TWI527888B - 硏磨清潔組成物 - Google Patents

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Description

研磨清潔組成物
本發明關於研磨清潔組成物、其用途以及用於清潔表面的方法
研磨清潔劑係為此技藝所習知且被廣泛地用於清潔所有種類的表面，特別是變髒而難以去除污漬和土壤的表面。例如，研磨清潔劑可用於清潔家用表面例如桌子、洗臉槽或碟子表面以及個人護理產品例如牙膏、面部和身體磨砂膏或香皂。
傳統研磨清潔劑包含無機研磨劑例如碳酸鹽、黏土、二氧化矽、矽酸鹽、頁岩灰、珍珠岩或石英砂或有機聚合物珠例如聚丙烯、PVC、三聚氰胺、尿素、聚丙烯酯或其衍生物。包括碳酸鈣作為研磨材料的液體清潔組成物例如敘述於WO 2013/078949。涉及使用天然鹼土碳酸鹽粒子的用於清潔固體表面的乾燥清洗方法被揭示於WO 2009/133173。
微粒碳酸鈣為高度有效的強韌土壤移除劑，但是亦很有可能損害表面。因此，用於精緻表面會造成問題。例如，如果使用於牙膏，以碳酸鈣為基礎的研磨劑可能損害牙齒琺瑯質與本質。此外，為了創造宜人口感，傳統牙膏需要高量碳酸鈣，反而導致不利味道性質白堊化。
為了克服以碳酸鈣為基礎的研磨劑的一些缺點，建議使用 表面塗覆的碳酸鈣。WO 2013/041711敘述用於牙粉清洗(dental powder blasting)的粉末，其中碳酸鈣粒子經鹼金屬氟化物塗覆。WO 02/085319係關於可與碳酸鈣相容的氟化物，其中碳酸鈣粒子已經脂肪酸及/或多醣處理。EP 0 219 483揭示用於碳酸鈣牙齒研磨劑的焦磷酸酯塗層方法。WO 03/075874關於包括耐酸碳酸鈣的牙膏組成物，其已經矽酸鹽表面處理。然而，所有此等方法導致碳酸鈣粒子，其中碳酸鈣粒子的原始多孔表面經施用的表面塗層密封，因此表面結構改變。
有鑑於以上所述，持續對可用於清潔組成物的新穎研磨劑有需求。
據上所述，本發明目的為提供研磨清潔組成物，其避免至少一些前述的缺點。特別的是，希望提供具有十分溫和研磨性質的研磨清潔組成物，因此亦可被用於清潔精緻表面。亦希望當用於牙膏時提供口感宜人的研磨材料。
此外，本發明目的係提供研磨清潔組成物，其係以可從天然來源獲得的材料為基礎。亦希望提供包括容易生物降解研磨劑的清潔組成物。
前述以及其他目的係藉由本文中定義之獨立申請專利範圍之標的而解決。
根據本發明一個具體實例，提供研磨清潔組成物，其包括以組成物總重量計至少6重量%的表面反應的碳酸鈣作為研磨材料，其中，表面反應的碳酸鈣為天然或合成碳酸鈣與二氧化碳及至少一種 酸的反應產物。
根據本發明另一個具體實例，提供清潔表面的方法，其中表面與根據本發明的研磨清潔組成物接觸。
根據本發明又另一個具體實例，提供表面反應的碳酸鈣作為研磨材料的用途，其中表面反應的碳酸鈣為天然或合成碳酸鈣與二氧化碳及至少一種酸的反應產物。
根據本發明又另一個具體實例，提供根據本發明的研磨清潔組成物用於清潔表面的用途。
本發明有利的具體實例係定義於相對應申請專利範圍附屬項。
根據一個具體實例，組成物進一步包括至少一種額外的研磨材料，較佳選自由二氧化矽、沉澱二氧化矽、氧化鋁、鋁矽酸鹽、偏磷酸鹽、磷酸三鈣、焦磷酸鈣，天然研磨碳酸鈣、沉澱碳酸鈣、碳酸氫鈉、膨潤土、高嶺土、氫氧化鋁、磷酸氫鈣、羥基磷灰石，以及其混合物組成之群。根據另一個具體實例，至少一種酸係選自由氫氯酸、硫酸、亞硫酸、磷酸、檸檬酸、草酸、醋酸、甲酸，以及其混合物組成之群，其中至少一種酸較佳係磷酸。
根據一個具體實例，表面反應的碳酸鈣係呈粒子形式具有從 0.1至100μm，較佳從0.5至50μm，更佳從1至20μm，又更佳從2至10μm，以及最佳從5至10μm的重量中值粒徑d 50。根據另一個具體實例，組成物包括以組成物總重量計從10至80重量%，較佳從15至70重量%，更佳從20至60重量%，又更佳從25至50重量%，以及最佳約30重量%的表面反應的碳酸鈣。
根據一個具體實例，組成物為口腔護理組成物，較佳為牙膏、牙粉、用於牙粉清洗的粉末或口香糖，且其中表面反應的碳酸鈣較佳為天然或合成碳酸鈣與二氧化碳及磷酸的反應產物。根據另一個具體實例，表面反應的碳酸鈣具有放射性牙齒磨損(RDA)值介於10與100之間，較佳介於30與70之間。
根據一個具體實例，組成物不包含額外的以碳酸鈣為基礎之材料。根據另一個具體實例，表面反應的碳酸鈣包括至少一種酸的陰離子的不溶的至少部分結晶鈣鹽，形成於天然或合成碳酸鈣表面上。根據又另一個具體實例，組成物進一步包括界面活性劑，以組成物總量計較佳之量為從0.1至10重量%，較佳從0.5至8重量%，以及最佳從1至5重量%。
根據一個具體實例，與發明組成物接觸的表面為有生命的表面，較佳選自由人體皮膚、動物皮膚、人體毛髮、動物毛髮，以及口腔組織諸如牙齒、牙齦、舌頭或頰表面組成之群。根據另一個具體實例，表面反應的碳酸鈣作為牙齒研磨材料。
應理解基於本發明目的，以下用語具有下述意義。
本發明用語“研磨材料”的意義指的是能夠藉摩擦或研磨拋光或清潔表面的微粒物質。為了測量研磨材料的“研磨度”，可使用在 實施例所述的方法。
基於本發明目的，"酸"係定義為Brnsted-Lowry酸，換言之，為H3O+離子供應者。"酸鹽"係定義為經正電元素部分中和的H3O+離子供應者。"鹽"係定義為從陰離子與陽離子形成的電中和離子化合物。"部分結晶鹽"係定義為鹽經XRD分析呈現實質上離散(discrete)繞射圖案。
