TWI418601B - Adhesive composition for optical film, adhesive layer for optical film, manufacturing method thereof, adhesive type optical film, and image display device - Google Patents

Description

光學膜用黏著劑組合物、光學膜用黏著劑層、其製造方法、黏著型光學膜及圖像顯示裝置

本發明係關於一種必須透明之光學膜用黏著劑組合物以及藉由該黏著劑組合物形成之光學膜用黏著劑層及其製造方法。又，本發明係關於一種於光學膜之至少一面形成有上述光學膜用黏著劑層的黏著型光學膜。進而，本發明係關於一種使用上述黏著型光學膜之液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置等圖像顯示裝置。作為上述光學膜，可使用偏光板、相位差板、光學補償膜、亮度改善膜，進而將其等積層而成者。

就液晶顯示器等而言，自其圖像形成方式考慮，於液晶單元之兩側配置偏光元件係必要不可或缺的，通常貼著有偏光板。又，液晶面板上除偏光板之外，亦可使用各種光學元件以提高顯示器之顯示品質。例如，可使用用於防止著色之相位差板、用於改善液晶顯示器之視角的視角擴大膜，進而亦可使用用於提高顯示器之對比度的亮度改善膜等。將該等膜總稱為光學膜。

於將上述光學膜貼著於液晶單元上時，通常使用黏著劑。又，光學膜與液晶單元、或光學膜之間的接著，通常為了降低光損耗，各自的材料使用黏著劑進行密接。於此情形時，具有於使光學膜固著時無需乾燥步驟等優點，因此通常使用於光學膜之單側預先設置黏著劑作為黏著劑層的黏著型光學膜。又，於黏著劑層通常貼合有間隔物(脫模膜)。

作為上述黏著劑所要求之必要特性，係於將光學膜貼合於液晶單元上時，即便於弄錯貼合位置或異物嵌入至貼合面之情形時，亦可將光學膜自液晶面板剝離而再利用液晶單元。於該剝離步驟中，要求可將光學膜不殘存漿狀物且容易地自液晶面板上剝離的再剝離性(二次加工性)。尤其是近年來，除先前之面板製作步驟之外，對使用有經過化學蝕刻處理之玻璃的薄型液晶面板之使用增加，自該薄型液晶面板的光學膜之二次加工性、加工性變困難。

上述光學用黏著劑，通常於光學膜上形成黏著劑層之後，將其捲為滾筒狀，對其進行沖裁加工。又，光學用黏著劑與作為基礎聚合物之丙烯酸系聚合物同時使用交聯劑。作為該交聯劑，例如可列舉異氰酸酯化合物，但異氰酸酯化合物於黏著劑層之形成(老化)花費時間，直至運送需要較長之時間。若並未進行上述老化而直接實施加工處理，則由於黏著劑之污垢或缺損等而使加工性降低。又，於老化中也會產生打痕等不良情況。如上所述，要求光學用黏著劑具有可並不產生黏著劑之污垢或缺損等地進行加工的加工性。

又，作為於光學用黏著劑中使用之交聯劑，提出有過氧化物。利用過氧化物之交聯係於乾燥後之硬化步驟結束交聯，因此具有無需老化時間之優點。然而，若使用過氧化物，則對於間隔物之剝離力顯著上升，對於面板製造者而言，於剝離間隔物(脫模膜)時，存在剝離變沉重，生產線停止等作業性問題。又，於近年來，隨著光學膜之薄型化之進展，要求與先前相比，相對於間隔物係輕剝離性、且作業性良好。

進而，要求上述黏著劑並不會產生對於作為環境加速試驗通常進行之利用加熱及加濕等的耐久試驗，由黏著劑所引起之不良情況。

於先前，作為消除液晶面板之二次加工性之問題的方法，提出有於丙烯酸系黏著劑之基礎聚合物即丙烯酸系聚合物中含有塑化劑或寡聚物成分的方法(專利文獻1)。然而，以該丙烯酸系黏著劑尚無法滿足對於上述薄型液晶面板之二次加工性、作為黏著型光學膜之加工性、對於間隔物之作業性。

除上述之外，作為於光學膜中使用之丙烯酸系黏著劑，提出有：於丙烯酸系聚合物中添加有過氧化物者(專利文獻2)；作為丙烯酸系聚合物之單體成分，除(甲基)丙烯酸烷基酯之外，亦使用有於分子內具有羥基之單體及於分子內具有羧基、醯胺基、胺基等官能基之單體者(專利文獻3、4)；作為丙烯酸系聚合物之單體成分，除(甲基)丙烯酸烷基酯之外，亦使用有含醯亞胺基之單體、含醯胺基之單體等含氮單體，進而使用有過氧化物及異氰酸酯化合物者(專利文獻5)。然而，該等專利文獻中揭示之丙烯酸系黏著劑均係可提高初期之耐久性者，但並非滿足長期之耐久性，且並非充分滿足二次加工性、作為黏著型光學膜之加工性、對於間隔物之作業性。

專利文獻1：日本專利特開2003-329837號公報

專利文獻2：日本專利特開2006-183022號公報

專利文獻3：日本專利特開2004-091499號公報

專利文獻4：日本專利特開2004-091500號公報

專利文獻5：日本專利特開2007-138147號公報

本發明之目的在於提供一種可形成黏著劑層之光學膜用黏著劑組合物，該黏著劑層可滿足可以將光學膜不殘存糊狀物地自液晶面板上容易地剝離的二次加工性，以及於光學膜上形成黏著劑層之後，可以並不產生黏著劑之污垢或缺損等地進行加工之加工性。進而，其目的在於提供一種可以形成相對於間隔物具有輕剝離性之作業性良好之黏著劑層的光學膜用黏著劑組合物。

又，本發明之目的在於提供一種藉由上述光學膜用黏著劑組合物而形成之黏著劑層及其製造方法。進而，本發明之目的在於提供一種具有該黏著劑層之黏著型光學膜，進而提供一種使用有上述黏著型光學膜之圖像顯示裝置。

本發明者等人為解決上述課題而反覆進行潛心研究，結果發現下述光學膜用黏著劑組合物，從而完成本發明。

即，本發明係關於一種光學膜用黏著劑組合物，其特徵在於：其係含有(甲基)丙烯酸系聚合物以及作為交聯劑的過氧化物，上述(甲基)丙烯酸系聚合物係含有(甲基)丙烯酸烷基酯45~99.99重量%以及含三級胺基之單體0.01~2重量%作為單體單元而成者，並且相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，上述過氧化物為0.01~2重量份。

較好的是於上述光學膜用黏著劑組合物中，相對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，進而含有異氰酸酯系交聯劑0.01~2重量份作為交聯劑。

較好的是於上述光學膜用黏著劑組合物中，相對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，進而含有矽烷偶合劑0.01~2重量份。

較好的是於上述光學膜用黏著劑組合物中，上述(甲基)丙烯酸系聚合物進而含有含羧基之單體0.01~5重量%及/或含羥基之單體0.01~5重量%作為單體單元。

於上述光學膜用黏著劑組合物中，作為含三級胺基之單體，較好的是(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯及/或N,N-二甲基胺基丙基(甲基)丙烯醯胺。

較好的是於上述光學膜用黏著劑組合物中，上述(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量為100萬~300萬。

又，本發明係關於一種光學膜用黏著劑層，其係由上述光學膜用黏著劑組合物而形成。

較好的是上述光學膜用黏著劑層之凝膠分率為50~95重量%。

又，本發明係關於一種上述光學膜用黏著劑層之製造方法，其特徵在於：將上述光學膜用黏著劑組合物塗布於基材上，於溫度70~160℃下，以時間為30~240秒進行處理而使其硬化。

又，本發明係關於一種黏著型光學膜，其特徵在於：於光學膜之至少一側形成有由上述光學膜用黏著劑組合物形成之黏著劑層。

又，本發明係關於一種圖像顯示裝置，其使用有至少一片上述黏著型光學膜。

上述本發明之光學膜用黏著劑組合物，作為黏著劑之基礎聚合物即(甲基)丙烯酸系聚合物，以0.01~2重量%之少量比例含有含三級胺基之單體作為單體單元。藉由採用該構成之光學膜用黏著劑組合物，可形成具有如下性質之黏著劑層：可提高加工性及二次加工性，可抑制加工時黏著劑之缺損或污垢，且即便於將光學膜自薄型液晶面板、特別是使用經過化學蝕刻之玻璃的液晶面板上剝離之情形時，可不殘存糊狀物且容易地進行剝離。又，該黏著劑層可並不使光學膜破斷地自液晶面板剝離。其結果，可於不使薄型光學膜破損之情況下有效地進行液晶面板的再利用。

於(甲基)丙烯酸系聚合物中以上述少量之比例含有的含三級胺基之單體，係提高藉由利用交聯劑之交聯反應形成黏著劑層之後的該黏著劑層之交聯穩定性者。作為交聯劑，於以上述規定之比例使用過氧化物之情形時，尤其可藉由使用含三級胺基之單體而提高上述交聯穩定性。又，作為交聯劑，除過氧化物之外，可適宜使用異氰酸酯化合物。另外，可於上述規定之範圍內使用矽烷偶合劑。特別是在與過氧化物一起併用異氰酸酯化合物或矽烷偶合劑之情形時，上述交聯穩定性提高，且可提高二次加工性、加工性。於先前，由調配有矽烷偶合劑等添加劑之黏著劑組合物所形成之黏著劑層，由於矽烷偶合劑等隨著時間之推移而自黏著劑層飛散，因此難以穩定地維持黏著劑層之特性。藉由本發明之黏著劑組合物，可使黏著劑層中之矽烷偶合劑的殘存隨著時間之推移而增高，產品特性之穩定性變好，可滿足長期耐久性。

又，於(甲基)丙烯酸系聚合物中，含有含羧基之單體或含羥基之單體作為單體單元，由此可提高耐久性，進而提高二次加工性。含有含羧基之單體、含羥基之單體作為共聚成分的(甲基)丙烯酸系聚合物，由於該等共聚成分之酸鹼相互作用、氫鍵等作用，可實現於提高二次加工性之同時，提高耐久性，且可於加熱條件下或加濕條件下，抑制黏著劑之浮起或剝離等不良情況。

又，藉由本發明之黏著劑組合物，對於導入至(甲基)丙烯酸系聚合物中之三級胺基，使用過氧化物作為交聯劑，由此形成作為過氧化物交聯之優勢點的生產性、加工性良好之黏著劑層，同時可抑制對於間隔物(脫模膜)之剝離力的上升。因此，該黏著劑層，相對於間隔物，即使隨著時間之推移亦可輕剝離間隔物，作業性變好，且可進一步提高生產效率。於(甲基)丙烯酸系聚合物中，三級胺基與過氧化物之組合的分解速度較快，較之間隔物與(甲基)丙烯酸系聚合物之交聯反應，(甲基)丙烯酸系聚合物彼此之交聯更優先，由此可抑制對於間隔物之剝離力上升。

