TWI449673B - 含銅氧化物的形成方法 - Google Patents

Description

含銅氧化物的形成方法

本發明是有關於一種混合物的形成方法，且特別是有關於一種含銅氧化物的形成方法。

目前主要的含銅氧化物之製作方法有下列三種方式。第一種方式是將含銅離子酸性或鹼性溶液。提供一另一種可還原銅之溶液，如氫氧化鈉、碳酸鈉、碳酸氫銨、氨水、尿素或硼氫化鈉等，同時倒入一容置槽中，並透過攪拌的方式進行混合。第二種方式是將含銅離子酸性或鹼性溶液倒入另一種可還原銅之溶液中，並透過攪拌的方式進行混合。第三種方式是將另一種離子溶液倒入含銅離子酸性或鹼性溶液中，並透過攪拌的方式進行混合。然而，這三種含銅氧化物的製作方式於進行混合的過程中，混合物的酸鹼濃度值會不斷的改變，易導致所形成的含銅氧化物產生濃度、顆粒大小與成份不均的現象。

本發明提供一種含銅氧化物的形成方法，其在製作的過程中可規則性且連續性地混合含銅離子酸性或鹼性溶液及可還原銅之溶液，如氫氧化鈉、碳酸鈉、碳酸氫銨、氨水、尿素或硼氫化鈉等，以達成濃度、溫度、速度均一化之效果。

本發明提出一種含銅氧化物的形成方法，其包含下述步驟。提供一靜態型混合攪拌裝置。靜態性混合攪拌裝置具有一第一流體注入口、一第二流體注入口、一攪拌本體以及一流體輸出口，其中第一流體注入口、第二流體注入口、攪拌本體以及流體輸出口相互連通。提供一含銅離子酸性或鹼性溶液。提供可還原銅之溶液。分別將含銅離子酸性或鹼性溶液及可還原銅之溶液注入第一流體注入口以及第二流體注入口，並透過攪拌本體攪拌含銅離子酸性或鹼性溶液及可還原銅之溶液，而於流體輸出口形成一含銅氧化物。

在本發明之一實施例中，上述之含銅離子酸性或鹼性溶液包括硫酸銅溶液、氯化銅、氨銅或醋酸銅。

在本發明之一實施例中，上述之可還原銅之溶液包括氫氧化鈉溶液、碳酸鈉溶液、碳酸氫銨、氨水、尿素或硼氫化鈉。

在本發明之一實施例中，上述之含銅氧化物包括氧化銅、氧化亞銅或鹼性碳酸銅。

在本發明之一實施例中，上述之含銅氧化物的形成方法更包括提供一另一種可還原銅之溶液，另一種可還原銅之溶液包括氫氧化鈉溶液、碳酸鈉溶液、碳酸氫銨、氨水、尿素或硼氫化鈉，其中靜態型混合攪拌裝置更包括一第三流體注入口，分別將含銅離子酸性或鹼性溶液、可還原銅之溶液及另一種可還原銅之溶液注入第一流體注入口以及第二流體注入口與第三流體注入口。

基於上述，本發明之含銅氧化物的形成方法，是將含銅離子酸性或鹼性溶液及可還原銅之溶液注入於靜態型混合攪拌裝置，透過靜態型混合攪拌裝置的攪拌本體規則性且連續性地混合含銅離子酸性或鹼性溶液及可還原銅之溶液，以形成濃度均一化的含銅氧化物。

為讓本發明之上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。

圖1為本發明之一種含銅氧化物的形成方法的剖面示意圖。請參考圖1，依照本實施例的含銅氧化物的形成方法，首先，提供一靜態型混合攪拌裝置110。在本實施例中，靜態性混合攪拌裝置110具有一第一流體注入口112、一第二流體注入口114、一攪拌本體116以及一流體輸出口118，其中第一流體注入口112、第二流體注入口114、攪拌本體116以及流體輸出口118相互連通。

接著，提供一含銅離子酸性或鹼性溶液F1，其中含銅離子酸性或鹼性溶液F1例如是硫酸銅溶液、氯化銅、氨銅或醋酸銅。

接著，提供一可還原銅之溶液F2，其中可還原銅之溶液F2例如氫氧化鈉、碳酸鈉、碳酸氫銨、氨水、尿素或硼氫化鈉等。

之後，分別將含銅離子酸性或鹼性溶液F1及可還原銅之溶液F2注入靜態性混合攪拌裝置110的第一流體注入口112以及第二流體注入口114，並透過攪拌本體116攪拌含銅離子酸性或鹼性溶液F1及可還原銅之溶液F2，而於流體輸出口118形成一含銅氧化物M1。於此，含銅氧化物M1例如是氧化銅、氧化亞銅或鹼性碳酸銅。至此，已完成含銅氧化物M1的製作

