TWI490657B - 曝光裝置及其所使用的光罩 - Google Patents

Description

曝光裝置及其所使用的光罩

本發明係關於一種將被曝光體朝一方向搬送，且同時間歇性地將曝光光線照射至該被曝光體，來形成曝光圖樣的曝光裝置，詳細說明，係關於一種在被曝光體之整體表面以高分解能且高密度地形成微細曝光圖樣的曝光裝置以及其所使用的光罩。

習知的曝光裝置係經由光罩來針對以一定速度搬送之被曝光體間歇性地照射曝光光線，而讓光罩之遮罩圖樣曝光至特定位置的曝光裝置，針對該光罩之曝光位置的被曝光體搬送方向前方側位置處藉由攝影機構進行攝影，根據該攝影圖像來進行被曝光體與光罩之間的位置校對，同時控制曝光光線之照射時點(例如，參考日本專利特開2008－76709號公報)。

但是，前述習知曝光裝置係藉由垂直穿透光罩的曝光光線來將形成於光罩上的遮罩圖樣直接轉印至被曝光體上，由於照射於光罩之光源光線所存在的視角(平行半角；Collimation half angle)，被曝光體上之圖樣的成像會暈染而使得分解能降低，會有無法曝光形成微細圖樣之虞。

面對前述問題，藉由於光罩之被曝光體側處對應於遮罩圖樣而設置微透鏡，且將遮罩圖樣縮小投影至被曝光體上的方式來解決，但此時，在被曝光體搬送方向之約略垂直方向上相互鄰接的透鏡之間部分處則無法形成曝光圖樣，而會有無法在被曝光體之整體表面處形成高密度微細曝光圖樣的問題。

此處，本發明為解決前述問題點，其目的在於提供一種能於被曝光體之整體表面處以高分解能且高密度地形成微細曝光圖樣的曝光裝置以及其所使用的光罩。

為了達成前述目的，本發明之曝光裝置係將被曝光體朝一方向搬送，且同時間歇性地將曝光光線經由光罩而照射至該被曝光體，以對應該光罩上所形成之複數個遮罩圖樣而於該被曝光體上形成曝光圖樣，其中該光罩係具備有：沿該被曝光體之搬送方向之約略垂直方向而將該複數個遮罩圖樣以特定間距排列所形成之複數個遮罩圖樣列、以及各自對應該複數個遮罩圖樣列之各遮罩圖樣而形成於該被曝光體側以將該各遮罩圖樣縮小投影至該被曝光體上的複數個微透鏡；能藉由後續之遮罩圖樣列所形成的複數個曝光圖樣來補足位在該被曝光體搬送方向前方側之該遮罩圖樣列所形成的複數個曝光圖樣之間處而進行曝光般地，以沿該複數個遮罩圖樣之該排列方向各自偏移特定尺寸的方式來形成該後續之遮罩圖樣列以及其各自對應之各微透鏡。藉由前述結構，係具備有：將被曝光體朝一方向搬送時，沿被曝光體之搬送方向之約略垂直方向而將複數個遮罩圖樣以特定間距排列所形成之複數個遮罩圖樣列、以及各自對應複數個遮罩圖樣列之各遮罩圖樣而形成於被曝光體側以將各遮罩圖樣縮小投影至被曝光體上的複數個微透鏡；能藉由後續之遮罩圖樣列所形成的複數個曝光圖樣來補足位在被曝光體搬送方向前方側之遮罩圖樣列所形成的複數個曝光圖樣之間處而進行曝光般地，以沿複數個遮罩圖樣之排列方向各自偏移特定尺寸的方式來形成後續之遮罩圖樣列以及其各自對應之各微透鏡，並間歇性地將曝光光線經由光罩而照射至被曝光體，以對應光罩上所形成之複數個遮罩圖樣而於被曝光體上形成曝光圖樣。此時，由於各自對應於各遮罩圖樣而於被曝光體側處設置有能將各遮罩圖樣縮小投影至被曝光體上的複數個微透鏡，因此能以高分解能來形成微細曝光圖樣。又，由於係將位在被曝光體搬送方向前方側之遮罩圖樣列及其各自對應之各微透鏡以各自偏移特定尺寸的方式來形成於複數個遮罩圖樣之該排列方向，故能藉由後續之遮罩圖樣列所形成的複數個曝光圖樣來補足位在被曝光體搬送方向前方側之遮罩圖樣列所形成的複數個曝光圖樣之間處來進行曝光。因此，能於被曝光體之整體表面高密度地形成曝光圖樣。