本發明之光學膜用黏著劑組合物使用含有(甲基)丙烯酸烷基酯45~99.99重量%及含三級胺基之單體0.01~2重量%而成之(甲基)丙烯酸系聚合物作為基礎聚合物。

作為(甲基)丙烯酸烷基酯，係(甲基)丙烯酸烷基酯之烷基的碳數為2~18左右者。烷基可為直鏈、支鏈之任意者。上述烷基之平均碳數較好的是2~14，更好的是平均碳數為3~12，進一步更好的是平均碳數為4~9。再者，(甲基)丙烯酸酯係指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯，與本發明之(甲基)的含義相同。

作為(甲基)丙烯酸烷基酯之具體例，可列舉：(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸第二丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸正戊酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸異戊酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸正壬酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸正癸酯、(甲基)丙烯酸異癸酯、(甲基)丙烯酸正十二烷基酯、(甲基)丙烯酸異肉豆寇酯、(甲基)丙烯酸正十三烷基酯、(甲基)丙烯酸正十四烷基酯、(甲基)丙烯酸十八烷醇酯、(甲基)丙烯酸異十八烷醇酯等。其中，可以例示(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯等，其等可以單獨或組合使用。

於本發明中，上述(甲基)丙烯酸烷基酯相對於(甲基)丙烯酸系聚合物的所有單體成分為45~99.99重量%。較好的是85~99.99重量%，更好的是87~99.99重量%，更好的是90~99.99重量%，進一步更好的是98~99.99重量%。若上述(甲基)丙烯酸系單體過少，則變得缺乏接著性而欠佳。

又，作為含三級胺基之單體，可列舉含有三級胺基以及(甲基)丙烯醯基之單體。作為三級胺基，較好的是三級胺基烷基。作為該含三級胺基之單體，可列舉N,N-二烷基胺基烷基(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸N,N-二烷基胺基烷基酯。作為含三級胺基之單體之具體例，例如可列舉N,N-二甲基胺基乙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基胺基丙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基胺基乙基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基胺基丙基(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基丙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二乙基胺基乙酯、N,N-二乙基胺基丙基(甲基)丙烯醯胺。該等含三級胺基之單體中，較好的是(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯及/或N,N-二甲基胺基丙基(甲基)丙烯醯胺。

再者，即便使用含氮之單體且係含三級胺基之單體以外的單體，例如馬來醯亞胺、N-環己基馬來醯亞胺、N-苯基馬來醯亞胺等馬來醯亞胺系單體；N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基琥珀醯亞胺或N-(甲基)丙烯醯基-6-氧基六亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8-氧基八亞甲基琥珀醯亞胺等琥珀醯亞胺系單體；(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-甲氧基甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁氧基甲基(甲基)丙烯醯胺等N-取代醯胺系單體；(甲基)丙烯酸第三丁基胺基乙酯等具有二級胺基之單體；雙丙酮(甲基)丙烯醯胺、N-乙烯基乙醯胺、N,N'-亞甲基雙(甲基)丙烯醯胺、N-乙烯基己內醯胺、N-丙烯醯基嗎啉、N-丙烯醯基哌啶、N-甲基丙烯醯基哌啶、N-丙烯醯基吡咯啶等，亦難以提高二次加工性、加工性。

相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分的總量以0.01~2重量%之比例使用含三級胺基之單體。含三級胺基之單體的比例較好的是0.01~1.5重量%，更好的是0.01~1重量%，更好的是0.01~0.5重量%，更好的是0.05~0.45重量%，進一步更好的是0.05~0.2重量%。若含三級胺基之單體的比例少於0.01重量%，則黏著劑層之交聯穩定性較差，無法滿足二次加工性、加工性，且自耐久性之方面考慮欠佳。另外，並不能充分促進交聯，難以減小黏著劑層之凝膠分率，對於間隔物之剝離性變高，因此欠佳。另一方面，自二次加工性、耐久性之觀點考慮，含三級胺基之單體的比例過多並不好，可將含其控制為2重量%以下以使黏著劑層之凝集力並不提高。

作為形成上述(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分，除上述單體之外，含有含羧基之單體及/或含羥基之單體可提高耐久性等，因此較好。特別好的是使用含羥基之單體。

作為含羧基之單體，可並無特別限制地使用具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等不飽和雙鍵之聚合性官能基且具有羧基者。作為含羧基之單體，例如可列舉(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧乙酯、(甲基)丙烯酸羧戊酯、衣康酸、馬來酸、富馬酸、巴豆酸等。其等中較好的是(甲基)丙烯酸，特別好的是丙烯酸。

相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分的總量，以0.01~5重量%之比例使用含羧基之單體。含羧基之單體的比例較好的是0.01~2重量%，更好的是0.01~1重量%，進一步更好的是0.05~0.5重量%。為提高耐久性，較好的是含有0.01重量%以上之含羧基之單體。另一方面，若含羧基之單體的比例超過5重量%，則接著力增強，剝離變沉重，無法滿足二次加工性，因此欠佳。

作為含羥基之單體，可並無特別限制地使用具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等不飽和雙鍵之聚合性官能基且具有羥基者。作為含羥基之單體，例如可列舉(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丁酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯、(甲基)丙烯酸8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥基月桂酯等(甲基)丙烯酸羥基烷基酯，羥乙基(甲基)丙烯醯胺；另外亦可列舉丙烯酸(4-羥基甲基環己基)甲酯、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥基(甲基)丙烯醯胺、烯丙醇、2-羥基乙基乙烯醚、4-羥基丁基乙烯醚、二乙二醇單乙烯醚、丙烯酸之己內酯加成物、(甲基)丙烯酸聚乙二醇酯、(甲基)丙烯酸聚丙二醇酯等。其等中較好的是(甲基)丙烯酸羥基烷基酯。

相對於形成(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分的總量，以0.01~5重量%之比例使用含羥基之單體。含羥基之單體的比例較好的是0.01~2重量%，更好的是0.01~1.5重量%，更好的是0.01~1重量%，進一步更好的是0.05~0.5重量%。為提高耐久性，較好的是含有0.01重量%以上之含羥基之單體。尤其是於使用異氰酸酯系交聯劑作為交聯劑之情形時，為確保與異氰酸酯基之交聯點，較好的是含有0.01重量%以上之含羥基之單體。另一方面，若含羥基之單體的比例超過5重量%，則接著力增強，剝離變沉重，無法滿足二次加工性，因此欠佳。

作為形成上述(甲基)丙烯酸系聚合物之單體成分，除上述單體之外，可於不損及本發明之目的之範圍內，於單體總量之50重量%以下的範圍內使用上述以外之單體。任意單體之比例較好的是48重量%以下，更好的是45重量%以下。作為該任意單體，例如可列舉具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等不飽和雙鍵之聚合性官能基且具有芳香族環的含芳香族環之單體。作為含芳香族環之單體的具體例，可列舉(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸苄酯、苯酚環氧乙烷改性(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-萘乙酯、(甲基)丙烯酸2-(4-甲氧基-1-萘氧基)乙酯、(甲基)丙烯酸苯氧基丙酯、(甲基)丙烯酸苯氧基二乙二醇酯、(甲基)丙烯酸硫醇酯、(甲基)丙烯酸苯酯、聚苯乙烯基(甲基)丙烯酸酯等。

作為上述以外之任意單體，可列舉馬來酸酐、衣康酸酐等含酸酐基之單體；苯乙烯磺酸或烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙磺酸、(甲基)丙烯酸磺基丙酯、(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸等含磺酸基之單體；2-羥基乙基丙烯醯基磷酸酯等含磷酸基之單體；(甲基)丙烯酸甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧基乙酯等(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯系單體等。

進而，亦可使用乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、N-乙烯基己內醯胺等乙烯基系單體；(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等含環氧基之丙烯酸系單體；(甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基聚丙二醇酯等二醇系丙烯酸酯單體；(甲基)丙烯酸四氫糠酯、氟代(甲基)丙烯酸酯、聚矽氧(甲基)丙烯酸酯或丙烯酸2-甲氧基乙酯等丙烯酸酯系單體等。

進而，作為上述以外之可共聚之單體，可列舉含有矽原子之矽烷系單體等。作為矽烷系單體，例如可列舉3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、4-乙烯基丁基三甲氧基矽烷、4-乙烯基丁基三乙氧基矽烷、8-乙烯基辛基三甲氧基矽烷、8-乙烯基辛基三乙氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧基癸基三甲氧基矽烷、10-丙烯醯氧基癸基三甲氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧基癸基三乙氧基矽烷、10-丙烯醯氧基癸基三乙氧基矽烷等。

本發明之(甲基)丙烯酸系聚合物，通常使用重量平均分子量為100萬~300萬之聚合物。若考慮耐久性，特別是耐熱性，則較好的是使用重量平均分子量為150萬~250萬之聚合物。進而更好的是170萬~250萬，進一步更好的是180萬~250萬。若重量平均分子量小於150萬，則自耐熱性之方面考慮欠佳。另外，若重量平均分子量大於300萬，則於貼合性、黏著力降低之方面考慮亦欠佳。再者，重量平均分子量係指藉由GPC(凝膠滲透層析法)進行測定，藉由聚苯乙烯換算而計算所得之值。

如此之(甲基)丙烯酸系聚合物之製造可適宜選擇溶液聚合、本體聚合、乳化聚合、各種自由基聚合等公知之製造方法。又，所得之(甲基)丙烯酸系聚合物可為隨機共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等之任意者。

再者，於溶液聚合中，例如使用乙酸乙酯、甲苯等作為聚合溶劑。作為具體之溶液聚合例，於氮氣等惰性氣流下添加聚合起始劑，通常於50~70℃左右、5~30小時左右之反應條件下進行反應。

自由基聚合中使用之聚合起始劑、鏈轉移劑、乳化劑等並無特別之限定，可適宜選擇使用。再者，(甲基)丙烯酸系聚合物的重量平均分子量可藉由聚合起始劑、鏈轉移劑之使用量、反應條件而控制，根據其等之種類而調整適宜之使用量。

作為聚合起始劑，例如可列舉2,2'-偶氮二異丁腈、2,2'-偶氮二(2-脒基丙烷)二氫氯化物、2,2'-偶氮二[2-(5-甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]二氫氯化物、2,2'-偶氮二(2-甲基丙脒)二硫酸鹽、2,2'-偶氮二(N,N'-二亞甲基異丁基脒)、2,2'-偶氮二[N-(2-羧基乙基)-2-甲基丙脒]水合物(和光純藥公司製造，VA-057)等偶氮系起始劑，過硫酸鉀、過硫酸銨等過硫酸鹽，過氧化二碳酸二(2-乙基己基)酯、過氧化二碳酸二(4-第三丁基環己基)酯、過氧化二碳酸二第二丁酯、過氧化新癸酸第三丁酯、過氧化特戊酸第三己酯、過氧化特戊酸第三丁酯、過氧化二月桂醯、過氧化二正辛醯、過氧化-2-乙基己酸(1,1,3,3-四甲基丁基)酯、過氧化二(4-甲基苯甲醯)、過氧化二苯甲醯、過氧化異丁酸第三丁酯、1,1-二(第三己基過氧基)環己烷、第三丁基過氧化氫、過氧化氫等過氧化物系起始劑，過硫酸鹽與亞硫酸氫鈉之組合、過氧化物與抗壞血酸鈉之組合等組合有過氧化物與還原劑之氧化還原系起始劑等，但並不限定於該等。