本發明"載體材料"的意義為可與本發明的研磨清潔組成物合併且有利於研磨清潔組成物的施用的基礎材料。載體材料的實例為牙膏調配物、可香糖、貼片、乳膏、油或香皂。
本發明的意義，"放射性牙齒磨損(RDA)"為量測牙膏中的研磨劑對牙齒牙本質的腐蝕作用。其涉及使用標準化研磨劑與試驗樣本作比較。此數值的量測係藉由測量活性而同時清潔由輕度中子輻照放射性標記的磨損牙本質而完成。所獲得數值視牙膏中所用研磨劑尺寸、數量以及表面結構而定。RDA數值係藉由DIN EN ISO 11609標準設定。本發明實例部分記載的RDA數值為相對的RDA數值，藉由實例部分所述方法量測且與前述RDA數值相關聯。
基於本發明的目的，用語"光澤"指的是物質例如玻璃或塑膠片反射一部分在鏡面角度人射光的能力。光澤可基於以設定入射角從物質表面鏡面反射光量的量測，例如20°，諸如在20°光澤情況下且以百分比特定。光澤可根據EN ISO 8254-1：2003測量。
本發明"研磨碳酸鈣"(GCC)的意義為得自於天然來源的碳酸鈣，例如石灰石、大理石、白雲石、或白堊，以及經由濕式及/或乾式處理加工者例如研磨、篩選及/或分類(fractionation)、例如藉由旋風機或分類器。
在本發明之意義中，"沉澱碳酸鈣"(PCC)為藉由在二氧化碳及石灰在水性環境中反應後沉澱、或藉由鈣及碳酸鹽離子源在水中沉澱而獲得的合成材料。PCC可為六方方解石、方解石或文石結晶形式。
本案全文中，碳酸鈣材料或研磨材料的"粒徑"係由其粒徑分佈來描述。dx值表示與粒子之x重量%具有小於dx之直徑相關的直徑。此意謂d20值為粒徑中所有粒子之20重量%小於該粒徑者，且d75值為粒徑中所有粒子之75重量%小於該粒徑者。因此d50值為重量中值粒徑，亦即，所有粒子之50重量%大於或小於此粒徑。除非另外指明，否則基於本發明之目的，粒徑表示為重量中值粒徑d50。為量測重量中值粒徑d50值，可使用Malvern Mastersizer 2000。
本發明碳酸鈣"比表面積(SSA)"的意義係定義為礦物顏料表面積除以碳酸鈣質量。如本文所用，比表面積係使用BET等溫(ISO 9277：2010)藉氮氣脫附量測且以m2/g特定。
本發明，用語“界面活性劑”的意義指的是減少表面張力或介於二種液體或介於液體與固體之間的界面張力之間的化合物，且可作為清潔劑、濕潤劑、乳化劑、發泡劑或分散劑。
基於本發明目的，用語"黏度"或"布氏黏度(Brookfiel viscosity)"指的是布氏黏度。布氏黏度係為此目的在20℃±2℃、100rpm下藉布氏(Typ RVT)黏度計使用適當轉針量測且以mPa．s特定。
本發明“懸浮物”或“漿料”的意義為包括不溶的固體與水，以及視需要進一步添加劑且通常包含大量固體，且因此黏度及密度比形成懸浮物或漿料的液體高。
本發明敘述及申請專利範圍所用"包含"用語，並不排除其他元件。為了本發明目的，用語"由…組成"被視為"包含"用語的較佳具體實例。如果後文基團被定義為包括至少某數目的具體實例，此亦應理解為揭示較佳僅由此等具體實例組成的基團。
當使用非定冠詞或定冠詞用於意指單一名詞，例如"a"、"an"或"the"，除非另外陳明，此包含複數個該名詞。
如“可獲得(obtainable)”或“可限定(definable)”與“獲得(獲得的)”或“限定(defined)”之用語可互換使用。此例如意謂，除非上下文另外明確規定，否則用語“獲得”不意欲指示例如具體實例必須藉由例如用語“獲得”之後的步驟順序獲得，不過用語“獲得”或“限定”始終包括該種有限理解作為較佳具體實例。
本發明研磨清潔組成物包括以組成物總重量計至少6重量%的表面反應的碳酸鈣作為研磨材料。表面反應的碳酸鈣為天然或合成碳酸鈣與二氧化碳及至少一種酸的反應產物。
以下將提供本發明組成物較佳的具體實例的更詳細內容。應理解的是，此等技術詳細內容以及具體實例亦適用於本發明組成物的用途，本發明表面反應的碳酸鈣的用途以及本發明方法。
表面反應的碳酸鈣
根據本發明，表面反應的碳酸鈣為天然或合成碳酸鈣與二氧化碳及至少一種酸的反應產物。
應理解天然(或研磨)碳酸鈣(GCC)為天然生成形式的碳酸鈣、採礦自沉積岩例如石灰石或白堊、或來自變質(metamorphic)大理石岩。 已知碳酸鈣以三種類型之晶體多晶型物形式存在：方解石、文石及六方方解石。方解石為最常見的晶體多晶型物，其被視為碳酸鈣之最穩定晶體形式。文石較為少見，其具有離散或叢集之針狀斜方晶晶體結構。六方方解石為最罕見的碳酸鈣多晶型物，且一般不穩定。天然碳酸鈣幾乎完全是方解石多晶型物，據說為三角-菱面體(trigonal-rhombohedral)且代表最穩定碳酸鈣多晶型物。本發明用語碳酸鈣“來源”的意義為指的是天然生成礦物材料，從而獲得碳酸鈣。碳酸鈣來源可包括進一步天然生成組分，例如碳酸鎂，鋁矽酸鹽。
根據本發明一個具體實例，天然碳酸鈣係選自由大理石、白堊、白雲石、石灰石以及其混合物組成之群。
根據本發明一個具體實例，GCC係藉乾研磨獲得。根據本發明另一個具體實例，GCC係藉濕式研磨以及視需要接續乾燥獲得。
一般而言，研磨步驟可以任何傳統研磨裝置進行，例如，在使得細化主要來自輔助體的衝擊，亦即在一或多種球磨機、棒磨機、振動研磨機、輥碎機、離心衝擊研磨機、垂直珠磨機、磨碎機、針磨機、錘磨機、粉磨機、撕碎機、去塊機(de-clumper)、切割機或熟習此項技術者已知之其他該種設備進行。如果包含碳酸鈣的礦物材料包括濕式研磨之包含碳酸鈣的礦物材料，研磨步驟可在使得產生自體研磨的條件下及/或藉水平球磨，及/或其他此類為習知此技藝人士熟知的方法進行。如此獲致之該濕式處理研磨之包含碳酸鈣的礦物材料可經習知方法洗滌以及脫水，例如藉絮凝、過濾或乾燥前強迫蒸發。後續的乾燥步驟可以單一步驟進行，例如噴乾，或以至少二步驟進行。亦常見者為至少一種含有鹼土金屬碳酸鹽的物 質進行精選步驟(例如浮選、漂白或磁性分離步驟)以除去雜質。