接著，於該遮罩圖樣朝向該被曝光體上所形成之投影成像中，係對應於該複數個遮罩圖樣之該排列方向的寬度之整數倍尺寸，各自朝向該排列方向偏移該尺寸的方式來形成該後續之遮罩圖樣列以及其對應之各微透鏡。藉此，將位於被曝光體搬送方向前方位置處的遮罩圖樣列之後續的遮罩圖樣列以及其對應之各微透鏡，於被曝光體上進行投影的遮罩圖樣之投影成像中，使用以被曝光體搬送方向之約略垂直方向上寬度之整數倍的尺寸而各自於被曝光體搬送方向之約略垂直方向上偏移該尺寸所形成的光罩，而於被曝光體上形成曝光圖樣。因此，能更高密度地排列形成曝光圖樣。

又，本發明之光罩，係使用於將被曝光體朝一方向搬送，且同時間歇性地照射曝光光線至該被曝光體以形成曝光圖樣的曝光裝置中，其中具有：沿該被曝光體之搬送方向之約略垂直方向而將該複數個遮罩圖樣以特定間距排列所形成之複數個遮罩圖樣列、以及各自對應該複數個遮罩圖樣列之各遮罩圖樣而形成於該被曝光體側以將該各遮罩圖樣縮小投影至該被曝光體上的複數個微透鏡；能藉由後續之遮罩圖樣列所形成的複數個曝光圖樣來補足位在該被曝光體搬送方向前方側之該遮罩圖樣列所形成的複數個曝光圖樣之間處而進行曝光般地，以沿該複數個遮罩圖樣之該排列方向各自偏移特定尺寸的方式來形成該後續之遮罩圖樣列以及其各自對應之各微透鏡。

藉由前述結構，具有沿著被曝光體之搬送方向之約略垂直方向而將複數個遮罩圖樣以特定間距排列所形成之複數個遮罩圖樣列、以及各自對應複數個遮罩圖樣列之各遮罩圖樣而形成於被曝光體側以將各遮罩圖樣縮小投影至被曝光體上的複數個微透鏡；能藉由後續之遮罩圖樣列所形成的複數個曝光圖樣來補足位在被曝光體搬送方向前方側之遮罩圖樣列所形成的複數個曝光圖樣之間處而進行曝光般地，以使用沿複數個遮罩圖樣之排列方向各自偏移特定尺寸的方式而形成有後續之遮罩圖樣列以及其各自對應之各微透鏡的光罩來將被曝光體朝一方向搬送，且同時間歇性地照射曝光光線以形成曝光圖樣。此時，由於各自對應於各遮罩圖樣而於被曝光體側處設置有能將各遮罩圖樣縮小投影至被曝光體上的複數個微透鏡，因此能以高分解能形成微細曝光圖樣。又，於複數個遮罩圖樣之排列方向各自偏移特定尺寸的方式來形成位在被曝光體搬送方向前方位置處遮罩圖樣列之後續的遮罩圖樣列以及其對應之各微透鏡，故能藉由後續之遮罩圖樣列所形成的複數個曝光圖樣來補足位在該被曝光體搬送方向前方側之該遮罩圖樣列所形成的複數個曝光圖樣之間處而進行曝光。因此，能於被曝光體之整體表面高密度地形成曝光圖樣。

再者，於該遮罩圖樣朝向該被曝光體上所形成之投影成像中，係對應於該複數個遮罩圖樣之該排列方向的寬度之整數倍尺寸，各自朝向該排列方向偏移該尺寸的方式來形成該後續之遮罩圖樣列以及其對應之各微透鏡。藉此，將位於被曝光體搬送方向前方位置處的遮罩圖樣列之後續的遮罩圖樣列以及其對應之各微透鏡，於被曝光體上進行投影的遮罩圖樣之投影成像中，以被曝光體搬送方向之約略垂直方向上寬度之整數倍的尺寸，使用各自於被曝光體搬送方向之約略垂直方向上偏移該尺寸所形成的光罩而於被曝光體上形成曝光圖樣。因此，能更高密度地排列形成曝光圖樣。

