TWI536115B - 膜片之曝光裝置 - Google Patents

Description

膜片之曝光裝置

本發明係關於一種膜片之曝光裝置，特別是關於一種可高精度地設定在膜片曝光開始之際的遮罩之位置，可穩定進行膜片曝光的膜片之曝光裝置。

以往，在對例如平板狀的基板等構件進行曝光之際，為了高精度地管理其曝光位置，遂進行以下方法：使用例如於表面上施加了既定標記的基板，藉由該標記，來決定用於曝光的遮罩之位置，或在載置基板的托板上設置對位用的插針(例如專利文獻1、2)。

但是，在曝光對象為膜片之情形，難以適用在如上述平板狀構件的曝光中之對位技術。亦即，作為曝光對象的膜片，在例如如圖9所示的步驟中，雖在整捲連續製造方式之生產線的途中供給至曝光裝置1，但不同於在對平板狀的基板等進行曝光之情形，由於其柔軟性，運送中的膜片2容易產生波浪形。

又，在如圖9所示的整捲連續製造方式的膜片生產線中，在所有加工步驟中，係進行利用膜片的柔軟性之處理。亦即，膜片2從輥機20捲出而供給至產線，於前處理部3中施以例如乾洗以及表面重組等前處理，以狹縫式塗布機4對表面塗布既定材料，然後以乾燥裝置5使所塗布的材料乾燥。而於表面上形成了材料膜的膜片2，係供給至曝光裝置1，以曝光裝置1對材料膜進行曝光。此時膜片2，在各裝置之間藉由例如滾輪9所支撐，藉由其旋轉來運送之。因此，專利文獻1及2所揭示的技術難以適用於膜片2之曝光。

在膜片的曝光中遮罩的對位技術，係例如專利文獻3所揭示者。專利文獻3，揭示了對1片膜片分成2次來進行曝光之技術，並揭示以下技術：對膜片施以第1次曝光而形成圖案，然後在第2次曝光之際，以線性CCD(Charge-coupled Device，電荷耦合元件)偵測該圖案，依據此偵測結果來調節遮罩的位置。

然而，該專利文獻3的技術，雖在膜片係以既定圖案進行過1次曝光之情形中，藉由拍攝該圖案，可調整遮罩的位置，但在對於未進行曝光處理的膜片首次進行曝光之情形中，無法高精度地設定遮罩的位置。

圖10，係以一例顯示以下型式的習知曝光裝置之圖，該曝光裝置係由一對射出曝光光線的光源11對應於並面對著1個遮罩12而配置，對於曝光對象例如膜片2，從互不相同的方向照射曝光光線。此種型式的曝光裝置，係在例如於液晶顯示器等玻璃基板上形成定向膜之際的曝光步驟中使用，並將玻璃基板上的作為1像素之區域分割成2個區域，在各區域使定向膜定向於互不相同的方向，藉此，使於玻璃基板間所夾持的液晶之分子對應而定向於定向膜的定向方向，藉此可擴大液晶顯示器等之視角，此種技術近來受到人們的注目。

在藉由此種曝光裝置對膜片進行曝光之際，膜片在運送中容易產生波浪形，從而發生曝光位置的偏移，以上為其問題點。為了減少該曝光位置的偏移之影響，例如，在於如上述的膜片移動方向配置了複數道光源之構造之曝光裝置中，例如如圖11所示，將遮罩分割成複數個，更配置成交錯狀。而如圖11所示，在膜片受供給而來的上游側，藉由互相隔離而配置的遮罩121及122，在曝光區域A及C對膜片2進行曝光；在下游側，藉由遮罩123對曝光區域A及C之間的區域B進行曝光，藉由遮罩124對曝光區域C所鄰接的區域D進行曝光。藉此，可於膜片2的幾乎整面形成定向分割的圖案。

[習知技術文獻]

[專利文獻]

專利文獻1：日本特開昭62-294252號公報

專利文獻2：國際公開第08/139643號

專利文獻3：日本特開2006-292919號公報

然而，上述專利文獻3的技術，係僅在預先以高精度於膜片形成既定圖案之情形，能以高精度進行第2次以後的曝光之技術；以高精度設定對於膜片首次進行曝光之際的遮罩位置之技術，尚未被提及。因此，在膜片的曝光開始之際曝光位置偏移之問題，仍未獲解決。

