TWI458746B - Novel copolymer - Google Patents
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Description
本發明係關於一種用作分散劑之新穎共聚物。本申請案係對在2010年11月8日提出申請之日本專利申請案第2010-249493號主張優先權,並將其內容引用至本文中。
於各領域中正開發共聚物型之顏料分散劑。
例如於彩色液晶顯示裝置領域,使用共聚物型之顏料分散劑作為著色層形成用放射線敏感性組合物中所含之顏料之分散劑。於該領域,由於對可見光之高穿透率化及高對比度化之需求增強,故而將顏料粒子微粒子化為至少可見光之波長以下。
作為用於穩定地分散此種經微粒子化之顏料的分散劑,目前提出有各種共聚物。例如專利文獻1、專利文獻2中提出有:為了提高顏料之分散穩定性而使用包含具有4級銨鹽基之嵌段與不具有4級銨鹽基之嵌段的分散劑。
又,專利文獻3中提出有:含有具有下述式(1)所表示之重複單元、下述式(2)所表示之重複單元及下述式(3)所表示之重複單元的共聚物作為分散劑之著色層形成用放射線敏感性組合物。
專利文獻1:日本專利特開2004-182787號公報
專利文獻2:日本專利特開2004-287366號公報
專利文獻3:日本專利特開2010-134419號公報
近年來,隨著分散劑之用途之多樣化,業界對於用作分散劑之共聚物謀求各種特性。於彩色液晶顯示裝置領域用作顏料分散劑時,必須滿足經微粒子化之顏料之分散劑之初期分散性及隨時間經過之分散穩定性。進而,謀求亦滿足具備彩色濾光片之液晶顯示元件之高對比度化、高亮度性、高顯影性等各種要求。然而,先前之共聚物存在無法獲得充分之性能的問題。
本發明者等為了解決上述課題進行努力研究,結果發現藉由使用如下之新穎共聚物可解決上述課題,該新穎共聚物之特徵在於含有如下兩種嵌段鏈:包含含有選自由具有3級胺基之重複單元及具有4級銨鹽基之重複單元所組成之群中之至少1種重複單元之聚合物的嵌段鏈、及含有式(I)所表示之重複單元及式(II)所表示之重複單元的嵌段鏈,從而完成本發明。
即,本發明係關於如下者:
(1) 一種共聚物,其特徵在於:含有嵌段鏈(A)與嵌段鏈(B),該嵌段鏈(A)含有選自由具有3級胺基之重複單元及具有4級銨鹽基之重複單元所組成之群中之至少1種重複單元,該嵌段鏈(B)含有下述式(I)所表示之重複單元與下述式(II)所表示之重複單元,
(式中,R1
表示氫原子或C1~C3烷基,R2
及R3
分別獨立地表示氫原子或C1~C6烷基,Q表示可具有烷基作為取代基之含氧飽和雜環基或C2~C20烯基,n表示0~6之任一整數)
(式中,R4
表示氫原子或C1~C3烷基,R5
表示飽和脂肪族烴基或飽和脂環式烴基),並且上述式(II)所表示之重複單元之共聚合比率於除上述式(I)所表示之重複單元以外之嵌段鏈(B)中為90重量%以上;
(2)如(1)之共聚物,其中選自由具有3級胺基之重複單元及具有4級銨鹽基之重複單元所組成之群中之至少1種重複單元為式(III)所表示之重複單元,
(式中,R6
表示氫原子或C1~C3烷基,R7
及R8
分別獨立地表示C1~C6烷基或C6~C10芳基C1~C6烷基,X表示C1~C10伸烷基或C1~C10伸烷基-O-C1~C10伸烷基);
(3)如(1)或(2)之共聚物,其重量平均分子量(Mw)與數量平均分子量(Mn)之比(Mw/Mn)為1.01~2.00;及
(4)如(1)至(3)中任一項之共聚物,其重量平均分子量(Mw)為2000~50000。
本發明之共聚物分別含有至少1個下述嵌段鏈(A)及嵌段鏈(B)。
嵌段鏈(A):含有選自由具有3級胺基之重複單元及具有4級銨鹽基之重複單元所組成之群中之至少1種重複單元。
嵌段鏈(B):含有式(I)所表示之重複單元與式(II)所表示之重複單元。
又,本發明之共聚物除上述嵌段鏈(A)及嵌段鏈(B)以外,亦可含有其他嵌段鏈。
於嵌段鏈(A)中,具有3級胺基之重複單元及具有4級銨鹽基之重複單元只要為於重複單元之側鏈上具有上述陽離子性官能基者,則無特別限制。
具體而言,嵌段鏈(A)包括:僅1種具有3級胺基之重複單元或具有4級銨鹽基之重複單元均聚合而成者、2種以上具有3級胺基之重複單元或具有4級銨鹽基之重複單元共聚合而成者、至少1種具有3級胺基之重複單元及至少1種具有4級銨鹽基之重複單元共聚合而成者、及該等與源自其他可共聚合之單體之重複單元共聚合而成者。共聚合包括無規、交替、嵌段等。
上述具有3級胺基之重複單元只要具有3級胺基,則無特別限制,例如可例示下述通式(IV)所表示之重複單元。
式(IV)中,R9
、R10
、R11
分別獨立為氫原子或C1~C3烷基。X1
為選自由C1~C10伸烷基、-COOR14
-、-CONHR14
-、-OCOR14
-及-R15
-OCO-R14
-所組成之群中之基(此處,R14
、R15
分別獨立為C1~C10伸烷基或C1~C10伸烷基-O-C1~C10伸烷基)。R12
、R13
分別獨立為C1~C6烷基或C6~C10芳基C1~C6烷基。其中,較佳為下式(III)所表示之重複單元。
式(III)中,R6
表示氫原子或C1~C3烷基,R7
及R8
分別獨立地表示C1~C6烷基或C6~C10芳基C1~C6烷基,X表示C1~C10伸烷基或C1~C10伸烷基-O-C1~C10伸烷基。
此處,作為C1~C3烷基或C1~C6烷基,可例示:甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、第二丁基、異丁基、第三丁基、正戊基、正己基等。
