TWI533033B - 光學膜、面發光體以及光學膜的製造方法 - Google Patents

光學膜、面發光體以及光學膜的製造方法 Download PDF

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Description

光學膜、面發光體以及光學膜的製造方法
本申請案主張於2011年11月29號向日本特許廳提出申請之日本專利申請案第2011-260296號、2012年4月11號向日本特許廳提出申請之日本專利申請案第2012-089957號、2012年4月11號向日本特許廳提出申請之日本專利申請案第2012-090491號、2012年5月16號向日本特許廳提出申請之日本專利申請案第2012-112300號、2012年7月4號向日本特許廳提出申請之日本專利申請案第2012-150405號的優先權，該些專利申請案所揭露之內容係完整結合於本說明書中。
本發明是有關於一種光學膜、面發光體及光學膜的製造方法。
面發光體中，有機電致發光(electroluminescence，EL)發光裝置亦期待用於平板顯示器，或期待用於代替螢光燈等的下一代照明。
有機EL發光裝置的結構已實現自僅由2層膜夾持成為發光層的有機薄膜的簡單結構至多層化的結構的多樣化。後者的多層化的結構例如可列舉：在設置於玻璃基板上的陽極上積層有電洞傳輸層、發光層、電子傳輸層、陰極而成者。藉由陽極與陰極夾持的層全部由有機薄膜構成，各有機薄膜的厚度為數十nm而非常薄。
有機EL發光裝置為薄膜的積層體，根據各薄膜的材 料的折射率的差，而確定薄膜間的光的全反射角。現狀是，由發光層產生的光的約80%被封入有機EL發光裝置內部，而無法出射至外部。具體而言，若將玻璃基板的折射率設為1.5，將空氣層的折射率設為1.0，則臨界角θc為41.8°，小於該臨界角θc的入射角的光會自玻璃基板向空氣層出射，但大於該臨界角θc的入射角的光會全反射而被封入玻璃基板內部。因此，要求將被封入有機EL發光裝置表面的玻璃基板內部的光出射至玻璃基板外部、即提高光出射效率及法線亮度。
另外，關於如進行各向同性發光的有機EL發光裝置，要求提高光出射效率及法線亮度，並且來自有機EL發光裝置的出射光波長的出射角度依存性小。即要求，來自發光層的出射光通過玻璃基板而自玻璃基板出射光時，因波長引起的出射角度的差異小，換言之，對於來自玻璃基板的出射光分布的波長依存性儘量小。
而且，解決上述課題的方法已知：在有機EL發光裝置的出射面設置光學膜，但由於光學膜設置於最外層，因此要求難以受損。
專利文獻1中，為了提高面發光體的亮度，而提出具有以包含低折射率的蒸鍍物質的外層覆蓋的微透鏡的光學膜。專利文獻2中，為了保持面發光體的亮度的均勻性，而提出具有包含微細粒子的透鏡部的光學膜。
先前技術文獻
專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2011-123204號
專利文獻2：日本專利特開2009-25774號
然而，專利文獻1中所提出的光學膜限定於外層的物質為可蒸鍍者，難以控制透鏡形狀及外層的厚度，面發光體的光出射效率差。
另外，由於專利文獻2中所提出的光學膜包含微細粒子，因此改善面發光體的出射光波長的出射角度依存性，但難以在透鏡部內使微細粒子侷限在目標部位，難以兼具面發光體的光出射效率與出射光波長的出射角度依存性。
本發明的一個目的在於提供一種光學膜，其在提高面發光體的光出射效率的方面優異，在抑制面發光體的出射光波長的出射角度依存性的方面優異，或耐受損性優異。
本發明的其他目的在於提供一種面發光體，其在光出射效率方面優異，或在抑制出射光波長的出射角度依存性的方面優異。
另外，本發明的進一步其他目的在於提供一種適於製造光學膜的方法，該光學膜在提高面發光體的光出射效率的方面優異，在抑制面發光體的出射光波長的出射角度依存性的方面優異，或耐受損性優異。
根據本發明，作為達成上述任一種目的者，提供一種光學膜，其排列有多個凸形狀的微透鏡，上述微透鏡具有區域α及區域β，上述區域β佔據上述微透鏡的凸形狀的外側都分，並以覆蓋上述區域α的方式存在，且 上述區域α及上述區域β均包含樹脂，以及上述區域α中的樹脂的折射率n1高於上述區域β中的樹脂的折射率n2。
另外，根據本發明，作為達成上述任一種目的者，提供一種光學膜，其排列有多個凸形狀的微透鏡，上述微透鏡具有區域α及區域β，上述區域β佔據上述微透鏡的凸形狀的外側部分，並以覆蓋上述區域α的方式存在，且上述區域β包含微粒子，上述區域α根據需要包含微粒子，以及上述區域α中的微粒子的含有率P1低於上述區域β中的微粒子的含有率P2。
另外，根據本發明，作為達成上述任一種目的者，提供一種光學膜，其排列有多個凸形狀的微透鏡，上述微透鏡具有區域α及區域β，上述區域β佔據上述微透鏡的凸形狀的外側部分，並以覆蓋上述區域α的方式存在，且上述區域α包含微粒子，上述區域β根據需要包含微粒子，以及上述區域α中的微粒子的含有率P1高於上述區域β中的微粒子的含有率P2。
另外，根據本發明，作為達成上述任一種目的者，提供一種面發光體，其包含上述任一種光學膜。
而且，根據本發明，作為達成上述任一種目的者，提供一種光學膜的製造方法，上述光學膜排列有多個凸形狀的微透鏡，上述方法包括依序實行的下述步驟A至步驟D： 步驟A：使具有排列有多個凹形狀的微透鏡轉印部的外周面的輥模旋轉，沿著上述輥模的外周面，一邊使基材朝上述輥模的旋轉方向移行，一邊在上述輥模的外周面塗佈活性能量射線硬化性組成物B，藉由上述活性能量射線硬化性組成物B填充上述微透鏡轉印部的凹形狀的一部分的步驟；步驟B：在上述輥模的外周面與上述基材之間供給活性能量射線硬化性組成物A的步驟；步驟C：以在上述輥模的外周面與上述基材之間夾持上述活性能量射線硬化性組成物A的狀態，對上述輥模的外周面與上述基材之間的區域照射活性能量射線的步驟；以及步驟D：將上述步驟C中所得的硬化物自上述輥模剝離的步驟。
本發明的光學膜在提高面發光體的光出射效率的方面優異，在抑制面發光體的出射光波長的出射角度依存性的方面優異，或耐受損性優異。
包含本發明的光學膜的面發光體，在光出射效率的方面優異，或在出射光波長的出射角度依存性的抑制的方面優異。
根據本發明的光學膜的製造方法，可獲得在提高面發光體的光出射效率的方面優異，在抑制面發光體的出射光波長的出射角度依存性的方面優異，或耐受損性優異的光 學膜。
以下，一邊使用圖式一邊對本發明的實施形態進行說明，但本發明並不限定於這些圖式及實施形態。
(微透鏡的凸形狀)
本發明的光學膜排列有多個凸形狀的微透鏡。
將凸形狀的微透鏡的一例表示於圖1。圖1中，(a)為示意性剖面圖，(b)為示意性立體圖。微透鏡10具有以符號11表示的區域α及以符號12表示的區域β。區域β(12)佔據微透鏡10的凸形狀的外側部分。區域β(12)以覆蓋區域α(11)的方式存在。區域β(12)可完全覆蓋區域α(11)，亦可以區域α(11)的一部分露出於外部的方式進行覆蓋。但就充分發揮光學膜中的區域β的作用的方面而言，較佳為以區域β儘可能多地覆蓋區域α。圖1中，符號13表示微透鏡10的底面部。
本說明書中，所謂微透鏡的底面部13，是指由微透鏡的底部的外周緣包圍的假想的面狀部分。在光學膜具有後述的緩和層時，微透鏡的底面部對應於微透鏡與緩和層的界面。
另外，本說明書中，所謂微透鏡的底面部13的最長徑L，是指微透鏡的底面部中最長的部分的長度，微透鏡的底面部的平均最長徑Lave是，藉由掃描型顯微鏡拍攝光學膜的具有微透鏡的表面，測定5個部位的微透鏡的底面部的最長徑L，並獲得其平均值。
另外，本說明書中，所謂微透鏡的高度H，是指自微透鏡的底面部至微透鏡的最高部位為止的高度，微透鏡的平均高度Have是，藉由掃描型顯微鏡拍攝光學膜的剖面，測定5個部位的微透鏡的高度H，並獲得其平均值。
而且，本說明書中，所謂區域α的高度h，是指自微透鏡的底面部至區域α的最高部位為止的高度，區域α的平均高度have是，藉由掃描型顯微鏡拍攝光學膜的剖面，測定5個部位的區域α的高度h，並獲得其平均值。
微透鏡的凸形狀例如可列舉：球截形狀、球截梯形狀、橢圓體球截形狀(由1個平面切取旋轉橢圓體的形狀)、橢圓體球截梯形狀(由相互平行的2個平面切取旋轉橢圓體的形狀)、角錐形狀、角錐梯形狀、圓錐形狀、圓錐梯形狀、與這些相關的屋頂型形狀(如球截形狀、球截梯形狀、橢圓體球截形狀、橢圓體球截梯形狀、角錐形狀、角錐梯形狀、圓錐形狀或圓錐梯形狀沿著底面部伸長的形狀)等。這些微透鏡的凸形狀，對於多種微透鏡，可單獨使用1種，亦可併用2種以上。在這些微透鏡的凸形狀中，就面發光體的光出射效率優異的方面而言，較佳為球截形狀、球截梯形狀、橢圓體球截形狀、橢圓體球截梯形狀，更佳為球截形狀、橢圓體球截形狀。
微透鏡的底面部的平均最長徑Lave較佳為2μm~400μm，更佳為10μm~200μm，尤佳為20μm~100μm。若微透鏡的底面部的平均最長徑Lave為2μm以上，則面發光體的光出射效率優異。另外，若微透鏡的底面部的平均 最長徑Lave為400μm以下，則無法視認微透鏡，而光學膜的外觀優異。