需說明的是，攪拌本體116中可具有多個阻擋片(未繪示)或攪拌葉片(未繪示)，含銅離子酸性或鹼性溶液F1及可還原銅之溶液F2可透過這些阻擋片或攪拌葉片的規則性且連續性地攪拌而混合成濃度均一性的含銅氧化物M1。其中，於攪拌混合的過程中，可使位於攪拌本體116中的含銅離子酸性或鹼性溶液F1及可還原銅之溶液F2之混合物的濃度、溫度、速度均呈現均一化之效果。如此一來，於流體輸出口118所產生的含銅氧化物M1可具有較佳的濃度均一性。

以下將再利用一實施例來說明含銅氧化物的形成方法。在此必須說明的是，下述實施例沿用前述實施例的元件標號與部分內容，其中採用相同的標號來表示相同或近似的元件，並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施例，下述實施例不再重複贅述。

圖2為本發明之另一種含銅氧化物的形成方法的剖面示意圖。請參考圖2，本實施例之含銅氧化物的形成方法相似於圖1I之含銅氧化物的形成方法，差異之處僅在於：本實施例更包括提供一另一種可還原銅之溶液，例如氫氧化鈉、碳酸鈉、碳酸氫銨、氨水、尿素或硼氫化鈉等，而靜態型混合攪拌裝置110a可包括一第三流體注入口119，其中第三流體注入口119與第一流體注入口112、第二流體注入口114、攪拌本體116以及流體輸出口118相互連通。並且，分別將含銅離子酸性或鹼性溶液F1、可還原銅之溶液F2以及另一種可還原銅之溶液F3注入第一流體注入口112、第二流體注入口以及第三流體注入口119，並透過攪拌本體116攪拌含銅離子酸性或鹼性溶液F1、可還原銅之溶液F2及另一種可還原銅之溶液F3，而於流體輸出口118形成一含銅氧化物M2。至此，已完成含銅氧化物M2的製作。

綜上所述，本發明之含銅氧化物的形成方法，是將含銅離子酸性或鹼性溶液及可還原銅之溶液注入於靜態型混合攪拌裝置，透過靜態型混合攪拌裝置的攪拌本體規則性且連續性地混合含銅離子酸性或鹼性溶液及可還原銅之溶液，以於混合的過程中能達到濃度、溫度、速度均呈現均一化之效果，而形成濃度、顆粒大小及成份均一化的含銅氧化物。

雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作些許之更動與潤飾，故本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

110、110a．．．靜態型混合攪拌裝置

112．．．第一流體注入口

114．．．第二流體注入口

116．．．攪拌本體

118．．．流體輸出口

119．．．第三流體注入口

F1．．．含銅離子酸性或鹼性溶液

F2．．．可還原銅之溶液

F3．．．另一種可還原銅之溶液

M1、M2．．．含銅氧化物

圖1為本發明之一種含銅氧化物的形成方法的剖面示意圖。

圖2為本發明之另一種含銅氧化物的形成方法的剖面示意圖。

110．．．靜態型混合攪拌裝置

112．．．第一流體注入口

114．．．第二流體注入口

116．．．攪拌本體

118．．．流體輸出口

F1．．．含銅離子酸性或鹼性溶液

F2．．．可還原銅之溶液

M1．．．含銅氧化物

Claims (5)

1. 一種含銅氧化物的形成方法，包括：提供一靜態型混合攪拌裝置，該靜態性混合攪拌裝置具有一第一流體注入口、一第二流體注入口、一攪拌本體以及一流體輸出口，其中該第一流體注入口、該第二流體注入口、該攪拌本體以及該流體輸出口相互連通；提供一含銅離子酸性或鹼性溶液；提供一可還原銅之溶液；以及分別將該含銅離子酸性或鹼性溶液及該可還原銅之溶液注入該第一流體注入口以及該第二流體注入口，並透過該攪拌本體攪拌該含銅離子酸性或鹼性溶液及該可還原銅之溶液，而於該流體輸出口形成一含銅氧化物。
2. 如申請專利範圍第1項所述之含銅氧化物的形成方法，其中該含銅離子酸性或鹼性溶液包括硫酸銅溶液、氯化銅、氨銅或醋酸銅。
3. 如申請專利範圍第1項所述之含銅氧化物的形成方法，其中該可還原銅之溶液包括氫氧化鈉、碳酸鈉、碳酸氫銨、氨水、尿素或硼氫化鈉。
4. 如申請專利範圍第1項所述之含銅氧化物的形成方法，其中該含銅氧化物包括氧化銅、氧化亞銅或鹼性碳酸銅。
5. 如申請專利範圍第1項所述之含銅氧化物的形成方法，更包括提供另一種可還原銅之溶液，該另一種可還原銅之溶液包括氫氧化鈉、碳酸鈉、碳酸氫銨、氨水、尿素或硼氫化鈉，其中該靜態型混合攪拌裝置包括一第三流體注入口，而分別將該含銅離子酸性或鹼性溶液、該可還原銅之溶液以及該另一種可還原銅之溶液注入該第一流體注入口以及該第二流體注入口與該第三流體注入口。