TWI436253B - 光學式觸控裝置及其運作方法 - Google Patents

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TWI436253B
TWI436253B TW098124115A TW98124115A TWI436253B TW I436253 B TWI436253 B TW I436253B TW 098124115 A TW098124115 A TW 098124115A TW 98124115 A TW98124115 A TW 98124115A TW I436253 B TWI436253 B TW I436253B
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William Wang
Chung Cheng Chou
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Raydium Semiconductor Corp
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Description

光學式觸控裝置及其運作方法
本發明係與觸控裝置有關,特別是關於一種能夠有效減少光發射器/光接收器之數目及所佔空間以提高感測光線之分布密度的光學式觸控裝置及其運作方法。
一般而言,常見的觸控式裝置包含有電阻式觸控裝置、電容式觸控裝置以及光學式觸控裝置等類型。其中,光學式觸控裝置由於具有透光性佳之特性,已成為有別於傳統的電阻式觸控裝置與電容式觸控裝置之外的另一常用技術。
然而,傳統的光學式觸控裝置必須在面板的四周設置許多光源發射器及光接收器以進行觸控點的偵測,如圖一所示,傳統的光學式觸控裝置1包含面板14、光發射器10a~10d及光接收器12a~12d。由於這些光發射器10a~10d與光接收器12a~12d本身所佔的體積不小,將造成整個光學式觸控裝置1額外的空間需求,也無法真正達到高解析度的觸控偵測,再加上當其數目一多時,總生產成本亦相當可觀。
近來,雖有人將三角定位量測法應用於光學觸控技術中,以進行觸控點的偵測。透過此一方式雖提升觸控輸入的解析度,並可減少光源發射器及光接收器的數量,但仍無法解決額外的空間需求之問題,反而隨之帶來繁複計算及邊框反射條需精確定位等問題。
因此,本發明提出一種光學式觸控裝置及其運作方法, 以解決上述問題。
根據本發明之第一具體實施例為一種光學式觸控裝置。於此實施例中,該光學式觸控裝置包含輸入介面、光學模組、光接收模組及處理模組。該輸入介面包含一表面及位於該表面下方之一光傳遞單元;該光學模組及該光接收模組係分別設置於該輸入介面之一第一側及相對於該第一側之一第二側。該光學模組接收一入射光束並根據該入射光束產生彼此平行的複數道感測光。當該複數道感測光通過該輸入介面之該光傳遞單元射向該光接收模組時,該光接收模組根據其接收該複數道感測光的接收情形產生一感測結果。該處理模組根據該感測結果判定形成於該表面上之一觸控點位置。
根據本發明之第二具體實施例為一種光學式觸控裝置運作方法。於此實施例中,該光學式觸控裝置包含一輸入介面、一光學模組、一光接收模組及一處理模組,該輸入介面包含一表面及位於該表面下方之一光傳遞單元,該光學模組及該光接收模組分別設置於該輸入介面之一第一側及相對於該第一側之一第二側。該方法包含下列步驟:(a)該光學模組接收一入射光束並根據該入射光束產生彼此平行的複數道感測光;(b)當該複數道感測光通過該輸入介面之該光傳遞單元射向該光接收模組時,該光接收模組根據其接收該複數道感測光的接收情形產生一感測結果;(c)該處理模組根據該感測結果判定形成於該表面上之一觸控點位置。