又，在如上述的於膜片移動方向配置了複數道光源的構造之曝光裝置中，如圖10所示，內建有曝光用的光源11之部分(光源11的框體部分)，對每1光源，例如在膜片的移動方向上具有約2m左右的長度；如圖11所示的曝光區域A及C與曝光區域B及D之間的距離，至少長達4m左右。因此，在從上游側的曝光區域A及C到下游側的曝光區域B及D之運送中，膜片不單是容易產生波浪形，於其寬方向亦容易產生偏移，以上皆為其問題點。因而，除了在1個曝光區域中曝光位置的偏移之外，於上游側的曝光區域A及C與下游側的曝光區域B及D之間，膜片於寬方向發生位置偏移，從而曝光區域重疊，或產生未曝光的區域，以上皆為其問題點。

本發明係鑑於相關問題點所製成，目的在於提供一種在膜片的曝光開始之際，能高精度地設定遮罩的位置，以高曝光精度對膜片穩定進行曝光之膜片之曝光裝置。

依本發明的膜片之曝光裝置，具有：光源，射出曝光光線；遮罩；形成有既定的光透射區域之圖案，使來自該光源的曝光光線對應並透射該圖案；膜片供給部，將曝光對象的膜片從其前端部連續地供給至透射該遮罩的光透射區域之光的光路上；以及遮罩支撐部，支撐該遮罩；在將透射該遮罩的光透射區域之光照射在形成於該膜片表面之曝光材料，來對該膜片進行曝光之膜片之曝光裝置中，其特徵為具有：導入標誌形成部，於該膜片的前端部形成作為該遮罩的初始位置之基準之導入標誌；偵測部，偵測在對於該膜片的移動方向垂直的方向中該導入標誌與該遮罩上的標誌之間的距離；以及遮罩位置控制部，依據由該偵測部測出的偵測結果，來調整在對於該膜片的移動方向垂直的方向中該遮罩的位置。

在該膜片之曝光裝置中，例如該遮罩上的標誌，形成於較該光透射區域更靠近該膜片供給部側之位置。

該遮罩，例如在對於該膜片的移動方向垂直的方向上配置有複數個；該導入標誌形成部，對應各遮罩而於該膜片的前端部形成複數個導入標誌。在此情形，例如該複數個遮罩，係在對於該膜片的移動方向垂直的方向上配置成交錯狀。

在該膜片之曝光裝置中，例如該導入標誌形成部，具有：平台部，在對於該膜片的移動方向垂直的方向上延伸；標記部，形成該導入標誌；以及運送部，使該標記部沿著該平台部的長邊方向移動。

依本發明的膜片之曝光裝置，具有例如：對準標誌形成部，配置於較該遮罩更靠近該膜片供給部側，在從該膜片供給部供給而來之膜片的邊緣部上，形成對準標誌；以及第2偵測部，在膜片的移動方向下游側偵測該對準標誌的位置；該遮罩位置控制部，依據由該第2偵測部測出之偵測結果，來調整在連續地供給該膜片時，在對於該膜片的移動方向垂直的方向中該遮罩之位置。

依本發明的膜片之曝光裝置，其具有於膜片的前端部形成作為遮罩的初始位置之基準之導入標誌之導入標誌形成部；藉由偵測部來偵測在對於該膜片的移動方向垂直的方向中導入標誌與遮罩上的標誌之間的距離，而依據此偵測結果，遮罩位置控制部，調整在對於膜片的移動方向垂直的方向中遮罩的位置。藉此，在膜片的前端部，以高精度形成定位用的導入標誌，藉由該導入標誌的位置，即使在膜片之曝光開始之際，亦能高精度地設定遮罩的位置。因此根據本發明，能以高曝光精度穩定膜片來進行曝光。

以下，參照附加的圖式來針對本發明的實施形態進行具體說明。首先，針對依本發明的實施形態的膜片之曝光裝置之構造進行說明。圖1係顯示在依本發明的實施形態的膜片之曝光裝置中，導入標誌形成部之立體圖；圖2係顯示在依本發明的實施形態的膜片之曝光裝置的全體之立體圖；圖3係顯示對於膜片形成導入標誌之步驟之圖。如圖2及圖3所示，依本實施形態的膜片之曝光裝置，係由以下元件所構成：光源11，射出曝光光線；遮罩12；遮罩平台17(遮罩支撐部)，以可移動的方式支撐遮罩12；雷射標註器13(導入標誌形成部)，鄰近例如運送滾輪等膜片供給部而配置；線性CCD 15(膜片導入位置偵測部)，例如以在例如遮罩12的下方往膜片2的寬方向延伸之方式配置；以及遮罩位置控制部30，控制遮罩12的位置。在本發明中，藉由雷射標註器13，對於從膜片供給部所供給的膜片2，形成作為遮罩12定位的基準之導入標誌2a。在本實施形態中，雖以一例針對本發明適用於定向分割方式的曝光裝置之情形進行說明，但本發明並不限於定向分割方式的曝光裝置，可適用於所有膜片之曝光裝置。