微透鏡的平均高度Have較佳為1μm~200μm，更佳為5μm~100μm，尤佳為10μm~50μm。若微透鏡的平均高度Have為1μm以上，則面發光體的光出射效率優異。另外，若微透鏡的平均高度Have為200μm以下，則光學膜的柔軟性優異。
微透鏡的縱橫比(aspect ratio)較佳為0.3~1.4，更佳為0.35~1.3，尤佳為0.4~1.0。若微透鏡的縱橫比為0.3以上，則面發光體的光出射效率及法線亮度優異。另外。若微透鏡的縱橫比為1.4以下，則輥模的轉印部容易形成，且光學膜的製造變得容易。
另外，微透鏡的縱橫比是藉由「微透鏡的平均高度Have/微透鏡的底面部的平均最長徑Lave」而算出。
(微透鏡的底面部)
微透鏡的底面部的形狀例如可列舉圓形、橢圓形等。這些凸形狀的微透鏡的底面部的形狀，對於多種微透鏡，可單獨使用1種，亦可併用2種以上。這些微透鏡的底面部的形狀中，就面發光體的光出射效率優異的方面而言，較佳為圓形、橢圓形，更佳為圓形。
將自上方觀察的光學膜的一例表示於圖2。
微透鏡10的底面部13的面積(圖2的由虛線包圍的面積)的合計相對於光學膜20的面積(圖2的由實線包圍的面積)的比例，較佳為20%~99%，更佳為30%~95%， 尤佳為50%~93%。若微透鏡的底面部的面積的合計相對於光學膜的面積的比例為20%以上，則面發光體的光出射效率優異。另外，若微透鏡的底面部的面積的合計相對於光學膜的面積的比例為99%以下，則輥模的轉印部容易形成，且光學膜的製造變得容易。
另外，在微透鏡的底面部全部為相同大小的圓形時，微透鏡的底面部的合計的面積相對於光學膜的面積的比例的最大值為91%左右。
(微透鏡的排列)
將微透鏡的排列例表示於圖3。
微透鏡的排列例如可列舉：六方排列(圖3的(a))、矩形排列(圖3的(b))、菱形排列(圖3的(c))、直線狀排列(圖3的(d))、圓狀排列(圖3的(e))、隨機排列(圖3的(f))等。這些微透鏡的排列中，就面發光體的光出射效率優異的方面而言，較佳為六方排列、矩形排列、菱形排列，更佳為六方排列、矩形排列。
(區域α及區域β)
區域α的平均高度have較佳為0.8μm~160μm，更佳為4μm~80μm，尤佳為8μm~40μm。若區域α的平均高度have為0.8μm以上，則面發光體的光出射效率及法線亮度優異。另外，若區域α的平均高度have為160μm以下，則面發光體的出射光波長的出射角度依存性的抑制作用優異。
區域α的平均高度have相對於微透鏡的平均高度Have 的比率(have/Have)，較佳為0.04~0.96，更佳為0.1~0.92，尤佳為0.2~0.88。若區域α的平均高度have相對於微透鏡的平均高度Have的比率為0.04以上，則面發光體的光出射效率及法線亮度優異。另外，若區域α的平均高度have相對於微透鏡的平均高度Have的比率為0.96以下，則面發光體的出射光波長的出射角度依存性的抑制作用優異。
區域α的體積相對於微透鏡的體積的比率，較佳為0.01~0.90，更佳為0.02~0.80，尤佳為0.03~0.70。若區域α的體積相對於微透鏡的體積的比率為0.01以上，則面發光體的光出射效率優異。另外，若區域α的體積相對於微透鏡的體積的比率為0.90以下，則面發光體的出射光波長的出射角度依存性的抑制作用優異。
微透鏡中，在區域α與區域β之間可存在其他區域。該「其他區域」可為包含1層者，亦可為包含多層者。「其他區域」例如可列舉：具有區域α的樹脂的折射率與區域β的樹脂的折射率之間的折射率的中間區域。藉由設置此種中間區域，而菲涅耳(Fresnel)反射損失進一步降低，因此可獲得光出射效率更優異的面發光體。
(光學膜的第1形態)
本發明的光學膜的第1形態是：區域α及區域β均包含樹脂，且區域α中的樹脂的折射率n1高於區域β中的樹脂的折射率n2的光學膜。
第1形態的光學膜的面發光體的光出射效率特別優異。
第1形態的光學膜中，區域α中的樹脂的折射率n1只要高於區域β中的樹脂的折射率n2即可，較佳為1.45~1.75，更佳為1.50~1.70，尤佳為1.55~1.65。若區域α中的樹脂的折射率n1為1.45以上，則面發光體的光出射效率及法線亮度優異。另外，若區域α中的樹脂的折射率n1為1.75以下，則樹脂的選擇自由度增加。
另外，本說明書中的膜的折射率是在20℃的條件下，將He-Ne雷射作為光源，使用稜鏡耦合器測定的值。在非膜狀的樹脂等時，在將樹脂等成形為膜狀後，藉由上述測定方法測定折射率。
第1形態的光學膜中，區域β中的樹脂的折射率n2只要低於區域α中的樹脂的折射率n1即可，較佳為1.35~1.65，更佳為1.40~1.60，尤佳為1.45~1.55。若區域β中的樹脂的折射率n2為1.35以上，則樹脂的選擇自由度增加。另外，若區域β中的樹脂的折射率n2為1.65以下，則面發光體的光出射效率及法線亮度優異。
第1形態的光學膜中，區域α中的樹脂的折射率n1與區域β中的樹脂的折射率n2之差，就面發光體的光出射效率優異的方面而言，較佳為0.02以上，更佳為0.05以上，尤佳為0.10以上。
第1形態的光學膜的區域α及區域β是以樹脂為主成分而構成。
第1形態的光學膜的區域α中的樹脂的含有率，就面發光體的光出射效率優異的方面而言，在區域α總量中， 較佳為50質量%以上，更佳為60質量%以上，尤佳為70質量%以上。
第1形態的光學膜的區域β中的樹脂的含有率，就面發光體的光出射效率優異的方面而言，在區域β總量中，較佳為50質量%以上，更佳為60質量%以上，尤佳為70質量%以上。
第1形態的光學膜的區域α及區域β根據需要可包含微粒子。
第1形態的光學膜的區域α中的微粒子的含有率P1，就面發光體的光出射效率優異的方面而言，在區域α總量中，較佳為50質量%以下，更佳為40質量%以下，尤佳為30質量%以下。
第1形態的光學膜的區域β中的微粒子的含有率P2，就面發光體的光出射效率優異的方面而言，在區域β總量中，較佳為50質量%以下，更佳為40質量%以下，尤佳為30質量%以下。
第1形態的光學膜的區域α及區域β所含的微粒子，其含有率、折射率、材料、粒徑、粒子形狀等，在區域α與區域β中可相同亦可不同。
(光學膜的第2形態)
本發明的光學膜的第2形態是：區域β包含微粒子，區域α根據需要包含微粒子，區域α中的微粒子的含有率P1低於區域β中的微粒子的含有率P2的光學膜。
第2形態的光學膜的面發光體的光出射效率特別優 異，出射光波長的出射角度依存性的抑制作用特別優異。
第2形態的光學膜中，區域α中的微粒子的含有率P1只要低於區域β中的微粒子的含有率P2即可，但就面發光體的光出射效率優異的方面而言，在區域α總量中，較佳為12質量%以下，更佳為7質量%以下，尤佳為3質量%以下。
第2形態的光學膜中，區域β中的微粒子的含有率P2只要高於區域α中的微粒子的含有率P1即可，但在區域β總量中，較佳為5質量%~50質量%，更佳為15質量%~45質量%，尤佳為22質量%~40質量%。若區域β中的微粒子的含有率P2為5質量%以上，則面發光體的出射光波長的出射角度依存性的抑制作用優異。另外，若區域β中的微粒子的含有率P2為50質量%以下，則面發光體的光出射效率優異。
第2形態的光學膜的區域α及區域β所含的微粒子，其折射率、材料、粒徑、粒子形狀等在區域α與區域β中可相同亦可不同。
第2形態的光學膜中，區域α中的微粒子的含有率P1與區域β中的微粒子的含有率P2之差，較佳為3質量%~50質量%，更佳為5質量%~45質量%，尤佳為10質量%~40質量%。若區域α中的微粒子的含有率P1與區域β中的微粒子的含有率P2之差為3質量%以上，則面發光體的出射光波長的出射角度依存性的抑制作用優異。另外，若區域α中的微粒子的含有率P1與區域β中的微粒子的含 有率P2之差為50質量%以下，則面發光體的光出射效率優異。
第2形態的光學膜的區域α及區域β是以樹脂為主成分而構成。
第2形態的光學膜的區域α中的樹脂的含有率，就面發光體的光出射效率優異的方面而言，在區域α總量中，較佳為88質量%以上，更佳為93質量%以上，尤佳為97質量%以上。
第2形態的光學膜的區域β中的樹脂的含有率，就面發光體的光出射效率優異的方面而言，在區域β總量中，較佳為50質量%以上，更佳為55質量%以上，尤佳為60質量%以上。
第2形態的光學膜的區域α及區域β中的樹脂，其折射率、材料等在區域α與區域β中可相同亦可不同。
第2形態的光學膜中，區域α中的樹脂的折射率n1與區域β中的樹脂的折射率n2，就面發光體的光出射效率優異的方面而言，較佳為存在差。第2形態的光學膜中，區域α中的樹脂的折射率n1與區域β中的樹脂的折射率n2之差，就面發光體的光出射效率優異的方面而言，較佳為0.02以上，更佳為0.05以上。
第2形態的光學膜中，區域β中的樹脂的折射率n2與區域β所含的微粒子的折射率nb之差，就面發光體的出射光波長的出射角度依存性的抑制作用優異的方面而言，較佳為0.02以上，更佳為0.05以上，尤佳為0.08以上。