上述聚合起始劑可單獨使用或混合兩種以上使用，作為整體之含量，相對單體100重量份，較好的是0.005~1重量份左右，更好的是0.02~0.5重量份左右。

再者，於使用例如2,2'-偶氮二異丁腈作為聚合起始劑而製造上述重量平均分子量之(甲基)丙烯酸系聚合物時，相對於單體成分之總量100重量份，聚合起始劑之使用量較好的是0.06~0.2重量份左右，更好的是0.08~0.175重量份左右。

作為鏈轉移劑，例如可列舉十二硫醇、縮水甘油基硫醇、巰基乙酸、2-巰基乙醇、巰基乙酸、巰基乙酸-2-乙基己酯、2,3-二巰基-1-丙醇等。鏈轉移劑可單獨或混合兩種以上使用，作為整體之含量，相對於單體成分之總量100重量份為0.1重量份左右以下。

又，作為於乳化聚合之情形時使用之乳化劑，例如可列舉月桂基硫酸鈉、月桂基硫酸銨、十二烷基苯磺酸鈉、聚氧乙烯烷基醚硫酸銨、聚氧乙烯烷基苯基醚硫酸鈉等陰離子系乳化劑，聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯烷基苯基醚、聚氧乙烯脂肪酸酯、聚氧乙烯-聚氧丙烯嵌段聚合物等非離子系乳化劑等。該等乳化劑可單獨使用亦可併用兩種以上。

進而，作為反應性乳化劑，作為導入丙烯基、烯丙醚基等自由基聚合性官能基之乳化劑，具體而言，例如有AQUALON HS-10、HS-20、KH-10、BC-05、BC-10、BC-20(以上均由第一工業製藥公司製造)、ADEKA REASOAP SE10N(旭電化工公司製造)等。反應性乳化劑於聚合後進入聚合物鏈中，因此耐水性變好而較好。相對單體成分之總量100重量份，乳化劑之使用量較好的是0.3~5重量份，自聚合穩定性或機械穩定性方面考慮更好的是0.5~1重量份。

又，本發明之黏著劑組合物含有過氧化物作為交聯劑。

作為本發明之過氧化物，若為藉由加熱或光照射而產生自由基活性種從而使黏著劑組合物之基礎聚合物進行交聯者，則可適宜使用，考慮到操作性或穩定性，較好的是使用1分鐘半衰期溫度為80℃~160℃之過氧化物，更好的是使用1分鐘半衰期溫度為90℃~140℃之過氧化物。若1分鐘半衰期溫度過低，則存在於塗布乾燥之前進行保存時進行反應，黏度變高而變得不能塗布；另一方面，若1分鐘半衰期溫度過高，則存在進行交聯反應時之溫度變高，因此產生副反應，且未反應之過氧化物過多殘存，經時進行交聯之情形，因此欠佳。

作為本發明中使用之過氧化物，例如可列舉過氧化二碳酸二(2-乙基己基)酯(1分鐘半衰期溫度：90.6℃)、過氧化二碳酸二(4-第三丁基環己基)酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、過氧化二碳酸二第二丁酯(1分鐘半衰期溫度：92.4℃)、過氧化新癸酸第三丁酯(1分鐘半衰期溫度：103.5℃)、過氧化特戊酸第三己酯(1分鐘半衰期溫度：109.1℃)、過氧化特戊酸第三丁酯(1分鐘半衰期溫度：110.3℃)、過氧化二月桂醯(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、過氧化二正辛醯(1分鐘半衰期溫度：117.4℃)、過氧化-2-乙基己酸(1,1,3,3-四甲基丁基)酯(1分鐘半衰期溫度：124.3℃)、過氧化二(4-甲基苯甲醯)(1分鐘半衰期溫度：128.2℃)、過氧化二苯甲醯(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)、過氧化異丁酸第三丁酯(1分鐘半衰期溫度：136.1℃)、1,1-二(第三己基過氧基)環己烷(1分鐘半衰期溫度：149.2℃)等。其中，自交聯反應效率優異之方面考慮，較好的是使用過氧化二碳酸二(4-第三丁基環己基)酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、過氧化二月桂醯(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、過氧化二苯甲醯(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)等。

再者，所謂過氧化物之半衰期，係表示過氧化物之分解速度的指標，係指過氧化物之殘存量成為一半時的時間。於生產商目錄(maker catalog)等中揭示有用以於任意時間獲得半衰期之分解溫度或於任意溫度下之半衰期時間的相關內容，例如揭示於日本油脂股份有限公司之"有機過氧化物目錄第9版(2003年5月)"等中。

上述過氧化物可單獨使用1種，亦可混合使用兩種以上，作為整體之含量，相對上述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，含有0.01~2重量份上述過氧化物，較好的是含有0.04~1.5重量份，更好的是含有0.05~1重量份。若不足0.01重量份，則交聯形成變得不充分，無法提高交聯穩定性，自二次加工性、加工性方面考慮欠佳。另一方面，若超過2重量份，則自間隔物之剝離性比較困難，或者由於具有耐久性而使黏著劑層變硬，由此容易發生剝離，因此欠佳。

又，於使用過氧化物作為聚合起始劑之情形時，亦可將聚合反應中未使用之殘存過氧化物用於交聯反應，於此情形時，可定量殘存量，視需要再次添加，使其成為規定之過氧化物量而使用。

再者，作為於反應處理後殘存之過氧化物分解量的測定方法，例如可藉由HPLC(高效液相層析法)進行測定。

更具體而言，例如可每次取出約0.2g之反應處理後的黏著劑組合物，浸漬於乙酸乙酯10ml中，用振動機於25℃、120rpm下振動提取3小時，然後於室溫下靜置3天。繼而添加10ml乙腈，於25℃、120rpm下振動30分鐘，將藉由薄膜過濾器(0.45μm)過濾而得到之提取液約10μl注入至HPLC中進行分析，將其作為反應處理後之過氧化物量。

又，作為上述交聯劑，可與過氧化物一起使用有機系交聯劑或多官能性金屬螯合物。作為有機系交聯劑，可列舉環氧系交聯劑、異氰酸酯系交聯劑、亞胺系交聯劑等。多官能性金屬螯合物係多價金屬與有機化合物共價鍵結或配位鍵結之化合物。作為多價金屬原子，可列舉Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。作為共價鍵結或配位鍵結之有機化合物中之原子，可列舉氧原子等；作為有機化合物，可列舉烷基酯、醇化合物、羧酸化合物、醚化合物、酮化合物等。於上述交聯劑中，較好的是異氰酸酯系交聯劑。

作為異氰酸酯系交聯劑，可列舉甲苯二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯等芳香族異氰酸酯，異佛爾酮二異氰酸酯等脂環族異氰酸酯，二異氰酸己二酯等脂肪族異氰酸酯等。

更具體而言，例如可列舉二異氰酸丁二酯、二異氰酸己二酯等低級脂肪族聚異氰酸酯類，二異氰酸環戊酯、二異氰酸環己酯、異佛爾酮二異氰酸酯等脂環族異氰酸酯類，2,4-甲苯二異氰酸酯、4,4'-二苯基甲烷二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯、聚亞甲基聚苯基異氰酸酯等芳香族二異氰酸酯類，三羥甲基丙烷/甲苯二異氰酸酯三聚物加成物(日本聚胺酯工業公司製造，商品名Coronate L)、三羥甲基丙烷/二異氰酸己二酯三聚物加成物(日本聚胺酯工業公司製造，商品名Coronate HL)、二異氰酸己二酯之三聚異氰酸酯體(日本聚胺酯工業公司製造，商品名Coronatel HX)等異氰酸酯加成物，聚醚聚異氰酸酯、聚酯聚異氰酸酯以及其等與各種多元醇之加成物，以異氰尿酸酯鍵、雙縮脲鍵、脲基甲酸酯鍵等多官能化之聚異氰酸酯等。

上述異氰酸酯系交聯劑可單獨使用1種，亦可混合兩種以上使用，作為整體之含量，相對上述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，較好的是含有0.01~2重量份之上述異氰酸酯系交聯劑，更好的是含有0.04~1.5重量份，進一步更好的是含有0.05~1重量份。若不足0.01重量份，則存在凝集力不足之情形而欠佳。另一方面，若超過2重量份，則於耐久性試驗中容易發生剝離而欠佳。

藉由上述交聯劑形成黏著劑層，於形成黏著劑層時，使用過氧化物或異氰酸酯系交聯劑作為交聯劑之情形時，需要調整其等之添加量，並且充分考慮交聯處理溫度或交聯處理時間之影響。

交聯處理溫度或交聯處理時間之調整，例如較好的是將黏著劑組合物中所含之過氧化物的分解量設定為50重量%以上，更好的是設定為60重量%以上，進而更好的是設定為70重量%以上。若過氧化物之分解量少於50重量%，則黏著劑組合物中殘存之過氧化物之量變多，存在交聯處理後亦會經時性地產生交聯反應之情形等而欠佳。

更具體而言，例如，於交聯處理溫度為1分鐘半衰期溫度下，1分鐘後過氧化物之分解量為50重量%，2分鐘後過氧化物之分解量為75重量%，需要1分鐘以上之交聯處理時間。又，例如交聯處理溫度下之過氧化物的半衰期(半衰時間)若為30秒鐘，則需要30秒鐘以上之交聯處理時間，另外，例如交聯處理溫度下之過氧化物的半衰期(半衰時間)若為5分鐘，則需要5分鐘以上之交聯處理時間。

如上所述，根據使用之過氧化物，假設交聯處理溫度或交聯處理時間與過氧化物成一次比例，則可由半衰期(半衰時間)藉由理論計算而算出，且可適宜調節添加量。另一方面，溫度越高，則產生副反應之可能性越高，因此交聯處理溫度較好的是170℃以下。

又，該交聯處理可於黏著劑層之乾燥步驟時之溫度下進行，亦可於乾燥步驟之後另外設置交聯處理步驟進行。

又，關於交聯處理時間，可考慮生產性或操作性而設定，通常為0.2~20分鐘左右，較好的是0.5~10分鐘左右。

又，可於本發明之黏著劑組合物中使用矽烷偶合劑以提高接著力、耐久力。作為矽烷偶合劑，可並無特別限制地適宜使用公知之矽烷偶合劑。

具體而言，例如可列舉3-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基三乙氧基矽烷、3-縮水甘油氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、2-(3,4-環氧基環己基)乙基三甲氧基矽烷等含環氧基之矽烷偶合劑；3-胺丙基三甲氧基矽烷、N-2-(胺乙基)-3-胺丙基甲基二甲氧基矽烷、3-三乙氧基矽烷基-N-(1,3-二甲基亞丁基)丙胺、N-苯基-γ-胺丙基三甲氧基矽烷等含胺基之矽烷偶合劑；3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷等含有(甲基)丙烯醯基之矽烷偶合劑；3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷等含異氰酸酯基之矽烷偶合劑等。使用如此之矽烷偶合劑對於提高耐久性而言較好。