關於本發明之優點與精神可以藉由以下的發明詳述及所附圖式得到進一步的瞭解。
根據本發明之第一具體實施例為一種光學式觸控裝置。於此實施例中,該光學式觸控裝置可應用於液晶顯示裝置或其他顯示裝置,同時具有顯示畫面與觸控輸入之功能,但不以此為限。請參照圖二及圖三,圖二及圖三係分別繪示該光學式觸控裝置之功能方塊圖及外觀示意圖。如圖二所示,光學式觸控裝置2包含輸入介面20、光源發射模組22、光學模組24、光接收模組26及處理模組28。其中,光接收模組26耦接至處理模組28。如圖三所示,光學模組24及光接收模組26係分別設置於輸入介面20之左右兩側;光源發射模組22係設置於光學模組24之外側。當光源發射模組22發射一入射光束進入光學模組24時,該入射光束於光學模組24內部經過多次反射後,光學模組24將會向右方發射出複數道彼此平行的感測光。
接著,該複數道平行感測光將會通過輸入介面20而射向光接收模組26。由於該複數道平行感測光於輸入介面20內進行傳遞時,很可能會受到物體(例如手指)之觸碰而改變其傳遞狀態,連帶地導致光接收模組26接收感測光之情形亦產生變化。因此,光接收模組26即可根據其接收該複數道感測光之接收情形產生一感測結果。最後,處理模組28再根據該感測結果判定形成於輸入介面20之表面的觸控點位置,以達到觸控點判讀之目的。
於實際應用中,光源發射模組22設置於光學模組24之外側的位置並無一定之限制,只要光源發射模組22所發射之 入射光束能夠順利地通過光學模組24之入口240進入光學模組24即可。也就是說,光源發射模組22所發射之入射光束無論是從入口240外側的哪個方向射入均可。請參照圖四(A)~(C),無論是如圖四(A)所示,入射光束Lin由入口240外側的左方射入;或如圖四(B)所示,入射光束Lin由入口240外側的右方射入;抑或如圖四(C)所示,入射光束Lin由入口240外側的正前方射入,並且光源發射模組22的光源種類及數目亦無一定之限制,端視實際需求而定。
若以圖四(A)為例,當光源發射模組22將入射光束Lin從光學模組24之入口240外側的左方射入光學模組24後,由於光學模組24內的光傳遞層24a之折射率係經過適當的設計而與外界介質的折射率之間存在著一折射率差異,使得入射光束Lin射至光傳遞層24a與外界介質交界的右側表面之E1時,將會分別產生向外穿透的第一方向感測光L1以及向內反射的反射光R1。接著,當反射光R1被反射至光傳遞層24a的左側表面時,左側表面將會反射反射光R1以形成反射光R2。同樣地,當反射光R2射至右側表面的E2時,將會分別產生向外穿透的第一方向感測光L2以及向內反射的反射光R3。至於右側表面的E3及E4處亦將會分別發射出第一方向感測光L3及L4,其餘依此類推。因此,光學模組24即可透過入射光束Lin於光傳遞層24a內之多次反射而發射出彼此平行之複數道第一方向感測光。同理,由於圖四(B)所示之光學模組24內的光傳遞層24a之折射率亦經過適當的設計而與外界介質的折射率之間存在著一折射率差異。圖四(B)與圖四(A)不同的是,當入射光束Lin射入光傳遞層24a時,係先射至光傳遞層24a的左側表面,所以左側表面將入射光束Lin反 射成反射光R1後,再射至右側表面的E1,以分別產生向外穿透的第一方向感測光L1及向內反射的反射光R2。其餘依此類推,不另行贅述。
假設入射光束Lin係從入口240外側的正前方射入,如圖四(C)所示,假設光學模組24包含相鄰的光傳遞層24a及光傳遞層24b,並且光傳遞層24a與光傳遞層24b具有不同的折射率。光傳遞層24a之左側表面設置有輔助反射單元242,用以反射入射光束Lin以形成反射光R1至光傳遞層24a之右側表面的E1。值得注意的是,輔助反射單元242之數目、形狀及設置的位置視實際需求而定,並無一定之限制。