曝光對象的膜片2，例如如圖9所示，從整捲連續製造方式的輥機20捲出而供給至狹縫式塗布機4，以狹縫式塗布機4對表面塗布既定的材料，例如定向膜材料，於乾燥裝置5使其乾燥，然後藉由運送滾輪9，供給至曝光裝置1內。於曝光裝置1的入口，設有藉由例如馬達所驅動的運送滾輪等之膜片供給部，將膜片2在例如水平方向供給至雷射標註器13側。例如，於曝光裝置1內，亦設有其他運送滾輪等之膜片運送部，在曝光裝置1內沿著其長邊方向運送膜片2。

雷射標註器13，如圖1所示，由構架台13a、運送部13b、以及標記部13c所構成；構架台13a，係以在膜片受供給而來的部分之上方對於膜片的移動方向垂直地(往膜片的寬方向)延伸之方式配置。運送部13b，係由構架台13a所支撐，且可在構架台13a上沿著其長邊方向移動。又，運送部13b，係藉由未圖示的控制裝置來控制其位置，藉此可調整標記部13c的位置。

標記部13c，係從例如Nd-YAG(neodymium doped-yttrium aluminum garnet，摻釹-釔鋁石榴石)雷射等雷射光源射出雷射光，如圖1所示，於從膜片供給部供給而來的膜片2之前端部，形成既定形狀例如十字狀的導入標誌2a。標記部13c，係固定於運送部13b，由控制裝置來控制運送部13b的位置，藉此可調整對於膜片2上的導入標誌2a之形成位置。在本實施形態中，標記部13c，係以分別對應後述的4個遮罩12之方式，於膜片2的前端部以例如一定間隔形成4個導入標誌2a。

光源11，係在例如定向分割方式的曝光裝置中射出紫外光之光源，可使用例如水銀燈、氙氣燈、準分子燈以及紫外光LED。在從光源11射出的曝光光線之光路上，分別配置例如準直透鏡及/或反射鏡等，俾以既定光量對例如膜片2的表面之定向材料膜照射曝光光線。光源11，可藉由例如未圖示的控制裝置，來調整曝光光線的射出方向，藉此可調整對於膜片2的曝光光線之入射角。本實施形態的曝光裝置1，對於1的曝光區域分別面對配置有2道光源11，使從各光源11射出的曝光光線透射遮罩12，然後分割膜片2上的作為1像素的區域，分別藉由不同曝光光線進行曝光，使定向膜材料成為在各區域定向於互不相同的方向之定向膜。對於定向材料膜，分別照射預傾角不同的2道曝光光線，藉此可使液晶分子的定向方向相異，例如在1像素內，追隨定向膜的定向方向而令方向對齊的液晶分子的方向為雙方向，藉此可擴 大液晶顯示器等之視角。另外，光源11，對於1處的曝光區域，並不限於2道，亦可設置3道以上，亦可藉由來自互不相同的方向之曝光光線，將例如定向膜材料定向成3方向以上。又，例如，亦可對於1處的曝光區域，設置1道光源11，藉由偏光板等分割從光源11射出的曝光光線，從互不相同的方向照射已分割的2道曝光光線。例如，藉由偏光板，可將曝光光線分割成P偏光的直線偏光之曝光光線與S偏光的直線偏光之曝光光線，分別從不同的方向進行照射。

遮罩12，分別於膜片2的移動方向之上游側及下游側，互相隔離地配置有複數個，例如如圖3所示，分別於上游側(遮罩121、122)及下游側(遮罩123、124)各設有2個。如圖3所示，複數個遮罩12，以藉由上游側的遮罩121、122所形成之曝光區域及藉由下游側的遮罩123、124所形成之曝光區域，沿著膜片的移動方向而鄰接之方式，亦即配置成交錯狀；針對各遮罩12，設有上述的1對光源11。而如圖3所示，使來自光源11的曝光光線透射膜片2的移動方向的上游側之遮罩121及122，在曝光區域A及C對膜片2上的定向膜材料進行曝光。又，使來自光源11的曝光光線透射下游側之遮罩123及124，在曝光區域B及D對膜片2上的定向膜材料進行曝光。