另外，本說明書中的微粒子的折射率是按以下方式測定的值。
在玻璃板上製作嘉吉(Cargille)標準折射液的膜，在膜內中添加微粒子，並覆蓋其他玻璃板。對藉由如此由2片玻璃板夾持微粒子添加膜而進行固定所得的樣品，使用測霧計測定總透光率。對變更了嘉吉標準折射液的折射率的各種樣品，以與上述相同的方式測定總透光率。將在所測定的總透光率中獲得最大總透光率的樣品中的嘉吉標準折射液的折射率設為微粒子的折射率。
(光學膜的第3形態)
本發明的光學膜的第3形態是：區域α包含微粒子，區域β根據需要包含微粒子，區域α中的微粒子的含有率P1高於區域β中的微粒子的含有率P2的光學膜。
第3形態的光學膜特別是耐受損性優異，面發光體的光出射效率優異。
第3形態的光學膜中，區域α中的微粒子的含有率P1只要高於區域β中的微粒子的含有率P2即可，在區域α總量中，較佳為5質量%~50質量%，更佳為15質量%~45質量%，尤佳為22質量%~40質量%。
若區域α中的微粒子的含有率P1為5質量%以上，則光學膜的耐受損性優異。另外，若區域α中的微粒子的含有率P2為50質量%以下，則面發光體的光出射效率優異。
第3形態的光學膜中，區域β中的微粒子的含有率P2只要低於區域α中的微粒子的含有率P1即可，就面發光體 的光出射效率優異的方面而言，在區域β總量中，較佳為12質量%以下，更佳為7質量%以下，尤佳為3質量%以下。
第3形態的光學膜的區域α及區域β所含的微粒子，其折射率、材料、粒徑、粒子形狀等在區域α與區域β中可相同亦可不同。
第3形態的光學膜中，區域α中的微粒子的含有率P1與區域β中的微粒子的含有率P2之差，較佳為3質量%~50質量%，更佳為5質量%~45質量%，尤佳為10質量%~40質量%。若區域α中的微粒子的含有率P1與區域β中的微粒子的含有率P2之差為3質量%以上，則面發光體的出射光波長的出射角度依存性的抑制作用優異。另外，若區域α中的微粒子的含有率P1與區域β中的微粒子的含有率P2之差為50質量%以下，則面發光體的光出射效率優異。
第3形態的光學膜的區域α及區域β是以樹脂為主成分而構成。
第3形態的光學膜的區域α中的樹脂的含有率，就面發光體的光出射效率優異的方面而言，在區域α總量中，較佳為50質量%以上，更佳為55質量%以上，尤佳為60質量%以上。
第3形態的光學膜的區域β中的樹脂的含有率，就面發光體的光出射效率優異的方面而言，在區域β總量中，較佳為88質量%以上，更佳為93質量%以上，尤佳為97 質量%以上。
第3形態的光學膜的區域α及區域β中的樹脂，其折射率、材料等在區域α與區域β中可相同亦可不同。
第3形態的光學膜中，區域α中的樹脂的折射率n1與區域β中的樹脂的折射率n2，就面發光體的光出射效率優異的方面而言，較佳為存在差。在第3形態的光學膜中，區域a中的樹脂的折射率n1與區域β中的樹脂的折射率n2之差，就面發光體的光出射效率優異的方面而言，較佳為0.02以上，更佳為0.05以上。
(光學膜的材料)
作為構成本發明的光學膜的材料，在符合上述第1形態、上述第2形態、上述第3形態的任一形態的範圍內，可使用任意的樹脂及/或任意的微粒子。
(樹脂)
樹脂例如可列舉：丙烯酸系樹脂；聚碳酸酯樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯樹脂；聚苯乙烯、丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(Acrylonitrile Butadiene Styrene，ABS)樹脂等苯乙烯樹脂；氯乙烯樹脂等。這些樹脂中，就可見光波長區域的透光率高，且耐熱性、力學特性、成形加工性優異的方面而言，較佳為丙烯酸系樹脂。
樹脂的製造方法例如可列舉：進行加熱而將熱硬化性組成物硬化的方法、照射活性能量射線而將活性能量射線硬化性組成物硬化的方法等。這些樹脂的製造方法中，就 步驟簡便且硬化速度快的方面而言，較佳為照射活性能量射線將活性能量射線硬化性組成物硬化的方法。
活性能量射線例如可列舉：紫外線、電子束、X射線、紅外線、可見光線等。這些活性能量射線中，就活性能量射線硬化性組成物的硬化性優異、且可抑制光學膜的劣化的方面而言，較佳為紫外線、電子束，更佳為紫外線。
活性能量射線硬化性組成物若可藉由活性能量射線進行硬化，則並無特別限定，但就活性能量射線硬化性組成物的操作性及硬化性優異，且光學膜的柔軟性、耐熱性、耐受損性、耐溶劑性、透光性等各物性優異的方面而言，較佳為包含聚合性單體(A)、交聯性單體(B)及活性能量射線聚合起始劑(C)的活性能量射線硬化性組成物。
熱硬化性組成物若可藉由熱進行硬化，則並無特別限定，但就熱硬化性組成物的操作性及硬化性優異，且光學膜的柔軟性、耐熱性、耐受損性、耐溶劑性、透光性等各物性優異的方面而言，較佳為包含聚合性單體(A)、交聯性單體(B)及熱聚合起始劑(D)的熱硬化性組成物。
聚合性單體(A)例如可列舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸十二烷酯、(甲基)丙烯酸十三烷酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯、(甲基)丙烯酸烷酯、(甲基) 丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸異冰片酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸四氫糠酯、(甲基)丙烯酸降冰片酯、(甲基)丙烯酸金剛烷酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙烯酸四環十二烷酯、環己烷二甲醇單(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、(甲基)丙烯酸丁氧基乙酯、甲氧基三乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基二丙二醇(甲基)丙烯酸酯、2-(甲基)丙烯醯氧基甲基-2-甲基雙環庚烷、4-(甲基)丙烯醯氧基甲基-2-甲基-2-乙基-1,3-二氧戊環、4-(甲基)丙烯醯氧基甲基-2-甲基-2-異丁基-1,3-二氧戊環、三羥甲基丙烷甲醛(甲基)丙烯酸酯、環氧乙烷改質磷酸(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質磷酸(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸酯類；(甲基)丙烯酸；(甲基)丙烯腈；(甲基)丙烯醯胺、N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、二甲基胺基丙基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-甲氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯醯基嗎福啉、羥基乙基(甲基)丙烯醯胺、亞甲基雙(甲基)丙烯醯胺等(甲基)丙烯醯胺類；使雙酚類(雙酚A、雙酚F、雙酚S、四溴雙酚A等)與表氯醇(epichlorohydrin)的縮合反應而得 的雙酚型環氧樹脂，與(甲基)丙烯酸或其衍生物反應而得的化合物等環氧(甲基)丙烯酸酯類；苯乙烯、α-甲基苯乙烯等芳香族乙烯類；乙烯基甲醚、乙烯基***、2-羥基乙基乙烯醚等乙烯醚類；乙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯等羧酸乙烯酯類；乙烯、丙烯、丁烯、異丁烯等烯烴類等。這些聚合性單體(A)可單獨使用1種，亦可併用2種以上。這些聚合性單體(A)中，就活性能量射線硬化性組成物的操作性、硬化性優異，且光學膜的柔軟性、耐熱性、耐受損性、耐溶劑性、透光性等各物性優異的方面而言，較佳為(甲基)丙烯酸酯類、環氧(甲基)丙烯酸酯類、芳香族乙烯類、烯烴類，更佳為(甲基)丙烯酸酯類、環氧(甲基)丙烯酸酯類。
本說明書中，所謂(甲基)丙烯酸酯，是指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。
活性能量射線硬化性組成物中的聚合性單體(A)的含有率，在活性能量射線硬化性組成物總量中，較佳為0.5質量%~60質量%，更佳為1質量%~57質量%，尤佳為2質量%~55質量%。若聚合性單體(A)的含有率為0.5質量%以上，則活性能量射線硬化性組成物的操作性優異，光學膜的基材密接性優異。另外，若聚合性單體(A)的含有率為60質量%以下，則活性能量射線硬化性組成物的交聯性及硬化性優異，光學膜的耐溶劑性優異。