在本發明之意義中，"沉澱碳酸鈣"PCC)為一般藉由在二氧化碳及石灰在水性環境中反應後沉澱、或藉由鈣及碳酸鹽離子源在水中沉澱、或藉由例如來自CaCl2及Na2CO3之鈣離子及碳酸鹽離子自溶液中沉澱而獲得的合成材料。進一步可能的製備PCC的方式為lime soda方法、或者Solvay方法，其中PCC為製備氨的副產物。沉澱碳酸鈣以三種主要結晶形式存在：方解石、文石及六方方解石，且此等結晶形式各存在多種不同多晶型物(晶體慣態)。方解石具有典型晶體慣態之三方晶系結構，諸如偏三角面體(S-PCC)、菱面體(R-PCC)、六方柱、軸面、膠狀(C-PCC)、立方體及柱狀(P-PCC)。文石為具有對生六方柱晶體之典型晶體慣態以及以下不同種別的斜方晶系結構：細長柱狀、彎曲葉片狀、陡錐狀、楔形晶體、分枝樹狀及珊瑚或蠕蟲狀形式。六方方解石屬於六方結晶系統。所得PCC漿料可以機械方式脫水及乾燥。
根據本發明一個具體實例，合成碳酸鈣為沉澱碳酸鈣，較佳包括文石、六方方解石或方解石礦物晶型或其混合物。
根據本發明一個具體實例，天然或合成碳酸鈣在經二氧化碳與至少一種酸處理之前被研磨。研磨步驟可使用為此技藝人士習知的任何傳統研磨裝置例如研磨機進行。
較佳者，為本發明所用表面反應的碳酸鈣係製備為水性懸浮物形式，具有在20℃量測大於6.0，較佳大於6.5，更佳大於7.0，又更佳大於7.5的pH。
用於製備表面反應的碳酸鈣的水性懸浮物之較佳方法中，例 如經研磨之微細或不為微細的天然或合成碳酸鈣係懸浮於水中。較佳者，漿料具有的天然或合成碳酸鈣含量以漿料重量計為1重量%至80重量%範圍，更佳3重量%至60重量%範圍，以及又更佳5重量%至40重量%範圍。
下一道步驟，將至少一種酸添加至包含天然或合成碳酸鈣的水性懸浮物。根據本發明一個具體實例，至少一種酸係選自由氫氯酸、硫酸、亞硫酸、磷酸、檸檬酸、草酸、醋酸、甲酸，以及其混合物組成之群。較佳者，至少一種酸係磷酸。不受限於任何理論，發明人相信，如果表面反應的碳酸鈣係以口服施用，使用磷酸可能有利的。
根據一個具體實例，至少一種酸具有的pKa在25℃為2.5或以下。如果pKa在25℃為0或以下，酸較佳係選自硫酸、氫氯酸，或其混合物。如果pKa在25℃係從0至2.5，酸較佳係選自H2SO3、HSO4 -、H3PO4、草酸或其混合物。至少一種酸可以濃縮溶液或更稀釋溶液形式被加入懸浮物。較佳者，至少一種酸對天然或合成碳酸鈣的莫耳比係從0.05至4，更佳從0.1至2。
另一種替化方案，也可能在天然或合成碳酸鈣經懸浮之前，將至少一種酸添加至水中。
下一道步驟，天然或合成碳酸鈣係經二氧化碳處理。二氧化碳可藉酸處理就地形成及/或可由外部來源供應。如果例如硫酸或氫氯酸的強酸用於天然或合成碳酸鈣的酸處理，會自動形成二氧化碳。可替代的或額外的，二氧化碳可由外部來源供應。
在當使用強酸的情況下，酸處理與用二氧化碳處理可同時進行。也可能先進行酸處理，例如以具有0至2.5範圍的pKa中度強酸處理， 接著經由外部來源供應的二氧化碳處理。
較佳者，以體積計，懸浮物中氣態二氧化碳濃度使得(懸浮物體積)：(氣態CO2體積)比係從1：0.05至1：20，又更佳從1：0.05至1：5。
較佳的具體實例，重覆酸處理步驟及/或二氧化碳處理步驟至少一次，更佳數次。
酸處理以及二氧化碳處理之後，在20℃量測的水性懸浮物pH，自然地達到大於6.0，較佳大於6.5，更佳大於7.0，又更佳大於7.5的數值，藉此製備具有大於6.0，較佳大於6.5，更佳大於7.0，又更佳大於7.5的pH的為水性懸浮物形式的表面反應的天然或合成碳酸鈣。如果讓水性懸浮物達到平衡，pH係大於7。當持續攪拌水性懸浮物達一段充分時間，較佳1小時至10小時，更佳1至5小時，可以在不添加鹼之下調整pH大於6.0。
可替代的，在達到發生在pH大於7的平衡之前，在二氧化碳處理之後藉添加鹼可將水性懸浮物的pH增加至大於6的數值。可使用任何例如氫氧化鈉或氫氧化鉀的傳統鹼。
關於表面反應的天然碳酸鈣製備的進一步詳細內容被揭示於WO 00/39222以及US 2004/0020410，其中表面反應的天然碳酸鈣據載作為紙張製備的填料。使用表面反應的碳酸鈣作為用於控制活性劑釋出的載體被敘述於WO 2010/037753。
同理，獲得表面反應的沉澱碳酸鈣。可從EP 2 070 991取得的詳細內容為，表面反應的沉澱碳酸鈣係得自於使沉澱碳酸鈣與H3O+離子 以及溶解於水性介質且能夠於水性介質中形成不溶於水的鈣鹽的陰離子接觸，而形成表面反應的沉澱碳酸鈣的漿料，其中該表面反應的沉澱碳酸鈣包括在沉澱碳酸鈣至少部分表面上形成的該陰離子的不溶的至少部分結晶鈣鹽。
該溶解鈣離子相當於相對於沉澱碳酸鈣被H3O+離子溶解而天然生成的溶解鈣離子過量的溶解鈣離子，其中該H3O+離子僅以對陰離子為相對離子的形式提供，亦即經由添加為酸或非鈣酸鹽形式的陰離子，且沒有任何進一步鈣離子或鈣離子產生來源。
該過量溶解鈣離子較佳係藉由添加可溶中性或酸鈣鹽而提供，或藉由添加就地產生可溶中性或酸鈣的酸或中性或酸非鈣鹽鹽。
該H3O+離子可藉由添加酸或該陰離子的酸鹽而提供，或藉添加同時用於提供所有或部分該過量溶解鈣離子的酸或酸鹽而提供。
表面反應的碳酸鈣可被保持於懸浮物中，視需要進一步經分散劑穩定。可以使用為此技藝人士習知的傳統分散劑。較佳的分散劑為聚丙烯酸。