上述矽烷偶合劑可單獨使用，且亦可混合使用兩種以上，作為整體之含量，相對上述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，較好的是含有0.01~2重量份上述矽烷偶合劑，更好的是含有0.02~0.6重量份，進而更好的是含有0.05~0.3重量份。若不足0.01重量份，則對於提高耐久性而言並不充分。另一方面，若超過2重量份，則存在對液晶單元等光學部件之接著力過於增大，二次加工性降低之虞。

進而，於本發明之黏著劑組合物中亦可含有其它公知之添加劑，例如可根據使用之用途而適宜添加著色劑、顏料等之粉體，染料、界面活性劑、塑化劑、黏著性賦予劑、表面潤滑劑、調平劑、軟化劑、抗氧化劑、抗老化劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、無機或有機填充劑、金屬粉、粒子狀、箔狀物等。又，於可控制之範圍內，亦可採用添加有還原劑之氧化還原系。

本發明之光學膜用黏著劑層係藉由上述光學膜用黏著劑組合物而形成者。於本發明中，自可滿足對於間隔物之輕剝離性的作業性之觀點考慮，該黏著劑層之凝膠分率較好的是50~95重量%。凝膠分率較好的是55~90重量%，更好的是60~90重量%。凝膠分率係藉由實施例中揭示之方法測定之值。

上述光學膜用黏著劑層可藉由塗布於基材上之後進行熱處理、硬化而形成。本發明之黏著型光學膜係於光學膜之至少一面上，藉由上述黏著劑形成黏著劑層者。

作為形成上述黏著劑層之方法，例如可列舉使用已實施有剝離處理之間隔物等作為基材，將上述黏著劑組合物塗布於該間隔物上，乾燥除去聚合溶劑等，並且使其硬化而形成黏著劑層，然後轉印至光學膜上之方法。又，作為形成上述黏著劑層之方法，例如可列舉使用光學膜作為基材，直接於光學膜上塗布上述黏著劑組合物，乾燥除去聚合溶劑等，並且使其硬化而於光學膜上形成黏著劑層之方法。再者，於塗布黏著劑時，可適宜新添加聚合溶劑以外之一種以上溶劑。

上述黏著劑層之形成，較好的是藉由將上述光學膜用黏著劑組合物塗布於基材上之後，例如以70~160℃之溫度、以30~240秒之時間進行處理而使其硬化(乾燥)而進行。上述硬化溫度較好的是80~160℃，更好的是100~155℃。又，上述硬化時間較好的是30~180秒，更好的是30~120秒。

本發明之光學膜用黏著劑組合物中，作為基礎聚合物之(甲基)丙烯酸系聚合物含有三級胺基，另一方面，使用過氧化物作為交聯劑，由此於使黏著劑組合物硬化時，即便於如上所述之低溫(120℃以下)下，亦可快速地進行硬化處理。先前，於光學膜用黏著劑組合物含有過氧化物作為交聯劑之情形時，若於上述低溫下對該黏著劑組合物實施硬化處理，則殘存過氧化物，產生經時變化，例如對於間隔物之剝離性增加，但本發明之黏著劑組合物即便於上述低溫下亦可快速地進行硬化處理，且可維持對於間隔物之經時輕剝離性。

特別是於本發明之光學膜用黏著劑組合物含有矽烷偶合劑之情形時，上述處理條件較合適。於先前，對含有矽烷偶合劑之黏著劑組合物，於超過140℃之高溫下，進行超過120秒之硬化處理之情形時，矽烷偶合劑蒸發，殘存量減少，長期之耐久性並不充分，但本發明之黏著劑組合物即便於上述低溫下亦可快速地進行硬化處理，可經時地維持矽烷偶合劑之殘存，可長期維持耐久性，可延長產品之壽命。

又，於製作本發明之黏著型光學膜時，可於光學膜之表面形成增黏層，或者於實施電暈處理、電漿處理等各種易接著處理之後形成黏著劑層。又，亦可於黏著劑層之表面進行易接著處理。

作為黏著劑層之形成方法，可使用各種方法。具體而言，例如可列舉輥塗、接觸輥式塗布、凹版印刷式塗布、反向塗布、輥式刷塗、噴塗、浸漬輥塗、棒塗、刮塗、氣刀塗布、簾塗、唇式塗布(lip coat)、利用擠壓式塗布機(die coater)等之擠壓塗布法等方法。

黏著劑層之厚度並無特別限制，例如為1~100μm左右。較好的是5~50μm，更好的是10~30μm。

於上述黏著劑層露出之情形時，直至供於使用時均可以實施有剝離處理之片材(間隔物)保護黏著劑層。

作為間隔物之構成材料，例如可列舉聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯、聚酯膜等塑膠膜，紙、布、不織布等多孔材料，網狀物、發泡片材、金屬箔、及該等材料之積層體等適宜之薄片體等，自表面平滑性優異之方面考慮，較好的是使用塑膠膜。

作為該塑膠膜，若係可保護上述黏著劑層之膜則無特別之限定，例如可列舉聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚丁烯膜、聚丁二烯膜、聚甲基戊烯膜、聚氯乙烯膜、氯乙烯共聚物膜、聚對苯二甲酸乙二酯膜、聚對苯二甲酸丁二酯膜、聚胺酯膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物膜等。

上述間隔物之厚度通常為5~200μm，較好的是5~100μm左右。亦可視需要對上述間隔物實施利用聚矽氧系、氟系、長鏈烷基系或脂肪醯胺系之脫模劑、二氧化矽粉等的脫模及防污處理或者塗布型、混入型、蒸鍍型等防靜電處理。特別是可藉由於上述間隔物之表面適宜進行聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等剝離處理，而進一步提高自上述黏著劑層之剝離性。本發明之黏著劑層，對於間隔物經脫模處理者而言較適宜，特別是對於藉由聚矽氧處理而實施脫模處理者而言較適宜。

再者，於製作上述之黏著型光學膜時使用之實施有剝離處理的片材，可直接用作黏著型光學膜之間隔物，可於步驟方面簡化。

作為光學膜，使用於液晶顯示裝置等圖像顯示裝置之形成中所使用者，對其種類並無特別限制。例如，作為光學膜，可列舉偏光板。偏光板通常使用於偏光元件之單面或兩面具有透明保護膜者。

對偏光元件並無特別限制，可使用各種偏光元件。作為偏光元件，例如可列舉：於聚乙烯醇系膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜上，吸附碘或二色性染料之二色性物質並單向延伸者；聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫氯化氫處理物等聚烯系配向膜等。於其等中，較好的是由聚乙烯醇系膜與碘等二色性物質形成的偏光元件。對該等偏光元件之厚度並無特別限制，通常為5~80μm左右。

將聚乙烯醇系膜以碘染色後進行單向延伸而成之偏光元件，例如可藉由將聚乙烯醇浸漬於碘之水溶液中而進行染色後，延伸至原長度之3~7倍而製作。亦可視需要浸漬於可含硼酸或硫酸鋅、氯化鋅等之碘化鉀等的水溶液中。進而亦可視需要於染色前將聚乙烯醇系膜浸漬於水中進行水洗。藉由對聚乙烯醇系膜進行水洗，可以洗去聚乙烯醇系膜表面之污垢或結塊防止劑，除此之外亦可藉由使聚乙烯醇系膜膨潤，而具有防止染色不均等不均一的效果。延伸可於以碘進行染色後進行，亦可一邊染色一邊進行延伸，或者亦可於延伸後以碘進行染色。亦可於硼酸或碘化鉀等之水溶液中或水浴中進行延伸。

作為構成透明保護膜之材料，例如使用於透明性、機械強度、熱穩定性、水分阻隔性、等向性等優異之熱塑性樹脂。作為如此之熱塑性樹脂的具體例，可列舉三乙醯纖維素等纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降烯系樹脂)、聚芳酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂以及其等之混合物。再者，利用接著劑層於偏光元件之一側貼合透明保護膜，於另一側，可使用(甲基)丙烯酸系、胺基甲酸酯系、丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化性樹脂或紫外線硬化型樹脂作為透明保護膜。透明保護膜中可含有1種以上任意適宜之添加劑。作為添加劑，例如可列舉紫外線吸收劑、抗氧化劑、潤滑劑、塑化劑、脫模劑、防著色劑、耐燃劑、成核劑、靜電防止劑、顏料、著色劑等。透明保護膜中之上述熱塑性樹脂的含量較好的是50~100重量%，更好的是50~99重量%，進而更好的是60~98重量%，特別好的是70~97重量%。於透明保護膜中之上述熱塑性樹脂的含量為50重量%以下之情形時，存在無法充分表現出熱塑性樹脂本來具有之高透明性等之虞。

又，作為透明保護膜，可列舉如日本專利特開2001-343529號公報(WO 01/37007)中揭示之聚合物膜，例如可列舉含有(A)支鏈上具有經取代及/或未經取代之醯亞胺基的熱塑性樹脂、及(B)支鏈上具有經取代及/或未經取代之苯基以及腈基的熱塑性樹脂的樹脂組合物。作為具體例，可列舉含有由異丁烯與N-甲基馬來醯亞胺形成之交替共聚物及丙烯腈-苯乙烯共聚物的樹脂組合物膜。膜可使用由樹脂組合物之混合擠出品等形成之膜。該等膜之相位差小，且光彈性係數小，因此可消除由偏光板之變形引起之不均等不良情況，且由於其透濕度小，因此加濕耐久性優異。

可適宜確定透明保護膜之厚度，自強度或操作性等作業性、薄層性等方面考慮，通常為1~500μm左右。特別是1~300μm較好，更好的是5~200μm。透明保護膜為5~150μm之情形時特別適宜。

再者，於偏光元件之兩側設置透明保護膜之情形時，可於其正反面使用由相同聚合物材料形成之保護膜，亦可使用由不同聚合物材料等形成之保護膜。

作為本發明之透明保護膜，較好的是使用選自纖維素樹脂、聚碳酸酯樹脂、環狀聚烯烴樹脂及(甲基)丙烯酸樹脂之至少一種。

纖維素樹脂係纖維素與脂肪酸之酯。作為如此之纖維素酯系樹脂的具體例，可列舉三乙醯纖維素、二乙醯纖維素、三丙醯纖維素、二丙醯纖維素等。其等中特別好的是三乙醯纖維素。三乙醯纖維素有很多製品市售，自容易獲得或成本之方面考慮亦較有利。作為三乙醯纖維素之市售品之例，可列舉富士膠片公司製造之商品名"UV-50"、"UV-80"、"SH-80"、"TD-80"、"TD-TAC"、"UZ-TAC"或Konica公司製造之"KC系列"等。通常而言，該等三乙醯纖維素之面內相位差(Re)大致為0，厚度方向相位差(Rth)為~60nm左右。

再者，厚度方向相位差較小之纖維素樹脂膜，例如可藉由對上述纖維素樹脂進行處理而獲得。例如可列舉將塗布有環戊酮、甲基乙基酮等溶劑之聚對苯二甲酸乙二酯、聚丙烯、不鏽鋼等基材膜貼合於通常之纖維素系膜上，進行加熱乾燥(例如於80~150℃下進行3~10分鐘左右)後，將基材膜剝離之方法；將於環戊酮、甲基乙基酮等溶劑中溶解有降烯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂等之溶液塗布於通常之纖維素樹脂膜上，進行加熱乾燥(例如於80~150℃下進行3~10分鐘左右)後，將塗布膜剝離之方法等。