交聯性單體(B)例如可列舉：二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等六 (甲基)丙烯酸酯類；二季戊四醇羥基五(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質二季戊四醇羥基五(甲基)丙烯酸酯等五(甲基)丙烯酸酯類；雙三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇乙氧基改質四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯等四(甲基)丙烯酸酯類；三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三乙氧基化三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三(2-(甲基)丙烯醯氧基乙基)異氰尿酸酯、碳數2~5的脂肪族烴改質三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、異氰尿酸環氧乙烷改質三(甲基)丙烯酸酯等三(甲基)丙烯酸酯類；三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,5-戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、甲基戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙基戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、羥基特戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、三環癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、2,2-雙(4-(甲基)丙烯醯氧基聚乙氧基苯基)丙烷、2,2-雙(4-(甲基)丙烯醯氧基乙氧基苯基)丙烷、2,2-雙(4-(3-(甲基)丙烯醯氧基-2-羥基丙氧基)苯基)丙烷、1,2-雙(3-(甲基)丙烯醯氧基-2-羥基丙氧基)乙烷、1,4-雙(3-(甲基)丙烯醯氧基-2-羥基丙氧基)丁烷、 雙(2-(甲基)丙烯醯氧基乙基)-2-羥基乙基異氰尿酸酯、環己烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、二羥甲基三環癸烷二(甲基)丙烯酸酯、羥基特戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙氧基化環己烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙氧基化環己烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙氧基化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、聚丙氧基化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、氫化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、聚乙氧基化氫化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、聚丙氧基化氫化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、雙苯氧基茀乙醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇改質三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、羥基特戊酸新戊二醇的ε-己內酯加成物的二(甲基)丙烯酸酯、羥基特戊酸新戊二醇的γ-丁內酯加成物的二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇的己內酯加成物的二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇的己內酯加成物的二(甲基)丙烯酸酯、環己烷二甲醇的己內酯加成物的二(甲基)丙烯酸酯、二環戊二醇的己內酯加成物的二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A的環氧乙烷加成物的二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A的環氧丙烷加成物的二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A的己內酯加成物的二(甲基)丙烯酸酯、氫化雙酚A的己內酯加成物的二(甲基)丙烯酸酯、雙酚F的己內酯加成物的二(甲基)丙烯酸酯、異氰尿酸環氧乙烷改質二(甲基)丙烯酸酯等二(甲基)丙烯酸酯類；鄰苯二甲酸二烯丙酯、對苯二甲酸二烯丙酯、間苯二甲酸二烯丙酯、二乙二醇二烯丙基碳酸酯等二烯丙基類；(甲基)丙烯酸烯丙酯；二乙烯基苯；亞甲基雙丙烯醯胺；多元酸(鄰苯二甲酸、琥珀酸、六氫鄰苯二甲酸、 四氫鄰苯二甲酸、對苯二甲酸、壬二酸、己二酸等)，與多元醇(乙二醇、己二醇、聚乙二醇、聚四亞甲基二醇等)及(甲基)丙烯酸或其衍生物的反應而得的化合物等聚酯二(甲基)丙烯酸酯類；二異氰酸酯化合物(甲苯二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯、二甲苯二異氰酸酯、二環己基甲烷二異氰酸酯、六亞甲基二異氰酸酯等)與含羥基的(甲基)丙烯酸酯((甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥基丁酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯等多官能(甲基)丙烯酸酯等)反應而得化合物，醇類(烷二醇、聚醚二醇、聚酯二醇、螺二醇化合物等的1種或2種以上)的羥基加成二異氰酸酯化合物且其餘的異氰酸酯基與含羥基的(甲基)丙烯酸酯反應而得的化合物等胺基甲酸酯多官能(甲基)丙烯酸酯類；二乙二醇二乙烯醚、三乙二醇二乙烯醚等二乙烯醚類；丁二烯、異戊二烯、二甲基丁二烯等二烯類等。這些交聯性單體(B)可單獨使用1種，亦可併用2種以上。這些交聯性單體(B)中，就光學膜的柔軟性、耐熱性、耐受損性、耐溶劑性、透光性等各物性優異的方面而言，較佳為六(甲基)丙烯酸酯類、五(甲基)丙烯酸酯類、四(甲基)丙烯酸酯類、三(甲基)丙烯酸酯類、二(甲基)丙烯酸酯類、二烯丙基類、(甲基)丙烯酸烯丙酯、聚酯二(甲基)丙烯酸酯類、胺基甲酸酯多官能(甲基)丙烯酸酯類，更佳為六(甲基)丙烯酸酯類、五(甲基)丙烯酸酯類、四(甲基)丙烯酸酯類、三(甲基)丙烯酸酯類、二(甲基)丙烯酸酯類、聚酯二(甲基)丙烯酸酯類、胺基甲酸酯多 官能(甲基)丙烯酸酯類。
活性能量射線硬化性組成物中的交聯性單體(B)的含有率，在活性能量射線硬化性組成物總量中，較佳為30質量%~98質量%，更佳為35質量%~97質量%，尤佳為40質量%~96質量%。若交聯性單體(B)的含有率為30質量%以上，則活性能量射線硬化性組成物的交聯性及硬化性優異，且光學膜的耐溶劑性優異。另外，若交聯性單體(B)的含有率為98質量%以下，則光學膜的柔軟性優異。
活性能量射線聚合起始劑(C)例如可列舉：安息香、安息香甲醚、安息香***、安息香異丙醚、安息香異丁醚、乙偶姻、苯偶醯、二苯甲酮、對甲氧基二苯甲酮、2,2-二乙氧基苯乙酮、α,α-二甲氧基-α-苯基苯乙酮、苯偶醯二甲基縮酮、苯甲醯甲酸甲酯、苯甲醯甲酸乙酯、4,4'-雙(二甲基胺基)二苯甲酮、1-羥基環己基苯基酮、2-羥基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、2-乙基蒽醌等羰基化合物；一硫化四甲基秋蘭姆、二硫化四甲基秋蘭姆等硫化合物類；2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、苯甲醯基二乙氧基氧化膦等醯基氧化膦類等。這些活性能量射線聚合起始劑(C)可單獨使用1種，亦可併用2種以上。這些活性能量射線聚合起始劑(C)中，就活性能量射線硬化性組成物的操作性及硬化性、光學膜的透光性優異的方面而言，較佳為羰基化合物、醯基氧化膦類，更佳為羰基化合物。
活性能量射線硬化性組成物中的活性能量射線聚合起 始劑(C)的含有率，在活性能量射線硬化性組成物總量中，較佳為0.1質量%~10質量%，更佳為0.5質量%~8質量%，尤佳為1質量%~5質量%。若活性能量射線聚合起始劑(C)的含有率為0.1質量%以上，則活性能量射線硬化性組成物的操作性及硬化性優異。另外，若活性能量射線聚合起始劑(C)的含有率為10質量%以下，則光學膜的透光性優異。