作為C1~C10伸烷基,可例示:亞甲基鏈、伸乙基鏈、伸丙基鏈、甲基伸乙基鏈、伸丁基鏈、1,2-二甲基伸乙基鏈、伸戊基鏈、1-甲基伸丁基鏈、2-甲基伸丁基鏈或伸己基鏈等。
作為C6~C10芳基C1~C6烷基,可例示:苄基、苯乙基、3-苯基正丙基、1-苯基正己基、萘-1-基甲基、萘-2-基乙基、1-萘-2-基正丙基、茚-1-基甲基等。
作為成為式(IV)或式(III)所表示之重複單元之原料的單體,可例示:(甲基)丙烯酸二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺基丙酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺基丁酯、(甲基)丙烯酸二乙基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸二乙基胺基丙酯、(甲基)丙烯酸二乙基胺基丁酯等。
上述具有4級銨鹽基之重複單元只要具有4級銨鹽基,則無特別限制,例如可例示下述通式(V)所表示之重複單元。
式(V)中,R21
、R22
、R23
分別獨立為氫原子或C1~C3烷基。X2
為選自由C1~C10伸烷基、-COOR27
-、-CONHR27
-、-OCOR27
-及-R28
-OCO-R27
-所組成之群中之基(此處,R27
、R28
分別獨立為C1~C10伸烷基或C1~C10伸烷基-O-C1~C10伸烷基)。R24
、R25
、R26
分別獨立為C1~C6烷基或C6~C10芳基C1~C6烷基。Z-
表示鹵化物離子、鹵代烷離子、烷基羧酸鹽離子、氮氧化物離子、烷基硫酸鹽離子、磺酸鹽離子、磷酸鹽離子或烷基磷酸鹽離子等抗衡離子。
此處,C1~C3烷基、C1~C6烷基、C1~C10伸烷基、及C6~C10芳基C1~C6烷基可例示與上述具有3級胺基之重複單元之式(IV)相同者。
其中,較佳為式(VI)所表示之重複單元。
式(VI)中,R29
為氫原子或C1~C3烷基。X3
表示C1~C10伸烷基或C1~C10伸烷基-O-C1~C10伸烷基。R30
、R31
、R32
分別獨立為C1~C6烷基或C6~C10芳基C1~C6烷基。Z1-
表示抗衡離子。
此處,C1~C3烷基、C1~C6烷基、C1~C10伸烷基、及C6~C10芳基C1~C6烷基可例示與上述具有3級胺基之重複單元之式(III)相同者。
作為Z1-
,可例示與上述式(V)中之Z-
相同者。
作為成為式(V)或式(VI)所表示之重複單元之原料的單體,可例示:氟化(甲基)丙烯醯氧基乙基三甲基銨、氯化(甲基)丙烯醯氧基乙基三甲基銨、溴化(甲基)丙烯醯氧基乙基三甲基銨、碘化(甲基)丙烯醯氧基乙基三甲基銨、氟化(甲基)丙烯醯氧基丙基三甲基銨、氯化(甲基)丙烯醯氧基丙基三甲基銨、溴化(甲基)丙烯醯氧基丙基三甲基銨、碘化(甲基)丙烯醯氧基丙基三甲基銨、氟化(甲基)丙烯醯氧基丁基三甲基銨、氯化(甲基)丙烯醯氧基丁基三甲基銨、溴化(甲基)丙烯醯氧基丁基三甲基銨、碘化(甲基)丙烯醯氧基丁基三甲基銨等。
作為嵌段鏈(A)中之其他可含有之重複單元,可例示源自(甲基)丙烯酸系單體、芳香族乙烯系單體、共軛二烯系單體等之重複單元。
作為成為上述重複單元之原料之(甲基)丙烯酸系單體、芳香族乙烯系單體、共軛二烯系單體,可例示如下者。
作為(甲基)丙烯酸系單體,可例示:(甲基)丙烯酸;(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸1-乙基環己酯、(甲基)丙烯酸苄酯等(甲基)丙烯酸酯化合物;(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、甲氧基聚乙二醇(乙二醇之單元數為2~100)(甲基)丙烯酸酯、乙氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯等,該等可單獨使用1種或混合使用2種以上。
作為芳香族乙烯系單體,可列舉:苯乙烯;鄰甲基苯乙烯、對甲基苯乙烯、對第三丁基苯乙烯、α-甲基苯乙烯、對第三丁氧基苯乙烯、間第三丁氧基苯乙烯、對(1-乙氧基乙氧基)苯乙烯、2,4-二甲基苯乙烯、乙烯苯胺、乙烯苯甲酸等苯乙烯衍生物;2-乙烯基吡啶、4-乙烯基吡啶、2-乙烯基喹啉、4-乙烯基喹啉、2-乙烯基噻吩、4-乙烯基噻吩等雜芳基化合物;乙烯基萘、乙烯基蒽等,該等可單獨使用1種或混合使用2種以上。
作為共軛二烯系單體,可列舉:1,3-丁二烯、異戊二烯、2-乙基-1,3-丁二烯、2-第三丁基-1,3-丁二烯、2-苯基-1,3-丁二烯、2,3-二甲基-1,3-丁二烯、1,3-戊二烯、2-甲基-1,3-戊二烯、3-甲基-1,3-戊二烯、1,3-己二烯、2-甲基-1,3-辛二烯、4,5-二乙基-1,3-辛二烯、3-丁基-1,3-辛二烯、1,3-環戊二烯、1,3-環己二烯、1,3-環辛二烯、1,3-三環癸二烯、月桂烯、氯丁二烯等,該等可單獨使用1種或混合使用2種以上。
嵌段鏈(B)含有式(I)所表示之重複單元之至少1種、及式(II)所表示之重複單元之至少1種。
式(I)所表示之重複單元之至少1種與式(II)所表示之重複單元之至少1種的重量百分比(將式(I)所表示之重複單元與式(II)所表示之重複單元的總重量設為100時式(I)所表示之重複單元之重量%與式(II)所表示之重複單元之重量%的比)並無特別限制,較佳為5~50:95~50,更佳為7~45:93~55,更佳為10~40:90~60,尤佳為15~35:85~65。
式(II)所表示之重複單元之至少1種之共聚合比率於除式(I)所表示之重複單元以外之嵌段鏈(B)中為90重量%以上,較佳為95重量%~100重量%。
又,嵌段鏈(B)包括無規、交替、嵌段等。
(式(I)所表示之重複單元)