又，作為厚度方向相位差較小之纖維素樹脂膜，可使用控制脂肪取代度之脂肪酸纖維素系樹脂膜。於通常使用之三乙醯纖維素中，藉由將乙酸取代度控制為2.8左右，較好的是將乙酸取代度控制為1.8~2.7，可減小Rth。藉由於上述經脂肪酸取代之纖維素系樹脂中添加鄰苯二甲酸二丁酯、對甲苯磺醯苯胺、檸檬酸乙醯基三乙酯等塑化劑，可將Rth控制為較小。相對於脂肪酸纖維素系樹脂100重量份，塑化劑之添加量較好的是40重量份以下，更好的是1~20重量份，進而更好的是1~15重量份。

作為環狀聚烯烴樹脂之具體例，較好的是降烯系樹脂。環烯系樹脂係將環烯作為聚合單元進行聚合而得之樹脂的總稱，例如可列舉日本專利特開平1-240517號公報、日本專利特開平3-14882號公報、日本專利特開平3-122137號公報等中揭示之樹脂。作為具體例，可列舉環烯之開環(共)聚合物，環烯之加聚物，環烯與乙烯、丙烯等α-烯烴的共聚物(具有代表性的是隨機共聚物)以及用不飽和羧酸或其衍生物對其等進行改性之接枝共聚物，以及其等之氫化物等。作為環烯之具體例，可列舉降烯系單體。

作為環狀聚烯烴樹脂，市售有多種製品。作為具體例，可列舉日本Zeon股份有限公司製造之商品名"ZEONEX"、"ZEONOR"、JSR股份有限公司製造之商品名"ARTON"、TICONA公司製造之商品名"TOPAS"、三井化學股份有限公司製造之商品名"APEL"。

作為(甲基)丙烯酸系樹脂，Tg(玻璃轉移溫度)較好的是115℃以上，更好的是120℃以上，進而更好的是125℃以上，特別好的是130℃以上。藉由使Tg為115℃以上，可使偏光板之耐久性優異。對上述(甲基)丙烯酸系樹脂之Tg的上限值並無特別限定，自成形性等觀點考慮，較好的是170℃以下。由(甲基)丙烯酸系樹脂，可獲得面內相位差(Re)、厚度方向相位差(Rth)大致為0之膜。

作為(甲基)丙烯酸系樹脂，可於不損及本發明之效果的範圍內採用任意適宜之(甲基)丙烯酸系樹脂。例如可列舉聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸酯、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物、(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(MS樹脂等)、具有脂環族烴基之聚合物(例如甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降酯共聚物等)。較好的是列舉聚(甲基)丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸C1~6烷基酯。更好的是列舉以甲基丙烯酸甲酯為主成分(50~100重量%，較好的是70~100重量%)之甲基丙烯酸甲酯系樹脂。

作為(甲基)丙烯酸系樹脂之具體例，例如可列舉三菱麗陽股份有限公司製造之Acrypet VH或Acrypet VRL20A、日本專利特開2004-70296號公報中揭示之分子內具有環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂、利用分子內交聯或分子內環化反應而獲得之高Tg(甲基)丙烯酸樹脂系。

作為(甲基)丙烯酸系樹脂，亦可使用具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂。其原因在於具有高耐熱性、高透明性、利用雙軸延伸之高機械強度。

作為具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂，可列舉日本專利特開2000-230016號公報、日本專利特開2001-151814號公報、日本專利特開2002-120326號公報、日本專利特開2002-254544號公報、日本專利特開2005-146084號公報等中揭示之具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂。

具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂，較好的是具有下述通式(化1)所表示之假環結構：

式中，R¹ 、R² 及R³ 各自獨立，表示氫原子或碳數為1~20之有機殘基。再者，有機殘基亦可包括氧原子。

具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之結構中以通式(化1)所表示之內酯環結構的含有比例，較好的是5~90重量%，更好的是10~70重量%，進而更好的是10~60重量%，特別好的是10~50重量%。具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之結構中以通式(化1)所表示之內酯環結構的含有比例若少於5重量%，則存在耐熱性、耐溶劑性、表面硬度變得不充分之虞。具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之結構中以通式(化1)所表示之內酯環結構的含有比例若多於90重量%，則存在成形加工性變得缺乏之虞。

具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂的質量平均分子量(有時亦稱為重量平均分子量)較好的是1000~2000000，更好的是5000~1000000，進而更好的是10000~500000，特別好的是50000~500000。若質量平均分子量超出上述範圍，則自成形加工性之觀點考慮而欠佳。

具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂，Tg較好的是115℃以上，更好的是120℃以上，進而更好的是125℃以上，特別好的是130℃以上。Tg為115℃以上，因此例如於作為透明保護膜組合進偏光板之情形時，成為耐久性優異者。對具有上述內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂之Tg的上限值並無特別限定，自成形性等觀點考慮，較好的是170℃以下。

具有內酯環結構之(甲基)丙烯酸系樹脂，利用射出成形而獲得之成形品的藉由基於ASTM-D-1003之方法測定的總光線透過率越高越好，較好的是85%以上，更好的是88%以上，進而更好的是90%以上。總光線透過率係透明性的基準，若總光線透過率不足85%，則存在透明性降低之虞。

上述透明保護膜通常使用正面相位差不足40nm且厚度方向相位差不足80nm者。正面相位差Re以Re=(nx-ny)×d表示。厚度方向相位差Rth以Rth=(nx-nz)×d表示。又，Nz係數以Nz=(nx-nz)/(nx-ny)表示。[其中，膜之慢軸方向、快軸方向以及厚度方向之折射率分別為nx、ny、nz，d(nm)係膜之厚度。慢軸方向係膜面內之折射率成為最大的方向]。再者，較好的是透明保護膜儘可能不著色。較好的是使用厚度方向之相位差值為-90nm~+75nm之保護膜。藉由使用該厚度方向之相位差值(Rth)為-90nm~+75nm之保護膜，可大致消除透明保護膜所引起之偏光板著色(光學著色)。厚度方向相位差值(Rth)進而更好的是-80nm~+60nm，特別好的是-70nm~+45nm。

另一方面，作為上述透明保護膜，可使用具有正面相位差為40nm以上及/或厚度方向相位差為80nm以上之相位差的相位差板。正面相位差通常控制於40~200nm之範圍，厚度方向相位差通常控制於80~300nm之範圍。於使用相位差板作為透明保護膜之情形時，該相位差板亦發揮作為透明保護膜之功能，因此可實現薄型化。

作為相位差板，可列舉對高分子材料實施單軸或雙軸延伸處理而成之雙折射性膜、液晶聚合物之配向膜、將液晶聚合物之配向層支撐於膜上而成者等。對相位差板之厚度並無特別限制，通常為20~150μm左右。

作為高分子材料，例如可列舉聚乙烯醇、聚乙烯醇縮丁醛、聚甲基乙烯醚、聚丙烯酸羥乙酯、羥乙基纖維素、羥丙基纖維素、甲基纖維素、聚碳酸酯、聚芳酯、聚碸、聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚醚碸、聚苯硫醚、聚苯醚、聚芳碸、聚醯胺、聚醯亞胺、聚烯烴、聚氯乙烯、纖維素樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降烯系樹脂)或其等之二元系、三元系各種共聚物、接枝共聚物、混合物等。該等高分子材料可藉由延伸等而成為配向物(延伸膜)。

作為液晶聚合物，例如可列舉於聚合物之主鏈或支鏈上導入有賦予液晶配向性之共軛性直線狀原子團(液晶原)的主鏈型或支鏈型之各種聚合物等。作為主鏈型液晶性聚合物之具體例，可列舉具有於賦予可撓性的間隔部上鍵結有液晶原基之構造者，例如向列配向性之聚酯系液晶性聚合物、圓盤狀聚合物或膽固醇型聚合物等。作為支鏈型液晶聚合物之具體例，可列舉：將聚矽氧烷、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯或聚丙二酸酯作為主鏈骨架，經由包含共軛性原子團之間隔部，具有包含賦予向列配向性之對位取代環狀化合物單元的液晶原部作為支鏈者等。該等液晶聚合物例如藉由以下方法進行處理：於對形成於玻璃板上之聚醯亞胺或聚乙烯醇等薄膜之表面進行摩擦處理者、傾斜蒸鍍有氧化矽者等之配向處理面上，展開液晶性聚合物之溶液後進行熱處理。

相位差板可為例如各種波長板或用於補償由液晶層之雙折射所造成之著色或視角等者等具有對應於使用目的之適宜者，亦可為積層2種以上相位差板而控制相位差等光學特性者。

相位差板滿足nx=ny>nz、nx>ny>nz、nx>ny=nz、nx>nz>ny、nz=nx>ny、nz>nx>ny、nz>nx=ny之關係，可根據各種用途而選擇使用。再者，所謂ny=nz，不僅指ny與nz完全相同之情形，亦包括實際上ny與nz相同之情形。

例如，滿足nx>ny>nz之相位差板，較好的是使用滿足正面相位差為40~100nm、厚度方向相位差為100~320nm、Nz係數為1.8~4.5者。例如，滿足nx>ny=nz之相位差板(正A板，positive A-plate)，較好的是使用滿足正面相位差為100~200nm者。例如滿足nz=nx>ny之相位差板(負A板，negative A-plate)，較好的是使用滿足正面相位差為100~200nm 者。例如，滿足nx>nz>ny之相位差板，較好的是使用滿足正面相位差為150~300nm、Nz係數為超過0且為0.7以下者。又，如上上述，例如可使用滿足nx=ny>nz、nz>nx>ny或nz>nx=ny者。

透明保護膜可根據所應用之液晶顯示裝置而適宜選擇。例如於VA(垂直配向，Vertical Alignment，包括MVA、PVA)之情形時，較好的是偏光板之至少一方(單元側)的透明保護膜具有相位差。作為具體之相位差，較好的是Re=0~240nm、Rth=0~500nm之範圍。就三維折射率而言，較好的是nx>ny=nz、nx>ny>nz、nx>nz>ny、nx=ny>nz(正A板、雙軸、負C板)之情形。關於AV型，較好的是使用正A板與負C板之組合、或雙軸膜1片。於液晶單元之上下使用偏光板時，可係液晶單元之上下均具有相位差，或者亦可係上下任意之透明保護膜具有相位差。

例如於IPS(In-Plane Switching，包括FFS)之情形時，於偏光板之一方的透明保護膜具有相位差之情形、並未具有之情形時均可以使用。例如，於並未具有相位差之情形時，較好的是於液晶單元之上下(單元側)均未具有相位差之情形。於具有相位差之情形時，較好的是於液晶單元之上下均具有相位差之情形、上下任意一者具有相位差之情形(例如上側為滿足nx>nz>ny之關係的雙軸膜、下側無相位差之情形，或上側為正A板、下側為正C板之情形)。於具有相位差之情形時，較好的是Re=-500~500nm、Rth=-500~500nm之範圍。就三維折射率而言，較好的是nx>ny=nz、nx>nz>ny、nz>nx=ny、nz>nx>ny(正A板、雙軸、正C板)。