又再者，於透明基板一側之面處形成有該複數個遮罩圖樣，並於該透明基板另一側之面形成有該複數個微透鏡。藉此，使用了於透明基板一側之面處形成有複數個遮罩圖樣且於該透明基板另一側之面形成有該複數個微透鏡的光罩，而於被曝光體上形成曝光圖樣。此時，由於遮罩圖樣與微透鏡係於同一個透明基板上一體成形，故不用進行遮罩圖樣與微透鏡之間的位置校對。因此，光罩之使用便較為容易。

接著，將於一側之面處形成有該複數個遮罩圖樣的遮罩用基板、以及於一側之面處形成有該複數個微透鏡的透鏡用基板，以讓該複數個遮罩圖樣與該複數個微透鏡相互對應的方式相互重疊形成。藉此，將於一側之面處形成有該複數個遮罩圖樣的遮罩用基板、以及於一側之面處形成有該複數個微透鏡的透鏡用基板，以使得該複數個遮罩圖樣與該複數個微透鏡相互對應的方式將兩基板相互重疊而形成的光罩，使用該光罩來於被曝光體上形成曝光圖樣。此時，由於複數個遮罩圖樣與複數個微透鏡係各自形成於不同的基板上，因此，當遮罩圖樣有缺陷之情況抑或當間距相同但設計改變之情況，僅需將形成有遮罩圖樣的遮罩用基板交換即可，故可抑制光罩之成本上升。

以下，根據添附圖式來詳細地說明本發明之實施形態。圖1係本發明曝光裝置之實施形態的概略結構圖。該曝光裝置係將被曝光體朝一方向搬送，且同時間歇性地照射曝光光線至該被曝光體以形成曝光圖樣，並具備有搬送機構1、遮罩台座2、光罩3、曝光光學系統4、攝影機構5、照明機構6、控制機構7。另外，此處所使用之被曝光體8係於透明基板一側之面處以特定關係反覆地形成例如TFT基板之薄膜電晶體般特定形狀機能之圖樣。

該搬送機構1係將被曝光體8載置於台座9之上方面並以特定速度朝一方向(箭頭A方向)搬送，並藉由例如馬達與齒輪等組合所構成的移動機構來移動台座9。又，搬送機構1係設置有用以檢測台座9移動速度的速度感測器與用以檢測出台座9移動距離的位置感測器(省略圖示)。

前述搬送機構1上方係設置有遮罩台座2。該遮罩台座2係接近而面向於被曝光體8(載置於搬送機構1而進行搬送)並支撐著後述之光罩3，且對應於包含有光罩3之遮罩圖樣13的形成區域10以及觀測窗17的區域(參考圖2)而於中央部形成有開口，可進行定位而支撐光罩3之周緣部。接著，在與台座9之面平行的面內，與被曝光體8之箭頭A所示搬送方向的約略垂直方向上，而能與後述攝影機構5一同地進行移動。又，亦能依需要而以遮罩台座2之中心為轉軸而於特定角度範圍內進行迴轉。

光罩3係可自由拆裝地被支撐於前述遮罩台座2上。該光罩3係形成有複數個遮罩圖樣(與被曝光體8上所形成之曝光圖樣相似)，在被支撐於遮罩台座2上之狀態時，係具備有：於被曝光體8搬送方向之約略垂直方向上以特定間距排列形成有複數個遮罩圖樣的複數個遮罩圖樣列、以及對應於該複數個遮罩圖樣列之各遮罩圖樣而形成於被曝光體8側以將各遮罩圖樣縮小投影至被曝光體8上的複數個微透鏡；能藉由後續之遮罩圖樣列所形成之複數個曝光圖樣來補足被曝光體8搬送方向前方側位置處之遮罩圖樣列所形成的複數個曝光圖樣之間處的方式來進行曝光，沿著複數個遮罩圖樣之前述排列方向(被曝光體8搬送方向之約略垂直方向)各自偏移特定尺寸的方式來形成後續之遮罩圖樣列以及其對應之各微透鏡。

具體說明，光罩3係如圖2(b)所示，在例如由石英所構成之透明基板11的一側之面11a處形成有不透明鉻(Cr)膜12，該鉻(Cr)膜12係形成有由於圖2(a)虛線所示圖樣形成區域10內所形成的特定形狀之開口所構成之複數個遮罩圖樣13。另外，圖2(a)中，為了避免圖式過於煩雜，遮罩圖樣13係簡化為相當於其外形之四角形來表示。再者，前述透明基板11另側之面11b處，如圖2(c)所示，係對應於該複數個遮罩圖樣13而形成有例如倍率0.25倍、焦點距離0.683mm(對應於波長355nm的紫外線)的複數個微透鏡14。接著，在遮罩圖樣13朝向被曝光體8上所形成的投影成像中，係對應於複數個遮罩圖樣13之排列方向的寬度之整數倍尺寸，而各自朝向前述排列方向偏移該尺寸的方式來形成各遮罩圖樣列15以及各微透鏡14。