可替代的，可乾燥以上所述水性懸浮物，藉此獲得固體(亦即乾燥或包含不為流體形式的少量水)表面反應的為顆粒或粉末形式的天然或合成碳酸鈣。
根據本發明一個具體實例，使用根據ISO 9277的氮氣與BET方法量測，表面反應的碳酸鈣具有從5m2/g至200m2/g，更佳20m2/g至80m2/g以及又更佳30m2/g至60m2/g的比表面積。
根據本發明一個具體實例，表面反應的碳酸鈣係為粒子形 式，具有從0.1至100μm，較佳從0.5至50μm，更佳從1至20μm，又更佳從2至10μm，以及最佳從5至10μm的重量中值粒徑d 50。
根據本發明一個具體實例，表面反應的碳酸鈣包括在天然或合成碳酸鈣表面上形成的至少一種酸的陰離子的不溶至少部分結晶鈣鹽。視所用至少一種酸而定，陰離子可為硫酸鹽、亞硫酸鹽、磷酸鹽、檸檬酸鹽、草酸鹽、醋酸鹽、甲酸鹽及/或氯化物。
根據本發明進一步方面，提供表面反應的碳酸鈣作為研磨材料的用途，其中表面反應的碳酸鈣為天然或合成碳酸鈣與二氧化碳及至少一種酸的反應產物。研磨材料可用於清潔組成物，例如家用清潔劑如擦洗乳膏或陶瓷爐灶清潔劑，拋光膏或乳膏，或化妝品組成物例如身體磨砂或面膜剝離(face peelings)。
根據較佳的具體實例，表面反應的碳酸鈣係用作牙科研磨材料。牙科研磨材料可用作例如牙膏、牙粉或口香糖的研磨材料或作為牙粉清洗粉末的研磨材料。
研磨清潔組成物
本發明研磨清潔組成物包括以組成物總重量計至少6重量%的表面反應的碳酸鈣作為研磨材料。例如，研磨清潔組成物可包括以組成物總重量計至少7重量%，至少8重量%，或至少9重量%的表面反應的碳酸鈣作為研磨材料。根據本發明一個具體實例，組成物包括以組成物總重量計從10至80重量%，較佳從15至70重量%，更佳從20至60重量%，又更佳從25至50重量%，以及最佳約30重量%的表面反應的碳酸鈣。
表面反應的碳酸鈣可僅由一種表面反應的碳酸鈣組成或可 為二或更多種表面反應的碳酸鈣的混合物。本發明研磨清潔組成物可包含表面反應的碳酸鈣作為唯一的研磨材料。可替代的，本發明研磨清潔組成物可包含表面反應的碳酸鈣與至少一種額外的研磨材料的組合。進一步研磨材料可由塑膠、硬蠟、無機以及有機研磨劑，或天然材料製成。
根據一個具體實例，本發明研磨清潔組成物進一步包括至少一種額外的研磨材料。較佳的額外研磨材料係選自由二氧化矽、沉澱二氧化矽、氧化鋁、鋁矽酸鹽、偏磷酸鹽、磷酸三鈣、焦磷酸鈣、天然研磨碳酸鈣、沉澱碳酸鈣、碳酸氫鈉、膨潤土、高嶺土、氫氧化鋁、磷酸氫鈣、羥基磷灰石，以及其混合物組成之群。根據較佳的具體實例，額外的研磨材料係選自研磨碳酸鈣及/或沉澱二氧化矽。根據另一個較佳的具體實例，至少一種額外的研磨材料係選自由天然碳酸鈣、沉澱碳酸鈣、氫氧化鋁、磷酸氫鈣、二氧化矽、羥基磷灰石，以及其混合物組成之群。
根據一個具體實例，額外的研磨材料具有從0.1至100μm，較佳從0.5至50μm，更佳從1至20μm，以及最佳從2至10μm的重量中值粒徑d 50。
至少一種額外的研磨材料存在於研磨清潔組成物中之量以組成物總重量計可從1至80重量%，較佳從5至70重量%，更佳從10至60重量%，以及最佳從20至50重量%。
根據較佳的具體實例，研磨清潔組成物包括以組成物總重量計至少6重量%的表面反應的碳酸鈣作為研磨材料以及從1至80重量%的額外的研磨材料。
根據本發明一個具體實例，研磨清潔組成物不包含額外的 以碳酸鈣為基礎的材料。以碳酸鈣為基礎的材料的實例為碳酸鈣、包含碳酸鈣的礦物，或以混合碳酸鹽為基礎之填料，例如相締合之碳酸鈣與碳酸鎂及類似物或衍生物；諸如黏土或滑石或類似物或衍生物之各種物質；及此等填料之混合物，諸如滑石-碳酸鈣或碳酸鈣-高嶺土混合物、或天然碳酸鈣與氫氧化鋁、雲母或與合成或天然纖維之混合物或礦物質之共結構，諸如滑石-碳酸鈣或滑石-二氧化鈦或碳酸鈣-二氧化鈦共結構。
本發明研磨清潔組成物可為固體形式或液體形式。根據一個具體實例，研磨清潔組成物為固體形式，較佳為粉末、顆粒、錠、棒、塊、塊狀，海綿或磚。根據另一個具體實例，研磨清潔組成物為液體形式，較佳為溶液、懸浮物、膏、乳化物、乳膏、油或凝膠。
根據本發明一個具體實例，研磨清潔組成物為液體水性組成物。根據一個具體實例，水性組成物包括以組成物總重量計從1至90重量%的水，較佳從5至80重量%，更佳從10至70，以及最佳從20至60重量%。
根據本發明另一個具體實例，研磨清潔組成物為液體非水性組成物。根據一個具體實例，水性組成物包括以組成物總重量計從1至90重量%，較佳從5至80重量%，更佳從10至70，以及最佳從20至60重量%的溶劑。適合溶劑為此技藝人士習知，例如為脂肪醇、具有從4至14個碳原子的醚以及二醚、二醇、烷氧化二醇、二醇醚、烷氧化芳香醇、芳香醇、萜烯、天然油，或其混合物。
根據一個具體實例，研磨清潔組成物為在20℃量測具有6至8、較佳從6.5至7.5，以及最佳約7的pH的中性組成物。根據替代性具 體實例，研磨清潔組成物具有在20℃量測大於4的pH。根據另一個替代性具體實例，組成物具有在20℃量測小於8的pH。例如，研磨清潔組成物可具有從8至11或從8至10的pH。調整pH的方式為此技藝人士習知。
如果研磨清潔組成物為液體形式，可為具有從4000至50000mPa．s布氏黏度(20℃)的增稠組成物。
研磨清潔組成物可進一步包括界面活性劑。根據本發明一個具體實例，研磨清潔組成物包括以組成物總重量計從0.1至10重量%，較佳從0.5至8重量%，以及最佳從1至5重量%的界面活性劑。
適合的界面活性劑為此技藝人士習知且可選自非離子、陰離子、兩性離子、兩性、陽離子界面活性劑，以及其混合物。