再者，上述具有相位差之膜，可使其另外貼合於並未具有相位差之透明保護膜上而賦予上述功能。

上述透明保護膜，於塗布接著劑之前，可進行表面改性處理以提高與偏光元件之接著性。作為具體之處理，可列舉電暈處理、電漿處理、火焰處理、臭氧處理、底塗處理、輝光處理、皂化處理、利用偶合劑之處理等。又，可適宜形成靜電防止層。

於上述透明保護膜之並未接著偏光元件之面，亦可實施硬塗層或防反射處理、防黏處理、以擴散或防眩為目的之處理。

實施硬塗層處理之目的在於防止偏光板表面損傷等，例如可藉由於透明保護膜之表面上附加由丙烯酸系、聚矽氧系等適宜之紫外線硬化型樹脂形成之硬度或滑動特性等優異之硬化被膜的方式等而形成。實施防反射處理之目的在於防止外光於偏光板表面反射，可藉由形成基於先前之防反射膜等而達成。又，實施防黏處理之目的在於防止與鄰接層(例如背光側之擴散板)的密著。

另外，實施防眩處理之目的在於防止外光於偏光板表面反射而干擾偏光板透過光之辨識等，例如可藉由利用噴砂方式或壓紋加工方式之粗面化方式或者調配透明微粒之方式等適宜方式，於透明保護膜之表面賦予微細凹凸結構而形成。作為於上述表面微細凹凸結構之形成中所含有之微粒，例如可使用於平均粒徑為0.5～20μm之由氧化矽、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯、氧化錫、氧化銦、氧化鎘、氧化銻等所組成之通常具有導電性之無機系微粒、由交聯或未交聯之聚合物等所組成之有機系微粒等透明微粒。於形成表面微細凹凸結構之情形時，相對於形成表面微細凹凸結構之透明樹脂100重量份，微粒之使用量通常為2~70重量份左右，較好的是5~50重量份。防眩層亦可兼為用於將偏光板透射光擴散而擴大視角等之擴散層(視角擴大功能等)。

再者，上述防反射層、防黏層、擴散層或防眩層等除可設置為透明保護膜自身以外，亦可作為其它光學層而與透明保護膜分開設置。

上述偏光元件與透明保護膜之接著處理中使用接著劑。作為接著劑，可列舉異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯系膠乳、水性聚酯等。上述接著劑通常用作包含水溶液之接著劑，通常含有0.5~60重量%之固體成分。除上述之外，作為偏光元件與透明保護膜之接著劑，可列舉紫外線硬化型接著劑、電子束硬化型接著劑等。電子束硬化型偏光板用接著劑對於上述各種透明保護膜顯示出適宜之接著性。又，於本發明使用之接著劑中，可含有金屬化合物填充材料。

又，作為光學膜，例如可列舉反射板或半透過板、上述相位差板(包括1/2或1/4等波長板)、視角補償膜、亮度改善膜等於液晶顯示裝置等之形成中使用的光學層。其等可單獨用作光學膜，除此之外亦可於上述偏光板上於實際應用時積層1層或2層以上而使用。

特別好的是於偏光板上進而積層反射板或半透過反射板而成之反射型偏光板或半透過型偏光板；於偏光板上進而積層相位差板而成之橢圓偏光板或圓偏光板；於偏光板上進而積層視角補償膜而成之寬視角偏光板；或者於偏光板上進而積層亮度改善膜而成之偏光板。

反射型偏光板係於偏光板上設置反射層而成者，可用於形成反射來自辨識側(顯示側)之入射光而進行顯示之類型的液晶顯示裝置等，並且可省略內置之背光等光源，從而具有易於使液晶顯示裝置薄型化之優點。反射型偏光板之形成，可藉由視需要經由透明保護層等於偏光板之單面上附設包含金屬等之反射層的方式等之適宜方式而進行。

作為反射型偏光板之具體例，可列舉視需要於經消光處理之透明保護膜的單面上，附設包含鋁等反射性金屬之箔或蒸鍍膜而形成反射層之偏光板等。又，亦可列舉藉由使上述透明保護膜含有微粒而形成表面微細凹凸結構，並於其上具有微細凹凸結構之反射層的反射型偏光板等。上述微細凹凸結構之反射層具有藉由漫反射使入射光擴散而防止指向性或外觀發亮，可抑制明暗不均之優點等。又，含有微粒之透明保護膜亦具有於入射光及其反射光透過其時擴散而進一步抑制明暗不均之優點等。反映透明保護膜之表面微細凹凸結構的微細凹凸結構之反射層的形成，例如可藉由以真空蒸鍍方式、離子鍍方式、濺鍍方式或鍍敷方式等適宜之方式於透明保護層之表面直接附設金屬的方法等而進行。

作為代替將反射板直接附設於上述偏光板之透明保護膜上的方式，亦可於以該透明膜為基準之適宜之膜上設置反射層而形成反射片等而使用。再者，反射層通常包含金屬，因此自防止由於氧化所造成之反射率下降，進而長期保持初始反射率之觀點或者避免另設保護層之觀點等考慮，較好的是以透明保護膜或偏光板等包覆其反射面之使用形態。

再者，半透過型偏光板，可藉由製成於上述中以反射層反射光，且使光透過之半反射鏡等之半透過型反射層而獲得。半透過型偏光板通常設於液晶單元之背面側，可形成於比較明亮之環境中使用液晶顯示裝置等之情形時，反射來自辨識側(顯示側)之入射光而顯示圖像，於較暗之環境中，使用內置於半透過型偏光板之背面的背光等內置電源而顯示圖像之類型的液晶顯示裝置等。即，半透過型偏光板於明亮之環境下可節約背光等光源使用之能量，於較暗之環境下亦可使用內置電源之類型的液晶顯示裝置等的形成中有用。

就於偏光板上進而積層相位差板而形成之橢圓偏光板或圓偏光板加以說明。於使直線偏光改變為橢圓偏光或圓偏光，或者使橢圓偏光或圓偏光改變為直線偏光，或者改變直線偏光之偏光方向之情形時，可使用相位差板等。特別是使用所謂之1/4波長板(亦稱為λ/4板)作為使直線偏光改變為圓偏光或使圓偏光改變為直線偏光的相位差板。1/2波長板(亦稱為λ/2板)通常用於改變直線偏光之偏光方向之情形。

橢圓偏光板可有效地用於補償(防止)超扭曲向列(STN)型液晶顯示裝置因液晶層之雙折射而產生之著色(藍或黃)，從而進行並無上述著色之黑白顯示之情形等。進而，控制三維折射率之偏光板亦可補償(防止)自斜向觀看液晶顯示裝置之畫面時產生之著色而較好。圓偏光板可有效地用於例如對以彩色顯示圖像的反射型液晶顯示裝置之圖像的色調進行調整之情形等，且具有防止反射之功能。

又，上述橢圓偏光板或反射型橢圓偏光板係將偏光板或反射型偏光板與相位差板適宜組合積層而成者。該橢圓偏光板等亦可藉由於液晶顯示裝置之製造過程中依序分別積層(反射型)偏光板與相位差板以構成(反射型)偏光板與相位差板之組合而形成，如上所述，預先形成為橢圓偏光板等之光學膜者，具有於品質之穩定性或積層作業性等方面優異，可使液晶顯示裝置等之製造效率提高的優點。

視角補償膜係即使於自並不垂直於畫面之稍微傾斜之方向觀看液晶顯示裝置之畫面之情形時亦使圖像看起來比較鮮明之用於擴大視角的膜。作為該視角補償相位差板，例如包含相位差板、液晶聚合物等之配向膜或於透明基材上支撐有液晶聚合物等之配向層者等。通常之相位差板使用沿其面方向實施有單軸延伸之具有雙折射的聚合物膜，與此相對，作為用作視角補償膜之相位差板，可使用沿其面方向實施有雙軸延伸之具有雙折射之聚合物膜、沿其面方向單軸延伸且沿其厚度方向亦實施有延伸之控制厚度方向之折射率的具有雙折射之聚合物或傾斜配向膜之類的雙軸延伸膜等。作為傾斜配向膜，例如可列舉於聚合物膜上接著熱收縮膜後於因加熱所產生之其收縮力的作用下，對聚合物膜進行延伸處理或/及收縮處理者、使液晶聚合物傾斜配向而成者等。作為相位差板之素材原料聚合物，可使用與上述之相位差板中說明之聚合物相同者，可使用以防止基於液晶單元所產生之相位差的辨識角之變化所帶來的著色等或擴大辨識度良好之視角等為目的之適宜者。

又，自達成辨識度良好之寬視角之觀點等考慮，可較好地使用以三乙醯纖維素膜支撐包含液晶聚合物之配向層、特別是圓盤狀液晶聚合物之傾斜配向層的光學各向異性層的光學補償相位差板。

將偏光板與亮度改善膜貼合而成之偏光板通常設於液晶單元之背面側。亮度改善膜係顯示於因液晶顯示裝置等之背光或來自背面側之反射等而有自然光入射時，反射特定偏光軸之直線偏光或特定方向之圓偏光，使其它光透過之特性者，將亮度改善膜與偏光板積層而成之偏光板可使來自背光等光源之光入射而獲得特定偏光狀態之透過光，同時上述特定偏光狀態以外之光並未透過而被反射。使於該亮度改善膜面上反射之光經由設於其後側之反射層等再次反轉，使其再次入射至亮度改善膜上，使其一部分或全部作為特定偏光狀態之光透過，從而增加透過亮度改善膜之光量，同時將難以吸收之偏光供給至偏光元件，從而增大可於液晶顯示圖像顯示等中利用之光量，由此而使亮度提高。即，於未使用亮度改善膜而以背光等自液晶單元之背面側通過偏光元件使光入射之情形時，具有與偏光元件之偏光軸不一致之偏光方向的光基本上被偏光元件吸收，而無法透過偏光元件。即，雖然因所使用之偏光元件的特性而不同，但大約50%之光被偏光元件吸收，因此於液晶圖像顯示等中可利用的光量將相應減少，導致圖像變暗。由於亮度改善膜反覆進行如下動作：使具有可被偏光元件吸收之偏光方向的光並未入射至偏光元件上，而使其於亮度改善膜上發生反射，進而經由設於其後側之反射層等而反轉，使光再次入射至亮度改善膜上，由此，亮度改善膜僅使於該兩者間反射、反轉之光中的偏光方向變為可通過偏光元件之偏光方向的偏光透過，而提供至偏光元件，因此可於液晶顯示裝置之圖像顯示中有效地使用背光等之光，從而可以使畫面明亮。