在本實施形態中，遮罩12，如圖4所示，由例如框體1200與其中央的圖案形成部1210所構成；於圖案形成部1210，形成有既定的光透射區域之圖案1210a。亦即，對應在膜片2所欲形成的圖案形狀而形成有透射曝光光線的形狀之開口，或是設置有光透射性的構件。而在例如定向分割方式的曝光裝置中，藉由透射過圖案形成部1210的光，對平台10上所配置的膜片2的表面之定向材料膜進行曝光。在本實施形態中，對每個遮罩12配置1對光源11，來分別射出入射角不同的曝光光線。因此，在本實施形態中，圖案1210a，係以於膜片的寬方向並列之複數個狹縫，於膜片的移動方向並排2列之方式形成。

在本實施形態中，遮罩12，在圖案1210a的更上游側，以在 對於膜片2的移動方向垂直的寬方向延伸之方式，設有寬300μm左右，長250mm左右的線性CCD用之觀察窗12a；於該觀察窗12a的長邊方向的中間設有對曝光光線進行遮光的例如寬15μm左右的線狀的遮光圖案12b。而藉由後述的線性CCD 15偵測遮光圖案12b的位置，來用於遮罩12的定位。

遮罩平台17(遮罩支撐部)，針對各遮罩12所設置，支撐例如遮罩12的框體1200。遮罩平台17，連接至例如如圖6所示的遮罩位置控制部30，藉著由遮罩位置控制部30所實行的控制，可令其位置於例如水平方向(膜片的寬方向，或是膜片的寬方向及膜片的長邊方向)移動。藉此，可於水平方向調整藉由遮罩12所實行的膜片2的曝光位置。遮罩平台17，亦可於例如鉛直方向移動，藉此可調整成膜片2上的例如定向膜材料以既定大小曝光。

如圖4及圖5所示，線性CCD 15(膜片導入位置偵測部)，係以在各遮罩12所設的觀察窗12a及遮光圖案12b的下方於膜片2的寬方向延伸之方式配置；當膜片2的前端部係運送至位於線性CCD 15的上方(線性CCD 15與遮罩12之間)時，偵測於膜片2的前端部形成的導入標誌2a之位置。又，線性CCD 15，將於遮罩12的觀察窗12a的中間所設之遮光圖案12b偵測為遮罩12的實際位置。線性CCD 15，連接至遮罩位置控制部30，將偵測到的導入標誌2a及遮光圖案12b的位置傳送至遮罩位置控制部30。

遮罩位置控制部30，藉由在與從線性CCD 15傳送來的導入標誌2a及遮光圖案12b的位置演算出的膜片面平行之面中兩者之間的距離，來調整遮罩12的位置。亦即，於遮罩位置控制部30，儲存有預先以導入標誌2a的位置為基準，所應設定的遮罩(遮光圖案12b)的位置之資料；如圖5所示，遮罩位置控制部30，以藉由線性CCD 15偵測到的導入標誌2a的位置為基準位置，來移動遮罩平台17的位置，直到使藉由偵測到的遮光圖案12b的位置所決定之遮罩位置位於既定位置為止。藉此，在本實施形態的曝光裝置中，在曝光開始之際，能以在膜片2預先以高精度形成的導入標誌2a的位置為基準，來調整遮罩12的位置，能以高精度決定 膜片的應曝光之位置。

圖6係以一例顯示遮罩位置控制部30的構造之圖。如圖6所示，遮罩位置控制部30，連接至例如遮罩平台驅動部、光源11及膜片捲取用的輥機8(參照圖9)所設的馬達之控制部。如圖6所示，遮罩位置控制部30，具有：影像處理部31、演算部32、記憶體33、馬達驅動控制部34、光源驅動部35、遮罩平台驅動控制部36、控制部37。

影像處理部31，進行由後述的對準標誌偵測部16所拍攝的對準標誌2b之影像處理，偵測例如對準標誌2b在膜片寬方向中的中心位置。演算部32，演算例如導入標誌2a及遮光圖案12b的中心位置間的距離與預先儲存的兩者之間應設定的距離之偏移。又，演算部32，亦藉由影像處理部31所偵測到的對準標誌2b的中心位置，來演算應設定的對準標誌2b的中心位置與實際的對準標誌2b的中心位置之膜片的寬方向的偏移。記憶體33，記憶例如影像處理部31所偵測到的對準標誌2b的中心位置及演算部32所演算的偏移量。馬達驅動控制部34，控制例如膜片捲取用輥機8的馬達驅動或停止、或是在驅動之際的旋轉速度。