嵌段鏈(B)含有下式(I)所表示之重複單元之至少1種。
式(I)中,R1
表示氫原子或C1~C3烷基,R2
及R3
分別獨立地表示氫原子或C1~C6烷基,Q表示可具有取代基之含氧飽和雜環基或C2~C20烯基,n表示0~6之整數。
於本發明中,作為R1
之C1~C3烷基、C1~C6烷基,可例示與上述具有3級胺基之重複單元之式(III)相同者。
於本發明中,Q之含氧飽和雜環基可於環上任意碳原子上具有取代基。含氧飽和雜環基係指含有至少1個氧原子,進而可含有1個包含N、S及O之雜原子之3~8員飽和雜環,較佳為3~6員飽和雜環。
此處,作為含氧飽和雜環基,可例示:氧雜環丙基、氧雜環丁基、四氫呋喃基、四氫吡喃基、啉基及硫代啉基等。該等中,較佳為氧雜環丙基、氧雜環丁基、四氫呋喃基及四氫吡喃基等交聯性官能基。
含氧飽和雜環基之取代基為C1~C6烷基。作為C1~C6烷基,可例示與上述具有3級胺基之重複單元之式(III)相同者。
作為Q之C2~C20烯基,例如可列舉:乙烯基、1-丙烯基、2-丙烯基、1-丁烯基、2-丁烯基、3-丁烯基、1-甲基-2-丙烯基、2-甲基-2-丙烯基、1-戊烯基、2-戊烯基、3-戊烯基、4-戊烯基、1-甲基-2-丁烯基、2-甲基-2-丁烯基、1-己烯基、2-己烯基、3-己烯基、4-己烯基、5-己烯基、庚烯基、辛烯基、癸烯基、十五烯基、二十烯基、二十三烯基等。該等中較佳為C2~C6烯基。
作為成為式(I)所表示之重複單元之原料的單體,可例示:(甲基)丙烯酸氧雜環丁烷-2-基甲酯、(甲基)丙烯酸氧雜環丁烷-3-基甲酯、(甲基)丙烯酸(2-甲基氧雜環丁烷-2-基)甲酯、(甲基)丙烯酸(3-甲基氧雜環丁烷-3-基)甲酯、(甲基)丙烯酸(2-乙基氧雜環丁烷-2-基)甲酯、(甲基)丙烯酸(3-乙基氧雜環丁烷-3-基)甲酯、(甲基)丙烯酸(3-丙基氧雜環丁烷-3-基)甲酯、(甲基)丙烯酸2-(氧雜環丁烷-2-基)乙酯、(甲基)丙烯酸2-(氧雜環丁烷-3-基)乙酯、(甲基)丙烯酸(四氫呋喃-2-基)甲酯、(甲基)丙烯酸(四氫呋喃-3-基)甲酯、(甲基)丙烯酸(2-甲基四氫呋喃-2-基)甲酯、(甲基)丙烯酸(3-甲基四氫呋喃-3-基)甲酯、(甲基)丙烯酸(5-甲基四氫呋喃-2-基)甲酯、(甲基)丙烯酸(4-甲基四氫呋喃-2-基)甲酯、(甲基)丙烯酸(3-甲基四氫呋喃-2-基)甲酯、(甲基)丙烯酸(2-甲基四氫呋喃-3-基)甲酯、(甲基)丙烯酸(5-甲基四氫呋喃-3-基)甲酯、(甲基)丙烯酸(4-甲基四氫呋喃-3-基)甲酯、(甲基)丙烯酸2-(四氫呋喃-3-基)乙酯、(甲基)丙烯酸氧雜環丙烷-2-基甲酯、(甲基)丙烯酸(3-甲基氧雜環丙烷-2-基)甲酯、(甲基)丙烯酸(2-甲基氧雜環丙烷-2-基)甲酯等,及(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸2-甲基烯丙酯、(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸(E)-丁烯-2-基酯、(甲基)丙烯酸(Z)-丁烯-2-基酯、(甲基)丙烯酸3-丁烯酯、(甲基)丙烯酸3-甲基-3-丁烯酯、(甲基)丙烯酸(E)-戊烯-3-酯、(甲基)丙烯酸(Z)-戊烯-3-酯、(甲基)丙烯酸3-甲基-2-丁烯酯等。
嵌段鏈(B)進而含有下式(II)所表示之重複單元之至少1種。
式(II)中,R4
表示氫原子或C1~C3烷基,R5
表示飽和脂肪族烴基或飽和脂環式烴基。
於本發明中,作為R4
之C1~C3烷基,可例示與上述具有3級胺基之重複單元之式(III)相同者。
於本發明中,R5
之飽和脂肪族烴基較佳為C1~C20之烷基。
作為上述C1~C20之烷基,例如可列舉:甲基、乙基、正丙基、異丙基、正丁基、異丁基、第三丁基、正戊基、異戊基、新戊基、第三戊基、2-甲基丁基、正己基、異己基、3-甲基戊基、乙基丁基、正庚基、2-甲基己基、正辛基、異辛基、第三辛基、2-乙基己基、3-甲基庚、正壬基、異壬基、1-甲基辛基、乙基庚基、正癸基、1-甲基壬基、正十一烷基、1,1-二甲基壬基、正十二烷基、正十四烷基、正十七烷基及正十八烷基等。該等中,尤佳為C1~C6烷基。
又,於本發明中,飽和脂環式烴基係指基團內之任一部分具有單環或多環之環狀結構之飽和烴基,包括C3~C20之環烷基、C4~C20之烷基取代環烷基、C4~C20之環烷基烷基、C7~C20之飽和交聯環烴基等。
作為上述C3~C20之環烷基,例如可列舉:環丙基、環丁基、環戊基、環己基、環庚基、環辛基、環癸基、環十四烷基、環十八烷基等。
作為上述C4~C20之烷基取代環烷基,可列舉:1-甲基環丙基、2-乙基環丙基、3-甲基環己基、4-甲基環己基、4-乙基環己基、3-乙基環己基、2-甲基環辛基、2-甲基環癸基、3-甲基環十四烷基、3-甲基環十八烷基等。
作為上述C4~C20之環烷基烷基,可列舉:環丙基甲基、環丁基甲基、環戊基甲基、環己基甲基、環庚基乙基、環辛基乙基、環癸基甲基、環十四烷基甲基、環十八烷基甲基等。
作為上述C7~C20之飽和交聯環烴基,可列舉:三環[5.2.1.02,6
]癸烷-8-基、金剛烷基、二環戊烯基、異基等。
作為嵌段鏈(B)中之其他可含有之重複單元,可例示源自芳香族乙烯系單體、共軛二烯系單體等之重複單元。
作為芳香族乙烯系單體,可列舉:苯乙烯;鄰甲基苯乙烯、對甲基苯乙烯、對第三丁基苯乙烯、α-甲基苯乙烯、對第三丁氧基苯乙烯、間第三丁氧基苯乙烯、對(1-乙氧基乙氧基)苯乙烯、2,4-二甲基苯乙烯、乙烯苯胺、乙烯苯甲酸等苯乙烯衍生物;2-乙烯基吡啶、4-乙烯基吡啶、2-乙烯基喹啉、4-乙烯基喹啉、2-乙烯基噻吩、4-乙烯基噻吩等雜芳基化合物;乙烯基萘、乙烯基蒽等,該等可單獨使用1種或混合使用2種以上。