另外，本實施形態的光罩3中，如圖3所示，當例如一側邊之長度為W的四角形之情況，關於遮罩圖樣13朝向被曝光體8上所形成之投影成像16(相當於後述曝光圖樣30(參考圖5))的大小，係以4W間距來形成各遮罩圖樣列15之複數個遮罩圖樣13，並相對於第1遮罩圖樣列15a，使得搬送方向前方側的第1遮罩圖樣列15a之後續的第2、第3、第4遮罩圖樣列15b、15c、15d以沿著各遮罩圖樣列15之遮罩圖樣13的排列方向(箭頭A之約略垂直方向)各自偏移W、2W、3W來形成，而以4W之間距而平行地形成第1～第4遮罩圖樣列15a～15d。又，如圖2(a)所示，使得各遮罩圖樣列15呈平行般地排列形成有3組(以第1～第4遮罩圖樣列15a～15d作為1組)。因此，一個曝光圖樣係藉由複數個遮罩圖樣13的重覆曝光方式而形成的。

再者，光罩3之鉻(Cr)膜12係如圖2(a)所示，係於圖樣形成區域10之側邊且距第1遮罩圖樣列15a距離D之位置處而形成有與各遮罩圖樣列15約略平行的細長狀開口部。該開口部係能藉由後述攝影機構5來觀察被曝光體8表面的觀測窗17。

接著，如圖1所示，以微透鏡14側作為被曝光體8側，同時以觀測窗17作為被曝光體8搬送方向(箭頭A方向)之前方側的方式，將光罩3定位並固定至遮罩台座2上。

前述遮罩台座2上方係形成有曝光光學系統4。該曝光光學系統4可針對光罩3照射均勻之光源光線L1，而係具備有光源18、圓柱透鏡(rod lens)19、聚光鏡20的結構。

前述光源18能放射出例如355nm的紫外線，係由後述控制機構7來進行點燈控制的例如閃光燈、紫外線發光雷射光源等。又，前述圓柱透鏡19係設置於從光源18放射出之光源光線L1的放射方向前方處，用以使得光源光線L1在垂直於曝光光學系統4光軸的剖面內能達到均勻亮度分布。另外，作為使得光源光線L1之亮度分布均勻化的機構並不限於圓柱透鏡19，亦可使用光導管或其他習知機構。接著，使得前焦點與圓柱透鏡19之輸出端面19a形成一致的方式來設置前述聚光鏡20，以使得從圓柱透鏡19放射出的光源光線L1變為平行光而照射至光罩3。

於前述曝光光學系統4的被曝光體8之箭頭A所示搬送方向前方側係設置有攝影機構5。該攝影機構5係於光罩3之曝光位置的搬送方向前方側，針對形成於被曝光體8上之作為定位基準功能圖樣的基準位置、以及形成於光罩3之觀測窗17內的基準標記而同時進行攝影，而在平行於台座9上方面之面內，於被曝光體8搬送方向(箭頭A方向)之約略垂直方向上呈一直線狀地排列有受光元件的線性攝影機，其長邊中心軸與光罩3之觀測窗17的長邊中心軸係形成一致的方式進行配置。另外，於圖1中，符號21係用以使攝影機構5之光學路徑彎曲的全反射鏡。

前述搬送機構1之台座9下方側係對應於攝影機構5之攝影區域而設置有照明機構6。該照明機構6係能從下面側將由阻隔掉紫外線的可見光所構成之照明光線照射至被曝光體8，以使得攝影機構5能針對形成於被曝光體8表面的功能圖樣進行觀察，而例如為鹵素燈等。另外，照明機構6亦可設置於台座9上方而以灑落的方式進行照明。