光源驅動部35，控制光源11的亮燈或是熄燈、輸出、或振盪頻率。遮罩平台驅動控制部36，控制遮罩平台17的驅動，控制例如遮罩平台17的移動方向及移動量。控制部37，控制此等影像處理部31、演算部32、記憶體33、馬達驅動控制部34、光源驅動部35、以及遮罩平台驅動控制部36之驅動。藉此，膜片之曝光裝置1，調整例如遮罩12的位置，或切換藉由光源11所實行的曝光光線之照射的ON/OFF，或是可控制於捲取膜片2的輥機8所設之馬達的旋轉速度等。

在本實施形態中，雖於膜片2的移動方向之下游側亦設有光源11、遮罩12、遮罩平台17、線性CCD 15以及遮罩位置控制部30，但因為此等的構造與上游側的構造相同，所以省略詳細說明。

接著，針對本實施形態的膜片之曝光裝置1之動作進行說明。首先，藉由如圖9所示的狹縫式塗布機4及乾燥裝置5等，施加 了既定加工的膜片2，係藉由例如運送滾輪9，從其前端部供給至曝光裝置1內。供給至曝光裝置1內的膜片2，藉由例如運送滾輪等膜片供給部，其前端部供給至雷射標註器13的下方。

當膜片2的前端部供給至雷射標註器13的下方，則暫時停止例如藉由運送滾輪所實行的膜片2之供給。而藉著由控制裝置所實行的控制，使雷射標註器13的運送部13b移動至構架台13a上，藉此將標記部13c運送至既定位置。因此，標記部13c，係配置於在例如4個遮罩12分別設置的觀察窗12a的上游側中任意的位置。

當確認了標記部13c的位置，則從標記部13c射出雷射光，而在膜片2的前端部形成例如十字狀的導入標誌2a。此時，因為膜片2係處於由膜片供給部側的運送滾輪等所支撐之狀態，所以膜片2的前端部不會振動或產生波浪形，能以高精度形成導入標誌2a。若1處的導入標誌2a的形成結束，則控制裝置，使例如運送部13b移動至構架台13a上，藉此使標記部13c移動，然後同樣地照射雷射光，於膜片的前端部形成導入標誌2a。而如圖3所示，當膜片的前端部上4個導入標誌2a的形成結束，則停止雷射標註器13的動作，並恢復藉由運送滾輪等所實行的膜片2之運送。

膜片2，藉著由運送滾輪等所實行的運送，如圖5所示，送達前端部對應曝光區域A及C來配置的遮罩12(遮罩121、122)的下方。於對應各遮罩12的下方之觀察窗12a(以及遮光圖案12b)之位置，以沿著膜片2的寬方向延伸之方式配置有線性CCD 15；線性CCD 15，當導入標誌2a運送至位於線性CCD 15的上方時，偵測導入標誌2a的位置。又，線性CCD 15，偵測於遮罩12的觀察窗12a的中間所設之遮光圖案12b之位置。藉此測定導入標誌2a與遮罩12的遮光圖案12b之間的距離。而線性CCD 15，將偵測到的導入標誌2a與遮光圖案12b之間的距離之信號傳送至遮罩位置控制部30。另外，從藉由線性CCD 15所實行的偵測步驟到遮罩位置的調整結束之前，例如先停止例如膜片2的運送，或不啟動對於膜片2的曝光。

接著，若從線性CCD 15輸入導入標誌2a與遮光圖案12b之 間的距離之信號，則遮罩位置控制部30，首先對在平行於膜片面的面中兩者之間的距離，與預先儲存的資料(以導入標誌2a的位置為基準之遮罩12應設定的初始位置之資料)進行比較。而使遮罩平台17移動，直到使藉由遮光圖案12b的位置所決定之遮罩位置位於既定的初始位置為止。藉此，在曝光區域A及C中的曝光開始之前，以膜片2為基準，來高精度地決定遮罩12(遮罩121、122)的初始位置。

當遮罩12的初始位置確定，則藉由例如運送滾輪等運送膜片2，直到曝光對象部位位於曝光光線的照射區域為止，使來自光源11的曝光光線透射遮罩12，來對膜片2進行曝光。藉此，膜片2上的定向膜材料定向於既定的方向。當1處的曝光結束，則依序供給膜片2，依序對曝光對象部位進行曝光。藉此，於膜片2，藉由曝光區域A及C所曝光的圖案係形成為2根細長條狀。