熱聚合起始劑(D)例如可列舉：異丁腈、2-甲基丁腈、2,4-二甲基戊腈、4-氰基戊酸、2-甲基丙酸等偶氮化合物；過氧化苯甲醯、第三丁基過氧化氫、過氧化氫異丙苯、過氧化二第三丁基等過氧化物等。這些熱聚合起始劑(D)可單獨使用1種，亦可併用2種以上。這些熱聚合起始劑(D)中，就熱硬化性組成物的操作性及硬化性、光學膜的透光性優異的方面而言，較佳為異丁腈、2-甲基丁腈，更佳為異丁腈。
(微粒子)
微粒子若為具有可見光波長區域(大致400nm~700nm)的光擴散效果的微粒子，則並無特別限定，可使用公知的微粒子。微粒子可單獨使用1種，亦可併用2種以上。
微粒子的材料例如可列舉：金、銀、矽、鋁、鎂、鋯、鈦、鋅、鍺、銦、錫、銻、鈰等金屬；氧化矽、氧化鋁、氧化鎂、氧化鋯、氧化鈦、氧化鋅、氧化鍺、氧化銦、氧化錫、氧化銦錫、氧化銻、氧化鈰等金屬氧化物；氫氧化鋁等金屬氫氧化物；碳酸鎂等金屬碳酸化物；氮化矽等金 屬氮化物；丙烯酸系樹脂、苯乙烯樹脂、矽酮樹脂、胺基甲酸酯樹脂、三聚氰胺樹脂、環氧樹脂等樹脂等。這些微粒子的材料可單獨使用1種，亦可併用2種以上。這些微粒子的材料中，就光學膜的製造時的操作性優異的方面而言，較佳為矽、鋁、鎂、氧化矽、氧化鋁、氧化鎂、氫氧化鋁、碳酸鎂、丙烯酸系樹脂、苯乙烯樹脂、矽酮樹脂、胺基甲酸酯樹脂、三聚氰胺樹脂、環氧樹脂，更佳為氧化矽、氧化鋁、氫氧化鋁、碳酸鎂、丙烯酸系樹脂、苯乙烯樹脂、矽酮樹脂、胺基甲酸酯樹脂、三聚氰胺樹脂、環氧樹脂。
微粒子的體積平均粒徑較佳為0.5μm~20μm，更佳為0.7μm~15μm，尤佳為0.8μm~10μm。若微粒子的體積平均粒徑為0.5μm以上，則可使可見波長區域的光有效地散射。另外，若微粒子的體積平均粒徑為20μm以下，則與活性能量射線硬化性組成物或熱硬化性組成物混合時的流動性優異。
微粒子的形狀例如可列舉：球狀、圓柱狀、立方體狀、長方體狀、角錐狀、圓錐狀、星形狀、環形狀、串狀、粉劑狀、不定形狀。這些微粒子的形狀可單獨使用1種，亦可併用2種以上。這些微粒子的形狀中，就可使可見光波長區域的光有效地散射而言，較佳為球狀、立方體狀、長方體狀、角錐狀、星形狀，更佳為球狀。
(光學膜的構成)
本發明的光學膜就優異地維持凸形狀的微透鏡形狀的 方面而言，較佳為如圖4所示般，在凸形狀的微透鏡10的底面部與基材22之間形成有緩和層21的光學膜20。但本發明的光學膜並不限定於此。
(緩和層)
緩和層21主要具有緩和伴隨硬化時的聚合收縮等的應力，而維持微透鏡的凸形狀的作用。
緩和層的材料可使用公知的樹脂及公知的微粒子。然而，就步驟簡便，且可將緩和層與凸形狀的微透鏡製成1個連續膜狀體而提高與基材的密接性的方面而言，較佳為緩和層的材料與區域α的材料相同。
緩和層的厚度較佳為1μm~60μm，更佳為3μm~40μm，尤佳為5μm~30μm。若緩和層的厚度為1μm以上，則光學膜的操作性優異。另外，若緩和層的厚度為60μm以下，則面發光體的光出射效率優異。
(基材)
在包含基材22而將光學膜積層於有機EL發光裝置上時，較佳為基材22包含容易透射可見光波長區域的光的材料。另外，在光學膜的製造時，在輥模與基材22之間夾持活性能量射線硬化性組成物而照射活性能量射線時，較佳為基材22包含容易透射活性能量射線的材料。
基材的材料例如可列舉：丙烯酸系樹脂；聚碳酸酯樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯等聚酯樹脂；聚苯乙烯、ABS樹脂等苯乙烯樹脂；氯乙烯樹脂；二乙醯基纖維素、三乙醯基纖維素等纖 維素樹脂；聚醯亞胺、聚醯亞胺醯胺等醯亞胺樹脂；玻璃；金屬。這些基材的材料中，就柔軟性優異，且活性能量射線的透射性優異的方面而言，較佳為丙烯酸系樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚酯樹脂、苯乙烯樹脂、纖維素樹脂、醯亞胺樹脂，更佳為丙烯酸系樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚酯樹脂、醯亞胺樹脂。
基材的厚度較佳為10μm~500μm，更佳為20μm~400μm，尤佳為50μm~300μm。若基材的厚度為10μm以上，則光學膜的操作性優異。另外，若基材的厚度為500μm以下，則面發光體的光出射效率優異。
為了提高緩和層與基材的密接性，可根據需要對基材的表面實施易黏接處理。
易黏接處理的方法例如可列舉：在基材的表面形成包含聚酯樹脂、丙烯酸系樹脂、胺基甲酸酯樹脂等的易黏接層的方法、對基材的表面進行粗面化處理的方法等。
對於基材，除了易黏接處理以外，亦可根據需要實施抗靜電、抗反射、防止基材彼此的密接等的表面處理。
為了使本發明的光學膜與面發光體進行光學密接，可在光學膜的不具有凸形狀的微透鏡之側的表面設置黏著層。在光學膜具有基材時，如後述圖5所示般，只要在基材的表面設置黏著層即可。
黏著層並無特別限定，可藉由塗佈公知的黏著劑而形成。
在黏著層的表面，為了提高光學膜的操作性，亦可設 置保護膜。只要在有機EL發光裝置的表面貼附光學膜時，將保護膜自黏著層剝離即可。
保護膜並無特別限定，可使用公知的保護膜。
(光學膜的製造方法)
本發明的光學膜的製造方法，就步驟簡便，且光學膜的成形性優異的方面而言，較佳為包括依序實行的下述步驟的製造方法：步驟A：使具有排列有多個凹形狀的微透鏡轉印部的外周面的輥模旋轉，沿著上述輥模的外周面，一邊使基材朝上述輥模的旋轉方向移行，一邊在上述輥模的外周面塗佈活性能量射線硬化性組成物B，藉由上述活性能量射線硬化性組成物B填充上述微透鏡轉印部的凹形狀的一部分的步驟；步驟B：在上述輥模的外周面與上述基材之間供給活性能量射線硬化性組成物A的步驟；步驟C：以在上述輥模的外周面與上述基材之間夾持上述活性能量射線硬化性組成物A的狀態，對上述輥模的外周面與上述基材之間的區域照射活性能量射線的步驟；步驟D：將上述步驟C中所得的硬化物自上述輥模剝離的步驟。
包括依序實行的步驟A~步驟D的製造方法，例如可使用圖6所示的製造裝置。
以下，對使用圖6所示的製造裝置製造本發明的光學膜的方法進行說明，但本發明的光學膜的製造方法並不限 定於使用圖6所示的製造裝置的方法。
(步驟A)
步驟A是如下的步驟：使具有排列有多個凹形狀的微透鏡轉印部的外周面的輥模51旋轉，沿著輥模51的外周面，一邊使基材22朝輥模51的旋轉方向(圖6的箭頭的方向)移行，一邊在輥模51的外周面塗佈活性能量射線硬化性組成物B，藉由活性能量射線硬化性組成物B填充微透鏡轉印部的凹形狀的一部分。
輥模51例如可列舉：鋁、黃銅、鋼等金屬模具；矽酮樹脂、胺基甲酸酯樹脂、環氧樹脂、ABS樹脂、氟樹脂、聚甲基戊烯樹脂等樹脂模具；對樹脂實施鍍敷的模具；由在樹脂中混合各種金屬粉的材料製作的模具等。這些輥模51中，就耐熱性及機械強度優異，且適於連續生產的方面而言，較佳為金屬模具。具體而言，金屬模具在對聚合發熱的耐久性高、不易變形、不易受損、可控制溫度、適於精密成形等多種方面較佳。
輥模51為了形成光學膜20的凸形狀的微透鏡，而具有與上述凸形狀對應的凹形狀的轉印部。
轉印部的製造方法例如可列舉：藉由金剛石車刀的切削、如國際公開2008/069324號公報所記載的蝕刻等。這些轉印部的製造方法中，在形成具有球截形狀等的曲面的凹形狀時，就輥模51的生產性優異的方面而言，較佳為如國際公開2008/069324號公報所記載的蝕刻；在形成不具有角錐形狀等的曲面的凹形狀時，就輥模51的生產性優異 的方面而言，較佳為藉由金剛石車刀的切削。
另外，轉印部的製造方法可使用如下的方法：由具有使轉印部的凹形狀反轉而成的凸形狀的原模，使用電鑄法製作金屬薄膜，將該金屬薄膜捲繞於輥芯構件，而製造圓筒形輥模。
輥模51的旋轉速度，就光學膜的成形性及生產性優異的方面而言，較佳為0.1m/分鐘~50m/分鐘，更佳為0.3m/分鐘~40m/分鐘，尤佳為0.5m/分鐘~30m/分鐘。
基材22的移行速度，就光學膜的成形性及生產性優異的方面而言，較佳為0.1m/分鐘~50m/分鐘，更佳為0.3m/分鐘~40m/分鐘，尤佳為0.5m/分鐘~30m/分鐘。
輥模51的旋轉速度與基材22的移行速度，就光學膜的成形性優異的方面而言，較佳為同等程度的速度。
在輥模51的外周面塗佈活性能量射線硬化性組成物B的方法例如可列舉：使用噴嘴52將活性能量射線硬化性組成物B滴加至輥模51後，與刮刀(doctor blade)54接觸形成障壁(bank)53，在輥模51的寬度方向擴大塗佈活性能量射線硬化性組成物B的方法；使用噴嘴52將活性能量射線硬化性組成物B滴加至輥模51，藉由夾輥或氣幕(air curtain)的壓力，在輥模51的寬度方向擴大塗佈活性能量射線硬化性組成物B的方法；在刮刀54上滴加活性能量射線硬化性組成物B，使其沿著刮刀54到達輥模51的外周面而形成障壁53，在輥模51的寬度方向擴大塗佈活性能量射線硬化性組成物B的方法等。塗佈這些活性 能量射線硬化性組成物B的方法中，就可抑制微透鏡內的氣泡的產生、且光學膜的生產性優異的方面而言，較佳為：在刮刀54上滴加活性能量射線硬化性組成物B，使其沿著刮刀54到達輥模51的外周面而形成障壁53，在輥模51的寬度方向擴大塗佈活性能量射線硬化性組成物B的方法。