設置有連接前述搬送機構1、攝影機構5、光源18、遮罩台座2以及照明機構6的控制機構7。該控制機構7係將被曝光體8朝一方向搬送，且同時經由光罩3將曝光光線L2間歇性地照射至被曝光體8，以形成對應於光罩3之複數個遮罩圖樣13的曝光圖樣30，並控制使得該圖樣係與被曝光體8上所形成之功能圖樣相互重疊，如圖4所示，該控制機構7係具備有圖像處理部22、演算部23、記憶體24、搬送機構驅動控制器25、光源驅動控制器26、遮罩台座驅動控制器27、照明機構驅動控制器28、以及控制部29。

圖像處理部22係針對攝影機構5所取得的被曝光體8之表面以及光罩3之基準標記的攝影圖像進行圖像處理，以檢測出該被曝光體8上功能圖樣所預先設定之基準位置與光罩3上之基準標記的位置。

又，演算部23係計算出圖像處理部22所檢測出的被曝光體8上之基準位置與光罩3上基準標記的位置之間的距離，將該結果與儲存於後述記憶體24中的目標值進行比較，再將該差值作為補正值而輸出給遮罩台座驅動控制器27，同時輸入搬送機構1之位置感測器的輸出值以算出台座9的移動距離，將其結果與儲存於記憶體24中的被曝光體8功能圖樣之箭頭A方向(搬送方向)的排列間距W進行比較，當台座9每移動距離W時，便將點燈指令(點亮光源18)輸出給光源驅動控制器26。

再者，記憶體24除了暫時地儲存該演算部23之演算結果，同時亦記憶有台座9之移動速度V、被曝光體8上之基準位置與光罩3之基準標記的位置之間的距離目標值、以及其他初始設定值。

又再者，搬送機構驅動控制器25係使得搬送機構1之台座9沿箭頭A所示方向以固定速度進行移動，輸入該搬送機構1之速度感測器的出力值，並與儲存於記憶體24中的台座9移動速度進行比較，而使得兩者維持一致般地針對搬送機構1進行控制。

接著，光源驅動控制器26會間歇性地點亮光源18，依照從演算部23所輸入的點燈指令而將驅動訊號傳送給光源18。

又，遮罩台座驅動控制器27係將遮罩台座2與攝影機構5一同地朝向箭頭A所示搬送方向之約略垂直方向進行移動，根據從演算部23所輸入的補正值來控制遮罩台座2的移動。

再者，照明機構驅動控制器28係用來使照明機構6進行點燈以及熄燈，當曝光開始開關啟動時則點亮照明機構6，當被曝光體8上之全部曝光製程完成時則熄燈的方式來進行控制。接著，控制部29係控制並調合各構成組件之間，使得前述各構成組件能適當地進行驅動。

其次，說明有關前述結構之曝光裝置的作動。另外，此處係針對縱橫地以排列間距W形成一邊為W的四角形曝光圖樣30之情況進行說明。

首先，操作例如由鍵盤等所構成之操作機構(省略圖示)，來輸入：台座9之移動速度V、曝光開始至曝光完成為止該台座9之移動距離、光源18之功率與點燈時間、光罩3之第1遮罩圖樣列15與觀測窗17之間的距離D、形成於被曝光體8上之功能圖樣於箭頭A方向(搬送方向)的排列間距W、被曝光體8之前述功能圖樣所預先設定的基準位置與光罩3所形成之基準標記之間的距離目標值等，並儲存於記憶體24，以進行初始設定。

其次，將表面塗布有感光性樹脂的被曝光體8，以其塗布面朝上的方式載置並定位於台座9上的特定位置。接著，當啟動曝光開始開關(省略圖示)時，係啟動控制機構7之搬送機構驅動控制器25，使得台座9以速度V朝向箭頭A方向移動。此時，搬送機構驅動控制器25係輸入該搬送機構1之速度感測器的輸出值，並與儲存於記憶體24中的速度V進行比較的方式來控制搬送機構1以使得台座9之移動速度維持V。又，當啟動曝光開始開關時，亦啟動照明機構驅動控制器28以點亮照明機構6。同時地，啟動攝影機構5以開始進行攝影。

隨著台座9之移動來搬送被曝光體8，當被曝光體8所形成之功能圖樣中位於搬送方向(箭頭A方向)前方側之功能圖樣到達攝影機構5之攝影區域後，攝影機構5便會透過光罩3之觀測窗17而拍攝到前述功能圖樣，同時亦拍攝光罩3之基準標記。接著，將該等攝影圖像之電子訊號輸出給控制機構7之圖像處理部22。