由於光傳遞層24a的折射率與外界介質的折射率之間存在著一折射率差異,所以在E1將會分別產生向外穿透的第一方向感測光L1以及向內反射的反射光R2。當反射光R2射至光傳遞層24a之左側表面時,將會分別產生射入光傳遞層24b內的折射光T1及射向光傳遞層24a之右側表面的E2之反射光R3。當反射光R3射至光傳遞層24a之右側表面的E2時,將會分別產生向外穿透的第一方向感測光L2及向內反射的反射光R4。此外,當折射光T1進入光傳遞層24b射至光傳遞層24b的左側表面時,折射光T1將會被反射而形成反射光T2,當反射光T2射至光傳遞層24b的右側表面時,將會分別產生射入光傳遞層24a的折射光T3及反射光T4。當折射光T3射至光傳遞層24a之右側表面的E3時,將會分別產生向外穿透的第一方向感測光L3及向內反射的反射光T5。其餘依此類推,不另行贅述。
由圖四(C)之例子可知,透過具有不同折射率之第一光傳遞層24a及第二光傳遞層24b的作用,的確能夠有效提高光學模組24所發射之平行感測光的分布密度(例如第一方向感測光L3),以實現高解析度之觸控判讀。值得注意的是,光學模組24所包含之光傳遞層的數目及折射率端視實際需求而定,並無一定之限制。
實際上,為了達到更好的聚光效果,光學模組24可進一步包含聚光單元及凹陷部。舉例而言,如圖五(A)所示,光源發射模組22將入射光束Lin從光學模組24之入口240外側射入光學模組24內,於此例中,入射光束Lin為一擴散光束且包含有複數道入射光。當該複數道入射光射至光傳遞層24a之左側表面時,其中某道入射光Lin剛好射至左側表面的凹陷部244上。請參照圖五(B),圖五(B)係繪示凹陷部244之詳細示意圖。如圖五(B)所示,當入射光Lin射至凹陷部244時,凹陷部244將會對入射光Lin進行兩次反射以形成感測光Lout。接著,當位於光傳遞層24a之右側表面的聚光單元246接收到感測光Lout及其鄰近的幾道感測光後,聚光單元246將會聚焦這些感測光以形成第一方向感測光L。於實際應用中,聚光單元246可以是光學透鏡或任何具有聚光功能之裝置,至於凹陷部244之形狀及數目則視實際上凹陷部244與聚光單元246之間的相對位置而定,並無一定之限制。
接下來,將就光學模組24所發射出之複數道平行感測光通過輸入介面20傳遞至光接收模組26的傳遞狀態進行探討。如圖六(A)所示,假設感測光Lin於光傳遞單元204的傳遞路徑中並未遇到任何輸入介面20之表面的開孔,則感測光 Lin即可被光接收模組26接收,並據以產生一感測結果。當感測光Lin射至輸入介面20之表面時,部分的感測光Lin可能會通過輸入介面20之表面而射出,但其強度可能較弱。
至於圖六(B)~(F)中之輸入介面20的表面均設置有調整單元202,實際上,調整單元202可以是開孔(如圖六(B)及(C)所示)、凸出部(如圖六(D)所示)、凹陷部(如圖六(E)所示)、與輸入介面20表面厚度不同的材料層(如圖六(F)所示),並無一定之限制。舉例而言,如圖六(B)所示,設置於輸入介面20表面的調整單元202為一開孔,假設感測光Lin於光傳遞單元204的傳遞路徑中剛好遇到輸入介面20之表面的調整單元(開孔)202,由於圖六(B)的調整單元202並未被使用者的手指或其他物體遮住,因此,感測光Lin將會從調整單元202射出輸入介面20外,導致光接收模組26無法接收到感測光Lin。假設使用者之手指6剛好遮住了調整單元202,如圖六(C)所示,當感測光Lin射至調整單元202時,由於調整單元202已經被手指6遮住,所以感測光Lin即能夠繼續於光傳遞單元204內傳遞而順利地抵達光接收模組26並被光接收模組26所接收,並據以產生感測結果。值得注意的是,除了上述運作模式外,另一種可能的運作模式則是:於輸入介面20進行傳遞之感測光Lin大部分情況下均可被光接收模組26接收,僅有當感測光Lin射至輸入介面20表面的調整單元202時才無法傳遞至光接收模組26。故本發明之光學式觸控裝置2的運作模式並無一定之限制,可視實際需求而調整。