噴嘴52可為單數(1點)，亦可為多數，但就可均勻地塗佈活性能量射線硬化性組成物B的方面而言，較佳為單數(1點)。
塗佈活性能量射線硬化性組成物B時，就可均勻地塗佈活性能量射線硬化性組成物B的方面而言，較佳為在輥模51的外周面上形成障壁53。
刮刀54對於形成障壁53有效。
刮刀54的材料例如可列舉：聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂、聚酯樹脂等樹脂；鋁、不鏽鋼等金屬等。這些刮刀54的材料中，就柔軟性優異、抑制輥模51受損的方面而言，較佳為樹脂，其中較佳為聚酯樹脂。
亦可使用輥塗機、棒塗機等，代替刮刀54。
對於自有機EL發光裝置發出的光，為了更多地通過區域β而出射至外部，較佳為以區域β儘可能多地覆蓋區域α的表面。因此，步驟A中的活性能量射線硬化性組成物B的塗佈較佳為，使活性能量射線硬化性組成物B追隨輥模51的外周面的凹形狀的微透鏡轉印部的表面的塗佈。所謂塗佈時使活性能量射線硬化性組成物B追隨微透 鏡轉印部的表面，換言之是指，活性能量射線硬化性組成物B一邊對微透鏡轉印部的表面進行擠壓一邊流動，藉此具有效仿微透鏡轉印部的表面的至少一部分的凸形狀的表面。
使活性能量射線硬化性組成物B追隨微透鏡轉印部的表面的塗佈的方法，例如可列舉如下的方法等：一邊對使具有錐形狀銳利尖端的刮刀54、輥塗機或棒塗機旋轉的輥模51的表面進行擠壓，一邊形成活性能量射線硬化性組成物B的障壁53，藉由凹形狀的微透鏡轉印部的周緣邊緣部與刮刀54、輥塗機或棒塗機，對活性能量射線硬化性組成物B作用剪切力，其結果表面張力作用於效仿凹形狀的活性能量射線硬化性組成物B的表面。
藉此，可抑制光學膜內的氣泡的產生，且能以區域β儘量多地覆蓋區域α，可充分發揮光學膜的區域β的作用。
基材22就可控制緩和層的厚度的方面而言，較佳為藉由夾輥56、擠壓輥56'向輥模51進行擠壓。
夾輥56、擠壓輥56'的材料可列舉：鋁、不鏽鋼、黃銅等金屬；在上述金屬的表面具有橡膠層者等。這些夾輥56、擠壓輥56'的材料中，較佳為在金屬的表面具有橡膠層者。
橡膠層的橡膠的材料例如可列舉：乙烯丙烯橡膠、丁二烯橡膠、胺基甲酸酯橡膠、腈橡膠、矽酮橡膠。這些橡膠層的橡膠的材料中，就對活性能量射線的耐性優異的方面而言，較佳為乙烯丙烯橡膠、矽酮橡膠。
夾輥56、擠壓輥56'的表面的橡膠層由JIS-K-6253所規定的橡膠硬度，較佳為20度~90度，更佳為40度~85度，尤佳為50度~80度。若橡膠層的橡膠硬度為20度以上，則光學膜內的氣泡產生的抑制作用優異。另外，若橡膠層的橡膠硬度為90度以下，則施加於基材22的應變變小，而基材22的破損的抑制作用優異。
為了使活性能量射線硬化性組成物B追隨輥模51的外周面的凹形狀的表面，除了上述方法外，較佳為控制活性能量射線硬化性組成物B的黏度或活性能量射線硬化性組成物B的塗佈時的溫度。原因是，藉由控制上述黏度或上述溫度，而確定活性能量射線硬化性組成物B接觸輥模51的外周面的凹形狀時的接觸角(潤濕性)，而確定是否可追隨被覆凹形狀的表面。例如，若活性能量射線硬化性組成物B的黏度過小，則僅在凹形狀的深處存在活性能量射線硬化性組成物B，而難以充分追隨凹形狀的表面，若活性能量射線硬化性組成物B的黏度過大，則有活性能量射線硬化性組成物B不會流動至凹形狀的深處，而難以充分地追隨凹形狀的表面的傾向。
關於活性能量射線硬化性組成物B的黏度，如下文敍述。
活性能量射線硬化性組成物B的塗佈時的溫度，就可追隨被覆輥模51的外周面的凹形狀的表面的方面而言，較佳為10℃~90℃，更佳為20℃~80℃。
活性能量射線硬化性組成物B的塗佈時的溫度，只要 在輥模51的內部或外部，根據需要設置封裝加熱器(sheath heater)及溫水夾套(jacket)等熱源設備進行控制即可。
(步驟X)
在欲使光學膜20微透鏡的區域α與區域β的界面明顯時，較佳為在步驟B前包括對活性能量射線硬化性組成物B照射活性能量射線的步驟(步驟X)。
另外，在無步驟X時，將微透鏡中的區域α與區域β的界面附近漸變(gradation)化，區域α與區域β的界面附近成為包含區域α的成分及區域β的成分這兩者的區域。
照射活性能量射線的方法例如可列舉：使用活性能量射線照射裝置55的方法等。
藉由活性能量射線照射裝置55的活性能量射線的照射，較佳為對輥模的寬度方向均勻地照射，例如將包含光纖的線條燈(line light)的光入射端連接於紫外線燈，在輥模附近以線條方向與輥模的寬度方向一致的方式，配置上述線條燈的線條狀的光出射端，藉此可對輥模的寬度方向均勻地照射活性能量射線。
藉由活性能量射線照射裝置55的照射活性能量射線的累計光量，就活性能量射線硬化性組成物B的硬化性優異，且不妨礙活性能量射線硬化性組成物A的塗佈的方面而言，較佳為0.01J/cm2~5J/cm2，更佳為0.1J/cm2~3J/cm2。
以活性能量射線照射裝置55的活性能量射線擴散而 不使活性能量射線硬化性組成物A在塗佈前硬化的方式，可根據需要在活性能量射線照射裝置55的周邊設置遮光板。
(步驟B)
步驟B是在輥模51的外周面與基材22之間供給活性能量射線硬化性組成物A的步驟。
在輥模51的外周面與基材22之間供給活性能量射線硬化性組成物A的方法例如可列舉：在塗佈了活性能量射線硬化性組成物B的輥模51中，使用噴嘴52'滴加活性能量射線硬化性組成物A後，經由基材22而與夾輥56接觸而形成障壁53'，在輥模51的寬度方向擴大塗佈活性能量射線硬化性組成物A的方法；預先在基材22的表面塗佈活性能量射線硬化性組成物A，使塗佈了活性能量射線硬化性組成物B的輥模51、與塗佈了活性能量射線硬化性組成物A的基材22接觸而塗佈的方法等。這些塗佈活性能量射線硬化性組成物A的方法中，就可抑制微透鏡內的氣泡的產生，且容易控制緩和層的厚度的方面而言，較佳為：在塗佈了活性能量射線硬化性組成物B的輥模51中，使用噴嘴52'滴加活性能量射線硬化性組成物A後，經由基材22而與夾輥56接觸而形成障壁53'，在輥模51的寬度方向擴大塗佈活性能量射線硬化性組成物A的方法。
(步驟C)
步驟C是以在輥模51的外周面與基材22之間夾持活性能量射線硬化性組成物A的狀態，對輥模51的外周面 與基材22之間的區域照射活性能量射線的步驟。
照射活性能量射線的方法例如可列舉：使用活性能量射線照射裝置55'的方法等。
活性能量射線照射裝置55'的活性能量射線的發光光源例如可列舉：化學燈、低壓水銀燈、高壓水銀燈、金屬鹵化物燈、無電極紫外線燈、可見光鹵素燈、氙燈等。
藉由活性能量射線照射裝置55'的照射活性能量射線的累計光量，就活性能量射線硬化性組成物的硬化性優異，且抑制光學膜的劣化的方面而言，較佳為0.1J/cm2~10J/cm2，更佳為0.5J/cm2~8J/cm2。
(步驟D)
步驟D是將步驟C中所得的硬化物自輥模51剝離的步驟。
為了容易自輥模51剝離硬化物，可預先對輥模51的外周面實施表面處理。
輥模51的表面處理方法例如可列舉：鍍鎳、鍍鉻、類鑽碳塗佈等鍍敷處理；塗佈氟系脫模劑、矽酮系脫模劑、植物油脂等脫模劑的方法等。
(活性能量射線硬化性組成物A及活性能量射線硬化性組成物B)
活性能量射線硬化性組成物A藉由活性能量射線照射進行硬化，而構成光學膜的區域α。
活性能量射線硬化性組成物A只要以構成所期望的區域α的方式，適當調配成分即可，包含活性能量射線硬化 性組成物、根據需要的微粒子、其他成分。
活性能量射線硬化性組成物B藉由活性能量射線照射進行硬化，而構成光學膜的區域β。
活性能量射線硬化性組成物B只要以構成所期望的區域β的方式，適當調配成分即可，包含活性能量射線硬化性組成物、根據需要的微粒子、其他成分。
上述「其他成分」可列舉：脫模劑、抗靜電劑、均化劑、防污性提高劑、分散穩定劑、黏度調整劑等各種添加劑。
活性能量射線硬化性組成物A的黏度，就光學膜的製造時的操作性優異的方面而言，較佳為10mPa．s~3000mPa．s，更佳為20mPa．s~2500mPa．s，尤佳為30mPa．s~2000mPa．s。
活性能量射線硬化性組成物B的黏度，就可追隨輥模51的外周面的凹形狀的表面，且光學膜的製造時的操作性優異的方面而言，較佳為10mPa．s~3000mPa．s，更佳為20mPa．s~2500mPa．s，尤佳為30mPa．s~2000mPa．s。
另外，以上的說明中，對藉由活性能量射線使活性能量射線硬化性組成物硬化而製造本發明的光學膜的方法進行了說明，但本發明中，將活性能量射線更換成熱，且將活性能量射線硬化性組成物更換成熱硬化性組成物，利用熱使熱硬化性組成物硬化，藉此亦同樣可獲得本發明的光學膜。
(面發光體)
本發明的面發光體包含本發明的光學膜。
本發明的面發光體例如可列舉：如圖5所示的面發光體。