圖像處理部22會針對從攝影機構5所輸入的攝影圖像電子訊號進行圖像處理，並檢測出該被曝光體8之功能圖樣所預先設定的基準位置以及光罩3之基準標記的位置，而將該等位置資料輸出給演算部23。

演算部23會根據從圖像處理部22所輸入之前述基準位置之位置資料與光罩3之基準標記之位置資料，來計算兩者之間的距離，再從記憶體24讀取出該兩者之間距離的目標值以進行比較，並以該差值作為補正值並輸出給遮罩台座驅動控制器27。

遮罩台座驅動控制器27會根據從演算部23所輸入之補正值，在平行於台座9之面內朝向箭頭A方向(搬送方向)之約略垂直方向移動遮罩台座2以進行被曝光體8與光罩3之間的定位。另外，該動作係於針對被曝光體8整體表面進行曝光動作中，時常進行的，而可避免被曝光體8朝向箭頭A之垂直方向的水平偏向所造成之位置偏移。

又，由圖像處理部22來針對從攝影機構5所輸入之攝影圖像的電子訊號來進行圖像處理，而檢測出該被曝光體8搬送方向(箭頭A方向)前方側的功能圖樣時，演算部23會根據該搬送機構1之位置感測器的輸出值來計算出自檢出前述功能圖樣時點以來之該台座9的移動距離，並將之與儲存於記憶體24中的光罩3之第1遮罩圖樣列15a與觀測窗17之間的距離D進行比較。接著，當台座9之移動距離與前述距離D一致時，演算部23會將點亮光源18的點燈指令輸出給光源驅動控制器26。光源驅動控制器26則會根據前述點燈指令而將驅動訊號輸出給光源18。藉此，光源18便會根據前述初始設定值而以特定功率來點亮特定時間。

從光源18所放射出的紫外線之光源光線L1係經由圓柱透鏡19達成亮度分布均勻化之後，藉由聚光鏡20轉變為平行光並照射至光罩3。通過光罩3的曝光光線L2會由於微透鏡14而聚焦至被曝光體8上，而如圖3所示般地針對光罩3之遮罩圖樣13進行縮小投影，並如圖5所示般地於該被曝光體8上形成一邊為W的四角形曝光圖樣30。

藉此，如圖3所示，便形成有對應於第1遮罩圖樣列15a的第1曝光圖樣列31a，相對該第1曝光圖樣列31a朝向箭頭A方向(搬送方向)之垂直方向偏移W後形成有對應於第2遮罩圖樣列15b之第2曝光圖樣列31b，相對該第1曝光圖樣列31a朝向箭頭A方向(搬送方向)之垂直方向偏移2W後形成有對應於第3遮罩圖樣列15c之第3曝光圖樣列31c，相對該第1曝光圖樣列31a朝向箭頭A方向(搬送方向)之垂直方向偏移3W後形成有對應於第4遮罩圖樣列15d之第4曝光圖樣列31d。

再者，演算部23會針對由搬送機構1之位置感測器的輸出值所取得之台座9的移動距離而與儲存於記憶體24的初期設定值中，被曝光體8上所形成之功能圖樣於箭頭A方向(搬送方向)的排列間距W進行比較，當兩者一致時則將光源18之點燈指令輸出給光源驅動控制器26。藉此，光源18便會根據前述初期設定值以特定功率來點亮特定時間。

從光源18所放射出的紫外線之光源光線L1會如前述般地照射至光罩3。接著，通過光罩3之曝光光線L2會如前述般地將光罩3之遮罩圖樣13縮小投影至被曝光體8上，而於被曝光體8上形成一邊長度為W的四角形曝光圖樣30。之後，台座9每移動距離W，光源18便會點亮特定時間以形成曝光圖樣30，而如圖5所示般，藉由後續之第2～第4遮罩圖樣列15b～15d所形成的複數個曝光圖樣30來補足位於被曝光體8搬送方向(箭頭A方向)前方側位置的第1遮罩圖樣列15a所形成的複數個曝光圖樣30之間處，以於被曝光體8之全體表面形成曝光圖樣30。