作為共軛二烯系單體,可列舉:1,3-丁二烯、異戊二烯、2-乙基-1,3-丁二烯、2-第三丁基-1,3-丁二烯、2-苯基-1,3-丁二烯、2,3-二甲基-1,3-丁二烯、1,3-戊二烯、2-甲基-1,3-戊二烯、3-甲基-1,3-戊二烯、1,3-己二烯、2-甲基-1,3-辛二烯、4,5-二乙基-1,3-辛二烯、3-丁基-1,3-辛二烯、1,3-環戊二烯、1,3-環己二烯、1,3-環辛二烯、1,3-三環癸二烯、月桂烯、氯丁二烯等,該等可單獨使用1種或混合使用2種以上。
本發明之共聚物中,除嵌段鏈(A)及(B)以外,亦可具有其他嵌段鏈。
作為此種其他嵌段鏈,可列舉含有源自(甲基)丙烯酸系單體、芳香族乙烯系單體、共軛二烯系單體等之重複單元的嵌段鏈。作為該等嵌段鏈,可例示均聚合之嵌段鏈、無規共聚合之嵌段鏈、交替共聚合之嵌段鏈等。
對於(甲基)丙烯酸系單體、芳香族乙烯系單體、共軛二烯系單體等,可例示與上述相同者。
本發明之共聚物中之嵌段鏈(A)與嵌段鏈(B)之比例並無特別限制,以重量百分比計為10~40:90~60,較佳為15~35:85~65。又,共聚物中之具有酸性基之重複單元之含有比率為0.5~20重量%,較佳為1~15重量%。
又,使用GPC(Gel Permeation Chromatography,凝膠滲透層析法)測得之重量平均分子量為1,000~200,000,作為分散劑較佳為2,000~100,000,更佳為2,000~50,000。使用GPC測得之重量平均分子量與數量平均分子量之比為1.0~2.5,作為分散劑尤佳為1.0~2.0。
本發明之嵌段共聚物之製造方法並無特別限制,可藉由公知方法製造,例如可藉由活性聚合使單體聚合而製造嵌段共聚物。作為活性聚合,可列舉:活性自由基聚合、活性陰離子聚合,其中更佳為活性陰離子聚合。
製成嵌段共聚物時,於聚合嵌段鏈(A)或(B)之單體後,連續地聚合其他嵌段之單體而嵌段共聚物化,亦可使嵌段鏈(A)與嵌段鏈(B)之各單體分別進行反應而製作嵌段後,鍵結各嵌段。就可嚴密地控制組成或分子量方面而言,較佳為活性陰離子聚合。
於藉由活性陰離子聚合而製造嵌段共聚物之情形時,例如可於添加有添加劑及聚合起始劑之溶劑中滴加所需單體並使之聚合。此時,為了製成所需排列之嵌段聚合物,而以形成所需排列之方式依序滴加各嵌段之單體,使之反應。
於聚合某嵌段之單體,再聚合下一嵌段之單體時,係於前一嵌段之聚合反應結束後,再開始滴加下一嵌段之單體。聚合反應之進行可藉由以氣相層析法或液相色譜法檢測單體之剩餘量而確認。又,亦可於前一嵌段之單體滴加結束後,根據單體或溶劑之種類有所不同而攪拌1分鐘至1小時,其後開始滴加下一嵌段之單體。
於各嵌段中含有複數種單體之情形時,可分別滴加該等,亦可同時滴加。
藉由活性陰離子聚合使具有4級銨鹽基之單體聚合通常較為困難。因此,於藉由活性陰離子聚合製造含有具有4級銨鹽基之重複單元之聚合物之情形時,可聚合成為具有3級胺基之重複單元之原料的單體後,藉由公知方法使3級胺基4級化。作為4級化劑,可列舉:苄基氯、苄基溴、苄基碘等,或氯甲烷、氯乙烷、溴甲烷、碘甲烷等鹵代烷,硫酸二甲酯、硫酸二乙酯、硫酸二正丙酯等一般烷基化劑。
於藉由活性自由基聚合進行製造之情形時,可與活性陰離子聚合同樣地進行反應,亦可於聚合某嵌段之單體後,於聚合下一單體前,暫時純化聚合物而除去前一反應之單體之殘餘,其後聚合下一單體。於較佳為各嵌段之單體彼此不相互混入之情形時,較佳為進行聚合物之純化。
單體之聚合所使用之陰離子聚合起始劑為親核劑,只要具有開始陰離子聚合性單體之聚合的作用,則無特別限制,例如可使用鹼金屬、有機鹼金屬化合物等。
作為鹼金屬,可列舉:鋰、鈉、鉀、銫等。作為有機鹼金屬化合物,可列舉上述鹼金屬之烷基化物、烯丙基化物、芳基化物等,或醯胺鋰化合物等。具體而言,可使用:乙基鋰、正丁基鋰、第二丁基鋰、第三丁基鋰、乙基鈉、聯苯基鋰、萘基鋰、三苯基鋰、萘基鈉、萘基鉀、α-甲基苯乙烯鈉二價陰離子、1,1-二苯基己基鋰、1,1-二苯基-3-甲基戊基鋰、1,4-二鋰-2-丁烯、1,6-二鋰己烷、聚苯乙烯鋰、異丙苯基鉀、異丙苯基銫、二甲基醯胺鋰、二乙基醯胺鋰、二丁基醯胺鋰、二丙基醯胺鋰、二異丙基醯胺鋰、二庚基醯胺鋰、二己基醯胺鋰、二辛基醯胺鋰等。該等陰離子聚合起始劑可單獨使用1種或組合使用2種以上。
陰離子聚合起始劑之使用量相對於所使用之全部陰離子聚合性單體,通常為0.0001~0.2當量,較佳為0.0005~0.1當量。藉由使用該範圍之陰離子聚合起始劑,可產率良好地製造目標聚合物。
關於本發明之聚合溫度,只要為不發生轉移反應或停止反應等副反應且消耗單體完成聚合之溫度範圍,則無特別限制,較佳為於-100℃以上、溶劑沸點以下之溫度範圍內進行。又,單體相對於聚合溶劑之濃度並無特別限制,通常為1~40重量%,較佳為2~15重量%。
本發明之製造方法中使用之聚合溶劑只要為不參與聚合反應且具有與聚合物之相溶性之溶劑,則無特別限制,具體可例示:二乙基醚、四氫呋喃(THF)、二烷、三烷等醚系化合物,四甲基乙二胺、六甲基磷醯三胺等三級胺等極性溶劑,或者己烷或甲苯等脂肪族、芳香族或脂環式烴化合物等非極性溶劑或低極性溶劑。該等溶劑可單獨使用1種或製成2種以上之混合溶劑而使用。於本發明之製造方法中,即便於將非極性溶劑或低極性溶劑與極性溶劑併用之情形時,亦可精度良好地控制聚合,例如相對於全部溶劑,非極性溶劑或低極性溶劑可使用5體積%以上,亦可使用20體積%以上,亦可使用50體積%以上。
於本發明中,亦可視需要而將二乙基鋅等二烷基鋅、二丁基鎂等二烷基鎂、三乙基鋁等有機金屬用作聚合穩定化劑、單體或溶劑之純化劑。