以下，對圖5所示的面發光體進行說明，但根據本發明的面發光體並不限定於圖5所示的面發光體。
圖5所示的面發光體，在依序積層玻璃基板41、陽極42、發光層43、陰極44而成的有機EL發光裝置40的玻璃基板41的表面，經由黏著層30而設置光學膜20。
在有機EL發光裝置40設置了本發明的光學膜20的面發光體，其光出射效率優異，並可抑制出射光波長的出射角度依存性。
實例
以下，藉由實例對本發明進行具體地說明，但本發明並不限定於這些實例。
另外，實例中的「份」及「%」表示「質量份」及「質量%」。
(光學膜的剖面的觀察)
使用剃鬚刀片，通過微透鏡的頂點且相對於微透鏡的底面部而垂直地切割實例及比較例中所得的光學膜。使用電子顯微鏡(機種名「S-4300-SE/N」、日立高新技術(Hitachi High-Technologies)(股)製造)，觀察所得的切割面。
(面發光體的光出射效率的測定)
在實例、比較例及參考例中所得的面發光體上，配置直徑10mm的開孔的厚度0.1mm的遮光片，將其配置於 積分球(藍菲光學(Labsphere)公司製造、大小6英吋)的樣品開口部。在該狀態下，使用分光計測器(分光器：機種名「PMA-12」(濱松光電(HAMAMATSU PHOTONICS)(股)製造)、軟體：軟體名「PMA用基本軟體U6039-01ver.3.3.1」)，測定對有機EL發光裝置通電10mA的電流而點燈時自遮光片的直徑10mm的孔出射的光，進行藉由標準可見光度曲線的修正，而算出面發光體的光子數。
在將參考例中所得的面發光體的光子數作為基準時，將實例及比較例中所得的面發光體的光子數的比例(百分率)設為光出射效率[%]。
(面發光體的色度變化量的測定)
在實例、比較例及參考例中所得的面發光體上，配置直徑10mm的開孔的厚度0.1mm的遮光片。在該狀態下，使用亮度計(機種名「BM-7」、拓普康(TOPCON)(股)製造)，使對有機EL發光裝置通電1.5A的電流而點燈時的自遮光片的直徑10mm的孔出射的光，自面發光體的法線方向各傾斜2.5度，分別測定xy表色系的色度x、y。根據所得的0度~80度間的x、y的測定值，使用依據CIE1960UCS色度圖的以下的式：U=4x/(-2x+12y+3)；V=6y/(-2x+12y+3)； 算出U、V，並算出0度~80度間的U、V各自的最大值與最小值之差△u、△v，將任一較大的值設為色度變化量。
另外，色度變化量越小，則表示面發光體的出射光波長的出射角度依存性的抑制作用越優異。
(實例、比較例及參考例中所用的材料)
樹脂A：藉由活性能量射線照射將後述的活性能量射線硬化性樹脂組成物(1)硬化的樹脂(折射率1.52)
樹脂B：藉由活性能量射線照射將後述的活性能量射線硬化性樹脂組成物(2)硬化的樹脂(折射率1.58)
微粒子A：矽酮樹脂球狀微粒子(商品名「TOSPEARL 2000B」、邁圖高新材料(Momentive Performance Materials)公司製造、折射率1.42、體積平均粒徑6μm)
微粒子B：苯乙烯樹脂球狀微粒子(商品名「SBX-6」、積水化成品工業(股)製造、折射率1.59、體積平均粒徑6μm)
微粒子C：矽酮樹脂球狀微粒子(商品名「TSR9000」、邁圖高新材料公司製造、折射率1.42、體積平均粒徑2μm)
有機EL發光裝置：將有機EL照明面板套件「Symfos OLED-010K」(柯尼卡美能達(Konica Minolta)公司製造)的光出射面側的表面的光學膜剝離的有機EL發光裝置
[參考例]
將有機EL發光裝置直接作為面發光體。
[實例1]
(活性能量射線硬化性組成物(1)的製造)
在玻璃製燒瓶中，投入作為二異氰酸酯化合物的六亞甲基二異氰酸酯117.6g(0.7莫耳)及異氰尿酸酯型六亞甲基二異氰酸酯三聚物151.2g(0.3莫耳)、作為含羥基的(甲基)丙烯酸酯的丙烯酸2-羥基丙酯128.7g(0.99莫耳)及季戊四醇三丙烯酸酯693g(1.54莫耳)、作為觸媒的二月桂酸二正丁基錫22.1g、以及作為聚合抑制劑的對苯二酚單甲醚0.55g，升溫至75℃，在保持75℃的狀態下持續攪拌，進行反應直至燒瓶內的殘存異氰酸酯化合物的濃度為0.1莫耳/L以下為止，並冷卻至室溫，而獲得胺基甲酸酯多官能丙烯酸酯。
將所得的胺基甲酸酯多官能丙烯酸酯34.6份、聚丁二醇二甲基丙烯酸酯(商品名「Acryester PBOM」、三菱麗陽(Mitsubishi Rayon)(股)製造)24.7份、環氧乙烷改質雙酚A二甲基丙烯酸酯(商品名「Newfrontier BPEM-10」、第一工業製藥(股)製造)39.5份及1-羥基環己基苯基酮(商品名「Irgacure184」、汽巴精化(Ciba Specialty Chemicals)(股)製造)1.2份混合，而獲得活性能量射線硬化性樹脂組成物(1)。
(活性能量射線硬化性組成物(2)的製造)
將茀系丙烯酸酯(商品名「OGSOL EA-5003」、大阪燃氣化學(Osaka Gas Chemicals)(股)製造)直接作為活性能量射線硬化性組成物(2)。
(輥模的製造)
在外徑200mm、軸方向的長度320mm的鋼製輥的外周面，實施厚度200μm、維氏硬度(Vickers hardness)230Hv的鍍銅。在鍍銅層的表面塗佈感光劑，進行雷射曝光、顯影及蝕刻，而獲得在鍍銅層上形成轉印部的模具，該轉印部以最小間隔3μm、以六方排列的方式並列直徑50μm、深度25μm的半球的凹形狀而成。為了對所得的模具的表面賦予防銹性及耐久性，而實施鍍鉻，而獲得輥模。
另外，輥模中存在凹形狀的轉印部的區域的寬度為280mm，該區域配置於輥模的軸方向的長度320mm的中央，輥模的軸方向的兩端設為鏡面區域。
(光學膜的製造)
使用活性能量射線硬化性組成物(2)作為用以構成區域α的活性能量射線硬化性組成物A，使用活性能量射線硬化性組成物(1)作為用以構成區域β的活性能量射線硬化性組成物B，藉由圖6所示的裝置，依序實施步驟A(塗佈是包括使活性能量射線硬化性組成物B追隨凹形狀的微透鏡轉印部的表面這一步驟者)、步驟X、步驟B、步驟C及步驟D，而製造光學膜。將藉由電子顯微鏡拍攝所得的光學膜的剖面而得的圖像表示於圖7。所得的光學膜的微透鏡中，區域α包含樹脂B，區域β包含樹脂A，微透鏡的底面部的平均最長徑Lave為50μm、微透鏡的平均高度Have為25μm、區域α的平均高度have為18μm，是與輥模的凹形狀的大小大致對應的球截形狀的微透鏡。另外，所得的光學膜的緩和層由與區域α相同的成分構成，厚度為 20μm。
另外，使用聚酯膜(商品名「Diafoil T910E125」、三菱樹脂(股)製造、寬度340mm、厚度125μm)作為基材22，使用前述的輥模作為輥模51，使用塑膠刮刀(商品名「Maniveil」、艾庫布萊德(ECO BLADE)(股)製造、厚度0.35mm、刀尖形狀錐形狀)作為刮刀54，使用紫外線照射裝置(機種名「SP-7」、優志旺(Ushio)電機(股)製造)作為活性能量射線照射裝置55，使用紫外線照射裝置(機種名「Light Hammer 6」、輻深紫外系統(Fusion UV Systems)公司製造)作為活性能量射線照射裝置55'，使用橡膠輥(商品名「GRANPAUL UV」、宮川輥(MIYAKAWA ROLLER)(股)製造、表面的橡膠硬度60度)作為夾輥56及擠壓輥56'。
另外，製造條件如下所述。
將基材22的移行速度設為3m/分鐘，將輥模51的旋轉速度設為3m/分鐘，將輥模的表面溫度設為40℃，將活性能量射線硬化性組成物A及活性能量射線硬化性組成物B的溫度設為25℃，將活性能量射線硬化性組成物A及活性能量射線硬化性組成物B的黏度設為700mPa．s。
活性能量射線硬化性組成物B的塗佈方法是使用如下的方法：使用噴嘴52將活性能量射線硬化性組成物B滴加至輥模51後，與刮刀54接觸而形成障壁53，在輥模51的寬度方向擴大塗佈活性能量射線硬化性組成物B。藉由該塗佈方法，而可使活性能量射線硬化性組成物B追隨輥 模51的外周面的凹形狀的微透鏡轉印部的表面。
供給活性能量射線硬化性組成物A的方法是使用如下的方法：在塗佈了活性能量射線硬化性組成物B的輥模51中，使用噴嘴52'滴加活性能量射線硬化性組成物A後，經由基材22而與夾輥56接觸而形成障壁53'，在輥模51的寬度方向擴大塗佈活性能量射線硬化性組成物A。
自活性能量射線照射裝置55照射0.2J/cm2的累計光量的紫外線，自活性能量射線照射裝置55'照射0.76J/cm2的累計光量的紫外線。
(面發光體的製造)
在有機EL發光裝置A的光出射面側，塗佈嘉吉標準折射液(折射率1.52、摩瑞斯(Moritex)(股)製造)作為黏著層，使具有所得的基材的光學膜的基材的面進行光學密接而獲得面發光體。將所得的面發光體的光出射效率、色度變化量表示於表1中。
[比較例1~比較例3]
以包含表1的樹脂的方式變更光學膜的區域α及區域β，除此以外，以與實例1相同的方式進行操作，而獲得面發光體。將所得的面發光體的光出射效率、色度變化量表示於表1。