亦可於亮度改善膜與上述反射層等之間設置擴散板。由亮度改善膜反射之偏光狀態的光朝向上述反射層等，所設置之擴散板可使通過之光均勻地擴散，同時消除偏光狀態而成為非偏光狀態。即，反覆進行將自然光狀態之光射向反射層等，經由反射層等而反射後，再次通過擴散板而再次入射至亮度改善膜上之動作。如此而藉由於亮度改善膜與上述反射層等之間設置使偏光恢復至原來之自然光狀態的擴散板，可於維持顯示畫面之亮度的同時，減少顯示畫面之亮度的不均，從而可提供均勻且明亮之畫面。藉由設置該擴散板，可適當增加初次入射光之重複反射次數，且可利用擴散板之擴散功能而提供均勻之明亮的顯示畫面。

作為上述亮度改善膜，例如可使用介電體之多層薄膜或折射率各向異性不同之膜的多層積層體之類的顯示出使特定偏光軸之直線偏光透過而反射其它光之特性者，膽固醇型液晶聚合物之配向膜或於膜基材上支撐有該配向液晶層者之類的顯示出將左旋或右旋中之任一種圓偏光反射而使其它光透過之特性者等適宜之膜。

因此，藉由利用使上述之特定偏光軸之直線偏光透過之類型的亮度改善膜，使該透過光直接沿與偏光軸一致的方向入射至偏光板上，可抑制由偏光板造成之吸收損耗，且使光有效地透過。另一方面，利用如膽固醇型液晶層之使圓偏光透過之類型的亮度改善膜，雖然可使光直接入射至偏光元件上，但自抑制吸收損耗之方面考慮，較好的是經由相位差板使該圓偏光直線偏光化後入射至偏光板上。再者，藉由使用1/4波長板作為該相位差板，可將圓偏光變換為直線偏光。

於可見光區域等較寬之波長中作為1/4波長板發揮作用之相位差板，例如可藉由將對於波長為550nm之淺色光作為1/4波長板發揮作用之相位差板與顯示其它相位差特性之相位差層，例如作為1/2波長板發揮作用之相位差層重疊之方式等而獲得。因此，配置於偏光板與亮度改善膜之間的相位差板可以包含1層或2層以上之相位差層。

再者，關於膽固醇型液晶層，亦可組合反射波長不同之材料，形成重疊2層或3層以上之配置結構，由此獲得於可見光區域等較寬之波長範圍內反射圓偏光者，從而可基於此而獲得較寬波長範圍之透過圓偏光。

又，偏光板亦可如上述偏光分離型偏光板般，包含積層有偏光板與2層或3層以上之光學層而成者。因此，亦可係組合上述反射型偏光板或半透過型偏光板與相位差板而成之反射型橢圓偏光板或半透過型橢圓偏光板等。

於偏光板上積層有上述光學層之光學膜，可藉由於液晶顯示裝置等之製造過程中依序獨立積層之方式而形成，但是預先積層而成為光學膜者於品質之穩定性或組裝操作等方面優良，因此具有可改善液晶顯示裝置等之製造步驟的優點。於積層中可使用黏著層等適宜之接著手段。於使上述偏光板與其它光學層接著時，其等之光軸可以根據目標相位差特性等而設為適宜之配置角度。

再者，本發明之黏著型光學膜之光學膜或黏著劑層等各層，亦可係藉由例如以水楊酸酯系化合物或苯并苯酚(benzophenol)系化合物、苯并***系化合物或氰基丙烯酸酯系化合物、鎳錯鹽系化合物等紫外線吸收劑進行處理之方式等，而具有紫外線吸收能力等者。

本發明之黏著型光學膜可較好地用於液晶顯示裝置等各種圖像顯示裝置之形成等。液晶顯示裝置之形成可依據先前之方法而進行。即，液晶顯示裝置一般可藉由適宜地組裝液晶單元與黏著型光學膜，以及視需要之照明系統等構成部件並裝入驅動電路等而形成，於本發明中，除使用本發明之黏著型光學膜之外，並無特別限定，可依據先前之方法形成。關於液晶單元，例如可使用TN型或STN型、π型、VA型、IPS型等任意類型之液晶單元。

可形成於液晶單元的一側或兩側配置有黏著型光學膜之液晶顯示裝置、於照明系統中使用背光或反射板者等適宜之液晶顯示裝置。於此情形時，本發明之光學膜可設置於液晶單元之一側或兩側上。於兩側設置光學膜之情形時，其等可係相同者，亦可係不同者。進而，於形成液晶顯示裝置時，可於適宜之位置配置1層或2層以上之例如擴散板、防眩層、防反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片、光擴散板、背光等適宜之部件。

繼而，對有機電致發光裝置(有機EL顯示裝置)加以說明。本發明之光學膜(偏光板等)亦可用於有機EL顯示裝置中。通常情況下，有機EL顯示裝置係於透明基板上依序積層有透明電極、有機發光層與金屬電極而形成發光體(有機電致發光體)。於此，有機發光層係各種有機薄膜之積層體，已知有例如包含三苯基胺衍生物等之電洞佈植層與包含蒽等螢光性有機固體之發光層的積層體、或該種發光層與包含二萘嵌苯衍生物等之電子佈植層的積層體、或者該等電洞佈植層、發光層及電子佈植層之積層體等各種組合之構成。

有機EL顯示裝置以如下之原理進行發光：藉由於透明電極與金屬電極上施加電壓，於有機發光層中佈植電洞與電子，由該等電洞與電子之再結合而產生之能量激發螢光物質，被激發之螢光物質回到基態時放射出光。中途之再結合機理與一般之二極管相同，由此亦可推測出，電流與發光強度相對於外加電壓顯示出伴隨整流性之較強之非線性。

於有機EL顯示裝置中，為了取出有機發光層中之發光，至少一方之電極必須透明，通常將由氧化銦錫(ITO)等透明導電體形成之透明電極用為陽極。另一方面，為了使電子佈植容易進行而提高發光效率，重要的是於陰極中使用功函數較小的物質，通常使用Mg-Ag、Al-Li等金屬電極。

於具有此種構成之有機EL顯示裝置中，有機發光層係由厚度為10nm左右之極薄的膜而形成。因此，有機發光層亦與透明電極相同，使光基本上完全地透過。其結果係於不發光時自透明基板之表面入射，透過透明電極與有機發光層而於金屬電極反射之光會再次向透明基板之表面側射出，因此於自外部進行辨識時，有機EL顯示裝置之顯示面如同鏡面。

於包括有機電致發光體的有機EL顯示裝置中，可於透明電極之表面側設置偏光板，且於該等透明電極與偏光板之間設置相位差板，上述有機電致發光體於藉由施加電壓而進行發光之有機發光層的表面側設有透明電極，且於有機發光層之背面側設有金屬電極。

由於相位差板及偏光板具有使自外部入射而於金屬電極反射之光成為偏光之作用，因此由該偏光作用具有使自外部無法辨識出金屬電極之鏡面的效果。特別是若以1/4波長板構成相位差板，且將偏光板與相位差板之偏光方向的夾角調整為π/4，則可完全遮蔽金屬電極之鏡面。

即，入射至該有機EL顯示裝置之外部光由於偏光板而只透過直線偏光成分。該直線偏光通常由相位差板轉換為橢圓偏光，特別是於相位差板為1/4波長板且偏光板與相位差板之偏光方向的夾角為π/4時成為圓偏光。

該圓偏光透過透明基板、透明電極、有機薄膜，於金屬電極反射，然後再次透過有機薄膜、透明電極、透明基板，由相位差板再次轉換成直線偏光。由於該直線偏光與偏光板之偏光方向正交，因此未能透過偏光板。其結果可完全遮蔽金屬電極之鏡面。

實施例

以下，藉由實施例對本發明加以具體之說明，但本發明並不限定於該等實施例。再者，各例中之份及%均係重量基準。實施例等中之評價項目以如下之方式進行測定。

<重量平均分子量之測定>

所得之(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量係藉由GPC(凝膠滲透層析)進行測定。樣品係使用將試樣溶解於二甲基甲醯胺中製成0.1重量%之溶液，將其靜置一晚之後，以0.45μm之薄膜過濾器進行過濾而得之濾液。

．分析裝置：tosoh公司製造，HLC-8120GPC

．管柱：tosoh公司製造，Super AWM-H、AW4000、AW2500

．管柱尺寸：各6.0mmΦ×150mm

．溶析液：30mM-溴化鋰、30mM-磷酸之二甲基甲醯胺溶液

.流量：0.4ml/min

.檢測器：示差折射儀(RI)

.管柱溫度：40℃

.注入量：20μl

(偏光板之製作)

將厚80μm之聚乙烯醇膜於速度比不同之輥間，一面於30℃、0.3%濃度之碘溶液中染色1分鐘，一面延伸至3倍。其後，一面於60℃、含有4%濃度之硼酸、10%濃度之碘化鉀的水溶液中浸漬0.5分鐘，一面進行延伸使總延伸倍率為6倍。繼而，藉由於30℃、含有1.5%濃度之碘化鉀的水溶液中浸漬10秒而進行清洗，然後於50℃下乾燥4分鐘而獲得偏光元件。於該偏光元件之兩面，利用聚乙烯醇系接著劑貼合經皂化處理之厚80μm之三乙醯纖維素膜而製作偏光板。

製造例1 <丙烯酸系聚合物之調製>

於具備攪拌葉片、溫度計、氮氣導入管、冷卻器之四口燒瓶中，將丙烯酸丁酯99.7份、丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯0.1份、丙烯酸0.1份、丙烯酸-4-羥基丁酯0.1份、作為聚合起始劑之2,2'-偶氮二異丁腈0.1份與乙酸乙酯200份共同裝入，一面緩緩攪拌一面導入氮氣而進行氮氣置換，其後將燒瓶內之液溫保持為60℃附近，進行6個小時之聚合反應，調製丙烯酸系聚合物溶液。上述丙烯酸系聚合物之重量平均分子量為205萬。

製造例2～14、以及比較製造例1～7

於製造例1中，除如表2所示變更單體成分之種類以及使用量的至少任一種之外，以與製造例1相同之方式調製丙烯酸系聚合物溶液。其中，於製造例14中，使用甲苯代替乙酸乙酯作為溶劑。將各例中所得之丙烯酸系聚合物的重量平均分子量示於表2。

實施例1 (附有黏著劑層之偏光板之製作)

調製相對於於製造例1中獲得之丙烯酸系聚合物溶液的固體成分100份，調配有作為交聯劑之經取代之過氧化苯甲醯(日本油脂股份有限公司製造，NyperBMT40)0.3份、三羥甲基丙烷甲苯二異氰酸酯(日本聚胺酯工業股份有限公司製造，Coronate L)0.2份以及矽烷偶合劑(信越化學工業股份有限公司製造，KBM573)0.1份之丙烯酸系黏著劑溶液。

繼而，將上述丙烯酸系黏著劑溶液塗布於作為間隔物之實施有聚矽氧處理的聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(三菱化學聚酯膜股份有限公司製造，MRF38)的單面(聚矽氧處理面)上，使乾燥後之黏著劑層厚度成為20μm，於155℃下乾燥3分鐘(180秒)，形成黏著劑層。將該黏著劑層貼合於偏光板上進行轉印，製作附有黏著劑層之偏光板。