適合的非離子界面活性劑實例為本質為親水性的單純環氧烷與具有反應性氫原子的脂肪或烷基芳香疏水性化合物的縮合反應製備的化合物。適合的陰離子界面活性劑為例如，其分子結構具有烷基部分包含從6至22個碳原的支鏈或直鏈烷基的有機硫酸單酯與磺酸的水溶性鹽。適合的兩性離子界面活性劑實例為脂肪系季銨、鋶與鏻化合物，其具有從8至18個碳原子的脂肪系基以及經陰離子水溶解基取代的脂肪系，例如甜菜鹼以及甜菜鹼衍生物，例如烷基甜菜鹼，特別的是C12-C16烷基甜菜鹼、3-(N,N-二甲基-N-十六基銨)-丙烷-1-磺酸鹽甜菜鹼、3-(十二基甲基-鋶)-丙烷-1-磺酸鹽甜菜鹼、3-(十六基甲基-鏻)-丙烷-1-磺酸鹽甜菜鹼以及N,N-二甲基-N-十二基一甘胺酸。適合的兩性界面活性劑為例如，包含8至20個碳子的烷基以及經陰離子水溶解基取代的脂肪系的脂肪系二級與三級胺的衍生物，例如3-十二基胺基-丙酸鈉、3-十二基胺基丙烷-磺酸鈉以及N-2-羥基- 十二基-N-甲基牛磺酸鈉。適合的陽離子界面活性劑實例為季銨鹽，其具有一或二個從8至20個碳原子的烷基或芳烷基以及二或三個小脂肪系(例如甲基)基團，例如，十六基三甲基氯化銨。進一步實例記載於習知的教科書例如“Household Cleaning,Care and Maintenance Products”,Edts.Herrmann G.Hauthal,G.Wagner,1st Edition,Verlag für Chem.Industrie H.Ziolkowsky 2004,or“Kosmetische Emulsionen und Cremes”,Gerd Kutz,Verlag für Chem.Industrie H.Ziolkowsky 2001。
本發明研磨組成物可進一步包括輔助其清潔性能的有效成分。例如，組成物可包含清潔劑增進劑且此種增進劑混合物之量以組成物總量計為高達25重量%。適合無機或有機清潔劑增進劑為此技藝人士習知且可選自例如三聚磷酸鈉或矽酸鋁鈉。
根據一個具體實例，除了已提及的組分之外，研磨清潔組成物進一步包括分散劑、增稠劑、防腐劑、保濕劑、發泡劑、氟化物來源、調味劑、芳香劑、著色劑、活性劑、及/或緩衝系統。活性劑的實例為醫藥、生物學或化妝品活性劑、殺生物劑、或消毒劑。本發明的研磨清潔組成物亦可包括進一步本文未提及但為此技藝人士習知的視需要有效成分。
本發明的研磨清潔組成物可進一步包括載體材料例如牙膏調配物、口香糖、貼片、香皂、乳膏或油。
本發明發明人令人驚訝地發現，包括表面反應的碳酸鈣作為研磨材料的研磨清潔組成物提供十分溫和且低研磨性。因此，本發明的研磨清潔組成物係適合用於最有可能被以傳統碳酸鈣為基礎的研磨劑損害的清潔精緻表面，例如汽車塗料、陶瓷爐灶、汽車儀表盤、浴室配件、敏感 牙齒或兒童牙齒。
根據一個較佳的具體實例，本發明的研磨清潔組成物為口腔護理組成物。較佳的研磨清潔組成物為牙膏、牙粉、用於牙粉清洗的粉末或口香糖，且更佳為牙膏。
如果研磨清潔組成物為口腔護理組成物，表面反應的碳酸鈣可為天然或合成碳酸鈣與二氧化碳及磷酸的反應產物。表面反應的碳酸鈣可由一種表面反應的碳酸鈣或組成之群或可為二種或更多種表面反應的碳酸鈣的混合物。
根據本發明較佳的具體實例，研磨清潔組成物為牙膏且表面反應的碳酸鈣為天然或合成碳酸鈣與二氧化碳及磷酸的反應產物。牙膏可具有介於8與10之間的pH。
根據一個具體實例，牙膏包括以牙膏總重量計從10至80重量%，較佳從15至70重量%，更佳從20至60重量%，又更佳從25至50重量%，以及最佳約30重量%的表面反應的碳酸鈣。
本發明的牙膏可包含表面反應的碳酸鈣作為唯一的研磨材料。根據另一個具體實例，本發明的牙膏進一步包括至少一種額外的研磨材料。至少一種額外的研磨材料可選自以上定義的額外的研磨材料。較佳者，至少一種額外的研磨材料係選自由天然碳酸鈣、沉澱碳酸鈣、氫氧化鋁、磷酸氫鈣、二氧化矽、羥基磷灰石，以及其混合物組成之群。
根據本發明一個具體實例，研磨清潔組成物為包括以牙膏總重量計至少6重量%的具有二氧化碳與至少一種酸(較佳磷酸)的表面反應的碳酸鈣的牙膏。根據本發明另一個具體實例，研磨清潔組成物為包括以牙 膏總重量計至少6重量%的具有二氧化碳與至少一種酸(較佳磷酸)的表面反應的碳酸鈣，以及從1至80重量%額外的研磨材料(較佳選自由天然碳酸鈣、沉澱碳酸鈣、氫氧化鋁、磷酸氫鈣、二氧化矽、羥基磷灰石，以及其混合物組成之群)的牙膏。
根據本發明一個具體實例，研磨清潔組成物為口腔護理組成物且包括於口腔護理組成物的研磨材料具有介於10與100之間，較佳介於30與70之間的放射性牙齒磨損(RDA)數值。根據本發明一個具體實例，研磨清潔組成物為口腔護理組成物且包括於口腔護理組成物的表面反應的碳酸鈣具有介於10與100之間，較佳介於30與70之間的放射性牙齒磨損(RDA)數值。根據本發明另一個具體實例，研磨清潔組成物為牙膏且包括於牙膏的表面反應的碳酸鈣具有介於10與100之間，較佳介於30與70之間的放射性牙齒磨損(RDA)。根據本發明一個具體實例，牙膏為用於敏感牙齒及/或兒童牙齒的牙膏，以及較佳表面反應的碳酸鈣具有介於30與70之間，以及最佳介於30與50之間的RDA。
除了研磨材料之外，口腔護理組成物可進一步包括氟化物化合物、界面活性劑、黏結劑、保濕劑、再礦質化劑(remineralizers)、調味劑、甜化劑及/或水。