圖6係光罩3之其他形成範例之主要部份擴大平面圖，係能縱橫地排列形成圖7中以虛線所包圍之形狀較大的單位曝光圖樣30s。

此時，光罩3中，當搬送方向(箭頭A方向)前方側之第1遮罩圖樣列15a所曝光形成的第1曝光圖樣30a係例如一邊長度為W的四角形之情況，於第1曝光圖樣30a之箭頭A所示搬送方向的正後方所接續之曝光形成第2曝光圖樣30b(參考圖7)用的第2遮罩圖樣列15b，則係設置於第1遮罩圖樣列15a後方處且朝向箭頭A方向之約略垂直方向的偏移量為零。再者，第2遮罩圖樣列15b後方，於前述第1曝光圖樣30a之朝向箭頭A方向之曝光形成排列在右側之第3曝光圖樣30c(參考圖7)用的第3遮罩圖樣列15c，則係設置於相對第1遮罩圖樣列15a朝向箭頭A之約略垂直方向偏移W的位置處。接著，第3遮罩圖樣列15c後方，於第3曝光圖樣30c之箭頭A所示搬送方向的正後方所接續地之曝光形成第4曝光圖樣30d(參考圖7)用的第4遮罩圖樣列15d，則係設置於相對第1遮罩圖樣列15a朝向箭頭A之約略垂直方向偏移W的位置處。再者，第4遮罩圖樣列15d後方，相對第1遮罩圖樣列15a朝向箭頭A方向之約略垂直方向而偏移2W位置處則設置有與前述第1～第4遮罩圖樣列15a～15d相同組合所構成的遮罩圖樣列。接著，第1～第4遮罩圖樣列15a～15d於箭頭A方向上之排列間距則係例如為間距3W。

使用如前述般所形成的光罩3之情況，當被曝光體8朝向箭頭A方向每移動距離2W時便間歇性地將光源18點亮以進行曝光即可。藉此，可如圖7所示，藉由後續之遮罩圖樣列15所形成的曝光圖樣30來補足第1遮罩圖樣列15a所形成的複數個第1曝光圖樣30a之間處，以於被曝光體8之整體表面上形成曝光圖樣30。

此時，藉由第1～第4曝光圖樣30a～30d來形成圖7中虛線所包圍之單位曝光圖樣30s，並縱橫地排列形成該單位曝光圖樣30s。藉此，在以特定間距縱橫地排列形成該形狀較大的曝光圖樣之情況時，便可將前述曝光圖樣以分割成複數個微小圖樣的方式來形成。

另外，前述第1～第4遮罩圖樣列15a～15d之排列順序並非限定於前述方式，亦可適當地更換。又，各遮罩圖樣列之排列間距以及曝光時機係配合預先形成於被曝光體8上的圖樣間距而進行設定。

又，前述實施形態中，係針對於透明基板11之一側面11a處形成有複數個遮罩圖樣13，並於透明基板11之另側面11b處形成有複數個微透鏡14的結構之該光罩3之情況進行說明，但本發明並非限定於此，亦可藉由於一側面處形成有複數個遮罩圖樣13的遮罩用基板、以及於一側面處形成有該複數個微透鏡14的透鏡用基板，而讓該複數個遮罩圖樣13與該複數個微透鏡14相互對應的方式相互重疊以形成該光罩3。