透過圖六(B)及(C)之例子可知,由於輸入介面20能夠透過物體是否遮住相對應之調整單元(開孔)202使得於光傳遞單 元204內傳遞的感測光產生變化,故可作為觸控資料輸入之應用。舉例而言,如圖七所示,假設光學模組24總共發射40道平行的感測光L1~L40於輸入介面20之表面下方的光傳遞單元進行傳遞;輸入介面20之表面設置有40個調整單元P1~P40,分成第一組調整單元P1~P10、第二組調整單元P11~P20、第三組調整單元P21~P30及第四組調整單元P31~P40;調整單元P1~P40分別對應於平行感測光L1~L40;光接收模組26包含40個接收單元R1~R40,分別用以接收感測光L1~L40。若以第一組調整單元P1~P10為例,由於調整單元P1~P10分別對應於平行感測光L1~L10,並且每一個調整單元P1~P10與光接收模組26之間的距離均不相同,因此,無論手指或任意物體遮住第一組調整單元P1~P10中的一個或多個調整單元,甚至遮住的多個調整單元屬於不同組(例如手指同時遮住調整單元P10及P20),處理模組28均能根據光接收模組26所產生之不同感測結果準確地進行觸控點的判讀。至於第二組調整單元P11~P20、第三組調整單元P21~P30及第四組調整單元P31~P40則依此類推。
如圖七所示,於此實施例中,假設使用者的手指遮住第一組調整單元P1~P10中之調整單元P9,代表調整單元P9所對應的感測光L9能夠順利地抵達光接收模組26而分別被光接收模組26之接收單元R9所接收。至於其餘的調整單元P1~P8及P10~P40均未被遮住,因此,相對應的感測光L1~L8及L10~L40均會從各自對應的調整單元射出輸入介面20外,而無法被光接收模組26接收。光接收模組26即根據接收單元R1~R40是否接收到各自相對應之感測光L1~L40而產生感測結果,以提供處理模組28進行觸控點的判讀。值得 注意的是,上述例子均以光學模組24及光接收模組26分別設置於輸入介面20之左右兩側之情形為例。然而,於實際應用中,光學模組24及光接收模組26亦可分別設置於輸入介面20之上下兩側。此外,輸入介面20可於其左右兩側設置第一光學模組及第一光接收模組,並於其上下兩側亦設置有第二光學模組及第二光接收模組,以提升光學式觸控裝置2之觸控偵測速度及準確度,並可適用於圖六(A)中輸入介面20表面未設置調整單元的情形,但不以此為限。
根據本發明之第二具體實施例為一種光學式觸控裝置運作方法。於此實施例中,該光學式觸控裝置包含一輸入介面、一第一光學模組、一第一光接收模組及一處理模組,該輸入介面包含一表面及位於該表面下方之一光傳遞單元,該第一光學模組及該第一光接收模組分別設置於該輸入介面之一第一側及相對於該第一側之一第二側。如圖八所示,首先,於步驟S10中,該光源發射模組發射一第一入射光束至該光學模組內。接著,於步驟S12中,該第一光學模組根據該第一入射光束產生並射出彼此平行的複數道第一方向感測光。當該複數道第一方向感測光通過該輸入介面之該光傳遞單元射向該第一光接收模組時,於步驟S14中,該第一光接收模組根據其接收該複數道第一方向感測光的接收情形產生一第一感測結果。最後,於步驟S16中,該處理模組根據該第一感測結果判定形成於該表面上之一觸控點位置。
於實際應用中,為了實現高解析度之二維觸控點偵測,該光學式觸控裝置可進一步於該輸入介面之一第三側及相對於該第三側之一第四側設置有一第二光學模組及一第二光接 收模組,該方法更包含下列步驟:該第二光學模組接收一第二入射光束並根據該第二入射光束產生並射出彼此平行的複數道第二方向感測光,其中該複數道第二方向感測光與該複數道第一方向感測光大致垂直。當該複數道第二方向感測光通過該輸入介面之該光傳遞單元射向該第二光接收模組時,該第二光接收模組根據其接收該複數道第二方向感測光的接收情形產生一第二感測結果。最後,該處理模組根據該第一感測結果及該第二感測結果判定該觸控點位置。