實施例2～15、比較例1～8

於實施例1中，將調製丙烯酸系黏著劑溶液時使用之丙烯酸系聚合物溶液之種類、交聯劑之種類或使用量、矽烷偶合劑之種類或使用量變更為表3所示，除此之外以與實施例1相同之方式製作附有黏著劑層之偏光板。再者，於比較例7中，於調製丙烯酸系黏著劑溶液時，除交聯劑及矽烷偶合劑之外，亦調配有丙烯酸系寡聚物(重量平均分子量為3000，東亞合成股份有限公司製造，ARFONUP-1000)15份。

製造例15~22，以及比較製造例8~11 <丙烯酸系聚合物之調製>

於製造例1中，除如表2所示變更單體成分之種類以及使用量的至少任一種之外，以與製造例1相同之方式製備丙烯酸系聚合物溶液。將各例中所得之丙烯酸系聚合物的重量平均分子量示於表2。

實施例16 (附有黏著劑層之偏光板之製作)

調製相對於製造例15中所得之丙烯酸系聚合物溶液的固體成分100份，調配有作為交聯劑之經取代之過氧化苯甲醯(日本油脂股份有限公司製造，Nyper BMT40)0.3份、三羥甲基丙烷甲苯二異氰酸酯(日本聚胺酯工業股份有限公司製造，Coronate L)0.1份以及矽烷偶合劑(信越化學工業股份有限公司製造，KBM403)0.1份之丙烯酸系黏著劑溶液。

繼而，將上述丙烯酸系黏著劑溶液塗布於實施有聚矽氧處理之聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(三菱化學聚酯膜股份有限公司製造，MRF38)之單面上，使乾燥後之黏著劑層厚度成為25μm，於100℃下乾燥80秒，形成黏著劑層。將該黏著劑層貼合於偏光板上進行轉印，製作附有黏著劑層之偏光板。

實施例17~28、比較例9~19

於實施例1中，將調製丙烯酸系黏著劑溶液時使用之丙烯酸系聚合物溶液之種類、交聯劑之種類或使用量、矽烷偶合劑之使用量，乾燥條件(溫度、時間)變更為如表3所示，除此之外以與實施例1相同之方式製作附有黏著劑層之偏光板。

對上述實施例以及比較例中所得之附有間隔物的附有黏著劑層之偏光板(樣品)進行下述評價。將評價結果示於表4以及表5中。

＜初期接著力之測定＞

於將上述樣品裁斷為25mm寬之後，剝離間隔物，然後以2kg之輥將其壓著於厚0.7mm之無鹼玻璃(Corning公司製造，1737)上一個往復而進行貼附，利用50℃、0.5MPa之高壓釜處理15分鐘，然後於23℃下熟化1小時。對用拉伸試驗機以剝離角度為180°、剝離速度為300mm/min剝離該樣品時之接著力(N/25mm)進行測定。

<60℃/48小時後之接著力之測定>

於將上述樣品裁斷為25mm寬之後，剝離間隔物，然後以2kg之輥將其壓著於厚0.7mm之無鹼玻璃(Corning公司製造，1737)上一個往復而進行貼附，利用50℃、0.5MPa之高壓釜處理15分鐘，然後於60℃下熟化48小時。對用拉伸試驗機以剝離角度為180°、剝離速度為300mm/min剝離該樣品時之接著力(N/25mm)進行測定。

<二次加工性>

於將上述樣品裁斷為25mm寬之後，剝離間隔物，然後以2kg之輥將其壓著於厚0.7mm之無鹼玻璃(Corning公司製造，1737)上一個往復而進行貼附，繼而於23℃下熟化1小時。以下述基準目視評價用拉伸試驗機以剝離角度為180°、剝離速度為300mm/min剝離該樣品時之接著力(N/25mm)與玻璃表面之狀態。

◎：並無糊狀物殘存且可剝離(接著力：不足10N/25mm)。

○：並無糊狀物殘存且可剝離，但剝離稍稍困難(接著力：10N/25mm以上且不足15N/25mm)。

△：並無糊狀物殘存且可剝離，但剝離困難(接著力：15N/25mm以上)。

×：稍稍有糊狀物殘存。

××：發生糊狀物殘存。

<耐久性>

將上述樣品切斷為320mm×240mm之後，剝離間隔物，然後將其貼附於厚0.7mm之無鹼玻璃(Corning公司製造，1737)上，利用50℃、0.5MPa之高壓釜處理15分鐘，使上述樣品與無鹼玻璃完全密著。對已實施該處理之樣品，於80℃、90℃、100℃、60℃/90%RH、60℃/95%RH之條件下實施500小時之處理，然後以下述基準目視評價發泡、剝離、浮起之狀態。

◎：無發泡、剝離。

○：確認有對辨識性不造成影響之發泡(最大直徑不足100μm)。

×：確認有發泡(最大直徑為100μm以上)、剝離。

＜凝膠分率>

於實施有聚矽氧處理之聚對苯二甲酸乙二酯膜上，塗布製成樣品前之各黏著劑組合物，使乾燥後之厚度與各例相同(20μm或25μm)，於塗布後以與各例相同之乾燥條件(溫度、時間)進行硬化處理而形成黏著劑層，進而於溫度為23℃、濕度未65%RH之條件下放置1小時，然後對該黏著劑層測定凝膠分率。凝膠分率係取上述黏著劑層約0.2g，以已預先測定重量(Wa)之氟樹脂(TEMISH NTF-1122，日東電工股份有限公司製造)包住，以不使黏著劑層露出之方式捆綁後，測定其重量(Wb)，於23℃下將其浸漬於約40m1之乙酸乙酯中7天，提取出可溶成分。其後，取出包有黏著劑層之氟樹脂，於鋁杯上以130℃乾燥2小時，測定除去可溶成分之包有黏著劑層的氟樹脂之重量(Wc)。

該等測定值，依照下述式求出黏著劑層之凝膠分率(重量%)。

凝膠分率(重量%)={(Wc-Wa)/(Wb-Wa)}×100

＜塗布生產性>

關於凝膠分率A、乾燥時間B以及乾燥溫度C，根據表1分別評出評價分，根據由A×B×C所得之值以下述基準進行評價。

○：評價分為20以上

△：評價分為5以上19以下

×：4以下

<加工性>

對製成上述樣品之後於24小時以內沖裁為一邊長度為270mm的正方形樣品100片，作業者藉由目視、手觸而進行觀察，判斷偏光板側面是否有黏著感。又，判斷偏光板之表面是否由黏著劑污染。以下述基準評價具有黏著感及污垢者有幾片。

○：100片中有黏著感及污垢之任一者有0片。

△：100片中有黏著感及污垢之任一者有1~5片。

×：100片中有黏著感及污垢之任一者有6片以上。

<對間隔物之剝離力>

於將樣品裁斷為寬50mm、長100mm之後，對用拉伸試驗機以剝離角度為180°、剝離速度為300mm/min自樣品剝離間隔物時之剝離力(N/50mm)進行測定。剝離力較好的是0.05~0.1N/50mm，更好的是0.05~0.09N/50mm。若剝離力不足0.05，則於加工過程中容易發生間隔物自黏著型光學膜之黏著劑層浮起的不良情況，另一方面，若剝離力超過0.1N/50mm，則對於面板生產者而言，於自黏著型光學膜之黏著劑層剝離間隔物時輕剝離變得困難，生產性變差。

<間隔物之剝離作業性>

對100片樣品，觀察用自動剝離裝置(日東電工股份有限公司製造)剝離間隔物時之狀況，以下述基準進行判定。

○：100片中有0片失敗。

×：100片中有1片以上失敗。

於表2中表示如下，BA：丙烯酸丁酯、DMAEA：丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯、DMAPAA：N,N-二甲基胺基丙基丙烯醯胺、ACMO：N-丙烯醯基嗎啉、AAM：丙烯醯胺、AA：丙烯酸、4HBA：丙烯酸4-羥基丁酯、2HEA：丙烯酸2-羥基乙酯、PEA：丙烯酸苯氧基乙酯。

表3中，過氧化物均為經取代之過氧化苯甲醯(日本油脂股份有限公司製造，Nyper BMT40)。就異氰酸酯系交聯劑而言，*01係三羥甲基丙烷甲苯二異氰酸酯(日本聚胺酯工業股份有限公司製造，Coronate L)，*02係三羥甲基丙烷苯二甲基二異氰酸酯(三井武田聚胺酯股份有限公司製造、Takenate D-110N)。就矽烷偶合劑而言，*11係信越化學工業股份有限公司製造之KBM573，*12係信越化學工業股份有限公司製造之KBM403，*13係綜研化學股份有限公司製造之A-100。比較例7之其它添加劑的*寡聚物係丙烯酸系寡聚物(重量平均分子量為3000，東亞合成股份有限公司製造，ARFONUP-1000)15份。

由表4、表5可知，由本發明之光學膜用黏著劑組合物形成之黏著劑層，可滿足二次加工性、耐久性、加工性，且相對於間隔物具有輕剝離性，具有作業性。又，藉由本發明，可如表5之塗布生產性所示，藉由低溫、短時間之乾燥條件而獲得特定之凝膠分率的上述黏著劑層。再者，雖然於表4中並未具體顯示塗布生產性，但表4之實施例之評價分為「5」或「6」，作為塗布生產性的評價為「Δ」。

Claims (11)

1. 一種光學膜用黏著劑組合物，其特徵在於：其係含有(甲基)丙烯酸系聚合物以及作為交聯劑的過氧化物，上述(甲基)丙烯酸系聚合物係含有(甲基)丙烯酸烷基酯45~99.99重量%以及含三級胺基之單體0.01~2重量%作為單體單元而成者，並且相對於(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，上述過氧化物為0.01~2重量份。
2. 如請求項1之光學膜用黏著劑組合物，其中相對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，進而含有異氰酸酯系交聯劑0.01~2重量份作為交聯劑。
3. 如請求項1之光學膜用黏著劑組合物，其中相對於上述(甲基)丙烯酸系聚合物100重量份，進而含有矽烷偶合劑0.01~2重量份。
4. 如請求項1之光學膜用黏著劑組合物，其中上述(甲基)丙烯酸系聚合物進而含有含羧基單體0.01~5重量%及/或含羥基之單體0.01~5重量%作為單體單元，且單體總和為100重量%。
5. 如請求項1之光學膜用黏著劑組合物，其中含三級胺基之單體係(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙酯及/或N,N-二甲基胺基丙基(甲基)丙烯醯胺。
6. 如請求項1之光學膜用黏著劑組合物，其中上述(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量為100萬~300萬。
7. 一種光學膜用黏著劑層，其係由如請求項1~6中任一項之光學膜用黏著劑組合物所形成。
8. 如請求項7之光學膜用黏著劑層，其中黏著劑層之凝膠分率為50~95重量%。
9. 一種如請求項7或請求項8之光學膜用黏著劑層之製造方法，其特徵在於：將如請求項1~6中任一項之光學膜用黏著劑組合物塗布於基材上，於溫度70~160℃下，以時間為30~240秒進行處理而使其硬化。
10. 一種黏著型光學膜，其特徵在於：於光學膜之至少一側形成有如請求項7之光學膜用黏著劑層。
11. 一種圖像顯示裝置，其使用有至少一片如請求項10之黏著型光學膜。