於本發明中,亦可視需要於聚合開始時或聚合過程中添加鹼金屬鹽或鹼土金屬鹽等添加劑。作為此種添加劑,具體可例示:鈉、鉀、鋇、鎂之硫酸鹽、硝酸鹽、硼酸鹽等礦酸鹽或鹵化物,更具體可列舉:鋰或鋇之氯化物、溴化物、碘化物,或硼酸鋰、硝酸鎂、氯化鈉、氯化鉀等。該等中,較佳為鋰之鹵化物,例如氯化鋰、溴化鋰、碘化鋰、氟化鋰,尤佳為氯化鋰。
本發明之共聚物對於以塗料、印刷油墨、噴墨用油墨、彩色濾光片用顏料分散物等中之各種有機顏料之分散為主的金屬氧化物、金屬氫氧化物、金屬碳酸鹽、金屬硫酸鹽、金屬矽酸鹽、金屬氮化物等無機粒子之分散或奈米碳管之分散有用。尤其對於彩色濾光片用顏料分散物中之顏料分散極為有用。
以下,使用實施例詳細說明本發明,但本發明之技術範圍並不限定於該等例示。
於1000 mL燒瓶中添加四氫呋喃(以下有時簡稱為THF)518.26 g、氯化鋰(濃度為4.05重量%之THF溶液)42.09 g、二異丙基胺2.06 g,並冷卻至-60℃。其後,添加正丁基鋰8.50 g(濃度為15.36重量%之己烷溶液),熟化15分鐘。
繼而,滴加甲基丙烯酸2-(二甲基胺基)乙酯(以下有時簡稱為DMMA)44.71 g,並於滴加後繼續反應20分鐘。然後,藉由氣相層析法(以下簡稱為GC)進行測定,確認單體消失。對反應液之一部分進行取樣,以凝膠滲透層析法(以下簡稱為GPC)(流動相為THF,以PMMA為標準)進行分析,結果分子量(Mw)為2860,分子量分佈(Mw/Mn)為1.15。
繼而,以60分鐘滴加甲基丙烯酸甲酯(以下有時簡稱為MMA)28.05 g、甲基丙烯酸正丁酯(以下有時簡稱為nBMA)39.24 g、甲基丙烯酸3-乙基-3-氧雜環丁酯(以下有時簡稱為OXMA)28.03 g之混合液,於滴加後繼續反應30分鐘。藉由GC進行測定,確認單體消失後,添加甲醇3.22 g而停止反應。
將所獲得之共聚物藉由GPC(流動相為DMF,以PMMA為標準)進行分析,結果確認其係分子量(Mw)為9410、分子量分佈(Mw/Mn)為1.17、組成比為DMMA-[MMA/nBMA/OXMA]=32-[20/28/20](重量%)之共聚物。
利用乙酸乙酯稀釋反應液,水洗三次後,蒸餾除去溶劑。將溶劑換為乙酸2-甲氧基-1-甲基乙酯(以下簡稱為PGMEA)後,添加1-乙氧基-2-丙醇(以下簡稱為PGME),並以成為PGMEA/PGME=7/3(w/w)約35重量%溶液之方式進行調整。添加相對於DMMA為0.8當量之苄基氯(以下有時簡稱為BzCl),於70℃下使之反應7小時,藉此進行四級化。
於1000 mL燒瓶中添加THF 535.69 g、氯化鋰(4.05重量%濃度THF溶液)44.41 g、二異丙基胺2.10 g,並冷卻至-60℃。其後,添加正丁基鋰8.53 g(15.36重量%濃度己烷溶液),熟化15分鐘。
繼而,滴加DMMA 45.57 g,並於滴加後繼續反應20分鐘。然後,藉由GC進行測定,確認單體消失。對反應液之一部分進行取樣,並以GPC(流動相為THF,以PMMA為標準)進行分析,結果分子量(Mw)為3220,分子量分佈(Mw/Mn)為1.15。
繼而,以60分鐘滴加MMA 23.83 g、nBMA 39.32 g、OXMA 25.24 g、甲基丙烯酸1-乙氧基乙酯(以下有時簡稱為EEMA)12.74 g之混合液,並於滴加後繼續反應30分鐘。藉由GC進行測定確認單體消失後,添加甲醇3.28 g而停止反應。
將所獲得之共聚物以GPC(流動相為THF,以PMMA為標準)進行分析,結果確認其係分子量(Mw)為10720、分子量分佈(Mw/Mn)為1.11、組成比為DMMA-[MMA/nBMA/OXMA/EEMA]=31-[16/27/17/9](重量%)之共聚物。
利用乙酸乙酯稀釋反應液,水洗三次後,蒸餾除去溶劑。將溶劑換為PGMEA後,添加與聚合物等量之水,並於115℃下熟化7小時。將所獲得之共聚物藉由GPC(流動相為DMF,以PMMA為標準)進行分析,結果確定其係分子量(Mw)為6510、分子量分佈(Mw/Mn)為1.46、組成比為DMMA-[MMA/nBMA/OXMA/MA]=32-[17/28/18/5](重量%)之共聚物。此處,MA係指甲基丙烯酸,EEMA係進行脫保護而獲得者。
繼而,添加PGME,以成為PGMEA/PGME=7/3(w/w)約35重量%溶液之方式進行調整。添加相對於DMMA為0.8當量之BzCl,於70℃下使之反應7小時,藉此進行四級化。
於1000 mL燒瓶中添加THF 521.71 g、氯化鋰(濃度為4.05重量%之THF溶液)46.79 g、二異丙基胺2.14 g,並冷卻至-60℃。其後,添加正丁基鋰8.20 g(濃度為15.36重量%之己烷溶液)並熟化15分鐘。
繼而,滴加DMMA 44.82 g,於滴加後繼續反應20分鐘。然後,藉由GC進行測定,確認單體消失。對反應液之一部分進行取樣,藉由GPC(流動相為THF,以PMMA為標準)進行分析,結果分子量(Mw)為3490,分子量分佈(Mw/Mn)為1.09。
繼而,以60分鐘滴加MMA 28.50 g、nBMA 39.60 g、甲基丙烯酸烯丙酯(以下有時簡稱為AMA)28.48 g之混合液,並於滴加後繼續反應30分鐘。藉由GC進行測定,確認單體消失後,添加甲醇3.38 g而停止反應。
將所獲得之共聚物藉由GPC(流動相為DMF,以PMMA為標準)進行分析,結果確認其係分子量(Mw)為11320、分子量分佈(Mw/Mn)為1.16、組成比為DMMA-[MMA/nBMA/AMA]=32-[20/28/20](重量%)之共聚物。
利用乙酸乙酯稀釋反應液,水洗三次後,蒸餾除去溶劑。將溶劑換為PGMEA後,添加PGME,以成為PGMEA/PGME=7/3(w/w)約35重量%溶液之方式進行調整。添加相對於DMMA為0.8當量之BzCl,於70℃下使之反應7小時,藉此進行四級化。