相較於先前技術,根據本發明之光學式觸控裝置及其運作方法由於可以透過光學模組內之多個光傳遞層及適當的折射率設計有效減少光發射器/光接收器之數目及其所佔空間,故能夠大幅增加感測光線之分布密度,以實現高解析度之光學式觸控點偵測。
藉由以上較佳具體實施例之詳述,係希望能更加清楚描述本發明之特徵與精神,而並非以上述所揭露的較佳具體實施例來對本發明之範疇加以限制。相反地,其目的是希望能涵蓋各種改變及具相等性的安排於本發明所欲申請之專利範圍的範疇內。
S10~S16‧‧‧流程步驟
E1~E5‧‧‧發射點
1、2‧‧‧光學式觸控裝置
14‧‧‧面板
10a~10d‧‧‧光發射器
12a~12d‧‧‧光接收器
20‧‧‧輸入介面
22‧‧‧光源發射模組
24‧‧‧光學模組
26‧‧‧光接收模組
28‧‧‧處理模組
240‧‧‧入口
24a‧‧‧(第一)光傳遞層
24b‧‧‧第二光傳遞層
242‧‧‧輔助反射單元
244‧‧‧凹陷部
246‧‧‧聚光單元
202、P1~P40‧‧‧調整單元
204‧‧‧光傳遞單元
6‧‧‧手指
Lin‧‧‧入射光束
L、L1~L40、Lout‧‧‧感測光
R1~R7、T2、T4、T5‧‧‧反射光
T1、T3‧‧‧折射光
R1~R40‧‧‧光接收單元
圖一係繪示傳統的光學式觸控裝置之示意圖。
圖二及圖三係分別繪示根據本發明之第一具體實施例的光學式觸控裝置之功能方塊圖及外觀示意圖。
圖四(A)~(C)係繪示不同的光學模組運作情形之示意圖。
圖五(A)及(B)係繪示光學模組包含凹陷部及聚光單元。
圖六(A)~(F)係繪示感測光Lin於光傳遞單元內傳遞。
圖七係繪示輸入介面作為觸控資料輸入之應用。
圖八係繪示根據本發明之第二具體實施例的光學式觸控裝置運作方法之流程圖。
2‧‧‧光學式觸控裝置
20‧‧‧輸入介面
22‧‧‧光源發射模組
24‧‧‧光學模組
26‧‧‧光接收模組
28‧‧‧處理模組

Claims (20)

  1. 一種光學式觸控裝置,包含:一輸入介面,包含一表面及位於該表面下方之一光傳遞單元;一第一光學模組,設置於該輸入介面之一第一側,用以接收一第一入射光束並根據該第一入射光束產生彼此平行的複數道第一方向感測光;一第一光接收模組,設置於該輸入介面之一第二側,該第二側係相對於該第一側,當該複數道第一方向感測光通過該輸入介面之該光傳遞單元射向該第一光接收模組時,該第一光接收模組根據其接收該複數道第一方向感測光的接收情形產生一第一感測結果;以及一處理模組,耦接至該第一光接收模組,用以根據該第一感測結果判定形成於該表面上之一觸控點位置;其中,該第一光學模組包含一第一光傳遞層,該第一光傳遞層與外界介質之間具有一折射率差異,當該第一入射光束射至該第一光傳遞層與外界介質交界的一第一面時,將會分別產生向外穿透的一第一穿透光以及向內反射的一第一反射光,該第一穿透光即屬於該複數道第一方向感測光其中之一,當該第一反射光被反射至相對於該第一面之一第二面時,該第二面將會反射該第一反射光以形成一第二反射光,該第一光學模組進一步包含一聚光單元,該聚光單元係設置於該第一面上,並且該第一面係相對於該第二面且靠近該輸入介面之該第一側,該聚光單元包含一曲面部及一平面部,該平面部係設置於該第一面上且該曲面部係背對該平面部而面對該第二面,當該第一入射光束之複 數道第一入射光射至該第二面時,該第二面將會反射該複數道第一入射光至該聚光單元之該曲面部,該聚光單元聚焦該複數道第一入射光並透過該平面部發出該複數道第一方向感測光,該第二面係一平面並設置有一凹陷部,且該第二面上之該凹陷部係與該第一面上之該聚光單元相對應設置,當該複數道第一入射光中之至少一道第一入射光射至該凹陷部時,該至少一道第一入射光於該凹陷部內進行多次反射後,該凹陷部平行射出一凹陷部反射光至該聚光單元,並且該凹陷部反射光係與該第二面垂直。