適合的氟化物化合物實例為氟化鈉、氟化錫、單氟磷酸鈉、氟化鉀、氟化鉀錫、氟錫酸鈉、氯氟化錫以及胺氟化物。氟化物化合物可以口腔護理組成物總重量計從0.1至2重量%之量添加。使用提供牙膏可用氟化物離子在300至2000ppm，較佳約1450ppm範圍之量的氟化物化合物，可達成優良結果。
適合的界面活性劑一般為廣泛pH範圍的陰離子有機合成界面活性劑。用量以口腔護理組成物總重量計為約0.5至5重量%的此種界面活性劑的代表為C10-C18烷基硫酸鹽例如十二烷基硫酸鈉的水溶性鹽，脂肪酸的磺酸化單甘油酯例如單甘油酯磺酸鈉的水溶性鹽，牛磺酸的脂肪酸醯胺例如N-甲基-N-棕櫚醯基牛磺酸鈉的水溶性鹽，以及羥乙磺酸的脂肪酸酯與脂肪系丙烯醯胺例如月桂醯肌胺酸鈉鹽(sodium N-lauroyl sarcosinate)的水溶性鹽。然而，也可以使用得自於天然來源例如椰油醯胺基丙基甜菜鹼的界面活性劑。
適合的黏結劑或增稠劑提供所欲的一致性，例如，羥基乙基纖維素、羧甲基纖維素鈉、天然膠，例如刺梧桐膠、***膠、黃著膠、黃原膠、或纖維素膠、膠質(colloidal)矽酸鹽，或微細二氧化矽。一般而言，可以使用以牙膏組成物總重量計從0.5至5重量%。
可以使用為此技藝人士習知的各種保濕劑，例如甘油、山梨糖醇以及其他多元醇，例如以口腔護理組成物總重量計從20至40重量%之量。適合調味劑實例包括冬青油、綠薄荷油、薄荷油、丁子香油、黃樟油和類似物。糖精、阿斯巴甜、右旋糖或左旋糖可作為甜化劑，例如以口腔護理組成物總重量計從0.01至1重量%之量。防腐劑例如苯甲酸鈉存在量以口腔護理組成物總重量計可從0.01至1重量%。著色劑例如二氧化鈦亦可被添加至口腔護理組成物，添加量以口腔護理組成物總重量計例如為從0.01至1重量%。
根據本發明一個具體實例，牙膏係由包括以下步驟的方法製備： i)提供水與保濕劑，以及視需要至少一種增稠劑、防腐劑、氟化物以及甜化劑的混合物，ii)添加表面反應的碳酸鈣以及視需要著色劑至步驟i)的混合物，其中表面反應的碳酸鈣為天然或合成碳酸鈣與二氧化碳及至少一種酸的反應產物，iii)添加界面活性劑至步驟ii)的混合物，以及iv)視需要，添加調味劑至步驟iii)的混合物，其中視需要額外的研磨材料係在步驟ii)之後以及步驟iii)之前添加。
然而，本發明的牙膏亦可以藉為此技藝人士習知的任何其他方法製備。
根據本發明進一步方面，本發明的研磨清潔組成物係用於清潔表面。
根據本發明進一步方面，提供用於清潔表面的方法，其中表面係與根據本發明的研磨清潔組成物接觸。藉由將組成物施用於表面，例如藉噴塗、澆注或擠壓，可使表面與本發明組成物接觸。研磨清潔組成物可被施用於表面藉使用適宜手段例如浸泡於可為純淨或稀釋形式的組成物中的拖把，紙巾，刷子，或布。
根據本發明一個具體實例，表面為有生命的表面，較佳選自由家用硬質表面、碟子表面、皮革表面以及汽車載具表面組成之群。家用硬表面的實例為冰箱、冰櫃、洗衣機、自動乾燥器、烤箱、微波爐、陶瓷爐灶、浴室配件或洗碗機。碟子表面的實例為碟子、餐具、砧板或鍋。
根據本發明另一個具體實例，表面係有生命的表面，較佳 選自由人體皮膚、動物皮膚、人體毛髮、動物毛髮，以及口腔組織諸如牙齒、牙齦、舌頭或頰表面組成之群。
根據本發明一個具體實例，本發明方法進一步包括洗滌組成物的步驟。
在基於以下圖式與實施例將會能更能理解本發明的範圍與利益，其係例示本發明一些具體實例且不構成限制。
實施例
1.量測方法
下文中，敘述實施例中使用的量測方法。
粒徑分佈
使用來自Micromeritics公司(USA)的Sedigraph 5100量測研磨材料粒子的粒徑分佈。該方法以及儀器係為此技術人士所習知者且通常被用於決定填料以及顏料的晶粒尺寸。量測係在0.1重量-% Na4P2O7水溶液中進行。使用高速攪拌器及超音波使樣本分散。為了量測分散樣本，未添加進一步的分散劑。
pH數值
懸浮物的pH係在25℃下使用Mettler Toledo Seven Easy pH計以及Mettler Toledo InLab® Expert Pro pH電極量測。儀器的三點校正(根據分段式方法)首先使用販售的在20℃具有pH值4、7以及10的緩衝溶液(來自Sigma-Aldrich Corp.,USA)進行。記載的pH值為經儀器檢測的終點值(終點為當量測訊號與最後6秒的平均值差小於0.1mV)。
相對放射性牙齒磨損(RDA)
使用配備設置於不銹鋼板上的牙刷頭以及Plexiglas表面之經改良的耐洗性與耐擦性試驗機(Model 494,Erichsen GmbH & Co.KG,Germany)測量研磨材料的相對RDA。牙刷頭刷洗Plexiglas表面5000次，Plexiglas表面經覆蓋包含例如碳酸鈣或二氧化矽形式的研磨清潔粒子的漿料。Plexiglas板上的研磨藉量測研磨粒子造成的表面粗糙度以及刮痕深度而評估。使用電子顯微鏡進行量測。每塊板進行10次量測。隨機選擇量測點。
為了將漿料施用於Plexiglas表面上，使用蠕動式泵將200g漿料(15%的研磨材料與混合物和唾液置換物而不含酶的混合物)泵入迴路(loop)中。將泵設定為30，相當於每分鐘泵約200ml水的體積。使用具有內徑6mm的矽膠管。為了具有適當的漿料流，令機器呈某個角度，使相對於不銹鋼樣本設置板出口方向為傾角2%。
將5塊Plexiglas板置於不銹鋼板中間且使用膠帶固定於側邊(Plexiglas GS，3mm厚，顏色：橙色2C04，預切至80mm x 80mm尺寸)。必須要有5塊板以確保刷子總能在相同高度刷洗表面。只有在中間的板(數目3)被用於最終研磨的評估。其他板僅用於調整高度，因此可供使用數次。