膜片2，藉由運送，如圖7所示，其前端部送達至對應下游側的曝光區域B及D而配置的遮罩12(遮罩123、124)的下方。於對應各遮罩12的下方之觀察窗12a(以及遮光圖案12b)之位置，與上游側的情形相同，以沿著膜片2的寬方向延伸之方式配置有線性CCD 15；線性CCD 15，當導入標誌2a運送至位於線性CCD 15的上方(線性CCD15和遮罩12之間)時，偵測導入標誌2a的位置。而與上游側的情形相同，線性CCD 15，將於遮罩12的觀察窗12a的中間所設之遮光圖案12b偵測為遮罩12的實際位置，藉此測定導入標誌2a與遮罩12的遮光圖案12b之間的距離。而將偵測到的導入標誌2a與遮光圖案12b之間的距離之信號傳送至遮罩位置控制部30。另外，從藉由線性CCD 15所實行的偵測步驟到遮罩位置的調整結束之前，例如先停止例如膜片2的運送，或不啟動對於膜片2的曝光。

若從線性CCD 15輸入導入標誌2a與遮光圖案12b之間的距離之信號，則遮罩位置控制部30，首先對在平行於膜片面的面中兩者之間的距離，與預先儲存的資料(以導入標誌2a的位置為基準之遮罩12應設定的初始位置之資料)進行比較。而使遮罩平台17移動，直到使藉由遮光圖案12b的位置所決定之遮罩位置位於既定的初始位置為止。藉此，在曝光區域B及D中的曝光開始之前，以膜片2為基準，來高精度地決定遮罩12(遮罩123、124)的初始位置。

當遮罩12的初始位置確定，則藉由例如運送滾輪等運送膜片2，直到曝光對象部位位於曝光光線的照射區域為止，而使來自光源11的曝光光線透射遮罩12，以對膜片2進行曝光。藉此，膜片2上的定向膜材料定向於既定的方向。當1處的曝光結束，則依序供給膜片2，依序對曝光對象部位進行曝光。藉此，於膜片2，形成有藉由曝光區域B及D所曝光的圖案，而在由曝光區域A及C之間所形成的圖案之間係受由曝光區域B所曝光的圖案所埋覆；並以鄰接於藉由曝光區域C所形成的圖案之方式，形成由曝光區域D所形成的圖案。

在習知的曝光裝置中，將曝光區域分為上游側與下游側之情形，由於膜片2的產生波浪形及寬方向的偏移，造成曝光區域重疊，或產生未曝光的區域，以上雖皆為其問題點，但在本實施形態中，因為遮罩的初始位置，係以於膜片2的前端所形成的導入標誌2a為基準來決定，所以除了上游側的圖案之外，亦可高精度地形成下游側的圖案。亦即，已經藉由曝光區域A及C所形成的圖案與藉由曝光區域B及D所形成的圖案，不會重疊，不會殘留未曝光的部分，能高精度地於膜片的全面形成圖案，能穩定膜片來進行曝光。

接著，說明在本實施形態的曝光裝置中，對在連續地進行曝光之際的膜片2的寬方向的位置偏移所導致的曝光位置偏移進行修正之機構。在本實施形態中，如圖5所示，於曝光裝置1，以與膜片的移動方向上游側的遮罩121、122在膜片的寬方向並排之方式，設有對準用雷射標註器14(對準標誌形成部)。而藉由對準用雷射標註器14，於從膜片供給部供給而來的膜片2的邊緣部形成對準標誌2b。又，於曝光裝置1，以與膜片的移動方向下游側的遮罩123、124在膜片的寬方向並排之方式，設有對準標誌偵測部16。對準標誌偵測部16，配置於膜片2的上方或下方，偵測對準用雷射標註器14於膜片2的邊緣部所形成的對準標誌2b在膜片寬方向中之位置。對準標誌偵測部16，連接至上述的遮罩位置控制部30，將偵測到的信號傳送到遮罩位置控制部30。