於1000 mL燒瓶中添加THF 519.56 g、氯化鋰(濃度為4.05重量%之THF溶液)48.46 g、二異丙基胺2.11 g,並冷卻至-60℃。其後,添加正丁基鋰8.47 g(濃度為15.36重量%之己烷溶液),熟化15分鐘。
繼而,滴加DMMA 45.12 g,並於滴加後繼續反應20分鐘。然後,藉由GC進行測定,確認單體消失。對反應液之一部分進行取樣,藉由GPC(流動相為THF,以PMMA為標準)進行分析,結果分子量(Mw)為2800,分子量分佈(Mw/Mn)為1.15。
繼而,以60分鐘滴加MMA 23.86 g、nBMA 39.95 g、AMA 25.57 g、EEMA 12.78 g之混合液,並於滴加後繼續反應30分鐘。藉由GC進行測定,確認單體消失後,添加甲醇3.22 g而停止反應。
將所獲得之共聚物藉由GPC(流動相為THF,以PMMA為標準)進行分析,結果確認其係分子量(Mw)為10470、分子量分佈(Mw/Mn)為1.12、組成比為DMMA-[MMA/nBMA/AMA/EEMA]=31-[16/27/17/9](重量%)之共聚物。
利用乙酸乙酯稀釋反應液,水洗三次後,蒸餾除去溶劑。將溶劑換為PGMEA後,添加與聚合物等量之水,並於115℃下熟化7小時。將所獲得之共聚物藉由GPC(流動相DMF、PMMA標準、管柱変更)進行分析,確認其係分子量(Mw)為6340、分子量分佈(Mw/Mn)為1.50、組成比為DMMA-[MMA/nBMA/AMA/MA]=32-[17/28/18/5](重量%)之共聚物。此處,MA與上文含義相同。
繼而,添加PGME,以成為PGMEA/PGME=7/3(w/w)約35重量%溶液之方式進行調整。添加相對於DMMA為0.8當量之BzCl,於70℃下使之反應7小時,藉此進行四級化。
於1000 mL燒瓶中添加THF 521.03 g、氯化鋰(3.59重量%濃度THF溶液)48.20 g、二異丙基胺2.11 g,並冷卻至-60℃。其後,添加正丁基鋰8.67 g(濃度為15.36重量%之己烷溶液),熟化15分鐘。
繼而,滴加DMMA 44.75 g,並於滴加後繼續反應20分鐘。然後,藉由GC進行測定,確認單體消失。對反應液之一部分進行取樣,藉由GPC(流動相為THF,以PMMA為標準)進行分析,結果分子量(Mw)為3060,分子量分佈(Mw/Mn)為1.09。
繼而,以60分鐘滴加MMA 27.80 g、nBMA 39.31 g、甲基丙烯酸四氫糠酯(以下有時簡稱為THFMA)28.15 g之混合液,並於滴加後繼續反應30分鐘。藉由GC進行測定,確認單體消失後,添加甲醇3.29 g而停止反應。
將所獲得之共聚物藉由GPC(流動相為DMF,以PMMA為標準)進行分析,結果確認其係分子量(Mw)為9020、分子量分佈(Mw/Mn)為1.12、組成比為DMMA-[MMA/nBMA/THFMA]=32-[20/28/20](重量%)之共聚物。
利用乙酸乙酯稀釋反應液,水洗三次後,蒸餾除去溶劑。將溶劑換為PGMEA後,添加PGME,以成為PGMEA/PGME=7/3(w/w)約35重量%溶液之方式進行調整。添加相對於DMMA為0.8當量之BzCl,於70℃下使之反應7小時,藉此進行四級化。
於1000 mL燒瓶中添加THF 560.41 g、氯化鋰(濃度為3.63重量%之THF溶液)11.32 g、二苯乙烯3.27 g,並冷卻至-60℃。其後,添加正丁基鋰7.28 g(15.36重量%濃度己烷溶液),熟化15分鐘。
繼而,以60分鐘滴加MMA 33.69 g、nBMA 15.80 g、甲氧基聚乙二醇單甲基丙烯酸酯(PME-200日油股份有限公司製造)(以下有時簡稱為PEGMA)8.66 g、AMA 23.15 g之混合液,並於滴加後繼續反應20分鐘。然後,藉由GC進行測定,確認單體消失。對反應液之一部分進行取樣,並以GPC(流動相為DMF,以PMMA為標準)進行分析,結果分子量(Mw)為7300,分子量分佈(Mw/Mn)為1.08。
繼而,滴加DMMA 40.30 g,並於滴加後繼續反應30分鐘。然後,藉由GC進行測定確認單體消失後,添加甲醇3.65 g而停止反應。
將所獲得之共聚物藉由GPC(流動相為DMF,以PMMA為標準)進行分析,結果確認其係分子量(Mw)為9430、分子量分佈(Mw/Mn)為1.10、組成比為DMMA-[MMA/nBMA/PEGMA/AMA]=33-[28/13/7/19](重量%)之共聚物。
利用乙酸乙酯稀釋反應液,水洗三次後,蒸餾除去溶劑。將溶劑換為PGMEA後,添加PGME,以成為PGMEA/PGME=7/3(w/w)約35重量%溶液之方式進行調整。添加相對於DMMA為0.8當量之BzCl,於70℃下使之反應7小時,藉此進行四級化。
於1000 mL燒瓶中添加THF 617.82 g、氯化鋰(濃度為3.63重量%之THF溶液)12.44 g、二苯乙烯3.39 g,並冷卻至-60℃。其後,添加正丁基鋰7.82 g(15.36重量%濃度己烷溶液),熟化15分鐘。
繼而,以60分鐘滴加MMA 40.24 g、nBMA 18.70 g、PEGMA 10.17 g、OXMA 27.30 g之混合液,並於滴加後繼續反應20分鐘。然後,藉由GC進行測定,確認單體消失。對反應液之一部分進行取樣,藉由GPC(流動相為DMF,以PMMA為標準)進行分析,結果分子量(Mw)為5870,分子量分佈(Mw/Mn)為1.06。
繼而,滴加DMMA 47.38 g,並於滴加後繼續反應30分鐘。然後,藉由GC進行測定,確認單體消失後,添加甲醇3.86 g而停止反應。
