TWI415444B - 具有上置式感光鼓之成像設備 - Google Patents
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Description
本發明係關於一種具有上置式感光鼓之成像設備,尤其關於一種能減少感光鼓耗損之具有上置式感光鼓之成像設備。
傳統的印表機的下置式或側置式感光鼓會承受包含碳粉匣的顯像組件的重量或側向卡扣力,使得感光鼓與碳粉匣的顯像滾輪接觸時會產生極大的摩擦損耗,因而加速感光鼓表層的感光膜的耗損速度,進而縮短感光鼓的壽命。
由於碳粉匣內含有碳粉,碳粉量會隨著列印次數的增加而減少,使得碳粉匣的重量連帶著減少。由於設計上需兼顧低碳粉量時能維持顯像滾輪與感光鼓的緊密接觸,所以使得新的碳粉匣對於感光鼓施加的壓力相當大,因而使得感光鼓的磨損也是最大的。
此外,當顯像組件被裝設於基座時,基座與顯像組件之間亦設有卡扣機構,這也會增加感光鼓與顯像滾輪之接觸壓力,進而造成更進一步的磨損問題。
因此,本發明之一個目的係提供一種具有上置式感光鼓之成像設備,其利用彈簧來抵抗顯像組件的重量,藉以使顯像滾輪和感光鼓之間能穩定地接觸,並有效地減少感光鼓的磨損。
為達上述目的,本發明提供一種成像設備,其包含一基座、一感光鼓、一顯像組件以及一彈性元件。顯像組件係可移動地設置於基座中,並包含一顯像盒及一顯像滾輪。顯像滾輪安裝於顯像盒上,並與感光鼓相對設置並接觸感光鼓,以使碳粉附著於感光鼓上。彈性元件設置於顯像盒與基座之間。彈性元件產生之一彈力抵抗顯像盒之重量並將顯像滾輪推向感光鼓。
藉此,上置式的感光鼓雖然會與顯像滾輪保持穩定且緊密的接觸,但不會承受到太大的壓力,因而可以使得感光鼓所受到的磨損降低,以增長感光鼓的使用壽命。
為讓本發明之上述內容能更明顯易懂,下文特舉一較佳實施例,並配合所附圖式,作詳細說明如下。
圖1顯示依據本發明較佳實施例之成像設備1之立體分解圖。如圖1所示,本實施例之成像設備1包含一基座10、一感光鼓20及一顯像組件30。感光鼓20安裝於顯像組件30上。顯像組件30係容置於基座10中之一容置槽11中。滾輪52係可轉動地裝設於基座10之容置槽11之側壁上。
圖2顯示依據本發明較佳實施例之成像設備1之側視分解圖。如圖2所示,滾輪52係被基座10擋住而呈虛線顯示。為了避免基座10擋住顯像組件30的機構特徵,以下將基座10的非必要部分切除,只留下對應基座10的支承元件組50(說明於後)之部分,也就是於圖2中假想線的部分。切割後的結果如圖3所示。圖3顯示圖2之另一種表達方式之側視分解圖。於圖3中,支承元件組50之滾輪52和導引擋塊54是被從基座10中分離出來,而放置至顯像組件30上。如此,可以清楚地顯示出滾輪52和導引擋塊54分別與施力元件組60之第一施力元件62及一第二施力元件64之間的作動關係。
圖4顯示圖3中的顯像組件30與基座10結合後之示意圖。圖5顯示依據本發明較佳實施例之成像設備1之局部立體圖。如圖4至5所示,為了方便說明起見,特別用一個外框來代表基座10所涵蓋的大致範圍。本實施例之成像設備1包含基座10、感光鼓20、顯像組件30以及一彈性元件40。
成像設備1可以裝設於譬如是印表機、複印機或多功能事務機中,用以列印資料於紙張上。感光鼓20係可轉動地安裝於基座10上。
顯像組件30係可移動地設置於基座10中,並包含一顯像盒32、一顯像滾輪34及一動力轉軸38。顯像滾輪34係安裝於顯像盒32上,且與感光鼓20相對設置並接觸感光鼓20,以使碳粉36附著於感光鼓20上。碳粉36係位於顯像盒32中的碳粉匣(未顯示)內,並被轉動中的顯像滾輪34帶出而附著於感光鼓20上。
彈性元件40係設置於顯像盒32與基座10之間。彈性元件40可以是壓簧。彈性元件40的數目可以是一個或多個,於本實施例中,係設置有兩個彈性元件40,如圖5所示,分別設置在顯像盒32的近端及遠端。彈性元件40係設置於顯像盒32之底部32A。彈性元件40產生之一彈力F抵抗顯像盒32之重量W並將顯像滾輪34推向感光鼓20。於此例子中,顯像滾輪34和彈性元件40係設置於顯像盒32之重心CG的同一側。因此,透過適當的配置,感光鼓不需承受顯像盒32的重量,故可以有效減少感光鼓的磨損。