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之光學式觸控裝置,進一步包含:一光源發射模組,設置於該第一光學模組之一入口的外側,用以發射該第一入射光束通過該入***入於該第一光學模組。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之光學式觸控裝置,其中當該第二反射光射至該第一面時,將會分別產生向外穿透的一第二穿透光以及向內反射的一第三反射光。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之光學式觸控裝置,其中該第一穿透光亦屬於該複數道第一方向感測光其中之一。
  5. 如申請專利範圍第1項所述之光學式觸控裝置,其中該第一光學模組進一步包含一第二光傳遞層,該第二光傳遞層與該第一光傳遞層之間亦具有一折射率差異。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之光學式觸控裝置,其中透過該 第一光傳遞層與該第二光傳遞層的折射率之設計,使得該第一光學模組所射出之該複數道第一方向感測光之分布密度能夠提高。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之光學式觸控裝置,其中該輸入介面之該表面上設置有複數個開孔,該複數個開孔之位置係分別對應於該複數道第一方向感測光。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之光學式觸控裝置,其中當該複數道第一方向感測光中之一道第一方向感測光於該光傳遞單元內傳遞時,若一物體於該表面上遮住對應於該道第一方向感測光之一開孔,則該道第一方向感測光能夠傳遞至該第一光接收模組,該第一光接收模組據以產生該第一感測結果。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之光學式觸控裝置,其中若對應於該道第一方向感測光之該開孔並未被遮住,則該道第一方向感測光即通過該開孔而射出該輸入介面外,該第一光接收模組根據無法接收到該道第一方向感測光之情形產生該第一感測結果。
  10. 如申請專利範圍第1項所述之光學式觸控裝置,進一步包含:一第二光學模組,設置於該輸入介面之一第三側,用以接收一第二入射光束並根據該第二入射光束產生並射出彼此平行的複數道第二方向感測光,該複數道第二方向感測光與該複數道第一方向感測光垂直;以及一第二光接收模組,設置於該輸入介面之一第四側,該第四側係相對於該第三側,當該複數道第二方向感測 光通過該輸入介面之該光傳遞單元射向該第二光接收模組時,該第二光接收模組根據其接收該複數道第二方向感測光的接收情形產生一第二感測結果;其中,該處理模組根據該第一感測結果及該第二感測結果判定該觸控點位置。
  11. 一種運作一光學式觸控裝置的方法,該光學式觸控裝置包含一輸入介面、一第一光學模組、一第一光接收模組及一處理模組,該輸入介面包含一表面及位於該表面下方之一光傳遞單元,該第一光學模組及該第一光接收模組分別設置於該輸入介面之一第一側及相對於該第一側之一第二側,該方法包含下列步驟:該第一光學模組接收一第一入射光束並根據該第一入射光束產生並射出彼此平行的複數道第一方向感測光.;當該複數道第一方向感測光通過該輸入介面之該光傳遞單元射向該第一光接收模組時,該第一光接收模組根據其接收該複數道第一方向感測光的接收情形產生一第一感測結果;以及該處理模組根據該第一感測結果判定形成於該表面上之一觸控點位置;其中,該第一光學模組包含一第一光傳遞層,該第一光傳遞層與外界介質之間具有一折射率差異,當該第一入射光束射至該第一光傳遞層與外界介質交界的一第一面時,將會分別產生向外穿透的一第一穿透光以及向內反射的一第一反射光,該第一穿透光即屬於該複數道第一方向感測光其中之一,當該第一反射光被反射至相對於該第一面之一第二面時,該第二面將會反射該第一反射光以形成一第二 