將所獲得之共聚物藉由GPC(流動相為DMF,以PMMA為標準)進行分析,結果確認其係分子量(Mw)為7640、分子量分佈(Mw/Mn)為1.07、組成比為DMMA-[MMA/nBMA/PEGMA/OXMA]=33-[28/13/7/19](重量%)之共聚物。
利用乙酸乙酯稀釋反應液,水洗三次後,蒸餾除去溶劑。將溶劑換為PGMEA後,添加PGME,以成為PGMEA/PGME=7/3(w/w)約35重量%溶液之方式進行調整。添加相對於DMMA為0.8當量之BzCl,於70℃下使之反應7小時,藉此進行四級化。
於1000 mL燒瓶中添加THF 626.56 g、氯化鋰(3.63重量%濃度THF溶液)10.26 g、二苯乙烯3.23 g,並冷卻至-60℃。其後,添加正丁基鋰6.95 g(15.36重量%濃度己烷溶液),熟化10分鐘。
繼而,以30分鐘滴加MMA 26.52 g、nBMA 62.13 g之混合液,並於滴加後繼續反應15分鐘。然後,藉由GC進行測定,確認單體消失。對反應液之一部分進行取樣,藉由GPC(流動相為DMF,以PMMA為標準)進行分析,結果分子量(Mw)為3840,分子量分佈(Mw/Mn)為1.04。
繼而,滴加DMMA 42.19 g,並於滴加後繼續反應30分鐘。然後,藉由GC進行測定確認單體消失後,添加甲醇3.79 g而停止反應。
將所獲得之共聚物藉由GPC(流動相為DMF,以PMMA為標準)進行分析,結果確認其係分子量(Mw)為5770、分子量分佈(Mw/Mn)為1.08、組成比為DMMA-[MMA/nBMA]=32-[20/48](重量%)之共聚物。
利用乙酸乙酯稀釋反應液,水洗三次後,蒸餾除去溶劑。將溶劑換為PGMEA後,添加PGME,以成為PGMEA/PGME=7/3(w/w)約35重量%溶液之方式進行調整。添加相對於DMMA為0.8當量之BzCl,於70℃下使之反應7小時,藉此進行四級化。
將上述實施例1~5及比較例1~3中所獲得之共聚物溶液用作顏料分散劑,製備以下之顏料分散液。
使用15質量份之C.I.顏料紅177作為顏料,使用上述實施例1~5及比較例1~3中所獲得之任一共聚物溶液11.5質量份作為顏料分散劑,使用丙二醇單甲基醚乙酸酯55質量份及二乙二醇甲基乙基醚18.5質量份作為溶劑,利用珠磨機混合、分散12小時,而製備顏料分散液。
其結果為,使用實施例1~5中所獲得之共聚物溶液所製備之顏料分散液顯示鮮豔之紅色,且於40℃下保管1週後亦顯示與剛製備後相同之黏度值。另一方面,使用比較例1~3中所獲得之共聚物所製備之顏料分散液顯示鮮豔之紅色,但於40℃下保管1週後,黏度值與剛製備後對比增加30%。
本發明之共聚物於顏料分散性方面優異,例如可用作製造光學彩色濾光片時所使用之彩色濾光片用顏料分散劑。
Claims (4)
- 一種共聚物,其特徵在於:含有嵌段鏈(A)與嵌段鏈(B),該嵌段鏈(A)含有選自由具有3級胺基之重複單元及具有4級銨鹽基之重複單元所組成之群中之至少1種重複單元,該嵌段鏈(B)含有下述式(I)所表示之重複單元與下述式(II)所表示之重複單元,[化1]
- 如請求項1之共聚物,其中選自由具有3級胺基之重複單元及具有4級銨鹽基之重複單元所組成之群中之至少1種重複單元為下述式(III)所表示之重複單元,[化3]
- 如請求項1或2之共聚物,其重量平均分子量(Mw)與數量平均分子量(Mn)之比(Mw/Mn)為1.01~2.00。
- 如請求項1至3中任一項之共聚物,其重量平均分子量(Mw)為2000~50000。
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---|---|---|---|---|
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JP2013087232A (ja) * | 2011-10-20 | 2013-05-13 | Nippon Soda Co Ltd | 新規共重合体 |
JP5853576B2 (ja) * | 2011-10-20 | 2016-02-09 | Jsr株式会社 | カラーフィルタ用着色組成物、カラーフィルタ及び表示素子 |
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JPWO2016170760A1 (ja) * | 2015-04-21 | 2017-12-07 | 日本曹達株式会社 | セラミックス微粒子分散剤、セラミックス微粒子分散組成物、およびセラミックス微粒子分散シート |
EP3147335A1 (en) * | 2015-09-23 | 2017-03-29 | BYK-Chemie GmbH | Colorant compositions containing wettting and/or dispersing agents with low amine number |
JP6946681B2 (ja) * | 2017-03-16 | 2021-10-06 | 東洋インキScホールディングス株式会社 | カラーフィルタ用着色組成物及びカラーフィルタ |
CN113748171B (zh) * | 2019-04-26 | 2022-12-13 | 毕克化学有限公司 | 用于制备彩色滤光片的组合物 |
JP7212605B2 (ja) * | 2019-11-12 | 2023-01-25 | 大日精化工業株式会社 | 導電性ポリマー及び導電性ポリマー組成物 |