1．．．搬送機構

2．．．遮罩台座

3．．．光罩

4．．．曝光光學系統

5．．．攝影機構

6．．．照明機構

7．．．控制機構

8．．．被曝光體

9．．．台座

10．．．遮罩圖樣形成區域

11．．．透明基板

11a．．．一側之面

11b．．．另一側之面

12．．．鉻膜

13．．．遮罩圖樣

14．．．微透鏡

15．．．各遮罩圖樣列

15a~15d．．．遮罩圖樣列

16．．．投影成像

17．．．觀測窗區域

18．．．光源

19．．．圓柱透鏡

19a．．．輸出端面

20．．．聚光鏡

21．．．全反射鏡

22．．．圖像處理部

23．．．演算部

24．．．記憶體

25．．．搬送機構驅動控制器

26．．．光源驅動控制器

27‧‧‧遮罩台座驅動控制器

28‧‧‧照明機構驅動控制器

29‧‧‧控制部

30‧‧‧各曝光圖樣

30a~30d‧‧‧曝光圖樣

30s‧‧‧單位曝光圖樣

31a~31d‧‧‧曝光圖樣列

L1、L2‧‧‧光源光線

圖1係本發明之曝光裝置的實施形態之概略結構圖。

圖2係本發明曝光裝置所使用之光罩的結構示意圖，(a)為平面圖，(b)為側面圖，(c)為底面圖。

圖3係該光罩之部份擴大平面圖。

圖4係顯示該曝光裝置之控制機構的結構之方塊圖。

圖5係使用該光罩而於被曝光體上所形成之曝光圖樣的平面圖。

圖6係該光罩之其他形成範例的模式平面圖。

圖7係使用圖6之光罩所形成之曝光圖樣的模式平面圖。

3．．．光罩

10．．．遮罩圖樣形成區域

11．．．透明基板

11a．．．一側之面

11b．．．另一側之面

12．．．鉻膜

13．．．遮罩圖樣

14．．．微透鏡

15．．．各遮罩圖樣列

15a~15d．．．遮罩圖樣列

17．．．觀測窗區域

Claims (6)

1. 一種曝光裝置，係將於表面設有複數個圖樣之被曝光體朝一方向搬送，且每讓該被曝光體移動等同於該搬送方向之該圖樣的配列間距之距離，便同時間隔性地將曝光光線經由光罩而照射至該被曝光體，以對應該光罩上所形成之複數個遮罩圖樣而於該被曝光體之該圖樣上形成曝光圖樣，其特徵在於該光罩係具備有：沿該被曝光體之搬送方向之約略垂直方向而將該複數個遮罩圖樣以特定間距一列地排列而形成，且於該被曝光體之搬送方向以該圖樣之同方向的配列間距之整數倍間距而形成之複數個遮罩圖樣列、以及各自對應該複數個遮罩圖樣列之各遮罩圖樣而形成於該被曝光體側以將該各遮罩圖樣縮小投影至該被曝光體上的複數個微透鏡；藉由後續之遮罩圖樣列所形成的複數個曝光圖樣來補足位在該被曝光體搬送方向前方側之該遮罩圖樣列所形成的複數個曝光圖樣之間處而進行曝光般地，以沿該複數個遮罩圖樣之該排列方向各自偏移特定尺寸的方式來形成該後續之遮罩圖樣列以及其各自對應之各微透鏡。
2. 如申請專利範圍第1項之曝光裝置，其中於該遮罩圖樣朝向該被曝光體上所形成之投影成像中，係對應於該複數個遮罩圖樣之該排列方向的寬度之整 數倍尺寸，各自朝向該排列方向偏移該尺寸的方式來形成該後續之遮罩圖樣列以及其對應之各微透鏡。
3. 一種光罩，係使用於將於表面設有複數個圖樣之被曝光體朝一方向搬送，且每讓該被曝光體移動等同於該搬送方向之該圖樣的配列間距之距離，便同時間隔性地照射曝光光線至該被曝光體以形成曝光圖樣的曝光裝置中，其特徵在於具有：沿該被曝光體之搬送方向之約略垂直方向而將該複數個遮罩圖樣以特定間距一列地排列而形成，且於該被曝光體之搬送方向以該圖樣之同方向的配列間距之整數倍間距而形成之複數個遮罩圖樣列、以及各自對應該複數個遮罩圖樣列之各遮罩圖樣而形成於該被曝光體側以將該各遮罩圖樣縮小投影至該被曝光體上的複數個微透鏡；藉由後續之遮罩圖樣列所形成的複數個曝光圖樣來補足位在該被曝光體搬送方向前方側之該遮罩圖樣列所形成的複數個曝光圖樣之間處而進行曝光般地，以沿該複數個遮罩圖樣之該排列方向各自偏移特定尺寸的方式來形成該後續之遮罩圖樣列以及其各自對應之各微透鏡。
4. 如申請專利範圍第3項之光罩，其中於該遮罩圖樣朝向該被曝光體上所形成之投影成像中，係對應於該複數個遮罩圖樣之該排列方向的寬度之整數倍 尺寸，各自朝向該排列方向偏移該尺寸的方式來形成該後續之遮罩圖樣列以及其對應之各微透鏡。
5. 如申請專利範圍第3或4項之光罩，其中該複數個遮罩圖樣係形成於透明基板一側之面處，而該複數個微透鏡係形成於該透明基板另一側之面處。
6. 如申請專利範圍第3或4項之光罩，其中係使得該複數個遮罩圖樣與該複數個微透鏡係相互對應般地，將一側之面處形成有該複數個遮罩圖樣的遮罩用基板、以及於一側之面處形成有該複數個微透鏡的透鏡用基板相互重疊形成。