將牙刷頭(Paro,Switzerland)置於不銹鋼板中間之上。所有牙刷刷毛具有相同長度，為圓形且由尼龍製成。夾具本身是由不銹鋼製成的，包括牙刷頭的總重約為157g。
為了受測碳酸鈣粒子的定量與定性，有必要建立校準曲線。為了產生此種曲線，首先量測安慰劑磨損，其僅為不含清潔粒子的唾 液混合物。此試驗亦將牙刷對磨損的影響列入考量。除此之外，使用上述系統量測對二種二氧化矽的磨損(Sorbosil AC 39以及Sorbosil AC 33)，二者皆為牙膏產業中有文獻記載且已建立的研磨劑。他們的官方量測磨損數值(RDA)已公開且為習知。然後藉本文所述量測使獲得的磨損數值與公開數據相關聯，有可能比較來自本文所述量測的數據與官方標準方法ISO 11609獲得的數值。校準曲線從在磨損=0的安慰劑開始且逐步達至磨損數值180，其中Sorbosil AC 39具有105的數值且Sorbosil AC 33具有180的數值。
布氏黏度
研磨材料粒子懸浮物或研磨清潔組成物的布氏黏度係在製造1小時後以及在20℃±2℃及100rpm攪拌1分鐘之下藉使用布氏黏度計type RVT配備合適碟轉針例如2至5號轉針加以量測。
光澤量測
光澤量測係使用霧度計(haze meter)“Haze-Gloss”(BYK Gardener GmbH,Germany)。
2.材料
MCC1：100 parts以GCC1與磷酸為基礎的表面反應的碳酸鈣以及20 parts GCC2的摻合物。性質：d 50=8.6μm，d 98=20.2μm，相對RDA=37，低度磨損程度。
MCC2：以GCC2與磷酸為基礎的表面反應的碳酸鈣。性質：d 50=6.3μm，d 98=15.8μm，相對RDA=11，十分低度磨損程度。
MCC3：以GCC1與磷酸為基礎的表面反應的碳酸鈣。性質：d 50=6.5μm，d 98=16.8μm，相對RDA=61，中度磨損程度。
MCC4：以GCC1與磷酸為基礎的表面反應的碳酸鈣。性質：d 50=3.8μm，d 98=11.0μm，相對RDA=23，低度磨損程度。
GCC1：從Orgon石灰石獲得的天然研磨碳酸鈣。性質：d 50=3μm，d 98=12，相對RDA=81，中度磨損程度。
GCC2：從Avenza大理石獲得的天然研磨碳酸鈣。性質：d 50=1.7μm，d 98=8.0，相對RDA=100，高度磨損程度。
GCC3：從Avenza大理石獲得的天然研磨碳酸鈣。性質：d 50=8.86μm，d 98=50.0μm。
3.實施例
實施例1-牙膏組成物
根據以下程序使用下表1彙集的有效成分與量製備牙膏樣本1至6。
步驟A：在燒杯中混合水與山梨糖醇。混合黃原膠、苯甲酸鈉、氟磷酸鹽(phoskadent Na 211,BK Guilini,Germany)以及糖精鈉，且將獲得的混合物加入燒杯。
步驟B：表面反應的碳酸鈣與二氧化鈦經水濕潤，且接著被加至步驟A的混合物。使混合物均質化，直到獲得平整(smooth)混合物。
步驟C：在均質條件下，將二氧化矽Sorbosil TC 15(PQ Corporation,USA)加至步驟B的混合物，藉此使混合物強烈升溫。攪拌混合物，直到混合物冷卻至室溫。
步驟D：在緩慢攪拌下，將為25%溶液形式的界面活性劑十二烷基硫酸鈉加至步驟C的混合物。
步驟E：將0.8重量%(2.4g)綠薄荷(spearmint flavour)加至步驟D的混合物。
以目測評估相穩定性，如以上所述進行pH數值量測。藉牙膏樣本刷牙齒評估口感。樣本在製造日受測。結果彙集於以下表2，其顯示所有樣本為穩定且具有良好紋理以及平整表面。此外，所有樣本具有可接受的pH。
實施例2-牙膏組成物
根據以下程序使用以下表3彙集的有效成分與量製備牙膏樣本7至9。
步驟A：將水、山梨糖醇、氟磷酸鹽(phoskadent Na 211,BK Guilini,Germany)、纖維素膠(Akucell AF 2985,AkzoNobel N.V.,The Netherlands)，以及甜化劑(Sunett®,Celanese Corp.,USA)混合於燒杯中。
步驟B：表面反應的碳酸鈣與二氧化鈦經水濕潤，接著被添加至步驟A的混合物。使混合物均質化，直到獲得均勻(平整)混合物。
步驟C：在均質條件下，將二氧化矽Sorbosil TC 15(PQ Corporation,USA)添加至步驟B的混合物，藉此使混合物強烈升溫。攪拌混合物，直到混合物冷卻至室溫為止。
步驟D：在緩慢攪拌下，將為25%溶液形式的界面活性劑 Tego Betaine ZF(Evonik Industries AG,Germany)添加至步驟C的混合物。
步驟E：將0.8重量%(2.4g)綠薄荷添加至步驟D的合物。
以目測評估相穩定性，如以上所述進行pH數值量測。藉牙膏樣本刷牙齒評估口感。樣本在製造日、6週後、12週後、6月後以及12月後受測。結果彙集於以下表4至6，其顯示所有樣本為穩定且具有良好紋理以及平整表面。此外，所有樣本即使在長期儲存後仍具有可接受的pH。圖1呈現樣本7至9在製造當天被施用於紙布上的照片，顯示樣本紋理十分平整以及呈乳膏狀。
實施例3-擦洗乳膏
根據以下程序使用下表7彙集的有效成分與量製備擦洗(Scouring)乳膏樣本10至12。
步驟1：將水與增稠劑(Rheosolve 633,Coatex SAS,France)添加至配備攪拌器的燒杯(速度：380rpm)。使用氫氧化鈉(50%溶液)調整pH至介於10與11之間。
步驟2：在高度攪拌下將表面反應的碳酸鈣或研磨碳酸鈣(作為比較實施例)逐步加至步驟1的混合物(速度2，250-300rpm)。攪拌混合物直到呈均質為止。