對準用雷射標註器14，係照射例如Nd-YAG雷射或紫外光等之雷射光源，藉由例如氙氣閃光燈等脈衝光源射出脈衝雷射光，如圖7所示，於膜片2之邊緣部，以一定間隔形成例如寬20μm左右，長15mm的對準標誌2b。對準用雷射標註器14，於對應例如在膜片2的移動方向中上游側的遮罩121、122的觀察窗12a(及遮光圖案12b)之位置，在從膜片2的邊緣部算起例如25mm以下的區域形成對準標誌2b。藉此，在膜片2的移動方向之上游側的曝光區域A及曝光區域C所形成之圖案，與在膜片2的邊緣部中對準標誌2b之距離，係常為一定間隔。

於膜片2的移動方向之下游側所配置的對準標誌偵測部16，為例如CCD攝影機，如圖8所示，於對應例如下游側遮罩123、124的觀察窗12a之位置，偵測在膜片2的邊緣部所形成的對準標誌2b在膜片寬方向中之位置。對準標誌偵測部16，將偵測到的對準標誌2b在膜片寬方向中之位置傳送至例如如圖6所示的遮罩位置控制部30；遮罩位置控制部30，根據該對準標誌2b的位置，來對膜片的移動方向下游側的遮罩123及124的位置進行調整。

在藉由如以上的構造之曝光裝置1所實行的曝光中，膜片2在藉由上游側的遮罩12進行曝光之後，在運送例如4m以上的距離中，於其寬方向產生位置偏移之情形，如圖8所示，於膜片2的邊緣部所形成的對準標誌2b的位置，亦在膜片的寬方向產生偏移。在此情形，遮罩位置控制部30，根據對準標誌偵測部16所偵測到的對準標誌2b之寬方向的位置，以遮罩平台驅動控制部36使遮罩平台17移動，俾修正膜片2之寬方向的偏移，藉此修正相對於膜片2的遮罩12之位置。亦即，如圖8所示，在例如對準標誌2b的位置往膜片的寬方向外側偏移之情形，遮罩位置控制部30，使下游側的遮罩123及124的位置，僅以對準標誌2b偏移的量移動至膜片的寬方向外側。相反地，即使在例如對準標誌2b的位置往膜片的寬方向內側偏移之情形，遮罩位置控制部30，亦使下游側的遮罩123及124的位置，僅以對準標誌2b偏移的量移動至膜片的寬方向內側。因此，在膜片2的移動方向的下游側中，對準標誌2b與下游側的遮罩123、124之距離係維持於一定間隔。

因此，在本實施形態中，在連續曝光之際，如圖8所示，即使在膜片2往其寬方向偏移之情形，亦可修正遮罩12的位置，藉此相對於膜片2的曝光位置不會偏移，可進行穩定的曝光。

另外，雖說明了在本實施形態中，將作為1像素的區域分割來進行曝光之定向分割方式的曝光裝置，但藉由令曝光裝置如以下方式構成，可製造3D顯示器用的偏光膜片。亦即，藉由來自2道光源的曝光光線，例如，若對每個在膜片的寬方向所鄰接的作為畫素之區域，交互照射P偏光及S偏光的直線偏光之曝光光線，則可在每個藉由複數個像素所構成的畫素中，使定向材料膜的定向方向不同。藉此，可得到在膜片面中定向方向相差90°而具有與1/4λ板相同的功能之定向膜，可將所得之膜片作為偏光膜片使用。亦即，若使直線偏光的影像顯示用的光透射過該偏光膜片，則在每個由複數個畫素所構成並於膜片的寬方向延伸之顯示列，射出旋轉方向彼此相反的圓偏光之透射光。可將該圓偏光的2道透射光，分別作為例如3D顯示器的右眼用及左眼用的顯示光使用。

[產業上利用性]

本發明，在對整捲連續製造方式的膜片進行曝光而形成圖案的膜片曝光裝置中，能以高精度設定曝光開始時的遮罩之位置。

1．．．曝光裝置

2．．．膜片

2a．．．導入標誌

2b．．．對準標誌

2c．．．圖案

3．．．前處理部

4．．．狹縫式塗布機

5．．．乾燥裝置

6．．．溫度調節裝置

8．．．輥機

9．．．滾輪

10．．．平台

11．．．光源

12．．．遮罩

12a．．．觀察窗

12b‧‧‧遮光圖案

13‧‧‧雷射標註器

13a‧‧‧構架台

13b‧‧‧運送部

13c‧‧‧標記部

14‧‧‧對準用雷射標註器

15‧‧‧膜片導入位置偵測部(線性CCD)