反射光,該第一光學模組進一步包含一聚光單元,該聚光單元係設置於該第一面上,並且該第一面係相對於該第二面且靠近該輸入介面之該第一側,該聚光單元包含一曲面部及一平面部,該平面部係設置於該第一面上且該曲面部係背對該平面部而面對該第二面,當該第一入射光束之複數道第一入射光射至該第二面時,該第二面將會反射該複數道第一入射光至該聚光單元之該曲面部,該聚光單元聚焦該複數道第一入射光並透過該平面部發出該複數道第一方向感測光,該第二面係一平面並設置有一凹陷部,且該第二面上之該凹陷部係與該第一面上之該聚光單元相對應設置,當該複數道第一入射光中之至少一道第一入射光射至該凹陷部時,該至少一道第一入射光於該凹陷部內進行多次反射後,該凹陷部平行射出一凹陷部反射光至該聚光單元,並且該凹陷部反射光係與該第二面垂直。
  12. 如申請專利範圍第11項所述之方法,其中該光學式觸控裝置進一步包含一光源發射模組,設置於該第一光學模組之一入口的外側,用以發射該第一入射光束通過該入***入於該第一光學模組。
  13. 如申請專利範圍第11項所述之方法,其中當該第二反射光射至該第一面時,將會分別產生向外穿透的一第二穿透光以及向內反射的一第三反射光。
  14. 如申請專利範圍第13項所述之方法,其中該第一穿透光亦屬於該複數道第一方向感測光其中之一。
  15. 如申請專利範圍第11項所述之方法,其中該第一光學模組進 一步包含一第二光傳遞層,該第二光傳遞層與該第一光傳遞層之間亦具有一折射率差異。
  16. 如申請專利範圍第15項所述之方法,其中透過該第一光傳遞層與該第二光傳遞層的折射率之設計,使得該第一光學模組所射出之該複數道第一方向感測光能具有更高密度之分布。
  17. 如申請專利範圍第11項所述之方法,其中該輸入介面之該表面上設置有複數個開孔,該複數個開孔之位置係分別對應於該複數道第一方向感測光。
  18. 如申請專利範圍第17項所述之方法,其中當該複數道第一方向感測光中之一道第一方向感測光於該光傳遞單元內傳遞時,若一物體於該表面上遮住對應於該道第一方向感測光之一開孔,則該道第一方向感測光能夠傳遞至該第一光接收模組,該第一光接收模組據以產生該第一感測結果。
  19. 如申請專利範圍第18項所述之方法,其中若對應於該道第一方向感測光之該開孔並未被遮住,則該道第一方向感測光即通過該開孔而射出該輸入介面外,該第一光接收模組根據無法接收到該道第一方向感測光之情形產生該第一感測結果。
  20. 如申請專利範圍第11項所述之方法,其中該光學式觸控裝置進一步包含一第二光學模組及一第二光接收模組,該第二光學模組及該第二光接收模組分別設置於該輸入介面之一第三側及相對於該第三側之一第四側,進一步包含下列步驟:該第二光學模組接收一第二入射光束並根據該第二入射光束產生並射出彼此平行的複數道第二方向感測光, 該複數道第二方向感測光與該複數道第一方向感測光垂直;當該複數道第二方向感測光通過該輸入介面之該光傳遞單元射向該第二光接收模組時,該第二光接收模組根據其接收該複數道第二方向感測光的接收情形產生一第二感測結果;以及該處理模組根據該第一感測結果及該第二感測結果判定該觸控點位置。
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