為了讓顯像組件30與感光鼓20保持穩定地接觸,成像設備1可以更包含支承元件組50及施力元件組60。支承元件組50係設置於基座10之一內壁10A(參見圖1),並包含第一支承元件52及第二支承元件54。施力元件組60係設置於顯像盒32之一外壁32B。施力元件組60包含第一施力元件62及第二施力元件64,施力元件組60與支承元件組50之相互作用維持顯像滾輪34與感光鼓20穩定地接觸。第一施力元件62和第二施力元件64分別與第一支承元件52和第二支承元件54對應地設置。成像設備1可以更包含一轉移滾輪70,轉移滾輪70用以將碳粉影像轉附著至通過轉移滾輪70與感光鼓20中間的媒體M上。
支承元件組50包含作為第一支承元件52之一滾輪52及作為第二支承元件54之一導引擋塊54,而施力元件組60可包含作為第一施力元件62之一導引擋塊62及作為第二施力元件64之一滾輪64。於顯像盒32轉動時,導引擋塊62和滾輪64分別施力於固定於基座10上的滾輪52及導引擋塊54。導引擋塊54和64分別具有導引結構50G和60G。導引結構50G亦可以是位於基座10中的滑道。滾輪52、62可以分別在導引結構60G、50G上滾動或滑動。在本實施例中,支承元件組50和施力元件組60各包含了一導引結構和一滾輪,但是實施方式不限於此,支承元件組50亦可包含兩個導引結構,而施力元件組60可包含兩個滾輪,與支承元件組50的兩個導引結構搭配使用;或者,亦可以使用其他元件,例如滑塊等,只要能達到相同功效。
彈性元件40對於顯像盒32來說為一個支點,顯像盒32的重量W產生了順時鐘方向的力矩,此力矩因而造成施力元件組60對支承元件組50施力。然而,固定在基座10上的支承元件組50所產生的對施力元件組60的反作用力,則抵消了顯像盒32的重量W所造成的力矩。換言之,第一施力元件62、第一支承元件52、第二施力元件64和第二支承元件54之間的相互作用抵消因顯像盒32之重量W造成的力矩,以維持平衡狀態。
動力轉軸38係穿設於顯像盒32,用以接收動力並驅動顯像滾輪34,以使顯像滾輪34將碳粉36均勻地帶出。
圖6顯示依據本發明另一實施例之成像設備1之側視圖。如圖6所示,本實施例係類似於前述實施例,不同之處在於:在前述實施例中,支承元件組50之導引結構50G包含一斜面,而施力元件組60之滾輪64係施力於斜面,並沿著斜面方向滾動或滑動。於本實施例中,支承元件組50之導引結構50G包含沿一重力方向延伸之一平面,而施力元件組60之滾輪64係施力於平面並沿著重力方向滾動或滑動。
因此,本發明之上置式的感光鼓不同於習知技術之側置式或下置式感光鼓,因而不會承受到顯像盒之重量所造成的太大的壓力或是因為顯像盒之重量沒有得到適當的支撐而導致感光鼓和顯像滾輪之間的接觸不穩定,並可以使得感光鼓所受到的磨損降低,以增長感光鼓的使用壽命。
在較佳實施例之詳細說明中所提出之具體實施例僅用以方便說明本發明之技術內容,而非將本發明狹義地限制於上述實施例,在不超出本發明之精神及以下申請專利範圍之情況,所做之種種變化實施,皆屬於本發明之範圍。
CG...重心
F...彈力
M...媒體
W...重量
1...成像設備
10...基座
10A...內壁
11...容置槽
20...感光鼓
30...顯像組件
32...顯像盒
32A...下表面
32B...外壁
34...顯像滾輪
36...碳粉
38...動力轉軸
40...彈性元件
50...支承元件組
50G...導引結構
52...第一支承元件/滾輪
54...第二支承元件/導引擋塊
60...施力元件組
60G...導引結構
62...第一施力元件/導引擋塊
64...第二施力元件/滾輪
圖1顯示依據本發明較佳實施例之成像設備之立體分解圖。
圖2顯示依據本發明較佳實施例之成像設備之側視分解圖。
圖3顯示圖2之另一種表達方式之側視分解圖。
圖4顯示依據本發明較佳實施例之成像設備之側視圖。