16‧‧‧對準標誌偵測部

17‧‧‧遮罩平台

20‧‧‧輥機

30‧‧‧遮罩位置控制部

31‧‧‧影像處理部

32‧‧‧演算部

33‧‧‧記憶體

34‧‧‧馬達驅動控制部

35‧‧‧光源驅動部

36‧‧‧遮罩平台驅動控制部

37‧‧‧控制部

121‧‧‧第1遮罩

122‧‧‧第2遮罩

123‧‧‧第3遮罩

124‧‧‧第4遮罩

1200‧‧‧框體

1210‧‧‧圖案形成部

1210a‧‧‧圖案A、B、C、D：曝光區域

圖1係顯示在依本發明的實施形態的膜片之曝光裝置中，導入標誌形成部之立體圖。

圖2係顯示在依本發明的實施形態的膜片之曝光裝置的全體之立體圖。

圖3係顯示在依本發明的實施形態的膜片之曝光裝置中，對於膜片形成導入標誌之步驟之圖。

圖4係顯示在依本發明的實施形態的膜片之曝光裝置中，遮罩的平面圖。

圖5係顯示在依本發明的實施形態的膜片之曝光裝置中，藉由導入標誌所實行之遮罩位置的修正之圖。

圖6係以一例顯示膜片位置的控制部之圖。

圖7係顯示在依本發明的實施形態的膜片之曝光裝置中，藉由下游側的遮罩所實行之曝光步驟之圖。

圖8係顯示膜片的寬方向偏移的修正之圖。

圖9係顯示整捲連續製造方式的膜片生產線的一例之圖。

圖10係以一例顯示定向分割方式的曝光裝置之立體圖。

圖11係以一例顯示在對膜片進行曝光之際的遮罩配置之圖。

1．．．曝光裝置

2．．．膜片

2a．．．導入標誌

10．．．平台

12．．．遮罩

13．．．雷射標註器

13a．．．構架台

13b．．．運送部

13c．．．標記部

14．．．對準用雷射標註器

16．．．對準標誌偵測部

121．．．第1遮罩

122．．．第2遮罩

123．．．第3遮罩

124．．．第4遮罩

A、B、C、D．．．曝光區域

Claims (5)

1. 一種膜片之曝光裝置，具有：光源，射出曝光光線；遮罩；形成有既定的光透射區域之圖案，使來自該光源的曝光光線對應並透射過該圖案；膜片供給部，將曝光對象的膜片從其前端部連續地供給至透射過該遮罩的光透射區域之光的光路上；以及遮罩支撐部，支撐該遮罩，使其可在與該膜片的移動方向垂直的方向移動；該遮罩在與該膜片的移動方向垂直的方向配置複數個且在該膜片的移動方向配置複數列，各遮罩所形成的圖案配置成在該膜片的移動方向不重疊；在將透射過該遮罩的光透射區域之光照射在形成於該膜片表面之曝光材料，來對該膜片進行曝光的膜片之曝光裝置中，其特徵為具有：導入標誌形成部，於該膜片的前端部，對應各遮罩形成作為該複數個遮罩的各初始位置之基準的複數個導入標誌；偵測部，偵測在與該膜片的移動方向垂直的方向中之該各導入標誌與所對應的該遮罩上的標誌之間的距離；以及遮罩位置控制部，依據由該偵測部測出的偵測結果，藉由該遮罩支撐部來調整在與該膜片的移動方向垂直的方向中之該各遮罩的位置，使該導入標誌的位置與該遮罩的對應遮罩之間的距離成為一定。
2. 如申請專利範圍第1項的膜片之曝光裝置，其中，該遮罩上的標誌，形成於較該光透射區域更靠近該膜片供給部側之位置。
3. 如申請專利範圍第2項的膜片之曝光裝置，其中，該複數個遮罩，係在對於該膜片的移動方向垂直的方向上配置成交錯狀。
4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項的膜片之曝光裝置， 其中，該導入標誌形成部，具有：平台部，在對於該膜片的移動方向垂直的方向上延伸；標記部，形成該導入標誌；以及運送部，使該標記部沿著該平台部的長邊方向移動。
5. 如申請專利範圍第1至3項中任一項的膜片之曝光裝置，其中具有：對準標誌形成部，配置於較該遮罩更靠近該膜片供給部側，在從該膜片供給部供給而來之膜片的邊緣部上，形成對準標誌；以及第2偵測部，在膜片的移動方向下游側偵測該對準標誌的位置；該遮罩位置控制部，依據由該第2偵測部測出之偵測結果，來調整在連續地供給該膜片時，在對於該膜片的移動方向垂直的方向中該遮罩之位置。