CN114213609A (zh) * | 2021-12-27 | 2022-03-22 | 江苏铁锚玻璃股份有限公司 | 调光膜染料用分散剂的合成方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000169531A (ja) * | 1998-12-03 | 2000-06-20 | Kansai Paint Co Ltd | ブロック共重合体の製造方法 |
JP2003227901A (ja) * | 2002-02-01 | 2003-08-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 反射防止膜とその製造方法ならびに画像表示装置 |
JP2007217664A (ja) * | 2006-01-03 | 2007-08-30 | Byk Chem Gmbh | 異なるイオン密度の3つのセグメントを含むコポリマー、その製造プロセス、およびその使用 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03247672A (ja) * | 1990-02-26 | 1991-11-05 | Nippon Oil & Fats Co Ltd | 紫外線硬化型被覆組成物及び紫外線硬化塗膜の作成方法 |
US5085698A (en) * | 1990-04-11 | 1992-02-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Aqueous pigmented inks for ink jet printers |
US5272201A (en) * | 1990-04-11 | 1993-12-21 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Amine-containing block polymers for pigmented ink jet inks |
DE69325401T2 (de) * | 1992-02-20 | 1999-11-25 | Du Pont | Dreiblock-Polymer Dispersionsmittel enthaltende Wasserdispersionen |
US5912280A (en) * | 1996-12-27 | 1999-06-15 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Ink jet inks containing emulsion-polymer additives to improve water-fastness |
JPH11269418A (ja) | 1997-12-29 | 1999-10-05 | E I Du Pont De Nemours & Co | ブロックコポリマ―分散剤含有インキジェット用水性インキ組成物 |
CA2376006C (en) | 1999-06-03 | 2005-08-09 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Block copolymers prepared by controlled radical polymerization and their use as flow modifiers |
US6197883B1 (en) * | 1999-06-03 | 2001-03-06 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Thermosetting coating compositions containing flow modifiers prepared by controlled radical polymerization |
JP4133267B2 (ja) | 2002-11-29 | 2008-08-13 | 三菱化学株式会社 | 顔料分散組成物及びこれを用いたカラーフィルター |
JP4368135B2 (ja) | 2003-03-24 | 2009-11-18 | 大日本印刷株式会社 | 着色レジスト用顔料分散液、感光性着色組成物、及び、カラーフィルター |
DE102006048144A1 (de) | 2006-10-10 | 2008-04-17 | Byk-Chemie Gmbh | Netz- und Dispergiermittel basierend auf Mischungen von strukturierten Copolymeren |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000169531A (ja) * | 1998-12-03 | 2000-06-20 | Kansai Paint Co Ltd | ブロック共重合体の製造方法 |
JP2003227901A (ja) * | 2002-02-01 | 2003-08-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 反射防止膜とその製造方法ならびに画像表示装置 |
JP2007217664A (ja) * | 2006-01-03 | 2007-08-30 | Byk Chem Gmbh | 異なるイオン密度の3つのセグメントを含むコポリマー、その製造プロセス、およびその使用 |
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