步驟3：將為20%溶液形式的可可糖苷(cocoglycoside)界面活性劑(Plantacare 818 UP,BASF,Germany)加至步驟2的均質混合物。接著，在緩慢攪拌下(速度1，70rpm)加入檸檬精油與Polysorbate 60。
獲得的擦洗乳膏樣本的磨損根據以下程序在23℃及24h小時內受測：使用耐洗性與耐擦性試驗機(Model 494,Erichsen GmbH & Co.KG,Germany)測量磨損，試驗機配備具有塑膠板的緊固裝置(fastening)以固定布料(Erichsen GmbH & Co.KG,Germany)。將三個重量物(400g)固定於緊固裝置，使得包括該重量物與板的該緊固裝置具有重量約580g。將方布(尺寸：9 x 9.1cm)被固定於具有黏著劑(Scotch3M)膠帶的塑膠板上且被置於緊固 裝置的缺口(notches)。
試驗機中，玻璃板被固定於用於此目的空間內的水平位置。用黏著劑Scotch膠帶將Plexiglas板(尺寸：4cm x 30cm,Steba Kunststoffe AG,Swiss)黏於玻璃板上。盤(tray)頂端與板之間的距離約3.9cm且盤底端與板之間的距離約4.5cm。
將2g水加在固定於緊固裝置上的布上。將25g擦洗劑加至Plexiglas板上。用張力索(tension cable)將緊固裝置定位於Plexiglas板上。將試驗機器設定至200循環並開始。在試驗終了，移走Plexiglas板且予以清洗。機器框架與玻璃板經熱水清洗，接著經去離子水清洗。每一個樣本受測三次。
使用霧度計“Haze-Gloss”(BYK Gardener GmbH,Germany)藉量測Plexiglas板在20°光澤測量擦洗乳膏樣本的磨損。藉左右、上下略移動板在板中央8處不同點進行量測。每一個樣本的平均光澤值記載於以下表8中。樣本磨損度的計算係用經個別樣本處理的Plexiglas板量測的平均光澤數值減未經處理Plexiglas板量測的平均光澤數值。每一個樣本的磨損數值與程度記載於以下表8。
從表8可以理解，包括根據本發明表面反應的碳酸鈣研磨劑的研磨清潔組成物具有較低的磨損數值且相較於包含研磨碳酸鈣的比較實施例清潔組成物對清潔表面造成較少損害(由較高光澤數值顯示)。
圖1顯示根據本發明牙膏樣本在製造當天被施用於紙布上的照片。

Claims (15)

  1. 一種研磨清潔組成物，其包括以組成物總重量計至少6重量%的表面反應的碳酸鈣作為研磨材料，其中該表面反應的碳酸鈣為天然或合成碳酸鈣與二氧化碳及至少一種酸的反應產物。
  2. 根據申請專利範圍第1項之組成物，其中該組成物進一步包括至少一種額外的研磨材料，較佳選自由二氧化矽、沉澱二氧化矽、氧化鋁、鋁矽酸鹽、偏磷酸鹽、磷酸三鈣、焦磷酸鈣、天然研磨碳酸鈣、沉澱碳酸鈣、碳酸氫鈉、膨潤土、高嶺土、氫氧化鋁、磷酸氫鈣、羥基磷灰石、以及其混合物組成之群。
  3. 根據申請專利範圍第1項或第2項之組成物，其中該至少一種酸係選自由氫氯酸、硫酸、亞硫酸、磷酸、檸檬酸、草酸、醋酸、甲酸、以及其混合物組成之群，其中該至少一種酸較佳係磷酸。
  4. 根據申請專利範圍第1項或第2項之組成物，其中該表面反應的碳酸鈣呈粒子形式具有從0.1至100μm，較佳從0.5至50μm，更佳從1至20μm，又更佳從2至10μm，以及最佳從5至10μm的重量中值粒徑d 50。
  5. 根據申請專利範圍第1項或第2項之組成物，其中該組成物包括以組成物總重量計從10至80重量%，較佳從15至70重量%，更佳從20至60重量%，又更佳從25至50重量%，以及最佳約30重量%的表面反應的碳酸鈣。
  6. 根據申請專利範圍第1項或第2項之組成物，其中該組成物為口腔護理組成物，較佳為牙膏、牙粉、用於牙粉清洗(dental powder blasting)的粉末或口香糖，且其中該表面反應的碳酸鈣較佳為天然或合成碳酸鈣與二氧 化碳及磷酸的反應產物。
  7. 根據申請專利範圍第6項之組成物，其中該表面反應的碳酸鈣具有介於10與100之間，較佳介於30與70之間的放射性牙齒磨損(RDA)數值。
  8. 根據申請專利範圍第1項或第2項之組成物，其中該組成物不包含額外的以碳酸鈣為基礎的材料。
  9. 根據申請專利範圍第1項或第2項之組成物，其中該表面反應的碳酸鈣包括該至少一種酸的陰離子的不溶的至少部分結晶鈣鹽，其形成於該天然或合成碳酸鈣表面上。
  10. 根據申請專利範圍第1項或第2項之組成物，其中該組成物進一步包括界面活性劑，其量以組成物總量計較佳從0.1至10重量%，較佳從0.5至8重量%，以及最佳從1至5重量%。
  11. 一種清潔表面的方法，其中該表面與根據申請專利範圍第1至10項中任一項之研磨清潔組成物接觸。
  12. 根據申請專利範圍第11項之方法，其中該表面係有生命的表面，較佳選自由人體皮膚、動物皮膚、人體毛髮、動物毛髮，以及口腔組織諸如牙齒、牙齦、舌頭或頰表面組成之群。
  13. 一種表面反應的碳酸鈣作為研磨材料之用途，其中該表面反應的碳酸鈣為天然或合成碳酸鈣與二氧化碳及至少一種酸的反應產物。
  14. 根據申請專利範圍第13項之用途，其中該表面反應的碳酸鈣係用作牙齒研磨材料。
  15. 一種根據申請專利範圍第1至10項中任一項之研磨清潔組成物之用途，其係用於清潔表面，較佳用於清潔口腔組織。
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