根據表1可知，包含本發明的光學膜的實例1中所得的面發光體與比較例1~比較例3中所得的面發光體相比，光出射效率更優異。
[實例2]
用以構成區域α的活性能量射線硬化性組成物A設為活性能量射線硬化性組成物(1)100份，用以構成區域β的活性能量射線硬化性組成物B設為活性能量射線硬化性組成物(1)90份及微粒子A10份，除此以外，以與實例1相同的方式進行操作，而獲得面發光體。將所得的面發光體的光出射效率、色度變化量表示於表2。
[實例3~實例18、比較例4~比較例5]
以包含表2的樹脂及微粒子的方式變更光學膜的區域α及區域β，除此以外，以與實例2相同的方式進行操作，而獲得面發光體。將藉由電子顯微鏡拍攝實例4、實例15、比較例4中所得的光學膜的剖面而得的圖像表示於圖8~圖10。將所得的面發光體的光出射效率、色度變化量表示於表2。
以下表示表2所示的光出射效率的評價基準。
A：超過174.0
B：超過170.5、且174.0以下
C：170.5以下
以下表示表2所示的色度變化量的評價基準。
A：0.010以下
B：超過0.010、且0.012以下
C：超過0.012
根據表2可知，包含本發明的光學膜的實例2~實例18中所得的面發光體的光出射效率優異，出射光波長的出射角度依存性的抑制優異。實例16~實例18中所得的面發光體，特別是光出射效率與出射光波長的出射角度依存性的抑制這兩者顯著優異。
另一方面，比較例1、比較例3中所得的面發光體由於區域β不含微粒子，因此雖然光出射效率優異，但出射光波長的出射角度依存性的抑制差。另外，比較例4、比較例5中所得的面發光體由於區域α的微粒子含有率不低於區域β的微粒子含有率，因此雖然出射光波長的出射角度依存性的抑制優異，但光出射效率差。
[實例19~實例21]
以包含表3的樹脂及微粒子的方式變更光學膜的區域α及區域β，除此以外，以與實例2相同的方式進行操作，而獲得面發光體。將藉由電子顯微鏡拍攝實例21中所得的光學膜的剖面而得的圖像表示於圖11。對於所得的面發光 體，藉由學振型摩擦試驗機(機種名「RT-200」、大榮科學精器製作所(股)製造)，在負荷2N、摩擦子曲面的條件下，以30往返/分鐘的速度，在100mm的距離往返合計1000次磨損(waste)，而對面發光體的光學膜造成損傷。將所得的面發光體的耐受損性評價前後的光出射效率表示於表3。
根據表3可知，實例19~實例21中所得的本發明的光學膜與比較例1、比較例4中所得的光學膜相比，面發光體的耐受損性評價前後的光出射效率的差小，耐受損性優異。
[實例22]
將活性能量射線硬化性組成物B的塗佈方法，由使用噴嘴52將活性能量射線硬化性組成物B滴加至輥模51後，與刮刀54接觸而形成障壁53，在輥模51的寬度方向擴大塗佈活性能量射線硬化性組成物B的方法，變更為在刮刀54上滴加活性能量射線硬化性組成物B，使其沿著刮刀54到達輥模51的外周面而形成障壁53，在輥模51的寬度方向擴大塗佈活性能量射線硬化性組成物B的方法(包括使活性能量射線硬化性組成物B追隨凹形狀的微透鏡轉印部的表面的塗佈)，除此以外，以與實例1相同的方式進行操作，而獲得光學膜。所得的光學膜在微透鏡內不會產生氣泡，而轉印均勻的微透鏡。
[實例23]
將刮刀54變更為輥塗機(塗佈是包括使活性能量射線硬化性組成物B追隨凹形狀的微透鏡轉印部的表面)，除此以外，以與實例22相同的方式進行操作，而獲得光學膜。所得的光學膜在微透鏡內不會產生氣泡，而轉印均勻的微透鏡。
[產業上之可利用性]
藉由本發明的光學膜，可獲得光出射效率優異、或出射光波長的出射角度依存性的抑制優異的面發光體，該面 發光體例如可較佳地用於照明、顯示器、網屏(screen)等。
10‧‧‧微透鏡
11‧‧‧區域α
12‧‧‧區域β
13‧‧‧底面部
20‧‧‧光學膜
21‧‧‧緩和層
22‧‧‧基材
30‧‧‧黏著層
40‧‧‧有機EL發光裝置
41‧‧‧玻璃基板
42‧‧‧陽極
43‧‧‧發光層
44‧‧‧陰極
50‧‧‧光學膜的製造裝置
51‧‧‧輥模
52、52'‧‧‧噴嘴
53、53'‧‧‧障壁
54‧‧‧刮刀
55、55'‧‧‧活性能量射線照射裝置
56‧‧‧夾輥
56'‧‧‧擠壓輥
H、h‧‧‧高度
L‧‧‧最長徑
圖1是表示本發明的光學膜中的凸形狀的微透鏡的一例的示意圖。
圖2是自光學膜的上方觀察本發明的光學膜的一例的示意圖。
圖3是自光學膜的上方觀察本發明的光學膜的微透鏡的排列例的示意圖。
圖4是表示本發明的光學膜的一例的示意性剖面圖。
圖5是表示本發明的面發光體的一例的示意性剖面圖。
圖6是表示本發明的光學膜的製造方法的一例的示意圖。
圖7是藉由電子顯微鏡對實例1中所得的光學膜的剖面進行拍攝的圖像。
圖8是藉由電子顯微鏡對實例4中所得的光學膜的剖面進行拍攝的圖像。
圖9是藉由電子顯微鏡對實例15中所得的光學膜的剖面進行拍攝的圖像。
圖10是藉由電子顯微鏡對比較例4中所得的光學膜的剖面進行拍攝的圖像。
圖11是藉由電子顯微鏡對實例21中所得的光學膜的剖面進行拍攝的圖像。
10‧‧‧微透鏡
11‧‧‧區域α
12‧‧‧區域β
13‧‧‧底面部
H、h‧‧‧高度
L‧‧‧最長徑

Claims (12)

  1. 一種光學膜，其排列有多個凸形狀的微透鏡，上述微透鏡具有區域α及區域β，上述區域β佔據上述微透鏡的凸形狀的外側部分，並以覆蓋上述區域α的方式存在，且上述區域α及上述區域β均包含樹脂，以及上述區域α中的樹脂的折射率n1高於上述區域β中的樹脂的折射率n2，其中，上述區域α的平均高度have為0.8μm~160μm。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之光學膜，其中上述區域α中的樹脂的折射率n1與上述區域β中的樹脂的折射率n2之差為0.02以上。
  3. 一種光學膜，其排列有多個凸形狀的微透鏡，上述微透鏡具有區域α及區域β，上述區域β佔據上述微透鏡的凸形狀的外側部分，並以覆蓋上述區域α的方式存在，且上述區域β包含微粒子，上述區域α根據需要包含微粒子，以及上述區域α中的微粒子的含有率P1低於上述區域β中的微粒子的含有率P2，其中，上述區域α的平均高度have為0.8μm~160μm。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之光學膜，其中上述區域β中的微粒子的含有率P2為5質量%~50質量%。
  5. 如申請專利範圍第3項所述之光學膜，其中上述區域β包含樹脂， 上述區域β中的樹脂的折射率n2與上述區域β中的微粒子的折射率nb之差為0.08以上。
  6. 如申請專利範圍第3項所述之光學膜，其中上述區域α及上述區域β均包含樹脂，上述區域α中的樹脂的折射率n1與上述區域β中的樹脂的折射率n2之差為0.02以上。
  7. 一種光學膜，其排列有多個凸形狀的微透鏡，上述微透鏡具有區域α及區域β，上述區域β佔據上述微透鏡的凸形狀的外側部分，並以覆蓋上述區域α的方式存在，且上述區域α包含微粒子，上述區域β根據需要包含微粒子，以及上述區域α中的微粒子的含有率P1高於上述區域β中的微粒子的含有率P2，其中，上述區域α的平均高度have為0.8μm~160μm。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之光學膜，其中上述區域α及上述區域β均包含樹脂，上述區域α中的樹脂的折射率n1與上述區域β中的樹脂的折射率n2之差為0.02以上。
  9. 一種面發光體，其包含如申請專利範圍第1項至第8項中任一項所述之光學膜。
  10. 一種光學膜的製造方法，上述光學膜排列有多個凸形狀的微透鏡，上述製造方法包括依序實行的下述步驟A至步驟D：步驟A：使具有排列有多個凹形狀的微透鏡轉印部的 外周面的輥模旋轉，沿著上述輥模的外周面，一邊使基材朝上述輥模的旋轉方向移行，一邊在上述輥模的外周面塗佈活性能量射線硬化性組成物B，藉由上述活性能量射線硬化性組成物B填充上述微透鏡轉印部的凹形狀的一部分的步驟；步驟B：在上述輥模的外周面與上述基材之間供給活性能量射線硬化性組成物A的步驟；步驟C：以在上述輥模的外周面與上述基材之間夾持上述活性能量射線硬化性組成物A的狀態，對上述輥模的外周面與上述基材之間的區域照射活性能量射線的步驟；以及步驟D：將上述步驟C中所得的硬化物自上述輥模剝離的步驟。
  11. 如申請專利範圍第10項所述之光學膜的製造方法，其中上述步驟A中的上述活性能量射線硬化性組成物B的塗佈，是使上述活性能量射線硬化性組成物B追隨上述輥模的外周面的凹形狀的上述微透鏡轉印部的表面的塗佈。
  12. 如申請專利範圍第10項或第11項所述之光學膜的製造方法，其中進一步包括在上述步驟A與上述步驟B之間實行的下述步驟X：步驟X：對上述活性能量射線硬化性組成物B照射活性能量射線的步驟。
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