圖5顯示依據本發明較佳實施例之成像設備之局部立體圖。
圖6顯示依據本發明另一實施例之成像設備之側視圖。
CG...重心
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1...成像設備
10...基座
20...感光鼓
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32...顯像盒
32A...下表面
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50...支承元件組
50G...導引結構
52...第一支承元件/滾輪
54...第二支承元件/導引擋塊
60...施力元件組
60G...導引結構
62...第一施力元件/導引擋塊
64...第二施力元件/滾輪
Claims (10)
- 一種成像設備,包含:一基座;一感光鼓;一顯像組件,可移動地設置於該基座中,包含:一顯像盒;及一顯像滾輪,安裝於該顯像盒上,與該感光鼓相對設置並接觸該感光鼓,以使碳粉附著於該感光鼓上;一彈性元件,設置於該顯像盒與該基座之間,該彈性元件產生之一彈力抵抗該顯像盒之重量並將該顯像滾輪推向該感光鼓;一支承元件組,設置於該基座之一內壁;以及一施力元件組,設置於該顯像盒之一外壁,其中,該施力元件組與該支承元件組之相互作用維持該顯像滾輪與該感光鼓穩定地接觸。
- 如申請專利範圍第1項所述之成像設備,其中該彈性元件係設置於該顯像盒之底部。
- 如申請專利範圍第1項所述之成像設備,其中該支承元件組包含一第一支承元件及一第二支承元件,該施力元件組包含一第一施力元件及一第二施力元件,其中,該第一施力元件和該第二施力元件分別與該第一支承元件和該第二支承元件對應地設置。
- 如申請專利範圍第3項所述之成像設備,其中該第一施力元件、該第一支承元件、該第二施力元件和該 第二支承元件之間的相互作用抵消因該顯像盒之重量造成的力矩。
- 如申請專利範圍第1項所述之成像設備,其中該支承元件組和該施力元件組之至少其一包含一導引結構。
- 如申請專利範圍第5項所述之成像設備,其中該支承元件組之該導引結構包含沿一重力方向延伸之一平面,該施力元件組係施力於該平面。
- 如申請專利範圍第5項所述之成像設備,其中該支承元件組之該導引結構包含一斜面,該施力元件組係施力於該斜面。
- 如申請專利範圍第1項所述之成像設備,其中該支承元件組和該施力元件組之至少其一包含一滾輪。
- 如申請專利範圍第1項所述之成像設備,其中該顯像組件更包含:一動力轉軸,穿設於該顯像盒,用以接收動力並驅動該顯像滾輪。
- 如申請專利範圍第1項所述之成像設備,其中該顯像滾輪及該彈性元件係設置於該顯像盒之重心的同一側。
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TW201134188A TW201134188A (en) | 2011-10-01 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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TW099109793A TWI415444B (zh) | 2010-03-31 | 2010-03-31 | 具有上置式感光鼓之成像設備 |
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2011
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US3976372A (en) * | 1973-11-13 | 1976-08-24 | Sharp Kabushiki Kaisha | Electrophotographical reproduction of a multicolor image |
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