧‧‧鏤空部

12b‧‧‧插槽

12d‧‧‧孔

14‧‧‧側板

14a‧‧‧凸塊

14b‧‧‧孔

20‧‧‧玻璃基板

22‧‧‧定位銷

24‧‧‧隔板

26‧‧‧支撐架

Claims (15)

1. 一種隔板式沉積裝置，包含有：至少一邊框，具有一鏤空部，且該鏤空部於該邊框的左、右側面分別具有一左、右開放端面；至少二玻璃基板，分設於該邊框的左、右側面，且各別封閉該鏤空部之左、右開放端面；以及至少一隔板，係插設於該邊框之鏤空部中，且將該鏤空部區分為二互不相通的沉積室，該二玻璃基板之一側表面各別面對一該沉積室。
2. 如請求項1所述之隔板式沉積裝置，包括有二側板，各該側板之內面與該邊框之側面之間分別設置一該玻璃基板，且各側板與該邊框固接。
3. 如請求項2所述之隔板式沉積裝置，包括有至少二密封件，各該密封件係設置於一該玻璃基板與該邊框的左、右側面之間，且呈圈繞於該鏤空部外側。
4. 如請求項3所述之隔板式沉積裝置，包括有至少一串接框，以及該邊框數量為複數個，其中，該串接框位於兩個邊框之間，該二側板分別位於一該邊框的外側，且於相鄰之側板與邊框，及相鄰之邊框與串接框之間，各別設置一該玻璃基板，同時，於相鄰之玻璃基板與邊框，及相鄰之玻璃基板與串接框之間，各別設置一該密封件。
5. 如請求項3所述之隔板式沉積裝置，其中各側板內面具有 至少二凸塊，各凸塊與該側板內面之間形成有一夾槽，該玻璃基板***該二凸塊之夾槽中。
6. 如請求項1所述之隔板式沉積裝置，其中該邊框頂面具有一插槽與該鏤空部相通，該隔板自該插槽而***該鏤空部中。
7. 如請求項1所述之隔板式沉積裝置，其中該隔板為一玻璃基板。
8. 如請求項1所述之隔板式沉積裝置，包括有至少一溫控器，該溫控器裝設於玻璃基板之外側。
9. 如請求項1所述之隔板式沉積裝置，包括有一擾流裝置，用以使各該沉積室內的反應物產生紊流效果。
10. 一種隔板式沉積裝置，包含有：一基座，其內部具有一封閉空間；至少一第一玻璃基板，設置於該基座之封閉空間中，且將該封閉空間區分為至少兩個互不相通的沉積室，該第一玻璃基板之二側表面分別面對二該沉積室。
11. 如請求項10所述之隔板式沉積裝置，其中該基座包括有至少一邊框及二側板，該邊框具有一鏤空部，該二側板分別結合於該邊框的兩側，且與該邊框圍設形成該封閉空間。
12. 如請求項11所述之隔板式沉積裝置，包括有至少一第二玻璃基板，該第二玻璃基板設置於一該側板的內面與該邊框側面之間，且第二玻璃基板之一表面面對一該沉積室。
13. 如請求項12所述之隔板式沉積裝置，更包括有至少一串 接框與複數密封件，該邊框之數量為複數個，該第一及第二玻璃基板之數量亦為複數個；其中，該串接框位於兩個邊框之間，該二側板分別位於一該邊框的外側，且於相鄰之側板與邊框之間設置一該第二玻璃基板，於相鄰之邊框與串接框之間設置一該第一玻璃基板，另，於各玻璃基板與相鄰之邊框及串接框之間，各別設置一該密封件。
14. 如請求項10所述之隔板式沉積裝置，包括有至少一溫控器，該溫控器裝設於該基座外側，且對應該封閉空間。
15. 如請求項10所述之隔板式沉積裝置，包括有一擾流裝置，用以使各該沉積室內的反應物產生紊流效果。